CN102896825A - 镀膜件及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种镀膜件，包括基体、形成于基体表面的第一膜层及无色透明的第二膜层；所述基体表面分布有若干第一凸起，所述第一膜层的表面对应所述基体形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，该第一膜层呈白色；该第二膜层主要由Al或Si、O及N三种元素构成。该镀膜件呈现出骨瓷质感的外观。本发明还提供了所述镀膜件的制造方法。

Description

镀膜件及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种镀膜件及其制造方法，尤其涉及一种具有骨瓷质感的镀膜件及其制造方法。
背景技术
现有技术，采用阳极氧化处理、喷砂等方式使电子产品（如手机、PDA等）的壳体呈现出具有凹凸感的外观，并通过喷涂、PVD镀膜等方式于所述壳体表面形成白色的装饰性膜层，以期使所述壳体呈现出凹凸感的外观同时还具有白色的高贵气质。然而，由于经上述处理后的壳体通常呈现出哑光的效果，导致所述壳体无法呈现出如骨瓷般的洁白、细腻、通透、清洁等高贵的视觉或外观效果。
发明内容
鉴于此，本发明提供一种具有骨瓷质感的镀膜件。
另外，本发明还提供一种上述镀膜件的制造方法。
一种镀膜件，包括基体、形成于基体表面的第一膜层及无色透明的第二膜层；所述基体表面分布有若干第一凸起，所述第一膜层的表面对应所述基体形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，该第一膜层呈白色；该第二膜层主要由Al或Si、O及N三种元素构成。
一种镀膜件的制造方法，其包括如下步骤：
提供基体；
于所述基体表面形成若干第一凸起；
于所述基体上形成一第一膜层，所述第一膜层的表面对应所述基体形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，该第一膜层呈白色；
采用真空镀膜法，以铝、铝合金、硅或硅合金为靶材，以氧气及氮气为反应气体，在该基体的表面形成一无色透明的第二膜层，该第二膜层主要由Al、O及N三种元素构成或Si、O及N三种元素构成；
对所述第二膜层的表面进行机械抛光处理。
由于所述第二膜层为无色透明状，使所述第一膜层表面的第二凸起如同形成于所述第二膜层上，如此使所述镀膜件呈现出凹凸感的外观。更重要的是，所述第一膜层呈现出白色，覆盖于该第一膜层上的该第二膜层具有较高的光泽度和透明度，该二膜层的结合使该镀膜件还呈现出骨瓷质感。
附图说明
图1是本发明一较佳实施例镀膜件的剖视图；
图2是本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。
主要元件符号说明
镀膜件 10
基体 11
第一凸起 111
第一膜层 13
第二凸起 131
第二膜层 15
镀膜机 100
镀膜室 21
靶材 23
轨迹 25
气源通道 27
真空泵 30
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请参阅图1，本发明一较佳实施例的镀膜件10包括基体11、依次形成于基体11上的第一膜层13及第二膜层15。该镀膜件10可以为电子装置外壳，也可以为钟表外壳、金属卫浴件及建筑用件。
所述基体11的材质为可为铝、铝合金、镁合金及不锈钢等金属。所述基体11表面分布有若干第一凸起111，所述第一凸起111可通过阳极氧化处理、喷砂、化学蚀刻及激光雕刻等方式形成。
所述第一膜层13为通过喷涂、真空镀膜等方式形成的装饰性膜层。所述第一膜层13的色度区域于CIE LAB表色***的L*坐标为85至91，a*坐标为-0.5至0.5，b*坐标为-0.5至0.5，呈陶瓷般的白色，为镀膜件10提供陶瓷的外观颜色。所述第一膜层13的表面对应所述基体11形成有第一凸起111的位置亦形成有若干第二凸起131。所述第二凸起131使所述镀膜件10呈现出凹凸感。
当该第一膜层13通过喷涂的方式形成时，用以形成所述第一膜层13的油漆可以为热固化漆、紫外光固化漆或其他的油漆，所述第一膜层13的厚度为3~8μm。当所述第一膜层13通过真空镀膜的方式形成时，其厚度为1~2μm。
所述第二膜层15主要由金属或非金属元素M、O及N三种元素构成，其中M可为铝（Al）或硅（Si）。当M为Al时，该第二膜层15中Al的质量百分含量为60~70%，O的质量百分含量为25~28%，N的质量百分含量为2~15%。当M为Si时，该第二膜层15中Si的质量百分含量为65~75%，O的质量百分含量为17~22%，N的质量百分含量为3~18%。该第二膜层15主要由平均粒径为10~18nm的纳米颗粒组成，质地均匀致密。该第二膜层15的粗糙度Ra为10~20nm。
所述第二膜层15呈无色透明的类玻璃状外观。该第二膜层15通过磁控溅射、真空蒸镀等真空镀膜的方式形成。所述第二膜层15的厚度可为2~4μm。
所述基体11、第一膜层13及第二膜层15结合可使所述镀膜件10呈现出具有凹凸感及骨瓷质感的外观。从该第二膜层15一侧测试镀膜件10表面的60°角光泽度为85~100；色度区域于CIE LAB表色***的L*坐标为85至91，a*坐标为-0.5至0.5，b*坐标为-0.5至0.5，呈现为白色。
本发明镀膜件10的制造方法包括以下步骤：
提供基体11，基体11的材质为可为铝、铝合金、镁合金及不锈钢等金属。
将基体11进行预处理。该预处理包括分别用去离子水和无水乙醇对基体11表面进行擦拭、以及用丙酮溶液对基体11进行超声波清洗等步骤。
通过阳极氧化处理、喷砂、化学蚀刻及激光雕刻等方式，在该基体11的表面形成若干第一凸起111。
采用喷涂的方式于经上述处理后的基体11上喷涂一第一膜层13。用以喷涂所述第一膜层13的油漆可以为热固化漆、紫外光固化漆或其他的油漆层。所述第一膜层13呈白色，其厚度为3~8μm。喷涂后，对所述第一膜层13在约150~200℃的温度下热固化30~45min。所述第一膜层13的表面在所述基体11形成有第一凸起111的部位亦形成有若干第二凸起131。
结合参阅图2，提供一真空镀膜机100，该真空镀膜机100包括一镀膜室21及连接于镀膜室21的一真空泵30，真空泵30用以对镀膜室21抽真空。该镀膜室21内设有转架(未图示)、相对设置的二靶材23。转架带动基体11沿圆形的轨迹25公转，且基体11在沿轨迹25公转时亦自转。每一靶材23的两端均设有气源通道27，气体经该气源通道27进入所述镀膜室21中。其中，所述靶材23为铝靶、铝合金靶、硅或者硅合金靶。所述靶材23为铝合金靶时，其中铝的质量百分含量为65~80%；所述靶材23为硅合金靶时，其中硅的质量百分含量为65~80%。
采用磁控溅射镀膜法，在所述第一膜层13上溅射一第二膜层15。溅镀该第二膜层15在所述真空镀膜机100中进行。开启靶材23，并设定靶材23的功率为8~12kw；以氧气及氮气为反应气体，调节氧气的流量为50~200sccm、氮气的流量为80~300sccm，以氩气为工作气体，调节氩气的流量为100~300sccm。溅镀时，对基体11施加-100~-300V的偏压，并加热所述镀膜室21至温度为20~200℃（即镀膜温度为20~200℃），镀膜时间为60~80min。该第二膜层15的厚度为2~4μm。
提供一机械抛光机（图未示），对所述第二膜层15的表面进行机械抛光处理，用以提高所述第二膜层15的光泽度和透明度，从而使所述镀膜件10呈现出高光泽的外观。所述抛光机包括一布轮，将含有氧化铝粉末的悬浮状水溶液涂覆在该布轮上，对所述基体11的第二膜层15的表面进行抛光，抛光的时间为10~15min。经过该抛光处理后，从该第二膜层15表面的60°角测试其光泽度为85~100。
可以理解的，所述第一膜层13还可通过真空镀膜的方式形成，通过真空镀膜方式形成的第一膜层13的厚度为1~2μm。
可以理解的，所述第二膜层15还可通过真空蒸镀及电弧离子镀等真空镀膜的方式形成。
由于所述第二膜层15为无色透明状，使所述第一膜层13表面的第二凸起131如同形成于所述第二膜层15上，如此使所述镀膜件10呈现出凹凸感的外观。更重要的是，所述第一膜层13呈现出白色，覆盖于该第一膜层13上的该第二膜层15具有较高的光泽度和透明度，该二膜层的结合使该镀膜件10呈现出骨瓷质感，克服了阳极氧化处理、喷砂、化学蚀刻或激光雕刻处理的单一外观的缺陷。

Claims (16)

1.一种镀膜件，包括基体，其特征在于：该镀膜件还包括依次形成于基体表面的第一膜层及无色透明的第二膜层；所述基体表面分布有若干第一凸起，所述第一膜层的表面对应所述基体形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，该第一膜层呈白色；该第二膜层主要由Al或Si、O及N三种元素构成。
2.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述第一膜层通过喷涂或真空镀膜的方式形成。
3.如权利要求1或2所述的镀膜件，其特征在于：所述第一膜层的色度区域于CIE LAB表色***的L*坐标为85至91，a*坐标为-0.5至0.5，b*坐标为-0.5至0.5。
4.如权利要求1或2所述的镀膜件，其特征在于：通过喷涂方式形成的所述第一膜层的厚度为3~8μm。
5.如权利要求1或2所述的镀膜件，其特征在于：通过真空镀膜方式形成的所述第一膜层的厚度为1~2μm。
6.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述第二膜层通过真空镀膜的方式形成。
7.如权利要求1或6所述的镀膜件，其特征在于：当所述第二膜层主要由Al、O及N三种元素构成时，其中Al的质量百分含量为60~70%，O的质量百分含量为25~28%，N的质量百分含量为2~15%；当所述第二膜层主要由Si、O及N三种元素构成时，其中Si的质量百分含量为65~75%，O的质量百分含量为17~22%，N的质量百分含量为3~18%。
8.如权利要求1或6所述的镀膜件，其特征在于：所述第二膜层主要由平均粒径为10~18nm的纳米颗粒组成，该第二膜层的粗糙度Ra为10~20nm。
9.如权利要求1或6所述的镀膜件，其特征在于：所述镀膜件于该第二膜层表面的60°角测得的光泽度为85~100，色度区域于CIE LAB表色***的L*坐标为85至91，a*坐标为-0.5至0.5，b*坐标为-0.5至0.5。
10.如权利要求1或6所述的镀膜件，其特征在于：所述第二膜层的厚度为2~4μm。
11.一种镀膜件的制造方法，其包括如下步骤：
提供基体；
于所述基体表面形成若干第一凸起；
于所述基体上形成一第一膜层，所述第一膜层的表面对应所述基体形成有第一凸起的部位亦形成有若干第二凸起，该第一膜层呈白色；
采用真空镀膜法，以铝、铝合金、硅或硅合金为靶材，以氧气及氮气为反应气体，在该基体的表面形成一无色透明的第二膜层，该第二膜层主要由Al或Si、O及N三种元素构成；
对所述第二膜层的表面进行机械抛光处理。
12.如权利要求11所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：所述第一凸起通过阳极氧化、喷砂、化学蚀刻或激光雕刻的方式形成于所述基体表面。
13.如权利要求11所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：所述第一膜层通过喷涂或真空镀膜的方式形成。
14.如权利要求11所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：用以形成所述第二膜层的靶材中，铝合金靶材中铝的质量百分含量为65~80%，硅合金靶材中硅的质量百分含量为65~80%。
15.如权利要求11或14所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：形成所述第二膜层的工艺参数为：采用磁控溅射镀膜法，设置铝靶、铝合金靶、硅靶或硅合金靶的功率为8~12kw，氧气的流量为50~200sccm、氮气的流量为80~300sccm，以氩气为工作气体，氩气的流量为100~300sccm，施加于基体的偏压为-100~-300V，镀膜温度为20~200℃，镀膜时间为60~80min。
16.如权利要求11所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：所述机械抛光处理的工艺为：采用一机械抛光机，所述抛光机包括一布轮，将含有氧化铝粉末的悬浮状水溶液涂覆在该布轮上，对所述第二膜层的表面进行抛光，抛光的时间为10~15min。
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