CN102899610A - 镀膜件及其制造方法 - Google Patents

镀膜件及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102899610A
CN102899610A CN2011102154354A CN201110215435A CN102899610A CN 102899610 A CN102899610 A CN 102899610A CN 2011102154354 A CN2011102154354 A CN 2011102154354A CN 201110215435 A CN201110215435 A CN 201110215435A CN 102899610 A CN102899610 A CN 102899610A
Authority
CN
China
Prior art keywords
rete
film
target
coated part
aluminium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN2011102154354A
Other languages
English (en)
Inventor
陈文荣
陈正士
王莹莹
胡智杰
李聪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Original Assignee
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd, Hon Hai Precision Industry Co Ltd filed Critical Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Priority to CN2011102154354A priority Critical patent/CN102899610A/zh
Priority to TW100127443A priority patent/TW201305357A/zh
Priority to US13/238,176 priority patent/US8822019B2/en
Publication of CN102899610A publication Critical patent/CN102899610A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/321—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer with at least one metal alloy layer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/322—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/345—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
    • Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
    • Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264—Up to 3 mils
    • Y10T428/265—1 mil or less

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明提供一种镀膜件，包括基体、依次形成于基体表面的白色的第一膜层、无色透明的第二膜层及无色透明且具有抗指纹效果的第三膜层；该第一膜层为一铝、铝合金、锌或锌合金膜层，该第二膜层主要由M、O及N三种元素组成，其中M为Al或Zn，该第三膜层为氧化铝层或二氧化硅层。该镀膜件呈现出如骨瓷般的外观的同时还具有抗指纹效果。本发明还提供了所述镀膜件的制造方法。

Description

镀膜件及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种镀膜件及其制造方法，尤其涉及一种具有骨瓷质感的镀膜件及其制造方法。
背景技术
现有技术，通常采用喷涂方式于电子产品（如手机、PDA等）的壳体表面形成白色的装饰性膜层，以使壳体呈现出如陶瓷般的白色外观。然而，由于喷涂技术本身的缺陷，喷涂形成的装饰性膜层难以具有高透光性及高光泽性，使上述壳体无法呈现出如骨瓷般的洁白、细腻、通透、清洁等视觉或外观效果。
随着3C电子产品的使用越来越频繁，消费者对产品的外观也有了越来越高的要求。除了要求产品具有如骨瓷般外观之外，还希望产品具有抗指纹效果，如此在使用电子产品的过程中不因难以去除的指纹痕迹而影响其骨瓷般的外观。为了不影响产品的骨瓷般外观，用以实现抗指纹效果的抗指纹层需具有高透光性和高光泽度。
然而，现有的通过化学气相沉积、喷涂及PVD镀膜等技术形成的抗指纹层均难以达到上述要求。如，化学气相沉积、喷涂等方法获得的抗指纹层呈雾状而难以呈现出透明的效果；通过PVD镀膜技术形成的复合多层抗指纹层易于产生薄膜干涉，如此亦难以呈现透明的效果。
发明内容
鉴于此，本发明提供一种具有抗指纹效果且呈现出骨瓷质感的镀膜件。
另外，本发明还提供一种上述镀膜件的制造方法。
一种镀膜件，包括基体、依次形成于基体表面的白色的第一膜层、无色透明的第二膜层及无色透明且具有抗指纹效果的第三膜层；该第一膜层为一铝、铝合金、锌或锌合金膜层，该第二膜层主要由M、O及N三种元素组成，其中M为Al或Zn，该第三膜层为氧化铝层或二氧化硅层。
一种镀膜件的制造方法，其包括如下步骤：
提供基体；
对所述基体的表面进行精抛处理；
采用真空镀膜法，以铝、铝合金、锌及锌合金中的一种为靶材，在该基体上形成白色的第一膜层，该第一膜层为一铝、铝合金、锌及锌合金膜层；
采用真空镀膜法，以铝靶、铝合金靶、硅靶及硅合金靶中的一种为靶材，以氧气及氮气为反应气体，在该第一膜层上形成无色透明的第二膜层，该第二膜层主要由M、O及N三种元素组成，其中M为Al或Zn；
采用真空镀膜法，以氧化铝或二氧化硅为蒸发材料，以氧气为补偿气体，在该第二膜层上形成无色透明的、具有抗指纹性能的第三膜层，该第三膜层为氧化铝层或二氧化硅层。
所述第一膜层呈白色，溅射形成于该第一膜层表面的第二膜层呈无色透明状，蒸镀形成于该第二膜层表面的第三膜层不仅呈无色透明状还具有抗指纹性能，如此，所述第一膜层、第二膜层及第三膜层结合使所述镀膜件呈现出如骨瓷般的外观的同时还具有抗指纹效果。
附图说明
图1为本发明一较佳实施例镀膜件的剖视图。
图2为本发明一较佳实施例镀膜件的制造方法中所用真空镀膜机的示意图。
图3为本发明一较佳实施例镀膜件的制造方法中所用真空蒸镀机的示意图。
图4为本发明一较佳实施例镀膜件的第三膜层表面扫描电镜图。
主要元件符号说明
镀膜件 10
基体 11
第一膜层 13
第二膜层 15
第三膜层 17
真空镀膜机 100
镀膜室 20
第一真空泵 30
轨迹 21
第一靶材 22
第二靶材 23
第一气源通道 24
真空蒸镀机 200
蒸镀腔 210
蒸发源 211
支承架 213
第二气源通道 215
蒸发材料 217
第二真空泵 230
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请参阅图1，本发明一较佳实施例的镀膜件10包括基体11、依次形成于基体11表面的第一膜层13、第二膜层15及第三膜层17。该镀膜件10可以为电子装置外壳，也可以为钟表外壳、金属卫浴件及建筑用件。
基体11的材质为金属或非金属，其中金属可为不锈钢、铝、铝合金、镁及镁合金中的一种，非金属可为塑料。
所述第一膜层13可为一铝、铝合金、锌或锌合金膜层。当第一膜层13为铝合金或锌合金膜层时，其中铝或锌的质量百分含量为80%~90%。该第一膜层13的色度区域于CIE LAB表色***的L*坐标为85至91，a*坐标为-0.5至0.5，b*坐标为-0.5至0.5，呈白色，为镀膜件10提供陶瓷般的外观颜色。第一膜层13可通过磁控溅射、真空蒸镀等真空镀膜的方式形成。所述第一膜层13的厚度为0.4μm~1μm。
所述第二膜层15可通过磁控溅射、真空蒸镀及电弧离子镀等真空镀膜的方式形成。该第二膜层15由M、O及N三种元素组成，其中M为Al或Si。该第二膜层15中M、O及N元素的原子个数比大致为0.9~1.1：0.5~1：0.5~1，较佳为1：1：1。第二膜层15为无色透明层，具有较高的光泽度，其形成在第一膜层13上，为镀膜件10提供仿釉的外观效果。第二膜层15的厚度为50nm~200nm。
所述第一膜层13与第二膜层15的结合使镀膜件10呈现如骨瓷般质感的外观。
所述第三膜层17通过真空蒸镀的方式形成。该第三膜层17使所述镀膜件10具有抗指纹效果。该第三膜层17为二氧化硅层或氧化铝层。请参阅图4，该第三膜层17主要由平均粒径为10~30nm的纳米颗粒组成，质地均匀致密。该第三膜层17的粗糙度Ra为20~50nm。该第三膜层17的厚度为0.5~1.5μm。该第三膜层17为无色透明层，因此，该第三膜层17对镀膜件10的透光性几乎没有影响。
从该第三膜层17一侧测试镀膜件10表面的60°角光泽度为100~150；色度区域于CIE LAB表色***的L*坐标为85至91，a*坐标为-0.5至0.5，b*坐标为-0.5至0.5，与由第一膜层13所测得的色度值一致。
本发明一较佳实施方式的镀膜件10的制造方法包括以下步骤：
提供基体11，该基体11的材质为金属或非金属，其中金属可为不锈钢、铝、铝合金及镁合金中的一种，非金属可为塑料。
提供一精抛机（图未示），对基体11的表面进行精抛处理，用以提高基体11的光泽度，相应提高后续形成于该基体11表面的第一膜层13、第二膜层15及第三膜层17的光泽度，从而提供给所述镀膜件10高光泽的外观。所述精抛机包括一布轮，将含有氧化铝粉末的悬浮状水溶液涂覆在该布轮上，对所述基体11的表面进行精抛，精抛的时间为10~15min。
将经上述精抛处理后的基体11进行清洁处理。该清洁处理包括用丙酮溶液对基体11进行超声波清洗等步骤。
对经上述处理后的基体11的表面进行氩气等离子体清洗，以进一步去除基体11表面的油污，以及改善基体11表面与后续镀层的结合力。结合参阅图2，提供一真空镀膜机100，该真空镀膜机100包括一镀膜室20及连接于镀膜室20的一第一真空泵30，第一真空泵30用以对镀膜室20抽真空。该镀膜室20内设有转架(未图示)、相对设置的二第一靶材22及相对设置的二第二靶材23。转架带动基体11沿圆形的轨迹21公转，且基体11在沿轨迹21公转时亦自转。每一第一靶材22及每一第二靶材23的两端均设有第一气源通道24，气体经该第一气源通道24进入所述镀膜室20中。其中，所述第一靶材22为铝靶、铝合金靶、锌靶及锌合金靶中的一种，所述第一靶材22为铝合金靶或锌合金靶时，其中铝或锌的质量百分含量为80%~90%。所述第二靶材23为铝合金靶或硅合金靶时，其中铝或硅的质量百分含量为80%~90%。
该等离子体清洗过程如下：将基体11放入真空镀膜机100的镀膜室20内，将镀膜室20抽真空至8.0×10-3Pa；然后向镀膜室20内通入流量为100~400sccm(标准状态毫升/分钟)的氩气(纯度为99.999%)，并施加-200~-500V的偏压于基体11，对基体11表面进行氩气等离子体清洗，清洗时间为3~20分钟。
在基体11上溅射该第一膜层13。调节氩气流量为100~300sccm。调节偏压至-100~-300V，将基体11温度控制在20~200℃。开启第一靶材22，并设置所述第一靶材22的功率为7~13kW，对基体11溅射10~30分钟，以于基体11表面形成该第一膜层13。
在该第一膜层13上溅射第二膜层15。关闭第一靶材22，氩气流量维持在100~300sccm，同时向镀膜室20通入氧气和氮气。氧气流量为50~200sccm，氮气流量为80~300sccm。维持施加于基体11偏压为-100~-300V，基体11温度为20~200℃。开启第二靶材23，调节所述第二靶材23的功率为8~10kW，在该第一膜层13上沉积该第二膜层15。溅射该第二膜层15的时间为3~20分钟。从该第二膜层15表面的60°角测试其光泽度为150~200。
结合参阅图3，提供一真空蒸镀机200。所述真空蒸镀机200包括一蒸镀腔210及连接于蒸镀腔210的一第二真空泵230，该第二真空泵230用以对该蒸镀腔210抽真空。该蒸镀腔210内设置有一蒸发源211、一与该蒸发源211相对设置的支承架213、及一第二气源通道215。所述基体11固定在所述支承架213上。所述蒸发源211用以对放置于其内的蒸发材料217进行加热，使蒸发材料217熔化、蒸发或升华产生蒸气，进而对基体11进行镀膜。气体经该第二气源通道215进入所述蒸镀腔210中。其中，所述蒸发材料217为二氧化硅或氧化铝。
在该第二膜层15上蒸镀第三膜层17。将镀覆有第一膜层13及第二膜层15的基体11固定在所述支承架213上，将蒸镀腔210抽真空至6×10-3Pa~8×10-3Pa，加热该蒸镀腔210至温度为50~100℃；以氧气为补充气体用以补充镀膜过程中二氧化硅或氧化铝损失的氧元素，氧气的流量为10~30sccm，蒸镀电流为80~120mA，蒸镀速率为8~20kÅ /s。蒸镀该第三膜层17的时间为1~10min。
可以理解的，所述第一膜层13及第二膜层15还可通过真空蒸镀及电弧离子镀等真空镀膜的方式形成。
可以理解的，所述第三膜层17还可通过真空溅镀及电弧离子镀等真空镀膜的方式形成。
所述第一膜层13呈白色，溅射形成于该第一膜层13表面的第二膜层15呈无色透明状，蒸镀形成于该第二膜层15表面的第三膜层17不仅呈无色透明状还具有抗指纹性能，如此，所述第一膜层13、第二膜层15及第三膜层17结合使所述镀膜件10呈现出如骨瓷般的外观的同时还具有抗指纹效果。

Claims (15)

1.一种镀膜件，包括基体，其特征在于：该镀膜件还包括依次形成于基体表面的白色的第一膜层、无色透明的第二膜层及无色透明且具有抗指纹效果的第三膜层；该第一膜层为一铝、铝合金、锌或锌合金膜层，该第二膜层主要由M、O及N三种元素组成，其中M为Al或Zn，该第三膜层为氧化铝层或二氧化硅层。
2.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述铝合金或锌合金膜层中，铝或锌的质量百分含量为80%~90%。
3.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述第二膜层M、O及N元素的原子个数比为0.9~1.1：0.5~1：0.5~1。
4.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述第二膜层M、O及N元素的原子个数比为1：1：1。
5.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该第一膜层的色度区域于CIE LAB表色***的L*坐标为85至91，a*坐标为-0.5至0.5，b*坐标为-0.5至0.5。
6.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该第二膜层主要由平均粒径为10~30nm的纳米颗粒组成，第二膜层的粗糙度Ra为20~50nm。
7.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该镀膜件于第三膜层表面的60°角光泽度为100~150；色度区域于CIE LAB表色***的L*坐标为85至91，a*坐标为-0.5至0.5，b*坐标为-0.5至0.5。
8.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述第一膜层的厚度为0.4μm~1μm，第二膜层的厚度为50nm~200nm，第三膜层的厚度为0.5~1.5μm。
9.一种镀膜件的制造方法，其包括如下步骤：
提供基体；
对所述基体的表面进行精抛处理；
采用真空镀膜法，以铝、铝合金、锌及锌合金中的一种为靶材，在该基体上形成白色的第一膜层，该第一膜层为一铝、铝合金、锌及锌合金膜层；
采用真空镀膜法，以铝靶、铝合金靶、硅靶及硅合金靶中的一种为靶材，以氧气及氮气为反应气体，在该第一膜层上形成无色透明的第二膜层，该第二膜层主要由M、O及N三种元素组成，其中M为Al或Zn；
采用真空镀膜法，以氧化铝或二氧化硅为蒸发材料，以氧气为补偿气体，在该第二膜层上形成无色透明的、具有抗指纹性能的第三膜层，该第三膜层为氧化铝层或二氧化硅层。
10.如权利要求9所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：所述精抛处理的方法为：提供一精抛机，所述精抛机包括一布轮，将含有氧化铝粉末的悬浮状水溶液涂覆在该布轮上，对所述基体的表面进行精抛，精抛的时间为10~15min。
11.如权利要求9所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：用以形成所述第一膜层的靶材中，铝合金靶或锌合金靶中铝或锌的质量百分含量为80%~90%。
12.如权利要求9所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：用以形成所述第二膜层的靶材中，铝合金靶或硅合金靶中铝或硅的质量百分含量为80%~90%。
13.如权利要求9所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：形成所述第一膜层的方法为：采用磁控溅射镀膜法，设置铝靶、铝合金靶、硅靶或硅合金靶的功率为7~13kw，以氩气为工作气体，氩气的流量为100~300sccm，施加于基体的偏压为-100~-300V，镀膜温度为20~200℃，镀膜时间为10~30min。
14.如权利要求9所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：形成所述第二膜层的方法为：采用磁控溅射镀膜法，设置铝靶、铝合金靶、硅靶或硅合金靶的功率为8~10kW，氧气流量为50~200sccm，氮气流量为80~300sccm，以氩气为工作气体，氩气的流量为100~300sccm，施加于基体的偏压为-100~-300V，镀膜温度为20~200℃，镀膜时间为3~20min。
15.如权利要求9所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：形成所述第三膜层的的工艺参数为：氧气的流量为10~30sccm，蒸镀电流为80~120mA，蒸镀速率为8~20kÅ/s，温度为50~100℃，蒸镀时间为1~10min。
CN2011102154354A 2011-07-29 2011-07-29 镀膜件及其制造方法 Pending CN102899610A (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2011102154354A CN102899610A (zh) 2011-07-29 2011-07-29 镀膜件及其制造方法
TW100127443A TW201305357A (zh) 2011-07-29 2011-08-02 鍍膜件及其製造方法
US13/238,176 US8822019B2 (en) 2011-07-29 2011-09-21 Coated article and method for making same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2011102154354A CN102899610A (zh) 2011-07-29 2011-07-29 镀膜件及其制造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN102899610A true CN102899610A (zh) 2013-01-30

Family

ID=47572095

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2011102154354A Pending CN102899610A (zh) 2011-07-29 2011-07-29 镀膜件及其制造方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US8822019B2 (zh)
CN (1) CN102899610A (zh)
TW (1) TW201305357A (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103732023A (zh) * 2013-12-04 2014-04-16 任保林 一种携带式电子装置外壳
CN108893712A (zh) * 2018-07-06 2018-11-27 深圳市联合蓝海科技开发有限公司 表面带有镀层的贵金属制品及其制备方法
CN111682079A (zh) * 2020-06-01 2020-09-18 大连理工大学 一种中/远红外透明导电材料体系及其制备导电薄膜的方法
CN113549869A (zh) * 2021-07-21 2021-10-26 深圳市智创谷技术有限公司 一种具有残古纹效果的真空镀膜方法

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2992313B1 (fr) * 2012-06-21 2014-11-07 Eurokera Article vitroceramique et procede de fabrication
JP6604722B2 (ja) * 2013-01-18 2019-11-13 株式会社フジミインコーポレーテッド 金属酸化物含有膜付き物品
US20160324026A1 (en) * 2014-01-21 2016-11-03 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Device Casing Including Layered Metals
CH709669B1 (fr) * 2014-05-19 2019-07-15 Positive Coating Sa Procédé de déposition d'un revêtement protecteur et/ou décoratif sur un substrat, notamment sur un élément pour une pièce d'horlogerie.
TWI650553B (zh) * 2017-10-20 2019-02-11 行政院原子能委員會核能硏究所 氣體感測裝置及其製作方法
EP3896192A1 (fr) 2020-04-16 2021-10-20 Richemont International S.A. Composant horloger avec un système optique interférentiel amélioré comportant une couche à base de zinc et son procédé de fabrication
EP3896191A1 (fr) 2020-04-16 2021-10-20 Richemont International S.A. Composant horloger avec un système optique interférentiel amélioré comportant une couche à base de nickel
CN111996491A (zh) * 2020-09-10 2020-11-27 中国电子科技集团公司第三十八研究所 一种太阳吸收率可设计的热控涂层及制备方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4763601A (en) * 1987-09-02 1988-08-16 Nippon Steel Corporation Continuous composite coating apparatus for coating strip
US5079089A (en) * 1988-07-28 1992-01-07 Nippon Steel Corporation Multi ceramic layer-coated metal plate and process for manufacturing same
JPH02122064A (ja) * 1988-10-28 1990-05-09 Sumitomo Metal Ind Ltd 耐銹性に優れたステンレス鋼材及びその製法
JP2619838B2 (ja) * 1989-09-08 1997-06-11 新日本製鐵株式会社 セラミックスコーティング金属板
JPH0765185B2 (ja) * 1990-11-27 1995-07-12 株式会社神戸製鋼所 耐食性に優れた蒸着Ａｌ系めっき鋼材
FR2799005B1 (fr) * 1999-09-23 2003-01-17 Saint Gobain Vitrage Vitrage muni d'un empilement de couches minces agissant sur le rayonnement solaire
SE527386C2 (sv) * 2003-12-23 2006-02-21 Sandvik Intellectual Property Belagd rostfri stålbandsprodukt med dekorativt utseende
SE0402082L (sv) * 2004-08-25 2006-04-18 Sandvik Intellectual Property Metallprodukt, metod för att tillverka en metallprodukt och användning av denna
SE528890C2 (sv) * 2005-02-17 2007-03-06 Sandvik Intellectual Property Metallsubstrat, artikel och förfarande

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103732023A (zh) * 2013-12-04 2014-04-16 任保林 一种携带式电子装置外壳
CN108893712A (zh) * 2018-07-06 2018-11-27 深圳市联合蓝海科技开发有限公司 表面带有镀层的贵金属制品及其制备方法
CN111682079A (zh) * 2020-06-01 2020-09-18 大连理工大学 一种中/远红外透明导电材料体系及其制备导电薄膜的方法
CN111682079B (zh) * 2020-06-01 2021-12-14 大连理工大学 一种中/远红外透明导电材料体系及其制备导电薄膜的方法
CN113549869A (zh) * 2021-07-21 2021-10-26 深圳市智创谷技术有限公司 一种具有残古纹效果的真空镀膜方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20130029097A1 (en) 2013-01-31
US8822019B2 (en) 2014-09-02
TW201305357A (zh) 2013-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102899610A (zh) 镀膜件及其制造方法
US20120121856A1 (en) Coated article and method for making same
CN104032260B (zh) 壳体及其制作方法
CN103184410A (zh) 镀膜件及其制备方法
CN102896825A (zh) 镀膜件及其制造方法
CN102477531B (zh) 被覆件及其制造方法
CN105671513A (zh) 一种新型的真空彩色镀膜工艺
US20120315501A1 (en) Coated article and method for making same
US20120315468A1 (en) Coated article and method for making same
CN102337501A (zh) 真空镀膜件及其制备方法
CN102896842A (zh) 镀膜件及其制造方法
CN111908803A (zh) 一种超亲水、高耐磨膜层及其制备方法
TWI565814B (zh) 鍍膜件及其製備方法
US20120152793A1 (en) Device housing and method for making the same
CN102896826B (zh) 镀膜件
US9328409B2 (en) Coated article, method for making the same and electronic device using the same
US20120183805A1 (en) Coated article and method for making the same
CN104402244B (zh) 一种真空镀银膜玻璃及其制备工艺
US8518549B2 (en) Method for making coated article and coated article
US8455095B2 (en) Article and method for manufacturing same
CN102612281A (zh) 壳体及其制作方法
TWI477617B (zh) 塗層、具有該塗層的被覆件及該被覆件的製備方法
CN102732828A (zh) 镀膜件及其制作方法
CN103167766A (zh) 壳体及该壳体的制作方法
CN107460448A (zh) 一种基体表面的修饰涂层及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20130130