CN104112650A - 板状物粘贴方法 - Google Patents

板状物粘贴方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104112650A
CN104112650A CN201410151217.2A CN201410151217A CN104112650A CN 104112650 A CN104112650 A CN 104112650A CN 201410151217 A CN201410151217 A CN 201410151217A CN 104112650 A CN104112650 A CN 104112650A
Authority
CN
China
Prior art keywords
bonding agent
sheet material
plate object
wafer
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201410151217.2A
Other languages
English (en)
Inventor
小野贵司
小野寺宽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Corp filed Critical Disco Corp
Publication of CN104112650A publication Critical patent/CN104112650A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/0007Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding involving treatment or provisions in order to avoid deformation or air inclusion, e.g. to improve surface quality
    • B32B37/003Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding involving treatment or provisions in order to avoid deformation or air inclusion, e.g. to improve surface quality to avoid air inclusion
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/12Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by using adhesives
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67132Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

本发明提供板状物粘贴方法,其使得在粘接剂与板状物之间很难混入气泡。该板状物粘贴方法将板状物粘贴在片材上,其特征在于,该粘贴方法包括:粘接剂供给步骤,对片材上的一点供给粘接剂,形成粘接剂的峰;以及粘贴步骤,在实施该粘接剂供给步骤之后,在使板状物的被粘贴面与该片材相对的状态下使板状物对于该片材进行相对移动,从该粘接剂的峰的顶点起通过板状物使该粘接剂的峰铺开,隔着该粘接剂在该片材上粘贴板状物。

Description

板状物粘贴方法
技术领域
本发明涉及将晶片等板状物粘贴在片材上的板状物粘贴方法。
背景技术
关于在表面形成有IC、LSI等大量器件、且通过分割预定线(间隔道)而被划分为各个器件的半导体晶片,在通过磨削装置对背面进行磨削而加工为规定的厚度之后,通过切削装置(切割装置)对分割预定线进行切削而分割为各个器件,分割后的器件广泛利用于便携电话、个人电脑等各种电气设备。
对半导体晶片(以下,有时简称为晶片)的背面进行磨削的磨削装置具有保持晶片的卡盘工作台、以能够旋转的方式装配有磨削轮的磨削单元,该磨削轮具有对保持在该卡盘工作台上的晶片进行磨削的磨削石,该磨削装置能够高精度地将晶片磨削成期望的厚度。
在对半导体晶片的背面进行磨削时,由于必须利用卡盘工作台对形成有多个器件的晶片的表面侧进行吸引保持,因此为了保护器件,在半导体晶片的表面粘贴有在聚乙烯、氯乙烯、聚烯烃等基材的一个表面配设丙烯系的粘接层而构成的保护带。
在晶片的背面磨削中,利用卡盘工作台的保持面对在表面粘贴有这种保护带的保护带侧进行吸引保持,对晶片的背面进行磨削而使晶片薄化为均匀的厚度,但是由于保护带的粘接层的厚度存在偏差,因此不容易将晶片磨削成均匀的厚度。特别是,晶片的口径越大,在保护带的粘接层上产生的厚度偏差越大,因此很难将晶片磨削成均匀的厚度。
另一方面,使用线锯等从坯料(ingot)切出的晶片具有翘曲和起伏。对这种晶片进行通过磨削而使其平坦化的加工。公开有如下的方法和装置:在该晶片的磨削时,在一个表面上涂敷树脂,通过使树脂硬化而使该一个表面侧成为平坦面,之后保持该平坦面侧,使磨削石与另一个表面接触而进行磨削,由此去除晶片的起伏和翘曲(参照日本特开2009-148866号公报)。
在该公开公报所记载的树脂被覆装置中,在支承台上配设薄片,以使作为粘接剂发挥作用的紫外线硬化树脂与支承紫外线硬化树脂的支承台不粘合,在薄片和晶片的一个表面上涂敷树脂并使其硬化,使一个表面侧成为平坦面。
这种利用按压(press)等将晶片的表面侧推压到代替保护带而涂敷在片材上的液状树脂上并使液状树脂成为均匀的厚度后使其硬化的方法,作为对晶片的背面磨削时使用的晶片的表面进行保护的保护单元是有效的,特别是如果晶片的口径增大,则其利用价值增大。
专利文献1:日本特开2009-148866号公报
在专利文献1所公开的树脂被覆方法中,在将晶片按压到对上表面供给粘接剂的片材上进行粘贴时,当在粘接剂与晶片之间混入气泡时,混入有气泡的部分局部地无法通过粘接剂来支承,因此存在在后续加工中造成不良影响的问题。
具体而言,例如由于混入气泡,在磨削时无法对晶片进行吸引保持并充分固定,有时产生在磨削加工中晶片从粘接剂剥离等问题。
发明内容
本发明是鉴于上述的问题而完成的,其目的在于,提供很难在粘接剂与板状物之间混入气泡的板状物粘贴方法。
根据本发明,提供一种将板状物粘贴在片材上的板状物粘贴方法,该板状物粘贴方法的特征在于,包括:粘接剂供给步骤,对片材上的一点供给粘接剂,形成粘接剂的峰;以及粘贴步骤,在实施该粘接剂供给步骤之后,在使板状物的被粘贴面与该片材相对的状态下使板状物对于该片材进行相对移动,从该粘接剂的峰的顶点起通过板状物使该粘接剂的峰铺开,隔着该粘接剂在该片材上粘贴板状物。
优选的是,粘接剂的粘度被设定为,粘接剂在粘接剂供给步骤中供给到片材上时形成半球状的粘接剂的峰。优选的是,粘接剂由通过照射紫外线而硬化的紫外线硬化树脂构成,片材透射紫外线,本发明的板状物粘贴方法还包括如下的硬化步骤:在实施粘贴步骤之后,隔着片材对粘接剂照射紫外线,使粘接剂硬化。
根据本发明的板状物粘贴方法,对片材上的一点供给粘接剂而形成粘接剂的峰,然后,使板状物对于片材进行相对移动而从粘接剂的峰的顶点起通过板状物使粘接剂的峰铺开,从而隔着粘接剂在片材上粘贴板状物。
在板状物以大致点接触的方式与粘接剂接触之后,通过板状物使粘接剂铺开而将板状物粘贴在片材上,因此由于防止空气进入到粘接剂与板状物之间,从而很难在粘接剂与板状物之间混入气泡。
附图说明
图1是示出粘接剂供给步骤的侧视图。
图2是半导体晶片的表面侧立体图。
图3是示出粘贴步骤的局部剖面侧视图。
图4是示出粘接剂硬化步骤的局部剖面侧视图。
标号说明
10:片材;11:半导体晶片;16:支承台;18:粘接剂;20:按压装置;22:保持台;24:吸引保持部;28:吸引源;30:紫外线灯。
具体实施方式
下面,参照附图对本发明的实施方式进行详细说明。参照图1,示出表示粘接剂供给步骤的侧视图。首先,在由玻璃等透明部件形成的支承台16的支承面16a上载置片材10,对片材10上的一点、优选为片材10的中心部分的一点供给粘接剂18,在片材10上形成粘接剂18的峰。优选粘接剂18的峰***成半球状。
这样,为了形成粘接剂18的半球状的峰,优选粘接剂18的粘度为某种程度以上,根据粘接剂18的种类而适当设定粘度。例如,在采用环氧系树脂作为粘接剂18的情况下,优选其粘度为15Pa·s以上。
这里,为了适当形成粘接剂18的峰,片材10对于粘接剂18的润湿性是重要因素,优选片材10的表面具有润湿性低到弹开粘接剂18的程度的性质。
例如,当由聚苯乙烯形成片材10时,能够对片材10的表面赋予这种性质。或者,当由聚乙烯、氯乙烯、聚烯烃等树脂形成片材10并对片材10的表面实施氟树脂涂层或实施电晕放电处理时,能够对片材10的表面赋予润湿性低到弹开粘接剂18的程度的性质。优选粘接剂18由通过照射紫外线而硬化的紫外线硬化树脂构成,优选片材10对于紫外线是透明的。
参照图2,示出作为粘贴片材10的板状物的一种的半导体晶片(以下,有时简称为晶片)11的表面侧立体图。在半导体晶片11的表面11a,呈格子状形成有多个分割预定线(间隔道)13,并且在通过分割预定线13而被划分的各区域上形成有IC、LSI等器件15。半导体晶片11例如由硅晶片构成,其厚度大约为700μm左右。11b是晶片11的背面。
接着,参照图3和图4,对在晶片11的表面11a上粘贴由硬化的粘接剂层18a和片材10构成的保护片材32的方法进行说明。参照图3的(A),按压装置20具有保持台22,该保持台22具有由多孔陶瓷等形成的吸引保持部24,吸引保持部24通过电磁切换阀26而选择性地与吸引源28连接。
如图3的(A)所示,利用按压装置20的保持台22对晶片11的背面11b侧进行吸引保持,使保持台22向箭头A方向下降,从而如图3的(B)所示,使晶片11的表面11a与半球状的粘接剂18点接触。
从该状态起,当使保持台22进一步缓慢下降而将粘接剂18推压到片材10上时,粘接剂18在箭头B方向上均匀地延伸,片材10隔着均匀地延伸的粘接剂18而粘贴在晶片11的表面11a上(粘贴步骤)。
在该状态下,如图4所示,点亮配置在由玻璃等透明材料形成的支承台16的下方的紫外线灯30,穿过支承台16和具有透射紫外线的性质的片材10,对均匀地延伸的粘接剂18照射紫外线而使粘接剂18硬化,成为具有粘接性的粘接剂层18a。当使按压装置20的保持台22上升时,能够在晶片11的表面11a粘贴由片材10和粘接剂层18a构成的保护片材32。
在上述的晶片的粘贴方法中,在粘接剂供给步骤中,对片材10上的一点供给粘接剂18而形成粘接剂的峰,在粘贴步骤中,在使晶片11的被粘贴面与片材10相对的状态下使晶片11对于片材10进行相对移动,从粘接剂18的峰的顶点起通过晶片11使粘接剂18的峰铺开,在片材10上粘贴粘接剂18。
由此,在晶片11的表面11a粘贴由片材10和硬化的粘接剂层18a构成的保护片材32。因此,由于防止空气进入到粘接剂18与晶片11之间,因此抑制在粘接剂18与晶片11之间混入气泡。
在上述实施方式中,对在晶片11的表面11a隔着粘接剂18而粘贴片材10的例子进行了说明,但是粘贴片材10的板状物不限于晶片11,包含一般的板状的被加工物(板状物)。

Claims (3)

1.一种将板状物粘贴在片材上的板状物粘贴方法,该板状物粘贴方法的特征在于,包括:
粘接剂供给步骤,对片材上的一点供给粘接剂,形成粘接剂的峰;以及
粘贴步骤,在实施该粘接剂供给步骤之后,在使板状物的被粘贴面与该片材相对的状态下使板状物对于该片材进行相对移动,从该粘接剂的峰的顶点起通过板状物使该粘接剂的峰铺开,隔着该粘接剂在该片材上粘贴板状物。
2.根据权利要求1所述的板状物粘贴方法,其特征在于,
所述粘接剂的粘度被设定为,所述粘接剂在所述粘接剂供给步骤中供给到所述片材上时形成半球状的所述粘接剂的峰。
3.根据权利要求1或2所述的板状物粘贴方法,其特征在于,
所述粘接剂由通过照射紫外线而硬化的紫外线硬化树脂构成,
所述片材透射紫外线,
所述板状物粘贴方法还包括如下的硬化步骤:在实施所述粘贴步骤之后,隔着该片材对该粘接剂照射紫外线,使该粘接剂硬化。
CN201410151217.2A 2013-04-18 2014-04-14 板状物粘贴方法 Pending CN104112650A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013-087145 2013-04-18
JP2013087145A JP6149223B2 (ja) 2013-04-18 2013-04-18 板状物の貼着方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN104112650A true CN104112650A (zh) 2014-10-22

Family

ID=51709394

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410151217.2A Pending CN104112650A (zh) 2013-04-18 2014-04-14 板状物粘贴方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6149223B2 (zh)
KR (1) KR102144137B1 (zh)
CN (1) CN104112650A (zh)
TW (1) TWI601643B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7339768B2 (ja) * 2019-05-10 2023-09-06 株式会社ディスコ 保護部材形成装置
JP7339771B2 (ja) * 2019-05-17 2023-09-06 株式会社ディスコ 保護部材形成装置
JP7286250B2 (ja) * 2019-08-07 2023-06-05 株式会社ディスコ 保護部材形成装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011119578A (ja) * 2009-12-07 2011-06-16 Disco Abrasive Syst Ltd 貼着装置
CN102334182A (zh) * 2009-02-27 2012-01-25 索尼化学&信息部件株式会社 半导体装置的制造方法
EP2416633A1 (de) * 2010-08-04 2012-02-08 AT & S Austria Technologie & Systemtechnik Aktiengesellschaft Verfahren ur Festlegung und/oder Einbettung eines elektronischen Bauteils sowie Kleber zur Verwendung in einem derartigen Verfahren

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11307585A (ja) * 1998-04-22 1999-11-05 Sony Corp 半導体装置
JP2002203828A (ja) * 2000-12-28 2002-07-19 Lintec Corp ウエハの裏面研削方法
JP2004247611A (ja) * 2003-02-14 2004-09-02 Matsushita Electric Works Ltd 半導体素子実装基板、半導体素子実装基板の製造方法
JP5089370B2 (ja) 2007-12-21 2012-12-05 株式会社ディスコ 樹脂被覆方法および装置
JP2010062269A (ja) * 2008-09-02 2010-03-18 Three M Innovative Properties Co ウェーハ積層体の製造方法、ウェーハ積層体製造装置、ウェーハ積層体、支持層剥離方法、及びウェーハの製造方法
JP5324212B2 (ja) * 2008-12-26 2013-10-23 株式会社ディスコ 樹脂被覆方法および樹脂被覆装置
JP2011216763A (ja) * 2010-04-01 2011-10-27 Disco Corp ウェーハの加工方法
JP5524716B2 (ja) * 2010-05-28 2014-06-18 株式会社ディスコ ウェーハの平坦加工方法
JP5882577B2 (ja) * 2010-12-06 2016-03-09 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー フィルム貼付方法、裏面研削方法、半導体チップ作製方法及びフィルム貼付装置
JP5670208B2 (ja) * 2011-01-13 2015-02-18 株式会社ディスコ 樹脂塗布装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102334182A (zh) * 2009-02-27 2012-01-25 索尼化学&信息部件株式会社 半导体装置的制造方法
JP2011119578A (ja) * 2009-12-07 2011-06-16 Disco Abrasive Syst Ltd 貼着装置
EP2416633A1 (de) * 2010-08-04 2012-02-08 AT & S Austria Technologie & Systemtechnik Aktiengesellschaft Verfahren ur Festlegung und/oder Einbettung eines elektronischen Bauteils sowie Kleber zur Verwendung in einem derartigen Verfahren

Also Published As

Publication number Publication date
TW201446532A (zh) 2014-12-16
KR20140125296A (ko) 2014-10-28
KR102144137B1 (ko) 2020-08-12
JP6149223B2 (ja) 2017-06-21
JP2014212188A (ja) 2014-11-13
TWI601643B (zh) 2017-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102326457B1 (ko) 보호 부재의 형성 방법
KR102216978B1 (ko) 서포트 플레이트, 서포트 플레이트의 형성 방법 및 웨이퍼 가공 방법
CN103700584A (zh) 表面保护部件以及加工方法
WO2009075196A1 (ja) 半導体加工用両面粘着テープ及び半導体加工用テープ
JP2010135356A (ja) ウエーハのダイシング方法
JP2007266191A (ja) ウェハ処理方法
KR20180129643A (ko) 웨이퍼의 가공 방법
CN104112650A (zh) 板状物粘贴方法
JP2013041973A (ja) 板状物の研削方法
JP2010114306A (ja) ウェーハの移し替え方法
TWI685556B (zh) 被加工物的切割加工方法
CN104108063A (zh) 片材
JP5907805B2 (ja) 表面保護テープ及びウエーハの加工方法
JP2019009372A (ja) ウエーハの研削方法
JP6230354B2 (ja) デバイスウェーハの加工方法
JP2014082380A (ja) 表面保護テープの剥離方法
JP6132502B2 (ja) ウェーハの加工方法
JP2020035918A (ja) 被加工物の加工方法
JP2004031844A (ja) 半導体素子の製造方法及び半導体素子の製造装置
CN104167350A (zh) 从载体去除衬底
JP2014220418A (ja) 積層ウェーハの加工方法及び粘着シート
TW202232588A (zh) 半導體晶片的製造方法
KR20190102993A (ko) 판상물의 가공 방법
TW202242975A (zh) 半導體裝置的製造方法
CN112219268A (zh) 安装方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20141022

RJ01 Rejection of invention patent application after publication