CN103917332A - 玻璃基板的制造方法 - Google Patents
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105505231A (zh) * | 2016-02-24 | 2016-04-20 | 湖南皓志科技股份有限公司 | 一种高效碳化硼研磨液及其配制方法 |
CN106002498A (zh) * | 2016-08-01 | 2016-10-12 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 | 一种有机dast晶体的表面研磨工艺方法 |
CN107629701A (zh) * | 2017-11-02 | 2018-01-26 | 东旭科技集团有限公司 | 抛光液及其制备方法 |
CN111373006A (zh) * | 2017-11-17 | 2020-07-03 | 信越化学工业株式会社 | 合成石英玻璃基板用的抛光剂及合成石英玻璃基板的抛光方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014208762A1 (ja) * | 2013-06-29 | 2014-12-31 | Hoya株式会社 | ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びにガラス基板用研磨液組成物 |
CN104924200A (zh) * | 2015-06-12 | 2015-09-23 | 衢州学院 | 一种用于蓝宝石晶片超精密加工的弥散强化磨盘 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1520449A (zh) * | 2001-11-16 | 2004-08-11 | 昭和电工株式会社 | 铈基抛光料和铈基抛光浆料 |
CN1527870A (zh) * | 2001-03-09 | 2004-09-08 | 三井金属k业株式会社 | 铈类研磨材料及研磨材料浆液和铈类研磨材料的制造方法 |
CN1550537A (zh) * | 2003-05-09 | 2004-12-01 | ��Ħ��ѧ��ҵ��ʽ���� | 分散稳定性良好的研磨剂浆体及基板的制造方法 |
CN1697869A (zh) * | 2000-10-06 | 2005-11-16 | 三井金属鉱业株式会社 | 研磨材料 |
JP2008131951A (ja) * | 1995-06-07 | 2008-06-12 | Gen Probe Inc | Neisseria種用の核酸プローブおよび増幅オリゴヌクレオチド |
CN101331593A (zh) * | 2005-12-16 | 2008-12-24 | Jsr株式会社 | 化学机械研磨用水系分散体和化学机械研磨方法、以及用于调制化学机械研磨用水系分散体的试剂盒 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05156239A (ja) * | 1991-12-06 | 1993-06-22 | Tokyo Daiyamondo Kogu Seisakusho:Kk | 超精密加工用スラリー及び超精密加工用ペースト |
JPH10237426A (ja) * | 1997-02-21 | 1998-09-08 | Nippon Oil Co Ltd | ラップ加工用油剤組成物 |
JP2003213250A (ja) * | 2001-11-16 | 2003-07-30 | Showa Denko Kk | セリウム系研磨材、セリウム系研磨材スラリー、ガラス基板の研磨方法及びガラス基板の製造方法 |
JP2003277733A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-02 | Yasuhiro Tani | 油性研磨剤および研磨方法 |
JP4439866B2 (ja) * | 2003-10-02 | 2010-03-24 | 株式会社日本触媒 | 研磨液組成物 |
JP4641155B2 (ja) * | 2004-06-03 | 2011-03-02 | 株式会社日本触媒 | 化学機械研磨用の研磨剤 |
JP4481898B2 (ja) * | 2005-07-25 | 2010-06-16 | ユシロ化学工業株式会社 | 水性砥粒分散媒組成物 |
JP5084670B2 (ja) * | 2008-09-01 | 2012-11-28 | 日揮触媒化成株式会社 | シリカゾルおよびその製造方法 |
JP5396047B2 (ja) * | 2008-09-03 | 2014-01-22 | 三井金属鉱業株式会社 | ガラス用研摩材スラリー |
JP5533889B2 (ja) * | 2010-02-15 | 2014-06-25 | 日立化成株式会社 | Cmp研磨液及び研磨方法 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008131951A (ja) * | 1995-06-07 | 2008-06-12 | Gen Probe Inc | Neisseria種用の核酸プローブおよび増幅オリゴヌクレオチド |
CN1697869A (zh) * | 2000-10-06 | 2005-11-16 | 三井金属鉱业株式会社 | 研磨材料 |
CN1527870A (zh) * | 2001-03-09 | 2004-09-08 | 三井金属k业株式会社 | 铈类研磨材料及研磨材料浆液和铈类研磨材料的制造方法 |
CN1520449A (zh) * | 2001-11-16 | 2004-08-11 | 昭和电工株式会社 | 铈基抛光料和铈基抛光浆料 |
CN1550537A (zh) * | 2003-05-09 | 2004-12-01 | ��Ħ��ѧ��ҵ��ʽ���� | 分散稳定性良好的研磨剂浆体及基板的制造方法 |
CN101331593A (zh) * | 2005-12-16 | 2008-12-24 | Jsr株式会社 | 化学机械研磨用水系分散体和化学机械研磨方法、以及用于调制化学机械研磨用水系分散体的试剂盒 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105505231A (zh) * | 2016-02-24 | 2016-04-20 | 湖南皓志科技股份有限公司 | 一种高效碳化硼研磨液及其配制方法 |
CN106002498A (zh) * | 2016-08-01 | 2016-10-12 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 | 一种有机dast晶体的表面研磨工艺方法 |
CN106002498B (zh) * | 2016-08-01 | 2018-04-06 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 | 一种有机dast晶体的表面研磨工艺方法 |
CN107629701A (zh) * | 2017-11-02 | 2018-01-26 | 东旭科技集团有限公司 | 抛光液及其制备方法 |
CN107629701B (zh) * | 2017-11-02 | 2021-04-13 | 东旭光电科技股份有限公司 | 抛光液及其制备方法 |
CN111373006A (zh) * | 2017-11-17 | 2020-07-03 | 信越化学工业株式会社 | 合成石英玻璃基板用的抛光剂及合成石英玻璃基板的抛光方法 |
CN111373006B (zh) * | 2017-11-17 | 2022-04-26 | 信越化学工业株式会社 | 合成石英玻璃基板用的抛光剂及合成石英玻璃基板的抛光方法 |
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