CN104020603A - 一种彩膜基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

一种彩膜基板及其制作方法、显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明实施例公开了一种彩膜基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够简化彩膜基板的结构和制作过程，降低制作成本。该彩膜基板包括衬底基板、网格状的黑矩阵和彩色滤色层，所述黑矩阵和所述彩色滤色层分别位于所述衬底基板两侧，所述黑矩阵的材质为导电遮光的材质。

Description

一种彩膜基板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
液晶显示器主要包括阵列基板、彩膜基板以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶分子层。具体地，彩膜基板包括衬底基板以及位于衬底基板一面上的黑矩阵和彩色滤色层，其中，黑矩阵用于防止漏光，增加对比度，彩色滤色层用于实现彩色显示。
进一步地，为了防止静电对液晶显示器的正常显示造成影响，通常在衬底基板的另一面上设置透明导电层，在显示过程中，透明导电层可以将静电导走，因此，不会影响液晶分子层内的液晶分子的偏转情况，进而保证了液晶显示器的正常显示。
发明人发现，现有技术中，黑矩阵和透明导电层分别位于衬底基板两侧，需要单独制作，进而使得彩膜基板的制作过程较为复杂，制作成本较高。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种彩膜基板及其制作方法、显示装置，能够简化彩膜基板的结构和制作过程，降低制作成本。
为解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种彩膜基板，该彩膜基板采用如下技术方案：
一种彩膜基板，包括衬底基板、网格状的黑矩阵和彩色滤色层，所述黑矩阵和所述彩色滤色层分别位于所述衬底基板两侧，所述黑矩阵的材质为导电遮光的材质。
所述黑矩阵的材质为金属或者合金。
所述黑矩阵的材质为铬、铬合金、铜、铝等。
所述彩色滤色层包括红色区域、绿色区域和蓝色区域，相邻的两个不同颜色的区域的边缘相互交叠。
所述彩膜基板还包括位于所述彩色滤色层上的透明保护层和位于所述透明保护层上的隔垫物。
本发明实施例提供了一种彩膜基板，该彩膜基板包括衬底基板、黑矩阵和彩色滤色层，其中，黑矩阵和彩色滤色层分别位于衬底基板两侧，黑矩阵的材质为导电遮光的材质，进而使得黑矩阵在实现防止漏光、增加对比度的同时还可以将静电导走，进而保证了液晶显示器的正常显示，因此不需要再制作透明导电层，简化了彩膜基板的结构和制作过程，降低制作成本。
此外，本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括以上任一项所述的彩膜基板。
为了进一步解决上述技术问题，本发明实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法，该彩膜基板的制作方法采用如下方案：
一种彩膜基板的制作方法包括：
在衬底基板一侧形成网格状的黑矩阵，所述黑矩阵的材质为导电遮光的材质；
在所述衬底基板另一侧形成彩色滤色层。
所述黑矩阵的材质为金属或者合金，优选为铬、铬合金、铜、铝等。
所述彩色滤色层包括红色区域、绿色区域和蓝色区域，相邻的两个不同颜色的区域的边缘相互交叠。
所述彩膜基板的制作方法还包括：
在所述彩色滤色层上形成透明保护层；
在所述透明保护层上形成隔垫物。
本发明实施例提供给了一种彩膜基板的制作方法，该制作方法包括在衬底基板一侧形成网格状的黑矩阵，黑矩阵的材质为导电遮光的材质；在衬底基板另一侧形成彩色滤色层，进而使得形成的黑矩阵在实现防止漏光、增加对比度的同时还可以将静电导走，进而保证了液晶显示器的正常显示，因此不需要再制作透明导电层，简化了彩膜基板的结构和制作过程，降低制作成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例中的彩膜基板的截面示意图；
图2为本发明实施例中的彩膜基板的一侧的示意图；
图3为本发明实施例中的彩膜基板的另一侧的示意图；
图4为本发明实施例中的彩膜基板的制作流程图。
附图标记说明：
1—衬底基板；      2—黑矩阵；    3—彩色滤色层；
4—透明保护层；    5—隔垫物；    51—主隔垫物；
52—辅助隔垫物。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例一
本发明实施例提供一种彩膜基板，能够简化彩膜基板的结构和制作过程，降低制作成本。
具体地，如图1、图2和图3所示，该彩膜基板包括衬底基板1、网格状的黑矩阵2和彩色滤色层3，黑矩阵2和彩色滤色层3分别位于衬底基板1两侧，黑矩阵3的材质为导电遮光的材质。
本发明实施例提供了一种彩膜基板，该彩膜基板包括衬底基板、黑矩阵和彩色滤色层，其中，黑矩阵和彩色滤色层分别位于衬底基板两侧，黑矩阵的材质为导电遮光的材质，进而使得黑矩阵在实现防止漏光、增加对比度的同时还可以将静电导走，进而保证了液晶显示器的正常显示，因此不需要再制作透明导电层，简化了彩膜基板的结构和制作过程，降低制作成本。
由以上所述可知，黑矩阵2的材质只要具有导电遮光的特性即可，其中，黑矩阵2可以吸收光也可以反射光，本发明实施例对此不进行限定。示例性地，黑矩阵2的材质为金属或者合金。优选地，黑矩阵2的材质为铬、铬合金、铜、铝等。
进一步地，彩色滤色层3包括红色区域、绿色区域和蓝色区域，其中，红色区域、绿色区域和蓝色区域的材质分别为相应颜色的彩色树脂材料。需要说明的是，本发明实施例未对彩色滤色层的分布状况以及红色区域、绿色区域和蓝色区域的分布状况进行限定，只要能使网格状的黑矩阵2划分出的每个亚像素内仅被一种颜色区域完全覆盖，同时相邻几个亚像素构成的显示像素能够显示不同的色彩即可。为了防止漏光，本发明实施例中优选彩色滤色层3中相邻的两个不同颜色的区域的边缘相互交叠。
进一步地，彩膜基板还包括位于彩色滤色层3上的透明保护层4和位于透明保护层4上的隔垫物5。其中透明保护层4用于保护黑矩阵2和彩色滤色层3，并增加彩膜基板表面的平滑性等作用。隔垫物5用于维持彩膜基板和阵列基板对盒后形成的液晶盒的盒厚，隔垫物5包括主隔垫物51和辅助隔垫物52，其中主隔垫物51的高度高于辅助隔垫物52的高度，对盒后主隔垫物51的顶部接触阵列基板，辅助隔垫物52的顶部与阵列基板之间存在一定的间隙，当液晶盒受到外力挤压时，辅助隔垫物52的顶部与阵列基板接触，进而辅助主隔垫物51维持液晶盒的厚度。
此外，本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括以上任一项所述的彩膜基板。该显示装置可以为：液晶面板、电子纸、有机发光二极管面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。示例性地，该显示装置可以为高级超维场转换技术型薄膜晶体管液晶显示器(Advanced Super Dimension Switch Thin FilmTransistor Liquid Crystal Display，简称ADS)。由于ADS TFT-LCD中的公共电极和像素电极均位于阵列基板上，公共电极或者像素电极为条状或者设置有狭缝状，进而使得液晶分子在公共电极和像素电极形成的水平电场下发生偏转，此时，外界的静电对液晶分子的偏转情况的影响更为严重，本发明实施例中的彩膜基板应用于ADS TFT-LCD中能够有效地实现静电屏蔽。
实施例二
本发明实施例提供一种彩膜基板的制作方法，使用该制作方法制作彩膜基板过程简单，制作成本低。
如图4所示，该彩膜基板的制作方法包括：
步骤S401、在衬底基板一侧形成网格状的黑矩阵，黑矩阵的材质为导电遮光的材质。
需要说明的是，在衬底基板1一侧形成网格状的黑矩阵2的具体步骤需要根据黑矩阵2的材质的不同而进行设定。其中，黑矩阵2的材质为金属或者合金，优选为铬、铬合金、铜、铝等。因此，黑矩阵2的制作过程具体如下：首先，使用溅射、蒸镀或者沉积电镀等方法在衬底基板1一侧形成一层金属薄膜或者合金薄膜，其次，在金属薄膜或者合金薄膜上涂布一层光刻胶，然后使用具有黑矩阵的图案的掩膜板遮盖，最后，经过曝光、显影、刻蚀、剥离光刻胶等步骤后，在衬底基板1一侧形成网格状的黑矩阵2。
步骤S402、在衬底基板另一侧形成彩色滤色层。
具体地，由于彩色滤色层3包括红色区域、绿色区域和蓝色区域，不同颜色的区域的材质为相应颜色的彩色树脂材料，因此，红色区域、绿色区域和蓝色区域需要分三次分别形成。示例性地，先在衬底基板1另一侧上涂布一层红色树脂材料，使用具有红色区域的图案的掩膜板遮盖，经过曝光、显影、刻蚀后得到红色区域；然后在衬底基板1另一侧上涂布绿色树脂材料，使用具有绿色区域的图案的掩膜板遮盖，经过曝光、显影、刻蚀后得到绿色区域；最后在衬底基板1上另一侧涂布蓝色树脂材料，使用具有蓝色区域的图案的掩膜板遮盖，经过曝光、显影、刻蚀后得到蓝色区域；经过上述过程后，在衬底基板1另一侧上形成包括红色区域、绿色区域和蓝色区域的彩色滤色层3。进一步地，为了防止漏光，本发明实施例中形成的彩色滤色层3中相邻的两个不同颜色的区域的边缘相互交叠。
需要说明的是，在衬底基板1一侧形成网格状的黑矩阵2和在衬底基板1另一侧形成彩色滤色层3的顺序本发明不进行限定。本发明实施例中优选先在衬底基板1一侧形成网格状的黑矩阵2，然后在衬底基板1的另一侧形成彩色滤色层3，其中先形成的黑矩阵2可以对后续彩色滤色层3的制作起定位的作用。
进一步地，如图4所示，彩膜基板的制作方法还包括：
步骤S403、在彩色滤色层上形成透明保护层。
通过等离子体增强化学气相沉积等方法在彩色滤色层3上形成透明保护层4。
步骤S404、在透明保护层上形成隔垫物。
具体地，首先在透明保护层4上形成一层树脂材料，然后使用具有隔垫物的图案的掩膜板遮盖，经过曝光、显影、刻蚀等步骤后在透明保护层4上形成隔垫物5。进一步地，隔垫物5包括主隔垫物51和辅助隔垫物52。
此外，为了提高显示装置的显示效果，减少不良的发生，本发明实施例中彩色滤色层3、透明保护层4或者隔垫物5等结构制作完成后还可以对其进行修补，即在上述结构制作完成之后，根据其微观图像确认是否发生缺陷进而进行修补。此处的缺陷主要分为异物(灰尘、纤维等)和缺失(光刻胶缺失)，主要的修补手法有研磨(针对异物)和喷墨(针对缺失)等。
本发明实施例提供给了一种彩膜基板的制作方法，该制作方法包括在衬底基板一侧形成网格状的黑矩阵，黑矩阵的材质为导电遮光的材质；在衬底基板另一侧形成彩色滤色层，进而使得形成的黑矩阵在实现防止漏光、增加对比度的同时还可以将静电导走，进而保证了液晶显示器的正常显示，因此不需要再制作透明导电层，简化了彩膜基板的制作过程，降低制作成本。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种彩膜基板，包括衬底基板、网格状的黑矩阵和彩色滤色层，其特征在于，所述黑矩阵和所述彩色滤色层分别位于所述衬底基板两侧，所述黑矩阵的材质为导电遮光的材质。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵的材质为金属或者合金。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵的材质为铬、铬合金、铜、铝。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩色滤色层包括红色区域、绿色区域和蓝色区域，相邻的两个不同颜色的区域的边缘相互交叠。
5.根据权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，其特征在于，还包括位于所述彩色滤色层上的透明保护层和位于所述透明保护层上的隔垫物。
6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-5任一项所述的彩膜基板。
7.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底基板一侧形成网格状的黑矩阵，所述黑矩阵的材质为导电遮光的材质；
在所述衬底基板另一侧形成彩色滤色层。
8.根据权利要求7所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述黑矩阵的材质为金属或者合金，优选为铬、铬合金、铜、铝。
9.根据权利要求7所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩色滤色层包括红色区域、绿色区域和蓝色区域，相邻的两个不同颜色的区域的边缘相互交叠。
10.根据权利要求7-9任一项所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，还包括：
在所述彩色滤色层上形成透明保护层；
在所述透明保护层上形成隔垫物。
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