CN102645854A - 显影液喷淋***及方法、基板产品 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显影液喷淋***及方法、基板产品，显影液喷淋***包括喷头、驱动装置以及位于所述喷头下方的固定机台，其中：所述固定机台，用于承载基板；所述驱动装置，用于驱动所述喷头在所述基板的起始端和对端之间匀速往返预设次数；所述喷头，用于在运动过程中，向所述基板喷淋显影液。采用本发明技术方案，解决了现有技术存在的喷淋到基板上的显影液不均匀，造成显影不均匀的问题。

Description

显影液喷淋***及方法、基板产品

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种显影液喷淋***及方法、基板产品。

背景技术

目前，在平板显示(FPD，Flat Panel Display)技术中，由于液晶显示器(LCD，Liquid Crystal Display)具备轻薄短小、大幅节省摆放空间等优点，已经逐渐取代阴极射线管显示器(CRT，Cathode Ray Tube)，成为主流的显示器。在各种类型的LCD中，薄膜场效应晶体管液晶显示器(TFT-LCD，Thin FilmTransistor-Liquid Crystal Display)是有源矩阵类型液晶显示器的一种，TFT-LCD性能优良，适合大规模的自动化生产，且原材料成本低廉，因此在LCD中占据重要地位。

TFT-LCD在生产中大体分为阵列、成盒、模块三大工序，而阵列工序又大体分为成膜、光刻、刻蚀三大工艺。其中光刻工艺是指在基板上涂布光刻胶，再进行曝光和显影，光刻工艺可以说是整个TFT-LCD制造工艺中相当重要的工艺步骤。

光刻工艺分为涂布光刻胶、曝光和显影三个步骤。其中，在曝光步骤中，涂覆于基板上的光刻胶会发生化学反应，因此需要进行显影，在进行显影时，首先在曝光后的基板上喷涂显影液，显影液可以与曝光后的光刻胶发生化学反应，以去除在曝光过程中发生了化学反应的光刻胶，而未被曝光的光刻胶则留在基板上，之后洗净基板上被显影的光刻胶和残留的显影液。显影之后的基板上覆盖有光刻胶，由于在刻蚀的过程中有光刻胶的保护，因此覆盖有光刻胶的相应位置的金属或非金属膜不会受到伤害，从而最后达到在基板上形成TFT电路的目的。

现有的显影方法包含浸泡显影方法和喷淋显影方法两种，随着LCD技术的发展以及对LCD质量要求的提高，喷淋显影方法越来越普遍。喷淋显影方法包含喷淋显影液步骤和水洗步骤，基板在喷淋显影液步骤中被喷淋上显影液，然后在水洗步骤中进行水洗及干燥，洗净基板上被显影的光刻胶和残留的显影液，从而完成基板的显影过程。

如图1所示，为现有技术中的显影液喷淋***结构示意图，包含用于喷淋显影液的喷头11、传送带12和驱动装置13，喷头11位置固定，传送带12位于喷头11下方，传送带12承载基板14，驱动装置13驱动传送带12以一定速度进行匀速运动，传送带12带动基板14经过喷头11的喷淋区域，喷头11将显影液喷淋于基板14上，其中，基板14的起始端141先进入喷头11的喷淋区域，当对端142离开喷头11的喷淋区域之后，就完成了对基板14的显影液喷淋过程。

由上可见，现有技术中在向基板喷淋显影液时，基板要随着传送带进行匀速运动，那么最先进入喷淋区域的起始端上的显影液会随着基板的运动而向对端流动，导致起始端上的显影液少于对端上的显影液，也就是说喷淋到基板上的显影液不均匀，这就会造成显影不均匀，最终导致LCD面板显示不均匀，在对大尺寸的基板进行显影时，这种现象更为严重。

发明内容

本发明实施例提供一种显影液喷淋***及方法、基板产品，用以解决现有技术存在的喷淋到基板上的显影液不均匀，造成显影不均匀的问题。

本发明实施例技术方案如下：

一种显影液喷淋***，包括喷头、驱动装置以及位于所述喷头下方的固定机台，其中：所述固定机台，用于承载基板；所述驱动装置，用于驱动所述喷头在所述基板的起始端和对端之间匀速往返预设次数；所述喷头，用于在运动过程中，向所述基板喷淋显影液。

一种显影液喷淋方法，包括：驱动装置驱动喷头在基板的起始端和对端之间匀速往返预设次数，其中所述基板置于所述喷头下方的固定机台上；所述喷头在运动过程中，向下方的基板喷淋显影液。

一种显影液喷淋***，包括第一喷头和第二喷头、位于第一喷头和第二喷头下方的传送装置、驱动装置以及旋转装置，其中：所述传送装置，用于承载基板；所述驱动装置，用于驱动所述传送装置匀速运动，带动基板沿起始端到对端的方向经过第一喷头的喷淋区域；在所述基板到达第一喷头和第二喷头之间的设定位置处时，控制所述传送装置停止运动；在旋转装置旋转所述基板后，继续驱动所述传送装置匀速运动，带动基板沿对端到起始端的方向经过第二喷头的喷淋区域；所述旋转装置，用于在所述传送装置停止运动后，旋转所述基板；第一喷头和第二喷头，用于向经过自身的喷淋区域的基板喷淋显影液。

一种显影液喷淋方法，包括：驱动装置驱动位于第一喷头和第二喷头下方的传送装置匀速运动；所述传送装置带动承载的基板沿起始端到对端的方向经过所述第一喷头的喷淋区域；第一喷头向经过自身的喷淋区域的基板喷淋显影液；在所述基板到达第一喷头和第二喷头之间的设定位置处时，所述驱动装置控制所述传送装置停止运动；旋转装置旋转所述基板；所述驱动装置继续驱动所述传送装置匀速运动；所述传送装置带动所述基板沿对端到起始端的方向经过所述第二喷头的喷淋区域；第二喷头向经过自身的喷淋区域的基板喷淋显影液。

本发明第一技术方案中，驱动装置驱动喷头在基板的起始端和对端之间匀速往返预设次数，其中基板置于喷头下方的固定机台上，喷头在运动过程中，向基板喷淋显影液，由上可见，本发明第一技术方案不是采用基板沿一个方向运动的方式进行显影液喷淋，而是保持基板在喷淋显影液时固定不动，喷头在驱动装置的驱动下进行往返运动，并在运动过程中向基板喷淋显影液，也就是说喷头沿基板的起始端到对端的方向进行一次显影液喷淋的操作后，沿基板的对端到起始端的方向再进行一次显影液喷淋操作，这就避免了起始端上的显影液少于对端上的显影液的问题，从而使得喷淋到基板上的显影液比较均匀，显影就比较均匀，进一步实现了LCD面板的均匀显示；

本发明第二技术方案中，驱动装置驱动位于第一喷头和第二喷头下方的传送装置匀速运动，传送装置带动承载的基板沿起始端到对端的方向经过第一喷头的喷淋区域，第一喷头向该基板喷淋显影液，在基板到达第一喷头和第二喷头之间的设定位置处时，驱动装置控制传送装置停止运动，旋转装置旋转基板，驱动装置继续驱动传送装置匀速运动，传送装置带动基板沿对端到起始端的方向经过第二喷头的喷淋区域，第二喷头向该基板喷淋显影液，由上可见，本发明第二技术方案不是采用基板沿一个方向运动的方式进行显影液喷淋，而是采用两个喷头喷淋显影液，驱动装置驱动传送装置匀速运动，从而带动位于传送装置上的基板依次经过第一喷头和第二喷头的喷淋区域，其中在基板离开第一喷头的喷淋区域之后，以及在到达第二喷头的喷淋区域之前，要旋转基板，基板沿对端到起始端的方向经过第二喷头的喷淋区域，也就是说先由第一喷头沿基板的起始端到对端的方向进行一次显影液喷淋的操作，然后再由第二喷头沿基板的对端到起始端的方向进行一次显影液喷淋操作，这就避免了起始端上的显影液少于对端上的显影液的问题，从而使得喷淋到基板上的显影液比较均匀，显影就比较均匀，进一步实现了LCD面板的均匀显示。

附图说明

图1为现有技术中，显影液喷淋***结构示意图；

图2为本发明实施例一中，显影液喷淋***结构示意图；

图3为本发明实施例一中，显影液喷淋方法流程示意图；

图4为本发明实施例一中，喷头从基板的起始端匀速运动到对端的示意图；

图5为本发明实施例一中，喷头从基板的对端匀速运动到起始端的示意图；

图6为本发明实施例二中，显影液喷淋***结构示意图；

图7为本发明实施例二中，显影液喷淋方法流程示意图。

具体实施方式

下面结合各个附图对本发明实施例技术方案的主要实现原理、具体实施方式及其对应能够达到的有益效果进行详细地阐述。

实施例一

如图2所示，为本发明实施例一提出的显影液喷淋***结构示意图，包括喷头21、驱动装置22以及位于所述喷头21下方的固定机台23，其中：

所述固定机台23，用于承载基板24，例如，基板24可以是玻璃基板；

所述驱动装置22，用于驱动所述喷头21在所述基板24的起始端241和对端242之间匀速往返预设次数；

所述喷头21，用于在运动过程中，向所述基板24喷淋显影液。

基板包含起始端和对端，本发明实施例一将先进入喷头21的喷淋区域的一端称为起始端，将另一端称为对端。

其中，喷头21的各针头可以但不限于为针状针头，喷头21可以呈条状喷淋显影液。喷头21与显影液供给***相连，显影液供给***中存储有一定量的显影液，用于向喷头21供给显影液。

本发明实施例一中，控制喷头21喷淋显影液的方式可以但不限于为下述：

由传感器检测是否有基板24被置于固定机台23上，若传感器感应到有基板24被置于固定机台23上，则向控制喷头21的控制装置发送启动喷淋信号，控制装置接收到上述启动喷淋信号后，控制喷头21开始向下方的基板24喷淋显影液，若传感器感应到置于固定机台23上的基板24被拿走，则向控制喷头21的控制装置发送停止喷淋信号，控制装置接收到上述停止喷淋信号后，控制喷头21停止向下方的基板24喷淋显影液。

喷头21的喷淋宽度不小于基板24的宽度，这样就能保证喷头21能够将显影液喷淋到基板24的各个位置。

本发明实施例一中，驱动装置22驱动喷头21以预设的运动速度在基板24的起始端241和对端242之间往返预设次数，上述预设次数至少为一次，喷头21往返一次的运动轨迹为：喷头21由基板24的起始端241匀速运动到对端242，再由对端242匀速运动到起始端241。

预先设定喷淋显影液的时间以及喷头21在起始端241和对端242之间的往返次数，然后再根据设定的时间和往返次数，确定喷头的运动速度，具体的，先根据设定的往返次数和基板24的长度，确定喷头21的运动距离，然后再根据确定出的运动距离和设定的时间，确定出喷头21的运动速度。

本发明实施例一中的显影液喷淋***还可以进一步包括传送装置和水系装置，传送装置可以但不限于为机器手。在基板24完成显影液喷淋后，传送装置将基板24传送到水洗装置，水洗装置对基板24进行水洗处理，其中，水洗装置对基板24依次进行循环水洗处理、超声水洗处理、直水洗处理以及风刀干燥处理。在水洗装置对基板24进行水洗处理后，就完成了基板24的显影处理。

此外，为了增大喷头21喷淋显影液时的冲击力，进一步提高喷淋到基板24上的显影液的均匀性，本发明实施例一提出，可以将显影液与氮气按照一定比例混合后由喷头21喷淋到基板24上。

与上述显影液喷淋***对应，本发明实施例一还提供一种显影液喷淋方法，如图3所示，其具体处理流程如下：

步骤31，驱动装置驱动喷头在基板的起始端和对端之间匀速往返预设次数，其中所述基板置于所述喷头下方的固定机台上；

喷头在基板的起始端和对端之间往返一次包含两个过程，从基板的起始端匀速运动到对端，再从基板的对端匀速运动到起始端，其中，如图4所示，为喷头从基板的起始端匀速运动到对端的示意图，如图5所示，为喷头从基板的对端匀速运动到起始端的示意图。

步骤32，所述喷头在运动过程中，向所述基板喷淋显影液。

所述显影液喷淋方法还包括：传送装置将完成显影液喷淋的基板传送到水洗装置，由水洗装置对所述基板进行水洗处理。

其中，水洗装置对所述基板进行水洗处理时，依次进行循环水洗处理、超声水洗处理、直水洗处理以及风刀干燥处理。

本发明实施例一中的基板可以但不限于为TFT基板或彩色滤光片(CF，Color Filter)基板。

本发明实施例一还提供一种基于上述显影液喷淋方法喷淋显影液得到的基板。

由上述处理过程可知，本发明实施例一技术方案中，驱动装置驱动喷头在基板的起始端和对端之间匀速往返预设次数，其中基板置于喷头下方的固定机台上，喷头在运动过程中，向基板喷淋显影液，由上可见，本发明第一技术方案不是采用基板沿一个方向运动的方式进行显影液喷淋，而是保持基板在喷淋显影液时固定不动，喷头在驱动装置的驱动下进行往返运动，并在运动过程中向基板喷淋显影液，也就是说喷头沿基板的起始端到对端的方向进行一次显影液喷淋的操作后，沿基板的对端到起始端的方向再进行一次显影液喷淋操作，这就避免了起始端上的显影液少于对端上的显影液的问题，从而使得喷淋到基板上的显影液比较均匀，显影就比较均匀，进一步实现了LCD面板的均匀显示。

实施例二

如图6所示，为本发明实施例二提出的显影液喷淋***结构示意图，包括第一喷头61和第二喷头62、位于第一喷头61和第二喷头62下方的传送装置63、驱动装置64以及旋转装置65，其中：

所述传送装置63，用于承载基板66，其中，传送装置63可以为传送带，也可以为传送滚轮组；

所述驱动装置64，用于驱动所述传送装置63以预设的运动速度进行匀速运动，带动基板66沿起始端661到对端662的方向经过第一喷头61的喷淋区域，其中，基板66包含起始端661和对端662，本发明实施例二将先进入第一喷头61的喷淋区域的一端称为起始端661，将另一端称为对端662；在所述基板66到达第一喷头61和第二喷头62之间的设定位置处时，控制所述传送装置63停止运动；在旋转装置65旋转所述基板66后，继续驱动所述传送装置63匀速运动，带动基板66沿对端662到起始端661的方向经过第二喷头62的喷淋区域；

所述旋转装置65，用于在所述传送装置63停止运动后，旋转所述基板66，其中可以但不限于将基板66旋转180度；

第一喷头61和第二喷头62，用于向经过自身的喷淋区域的基板66喷淋显影液。

其中，第一喷头61和第二喷头62的各针头可以但不限于为针状针头，第一喷头61和第二喷头62可以呈条状喷淋显影液。第一喷头61和第二喷头62分别与显影液供给***相连，显影液供给***中存储有一定量的显影液，用于向喷头供给显影液。为了提高喷淋到基板66上的显影液的均匀性，第一喷头61和第二喷头62可以但不限于采用摇摆喷淋的方式喷淋显影液。

本发明实施例二中，控制第一喷头61和第二喷头62喷淋显影液的方式可以但不限于为下述：

由第一传感器检测是否有基板66在传送装置63的带动下进入第一喷头61的喷淋区域，若第一传感器感应到有基板66进入第一喷头61的喷淋区域，则向控制第一喷头61的第一控制装置发送第一启动喷淋信号，第一控制装置接收到上述第一启动喷淋信号后，控制第一喷头61开始向下方的基板66喷淋显影液，若第一传感器感应到基板66离开第一喷头61的喷淋区域，则向控制第一喷头61的第一控制装置发送第一停止喷淋信号，第一控制装置接收到上述第一停止喷淋信号后，控制第一喷头61停止向下方的基板66喷淋显影液；由第二传感器检测是否有基板66在传送装置63的带动下进入第二喷头62的喷淋区域，若第二传感器感应到有基板66进入第二喷头62的喷淋区域，则向控制第二喷头62的第二控制装置发送第二启动喷淋信号，第二控制装置接收到上述第二启动喷淋信号后，控制第二喷头62开始向下方的基板66喷淋显影液，若第二传感器感应到基板66离开第二喷头62的喷淋区域，则向控制第二喷头62的第二控制装置发送第二停止喷淋信号，第二控制装置接收到上述第二停止喷淋信号后，控制第二喷头62停止向下方的基板66喷淋显影液。其中第一控制装置和第二控制装置可以单独设置，也可以设置在一个实体设备中。

第一喷头61和第二喷头62的喷淋宽度不小于基板66的宽度，这样就能保证第一喷头61和第二喷头62均能够将显影液喷淋到基板66的各个位置。

显影液喷淋***还可以进一步包括第一水洗装置，第一水洗装置按照传送装置63的运动方向，位于所述第二喷头52之后，第一水洗装置用于对经过所述第一水洗装置的基板66进行水洗处理。若基板66在传送带63的带动下离开第二喷头62的喷淋区域之后，则可以认为基板66完成了显影液的喷淋，驱动装置64驱动传送装置63继续匀速运动，将基板66传送到第一水洗装置，第一水洗装置对基板66进行水洗处理，其中，第一水洗装置对基板66依次进行循环水洗处理、超声水洗处理、直水洗处理以及风刀干燥处理。在第一水洗装置对基板66进行水洗处理后，就完成了基板66的显影处理。

为了使第一喷头61沿基板66的起始端661到对端662的方向喷淋显影液，而第二喷头62沿对端662到起始端661的方向喷淋显影液，需要在基板66在第一喷头61和第二喷头62中间旋转180度，即在基板66离开第一喷头61的喷淋区域之后，以及在进入第二喷头62的喷淋区域之前，将基板66旋转180度。在旋转装置65旋转基板66时，需要停止基板66的运动，因此需要驱动装置64控制传送装置63停止运动，本发明实施例二提出，在第一喷头61和第二喷头62之间设置传感器，为了与上面提高的第一传感器和第二传感器进行区别，这里将在第一喷头61和第二喷头62之间设置的传感器称为第三传感器，第三传感器检测是否有基板66到达设定位置处，若第三传感器感应到基板66到达设定位置处时，则认为此时基板66离开了第一喷头61的喷淋区域，且未进入第二喷头62的喷淋区域，此时应该将该基板66进行旋转，因此第三传感器向驱动装置64发送停止运动信号以及向旋转装置65发送旋转信号，驱动装置64接收到所述停止运动信号之后，控制所述传送装置63停止运动，旋转装置65接收到所述旋转信号之后，将所述基板66旋转180度。旋转装置65在旋转所述基板66后，可以向驱动装置64发送继续运动信号，驱动装置64接收到所述继续运动信号之后，继续驱动所述传送装置63匀速运动，带动基板66经过第二喷头的喷淋区域。

旋转装置65可以但不限于由旋转控制单元和机械手组成，旋转控制单元用于接收第三传感器发送的信号、向驱动装置64发送继续运动信号以及控制机器手旋转基板66，机器手可以采用夹取的方式旋转基板66，具体为：先将基板66向上抬起，顺时针(或逆时针)旋转180度后，向下降落，将基板66置于传送装置63上。机器手也可以采用真空吸附的方式旋转基板66，具体为：现将机械手的吸附部位采用真空吸附的方式吸附在基板66的表面，将基板66向上抬起，顺时针(或逆时针)旋转180度后，向下降落，将基板66置于传送装置63上。

若机械手采用真空吸附的方式旋转基板66，则为了避免基板66表面过于光滑导致真空吸附不稳固，本发明实施例二提出，在旋转装置65旋转基板66之前，对该基板66先进行水洗处理，也就是说在第一喷头61和旋转装置65之间的第二水洗装置，第二水洗装置对经过所述第二水洗装置的基板66进行水洗处理，其中，第二水洗装置对基板66依次进行循环水洗处理、超声水洗处理、直水洗处理以及风刀干燥处理。

此外，为了增大第一喷头61和第二喷头62喷淋显影液时的冲击力，进一步提高喷淋到基板66上的显影液的均匀性，本发明实施例二提出，可以将显影液与氮气按照一定比例混合后由第一喷头61和第二喷头62喷淋到基板66上。

与上述显影液喷淋***对应，本发明实施例二还提供一种显影液喷淋方法，如图7所示，其具体处理流程如下：

步骤71，驱动装置驱动位于第一喷头和第二喷头下方的传送装置匀速运动；

步骤72，所述传送装置带动承载的基板沿起始端到对端的方向经过所述第一喷头的喷淋区域；

步骤73，第一喷头向经过自身的喷淋区域的基板喷淋显影液；

第一喷头沿基板的起始端向对端的方向喷淋显影液。

步骤74，在所述基板到达第一喷头和第二喷头之间的设定位置处时，认为基板离开第一喷头的喷淋区域，且未进入第二喷头的喷淋区域，此时所述驱动装置控制所述传送装置停止运动；

若旋转装置采用真空吸附的方式旋转基板，为了避免基板表面过于光滑导致真空吸附不稳固，在旋转装置旋转基板之前，由位于第一喷头和旋转装置之间的第二水洗装置对该基板先进行水洗处理，第二水洗装置对经过所述第二水洗装置的基板依次进行循环水洗处理、超声水洗处理、直水洗处理以及风刀干燥处理。

当位于第一喷头和第二喷头之间的传感器感应到基板到达所述设定位置处时，向所述驱动装置发送停止运动信号以及向所述旋转装置发送旋转信号，驱动装置接收到所述停止运动信号之后，控制所述传送装置停止运动。

步骤75，旋转装置旋转所述基板；

旋转装置接收到传感器发送的旋转信号之后，可以但不限于将所述基板旋转180度，然后向所述驱动装置发送继续运动信号。

步骤76，所述驱动装置继续驱动所述传送装置匀速运动；

驱动装置接收到旋转装置发送的继续运动信号之后，继续驱动所述传送装置匀速运动。

步骤77，所述传送装置带动所述基板沿对端到起始端的方向经过所述第二喷头的喷淋区域；

第二喷头沿基板的起始端向对端的方向喷淋显影液。

步骤78，第二喷头向经过自身的喷淋区域的基板喷淋显影液。

基板经过第二喷头的喷淋区域之后，传送装置将基板传送到第一水洗装置，第一水洗装置对经过所述第一水洗装置的基板进行水洗处理，第一水洗装置对基板依次进行循环水洗处理、超声水洗处理、直水洗处理以及风刀干燥处理。其中，第一水洗装置按照所述传送装置的运动方向，位于所述第二喷头之后。

本发明实施例二中的基板可以但不限于为TFT基板或CF基板。

本发明实施例二还提供一种基于上述显影液喷淋方法喷淋显影液得到的基板。

由上述处理过程可知，本发明实施例二技术方案中，驱动装置驱动位于第一喷头和第二喷头下方的传送装置匀速运动，传送装置带动承载的基板沿起始端到对端的方向经过第一喷头的喷淋区域，第一喷头向该基板喷淋显影液，在基板到达第一喷头和第二喷头之间的设定位置处时，驱动装置控制传送装置停止运动，旋转装置旋转基板，驱动装置继续驱动传送装置匀速运动，传送装置带动基板沿对端到起始端的方向经过第二喷头的喷淋区域，第二喷头向该基板喷淋显影液，由上可见，本发明第二技术方案不是采用基板沿一个方向运动的方式进行显影液喷淋，而是采用两个喷头喷淋显影液，驱动装置驱动传送装置匀速运动，从而带动位于传送装置上的基板依次经过第一喷头和第二喷头的喷淋区域，其中在基板离开第一喷头的喷淋区域之后，以及在到达第二喷头的喷淋区域之前，要旋转基板，基板沿对端到起始端的方向经过第二喷头的喷淋区域，也就是说先由第一喷头沿基板的起始端到对端的方向进行一次显影液喷淋的操作，然后再由第二喷头沿基板的对端到起始端的方向进行一次显影液喷淋操作，这就避免了起始端上的显影液少于对端上的显影液的问题，从而使得喷淋到基板上的显影液比较均匀，显影就比较均匀，进一步实现了LCD面板的均匀显示。

本发明实施例一技术方案中，在对基板进行显影液喷淋时，基板位置固定，由驱动装置驱动喷头在基板的起始端和对端之间进行往返运动；本发明实施例二技术方案中，在对基板进行显影液喷淋时，两个喷头位置固定，由驱动装置驱动传送装置带动基板进行匀速运动，一个喷头沿基板的起始端到对端的方向喷淋显影液，另外一个喷头沿基板的对端到起始端的方向喷淋显影液。因此本发明实施例一技术方案和本发明实施例二技术方案，基板和喷头之间均是相对运动，而且均是沿基板的起始端到对端的方向喷淋显影液之后，再沿基板的对端到起始端的方向喷淋显影液，因此均能够避免起始端上的显影液少于对端上的显影液的问题，从而使得喷淋到基板上的显影液比较均匀，显影就比较均匀，进一步实现了LCD面板的均匀显示。

显然，本发明的保护范围以权利要求界定范围为准，本发明中的具体实施方式并不用于对本发明的保护范围进行界定。本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的保护范围。

Claims (24)

1.一种显影液喷淋***，其特征在于，包括喷头(21)、驱动装置(22)以及位于所述喷头(21)下方的固定机台(23)，其中：

所述固定机台(23)，用于承载基板；

所述驱动装置(22)，用于驱动所述喷头(21)在所述基板的起始端和对端之间匀速往返预设次数；

所述喷头(21)，用于在运动过程中，向所述基板喷淋显影液。

2.如权利要求1所述的显影液喷淋***，其特征在于，还包括：

传送装置，用于将完成显影液喷淋的基板传送到水洗装置；

水洗装置，用于对所述基板进行水洗处理。

3.如权利要求2所述的显影液喷淋***，其特征在于，所述水洗装置对所述基板依次进行循环水洗处理、超声水洗处理、直水洗处理以及风刀干燥处理。

4.如权利要求1所述的显影液喷淋***，其特征在于，所述喷头(21)进行匀速运动的运动速度是根据所述预设次数以及预设喷淋时间设定的。

5.如权利要求1所述的显影液喷淋***，其特征在于，所述显影液中混有氮气。

6.一种显影液喷淋方法，其特征在于，包括：

驱动装置驱动喷头在基板的起始端和对端之间匀速往返预设次数，其中所述基板置于所述喷头下方的固定机台上；

所述喷头在运动过程中，向所述基板喷淋显影液。

7.如权利要求6所述的显影液喷淋方法，其特征在于，还包括：

传送装置将完成显影液喷淋的基板传送到水洗装置；

所述水洗装置对所述基板进行水洗处理。

8.如权利要求7所述的显影液喷淋方法，其特征在于，所述水洗装置对所述基板进行水洗处理，具体包括：

所述水洗装置对所述基板依次进行循环水洗处理、超声水洗处理、直水洗处理以及风刀干燥处理。

9.一种基于权利要求6～8任一权利要求所述的显影液喷淋方法喷淋显影液得到的基板产品。

10.一种显影液喷淋***，其特征在于，包括第一喷头(61)和第二喷头(62)、位于第一喷头(61)和第二喷头(62)下方的传送装置(63)、驱动装置(64)以及旋转装置(65)，其中：

所述传送装置(63)，用于承载基板；

所述驱动装置(64)，用于驱动所述传送装置(63)匀速运动，带动基板沿起始端到对端的方向经过第一喷头(61)的喷淋区域；在所述基板到达第一喷头(61)和第二喷头(62)之间的设定位置处时，控制所述传送装置(63)停止运动；在旋转装置(65)旋转所述基板后，继续驱动所述传送装置(63)匀速运动，带动基板沿对端到起始端的方向经过第二喷头(62)的喷淋区域；

所述旋转装置(65)，用于在所述传送装置(63)停止运动后，旋转所述基板；

第一喷头(61)和第二喷头(62)，用于向经过自身的喷淋区域的基板喷淋显影液。

11.如权利要求10所述的显影液喷淋***，其特征在于，还包括按照所述传送装置(63)的运动方向，位于所述第二喷头(62)之后的第一水洗装置，所述第一水洗装置用于对经过所述第一水洗装置的基板进行水洗处理。

12.如权利要求11所述的显影液喷淋***，其特征在于，还包括位于所述第一喷头(61)和旋转装置(65)之间的第二水洗装置，所述第二水洗装置用于对经过所述第二水洗装置的基板进行水洗处理。

13.如权利要求12所述的显影液喷淋***，其特征在于，所述第一水洗装置和第二水洗装置对基板依次进行循环水洗处理、超声水洗处理、直水洗处理以及风刀干燥处理。

14.如权利要求10所述的显影液喷淋***，其特征在于，还包括位于第一喷头(61)和第二喷头(62)之间的传感器，所述传感器用于当感应到基板到达所述设定位置处时，向所述驱动装置(64)发送停止运动信号以及向所述旋转装置(65)发送旋转信号；

所述驱动装置(64)接收到所述停止运动信号之后，控制所述传送装置(63)停止运动；

所述旋转装置(65)接收到所述旋转信号之后，旋转所述基板。

15.如权利要求10所述的显影液喷淋***，其特征在于，所述旋转装置(65)在旋转所述基板后，向所述驱动装置(64)发送继续运动信号；

所述驱动装置(64)接收到所述继续运动信号之后，继续驱动所述传送装置(63)匀速运动，带动基板经过第二喷头(62)的喷淋区域。

16.如权利要求10所述的显影液喷淋***，其特征在于，所述旋转装置(65)在所述传送装置(63)停止运动后，将所述基板旋转180度。

17.如权利要求10所述的显影液喷淋***，其特征在于，所述显影液中混有氮气。

18.一种显影液喷淋方法，其特征在于，包括：

驱动装置驱动位于第一喷头和第二喷头下方的传送装置匀速运动；

所述传送装置带动承载的基板沿起始端到对端的方向经过所述第一喷头的喷淋区域；

第一喷头向经过自身的喷淋区域的基板喷淋显影液；

在所述基板到达第一喷头和第二喷头之间的设定位置处时，所述驱动装置控制所述传送装置停止运动；

旋转装置旋转所述基板；

所述驱动装置继续驱动所述传送装置匀速运动；

所述传送装置带动所述基板沿对端到起始端的方向经过所述第二喷头的喷淋区域；

第二喷头向经过自身的喷淋区域的基板喷淋显影液。

19.如权利要求18所述的显影液喷淋方法，其特征在于，还包括：

按照所述传送装置的运动方向，位于所述第二喷头之后的第一水洗装置对经过所述第一水洗装置的基板进行水洗处理。

20.如权利要求19所述的显影液喷淋方法，其特征在于，还包括：

位于所述第一喷头和旋转装置之间的第二水洗装置对经过所述第二水洗装置的基板进行水洗处理。

21.如权利要求20所述的显影液喷淋方法，其特征在于，第一水洗装置和第二水洗装置对基板进行水洗处理，具体包括：

第一水洗装置和第二水洗装置对基板依次进行循环水洗处理、超声水洗处理、直水洗处理以及风刀干燥处理。

22.如权利要求18所述的显影液喷淋方法，其特征在于，所述驱动装置控制所述传送装置停止运动之前还包括：

当位于第一喷头和第二喷头之间的传感器感应到基板到达所述设定位置处时，向所述驱动装置发送停止运动信号以及向所述旋转装置发送旋转信号；

所述驱动装置控制所述传送装置停止运动，具体包括：

所述驱动装置接收到所述停止运动信号之后，控制所述传送装置停止运动；

旋转装置旋转所述基板，具体包括：

所述旋转装置接收到所述旋转信号之后，旋转所述基板。

23.如权利要求18所述的显影液喷淋方法，其特征在于，所述旋转装置在旋转所述基板后，还包括：

向所述驱动装置发送继续运动信号；

所述驱动装置继续驱动所述传送装置匀速运动，具体包括：

所述驱动装置接收到所述继续运动信号之后，继续驱动所述传送装置匀速运动。

24.一种基于权利要求18～23任一权利要求所述的显影液喷淋方法喷淋显影液得到的基板产品。

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