CN103978746B - 一种膜及其制备方法、显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种膜及其制备方法、显示面板及显示装置，主要内容包括：通过在基材上沉积多晶硅膜层，以及在多晶硅膜层之上形成碳化硅膜层，从而，形成用以保护显示面板的保护膜。由于所述保护膜的碳化硅膜层的抗划伤能力较强，防爆能力较好，而且厚度较薄，因此，可以作为显示面板的保护膜。

Description

一种膜及其制备方法、显示面板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种膜及其制备方法、显示面板及显示装置。

背景技术

在现有的显示技术领域，无论是有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)显示装置，还是液晶(LiquidCrystal，LC)显示装置，在显示面板的最外层需要一保护层，用以防止划伤偏光片或是其他结构。目前，较为常用的保护层以盖板玻璃为主，其具有表面光洁度好、表面硬度较高和抗划伤能力较强等优点，因此，被广泛用于制作显示装置的保护膜。

然而，当盖板玻璃作为保护层使用时，对其厚度有一定的要求，不能做得太薄，否则，会影响显示面板的厚度；此外，由于盖板玻璃的质地较脆，不容易实现机械加工，而且，容易导致盖板玻璃的爆裂。

发明内容

本发明实施例提供一种膜及其制备方法、显示面板及显示装置，用以解决现有技术中存在的问题。

本发明实施例采用以下技术方案：

一种膜，包括：基材；设置在所述基材的第一表面的第一膜层，其中，所述第一膜层包括靠近所述基材的第一多晶硅膜层，以及位于所述多晶硅膜层上远离所述基材的第一碳化硅膜层。

一种显示面板，包括所述的膜。

一种显示装置，包括所述的显示面板。

一种制备膜的方法，包括：

提供一基材；

在所述基材的至少一表面形成第一膜层；

其中，形成所述第一膜层的过程为：在基材的至少一表面形成多晶硅膜层；在至少一多晶硅膜层之上，形成碳化硅膜层。

本发明提供的膜，通过在基材上沉积多晶硅膜层，以及在多晶硅膜层之上形成碳化硅膜层，从而，形成用以保护显示面板的保护膜。由于所述保护膜的碳化硅膜层的抗划伤能力较强，防爆能力较好，因此，可以作为显示面板的保护膜。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例中的所述膜的第一种结构示意图；

图2为本发明实施例中的所述膜的第二种结构示意图；

图3为本发明实施例中的所述膜的第三种结构示意图；

图4为本发明实施例中的所述膜的第一膜层的结构示意图；

图5为本发明实施例中的所述膜的微棱镜阵列结构的光路示意图；

图6为本发明实施例中的OLED显示面板的结构示意图；

图7为本发明实施例中一种制备膜的方法流程示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明实施例中，通过在基材上沉积多晶硅膜层，以及在多晶硅膜层之上形成碳化硅膜层，从而，形成用以保护显示面板的保护膜。由于所述保护膜的碳化硅膜层的抗划伤能力较强，防爆能力较好，因此，可以作为显示面板的保护膜。

下面通过具体的实施例对本发明的方案进行详细描述，本发明包括但并不局限于以下实施例。

如图1所示，为本发明实施例中提供的一种膜的第一种结构示意图，所述膜用于贴附在显示面板的最外层，起到保护显示面板的作用。具体地，所述膜包括：基材101；设置在所述基材的第一表面的第一膜层102，其中，所述第一膜层102包含：靠近所述基材的第一多晶硅膜层1021，以及位于所述第一多晶硅膜层1021上远离所述基材101的第一碳化硅膜层1022。

优选地，所述膜并不限于图1所示的结构，还可以为如图2所示的第二种结构或图3所示的第三种结构。

如图2所示，所述膜包括：基材101；设置在所述基材的第一表面的第一膜层102，设置在所述基材101的第二表面的第二膜层103，其中，所述第二表面与所述第一表面相对设置，所述第二膜层103包含：靠近所述基材101的第二多晶硅膜层1031，以及位于所述第二多晶硅膜层1031上远离所述基材101的第二碳化硅膜层1032。

如图3所示，所述膜包括：基材101；设置在所述基材的第一表面的第一膜层102，设置在所述基材101的第二表面的第二膜层104，其中，所述第二表面与所述第一表面相对设置，所述第二膜层104为所述第二多晶硅膜层。

以上三种膜的结构中，所述基材101为透明的柔性有机聚合物材料。本实施例中可选地，所述基材101的材料可以为聚四氟乙烯(PET)，但本发明并不限于该材料。其中，可选的，所述基材101的厚度范围为0.05mm～0.15mm。

可选地，在所述第一膜层102和所述第二膜层103中，所述多晶硅膜层与所述碳化硅膜层直接接触。

在上述三种膜的结构中，基材101之上的第一膜层102中，所述第一多晶硅膜层1021具有微棱镜阵列结构，第二膜层103中，所述第二多晶硅膜层1031也可以具有微棱镜阵列结构。如图4所示，以第一膜层102为例，每个所述微棱镜结构均是以自身与基材101相接触的表面为基准，至自身结构最高处的高度为20～50微米左右的微棱镜结构，其中，每个微棱镜结构的横截面图形可以是如图4所示的三角形，也可以是梯形、半圆形等，本发明并不对所述截面图形的具体形状做限定，只要是具有反射或折射光线的效果即可；且所述微棱镜结构在基材101的表面上沿该表面的水平或垂直方向延伸，进而，多个相邻的微棱镜结构共同形成了所述微棱镜阵列结构。

在本发明实施例中，所述微棱镜阵列结构可以作为光学棱镜薄膜使用，尤其针对OLED显示面板而言，按照几何光学原理，出射光线经过所述膜构成的循环***，使得光线能够最大限度的被汇聚并发射出去，如图5所示，假设光线进入所述微棱镜阵列结构，当出射光线1在第一个微棱镜结构处出射时，由于微棱镜结构的折射作用，使得大部分光都被折射在光线1与光线2之间；即使光线有偏移，出射光线还可以如图5中的光线4一样，进入另一个相邻的微棱镜结构，重新进行光线的反射、折射等操作，从而达到增加显示面板亮度的效果。另外，所述第一多晶硅膜层1021之上的第一碳化硅膜层1022，以及所述第二多晶硅膜层1031之上的第二碳化硅膜层1032；由于碳化硅的莫氏硬度为9.5级，仅次于世界上最硬的金刚石(10级)，因此，碳化硅的硬度很大，具有较好的抗划伤性；而且，碳化硅是一种半导体，具有优良的导热性能。综合以上因素，由多晶硅膜层和碳化硅膜层构成的第一膜层具有较好的抗划伤性，而且其厚度较薄，适合用于作为显示面板的最外层的保护膜。

基于上述实施例提供的一种膜，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括上述实施例中所涉及的膜，用以作为保护膜，贴附在所述显示面板的最外侧，以抗划伤，保护显示面板。

可选地，所述显示面板还包括：第一基板；与第一基板相对设置的第二基板；其中，所述膜设置于所述第一基板外侧。

可选地，所述显示面板还包括：设置在所述膜与所述第一基板之间的偏光片。

可选地，所述显示面板还包括：设置在所述第一基板与所述第二基板之间的液晶层，或，设置在所述第二基板之上的发光器件。

可选地，所述显示面板还包括：触摸屏。其中，触摸屏有多种结构，可以在两基板之间，或集成在第一基板或第二基板上，或是on-cell结构等。

例如：针对液晶显示面板而言，第一基板与第二基板相对设置；第一基板为阵列基板，第二基板为彩膜基板，或者，第一基板为彩膜基板，第二基板为阵列基板。而且，阵列基板和彩膜基板的外侧均设置有偏光片。彩膜基板外侧的偏光片位于彩膜基板与所述膜之间。

以OLED显示面板为例，第一基板与第二基板同样相对设置；第一基板为OLED基板，当所述OLED基板上未设置有彩色发光层，那么所述第二基板为彩膜基板，当所述OLED基板上设置有彩色发光层，那么所述第二基板为封装层；或者，第二基板为OLED基板，当所述OLED基板上未设置有彩色发光层，那么所述第一基板为彩膜基板，当所述OLED基板上设置有彩色发光层，那么所述第一基板为封装层。而且，彩膜基板或封装层外侧可以设置有偏光片，以得到线偏振光。

所述显示面板可以为OLED、LCD等显示面板，本发明并不对所述膜应用的显示面板的类型作具体限定，此外，还可以作为其他装置中的最外层保护膜。下面以OLED显示面板为例进行详细介绍。

如图6所示，为本发明实施例中OLED显示面板的结构示意图，需要说明的是，以下实施例仅介绍主要的功能膜层，本发明并不对现有的其他基础膜层进行描述，但本发明所涉及的显示面板的膜层结构并不局限于以下的内容。

所述显示面板中主要包括：OLED基板201；位于所述OLED基板201之上的发光层202，所述发光层202未完全覆盖所述OLED基板201，并在所述OLED基板201的四周暴露出显示区域之外的非显示区域；位于所述发光层202与所述OLED基板201之间的TP层203；绑定在所述OLED基板201上的柔性电路板204，其中，所述柔性电路板204集成有TP驱动电路和TFT驱动电路；位于所述TP层203之上的封装层205，其中，所述封装层205包括所述显示区域及显示区域之外的非显示区域，且涂覆有封框胶205’，所述封框胶205’用于将所述封装层205与所述OLED基板201对位贴合在一起；位于所述封装层205之上的偏光片206；位于所述偏光片206之上的抗划伤膜207。其中，所述抗划伤膜207即为本发明实施例中的膜，该抗划伤膜207由三个膜层构成，由上之下包括：由碳化硅膜层和多晶硅膜层构成的第一膜层，由透明的PET材料构成的基材，由多晶硅膜层和碳化硅膜层构成的第二膜层。由多晶硅膜层和碳化硅膜层构成的第一膜层具有较好的抗划伤性，而且其厚度较薄，能够减薄显示面板的厚度，适合用于作为显示面板的最外层的保护膜。

此外，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括上述实施例中所述的显示面板，同时，所述显示装置还包括现有的其他装置结构，例如，背光模组等。

基于与以上实施例提供的一种用于保护显示面板的膜相同的构思，本发明实施例还提供了一种制备膜的方法，以下通过具体的实施例进行详细说明，但本发明并不局限于以下实施例。

如图7所示，为本发明实施例提供的一种制备膜的方法流程示意图，所示方法包括以下步骤：

步骤301：提供一基材。

步骤302：在所述基材的至少一表面形成第一膜层。其中，形成所述第一膜层的过程为：在基材的至少一表面形成多晶硅膜层；在至少一多晶硅膜层之上，形成碳化硅膜层。

优选地，形成所述第一膜层的过程，具体为：在基材的两个表面同时形成多晶硅膜层，在至少一多晶硅膜层之上形成碳化硅膜层；或在基材的其中一表面形成多晶硅膜层，在所述多晶硅膜层之上形成碳化硅膜层。

优选地，所述形成碳化硅膜层，具体包括：利用激光诱导化学气相沉积工艺形成所述碳化硅膜层。

在具体的制备过程中，可以根据需求选择合适的膜结构，例如，制备如图2所示的膜结构。首先，提供一基材，所述基材可以为透明的柔性基材，例如PET。然后，在所述基材的上、下表面同时沉积一层非晶硅，利用激光诱导或是高温退火工艺形成多晶硅膜层；在形成了多晶硅膜层之后，以氩气等惰性气体为载体，以含有碳的混合物或衍生物为原料，通过激光器为热源加热(温度为350℃±17℃)，利用惰性气体分子对特定波长激光的吸收，从而引起气体分子的激光分解，从而，利用热解、光敏化和激光诱导化学气相沉积方式形成碳化硅膜层。通过以上激光诱导气相化学沉积方式，可以精确控制多晶硅与含碳原料的反应量，而且，所述制备而成的碳化硅膜层的纯度较高、光学透过率高达98％以上，邵氏强度在7～9之间，具有较好的强度和抗划伤性。

尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (14)

1.一种膜，其特征在于，包括：基材；设置在所述基材的第一表面的第一膜层，其中，所述第一膜层包括靠近所述基材的第一多晶硅膜层，以及位于所述第一多晶硅膜层上远离所述基材的第一碳化硅膜层，所述第一多晶硅膜层具有微棱镜结构。

2.如权利要求1所述的膜，其特征在于，还包括：设置于所述基材的第二表面的第二膜层，其中，所述第二表面与所述第一表面相对设置；

所述第二膜层包括：靠近所述基材的第二多晶硅膜层。

3.如权利要求2所述的膜，其特征在于，所述第二膜层还包括：位于所述第二多晶硅膜层上远离所述基材的第二碳化硅膜层。

4.如权利要求3所述的膜，其特征在于，所述第一多晶硅膜层与所述第一碳化硅膜层直接接触，所述第二多晶硅膜层与所述第二碳化硅膜层直接接触；

其中，所述第一多晶硅膜层与所述第二多晶硅膜层均为表面不平整的微棱镜结构。

5.如权利要求1～4任一项所述的膜，其特征在于，所述基材的材料为透明的有机聚合物。

6.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1～5任一项所述的膜。

7.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

第一基板；

与第一基板相对设置的第二基板；

其中，所述膜设置于所述第一基板外侧。

8.如权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：设置在所述膜与所述第一基板之间的偏光片。

9.如权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：设置在所述第一基板与所述第二基板之间的液晶层，或，设置在所述第二基板之上的发光器件。

10.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：触摸屏。

11.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求6～10任一项所述的显示面板。

12.一种制备膜的方法，其特征在于，包括：

提供一基材；

在所述基材的至少一表面形成一膜层；

其中，形成所述膜层的过程为：

在基材的至少一表面形成多晶硅膜层，所述多晶硅膜层具有微棱镜结构；

在至少一多晶硅膜层之上，形成碳化硅膜层。

13.如权利要求12所述的方法，其特征在于，形成所述膜层的过程，具体为：

在基材的两个表面同时形成多晶硅膜层，在至少一多晶硅膜层之上形成碳化硅膜层；或

在基材的其中一表面形成多晶硅膜层，在所述多晶硅膜层之上形成碳化硅膜层。

14.如权利要求12或13所述的方法，其特征在于，所述形成碳化硅膜层，具体包括：利用激光诱导化学气相沉积工艺形成所述碳化硅膜层。