CN102810602A - 待清洗硅片的保存方法 - Google Patents

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石坚
孙志刚
刘茂华
韩子强
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Abstract

本发明公开了一种待清洗硅片的保存方法，涉及硅片清洗技术，硅片切片后立即离开切片机及砂浆液，并且立即放入已经准备好的乙醇溶液中；所述乙醇溶液的体积浓度或重量浓度为≥10%。进一步：所述乙醇溶液温度应保持在20至70摄氏度。本发明的有益效果是：此方法可以轻松的使硅片保持切片结束时的状态，使待清洗硅片易于保存，并且不会再硅片表面引入其他杂质，不会使硅片由于长时间得不到清洗而造成表面脏污难于去除，提高了清洗的效率及效果。

Description

待清洗硅片的保存方法
技术领域
本发明涉及太阳能级硅片的制造技术领域，特别涉及硅片清洗技术。
背景技术
太阳能级硅片切片后会有很多待清洗硅片，目前待清洗硅片的处理方法为：放置于砂浆液中或者暴露于空气中。
而由于清洗设备不稳定或者断电等原因，会使得硅片长时间浸泡在砂浆液中或者暴露在空气中，造成硅片表面脏污氧化或者沉淀，造成在后段清洗中很难或者无法清除，因此，研究一种有效的解决方法，是很有必要的。本方法可以防止难于清洗脏污的形成，保证硅片的清洗效率及效果。
发明内容
本发明的目的是提供一种待清洗硅片的保存方法，此方法可以轻松的使硅片保持切片结束时的状态，使待清洗硅片易于保存，并且不会再硅片表面引入其他杂质，不会使硅片由于长时间得不到清洗而造成表面脏污难于去除，提高了清洗的效率及效果。
为实现上述发明目的，本发明采用如下技术方案：
待清洗硅片的保存方法，其特征在于：硅片切片后立即离开切片机及砂浆液，并且立即放入已经准备好的乙醇溶液中；所述乙醇溶液的体积浓度或重量浓度为≥10%。
其中：
所述硅片切片后离开切片机及砂浆液，并放入乙醇溶液中的时间，控制在30分钟内，进一步控制在15分钟以内，最佳控制在5分钟以内。
所述乙醇溶液温度可选择保持在20－70摄氏度，进一步是30－60摄氏度；也可以是室温状态。
本发明的有益效果是：此方法可以轻松的使硅片保持切片结束时的状态，使待清洗硅片易于保存，并且不会再硅片表面引入其他杂质，不会使硅片由于长时间得不到清洗而造成表面脏污难于去除，提高了清洗的效率及效果。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，并使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合实施例对本发明作进一步详细的说明。
实施例：
首先硅片在切片后应该立即将硅片从切片机及砂浆液中取出，取出后不可长时间暴露于空气中，即从切片后计时起，要在30分钟内放入配制好的乙醇溶液中，配制时，用乙醇的含量为97%，加纯水水配制成乙醇溶液，其体积浓度（或重量浓度）大于或等于10%以上，并且保证溶液温度在20至70摄氏度，将硅片放入溶液中保存。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (5)

1.待清洗硅片的保存方法，其特征在于：硅片切片后立即离开切片机及砂浆液，并且立即放入已经准备好的乙醇溶液中；所述乙醇溶液的体积浓度或重量浓度为≥10%。
2.根据权利要求1所述的待清洗硅片的保存方法，其特征在于：所述硅片切片后离开切片机及砂浆液，并放入乙醇溶液中的时间，控制在30分钟内。
3.根据权利要求1或2所述的待清洗硅片的保存方法，其特征在于：所述乙醇溶液的温度为20－70摄氏度。
4.根据权利要求1或2所述的待清洗硅片的保存方法，其特征在于：所述乙醇溶液的温度为30－60摄氏度。
5.根据权利要求1或2所述的待清洗硅片的保存方法，其特征在于：所述乙醇溶液的温度为室温状态。
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C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C05 Deemed withdrawal (patent law before 1993)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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