具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,本发明实例在附图中示出,尽管将结合这些实施例来描述本发明,应该理解其并非要将本发明限制为这些实施例。相反,本发明意欲覆盖可包括在所附权利要求所限定的精神和范围内的替换、修改和等效形式。另外,在对本发明实施例的以下详述中,提出了很多具体细节以使本发明得到彻底理解。然而,本领域普通技术人员将认识到,没有这些具体细节也可实施本发明。在其它实例中,为了不必要地模糊本发明的方面,未详细描述公知的方法、过程、部件。
以下详细描述的一些部分是按照模块、部件、构造等及对可在结构设计软件上用其它符号表示来提出的。这些描述和表示是陶瓷制造的技术人员所使用的、为了将其工作的实质最有效地传达给该领域其它技术人员的手段。已经证明,主要是为了公共使用的原因,将这些结构或组分称作层、块、元素、面积、密度等有时是方便的。
然而,应牢记的是,所有这些和相似的术语应与适当的物理量相关联并且仅仅是适用于这些量的方便标记。除非特别指明,否则如以下描述中所显而易见的,应理解在整个本发明中,讨论所用的术语,如“关联”或“经过”或“叠加”或“需要”或“确定”或“重复”或“执行”或“检测”或“引导”等,指的是陶瓷结构或陶瓷制造设备的动作和过程。
图1展示了一种实施例的立体成洞洞石瓷砖制备方法纵向截面结构图。
图1中,展示出立体成洞洞石瓷砖100纵向截面,从下至上包括底料层110,面料层120和透光层130,所述人造的洞石瓷砖100内部,包含有空腔体140,所述空腔体包括孔洞、沟壑、气泡等形状,内部中空,形成空洞的、大小、形状、深浅不一的空腔,随机分布在所述透光层130上表面之下与所述底料层110下表面之上所形成的区域内。所述透光层130为透明釉料形成,且上表面为光滑的平面层,所述透明釉料的组分可采用现有成熟的透明釉料配方,或者所述透光层130为透明熔块形成,且上表面为光滑的平面层,所述透明熔块的组分可采用现有成熟的透明熔块配方。
当透光层130的透光度在40-70%之间时,孔洞呈现的立体视觉性能最好。当透光度大于70%时,孔洞效果不够立体,当透光度小于40%时,孔洞出现模糊失真。
透光度测定时,试样制成长方形,尺寸为20mm×25mm或圆形,直径为20mm,厚度为2mm、1.5mm、1mm、0.5mm四种种不同规格的薄片。制备时从同一部位切取,要求平整、光洁,研磨后烘干,精确测定厚度。测量仪器为透光度仪。
孔洞立体性能由5个人单独进行测评,分为清晰度1-10分,立体度1-10分,然后进行加和,总分50分以上者为视觉性能优秀。
表1透光层透光度立体效果对照表
优选的,所述空腔***于所述面料层120与所述透光层130之间,且空腔体穿透所述面料层120与所述透光层130的接触面,这种空腔体由于靠近透光层130,并且仅形成在不超过面料层120的深度,从透光层130往下看,该空腔体能呈现较浅的视觉效果。
优选的,所述空腔***于所述底料层110与所述面料层120之间,且所述空腔体穿透所述底料层110与所述面料层120的接触面,这种空腔体由于靠近底料层110,当面料层为浅色半透明材料的时候,从透光层130往下看,该空腔体能呈现中等深度的视觉效果。
优选的,所述空腔***于所述透光层130上表面之下与所述底料层110下表面之上所形成的区域内,同时穿透所述面料层120与所述透光层130的接触面以及所述底料层110与所述面料层120的接触面,从透光层130往下看,该空腔体能呈现非常深的视觉效果。
图1所示出的立体成洞洞石瓷砖生产工艺过程包括:粉料制备、布料干压成型、干燥、施釉、烧制。要点在于,在粉料中添加一种或多种复合的发泡材料,比如石墨粉、碳粉、碳酸盐(如石灰石)、硫酸盐(如石膏)、碳水化合物(如面粉)和低温玻璃、抛光废渣、物理发泡剂(如低沸点脂肪烃、醇、醚、卤代烃等)、化学发泡剂(如偶氮二甲酰胺,偶氮二碳酸二异丙酯,二亚硝基五次甲基四胺等)等等。烧制的过程产生的气孔冲不破釉面,在透光层130下形成空腔体140,使瓷砖具有了釉下有洞,且大小、形状、深浅不一,分布随机自然的视觉效果。
具体实施如下:
1)制备成孔材料:按照质量的百分比,各取球粘土5~10%、低温熔块粉10~20%、石墨粉10~20%、、碳酸钠10~15%、碳酸钙粉20~30%、抛光废渣5~10%。经过研磨加工和喷雾干燥成粉料。
2)制备面料:所述成孔材料作为发泡的材料按照10~20%的比例,加入常规的面料里面。
3)制备底料:常规的底料。
4)制备釉料:按照质量的百分比,各取石英5~8%、钠长石10~20%、钾长石10~35%、方解石8~25%、高岭土8~10%、烧滑石5~8%、透明熔块5~10%、氧化铝3~5%、增强纤维10~20%、釉用甲基0.2%、三聚0.2%、水50%、快球球磨12min,过250目筛。
5)布料:按照整块转的百分比进行双层布料,面料占40%、底料占60%。先布面料再布底料。
6)干燥:在200℃的条件下,烘5~10min,最后坯体中含水率低于0.2%。主要是排除坯体中的水分,这是一个物理反应。
7)施釉:干燥温度为200℃,出干燥窑后降温至60℃左右,再经过施釉线来施釉,最后进入窑炉。
在另外一个实施例中,所述施釉也可以采用添加透明熔块实现类似效果,透明熔块的配方、制备和添加均为现有技术。
8)烧制:在辊道窑1100~1250℃烧制60min而得到釉下成洞的瓷砖。施釉后,砖坯的温度在40℃左右,所以预热带要在35m左右。
图2展示了另外一种实施例的立体成洞洞石瓷砖纵向截面结构图。
图2中,展示出立体成洞洞石瓷砖100纵向截面,从下至上包括底料层110,面料层120和透光层130,所述透光层130为透明釉料形成,且上表面为光滑的平面层,所述透明釉料的组分可采用现有成熟的透明釉料配方。所述透明釉料的组分可采用现有成熟的透明釉料配方,或者所述透光层130为透明熔块形成,且上表面为光滑的平面层,所述透明熔块的组分可采用现有成熟的透明熔块配方。
所述人造的洞石瓷砖100内部,包含有空腔体140和空腔体141,所述空腔体140和空腔体141包括孔洞、沟壑、气泡等形状,内部中空,形成空洞的、大小、形状、深浅不一的空腔,空腔体140和空腔体141的区别在于,空腔体140随机分布在所述透光层130上表面之下与所述底料层110下表面之上所形成的区域内,而空腔体141冲破透光层130上表面,使得空腔体141至少有部分裸露在外,且与瓷砖外部联通。
当透光层130的透光度在40-70%之间时,孔洞呈现的立体视觉性能最好。当透光度大于70%时,孔洞效果不够立体,当透光度小于40%时,孔洞出现模糊失真。
透光度测定时,试样制成长方形,尺寸为20mm×25mm或圆形,直径为20mm,厚度为2mm、1.5mm、1mm、0.5mm四种种不同规格的薄片。制备时从同一部位切取,要求平整、光洁,研磨后烘干,精确测定厚度。测量仪器为透光度仪。
孔洞立体性能由5个人单独进行测评,分为清晰度1-10分,立体度1-10分,然后进行加和,总分50分以上者为视觉性能优秀。
表2透光层透光度立体效果对照表
优选的,所述空腔体140和/或空腔体141位于所述面料层120与所述透光层130之间,且所述空腔体140和/或空腔体141穿透所述面料层120与所述透光层130的接触面,所述空腔体140和/或空腔体141由于靠近透光层130,并且仅形成在不超过面料层120的深度,从透光层130往下看,该空腔体能呈现较浅的视觉效果。
优选的,所述空腔体140和/或空腔体141位于所述透光层130上表面之下与所述底料层110下表面之上所形成的区域内,同时穿透所述面料层120与所述透光层130的接触面以及所述底料层110与所述面料层120的接触面,从透光层130往下看,该所述空腔体140和/或空腔体141能呈现非常深的视觉效果。
图2所示出的立体成洞洞石瓷砖制备方法生产工艺过程包括
粉料制备、布料干压成型、干燥、施釉、烧制过程中。在粉料中添加一种或多种复合的发泡材料,比如石墨粉、碳粉、碳酸盐(如石灰石)、硫酸盐(如石膏)、碳水化合物(如面粉)和低温玻璃、抛光废渣、物理发泡剂(如低沸点脂肪烃、醇、醚、卤代烃等)、化学发泡剂(如偶氮二甲酰胺,偶氮二碳酸二异丙酯,二亚硝基五次甲基四胺等)等等。烧制的过程产生的气泡部分冲破釉面而产生釉面的孔洞,部分气泡保持在釉下,使得孔洞镶嵌于釉面与面料之间(孔洞大部分镶嵌在面料),这样就形成了釉面层下部分成洞的瓷砖。通过釉面观看的时候就会产生一种立体感。
具体实施如下:
1)制备成孔材料:按照质量的百分比,各取球粘土5~10%、低温熔块粉10~20%、石墨粉15~20%、、碳酸钠10~15%、碳酸钙粉30~40%、抛光废渣10~20%。经过研磨加工和喷雾干燥成粉料。
2)制备面料:所述成孔材料作为发泡材料按照15~25%的比例,加入常规的面料里面。
3)制备底料:常规的底料。
4)制备釉料:按照质量的百分比,各取石英5~8%、钠长石10~20%、钾长石10~35%、方解石8~25%、高岭土8~10%、烧滑石5~8%、透明熔块5~10%、氧化铝3~5%、增强纤维10~20%、釉用甲基0.2%、三聚0.2%、水50%、快球球磨12min,过250目筛。
5)布料:按照整块转的百分比进行双层布料,面料占40%、底料占60%。先布面料再布底料。
6)干燥:在200℃的条件下,烘5~10min,最后坯体中含水率低于0.2%。主要是排除坯体中的水分,这是一个物理反应。
7)施釉:干燥温度为200℃,出干燥窑后降温至60℃左右,再经过施釉线来施釉,最后进入窑炉。
在另外一个实施例中,所述施釉也可以采用添加透明熔块实现类似效果,透明熔块的配方、制备和添加均为现有技术。
8)烧制:在辊道窑1100~1250℃烧制60min而得到釉面部分成洞的瓷砖。施釉后,砖坯的温度在40℃左右,所以预热带要在35m左右。
图3展示了立体成洞洞石瓷砖制备方法透光层平面俯视示意图。
图3中,展示出立体成洞洞石瓷砖从透光层上表面往下俯视,所述空腔体140在透光层面积内形成大小、形状、深浅不一,且随机自然分布的孔洞视觉效果。
以上所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。