CN108761889A - 一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例提供了一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法，其中显示面板包括：相对设置的柔性阵列基板和柔性对置基板，以及设置于柔性阵列基板和柔性对置基板之间的聚合物挡墙，聚合物挡墙分别与柔性阵列基板和柔性对置基板相连；柔性对置基板远离柔性阵列基板的一侧设置有静电屏蔽层；其中，静电屏蔽层具有静电屏蔽图案，静电屏蔽图案在柔性阵列基板上具有第一垂直投影，聚合物挡墙在柔性阵列基板上具有第二垂直投影，第二垂直投影与第一垂直投影重合。本发明实施例可以提高显示面板的显示效果，简化制作工艺，降低生产成本。

Description

一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法。
背景技术
随着显示技术的发展，柔性显示面板以其可弯折，宽视角、轻薄化等特点越来越受消费者的青睐。
柔性显示面板包括相对设置的柔性阵列基板和柔性对置基板，但是，当显示面板被弯折或施加外力时，柔性阵列基板和柔性对置基板之间的间距变小，导致显示面板产生漏光或色偏现象，影响显示面板的显示效果；此外，由于柔性阵列基板和柔性对置基板非常薄，显示面板表面的静电会对显示面板内部的电场产生很大的影响，从而也会影响显示面板的显示效果。
发明内容
本发明实施例提供了一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法，以提高显示面板的显示效果，简化制作工艺，降低生产成本。
第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：
相对设置的柔性阵列基板和柔性对置基板，以及设置于所述柔性阵列基板和柔性对置基板之间的聚合物挡墙，所述聚合物挡墙分别与所述柔性阵列基板和所述柔性对置基板相连；
所述柔性对置基板远离所述柔性阵列基板的一侧设置有静电屏蔽层；其中，
所述静电屏蔽层具有静电屏蔽图案，所述静电屏蔽图案在所述柔性阵列基板上具有第一垂直投影，所述聚合物挡墙在所述柔性阵列基板上具有第二垂直投影，所述第二垂直投影与所述第一垂直投影重合。
第二方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括本发明任意实施例提供的显示面板。
第三方面，本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法，包括：
提供一柔性阵列基板和一柔性对置基板；
将所述柔性阵列基板和所述柔性对置基板对盒；其中，所述柔性阵列基板和所述柔性对置基板之间填充有聚合物分子；
在所述柔性对置基板远离所述柔性阵列基板的一侧形成原始静电屏蔽层；
采用同一掩膜版使所述原始静电屏蔽层形成具有静电屏蔽图案的静电屏蔽层，以及将所述聚合物分子聚合形成聚合物挡墙；其中，所述静电屏蔽图案在所述柔性阵列基板上具有第一垂直投影，所述聚合物挡墙在所述柔性阵列基板上具有第二垂直投影，所述第二垂直投影位于所述第一垂直投影重合。
本发明实施例通过在柔性阵列基板和柔性对置基板之间设置聚合物挡墙，且聚合物挡墙分别与柔性阵列基板和柔性对置基板相连，可以实现支撑柔性阵列基板和柔性对置基板的作用，通过在柔性对置基板远离柔性阵列基板的一侧设置静电屏蔽层，可以实现消除显示面板表面静电的作用，通过设置静电屏蔽层具有静电屏蔽图案，聚合物挡墙在柔性阵列基板上具有的第二垂直投影与静电屏蔽图案在柔性阵列基板上具有的第一垂直投影重合，可以实现使用同一个掩膜版制备聚合物挡墙和静电屏蔽层，因而本发明实施例提供的显示面板可以避免显示面板被弯折或施加外力后发生漏光或色偏的现象，以及显示面板表面静电对显示效果的影响，提高显示面板的显示效果，且简化制作工艺，降低生产成本。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种显示面板的剖面图；
图2为本发明实施例提供的一种静电屏蔽层的俯视图；
图3为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面图；
图4为本发明实施例提供的一种聚合物挡墙的俯视图；
图5为本发明实施例提供的又一种显示面板的俯视图；
图6为图5中的显示面板沿AA′方向的剖面图；
图7为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面图；
图8为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面图；
图9为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面图；
图10为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图；
图11为本发明实施例提供的一种显示面板制作方法的流程图；
图12为步骤S510后显示面板的剖面图；
图13为步骤S520后显示面板的剖面图；
图14为步骤S530后显示面板的剖面图；
图15为步骤S540后显示面板的剖面图；
图16为步骤S541后显示面板的剖面图；
图17为步骤S542后显示面板的剖面图；
图18为步骤S543后显示面板的剖面图；
图19为步骤S710后显示面板的剖面图；
图20为步骤S711后显示面板的剖面图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
图1为本发明实施例提供的一种显示面板的剖面图，参见图1，该显示面板包括相对设置的柔性阵列基板110和柔性对置基板120，以及设置于柔性阵列基板110和柔性对置基板120之间的聚合物挡墙130，聚合物挡墙130分别与柔性阵列基板110和柔性对置基板120相连。
其中，聚合物挡墙130设置于柔性阵列基板110和柔性对置基板120之间，具有支撑和物理连接柔性阵列基板110和柔性对置基板120的作用。具体的，当显示面板被弯折或施加外力后，由于有聚合物挡墙130的支撑和连接，可以保证显示面板受力区域的间距不会发生很大的变化，避免显示面板发生漏光或色偏，提高显示面板的显示效果。
柔性对置基板120远离柔性阵列基板110的一侧设置有静电屏蔽层140，静电屏蔽层140具有静电屏蔽图案150。
图2为本发明实施例提供的一种静电屏蔽层的俯视图，参见图2，静电屏蔽层140连接有固定电位，具体可用于导走静电，而由于静电屏蔽层140对显示面板的透光率有影响，因此需要将静电屏蔽层140设置为静电屏蔽图案150的形式。在图2中，示例性地，在垂直于柔性阵列基板110的方向上，与像素重叠的区域142为镂空区域，在相邻像素之间设置静电屏蔽图形150。通过这样的设置可以避免静电屏蔽层140对显示面板透光率造成影响。
静电屏蔽图案150在柔性阵列基板110上具有第一垂直投影151，聚合物挡墙130在柔性阵列基板110上具有第二垂直投影131，第二垂直投影131与第一垂直投影151重合。
其中，静电屏蔽层140可以由原始静电屏蔽层通过光刻工艺刻蚀形成，在制作静电屏蔽层140时，掩膜版的透光区域决定静电屏蔽图案150的位置。聚合物挡墙130由柔性阵列基板110和柔性对置基板120之间的聚合物分子经光线(可选为紫外光)照射后聚合形成，在制作聚合物挡墙130时，掩膜版的透光区域决定聚合物挡墙130的位置。
在本实施例中，由于聚合物挡墙130在柔性阵列基板110上具有的第二垂直投影131与静电屏蔽图案150在柔性阵列基板110上具有的第一垂直投影151重合，即静电屏蔽图案150与聚合物挡墙130的位置相同，因此静电屏蔽层140和聚合物挡墙130在制作时可使用同一个掩膜版，使制备工艺简单，生产成本降低。
需要说明的是，本发明实施例中的显示面板可选为液晶显示面板，还可以为柔性电子纸等显示器件。示例性地，图3为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面图，参见图3，该显示面板为液晶显示面板，该显示面板包括相对设置的柔性阵列基板110和柔性彩膜基板120，以及设置于柔性阵列基板110和柔性彩膜基板120之间的液晶层001。
需要说明的是，显示面板包括显示区和围绕显示区的非显示区，其中，显示区可用于实现图形显示，非显示区可用于布设周边电路等，而显示面板中的聚合物挡墙和静电屏蔽层既可全部分布成于显示面板的显示区内，亦可同时在显示面板的显示区和非显示区存在。
本发明实施例通过在柔性阵列基板110和柔性对置基板120之间设置聚合物挡墙130，且聚合物挡墙130分别与柔性阵列基板110和柔性对置基板120相连，可以实现支撑和物理连接柔性阵列基板110和柔性对置基板120的作用，通过在柔性对置基板120远离柔性阵列基板110的一侧设置静电屏蔽层140，可以实现消除显示面板表面静电的作用，通过设置静电屏蔽层140具有静电屏蔽图案150，聚合物挡墙130在柔性阵列基板110上具有的第二垂直投影131与静电屏蔽图案150在柔性阵列基板110上具有的第一垂直投影151重合，可以实现使用同一个掩膜版制作聚合物挡墙130和静电屏蔽层140，因而本发明实施例提供的显示面板可以避免显示面板被弯折或施加外力后发生漏光或色偏的现象，以及显示面板表面静电对显示效果的影响，可以提高显示面板的显示效果，且简化制作工艺，降低生产成本。
图4为本发明实施例提供的一种聚合物挡墙的俯视图，参见图4，聚合物挡墙130包括多个沿第一方向x延伸的第一聚合物挡墙131和多个沿第二方向y延伸的第二聚合物挡墙132，第一方向x和第二方向y相交；多个第一聚合物挡墙131和多个第二聚合物挡墙132相交限定出多个像素100。
以液晶显示面板为例，柔性阵列基板110和柔性对置基板130之间包括液晶分子，通过控制每个像素100中液晶分子的偏转可以控制像素100的发光状态。若显示面板被弯折或施加外力，柔性阵列基板110和柔性对置基板130之间被弯折或受力区域的间距会变小，相应的，液晶分子被挤压向两侧偏移，影响显示面板的显示效果。
在本实施例中，多个第一聚合物挡墙131和多个第二聚合物挡墙132相交限定出多个像素100，即相邻两个像素100之间均存在聚合物挡墙130，因此，当显示面板被弯折或施加外力时，一方面，聚合物挡墙130可以支撑和连接柔性阵列基板110和柔性对置基板130，避免显示面板被弯折或受力区域的间距变的很小，另一方面，聚合物挡墙130可以阻挡像素100中的液晶分子，使其不发生偏移。通过这样设置，可以进一步避免显示面板发生漏光或色偏现象，提高显示面板的显示效果。
在图4中，示例性地，第一方向x和第二方向y相互垂直，这只是本发明的一个具体示例，而非对本发明的限制。
图5为本发明实施例提供的又一种显示面板的俯视图，参见图5，示例性地，该显示面板可以为液晶显示面板，柔性阵列基板110上包括用于控制液晶分子偏转的显示电路，显示电路在柔性阵列基板110上形成了多个金属层。在图5中，相邻的多条扫描线101和多条数据线102绝缘交叉限定出多个像素100，每个像素100至少包括一个薄膜晶体管M、一个像素电极C，其中，扫描线101与薄膜晶体管M的栅极相连，用于提供扫描电压信号，数据线102与薄膜晶体管M的源极连接，用于提供数据电压信号，而在薄膜晶体管M被扫描电压信号打开后，数据电压信号会经由薄膜晶体管M的源极和漏极传递至像素电极C，从而控制液晶分子偏转，实现显示功能，其中像素电极C与薄膜晶体管M的漏极电连接。
图6为图5中的显示面板沿AA′方向的剖面图，参见图6，数据线102设置于相邻像素列之间。由于相邻像素100之间存在聚合物挡墙130，因此，数据线102位于聚合物挡墙130在柔性阵列基板110的垂直投影内。
图7为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面图，参见图7，在上述方案的基础上，可选的，柔性阵列基板110包括金属层310，金属层310可选为显示电路中的扫描线或数据线。金属层310位于聚合物挡墙130在柔性阵列基板110的第二垂直投影131内。
柔性阵列基板110靠近柔性对置基板120的一侧设置有黑色矩阵210，黑色矩阵210在柔性阵列基板110上具有第三垂直投影211，第二垂直投影131位于第三垂直投影211内。
其中，黑色矩阵210用于覆盖柔性阵列基板上的金属层310，当外界有光线射入时，入射光经过上偏光片变为线偏振光，而光线经过聚合物挡墙130后不发生偏振，因此若柔性阵列基板110上没有黑色矩阵210，金属层310会将入射光反射出显示面板，影响显示面板的对比度。
在该显示面板中，聚合物挡墙130在柔性阵列基板110上的第二垂直投影131位于黑色矩阵210在柔性阵列基板110上的第三垂直投影211内，即黑色矩阵210覆盖位于聚合物挡墙130下方的金属层310，因此，当外界有光线射入时，入射光照射在黑色矩阵210上不会发生反射，进而不会影响显示面板的对比度。
在本实施例中，通过设置柔性阵列基板110靠近柔性对置基板120的一侧设置有黑色矩阵210，且第二垂直投影131位于第三垂直投影211内，可以避免显示面板驱动电路或走线中的金属层310对显示面板对比度的影响，提高显示面板的显示效果。
图8为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面图，参见图8，在上述方案的基础上，可选的，在该显示面板中，聚合物挡墙130在柔性阵列基板110上第二垂直投影131与黑色矩阵210在柔性阵列基板110上的第三垂直投影211重合。
其中，黑色矩阵210由原始黑色矩阵经过光刻工艺形成，在制作黑色矩阵210时，掩膜版的透光区域决定黑色矩阵210的位置。由于聚合物挡墙130在柔性阵列基板110上第二垂直投影131与黑色矩阵210在柔性阵列基板110上的第三垂直投影211重合，即聚合物挡墙130与黑色矩阵210的位置相同，且聚合物挡墙130和静电屏蔽层140的位置相同，因此静电屏蔽层140、聚合物挡墙130和黑色矩阵210在制作时可使用同一个掩膜版，使制备工艺简单，降低生产成本。
图9为本发明实施例提供的又一种显示面板的剖面图，参见图9，可选的，静电屏蔽层140与接地线或公共电压线电连接。
其中，静电屏蔽层140用于导走静电，可选的，静电屏蔽层140与接地线或公共电压线电连接，通过这样的设置可以将静电屏蔽层140上的静电通过接地线或公共电压线导走，增强静电屏蔽层140消除静电的效果。在图9中，示例性地，静电屏蔽层140通过导电银浆200与接地线410电连接，这只是本发明的一个具体示例，而非对本发明的限制。
可选的，静电屏蔽层140为导电层，具体的，静电屏蔽层140可选为金属层或氧化铟锡与银合金的复合层。氧化铟锡与银合金的复合层的方电阻低、导电性能好且透过率高，因此更与利于静电屏蔽层140将静电导走，从而使静电屏蔽层140静电消散的效果更好。
图10为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图，参见图10，在上述各实施例的基础上，该显示装置420包括本发明实施例提供的显示面板421。
本发明实施例提供的显示装置420包括上述实施例中的显示面板421，因此本发明实施例提供的显示装置420也具备上述实施例中所描述的有益效果，此处不再赘述。可选的，显示装置420可以为图10所示的手机、电子纸，也可以为电脑、电视机、智能穿戴、车载、机载显示装置等，本发明实施例对此不作特殊限定。
图11为本发明实施例提供的一种显示面板制作方法的流程图，参见图11，该方法包括：
S510、提供一柔性阵列基板和一柔性对置基板；
图12为步骤S510后显示面板的剖面图，参见图12，显示面板包括相对设置的柔性阵列基板110和柔性对置基板120，其中，柔性阵列基板110和柔性对置基板120的材料可选为PI(Polyimide，聚酰亚胺)。
S520、将柔性阵列基板110和柔性对置基板120对盒；其中，柔性阵列基板110和柔性对置基板120之间填充有聚合物分子400；
图13为步骤S520后显示面板的剖面图，参见图13，柔性阵列基板110和柔性对置基板120通过封装胶003对盒，其中，柔性阵列基板110和柔性对置基板120之间填充有聚合物分子400。
由于柔性阵列基板110和柔性对置基板120很薄，因此，可选的，首先将柔性阵列基板110和柔性对置基板120搭载在玻璃基板上，然后再进行对盒，对盒完成后，再通过激光将玻璃基板剥离。
可选的，聚合物分子400为紫外光固化聚合物分子。
S530、在柔性对置基板远离柔性阵列基板的一侧形成原始静电屏蔽层；
图14为步骤S530后显示面板的剖面图，参见图14，柔性对置基板120远离柔性阵列基板110的一侧形成原始静电屏蔽层141，原始静电屏蔽层141可选为金属层或氧化铟锡与银合金的复合层。
S540、采用同一掩膜版使原始静电屏蔽层形成具有静电屏蔽图案的静电屏蔽层，以及将聚合物分子聚合形成聚合物挡墙；其中，静电屏蔽图案在柔性阵列基板上具有第一垂直投影，聚合物挡墙在柔性阵列基板上具有第二垂直投影，第二垂直投影与第一垂直投影重合。
图15为步骤S540后显示面板的剖面图，参见图15，采用掩膜版300使原始静电屏蔽层形成具有静电屏蔽图案150的静电屏蔽层140，以及将聚合物分子400聚合形成聚合物挡墙130。其中，静电屏蔽图案150在柔性阵列基板110上具有第一垂直投影151，聚合物挡墙130在柔性阵列基板110上具有第二垂直投影131，第二垂直投影131与第一垂直投影151重合。
本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法，通过采用同一掩膜版使原始静电屏蔽层形成具有静电屏蔽图案的静电屏蔽层，以及将聚合物分子聚合形成聚合物挡墙，其中，静电屏蔽图案在柔性阵列基板上具有第一垂直投影，聚合物挡墙在柔性阵列基板上具有第二垂直投影，第二垂直投影位于第一垂直投影重合，可以实现使用同一个掩膜版制作聚合物挡墙和静电屏蔽层，其中，聚合物挡墙具有支撑和物理连接柔性阵列基板和柔性对置基板的作用，静电屏蔽层具有消除显示面板表面静电的作用，因而本发明实施例提供的显示面板制作方法制得的显示面板，可以避免被弯折或施加外力后发生漏光或色偏现象，以及表面静电对显示效果的影响，且制作工艺简单，成本低廉。
可选的，采用同一掩膜版使原始静电屏蔽层形成具有静电屏蔽图案的静电屏蔽层，以及将聚合物分子聚合形成聚合物挡墙包括：
S541、在原始静电屏蔽层上涂覆负性光刻胶层；
图16为步骤S541后显示面板的剖面图，参见图16，原始静电屏蔽层141上涂覆有负性光刻胶层610。其中，负性光刻胶层610位于曝光区域的光刻胶不溶于显影液，未曝光区域可溶于显影液。
S542、采用同一掩膜版，通过光刻工艺图案化负性光刻胶层，同时使聚合物分子聚合形成聚合物挡墙。
图17为步骤S542后显示面板的剖面图，参见图17，采用掩膜版300，通过光刻工艺图案化负性光刻胶层610，负性光刻胶层610曝光的区域可形成光刻胶图案611，光刻胶图案611不溶于显影液，因此在后续显影、刻蚀等工艺之后，光刻胶图案611下方的区域可形成静电屏蔽图案150。
同时，紫外光通过掩膜版300的透光区照射柔性阵列基板110和柔性对置基板120之间的聚合物分子400，因此柔性阵列基板110和柔性对置基板120之间位于透光区下方的区域形成聚合物挡墙130。
S543、显影负性光刻胶层、刻蚀原始静电屏蔽层并剥离负性光刻胶层，形成具有静电屏蔽图案的静电屏蔽层。
图18为步骤S543后显示面板的剖面图，请继续参见图17以及图18。显影负性光刻胶层610后，负性光刻胶层610除光刻胶图案611外的部分均溶于显影液，因此在刻蚀原始静电屏蔽层141时，光刻胶图案611可保护原始静电屏蔽层140位于光刻胶图案611下方的部分不被刻蚀，其余部分被刻蚀，因此光刻胶图案611下方的区域可形成静电屏蔽图案150。刻蚀原始静电屏蔽层141后，剥离负性光刻胶层610，可形成具有静电屏蔽图案150的静电屏蔽层140。
可选的，在将柔性阵列基板和柔性对置基板对盒之前还包括：
S710、在柔性阵列基板靠近对置基板的一侧形成黑色矩阵；其中，黑色矩阵在柔性阵列基板上具有第三垂直投影，第二垂直投影位于第三垂直投影内。
图19为步骤S710后显示面板的剖面图，参见图19，采用第二掩膜版500，通过光刻工艺在柔性阵列基板110靠近柔性对置基板120的一侧形成有黑色矩阵210。通过这样的设置可以避免显示面板驱动电路中的金属层对显示面板对比度的影响，提高显示面板的显示效果。
需要说明的是，请继续参见图7、图15和图19，由于黑色矩阵210在柔性阵列基板上具有第三垂直投影211，聚合物挡墙130在柔性阵列基板110上的第二垂直投影131位于第三垂直投影211内，因此，形成聚合物挡墙130使用的掩膜版300的透光区在柔性阵列基板上的垂直投影需要在第二掩膜版500的透光区在柔性阵列基板110上的垂直投影内。
可选的，在柔性阵列基板靠近对置基板的一侧形成黑色矩阵包括：
S711、采用同一掩膜版在柔性阵列基板靠近柔性对置基板的一侧形成黑色矩阵。
图20为步骤S711后显示面板的剖面图，参见图20，采用掩膜版300在柔性阵列基板110靠近柔性对置基板的一侧形成黑色矩阵210。由于采用形成静电屏蔽层以及聚合物挡墙的同一掩膜版制备黑色矩阵，因此，制得的黑色矩阵在柔性阵列基板上的第三垂直投影与聚合物挡墙在柔性阵列基板上具有的第二垂直投影重合。通过这样的设置可以减少一个掩膜版的制作，进一步简化制备工艺，降低生产成本。
可选的，采用同一掩膜版使原始静电屏蔽层形成具有静电屏蔽图案的静电屏蔽层，以及将聚合物分子聚合形成聚合物挡墙之后，包括：采用导电银浆将静电屏蔽层与接地线或公共电压线电连接，通过这样的设置可以增强静电屏蔽层消除静电的效果。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
相对设置的柔性阵列基板和柔性对置基板，以及设置于所述柔性阵列基板和柔性对置基板之间的聚合物挡墙，所述聚合物挡墙分别与所述柔性阵列基板和所述柔性对置基板相连；
所述柔性对置基板远离所述柔性阵列基板的一侧设置有静电屏蔽层；其中，
所述静电屏蔽层具有静电屏蔽图案，所述静电屏蔽图案在所述柔性阵列基板上具有第一垂直投影，所述聚合物挡墙在所述柔性阵列基板上具有第二垂直投影，所述第二垂直投影与所述第一垂直投影重合。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述柔性阵列基板靠近所述柔性对置基板的一侧设置有黑色矩阵；
所述黑色矩阵在所述柔性阵列基板上具有第三垂直投影，所述第二垂直投影位于所述第三垂直投影内。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第二垂直投影与所述第三垂直投影重合。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述聚合物挡墙包括多个沿第一方向延伸的第一聚合物挡墙和多个沿第二方向延伸的第二聚合物挡墙，所述第一方向和所述第二方向相交；
多个所述第一聚合物挡墙和多个所述第二聚合物挡墙相交限定出多个像素。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述静电屏蔽层与接地线或公共电压线电连接。
6.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-5任一项所述的显示面板。
7.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一柔性阵列基板和一柔性对置基板；
将所述柔性阵列基板和所述柔性对置基板对盒；其中，所述柔性阵列基板和所述柔性对置基板之间填充有聚合物分子；
在所述柔性对置基板远离所述柔性阵列基板的一侧形成原始静电屏蔽层；
采用同一掩膜版使所述原始静电屏蔽层形成具有静电屏蔽图案的静电屏蔽层，以及将所述聚合物分子聚合形成聚合物挡墙；其中，所述静电屏蔽图案在所述柔性阵列基板上具有第一垂直投影，所述聚合物挡墙在所述柔性阵列基板上具有第二垂直投影，所述第二垂直投影与所述第一垂直投影重合。
8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述采用同一掩膜版使所述原始静电屏蔽层形成具有静电屏蔽图案的静电屏蔽层，以及将所述聚合物分子聚合形成聚合物挡墙包括：
在所述原始静电屏蔽层上涂覆负性光刻胶层；
采用同一掩膜版，通过光刻工艺图案化所述负性光刻胶层，同时使所述聚合物分子聚合形成所述聚合物挡墙；
显影所述负性光刻胶层、刻蚀所述原始静电屏蔽层并剥离所述负性光刻胶层，形成具有所述静电屏蔽图案的所述静电屏蔽层。
9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，在所述将所述柔性阵列基板和所述柔性对置基板对盒之前还包括：
在所述柔性阵列基板靠近所述对置基板的一侧形成黑色矩阵；其中，所述黑色矩阵在所述柔性阵列基板上具有第三垂直投影，所述第二垂直投影位于所述第三垂直投影内。
10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述在所述柔性阵列基板靠近所述彩膜基板的一侧形成黑色矩阵包括：
采用所述掩膜版在所述柔性阵列基板靠近所述彩膜基板的一侧形成黑色矩阵。
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