CN103176365A - 菲林及其制作方法,应用该菲林进行遮蔽的方法 - Google Patents

菲林及其制作方法,应用该菲林进行遮蔽的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN103176365A
CN103176365A CN2011104348689A CN201110434868A CN103176365A CN 103176365 A CN103176365 A CN 103176365A CN 2011104348689 A CN2011104348689 A CN 2011104348689A CN 201110434868 A CN201110434868 A CN 201110434868A CN 103176365 A CN103176365 A CN 103176365A
Authority
CN
China
Prior art keywords
film
thermosol
diaphragm
layer
matrix
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN2011104348689A
Other languages
English (en)
Inventor
周泉
黄潮声
关辛午
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Futaihong Precision Industry Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen Futaihong Precision Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Futaihong Precision Industry Co Ltd filed Critical Shenzhen Futaihong Precision Industry Co Ltd
Priority to CN2011104348689A priority Critical patent/CN103176365A/zh
Priority to TW100149082A priority patent/TW201325902A/zh
Priority to US13/539,617 priority patent/US9017920B2/en
Publication of CN103176365A publication Critical patent/CN103176365A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/128Radiation-activated cross-linking agent containing

Abstract

一种菲林,包括膜片及形成于该膜片上的感光层,所述感光层的主要成分为感光剂、光敏剂及热溶胶,所述感光层为水溶性感光层。本发明还提供一种所述菲林的制作方法及应用该菲林进行遮蔽处理的方法。

Description

菲林及其制作方法,应用该菲林进行遮蔽的方法
技术领域
本发明涉及一种菲林及其制作方法,应用该菲林进行遮蔽处理的方法。
背景技术
现有技术,通常借助油墨遮蔽或菲林遮蔽,采用喷砂、物理抛光或拉丝等处理在基材上形成图案,以提高基材的外观装饰性能。但上述两种方式的遮蔽均存在如下缺点:制程繁琐;褪遮蔽时需要使用退遮蔽药水,易于造成环境污染。此外,现有的菲林遮蔽方法,需要在基材与菲林之间涂覆胶水以使上述两者结合在一起,而胶水往往难以涂覆均匀,如此降低了菲林遮蔽的遮蔽精度。
发明内容
有鉴于此,有必要提供一种可解决上述问题的菲林。
同时,提供一种所述菲林的制作方法。
另,还提供一种应用该菲林进行遮蔽的方法。
一种菲林,包括膜片及形成于该膜片上的感光层,所述感光层的主要成分为感光剂、光敏剂及热溶胶,所述感光层为水溶性感光层。
一种菲林的制作方法,包括如下步骤:
提供膜片;
调制感光胶:以感光剂、光敏剂及热溶胶为原料,将所述光敏剂溶于去离子水,再向该去离子水中加入感光剂及热溶胶得一胶状体,在暗室中搅拌加热使该胶状体溶溶融后,进行消泡处理;
涂覆感光胶:将所述感光胶均匀涂布在所述膜片后,干燥所述感光胶。
一种应用所述菲林进行遮蔽的方法,包括如下步骤:
提供一基体;
提供一菲林,对所述菲林进行曝光显影处理,在所述菲林上形成硬化层和可溶解层,所述硬化层组合形成第一图案;之后,去除所述可溶解层;
将曝光显影后的所述菲林贴合定位在所述基体上,具体的方法如下:先加热软化所述菲林;再将该菲林贴合于基体上,使硬化层紧密贴合于基体后,剥去膜片。
应用所述菲林进行遮蔽有如下优点:
1. 所述感光层中添加有热溶胶,无需在菲林与基体之间进行涂胶,仅采用加热的方式软化所述感光层中的热溶胶,便可使所述菲林与所述基体紧密地贴合在一起,使制程简单化。
2. 所述菲林与基体之间的结合力良好,提高了所述菲林定位的精度及遮蔽效果,所述基体表面不会出现过喷砂、过拉丝或过抛光现象。
3. 由于所述感光层为水溶性的,菲林的显影及褪除在清水中即可完成,无需采用显影药水、褪除药水,该制程绿色环保。
附图说明
图1是本发明一较佳实施例菲林的剖视图。
图2是图1所示菲林曝光处理后的剖视图。
图3是图1所示菲林显影处理后的剖视图。
图4是显影后的菲林贴合于基体上的剖视图。
主要元件符号说明
菲林 10
膜片 11
感光层 13
可溶解层 131
硬化层 132
基体 20
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请参见图1所示,本发明一较佳实施方式的菲林10包括膜片11及形成于该膜片11上的感光层13。
所述膜片11为耐高温聚酯薄膜(PET膜片)。
所述感光层13是水溶性的,该感光层13的主要成分为感光剂、光敏剂及热溶胶。其中,所述感光剂的质量百分含量为80~90%,光敏剂的质量百分含量为5~10%,热溶胶的质量百分含量为5~10%。所述感光层13的厚度30~50μm。
所述感光剂为水溶性感光剂,如:重铬酸铵感光剂。
所述光敏剂的主要成分为芳香族酮类化合物或安息香醚类化合物,如:二苯甲酮、卤代二苯甲酮、甲磺酸二苯甲酮、4-乙烯基-4′-甲氧基二苯甲酮、安息香双甲醚、安息香丁醚及安息香***等。
所述热溶胶为水溶性热溶胶,如:乙烯~醋酸乙烯共聚物(EVA),聚乙烯(PE),聚酰胺(PA),聚氨酯(PU)或热塑性聚氨酯弹性体(TPU)等。
上述菲林10的制作方法,主要包括如下步骤:
提供膜片11,该膜片11为PET膜片。
调制感光胶:以感光剂、光敏剂及热溶胶为原料。该原料中,所述感光剂的质量百分含量为80~90%,光敏剂的质量百分含量为5~10%,热溶胶的质量百分含量为5~10%。
将所述光敏剂溶于80~120ml的去离子水,再向该去离子水中加入感光剂及热溶胶得一胶状体,并在暗室中搅拌加热至该胶状体溶融后,并置于5~25℃的温度下以40~60转/min的转速搅拌30~60min进行消泡处理,最终制得感光胶。
涂覆感光胶:将所述感光胶均匀涂布在所述膜片11上,再将该膜片11置于40~50℃的烘箱中干燥3-5h,所述感光胶粘附于膜片11上形成感光层13,制得菲林10。
本发明还提供一种利用该菲林10进行遮蔽的方法,包括如下步骤:
提供一基体20(参图4所示)。
请一并参见图2及图3所示,提供一菲林10,对所述菲林10进行曝光显影处理,在所述菲林10上形成硬化层132,具体的方法如下:提供一曝光机(未图示),将所述菲林10置于该曝光机下进行曝光处理,经该曝光处理后,所述感光层13形成有可溶解层131和硬化层132,所述硬化层132组合形成第一图案;再将所述菲林10置于高压水枪下进行冲洗,以去除所述可溶解层131。所述菲林10上形成第一图案的区域已曝光呈现黑色,其他区域为透明。
将曝光显影后的所述菲林10贴合定位在所述基体20上,具体的方法如下:将所述菲林10置于30~50℃的温度下烘烤10~20min,用以对所述菲林10进行干燥,并激活所述硬化层132中的热溶胶以提高菲林10与基体20之间的结合力;再将该菲林10贴合于基体20上,并用刷子或薄板刮压以排除硬化层132与菲林10之间的空气;当硬化层132紧密贴合在基体20后,剥去膜片11。较佳地,采用刷子或薄板对菲林10进行刮压处理之前,还可对贴合在基体20上的菲林10在80~100℃的温度下进行加热处理,以进一步提高菲林10与基体20之间的结合力,从而使硬化层132紧密贴合在基体20上。
采用喷砂、拉丝或物理抛光等方式,对所述基体20进行表面处理,以在基体20上未粘帖所述硬化层132的区域形成与该第一图案相对应的具有喷砂、拉丝或抛光效果的第二图案。
去除所述硬化层132,使硬化层132所覆盖的部分基体20的表面裸露出来,其具体操作如下:将所述基体20置于清水中浸泡3~5min,使所述硬化层132与所述基体20分离。
应用所述菲林10进行遮蔽有如下优点:
1. 所述感光层13中添加有热溶胶,无需在菲林10与基体20之间进行涂胶,仅采用加热的方式软化所述感光层13中的热溶胶,便可使所述菲林10与所述基体20紧密地贴合在一起,使制程简单化。
2. 所述菲林10与基体20之间的结合力良好,提高了所述菲林10定位的精度及遮蔽效果,所述基体表面不会出现过喷砂、过拉丝或过抛光现象。
3. 由于所述感光层13为水溶性的,菲林10的显影及褪除在清水中即可完成,无需采用显影药水、褪除药水,该制程绿色环保。
实施例1
调制感光胶:取1kg的重铬酸铵感光剂(苏州广宏化工公司提供)、38ml的二苯甲酮及60g的TPU热溶胶,将二苯甲酮溶于80ml的去离子水中后与重铬酸铵感光剂、TPU热溶胶混合,并在暗室中搅拌加热至该胶状体溶融后,置于20℃的温度下以45转/min的转速搅拌进行消泡处理,最终制得感光剂。该消泡处理的时间为20min。
涂覆感光胶:将所述感光胶均匀涂布在所述膜片11上,再将该膜片11置于温度为40℃的烘箱中干燥5h,所述感光胶粘附于膜片11上形成感光层13,而制得菲林10。该感光层13的厚度为40μm。
对所述菲林10进行曝光显影处理,使所述菲林10形成可溶解层131和硬化层132,所述硬化层132组合形成第一图案。
贴合菲林10:将所述菲林10置于40℃的温度下烘烤15min;再将该菲林10贴合于一基体20上,并用薄板刮压以排除硬化层132与菲林10之间的空气;当硬化层132紧密贴合在基体20后,剥去膜片11。
对所述基体20进行喷砂处理,使基体20上未粘帖所述硬化层132的区域形成与该第一图案相对应的具有喷砂效果的第二图案。
去除所述硬化层132:将所述基体20置于清水中浸泡3min,使所述硬化层132与所述基体20分离。
实施例2
调制感光胶:取1kg的重铬酸铵感光剂(苏州广宏化工公司提供)、69g的安息香双甲醚及70g的TPU热溶胶,将安息香双甲醚溶于100ml的去离子水中后与重铬酸铵感光剂、TPU热溶胶混合,并在暗室中搅拌加热至该胶状体溶融后,置于20℃的温度下以50转/min的转速搅拌进行消泡处理,最终制得感光剂。该消泡处理的时间为20min。
涂覆感光胶:将所述感光胶均匀涂布在所述膜片11上,再将该膜片11置于温度为45℃的烘箱中干燥3h,所述感光胶粘附于膜片11上形成感光层13,而制得菲林10。该感光层13的厚度为45μm。
对所述菲林10进行曝光显影处理,使所述菲林10形成可溶解层131和硬化层132,所述硬化层132组合形成第一图案。
贴合菲林10:将所述菲林10置于40℃的温度下烘烤10min;再将该菲林10贴合于一基体20上,并用薄板刮压以排除硬化层132与菲林10之间的空气;当硬化层132紧密贴合在基体20后,剥去膜片11。
对所述基体20进行拉丝处理,使基体20上未粘帖所述硬化层132的区域形成与该第一图案相对应的具有拉丝效果的第二图案。
去除所述硬化层132:将所述基体20置于清水中浸泡3min,使所述硬化层132与所述基体20分离。
经上述实施例1、实施例2处理后的基体20表面未出现过喷砂或过拉丝现象,可见所述菲林10具有良好的遮蔽效果。

Claims (13)

1.一种菲林,包括膜片及形成于该膜片上的感光层,其特征在于:所述感光层的主要成分为感光剂、光敏剂及热溶胶,所述感光层为水溶性感光层。
2.如权利要求1所述的菲林,其特征在于:所述感光层的厚度30~50μm。
3.如权利要求1所述的菲林,其特征在于:所述感光剂为重铬酸铵感光剂。
4.如权利要求1所述的菲林,其特征在于:所述光敏剂的主要成分为芳香族酮类化合物或安息香醚类化合物。
5.如权利要求1所述的菲林,其特征在于:所述热溶胶为水溶性热溶胶。
6.如权利要求1或5所述的菲林,其特征在于:所述热溶胶为乙烯-醋酸乙烯共聚物、聚乙烯、聚酰胺、聚氨酯或热塑性聚氨酯弹性体。
7.如权利要求1所述的菲林,其特征在于:所述感光层中,所述感光剂的质量百分含量为80~90%,光敏剂的质量百分含量为5~10%,热溶胶的质量百分含量为5~10%。
8.一种菲林的制作方法,包括如下步骤:
提供膜片;
调制感光胶:以感光剂、光敏剂及热溶胶为原料,将所述光敏剂溶于去离子水,再向该去离子水中加入感光剂及热溶胶得一胶状体,在暗室中搅拌加热使该胶状体溶溶融后,进行消泡处理;
涂覆感光胶:将所述感光胶均匀涂布在所述膜片后,干燥所述感光胶。
9.如权利要求8所述的菲林的制作方法,其特征在于:所述原料中,所述感光剂的质量百分含量为80~90%,光敏剂的质量百分含量为5~10%,热溶胶的质量百分含量为5~10%。
10.如权利要求8或9所述的菲林的制作方法,其特征在于:调制感光胶的具体工艺参数为:在5~25℃的温度下以40~60转/min的转速搅拌30~60min进行消泡处理。
11.如权利要求8所述的菲林的制作方法,其特征在于:干燥所述感光胶通过如下方式实现:将所述膜片置于40~50℃的温度下干燥3~5h。
12.一种应用权利要求1-7中任一项所述的菲林进行遮蔽的方法,包括如下步骤:
提供一基体;
提供一菲林,对所述菲林进行曝光显影处理,在所述菲林上形成硬化层和可溶解层,所述硬化层组合形成第一图案;之后,去除所述可溶解层;
将曝光显影后的所述菲林贴合定位在所述基体上,具体的方法如下:先加热软化所述菲林;再将该菲林贴合于基体上,使硬化层紧密贴合于基体后,剥去膜片。
13.如权利要求12所述的遮蔽方法:其特征在于:软化所述菲林通过如下方式实现:将所述菲林置于30~50℃的温度下烘烤10~20min。
CN2011104348689A 2011-12-22 2011-12-22 菲林及其制作方法,应用该菲林进行遮蔽的方法 Pending CN103176365A (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2011104348689A CN103176365A (zh) 2011-12-22 2011-12-22 菲林及其制作方法,应用该菲林进行遮蔽的方法
TW100149082A TW201325902A (zh) 2011-12-22 2011-12-28 菲林及其製作方法,應用該菲林進行遮蔽的方法
US13/539,617 US9017920B2 (en) 2011-12-22 2012-07-02 Film, method for manufacturing the film and masking method using the film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2011104348689A CN103176365A (zh) 2011-12-22 2011-12-22 菲林及其制作方法,应用该菲林进行遮蔽的方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN103176365A true CN103176365A (zh) 2013-06-26

Family

ID=48636329

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2011104348689A Pending CN103176365A (zh) 2011-12-22 2011-12-22 菲林及其制作方法,应用该菲林进行遮蔽的方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9017920B2 (zh)
CN (1) CN103176365A (zh)
TW (1) TW201325902A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105492163A (zh) * 2013-07-30 2016-04-13 百德福钢带有限公司 用于抛光金属带的装置和方法
CN106079861A (zh) * 2016-08-22 2016-11-09 昆山良品丝印器材有限公司 晶体硅印刷遮边网版及其对位结构
CN106191958A (zh) * 2016-08-10 2016-12-07 中山市奥博精密科技有限公司 一种水转写氧化的方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020069777A1 (en) * 2000-05-10 2002-06-13 Erminio Rossini S.P.A. Printing sleeves and cylinders applied with a photopolymer composition
CN201036848Y (zh) * 2007-01-29 2008-03-19 傅叔贤 一种砂刻菲林
CN101281366A (zh) * 2007-04-06 2008-10-08 村上精密制版(昆山)有限公司 一种不易变色的感光性树脂组合物及其用途
CN101462426A (zh) * 2008-11-27 2009-06-24 天津市中环高科技有限公司 带有3-d图案的片材印刷工艺
CN201302650Y (zh) * 2008-12-05 2009-09-02 番禺南沙殷田化工有限公司 印刷电路板用水菲林
CN201479454U (zh) * 2009-04-16 2010-05-19 惠州国展电子有限公司 在元件面附有绝缘胶膜的金属覆盖膜的线路板
CN101833241A (zh) * 2009-03-09 2010-09-15 村上精密制版(昆山)有限公司 一种感光性树脂组合物

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3053785A (en) * 1958-02-18 1962-09-11 Rosenbloom Devorah Aqueous alkaline solution comprising vinyl acetate copolymer, a chromate and water-soluble volatile base
GB1146618A (en) * 1965-10-11 1969-03-26 Harry Frank Gipe Method for preparing photo-lithographic plates
US3779758A (en) * 1969-03-25 1973-12-18 Photocircuits Corp Photosensitive process for producing printed circuits employing electroless deposition
US3930963A (en) * 1971-07-29 1976-01-06 Photocircuits Division Of Kollmorgen Corporation Method for the production of radiant energy imaged printed circuit boards
JPS4833905A (zh) * 1971-09-02 1973-05-15
JPS5055334A (zh) * 1973-09-12 1975-05-15
US4273833A (en) * 1975-09-19 1981-06-16 United States Trading International, Inc. Anti-fouling overcoating composition and use thereof
JPS5479032A (en) * 1977-12-06 1979-06-23 Fuji Photo Film Co Ltd Image formation emthod
JPS5986045A (ja) * 1982-11-05 1984-05-18 Nippon Soda Co Ltd 永久レジスト用光硬化性樹脂組成物
US4564580A (en) * 1983-06-30 1986-01-14 Kogyo Gijutsuin Photosensitive resin composition
JPH01128064A (ja) * 1987-11-12 1989-05-19 Chisso Corp 光硬化性樹脂組成物
US5270420A (en) * 1988-07-29 1993-12-14 Idemitsu Kosan Company Limited Stretched molding
JPH02293849A (ja) * 1989-05-09 1990-12-05 Mitsubishi Paper Mills Ltd カラー画像記録材料
JP3021907B2 (ja) * 1992-01-30 2000-03-15 凸版印刷株式会社 カラーフィルターパターンの形成方法
US5710234A (en) * 1993-07-20 1998-01-20 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Ortho spiroesters and curable and cured resin compositions of same
JPH09208611A (ja) * 1996-02-06 1997-08-12 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 螢光体分散感放射線性組成物
JP3104857B2 (ja) * 1996-09-24 2000-10-30 日本製紙株式会社 バーニッシュ処理フィルム及びそれを使用するプレプレスカラープルーフの表面光沢度調整方法
JP3870385B2 (ja) * 1997-10-20 2007-01-17 冨士薬品工業株式会社 水溶性フォトレジスト組成物
DE10149148B4 (de) * 2000-10-11 2006-06-14 Chemetall Gmbh Verfahren zur Beschichtung von metallischen Oberflächen mit einer wässerigen, Polymere enthaltenden Zusammensetzung, die wässerige Zusammensetzung und Verwendung der beschichteten Substrate
US6784275B2 (en) * 2001-06-28 2004-08-31 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Active energy ray-curable polyimide resin composition
CN102290334B (zh) * 2005-07-05 2015-03-11 日立化成株式会社 半导体装置的制造方法
KR101249097B1 (ko) * 2006-05-04 2013-03-29 삼성전자주식회사 유기절연막 조성물, 유기절연막의 형성방법 및 이에 의해형성된 유기절연막을 함유하는 유기박막 트랜지스터
JP5458538B2 (ja) * 2007-12-12 2014-04-02 日立化成株式会社 半導体装置及びその製造方法
KR101512844B1 (ko) * 2008-02-01 2015-04-21 삼성전자주식회사 항산화막용 조성물, 이를 이용한 항산화막 형성방법 및이로부터 제조된 전자부품용 기재
WO2011140469A1 (en) * 2010-05-06 2011-11-10 Zakaryae Fathi Adhesive bonding composition and method of use
JP2012033637A (ja) * 2010-07-29 2012-02-16 Nitto Denko Corp ダイシングテープ一体型半導体裏面用フィルム及び半導体装置の製造方法
JP2012125991A (ja) * 2010-12-15 2012-07-05 Nitto Denko Corp 積層体
KR20130057072A (ko) * 2011-11-23 2013-05-31 한국전자통신연구원 유기 박막층, 유기 박막층의 형성 방법 및 유기 박막 트랜지스터

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020069777A1 (en) * 2000-05-10 2002-06-13 Erminio Rossini S.P.A. Printing sleeves and cylinders applied with a photopolymer composition
CN201036848Y (zh) * 2007-01-29 2008-03-19 傅叔贤 一种砂刻菲林
CN101281366A (zh) * 2007-04-06 2008-10-08 村上精密制版(昆山)有限公司 一种不易变色的感光性树脂组合物及其用途
CN101462426A (zh) * 2008-11-27 2009-06-24 天津市中环高科技有限公司 带有3-d图案的片材印刷工艺
CN201302650Y (zh) * 2008-12-05 2009-09-02 番禺南沙殷田化工有限公司 印刷电路板用水菲林
CN101833241A (zh) * 2009-03-09 2010-09-15 村上精密制版(昆山)有限公司 一种感光性树脂组合物
CN201479454U (zh) * 2009-04-16 2010-05-19 惠州国展电子有限公司 在元件面附有绝缘胶膜的金属覆盖膜的线路板

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105492163A (zh) * 2013-07-30 2016-04-13 百德福钢带有限公司 用于抛光金属带的装置和方法
CN106191958A (zh) * 2016-08-10 2016-12-07 中山市奥博精密科技有限公司 一种水转写氧化的方法
CN106079861A (zh) * 2016-08-22 2016-11-09 昆山良品丝印器材有限公司 晶体硅印刷遮边网版及其对位结构

Also Published As

Publication number Publication date
US9017920B2 (en) 2015-04-28
TW201325902A (zh) 2013-07-01
US20130160939A1 (en) 2013-06-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109605970B (zh) 立体logo制备方法
CN102934028B (zh) 感光性树脂组合物及显示器装置
CN103176365A (zh) 菲林及其制作方法,应用该菲林进行遮蔽的方法
CN105070412B (zh) 一种干法转移银纳米线透明电极的方法
CN108107205B (zh) 高通量快速筛选阳性杂交瘤细胞的方法及***
CN102556950A (zh) 一种基于三层结构的可调谐人工电磁材料及其制作方法
CN103118449B (zh) 一种利用防焊干膜制作pcb板的方法及pcb板
KR101295251B1 (ko) 투명 디스플레이부 이미지 멀티 증착 방법
CN101881927A (zh) 一种制备倒梯形光刻胶截面的方法
CN106698970B (zh) 制备带光遮盖边框的玻璃盖板的方法、产品和应用
TWI225974B (en) Process for forming a pattern
CN102799066B (zh) 一种在二氧化钛有机无机光敏复合薄膜上制备凹透镜阵列结构的方法
JP2012227318A5 (zh)
CN103397329A (zh) 一种不锈钢点阵摩擦板的生产工艺
CN202362559U (zh) 一种液晶显示装置
CN106707688A (zh) 一种曝光显影工艺
CN102842656A (zh) 一种大功率白光led荧光粉涂覆方法
CN109454777A (zh) 多通道3d纳米纹理和立体logo模具的制备方法
CN102645838A (zh) 掩膜及其制造方法
CN105632892A (zh) Ito图案的制备方法、基板的制备方法及基板和终端
JP2806928B2 (ja) 感光性樹脂層の形成法
CN207617243U (zh) 一种tac基材的低反射率无彩虹纹硬化保护膜
CN109343259B (zh) 一种液晶透镜及其制备方法
CN105585918A (zh) 一种复合型光学预涂膜的制备方法
CN104536196B (zh) 一种彩膜基板的制备方法、彩膜基板和显示面板

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20130626