JP6550464B2 - 材料堆積システム及び材料堆積システムで材料を堆積する方法 - Google Patents
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Description
Claims (18)
- 複数の基板(121)上に材料を堆積させるための真空堆積システム(300、400、500)であって、
チャンバ容積を有する真空チャンバ(110)と、
堆積中は前記真空チャンバ(110)内に配置されている、堆積されるべき材料を供給するための材料堆積装置(100)と、
前記材料堆積装置(100)に面する基板面積の総和である基板サイズを有する前記複数の基板(121)を支持するための2つの基板支持体(126、600)とを備え、
チャンバ容積対基板サイズの比が15m以下であり、
前記材料堆積装置(100)が、2つ以上のるつぼ(102a、102b、102c)と、前記るつぼ(102a、102b、102c)と流体連通しており且つ互いに隣り合って設けられている2つ以上の直線状の散布管(106a、106b、106c)とを含み、
前記材料堆積装置(100)と前記2つの基板支持体(126、600)のうちの少なくとも1つの基板支持体との間の距離が、250mm未満であり、
前記2つ以上の直線状の散布管(106a、106b、106c)のうちの第1の散布管の第1のノズル、及び前記2つ以上の直線状の散布管(106a、106b、106c)のうちの第2の散布管の第2のノズルは、50mm未満の距離を有し、
前記2つの基板支持体が、前記材料堆積装置を挟んで前記真空チャンバの互いに反対側の側端に設けられており、
前記2つの基板支持体の各々が、前記真空チャンバの上端に延設された第1の側と前記真空チャンバの下端に延設された第2の側とを備え、前記基板を保持する基板保持デバイスが前記第1の側と前記第2の側との間で案内される、
真空堆積システム。 - 前記真空堆積システム(300、400、500)が、真空蒸発システムであり、前記材料堆積装置が、前記複数の基板(121)上に堆積されるべき前記材料を蒸発させるための蒸発器(102a、102b、102c)を含む、請求項1に記載の真空堆積システム。
- 前記基板支持体(126、600)の各々が、前記基板サイズの最大で30%まで前記基板サイズを超える基板保持デバイス(610)を保持または案内することを可能にする、請求項1に記載の真空堆積システム。
- 前記基板支持体(126、600)の各々が、前記基板サイズの最大で30%まで前記基板サイズを超える基板保持デバイス(610)を保持または案内することを可能にする、請求項2に記載の真空堆積システム。
- 前記チャンバ容積が、前記真空チャンバ(110)の排気可能な容積によって定められる、請求項1から4のいずれか一項に記載の真空堆積システム。
- 前記基板支持体(126、600)の各々が、基板保持デバイス(610)を保持または案内することを可能にする、請求項1から4のいずれか一項に記載の真空堆積システム。
- 前記基板保持デバイスがEチャックである、請求項6に記載の真空堆積システム。
- 前記真空堆積システム(300、400、500)が、垂直に配置された複数の基板(121)上に材料を堆積させるように構成される、請求項1から4のいずれか一項に記載の真空堆積システム。
- 前記材料堆積装置(100)が、2つ以上の有機材料の材料源である材料堆積装置アレイである、請求項1から4のいずれか一項に記載の真空堆積システム。
- 前記材料の散布管(106a、106b、106c)に1つ以上のノズル(712)を更に備え、少なくとも1つのノズル(712)が、開口部長さと開口部サイズを有する開口部を有し、前記ノズルは、ノズルの長さ対ノズルのサイズの比が2:1又はそれより大きい、請求項1から4のいずれか一項に記載の真空堆積システム。
- 前記材料堆積装置(100)が、前記真空チャンバ(110)内で可動である、請求項1から4のいずれか一項に記載の真空堆積システム。
- 前記材料堆積装置(100)が、前記真空チャンバ(110)内で回転可能である、請求項10に記載の真空堆積システム。
- 前記2つの基板支持体が、3m×3mまでのサイズを有する基板(121)を支持するように構成されている、請求項1から4のいずれか一項に記載の真空堆積システム。
- 2つのマスキングステーションを更に備える、請求項1から4のいずれか一項に記載の真空堆積システム。
- 前記真空堆積システムが、垂直に配向された前記基板(121)上に材料を堆積するために構成されており、
前記真空チャンバ(110)が、10−5〜10−7mbarの圧力レベルを提供し、
前記材料堆積装置(100)が、材料を蒸発させるためのるつぼ(102a、102b、102c)と、前記るつぼと流体連通し、前記真空チャンバ(110)内で蒸発した材料を案内するための出口を備える散布管(106a、106b、106c)とを備え、前記真空チャンバ内で可動である、請求項1から4のいずれか一項に記載の真空堆積システム(300、400、500)。 - 垂直に配向された複数の基板(121)上に材料を堆積させるための真空堆積システム(300、400、500)であって、
チャンバ容積を有する真空チャンバ(110)であって、10−5〜10−7mbarの圧力レベルを提供する真空チャンバ(110)と、
堆積されるべき材料を供給するための材料堆積装置(100)であって、前記材料堆積装置(100)は、堆積中は前記真空チャンバ(110)内に配置されており、材料を蒸発させるための2つ以上のるつぼ(102a、102b、102c)と、前記2つ以上のるつぼと流体連通し、互いに隣り合って設けられ、且つ、前記真空チャンバ(110)内で蒸発した材料を案内するための出口を備える2つ以上の直線状の散布管(106a、106b、106c)とを備え、前記真空チャンバ内で可動である、材料堆積装置(100)と、
前記材料堆積装置に面する基板面積の総和である基板サイズを有する前記複数の基板(121)を支持するための2つの基板支持体(126、600)とを備え、
チャンバ容積対基板サイズの比が、15m以下であり、
前記材料堆積装置(100)と前記2つの基板支持体(126、600)のうちの少なくとも1つの基板支持体との間の距離が、250mm未満であり、
前記2つ以上の直線状の散布管(106a、106b、106c)のうちの第1の散布管の第1のノズル、及び前記2つ以上の直線状の散布管(106a、106b、106c)のうちの第2の散布管の第2のノズルは、50mm未満の距離を有し、
前記2つの基板支持体が、前記材料堆積装置を挟んで前記真空チャンバの互いに反対側の側端に設けられており、
前記2つの基板支持体の各々が、前記真空チャンバの上端に延設された第1の側と前記真空チャンバの下端に延設された第2の側とを備え、前記基板を保持する基板保持デバイスが前記第1の側と前記第2の側との間で案内される、
真空堆積システム。 - チャンバ容積を有する真空チャンバ(110)及び材料堆積装置(100)を備える真空堆積システム(300、400、500)内で複数の基板上に材料を堆積させる方法であって、
前記材料堆積装置に面する基板面積の総和である基板サイズを有する処理されるべき前記複数の基板(121)を提供することであって、前記複数の基板(121)が、チャンバ容積対基板サイズの比が15m以下である前記真空チャンバ(110)内に提供されることと、
前記材料堆積装置(100)内で材料を蒸発させることと、
蒸発した材料(802)を前記複数の基板(121)に導くことと
を含み、
前記材料堆積装置(100)が、2つ以上のるつぼ(102a、102b、102c)と、前記るつぼ(102a、102b、102c)と流体連通しており且つ互いに隣り合って設けられている2つ以上の直線状の散布管(106a、106b、106c)とを含み、
前記材料堆積装置(100)と前記2つの基板支持体(126、600)のうちの少なくとも1つの基板支持体との間の距離が、250mm未満であり、
前記2つ以上の直線状の散布管(106a、106b、106c)のうちの第1の散布管の第1のノズル、及び前記2つ以上の直線状の散布管(106a、106b、106c)のうちの第2の散布管の第2のノズルは、50mm未満の距離を有し、
前記2つの基板支持体が、前記材料堆積装置を挟んで前記真空チャンバの互いに反対側の側端に設けられており、
前記2つの基板支持体の各々が、前記真空チャンバの上端に延設された第1の側と前記真空チャンバの下端に延設された第2の側とを備え、前記基板を保持する基板保持デバイスが前記第1の側と前記第2の側との間で案内される、
方法。 - 前記材料堆積装置(100)を前記真空チャンバ(110)内で移動させることを更に含む、請求項17に記載の方法。
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