CN104299983B - 电致发光器件及其制造方法、显示基板和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种电致发光器件及其制造方法、显示基板和显示装置,该电致发光器件包括:基板和形成于基板的上方的像素界定层,像素界定层上形成有像素开口矩阵,该像素开口矩阵包括多个像素开口,像素开口内形成有电致发光层,处于同一列的全部电致发光层中至少存在一个电致发光层与其他电致发光层的厚度不相等。本发明通过将电致发光器件内的处于同一列的全部电致发光层中设置至少一个电致发光层与其他电致发光层的厚度不相等,从而使得对应列中的电致发光层在发光时所产生的亮度不均匀,进而使得电致发光器件上的条纹mura被淡化,提升了该电致发光器件的品质。

Description

电致发光器件及其制造方法、显示基板和显示装置
技术领域
本发明涉及显示领域,特别涉及一种电致发光器件及其制造方法、显示基板和显示装置。
背景技术
近年来,在电致发光领域中,在通过喷墨方法来实现电致发光材料的涂布时,为限定出涂布区域以及避免电致发光材料溶液流入到相邻的像素,因此需要在电致发光器件中形成像素界定层。
图1为现有技术中电致发光器件的俯视图,图2为图1中A-A向的截面图,如图1和图2所示,该电致发光器件包括:基板1和形成于基板1的上方形成像素界定层2,像素界定层2上形成有像素开口矩阵,该像素开口矩阵包括若干个像素开口3,且每个像素开口3的形状和尺寸都完全相同,处于同一列的全部像素开口3对应相同颜色的电致发光层。
在采用喷墨方法形成电致发光层时,往往先采用列涂布的方式来滴注电致发光材料溶液,然后再对电致发光材料溶液进行干燥处理。
然而,在实际生产中,采用这种列涂布的方式来滴注电致发光材料溶液时,部分喷嘴向对应列像素开口中吐出的电致发光材料溶液的量并不等于预先设置的量,从而使得对应列中所形成的电致发光层的体积并不等于参考体积。在每个像素开口的开口面积都为参考面积的前提下,部分列中的电致发光层的厚度全部偏大或全部偏小(处于相同列的电致发光层的厚度相等)。在将该电致发光器件应用到显示装置中时,由于部分列的电致发光层的厚度偏大或偏小,从而会在显示装置中会出现一列列凸显的条纹云纹(mura),从而影响使用者的视觉效果。
发明内容
本发明提供一种电致发光器件及其制造方法、显示基板和显示装置,该电致发光器件在发光时不会产生凸显的条纹mura,提升了电致发光器件的品质。
为实现上述目的,本发明提供了一种电致发光器件,包括:基板和形成于所述基板的上方的像素界定层,所述像素界定层围成有像素开口矩阵,所述像素开口矩阵中的每个像素开口内形成有预定颜色的电致发光层,在所述像素开口矩阵中,处于同一列的全部所述像素开口对应相同颜色的电致发光层,处于同一列的全部所述像素开口中至少存在一个像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等。
可选地,处于同一列的全部所述像素开口中的每个所述像素开口的开口面积均不相等。
可选地,处于同一列的全部所述像素开口中所述像素开口的开口面积与预先设置的参考面积的形成有面积比a;
所述面积比a的取值范围为:0.98≤a≤1.02。
可选地,所述面积比a的取值范围为:0.995≤a≤1.005。
可选地,处于同一列的全部所述电致发光层中,所述电致发光层的体积与预先设置的参考体积的形成有体积比b;
所述体积比b的取值范围为:0.98≤a≤1.02。
可选地,所述体积积比b的取值范围为:0.995≤a≤1.005。
可选地,处于同一列的全部所述电致发光层中至少存在一个所述电致发光层与其他所述电致发光层的厚度不相等。
可选地,处于同一列的全部所述电致发光层中的每个所述电致发光层的厚度均不相等。
可选地,对应相同颜色的电致发光层且开口面积互不相同的若干个所述像素开口在所述像素开口矩阵中随机分布。
为实现上述目的,本发明还提供一种显示基板,包括:电致发光器件,该电致发光器件采用上述的电致发光器件。
为实现上述目的,本发明还提供一种显示装置,包括:显示基板,该显示基板采用上述的显示基板。
为实现上述目的,本发明还提供一种电致发光器件的制造方法,包括:
在基板的上方形成像素界定层,所述像素界定层围成有像素开口矩阵,处于同一列的全部所述像素开口对应相同颜色的电致发光层,处于同一列的全部所述像素开口中至少存在一个像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等;
在所述像素开口矩阵中的每个像素开口内形成预定颜色的电致发光层。
可选地,处于同一列的全部所述像素开口中的每个所述像素开口的开口面积均不相等。
可选地,所述在所述像素开口矩阵中的每个像素开口内形成预定颜色的电致发光层的步骤包括:
利用喷墨装置向对应列的每个所述像素开口中滴注电致发光材料溶液,处于同一列的全部所述像素开口每个所述像素开口内的所述电致发光材料溶液的滴注量相等;
对所述电致发光材料溶液进行干燥处理以形成所述电致发光层。
可选地,所述在所述像素开口矩阵中的每个像素开口内形成预定颜色的电致发光层的步骤包括:
利用喷墨装置向对应列的每个所述像素开口中滴注电致发光材料溶液,处于同一列的全部所述像素开口中存在至少一个所述像素开口内的所述电致发光材料溶液的滴注量与其他所述像素开口内的所述电致发光材料溶液的滴注量不相等;
对所述电致发光材料溶液进行干燥处理以形成所述电致发光层。
本发明具有以下有益效果:
本发明提供了一种电致发光器件及其制造方法、显示基板和显示装置,该电致发光器件包括:基板和形成于基板的上方的像素界定层,像素界定层上形成有像素开口矩阵,该像素开口矩阵包括多个像素开口,像素开口内形成有电致发光层,处于同一列的全部所述像素开口对应相同颜色的电致发光层,处于同一列的全部所述像素开口中至少存在一个像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等。本发明通过将处于同一列的全部所述像素开口中至少存在一个像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等,可使得电致发光器件内的处于同一列的全部电致发光层中设置至少一个电致发光层与其他电致发光层的厚度不相等,从而使得对应列中的电致发光层在发光时所产生的亮度不均匀,进而使得电致发光器件上的条纹mura被淡化,提升了该电致发光器件的品质。
附图说明
图1为现有技术中电致发光器件的俯视图;
图2为图1中A-A向的截面图;
图3为本发明实施例一提供的电致发光器件的俯视图;
图4为图3中B-B向的截面图;
图5为喷嘴滴注电致发光材料溶液的原理图;
图6为本发明实施例四的电致发光器件的制造方法的流程图。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图对本发明提供的电致发光器件及其制造方法、显示基板和显示装置进行详细描述。
图3为本发明实施例一提供的电致发光器件的俯视图,图4为图3中B-B向的截面图,如图3和图4所示,该电致发光器件包括:基板1和像素界定层2,其中,像素界定层2形成于基板1的上方,且像素界定层2上形成有像素开口矩阵,该像素开口矩阵包括多个像素开口3,像素开口3内形成有电致发光层4,其中处于同一列的全部像素开口3对应相同颜色的电致发光层4,处于同一列全部像素开口3中至少存在一个像素开口3与其他的像素开口3的开口面积不相等。
在本实施例中,由于处于同一列全部像素开口3中至少存在一个像素开口3与其他的像素开口3的开口面积不相等,因此当采用列涂布的方式来滴注电致发光材料溶液且同一列中每个像素开口3对应的电致发光材料溶液的量相同时,经过干燥处理以将电致发光材料溶液变为电致发光层4后,处于同一列的全部电致发光层4中至少存在一个电致发光层4与其他电致发光层4的厚度不相等,此时处于同一列的全部电致发光层4的厚度不完全相等,从而使得该列电致发光层4在发光时所产生的亮度不均匀。虽然此时电致发光器件中可能因为亮度不均匀而产生一些点mura,但是电致发光器件中的条纹mura会在较大程度上被淡化。在将该电致发光器件应用到显示装置中时,由于点mura区域相对较小,因此很难通过肉眼辨别出来,进而不会影响显示装置的视觉效果。
本实施中可选地,处于同一列的全部像素开口中的每个像素开口的开口面积均不相等,相应地,处于同一列的全部电致发光层中的每个电致发光层的厚度均不相等。此时,该电致发光器件产生条纹mura的概率可相对减小。
可选地,像素开口3的开口面积与预先设置的参考面积形成有面积比a,面积比a的取值范围为:0.98≤a≤1.02,即每个像素开口3的开口面积的改变量在参考面积的-2%~2%之间。优选地,面积比a的取值范围为:0.995≤a≤1.005,即每个像素开口3的开口面积的改变量在参考面积的-0.5%~0.5%之间。上述设定是为了保证不影响显示装置的显示效果下,有效的将条纹mura淡化。
可选地,处于同一列的全部像素开口3中的每个像素开口3的开口面积均不相等。其中,当在每个像素开口3对应的电致发光材料溶液的量相同时,则相应地经过干燥处理后,处于同一列的全部电致发光层4中的每个电致发光层4的厚度均不相等。
此外,作为本实施例中的另一可选技术方案,本实施例中,不仅处于同一列中的全部像素开口3中至少存在一个像素开口3与其他像素开口3的开口面积不同,而且处于同一列的全部电致发光层4中至少存在一个电致发光层4与其他电致发光层4的体积不相等。即在采用列涂布的方式来滴注电致发光材料溶液时,处于同一列中每个像素开口3对应的电致发光材料溶液的量不完全相等。此时,也可实现处于同一列的全部电致发光层4的厚度不完全相等。
下面结合附图对实现处于同一列中每个像素开口3中的电致发光材料溶液的量不完全相等的过程进行详细描述。
图5为喷嘴滴注电致发光材料溶液的原理图,如图5所示,喷嘴每次滴出的电致发光材料溶液的体积可由电压素子进行控制,当有驱动电压加载到电压素子时,电压素子会变产生形变,从而控制一定体积的电致发光材料溶液的滴出。本实施例中假定每个像素开口3内需要滴入四滴电致发光材料溶液,每滴电致发光材料溶液的体积可由对应的一个完整波形的驱动电压进行控制,例如,当第一个驱动电压的电压值较小时,则对应产生的一滴体积较小的电致发光材料溶液。在图5中,四滴电致发光材料溶液对应四个完整波形的电压。通过调整至少一个电压,从而能控制对应像素开口3内电致发光材料溶液的滴注量。喷嘴在产生四滴电致发光材料溶液后便移动至对应列的下一行像素开口3的上方,并重复上述滴液过程。
在电致发光材料溶液的滴注过程完毕后,通过干燥处理以形成电致发光层4。需要说明的是,在改变像素开口3内电致发光材料溶液的滴注量时,为避免点mura凸显,因此像素开口3内电致发光材料溶液的滴注量的改变量不能过大。可选地,最终形成的电致发光层4的体积与预先设置的参考体积形成有体积比b,体积比b的取值范围为:0.98≤b≤1.02。即每个电致发光层4的体积的改变量在参考体积的-2%~2%之间。优选地,体积比b的取值范围为:0.995≤b≤1.005,即每个电致发光层4的体积的改变量在参考体积的-0.5%~0.5%之间。
本实施例中,可选地,对应相同颜色的电致发光层且开口面积不完全相同的像素开口在像素开口矩阵中随机分布,此时,电致发光器件中该电致发光器件产生条纹mura的概率可相对减小。
本发明实施例一提供了一种电致发光器件,该电致发光器件包括:基板和形成于基板的上方的像素界定层,像素界定层上形成有像素开口矩阵,该像素开口矩阵包括多个像素开口,像素开口内形成有电致发光层,处于同一列的全部所述像素开口对应相同颜色的电致发光层,处于同一列的全部所述像素开口中至少存在一个像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等。本发明通过将处于同一列的全部所述像素开口中至少存在一个像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等,可使得电致发光器件内的处于同一列的全部电致发光层中设置至少一个电致发光层与其他电致发光层的厚度不相等,从而使得对应列中的电致发光层在发光时所产生的亮度不均匀,进而使得电致发光器件上的条纹mura被淡化,提升了该电致发光器件的品质。
本发明实施例二提供了一种显示基板,该显示基板包括:电致发光器件,该电致发光器件采用上述实施例一提供的电致发光器件,电致发光器件的具体结构可参见上述实施例一中的描述,此处不再赘述。由于该显示基板包括上述实施例一中的电致发光器件,因此该显示基板在进行显示时不会产生条纹mura,相应的显示基板的显示效果会得到提升。
本发明实施例三提供了一种显示装置,该显示装置包括:显示基板,该显示基板采用上述实施例一提供的显示基板,显示基板的具体结构可参见上述实施例二中的描述,此处不再赘述。
图6为本发明实施例四的电致发光器件的制造方法的流程图,如图6所示,该制造方法包括:
步骤101:在基板的上方形成像素界定层,像素界定层围成有像素开口矩阵,处于同一列的全部像素开口对应相同颜色的电致发光层,处于同一列的全部像素开口中至少存在一个像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等。
参考图4,该像素界定层2的材料为绝缘层材料,本实施例以像素界定层2的材料为聚酰亚胺(Polyimide)为例。在步骤101中,先通过涂布工艺以在基板1的上方形成厚度为1~10um的聚酰亚胺膜层,然后通过一次构图工艺在该聚酰亚胺膜上形成像素开口矩阵,此时基板1上余留的聚酰亚胺膜即为像素界定层2。其中,该像素开口矩阵包括若干个像素开口3,这些像素开口3所处的区域对应于电致发光器件的显示区域,而覆盖有聚酰亚胺膜的区域对应于电致发光器件的非显示区域,此外在通过构图工艺所形成像素开口3中,处于同一列的全部像素开口3中至少存在一个像素开口3与其他像素开口3的开口面积不相等。
需要说明的是,本实施例中的构图工艺是指至少可包括:光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺。
在步骤101中,可选地,处于同一列的全部像素开口中的每个像素开口的开口面积均不相等。
步骤102:在像素开口矩阵中的每个像素开口内形成预定颜色的电致发光层。
可选地,步骤102包括:
步骤1021a:利用喷墨装置向对应列的每个像素开口中滴注电致发光材料溶液,处于同一列的全部像素开口每个像素开口内的电致发光材料溶液的滴注量相等。
由于在上述步骤101中,处于同一列的全部像素开口中至少存在一个像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等,因此经过步骤1021a后,处于同一列的全部像素开口中至少存在一个像素开口内的电致发光材料溶液的高度与其他的像素开口内电致发光材料溶液的高度不相等。
步骤1022a:对电致发光材料溶液进行干燥处理以形成电致发光层。
通过步骤1022a处理后,处于同一列的全部电致发光层4中至少存在一个电致发光层与其他电致发光层的厚度不相等,从而使得该列电致发光层4在发光时所产生的亮度不均匀,虽然此时电致发光器件中可能因为亮度不均匀而产生一些点mura,但是电致发光器件中的条纹mura会在较大程度上被淡化。同时,在将该电致发光器件应用到显示装置中时,由于点mura区域相对较小,因此很难通过肉眼辨别出来,进而不会影响显示装置的视觉效果。流程结束。
可选地,步骤102包括:
步骤1021b:利用喷墨装置向对应列的每个像素开口中滴注电致发光材料溶液,处于同一列的全部像素开口中存在至少一个像素开口内的电致发光材料溶液的滴注量与其他像素开口内的电致发光材料溶液的滴注量不相等。
上述步骤101中,处于同一列的全部像素开口中至少存在一个像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等,而在步骤1021b中,处于同一列的全部像素开口中存在至少一个像素开口内的电致发光材料溶液的滴注量与其他像素开口内的电致发光材料溶液的滴注量不相等,因此处于同一列的全部像素开口中电致发光材料溶液的高度不完全相等的概率将进一步增大。
步骤1022b:对电致发光材料溶液进行干燥处理以形成电致发光层。
通过步骤1022b处理后,处于同一列的全部像素开口中电致发光层的高度不完全相等的概率也将进一步增大,从而使得该列电致发光层在发光时所产生的亮度不均匀,虽然此时电致发光器件中可能因为亮度不均匀而产生一些点mura,但是电致发光器件中的条纹mura会在较大程度上被淡化。同时,在将该电致发光器件应用到显示装置中时,由于点mura区域相对较小,因此很难通过肉眼辨别出来,进而不会影响显示装置的视觉效果。流程结束。
本发明实施例四提供了一种电致发光器件的制造方法,在通过该制造方法制备出的电致发光器件中,处于同一列的全部电致发光层中至少存在一个电致发光层与其他电致发光层的厚度不相等,从而使得对应列中的电致发光层在发光时所产生的亮度不均匀,进而使得电致发光器件上的条纹mura被淡化,从而提升了该电致发光器件的品质。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (13)

1.一种电致发光器件,其特征在于,包括:基板和形成于所述基板的上方的像素界定层,所述像素界定层围成有像素开口矩阵,所述像素开口矩阵中的每个像素开口内形成有预定颜色的电致发光层,在所述像素开口矩阵中,处于同一列的全部所述像素开口对应相同颜色的电致发光层,处于同一列的全部所述像素开口中至少存在一个像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等,处于同一列中的各所述像素开口中的电致发光层的体积相等。
2.根据权利要求1所述的电致发光器件,其特征在于,处于同一列的全部所述像素开口中的每个所述像素开口的开口面积均不相等。
3.根据权利要求1所述的电致发光器件,其特征在于,处于同一列的全部所述像素开口中所述像素开口的开口面积与预先设置的参考面积的形成有面积比a;
所述面积比a的取值范围为:0.98≤a≤1.02。
4.根据权利要求3所述的电致发光器件,其特征在于,所述面积比a的取值范围为:0.995≤a≤1.005。
5.根据权利要求1所述的电致发光器件,其特征在于,处于同一列的全部所述电致发光层中,所述电致发光层的体积与预先设置的参考体积的形成有体积比b;
所述体积比b的取值范围为:0.98≤b≤1.02。
6.根据权利要求5所述的电致发光器件,其特征在于,所述体积积比b的取值范围为:0.995≤b≤1.005。
7.根据权利要求1所述的电致发光器件,其特征在于,处于同一列的全部所述电致发光层中至少存在一个所述电致发光层与其他所述电致发光层的厚度不相等。
8.根据权利要求7所述的电致发光器件,其特征在于,处于同一列的全部所述电致发光层中的每个所述电致发光层的厚度均不相等。
9.根据权利要求1所述的电致发光器件,其特征在于,对应相同颜色的电致发光层且开口面积不完全相同的所述像素开口在所述像素开口矩阵中随机分布。
10.一种显示基板,其特征在于,包括:如上述权利要求1-9中任一所述的电致发光器件。
11.一种显示装置,其特征在于,包括:如上述权利要求10中所述的显示基板。
12.一种电致发光器件的制造方法,其特征在于,包括:
在基板的上方形成像素界定层,所述像素界定层围成有像素开口矩阵,处于同一列的全部所述像素开口对应相同颜色的电致发光层,处于同一列的全部所述像素开口中至少存在一个像素开口与其他的像素开口的开口面积不相等;
在所述像素开口矩阵中的每个像素开口内形成预定颜色的电致发光层;
所述在所述像素开口矩阵中的每个像素开口内形成预定颜色的电致发光层的步骤包括:
利用喷墨装置向对应列的每个所述像素开口中滴注电致发光材料溶液,处于同一列的全部所述像素开口每个所述像素开口内的所述电致发光材料溶液的滴注量相等;
对所述电致发光材料溶液进行干燥处理以形成所述电致发光层。
13.根据权利要求12所述的电致发光器件的制造方法,其特征在于,处于同一列的全部所述像素开口中的每个所述像素开口的开口面积均不相等。
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