CN103336618A - 偏光滤光模块与其制作方法及触摸显示屏 - Google Patents

Abstract

一种偏光滤光模块，包括偏光片组件和滤光片组件，偏光片组件包括偏光片及设置于偏光片一侧的第一导电层，滤光片组件包括透明基底及位于透明基底同一侧的滤光层和第二导电层。偏光滤光模块可同时实现触摸操作、偏振光功能及滤光功能，作为显示屏中不可缺少的一个组件，上述偏光滤光模块用于显示屏中时，可直接使显示屏具有触控功能，无需再在显示屏上组装触摸屏，不仅有利于降低电子产品的厚度，同时还大大节省了材料及组装成本。此外，本发明还提供了一种触摸显示屏及一种偏光滤光模块制作方法。

Description

偏光滤光模块与其制作方法及触摸显示屏

技术领域

本发明涉及平面显示技术领域，特别是涉及一种偏光滤光模块与其制作方法及触摸显示屏。

背景技术

触摸屏是可接收触摸等输入信号的感应式装置。触摸屏赋予了信息交互崭新的面貌，是极富吸引力的全新信息交互设备。触摸屏技术的发展引起了国内外信息传媒界的普遍关注，已成为光电行业异军突起的朝阳高新技术产业。

目前，具有触摸显示功能的电子产品均包括显示屏及位于显示屏上的触摸屏。触摸屏作为与显示屏独立的组件，在用于一些实现人机交互的电子产品时，均需要根据显示屏的尺寸进行定购，之后再进行组装，以形成触摸显示屏，触摸显示屏可同时具有可触控操作及显示功能。现有的触摸屏与显示屏的组装主要有两种方式，即框贴及全贴合。框贴是将触摸屏与显示屏的边缘贴合，全贴合是将触摸屏的下表面与显示屏的上表面整面贴合。

传统的显示屏主要包括偏光片、滤光片组件、液晶模块以及TFT（Thin FilmTransistor，薄膜晶体管），已经具有较大的厚度，而继续往显示屏上贴合触摸屏时，将进一步增大触摸显示屏的厚度。

发明内容

基于此，有必要提供一种可减小降低电子产品厚度的偏光滤光模块与其制作方法及触摸显示屏。

一种偏光滤光模块，包括：偏光片组件，包括偏光片，及设置于所述偏光片一侧的第一导电层，所述第一导电层包括多个沿第一方向间隔设置的第一导电单元；滤光片组件，包括透明基底，及位于所述透明基底同一侧的滤光层和第二导电层，所述滤光层包括遮光部和滤光部，所述遮光部由栅格线相互交叉形成，所述栅格线相互交叉形成多个栅格单元；所述滤光部包括多个滤光单元，每一所述滤光单元收容于对应的一所述栅格单元中；所述第二导电层包括多个沿第二方向平行间隔设置的第二导电单元，每个所述第二导电单元由导电丝线相互交叉形成，所述第二导电单元包括若干网格单元；所述第一方向与第二方向互不平行，所述第一导电单元和第二导电单元在厚度方向绝缘；所述第二导电层的每一网格单元的导电丝线在所述滤光层的投影对应落于一所述栅格单元的栅格线上。

在其中一个实施例中，所述第二导电层的导电丝线与所述栅格线等宽。

在其中一个实施例中，所述第一导电单元由导电丝线相互交叉形成，所述第一导电层的导电丝线在所述滤光层的投影均落于所述栅格线上。

在其中一个实施例中，所述偏光片包括偏光片本体和设置于所述偏光片本体一侧的压印胶层，所述压印胶层远离所述偏光片本体的一侧开设有凹槽，所述第一导电层收容于所述凹槽。

在其中一个实施例中，所述凹槽的深度小于所述压印胶层的厚度，所述第一导电层的导电丝线厚度不大于所述凹槽的深度。

在其中一个实施例中，两个相邻的所述第一导电单元的间隔宽度为0.5微米～50微米，两个相邻的所述第二导电单元的间隔宽度为0.5微米～50微米。

在其中一个实施例中，所述第二导电层设置于所述遮光部远离所述透明基底的一侧，或设置于所述遮光部与所述透明基底之间。

在其中一个实施例中，所述偏光滤光模块还包括透明胶层，所述透明基底远离所述滤光层和第二导电层的一侧通过所述透明胶层与所述偏光片组件粘接。

一种偏光滤光模块，包括：

偏光片组件，包括偏光片，及设置于所述偏光片一侧的第一导电层，所述第一导电层包括多个沿第一方向平行间隔设置的第一导电单元，每个所述第一导电单元由导电丝线相互交叉形成，所述导电丝线相互交叉形成网格节点；

滤光片组件，包括透明基底，及位于所述透明基底同一侧的滤光层和第二导电层，所述滤光层包括遮光部和滤光部，所述遮光部由栅格线相互交叉形成，所述栅格线相互交叉形成多个栅格单元；所述滤光部包括多个滤光单元，每一所述滤光单元收容于对应的一所述栅格单元中；所述第二导电层包括多个沿第二方向平行间隔设置的第二导电单元，每个所述第二导电单元由导电丝线相互交叉形成；

所述第一方向与第二方向互不平行，所述第一导电单元和第二导电单元在厚度方向绝缘；所述第一导电层的导电丝线线宽为0.2微米～5微米，且相邻两个网格节点的距离为50微米～800微米；所述第二导电层的导电丝线在所述滤光层的投影落于所述栅格线上。

在其中一个实施例中，所述第二导电层的导电丝线与所述栅格线等宽。

在其中一个实施例中，所述偏光片包括偏光片本体和设置于所述偏光片本体一侧的压印胶层，所述压印胶层远离所述偏光片本体的一侧开设有凹槽，所述第一导电层收容于所述凹槽。

在其中一个实施例中，所述凹槽的深度小于所述压印胶层的厚度，所述第一导电层的导电丝线厚度不大于所述凹槽的深度。

在其中一个实施例中，两个相邻的所述第一导电单元的间隔宽度为0.5微米～50微米，两个相邻的所述第二导电单元的间隔宽度为0.5微米～50微米。

在其中一个实施例中，所述第二导电层设置于所述遮光部远离所述透明基底的一侧，或设置于所述遮光部与所述透明基底之间。

在其中一个实施例中，所述偏光滤光模块还包括透明胶层，所述透明基底远离所述滤光层和第二导电层的一侧通过所述透明胶层与所述偏光片组件粘接。

一种触摸显示屏，包括依次层叠的TFT电极、液晶模块以及上述任意一种偏光滤光模块。

一种偏光滤光模块制作方法，包括以下步骤：

在偏光片一侧形成第一导电层，得到偏光片组件；所述第一导电层包括多个沿第一方向平行间隔设置的第一导电单元，每个所述第一导电单元由导电丝线相互交叉形成；

利用掩膜板采用曝光蚀刻技术，在透明基底同一侧形成滤光层和第二导电层，得到滤光片组件；所述滤光层包括遮光部和滤光部，所述遮光部由栅格线相互交叉形成，所述栅格线相互交叉形成多个栅格单元；所述滤光部包括多个滤光单元，每一所述滤光单元收容于对应的一所述栅格单元中；所述第二导电层包括多个沿第二方向平行间隔设置的第二导电单元，每个所述第二导电单元由导电丝线相互交叉形成；所述第一方向与第二方向互不平行，所述第一导电单元和第二导电单元在厚度方向绝缘；所述第二导电层的导电丝线在所述滤光层的投影落于所述栅格线上;

将所述透明基底远离所述滤光层和第二导电层的一侧与所述偏光片组件连接，得到偏光滤光模块。

在其中一个实施例中，所述在偏光片一侧形成第一导电层，得到偏光片组件的步骤包括以下步骤：

在偏光片本体一侧涂布压印胶，得到压印胶层；所述偏光片本体和压印胶层构成所述偏光片；

对所述压印胶层远离所述偏光片本体的一侧进行压印并固化，得到凹槽；

向所述凹槽内填充导电材料并固化，形成所述第一导电层，得到所述偏光片组件。

在其中一个实施例中，所述利用掩膜板采用曝光蚀刻技术，在透明基底同一侧形成滤光层和第二导电层，得到滤光片组件的步骤包括以下步骤：

在所述透明基底一侧表面整面涂或镀带有黑色染料的光刻胶，得到初始遮光层;

在所述初始遮光层表面整面镀或涂导电材料，得到初始导电层；

在所述初始导电层表面涂布第一光刻胶层，利用与所述遮光部的栅格线图案对应的第一掩膜板对所述第一光刻胶层进行曝光显影；

对所述初始导电层进行蚀刻，得到初始第二导电层；所述初始第二导电层的导电图案与所述第一掩膜板的图案一致；

对所述初始遮光层进行蚀刻，得到遮光部；所述遮光部的栅格线图案与所述第一掩膜板的图案一致；

在所述初始第二导电层表面涂布第二光刻胶层，利用与所述第二导电层的断线位置对应的第二掩膜板对所述第二光刻胶层进行曝光显影；

对所述初始第二导电层进行蚀刻，将所述初始第二导电层分割成多个平行间隔设置的第二导电单元，得到所述第二导电层；

在所述遮光部的栅格线构成的栅格单元中依次镀或涂滤光单元，形成滤光部，得到所述滤光层；所述透明基底、第二导电层和滤光层即构成所述滤光片组件。

在其中一个实施例中，所述在所述透明基底一侧表面整面涂或镀带有黑色染料的光刻胶，得到初始遮光层的步骤之前，包括以下步骤：

对所述透明基底一侧表面进行等离子处理；所述初始遮光层形成于所述透明基底经过所述等离子处理后的表面。

在其中一个实施例中，所述利用掩膜板采用曝光蚀刻技术，在透明基底同一侧形成滤光层和第二导电层，得到滤光片组件的步骤包括以下步骤：

在所述透明基底一侧表面整面镀或涂导电材料，得到初始导电层；

在所述初始导电层表面整面涂或镀带有黑色染料的光刻胶，得到初始遮光层;

利用与所述第二导电层的导电图案对应的掩膜板对所述初始遮光层进行曝光显影；

对所述初始遮光层进行蚀刻，得到所述遮光部；

对所述初始导电层进行蚀刻，将所述导电层分割成多个平行间隔设置的第二导电单元，得到所述第二导电层；所述遮光部的栅格线图案与所述第二导电层的导电图案一致；

在所述遮光部的栅格线构成的栅格单元中依次镀或涂滤光单元，形成滤光部，得到所述滤光层；所述透明基底、第二导电层和滤光层即构成所述滤光片组件。

在其中一个实施例中，在所述透明基底一侧表面整面镀或涂导电材料，得到导电层的步骤之前，包括以下步骤：

对所述透明基底一侧表面进行等离子处理；所述导电层形成于所述透明基底经过所述等离子处理后的表面。

上述偏光滤光模块和触摸显示屏，以及由上述偏光滤光模块制作方法制得的偏光滤光模块，可同时实现触摸操作、偏振光功能及滤光功能，作为显示屏中不可缺少的一个组件，用于显示屏中时，可直接使显示屏具有触控功能，无需再在显示屏上组装触摸屏，不仅有利于降低电子产品的厚度，同时还大大节省了材料及组装成本。

附图说明

图1为一实施例中偏光滤光模块的结构图；

图2为一实施例中第一导电层和第二导电层的结构图；

图3为一实施例中滤光片组件和第二导电层导电丝线的结构图；

图4为另一实施例中滤光片组件和第二导电层导电丝线的结构图；

图5为一实施例中偏光片组件和第一导电层导电丝线的结构图；

图6为另一实施例中偏光片组件和第一导电层导电丝线的结构图；

图7为另一实施例中偏光滤光模块的结构图；

图8为又一实施例中偏光滤光模块的结构图；

图9为又一实施例中偏光滤光模块的结构图；

图10为一实施例中偏光滤光模块制作方法的流程图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及／或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

一种偏光滤光模块，如图1和图2所示，包括偏光片组件100和滤光片组件200。

偏光片组件100包括偏光片110和设置于偏光片110一侧的第一导电层120，第一导电层120包括多个沿第一方向间隔设置的第一导电单元122，各第一导电单元122可相互平行，第一导电单元122可通过断线处理得到，或者直接通过压印预定图案的凹槽再填充导电材料得到。

滤光片组件200包括透明基底210，及位于透明基底210同一侧的滤光层220和第二导电层230，滤光层220包括遮光部222和滤光部224，遮光部222由栅格线相互交叉形成，栅格线相互交叉形成多个栅格单元223；滤光部224包括多个滤光单元225，每一滤光单元225收容于对应的一栅格单元223中；第二导电层230包括多个沿第二方向平行间隔设置的第二导电单元232，每个第二导电单元232由导电丝线相互交叉形成，第二导电单元232同样可通过断线处理得到。

透明基底210可为玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）或聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）等光学透明材料制成。本实施例中透明基底210为玻璃基底，可降低生产成本。遮光部222为带有黑色染料的光刻胶，其可以采用曝光、显影形成特定图案。滤光部224为带有彩色染料的光刻胶，同样可以采用曝光、显影形成特定的图案。滤光部224包括若干周期性排列的红（red，R）滤光单元、绿（green，G）滤光单元及蓝（blue，B）滤光单元，用于使入射光转变成单色光，实现滤光功能。

第一导电层120和第二导电层230可为透明导电膜，如氧化铟锡（ITO）膜，或者为导电丝线交错而成的网状导电层，导电丝线可以为金属单质线、金属合金线、碳纳米管线、石墨烯线、有机导电高分子线或氧化铟锡（ITO）线中的至少一种。本实施例中，第一导电层120和第二导电层230为导电丝线交错而成的网状导电层，且第一导电层120和第二导电层230的导电丝线均为金属单质线，例如银线，可提高导电性能。

第一方向与第二方向互不平行，第一导电单元122和第二导电单元232在厚度方向绝缘形成互感电容。两相邻的第一导电单元122的间隔宽度可为0.5微米至50微米，两相邻的第二导电单元232的间隔宽度也可为0.5微米至50微米。

在其中一个实施例中，第一导电层120和第二导电层230的导电丝线相互交叉形成网格节点，第一导电层120的导电丝线线宽为0.2微米～5微米，且相邻两个网格节点的距离为50微米～800微米，以保证第一导电层120视觉透明，即保证可见光透光率大于80%，此时第一导电层120导电丝线在滤光层220的投影可落于栅格线上，也可不落于栅格线上。第二导电层230的导电丝线在滤光层220的投影落于栅格线上，避免导电丝线露出到滤光部224而影响滤光部224的出光及外观效果。第二导电单元232包括若干网格单元，本实施例中第二导电层230的每一网格单元的导电丝线在滤光层220的投影可对应落于一栅格单元223的栅格线上。同理，第二导电层230的导电丝线在滤光层220的投影也可不落于栅格线上，第二导电层230的导电丝线采用透明材料，或对其线宽和网格节点距离进行限定以保证第二导电层230视觉透明。

在另一实施例中，第一导电层120和第二导电层230的导电丝线在滤光层220的投影均落于栅格线上，避免导电丝线露出到滤光部224而影响滤光部224的出光及外观效果。可以理解，此时对于第一导电层120的导电丝线线宽，及相邻两个网格节点的距离可作限定，也可不作限定。为了方便操作，可限定第一导电层120的导电丝线线宽小于遮光部222的栅格线线宽，可进一步低导电丝线暴露于栅格线侧向的风险。

在其中一个实施例中，如图3和图4所示，第二导电层230的导电丝线与遮光部222的栅格线等宽，第二导电层230可采用曝光蚀刻制成，在制作第二导电层230的导电丝线和遮光部222的栅格线时，可采用同一掩膜板曝光、蚀刻制得，无需进行对准，降低了作业难度。可以理解，第二导电层230的导电丝线宽度也可小于遮光部222的栅格线宽度。

参见图5及6，第一导电层120包括多个网格单元，网格单元可以是正多边形网格，如正方形、菱形、正六边形等，也可以是随机网格，可根据实际情况生产条件进行选择，降低了生产要求。第一导电层120的导电丝线可以是直线、曲线，也可以是折线，可根据实际情况生产条件进行选择，降低了生产要求。可以理解，第二导电层230的导线丝线的线形也可以是直线、曲线或折线，所构成的网格单元的形状可为正方形、菱形、正六边形等，也可以是随机网格。

在其中一个实施例中，如图1、图5和图7所示，偏光片110包括偏光片本体112，还可包括压印胶层114，压印胶层114设置于偏光片本体112一侧，第一导电层120可采用压印方式形成于偏光片110，具体可在压印胶层114远离偏光片本体112的一侧压印出与第一导电层120的导电图案结构对应的凹槽，再向凹槽中填充导电材料并固化制得第一导电层120，即第一导电层120收容于凹槽。

压印胶层114为透明状，不影响整体的透过率。压印胶层114的材质具体可为无溶剂紫外固化亚克力树脂，还可以为可见光固化树脂或热固化树脂。压印胶层114的厚度可以为2μm～10μm，既可避免因压印胶层114过薄使凹槽过浅，而导致压印得到的第一导电层120过薄影响导电性能，还可避免压印胶层114过厚而导致偏光片组件100过厚。本实施例中凹槽深度小于压印胶层114的厚度，第一导电层120的导电丝线厚度不大于凹槽的深度，可避免第一导电层120裸露而在后续工艺中被刮伤。

在另一实施例中，如图6、图8和图9所示，偏光片110也可只包括偏光片本体112，不包括压印胶层114，第一导电层120直接设置于偏光片本体112一侧，第一导电层120具体可通过在偏光片本体112涂或镀导电层，再曝光蚀刻的方式制备。

第二导电层230也可通过涂或镀导电层，再曝光蚀刻的方式制备。第二导电层230可设置于遮光部222远离透明基底210的一侧，如图1、图3、图7、图8和图9所示。第二导电层230也可设置于遮光部222与透明基底210之间，如图4所示。

在其中一个实施例中，偏光滤光模块还可包括透明胶层（附图中未示出），透明基底210远离滤光层220和第二导电层230的一侧通过透明胶层与偏光片组件100粘接。具体地，透明基底210可以是通过透明胶层与偏光片110远离第一导电层120的一侧粘接，如图1和图8所示，也可以是通过透明胶层与偏光片110设置第一导电层120的一侧粘接，如图7和图9所示。可以理解，在其他实施例中，偏光滤光模块也可不包括透明胶层，透明基底210通过其他方式与偏光片组件100连接。

上述偏光滤光模块，可同时实现触摸操作、偏振光功能及滤光功能，作为显示屏中不可缺少的一个组件，用于显示屏中时，可直接使显示屏具有触控功能，无需再在显示屏上组装触摸屏，不仅有利于降低电子产品的厚度，同时还大大节省了材料及组装成本。

第一导电层120和第二导电层230选用的材料由传统仅用透明材料扩大到所有合适的导电材料；当导电材料选用金属材料时，可大大降低电阻以及降低触摸屏的能耗。

上述具有触控功能的偏光滤光模块为双层导电结构，无需进行搭桥设计，大大降低作业难度。采用上述偏光滤光模块，可以降低液晶显示器（Liquid CrystalDisplay，LCD）对触控效果的信号干扰。

本发明还提供了一种触摸显示屏，可以为直下式、或侧入式光源的液晶显示屏。触摸显示屏包括依次层叠的TFT电极、液晶模块以及上述偏光滤光模块。由于偏光滤光模块同时具有触摸操作、偏振光功能及滤光功能，使触摸显示屏具有触摸显示功能。不仅有利于降低电子产品的厚度，同时还大大节省了材料及组装成本。

此外，本发明还提供了一种偏光滤光模块制作方法，如图10所示，包括以下步骤：

步骤S110：在偏光片一侧形成第一导电层，得到偏光片组件。

第一导电层包括多个沿第一方向平行间隔设置的第一导电单元，每个第一导电单元由导电丝线相互交叉形成。第一导电单元可通过断线处理得到，或者直接通过压印预定图案的凹槽再填充导电材料得到。

在其中一个实施例中，步骤S110可包括以下步骤：

在偏光片本体一侧涂布压印胶，得到压印胶层。偏光片本体和压印胶层构成偏光片。

对压印胶层远离偏光片本体的一侧进行压印并固化，得到凹槽。

向凹槽内填充导电材料并固化，形成第一导电层，得到偏光片组件。

即本实施例中偏光片包括偏光片本体和设置于偏光片本体一侧的压印胶层，第一导电层收容于压印胶层远离偏光片本体的一侧。

压印胶层为透明状，不影响整体的透过率。压印胶层的材质具体可为无溶剂紫外固化亚克力树脂，还可以为可见光固化树脂或热固化树脂。压印胶层的厚度可以为2μm～10μm，既可避免因压印胶层过薄使凹槽过浅，而导致压印得到的第一导电层过薄影响导电性能，还可避免压印胶层过厚而导致偏光片组件过厚。本实施例中凹槽深度小于压印胶层的厚度，第一导电层的导电丝线厚度不大于凹槽的深度，可避免第一导电层裸露而在后续工艺中被刮伤。

在另一实施例中，步骤S110也可以是直接在偏光片本体涂或镀导电层，再曝光蚀刻的方式形成第一导电层，即偏光片不包括压印胶层。

步骤S120：利用掩膜板采用曝光蚀刻技术，在透明基底同一侧形成滤光层和第二导电层，得到滤光片组件。

滤光层包括遮光部和滤光部，遮光部由栅格线相互交叉形成，栅格线相互交叉形成多个栅格单元；滤光部包括多个滤光单元，每一滤光单元收容于对应的一栅格单元中；第二导电层包括多个沿第二方向平行间隔设置的第二导电单元，每个第二导电单元由导电丝线相互交叉形成，第二导电单元同样可通过断线处理得到。

透明基底可为玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）或聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）等光学透明材料制成。本实施例中透明基底为玻璃基底，可降低生产成本。遮光部为带有黑色染料的光刻胶，其可以采用曝光、显影形成特定的图案。滤光部为带有彩色染料的光刻胶，同样可以采用曝光、显影形成特定的图案。滤光部包括多干周期性排列的红（red，R）滤光单元、绿（green，G）滤光单元及蓝（blue，B）滤光单元，用于使入射光转变成单色光，实现滤光功能。

第一导电层和第二导电层可为透明导电膜，如氧化铟锡（ITO）膜，或者为导电丝线交错而成的网状导电层，导电丝线可以为金属单质线、金属合金线、碳纳米管线、石墨烯线、有机导电高分子线或氧化铟锡（ITO）线中的至少一种。本实施例中，第一导电层和第二导电层的导电丝线均为金属单质线，例如银线，可提高导电性能。

第一方向与第二方向互不平行，第一导电单元和第二导电单元在厚度方向绝缘形成互感电容。两相邻的第一导电单元的间隔宽度可为0.5微米至50微米，两相邻的第二导电单元的间隔宽度也可为0.5微米至50微米。

在其中一个实施例中，第一导电层和第二导电层的导电丝线相互交叉形成网格节点，第一导电层的导电丝线线宽为0.2微米～5微米，且相邻两个网格节点的距离为50微米～800微米，以保证第一导电层视觉透明，即保证可见光透光率大于80%，此时第一导电层导电丝线在滤光层的投影可落于栅格线上，也可不落于栅格线上。本实施例中第二导电层的导电丝线在滤光层的投影落于栅格线上，避免导电丝线露出到滤光部而影响滤光部的出光及外观效果。同理，第二导电层的导电丝线在滤光层的投影也可不落于栅格线上，第二导电层的导电丝线采用透明材料，或对其线宽和网格节点距离进行限定以保证第二导电层视觉透明。

在另一实施例中，第一导电层和第二导电层的导电丝线在滤光层的投影均落于栅格线上，避免导电丝线露出到滤光部而影响滤光部的出光及外观效果。可以理解，此时对于第一导电层的导电丝线线宽，及相邻两个网格节点的距离可作限定，也可不作限定。为了方便操作，可限定第一导电层的导电丝线线宽小于遮光部的栅格线线宽，可进一步低导电丝线暴露于栅格线侧向的风险。

在其中一个实施例中，第二导电层的导电丝线与遮光部的栅格线等宽，第二导电层可采用曝光蚀刻制成，在制作第二导电层的导电丝线和遮光部的栅格线时，可采用同一掩膜板曝光、蚀刻制得，无需进行对准，降低了作业难度。可以理解，第二导电层的导电丝线宽度也可小于遮光部的栅格线宽度。

第一导电层包括多个网格单元，网格单元可以是正多边形网格，如正方形、菱形、正六边形等，也可以是随机网格，可根据实际情况生产条件进行选择，降低了生产要求。第一导电层的导电丝线可以是直线、曲线，也可以是折线，可根据实际情况生产条件进行选择，降低了生产要求。可以理解，第二导电层的导线丝线的线形也可以是直线、曲线或折线，所构成的网格单元的形状可为正方形、菱形、正六边形等，也可以是随机网格。

第二导电层也可通过涂或镀导电层，再曝光蚀刻的方式制备。第二导电层可形成于遮光部远离透明基底的一侧，也可形成于遮光部与透明基底之间。

在其中一个实施例中，第二导电层形成于遮光部远离透明基底的一侧，步骤S120可包括以下步骤：

步骤1：在透明基底一侧表面整面涂或镀带有黑色染料的光刻胶，得到初始遮光层。

步骤2：在初始遮光层表面整面镀或涂导电材料，得到初始导电层。

步骤3：在初始导电层表面涂布第一光刻胶层，利用与遮光部的栅格线图案对应的第一掩膜板对第一光刻胶层进行曝光显影。

步骤4：对初始导电层进行蚀刻，得到初始第二导电层。初始第二导电层的导电图案与第一掩膜板的图案一致，初始第二导电层包括若干网格单元。

步骤5：对初始遮光层进行蚀刻，得到遮光部。遮光部的栅格线图案与第一掩膜板的图案一致。

由于初始第二导电层的导电图案和遮光部的栅格线图案均与第一掩膜板的图案一致，因此初始第二导电层的每一网格单元的导电丝线在所述滤光层的投影对应落于一所述栅格单元的栅格线上

步骤6：在初始第二导电层表面涂布第二光刻胶层，利用与第二导电层的断线位置对应的第二掩膜板对第二光刻胶层进行曝光显影。

步骤7：对初始第二导电层进行蚀刻，将初始第二导电层分割成多个平行间隔设置的第二导电单元，得到第二导电层。

步骤8：在遮光部的栅格线构成的栅格单元中依次镀或涂滤光单元，形成滤光部，得到滤光层。透明基底、第二导电层和滤光层即构成滤光片组件。

在步骤1之前还可对透明基底一侧表面进行等离子处理，除去其表面的脏污，并使表面离子化，增加后续与其它材料的粘结力。初始遮光层形成于透明基底经过等离子处理后的表面。

另一实施例中，第二导电层形成于遮光部与透明基底之间，步骤S120可包括以下步骤：

步骤1：在透明基底一侧表面整面镀或涂导电材料，得到初始导电层。

步骤2：在初始导电层表面整面涂或镀带有黑色染料的光刻胶，得到初始遮光层。

步骤3：利用与第二导电层的导电图案对应的掩膜板对初始遮光层进行曝光显影。

步骤4：对初始遮光层进行蚀刻，得到遮光部。

步骤5：对初始导电层进行蚀刻，将导电层分割成多个平行间隔设置的第二导电单元，得到第二导电层。遮光部的栅格线图案与第二导电层的导电图案一致，即对遮光部也进行了断线处理。

步骤6：在遮光部的栅格线构成的栅格单元中依次镀或涂滤光单元，形成滤光部，得到滤光层。透明基底、第二导电层和滤光层即构成滤光片组件。

同理，在步骤1之前还可对透明基底一侧表面进行等离子处理，除去其表面的脏污，并使表面离子化，增加后续与其它材料的粘结力。导电层形成于透明基底经过等离子处理后的表面。

步骤S130：将透明基底远离滤光层和第二导电层的一侧与偏光片组件连接，得到偏光滤光模块。

具体地，可在透明基底远离滤光层和第二导电层的一侧涂添黏合剂，通过黏合剂与偏光片组件粘接，透明基底可以是与偏光片远离第一导电层的一侧粘接，也可以是与偏光片设置第一导电层的一侧粘接。可以理解，在其他实施例中，透明基底也可通过其他方式与偏光片组件连接。

由上述偏光滤光模块制作方法制得的偏光滤光模块，可同时实现触摸操作、偏振光功能及滤光功能，作为显示屏中不可缺少的一个组件，用于显示屏中时，可直接使显示屏具有触控功能，无需再在显示屏上组装触摸屏，不仅有利于降低电子产品的厚度，同时还大大节省了材料及组装成本。

下面对偏光滤光模块制作方法的几种实施例进行详细说明。

如图1和图7所示的具有触控操作功能的偏光滤光模块，当第一导电层120采用压印方式制备，第二导电层230覆设在遮光部222远离透明基底210的一侧，且遮光部222为完整栅格时，其制作过程如下：

（1）在偏光片本体112的一个表面涂布压印胶层114，本实施例中可采用PMMA（polymethylmethacrylate，聚甲基丙烯酸甲酯）UV固化树脂，并用与第一导电层120的导电图案相嵌套的压印模板在压印胶层114表面进行压印并固化，得到用于收容第一导电层120的凹槽。

（2）向凹槽内填充导电材料并固化，得到相互独立、绝缘的第一导电单元（导电材料可以为金属单质或合金、碳纳米管、石墨烯、有机导电高分子或ITO。优选为金属，如纳米银浆），得到带有第一导电层120的偏光片组件100。

（3）在透明基底210的一表面首先进行Plasma（等离子工艺）处理，除去透明基底210表面的脏污，并使表面离子化，增加后续与其它材料的粘结力。

（4）在透明基底210上述经过处理的表面整面涂/镀带有黑色染料的光刻胶，得到初始遮光层。

（5）在初始遮光层表面整面镀导电材料或涂一层导电墨水（导电材料或导电墨水可以为金属单质、金属合金、碳纳米管、石墨烯、有机导电高分子或ITO。本实施例为金属银），得到导电层。

（6）在导电层表面涂布第一光刻胶层，利用与遮光部222的栅格线图案对应的第一掩膜板对第一光刻胶层进行曝光、再显影。仅在导电层上面覆盖与遮光部222的栅格线图案一致的光刻胶，其它地方的光刻胶除去。

（7）利用刻蚀技术对导电层进行蚀刻，得到与遮光部222的栅格线图案一致的初始第二导电层（此时初始第二导电层的导电图案与第一掩膜板的图案一致，初始第二导电层的导电丝线完整，未进行断线处理）。

（8）利用刻蚀技术对初始遮光层进行蚀刻，得到遮光部222。因为对导电层和初始遮光层蚀刻时均是利用第一光刻胶层做掩层，所以初始第二导电层的导电图案和遮光部222的栅格线图案一致。

（9）再在与遮光部222的栅格线图案一致的初始第二导电层表面涂布第二光刻胶层，用与第二导电层230的断线位置对应的第二掩膜板对第二光刻胶层进行曝光、显影，将初始第二导电层需要断线区域的光刻胶除去。

（10）利用刻蚀技术对第二导电层再次进行蚀刻，将需要断线区域处的导电材料蚀刻掉，形成相互独立、绝缘的第二导电单元，得到第二导电层230。

（11）再在对应区域分次镀/涂上R/G/B滤光单元，从而得到带有第二导电层230的滤光片组件200。

（12）将带有第一导电层120的偏光片组件100和带有第二导电层230的滤光片组件200通过透明胶粘剂进行粘结并固化，得到具有触控操作功能的偏光滤光模块。

继续参照图1和图7，具有触控操作功能的偏光滤光模块，第一导电层120采用压印方式制备，第二导电层230覆设在遮光部222远离透明基底210的一侧，且遮光部222的栅格线图案与第二导电层230的导电图案一致，也进行断线处理时，其制作过程如下：

（1）在偏光片本体112的一个表面涂布压印胶层114（本实施例采用PMMAUV固化树脂），并用与第一导电层120的导电图案相嵌套的压印模板在压印胶层114表面进行压印并固化，得到用于收容第一导电层120的凹槽。

（2）向凹槽内填充导电材料并固化，得到相互独立、绝缘的第一导电单元（导电材料可以为金属单质、金属合金、碳纳米管、石墨烯，有机导电高分子或ITO。优选为金属，如纳米银浆），得到带有第一导电层120的偏光片组件100。

（3）在透明基底210的一表面首先进行Plasma处理，除去透明基底210表面的脏污，并使表面离子化，增加后续与其它材料的粘结力。

（4）在透明基底210上述经过处理的表面整面涂/镀带有黑色染料的光刻胶，得到初始遮光层。

（5）在初始遮光层表面整面镀导电材料镀或涂一层导电墨水（导电材料或导电墨水可以为金属单质、金属合金、碳纳米管、石墨烯、有机导电高分子或ITO。本实施例为金属银），得到导电层。

（6）在导电层表面涂布光刻胶层，利用与第二导电层230的导电图案对应的掩膜板对光刻胶层进行曝光、再显影，仅在导电层上面覆盖与第二导电层230的导电图案形状一致的光刻胶，其它地方的光刻胶除去（包括断线区域）。

（7）利用刻蚀技术对导电层进行蚀刻，形成相互独立、绝缘的第二导电单元，得到第二导电层230。

（8）利用刻蚀技术对初始遮光层进行蚀刻，得到与第二导电层230的导电图案一致的遮光部222。因为在对导电层和初始遮光层进行蚀刻时利用同一光刻胶层做掩层，对遮光部222也进行了断线处理。

（9）再在对应区域分次镀/涂上R/G/B滤光单元，从而得到带有第二导电层230的滤光片组件200。

（10）将带有第一导电层120的偏光片组件100和带有第二导电层230的滤光片组件200通过透明胶粘剂进行粘结并固化，得到具有触控操作功能的偏光滤光模块。

上述具有触控操作功能的偏光滤光模块，第一导电层采用压印方式制备，第二导电层覆设在遮光部与透明基底之间，且遮光部的栅格线图案与第二导电层的导电图案一致，也进行断线处理时，其制作过程如下：

（1）在偏光片本体的一个表面涂布压印胶层（本实施例采用PMMA UV固化树脂），并用与第一导电层的导电图案相嵌套的压印模板在压印胶层表面进行压印并固化，得到用于收容第一导电层的凹槽。

（2）向凹槽内填充导电材料并固化，得到相互独立、绝缘的第一导电单元（导电材料可以为金属单质、金属合金、碳纳米管、石墨烯、有机导电高分子或ITO。优选为金属，如纳米银浆），便得到带有第一导电层的偏光片组件。

（3）在透明基底的一表面首先进行Plasma处理，除去透明基底表面的脏污，并使表面离子化，增加后续与其它材料的粘结力。

（4）在透明基底上述经过处理的表面整面镀导电材料或涂一层导电墨水（导电材料或导电墨水可以为金属单质、金属合金、碳纳米管、石墨烯、有机导电高分子或ITO。本实施例为金属银），得到导电层。

（5）在导电层表面整面涂/镀带有黑色染料的光刻胶，得到初始遮光层。

（6）利用与第二导电层的导电图案对应的掩膜板对初始遮光层进行曝光，再显影，得到与第二导电层的导电图案形状一致的遮光部（此时遮光部进行了断线处理，因为形成第二导电层时是以遮光部作为掩层进行蚀刻，若遮光部不进行断线处理会遮挡导电层，会使得导电层无法进行断线处理）。

（7）利用刻蚀技术对导电层进行蚀刻，形成相互独立、绝缘的第二导电单元，得到第二导电层。

（8）再在对应区域分次镀/涂上R/G/B滤光单元，从而得到带有第二导电层的滤光片组件。

（9）将带有第一导电层的偏光片组件和带有第二导电层的滤光片组件通过透明胶粘剂进行粘结并固化，得到具有触控操作功能的偏光滤光模块。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (22)

1.一种偏光滤光模块，其特征在于，包括：

偏光片组件，包括偏光片，及设置于所述偏光片一侧的第一导电层，所述第一导电层包括多个沿第一方向间隔设置的第一导电单元；

滤光片组件，包括透明基底，及位于所述透明基底同一侧的滤光层和第二导电层，所述滤光层包括遮光部和滤光部，所述遮光部由栅格线相互交叉形成，所述栅格线相互交叉形成多个栅格单元；所述滤光部包括多个滤光单元，每一所述滤光单元收容于对应的一所述栅格单元中；所述第二导电层包括多个沿第二方向平行间隔设置的第二导电单元，每个所述第二导电单元由导电丝线相互交叉形成，所述第二导电单元包括若干网格单元；

所述第一方向与第二方向互不平行，所述第一导电单元和第二导电单元在厚度方向绝缘；所述第二导电层的每一网格单元的导电丝线在所述滤光层的投影对应落于一所述栅格单元的栅格线上。

2.根据权利要求1所述的偏光滤光模块，其特征在于，所述第二导电层的导电丝线与所述栅格线等宽。

3.根据权利要求1所述的偏光滤光模块，其特征在于，所述第一导电单元由导电丝线相互交叉形成，所述第一导电层的导电丝线在所述滤光层的投影均落于所述栅格线上。

4.根据权利要求1所述的偏光滤光模块，其特征在于，所述偏光片包括偏光片本体和设置于所述偏光片本体一侧的压印胶层，所述压印胶层远离所述偏光片本体的一侧开设有凹槽，所述第一导电层收容于所述凹槽。

5.根据权利要求4所述的偏光滤光模块，其特征在于，所述凹槽的深度小于所述压印胶层的厚度，所述第一导电层的导电丝线厚度不大于所述凹槽的深度。

6.根据权利要求1所述的偏光滤光模块，其特征在于，两个相邻的所述第一导电单元的间隔宽度为0.5微米～50微米，两个相邻的所述第二导电单元的间隔宽度为0.5微米～50微米。

7.根据权利要求1所述的偏光滤光模块，其特征在于，所述第二导电层设置于所述遮光部远离所述透明基底的一侧，或设置于所述遮光部与所述透明基底之间。

8.根据权利要求1所述的偏光滤光模块，其特征在于，还包括透明胶层，所述透明基底远离所述滤光层和第二导电层的一侧通过所述透明胶层与所述偏光片组件粘接。

9.一种偏光滤光模块，其特征在于，包括：

偏光片组件，包括偏光片，及设置于所述偏光片一侧的第一导电层，所述第一导电层包括多个沿第一方向平行间隔设置的第一导电单元，每个所述第一导电单元由导电丝线相互交叉形成，所述导电丝线相互交叉形成网格节点；

滤光片组件，包括透明基底，及位于所述透明基底同一侧的滤光层和第二导电层，所述滤光层包括遮光部和滤光部，所述遮光部由栅格线相互交叉形成，所述栅格线相互交叉形成多个栅格单元；所述滤光部包括多个滤光单元，每一所述滤光单元收容于对应的一所述栅格单元中；所述第二导电层包括多个沿第二方向平行间隔设置的第二导电单元，每个所述第二导电单元由导电丝线相互交叉形成；

所述第一方向与第二方向互不平行，所述第一导电单元和第二导电单元在厚度方向绝缘；所述第一导电层的导电丝线线宽为0.2微米～5微米，且相邻两个网格节点的距离为50微米～800微米；所述第二导电层的导电丝线在所述滤光层的投影落于所述栅格线上。

10.根据权利要求9所述的偏光滤光模块，其特征在于，所述第二导电层的导电丝线与所述栅格线等宽。

11.根据权利要求9所述的偏光滤光模块，其特征在于，所述偏光片包括偏光片本体和设置于所述偏光片本体一侧的压印胶层，所述压印胶层远离所述偏光片本体的一侧开设有凹槽，所述第一导电层收容于所述凹槽。

12.根据权利要求11所述的偏光滤光模块，其特征在于，所述凹槽的深度小于所述压印胶层的厚度，所述第一导电层的导电丝线厚度不大于所述凹槽的深度。

13.根据权利要求9所述的偏光滤光模块，其特征在于，两个相邻的所述第一导电单元的间隔宽度为0.5微米～50微米，两个相邻的所述第二导电单元的间隔宽度为0.5微米～50微米。

14.根据权利要求9所述的偏光滤光模块，其特征在于，所述第二导电层设置于所述遮光部远离所述透明基底的一侧，或设置于所述遮光部与所述透明基底之间。

15.根据权利要求9所述的偏光滤光模块，其特征在于，还包括透明胶层，所述透明基底远离所述滤光层和第二导电层的一侧通过所述透明胶层与所述偏光片组件粘接。

16.一种触摸显示屏，其特征在于，包括依次层叠的TFT电极、液晶模块以及如权利要求1至15中任意一项所述的偏光滤光模块。

17.一种偏光滤光模块制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

在偏光片一侧形成第一导电层，得到偏光片组件；所述第一导电层包括多个沿第一方向平行间隔设置的第一导电单元，每个所述第一导电单元由导电丝线相互交叉形成；

利用掩膜板采用曝光蚀刻技术，在透明基底同一侧形成滤光层和第二导电层，得到滤光片组件；所述滤光层包括遮光部和滤光部，所述遮光部由栅格线相互交叉形成，所述栅格线相互交叉形成多个栅格单元；所述滤光部包括多个滤光单元，每一所述滤光单元收容于对应的一所述栅格单元中；所述第二导电层包括多个沿第二方向平行间隔设置的第二导电单元，每个所述第二导电单元由导电丝线相互交叉形成；所述第一方向与第二方向互不平行，所述第一导电单元和第二导电单元在厚度方向绝缘；所述第二导电层的导电丝线在所述滤光层的投影落于所述栅格线上;

将所述透明基底远离所述滤光层和第二导电层的一侧与所述偏光片组件连接，得到偏光滤光模块。

18.根据权利要求17所述的偏光滤光模块制作方法，其特征在于，所述在偏光片一侧形成第一导电层，得到偏光片组件的步骤包括以下步骤：

在偏光片本体一侧涂布压印胶，得到压印胶层；所述偏光片本体和压印胶层构成所述偏光片；

对所述压印胶层远离所述偏光片本体的一侧进行压印并固化，得到凹槽；

向所述凹槽内填充导电材料并固化，形成所述第一导电层，得到所述偏光片组件。

19.根据权利要求17所述的偏光滤光模块制作方法，其特征在于，所述利用掩膜板采用曝光蚀刻技术，在透明基底同一侧形成滤光层和第二导电层，得到滤光片组件的步骤包括以下步骤：

在所述透明基底一侧表面整面涂或镀带有黑色染料的光刻胶，得到初始遮光层;

在所述初始遮光层表面整面镀或涂导电材料，得到初始导电层；

在所述初始导电层表面涂布第一光刻胶层，利用与所述遮光部的栅格线图案对应的第一掩膜板对所述第一光刻胶层进行曝光显影；

对所述初始导电层进行蚀刻，得到初始第二导电层；所述初始第二导电层的导电图案与所述第一掩膜板的图案一致；

对所述初始遮光层进行蚀刻，得到遮光部；所述遮光部的栅格线图案与所述第一掩膜板的图案一致；

在所述初始第二导电层表面涂布第二光刻胶层，利用与所述第二导电层的断线位置对应的第二掩膜板对所述第二光刻胶层进行曝光显影；

对所述初始第二导电层进行蚀刻，将所述初始第二导电层分割成多个平行间隔设置的第二导电单元，得到所述第二导电层；

在所述遮光部的栅格线构成的栅格单元中依次镀或涂滤光单元，形成滤光部，得到所述滤光层；所述透明基底、第二导电层和滤光层即构成所述滤光片组件。

20.根据权利要求19所述的偏光滤光模块制作方法，其特征在于，所述在所述透明基底一侧表面整面涂或镀带有黑色染料的光刻胶，得到初始遮光层的步骤之前，包括以下步骤：

对所述透明基底一侧表面进行等离子处理；所述初始遮光层形成于所述透明基底经过所述等离子处理后的表面。

21.根据权利要求17所述的偏光滤光模块制作方法，其特征在于，所述利用掩膜板采用曝光蚀刻技术，在透明基底同一侧形成滤光层和第二导电层，得到滤光片组件的步骤包括以下步骤：

在所述透明基底一侧表面整面镀或涂导电材料，得到初始导电层；

在所述初始导电层表面整面涂或镀带有黑色染料的光刻胶，得到初始遮光层;

利用与所述第二导电层的导电图案对应的掩膜板对所述初始遮光层进行曝光显影；

对所述初始遮光层进行蚀刻，得到所述遮光部；

对所述初始导电层进行蚀刻，将所述导电层分割成多个平行间隔设置的第二导电单元，得到所述第二导电层；所述遮光部的栅格线图案与所述第二导电层的导电图案一致；

在所述遮光部的栅格线构成的栅格单元中依次镀或涂滤光单元，形成滤光部，得到所述滤光层；所述透明基底、第二导电层和滤光层即构成所述滤光片组件。

22.根据权利要求21所述的偏光滤光模块制作方法，其特征在于，在所述透明基底一侧表面整面镀或涂导电材料，得到导电层的步骤之前，包括以下步骤：

对所述透明基底一侧表面进行等离子处理；所述导电层形成于所述透明基底经过所述等离子处理后的表面。

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