CN105045048A - 一种曝光基台和曝光设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种曝光基台和曝光设备。该曝光基台包括底座以及设置在底座上的多个基台本体和多个举起部，基台本体与举起部交错并间隔设置，基台本体用于承载待曝光基板；举起部用于将待曝光基板传送至基台本体上，基台本体包括靠近举起部设置的第一结构，举起部包括位于其用于与待曝光基板相接触一端的第二结构，第一结构和第二结构相互配合能使照射至基台本体与举起部之间间隔区域的曝光光线照射至第一结构上。该曝光基台能使入射至基台本体与举起部之间间隔区域的曝光光线发生反射的光程差减小，从而使该曝光基台在对应间隔区域的区域和对应基台本体承载面的区域对待曝光基板的曝光更加均匀。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体地，涉及一种曝光基台和曝光设备。
背景技术
当今社会信息技术高速发展，液晶显示器(TFT-LCD)己经深入人们的日常生活，随着人们对液晶显示技术的更多了解，消费者对液晶显示面板画面品质的要求也在不断提高。这些更高的画质要求促使液晶面板厂商进一步提升技术并开发高技术规格的产品。TFT-LCD面板在生产开发过程中不断出现新的不良现象，如有效显示区域内显示亮度或显示颜色不均匀，该不良也称作显示Mura。显示Mura是一种非常影响液晶显示面板画面品质的不良现象。
根据试验获知，上述显示Mura频繁产生于显示基板制备过程中的曝光工艺中，显示Mura在曝光工艺中的产生源于曝光设备中的曝光基台。如图1-图2所示，在显示基板6进行曝光之前，由举起杆32支撑并举起显示基板6，并将显示基板6传送并放置到基台本体2上；在显示基板6进行曝光时，举起杆32落至相邻两基台本体2之间的间隔区域内，然后，曝光设备开始对显示基板6进行曝光。传统曝光基台的基台本体2与举起杆32之间大约有1.5mm的间隙，曝光时，对应照射至间隙中的曝光光线7会直接入射至位于基台本体2下方的底座1上，然后经底座1反射至显示基板6；而对应照射至基台本体2所在区域的曝光光线7会直接入射至基台本体2上，经基台本体2反射至显示基板6，这就导致对应照射至间隙中的曝光光线7经反射后入射至显示基板6的光程差大于对应照射至基台本体2上的曝光光线7经反射后入射至显示基板6的光程差，由于随着曝光光线7光程的加长，曝光光线7的强度会相应衰减，所以最终会导致显示基板6上对应间隙的区域和对应基台本体2的区域曝光不均匀，从而造成两个区域内同一膜层图形出现曝光差异，进而导致宏观上显示基板6有效显示区域的显示亮度或显示颜色不均匀，即显示Mura。
发明内容
本发明针对现有技术中存在的上述技术问题，提供一种曝光基台和曝光设备。该曝光基台能使照射至基台本体与举起部之间间隔区域的曝光光线照射至第一结构上，从而使该曝光基台相比于传统的曝光基台，入射至基台本体与举起部之间间隔区域的曝光光线发生反射的光程差减小，进而使该曝光基台在对应间隔区域的区域和对应基台本体承载面的区域对待曝光基板的曝光更加均匀。
本发明提供一种曝光基台，包括底座以及设置在所述底座上的多个基台本体和多个举起部，所述基台本体与所述举起部交错并间隔设置，所述基台本体用于承载待曝光基板；所述举起部用于将所述待曝光基板传送至所述基台本体上，所述基台本体包括靠近所述举起部设置的第一结构，所述举起部包括位于其用于与所述待曝光基板相接触一端的第二结构，所述第一结构和所述第二结构相互配合能使照射至所述基台本体与所述举起部之间间隔区域的曝光光线照射至所述第一结构上。
优选地，所述基台本体还包括远离所述举起部设置的第一支撑台，所述第一结构包括位于所述第一支撑台靠近所述举起部一侧的第二支撑台，所述第一支撑台与所述第二支撑台连接为一体，且所述第二支撑台的高度低于所述第一支撑台；
所述举起部包括举起杆和设置在所述举起杆一端的吸盘，所述吸盘用于吸附所述待曝光基板；所述第二结构为所述吸盘，所述吸盘在所述底座上的正投影能覆盖所述第二支撑台与所述举起杆之间的第一间隔区域，且所述吸盘能在曝光时内嵌于与所述举起部相邻的一对所述第二支撑台和一对所述第一支撑台围成的空间中。
优选地，所述吸盘的用于吸附所述待曝光基板的吸附面能在曝光时与所述第一支撑台的所述承载面相平齐。
优选地，所述第一支撑台与所述第二支撑台的高度差大于等于所述吸盘的厚度，所述吸盘与所述第一支撑台相对，且所述吸盘与所述第一支撑台之间的间距等于所述第二支撑台与所述举起杆之间的间距。
优选地，所述第二支撑台的用于与所述待曝光基板相对的顶面平行于所述底座和所述第一支撑台的所述承载面，且所述第二支撑台的顶面与所述第一支撑台的所述承载面之间的间距小于所述第二支撑台的顶面与所述底座之间的间距。
优选地，所述第一结构还包括设置在所述第二支撑台的顶面上的减反射膜层，所述减反射膜层能减少照射到其上的曝光光线的反射量。
优选地，所述减反射膜层采用绿色UPE树脂材料。
优选地，所述吸盘的用于吸附所述待曝光基板的吸附面采用绿色UPE树脂材料，所述第一支撑台的所述承载面采用陶瓷材料。
优选地，所述举起杆能伸缩，所述举起杆用于在传送所述待曝光基板时伸长，并带动所述吸盘沿传送方向移动，以将所述待曝光基板传送到所述第一支撑台上；所述举起杆用于在曝光时缩短，并带动所述吸盘嵌入至相对的一对所述第二支撑台和一对所述第一支撑台围成的空间中。
本发明还提供一种曝光设备，包括上述曝光基台。
本发明的有益效果：本发明所提供的曝光基台，通过在基台本体中设置第一结构和在举起部中设置第二结构，能使照射至基台本体与举起部之间间隔区域的曝光光线照射至第一结构上，从而使照射至第一结构上的曝光光线发生反射的光程差小于照射至底座的曝光光线发生反射的光程差，从而使该曝光基台相比于传统的曝光基台，入射至基台本体与举起部之间间隔区域的曝光光线发生反射的光程差减小、并近似等于入射至基台本体承载面上的曝光光线发生反射的光程差，进而使该曝光基台在对应间隔区域的区域和对应基台本体承载面的区域对待曝光基板的曝光更加均匀，提高了曝光后形成的显示基板的显示亮度和颜色的均匀性。
本发明所提供的曝光设备，通过采用上述曝光基台，提高了该曝光设备对待曝光基板进行曝光的均匀度，从而提高了曝光后形成的显示基板的显示亮度和颜色的均匀性，进而提高了该曝光设备的曝光质量。
附图说明
图1为现有技术中曝光基台中的举起杆将显示基板传送到基台本体上的示意图；
图2为图1中曝光基台的结构剖视图；
图3为本发明实施例1中曝光基台的结构剖视图。
其中的附图标记说明：
1.底座；2.基台本体；21.第一结构；211.第二支撑台；22.第一支撑台；2111.顶面；212.减反射膜层；3.举起部；31.第二结构；32.举起杆；4.待曝光基板；5.间隔区域；51.第一间隔区域；52.第二间隔区域；6.显示基板；7.曝光光线。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明所提供的一种曝光基台和曝光设备作进一步详细描述。
实施例1：
本实施例提供一种曝光基台，如图3所示，包括底座1以及设置在底座1上的多个基台本体2和多个举起部3，基台本体2与举起部3交错并间隔设置，基台本体2用于承载待曝光基板4；举起部3用于将待曝光基板4传送至基台本体2上，基台本体2包括靠近举起部3设置的第一结构21，举起部3包括位于其用于与待曝光基板4相接触一端的第二结构31，第一结构21和第二结构31相互配合能使照射至基台本体2与举起部3之间间隔区域5的曝光光线照射至第一结构21上。
通过在基台本体2中设置第一结构21和在举起部3中设置第二结构31，能使照射至基台本体2与举起部3之间间隔区域5的曝光光线照射至第一结构21上，从而使照射至第一结构21上的曝光光线发生反射的光程差小于照射至底座1的曝光光线发生反射的光程差，从而使该曝光基台相比于传统的曝光基台，入射至基台本体2与举起部3之间间隔区域5的曝光光线发生反射的光程差减小、并近似等于入射至基台本体2承载面上的曝光光线发生反射的光程差，进而使该曝光基台在对应间隔区域5的区域和对应基台本体2承载面的区域对待曝光基板4的曝光更加均匀，提高了曝光后形成的显示基板的显示亮度和颜色的均匀性。
本实施例中，基台本体2还包括远离举起部3设置的第一支撑台22，第一结构21包括位于第一支撑台22靠近举起部3一侧的第二支撑台211，第一支撑台22与第二支撑台211连接为一体，且第二支撑台211的高度低于第一支撑台22；举起部3包括举起杆32和设置在举起杆32一端的吸盘，吸盘用于吸附待曝光基板4；第二结构31为吸盘，吸盘在底座1上的正投影能覆盖第二支撑台211与举起杆32之间的第一间隔区域51，且吸盘能在曝光时内嵌于与举起部3相邻的一对第二支撑台211和一对第一支撑台22围成的空间中。
由于吸盘在底座1上的正投影能覆盖第二支撑台211与举起杆32之间的第一间隔区域51，所以吸盘能将透过待曝光基板4照射至底座1上的曝光光线挡住，也即能使这部分照射至底座1上的曝光光线照射到吸盘的用于吸附待曝光基板4的吸附面上，从而大大缩短了这部分曝光光线发生发射的光程差。
其中，吸盘的用于吸附待曝光基板4的吸附面能在曝光时与第一支撑台22的承载面相平齐。如此设置，不仅使该曝光基台在曝光时能对待曝光基板4进行更加平稳的支撑，而且还使该曝光基台在对应吸盘的区域和对应基台本体2的区域透过待曝光基板4的曝光光线发生反射后的光程差相同，从而使该曝光基台在对应第一间隔区域51的区域和对应基台本体2的区域对待曝光基板4的曝光更加均匀。
本实施例中，第一支撑台22与第二支撑台211的高度差大于等于吸盘的厚度，吸盘与第一支撑台211相对，且吸盘与第一支撑台22之间的间距等于第二支撑台211与举起杆32之间的间距。如此设置，能使吸盘与基台本体2之间的间距等于基台本体2与举起杆32之间的间距，从而使吸盘在遮挡基台本体2与举起杆32之间的第一间隔区域51的同时，还能使吸盘与第一支撑台22之间形成第二间隔区域52，第二间隔区域52能使吸盘有足够的操作活动空间，以将待曝光基板4传送到基台本体2上。
本实施例中，第二支撑台211的用于与待曝光基板4相对的顶面2111平行于底座1和第一支撑台22的承载面，且第二支撑台211的顶面2111与第一支撑台22的承载面之间的间距小于第二支撑台211的顶面2111与底座1之间的间距。如此设置，能使透过待曝光基板4的曝光光线一小部分照射到第二支撑台211的顶面2111上，其余大部分照射到第一支撑台22的承载面以及吸盘的吸附面上，照射到第二支撑台211的顶面2111上的曝光光线相对于现有技术中通过基台本体2与举起杆32之间的间隙照到底座1上的曝光光线经反射后的光程差缩短，从而使该曝光基台在对应第二间隔区域52的区域和对应第一支撑台22承载面的区域对待曝光基板4的曝光更加均匀，提高了曝光后形成的显示基板的显示亮度和颜色的均匀性。
本实施例中，第一结构21还包括设置在第二支撑台211的顶面2111上的减反射膜层212，减反射膜层212能减少照射到其上的曝光光线的反射量。其中，减反射膜层212采用绿色UPE树脂材料，该材料具有良好的减少照射至其上的光线发生反射的功能。减反射膜层212的设置，能使对应照射到第二间隔区域52内的第二支撑台211的顶面2111上的曝光光线的反射量大大减小，从而使这部分反射后有较大光程差变化的曝光光线基本不会发生反射，进而减少了这部分光线对待曝光基板4的曝光影响，确保该曝光基台在对应第二间隔区域52的区域和对应第一支撑台22承载面的区域对待曝光基板4的曝光更加均匀。
本实施例中，吸盘的用于吸附待曝光基板4的吸附面采用绿色UPE树脂材料(即超高分子聚乙烯材料)，第一支撑台22的承载面采用陶瓷材料。绿色UPE树脂材料和陶瓷材料都能减少照射至其上的光线发生反射的反射量，从而使透过待曝光基板4照射至吸盘的吸附面和第一支撑台22的承载面上的曝光光线发生反射的量大大减少，进而使曝光光线对待曝光基板4的曝光更加均匀。
本实施例中，举起杆32能伸缩，举起杆32用于在传送待曝光基板4时伸长，并带动吸盘沿传送方向移动，以将待曝光基板4传送到第一支撑台22上；举起杆32用于在曝光时缩短，并带动吸盘嵌入至相对的一对第二支撑台211和一对第一支撑台22围成的空间中。举起杆32的设置，能使举起部3将待曝光基板4顺利地传送至基台本体2上，从而方便了对待曝光基板4的曝光。
实施例1的有益效果：实施例1中所提供的曝光基台，通过在基台本体中设置第一结构和在举起部中设置第二结构，能使照射至基台本体与举起部之间间隔区域的曝光光线照射至第一结构上，从而使照射至第一结构上的曝光光线发生反射的光程差小于照射至底座的曝光光线发生反射的光程差，从而使该曝光基台相比于传统的曝光基台，入射至基台本体与举起部之间间隔区域的曝光光线发生反射的光程差减小、并近似等于入射至基台本体承载面上的曝光光线发生反射的光程差，进而使该曝光基台在对应间隔区域的区域和对应基台本体承载面的区域对待曝光基板的曝光更加均匀，提高了曝光后形成的显示基板的显示亮度和颜色的均匀性。
实施例2：
本实施例提供一种曝光设备，包括实施例1中的曝光基台。
通过采用实施例1中的曝光基台，提高了该曝光设备对待曝光基板进行曝光的均匀度，从而提高了曝光后形成的显示基板的显示亮度和颜色的均匀性，进而提高了该曝光设备的曝光质量。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种曝光基台，包括底座以及设置在所述底座上的多个基台本体和多个举起部，所述基台本体与所述举起部交错并间隔设置，所述基台本体用于承载待曝光基板；所述举起部用于将所述待曝光基板传送至所述基台本体上，其特征在于，所述基台本体包括靠近所述举起部设置的第一结构，所述举起部包括位于其用于与所述待曝光基板相接触一端的第二结构，所述第一结构和所述第二结构相互配合能使照射至所述基台本体与所述举起部之间间隔区域的曝光光线照射至所述第一结构上。
2.根据权利要求1所述的曝光基台，其特征在于，所述基台本体还包括远离所述举起部设置的第一支撑台，所述第一结构包括位于所述第一支撑台靠近所述举起部一侧的第二支撑台，所述第一支撑台与所述第二支撑台连接为一体，且所述第二支撑台的高度低于所述第一支撑台；
所述举起部包括举起杆和设置在所述举起杆一端的吸盘，所述吸盘用于吸附所述待曝光基板；所述第二结构为所述吸盘，所述吸盘在所述底座上的正投影能覆盖所述第二支撑台与所述举起杆之间的第一间隔区域，且所述吸盘能在曝光时内嵌于与所述举起部相邻的一对所述第二支撑台和一对所述第一支撑台围成的空间中。
3.根据权利要求2所述的曝光基台，其特征在于，所述吸盘的用于吸附所述待曝光基板的吸附面能在曝光时与所述第一支撑台的承载面相平齐。
4.根据权利要求3所述的曝光基台，其特征在于，所述第一支撑台与所述第二支撑台的高度差大于等于所述吸盘的厚度，所述吸盘与所述第一支撑台相对，且所述吸盘与所述第一支撑台之间的间距等于所述第二支撑台与所述举起杆之间的间距。
5.根据权利要求2所述的曝光基台，其特征在于，所述第二支撑台的用于与所述待曝光基板相对的顶面平行于所述底座和所述第一支撑台的所述承载面，且所述第二支撑台的顶面与所述第一支撑台的所述承载面之间的间距小于所述第二支撑台的顶面与所述底座之间的间距。
6.根据权利要求5所述的曝光基台，其特征在于，所述第一结构还包括设置在所述第二支撑台的顶面上的减反射膜层，所述减反射膜层能减少照射到其上的曝光光线的反射量。
7.根据权利要求6所述的曝光基台，其特征在于，所述减反射膜层采用绿色UPE树脂材料。
8.根据权利要求3所述的曝光基台，其特征在于，所述吸盘的用于吸附所述待曝光基板的吸附面采用绿色UPE树脂材料，所述第一支撑台的所述承载面采用陶瓷材料。
9.根据权利要求2所述的曝光基台，其特征在于，所述举起杆能伸缩，所述举起杆用于在传送所述待曝光基板时伸长，并带动所述吸盘沿传送方向移动，以将所述待曝光基板传送到所述第一支撑台上；所述举起杆用于在曝光时缩短，并带动所述吸盘嵌入至相对的一对所述第二支撑台和一对所述第一支撑台围成的空间中。
10.一种曝光设备，其特征在于，包括权利要求1-9任意一项所述的曝光基台。
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019211755A (ja) * | 2018-05-30 | 2019-12-12 | キヤノン株式会社 | 基板保持装置、露光装置及び物品の製造方法 |
| CN111061131A (zh) * | 2019-12-16 | 2020-04-24 | Tcl华星光电技术有限公司 | 曝光机 |
| US10761434B2 (en) | 2018-05-30 | 2020-09-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate holding apparatus, exposure apparatus, and article manufacturing method |
| CN111965945A (zh) * | 2020-08-12 | 2020-11-20 | Tcl华星光电技术有限公司 | 曝光平台装置及曝光机 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62166537A (ja) * | 1986-01-20 | 1987-07-23 | Fujitsu Ltd | ウエ−ハステ−ジ |
| US20060017005A1 (en) * | 2004-06-30 | 2006-01-26 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Exposure chuck and method for fabricating liquid crystal display device using the same |
| CN104298081A (zh) * | 2014-11-05 | 2015-01-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种曝光机 |
-
2015
- 2015-09-16 CN CN201510591090.0A patent/CN105045048B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62166537A (ja) * | 1986-01-20 | 1987-07-23 | Fujitsu Ltd | ウエ−ハステ−ジ |
| US20060017005A1 (en) * | 2004-06-30 | 2006-01-26 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Exposure chuck and method for fabricating liquid crystal display device using the same |
| CN104298081A (zh) * | 2014-11-05 | 2015-01-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种曝光机 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019211755A (ja) * | 2018-05-30 | 2019-12-12 | キヤノン株式会社 | 基板保持装置、露光装置及び物品の製造方法 |
| US10761434B2 (en) | 2018-05-30 | 2020-09-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate holding apparatus, exposure apparatus, and article manufacturing method |
| JP7016825B2 (ja) | 2018-05-30 | 2022-02-07 | キヤノン株式会社 | 基板保持装置、露光装置及び物品の製造方法 |
| CN111061131A (zh) * | 2019-12-16 | 2020-04-24 | Tcl华星光电技术有限公司 | 曝光机 |
| CN111061131B (zh) * | 2019-12-16 | 2022-04-05 | Tcl华星光电技术有限公司 | 曝光机 |
| CN111965945A (zh) * | 2020-08-12 | 2020-11-20 | Tcl华星光电技术有限公司 | 曝光平台装置及曝光机 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN105045048B (zh) | 2017-05-03 |
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