CN103419106A - 电动式陶瓷磨边机 - Google Patents
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Abstract
电动式陶瓷磨边机,它涉及陶瓷设备技术领域,它的机架(1)内部的下端安装有电动滑轨(5),电动滑轨(5)上安装有电动滑座(4),电动滑座(4)上安装有安装板,安装板上安装有电机(3),电机(3)的转轴上安装有模头(2),靠山(6)设置在机架(1)的一侧,靠山(6)的中间设置有锁紧螺母(7),机架(1)的中部设置有滑槽,标尺(8)设置在机架(1)上;它能磨有角度的陶瓷的边,使用方便、快速,省时省力,操作简便,结构简单。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷设备技术领域,具体涉及一种电动式陶瓷磨边机。
背景技术
陶瓷是以粘土以及各种天然矿物经过粉碎混炼、成型和煅烧制得的材料为主要原料的各种制品。人们把一种陶土制作成的在专门的窑炉中高温烧制的物品叫陶瓷,陶瓷是陶器和瓷器的总称。陶瓷的传统概念是指所有以粘土等无机非金属矿物为原料的人工工业产品。它包括由粘土或含有粘土的混合物经混炼,成形,煅烧而制成的各种制品。由最粗糙的土器到最精细的精陶和瓷器都属于它的范围。对于它的主要原料是取之于自然界的硅酸盐矿物(如粘土、石英等),因此与玻璃、水泥、搪瓷、耐火材料等工业,同属于“硅酸盐工业”的范畴。
现有的陶瓷磨边大都是采用手动磨边,其操作复杂,当遇到有角度的陶瓷时,其磨边不准确,而且光洁度达不到理想的要求。
发明内容
本发明的目的是提供一种电动式陶瓷磨边机,它能磨有角度的陶瓷的边,使用方便、快速,省时省力,操作简便,结构简单。
为了解决背景技术所存在的问题,本发明是采用如下技术方案:它包含机架1、模头2、电机3,它还包含电动滑座4、电动滑轨5、靠山6、锁紧螺母7、标尺8,机架1内部的下端安装有电动滑轨5,电动滑轨5上安装有电动滑座4,电动滑座4上安装有安装板,安装板上安装有电机3,电机3的转轴上安装有模头2,靠山6设置在机架1的一侧,靠山6的中间设置有锁紧螺母7,机架1的中部设置有滑槽,标尺8设置在机架1上。
本发明的工作原理为:将需要磨边的陶瓷放置在靠山6上,将一边靠在靠山6上,然后将靠山6推到模头2处,电机3带动模头2转动,同时电动滑轨5带动模头2来回移动给陶瓷磨边,当需要磨有角度陶瓷的边时,将陶瓷直角的一边靠在靠山6上,然后调节靠山6的角度,模头2开始磨陶瓷的边,使用方便,操作简便,易控制且准确。
本发明具有如下有益效果:能磨有角度的陶瓷的边,使用方便、快速,省时省力,操作简便,结构简单。
附图说明:
图1为本发明的结构示意图,
图2为图1的仰视图。
具体实施方式:
参看图1-图2,本具体实施方式采用如下技术方案:它包含机架1、模头2、电机3,它还包含电动滑座4、电动滑轨5、靠山6、锁紧螺母7、标尺8,机架1内部的下端安装有电动滑轨5,电动滑轨5上安装有电动滑座4,电动滑座4上安装有安装板,安装板上安装有电机3,电机3的转轴上安装有模头2,靠山6设置在机架1的一侧,靠山6的中间设置有锁紧螺母7,机架1的中部设置有滑槽,标尺8设置在机架1上。
所述的机架1上设置有靠山滑动槽1-1。
本具体实施方式的工作原理为:将需要磨边的陶瓷放置在靠山6上,将一边靠在靠山6上,然后将靠山6推到模头2处,电机3带动模头2转动,同时电动滑轨5带动模头2来回移动给陶瓷磨边,当需要磨有角度陶瓷的边时,将陶瓷直角的一边靠在靠山6上,然后调节靠山6的角度,模头2开始磨陶瓷的边,使用方便,操作简便,易控制且准确。
本具体实施方式具有如下有益效果:能磨有角度的陶瓷的边,使用方便、快速,省时省力,操作简便,结构简单。
Claims (1)
1.电动式陶瓷磨边机,它包含机架(1)、模头(2)、电机(3),其特征在于它还包含电动滑座(4)、电动滑轨(5)、靠山(6)、锁紧螺母(7)、标尺(8),机架(1)内部的下端安装有电动滑轨(5),电动滑轨(5)上安装有电动滑座(4),电动滑座(4)上安装有安装板,安装板上安装有电机(3),电机(3)的转轴上安装有模头(2),靠山(6)设置在机架(1)的一侧,靠山(6)的中间设置有锁紧螺母(7),机架(1)的中部设置有滑槽,标尺(8)设置在机架(1)上。
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Publications (1)
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CN103419106A true CN103419106A (zh) | 2013-12-04 |
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2013
- 2013-07-16 CN CN2013102973307A patent/CN103419106A/zh active Pending
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Legal Events
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20131204 |