CN103213055A - 磁性基板的磨削方法 - Google Patents

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周建平
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CHANGSHU YANMING ELECTRONIC COMPONENT FACTORY
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Abstract

本发明公开了磁性基板的磨削方法,包括以下步骤:第一步:区分成品部分和余料部分的位置;第二步:使用夹具夹持磁性基板,所述夹具的固定位置设置在成品部分,所述夹具的边缘距离第一步中所作的记号0.2-0.3mm;第三步:将旋转的打磨砂轮慢慢靠近磁性基板,与余料部分进行接触切磨,直至第一步中所作的记号位置;第四步:采用粗研磨砂轮对第三步工件的表面进行粗研磨,然后进行细研磨。本方法简便了边缘余量的切割和基板表面减薄的工艺,避免了分批加工带来的时间损耗,并且采用了粗研磨、细研磨的两段式研磨,避免了一次加工过猛崩坏磁性基板的现象。

Description

磁性基板的磨削方法
技术领域
本发明涉及电子元器件加工领域,尤其是磁性基板的磨削方法。
背景技术
由于大规模集成电路和高速读写电子芯片的发展,目前市场上特种电子元器件的生产基板的厚度为0.5-2.0mm。但是在生产磁性基板的过程中会发生余料溢板的情况,溢板后的磁性基板在尺寸和厚度上都会超出所需要的规格。
发明内容
发明目的:针对现有技术的不足,申请人经过长期的实践探索,研发了磁性基板的磨削方法。
技术方案:为了实现上述发明目的,本发明所采用的技术方案为:磁性基板的磨削方法,所述磁性基板包括成品部分和余料部分,所述磨削方法包括以下步骤:
第一步:确定待加工磁性基板的成品部分的尺寸,用铅笔在确定的成品部分尺寸的轮廓边缘画上记号,标记出成品部分和余料部分的位置;
第二步:使用夹具夹持磁性基板,所述夹具的固定位置设置在成品部分,所述夹具的边缘距离第一步中所作的记号0.2-0.3mm,使余料部分露出;
第三步:将旋转的打磨砂轮慢慢靠近磁性基板,与余料部分进行接触切磨,直至第一步中所作的记号位置;
第四步:采用粗研磨砂轮对第三步工件的表面进行粗研磨,所述粗研磨砂轮位于第三步工件的表面的上方,与第三步工件的表面平行,以0.1mm/s的速度靠近第三步工件的表面;
第五步:采用细研磨砂轮对第四步工件的表面进行细研磨;
第六步:取下加工完毕的磁性基板,对加工现场进行清理。
进一步地,所述粗研磨和细研磨之间采用过渡研磨。
进一步地,所述粗研磨砂轮和细研磨砂轮的材质为硬质碳化硅。
进一步地,所述粗研磨、过渡研磨及细研磨时持续对砂轮表面滴洒冷却液,所述冷却液为苏打水冷却液。
有益效果:本发明与现有技术相比,其有益效果是:
1、本发明的工作过程简便了边缘余量的切割和基板表面减薄的工艺,避免了分批加工带来的时间损耗;
2、本发明采用了粗研磨、细研磨的两段式研磨,避免了一次加工过猛崩坏磁性基板的现象。
具体实施方式
下面通过一个最佳实施例,对本技术方案进行详细说明,但是本发明的保护范围不局限于所述实施例。
磁性基板的磨削方法,所述磁性基板包括成品部分和余料部分,所述磨削方法包括以下步骤:
第一步:确定待加工磁性基板的成品部分的尺寸,用铅笔在确定的成品部分尺寸的轮廓边缘画上记号,确定成品部分和余料部分的位置;
第二步:使用夹具夹持磁性基板,所述夹具的固定位置设置在成品部分,所述夹具的边缘距离第一步中所作的记号0.2-0.3mm,使余料部分露出;
第三步:将旋转的打磨砂轮慢慢靠近磁性基板,与余料部分进行接触切磨,直至第一步中所作的记号位置;
第四步:采用粗研磨砂轮对第三步工件的表面进行粗研磨,所述粗研磨砂轮位于第三步工件的表面的上方,与第三步工件的表面平行,以0.1mm/s的速度靠近第三步工件的表面;
第五步:采用细研磨砂轮对第四步工件的表面进行细研磨;
第六步:取下加工完毕的磁性基板,对加工现场进行清理。
所述粗研磨和细研磨之间采用过渡研磨。
所述粗研磨砂轮和细研磨砂轮的材质为硬质碳化硅。
所述粗研磨、过渡研磨及细研磨时持续对砂轮表面滴洒冷却液,所述冷却液为苏打水冷却液。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出:对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (4)

1.磁性基板的磨削方法,所述磁性基板包括成品部分和余料部分,其特征在于:所述磨削方法包括以下步骤:
第一步:确定待加工磁性基板的成品部分的尺寸,用铅笔在确定的成品部分尺寸的轮廓边缘画上记号;
第二步:使用夹具夹持磁性基板,所述夹具的固定位置设置在成品部分,所述夹具的边缘距离第一步中所作的记号0.2-0.3mm,使余料部分露出;
第三步:将旋转的打磨砂轮慢慢靠近磁性基板,与余料部分进行接触切磨,直至第一步中所作的记号位置;
第四步:采用粗研磨砂轮对第三步工件的表面进行粗研磨,所述粗研磨砂轮位于第三步工件的表面的上方,与第三步工件的表面平行,以0.1mm/s的速度靠近第三步工件的表面;
第五步:采用细研磨砂轮对第四步工件的表面进行细研磨;
第六步:取下加工完毕的磁性基板,对加工现场进行清理。
2.根据权利要求1所述的磁性基板的磨削方法,其特征在于:所述粗研磨和细研磨之间采用过渡研磨。
3.根据权利要求1所述的磁性基板的磨削方法,其特征在于:所述粗研磨砂轮和细研磨砂轮的材质为硬质碳化硅。
4.根据权利要求1或2所述的磁性基板的磨削方法,其特征在于:所述粗研磨、过渡研磨及细研磨时持续对砂轮表面滴洒冷却液,所述冷却液为苏打水冷却液。
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