CN102601711B - 板体研磨装置 - Google Patents
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Abstract
一种板体研磨装置,包括升降平台、研磨模块及加压模块。研磨模块与升降平台的承载部相对且包括研磨带与驱动组件。驱动组件连接研磨带以驱使研磨带转动。加压模块包括加压头与压力调整组件。加压头适于移动而接触在升降平台与加压头间的部分研磨带的背面。压力调整组件连接加压头并适于移动加压头。压力调整组件包括腔体、电磁线圈、永久磁铁及连接件,永久磁铁可移动地设置于电磁线圈与腔体顶侧间。电磁线圈固定于腔体,并位于加压头与永久磁铁间。连接件连接于永久磁铁与加压头。所述板体研磨装置可精准控制研磨厚度。本发明还提出另一可降低维护成本的板体研磨装置。
Description
技术领域
本发明是有关于一种研磨装置,且特别是有关于一种板体研磨装置。
背景技术
随着平面显示技术的进步,各种平面显示面板已被广泛应用于日常生活中常见的电子产品,如电视、计算机、行动电话、卫星导航装置等。
在制作平面显示面板的过程中,需要对平面显示面板的表面进行研磨清洁,而现有的研磨装置如图1所示。现有研磨装置100包括驱动件110以驱使移动平台120沿水平方向D1左右移动,而移动平台120上设有研磨布130。此外,研磨装置100更包括气缸140以及研磨头150,研磨头150用以吸附平面显示面板50,而气缸140连接研磨头150,以驱使研磨头150沿垂直方向D2上下移动。当要进行研磨的步骤时,气缸140驱使研磨头150向下移动,以使平面显示面板50接触研磨布130,而驱动件110驱使移动平台120左右移动,以对平面显示面板50的表面进行研磨。
现有技术中,在研磨时气缸140的上升压不稳定,且容易产生漏气的情形,导致研磨清洁的效果变差。此外,研磨厚度不易精准掌控,容易出现表面刮伤或损坏平面显示面板50的情形。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种板体研磨装置,以精准控制研磨厚度。
本发明另提供一种板体研磨装置,以降低维护成本。
为达上述优点至少其中之一,本发明提出一种板体研磨装置,包括升降平台、研磨模块以及加压模块。升降平台具有承载部,研磨模块与承载部相对,且研磨模块包括研磨带与驱动组件。研磨带具有相对的研磨面与背面,而驱动组件连接研磨带,以驱使研磨带转动。加压模块包括加压头与压力调整组件。加压头适于移动而接触至位于升降平台与加压头之间的部分研磨带的背面,而压力调整组件连接加压头,并适于移动加压头以调整加压头施加于研磨带的压力。压力调整组件包括腔体、电磁线圈、永久磁铁以及连接件,腔体具有远离加压头的顶侧,永久磁铁可移动地设置于电磁线圈与顶侧之间,且永久磁铁与顶侧之间形成密封气密室。电磁线圈固定于腔体,并位于加压头与永久磁铁之间,而连接件连接于永久磁铁与加压头。
在本发明的一实施例中,上述的板体研磨装置更包括配置于承载部的压力侦测模块,而压力调整组件更包括电性连接至压力侦测模块与电磁线圈的控制单元。
在本发明的一实施例中,上述的研磨面为粗糙面。
在本发明的一实施例中,上述的加压模块更包括多个滚珠,设置于加压头内,且加压头包括接触面用于接触研磨带,接触面上设有多个孔洞,滚珠分别经由孔洞伸出接触面外以接触研磨带。
在本发明的一实施例中,上述的加压头包括接触面用于接触研磨带,接触面设有多个出液孔,研磨带设有多个贯孔,贯孔从研磨面延伸至背面。
在本发明的一实施例中,上述的驱动组件包括滚轮组。
在本发明的一实施例中,上述的承载部包括第一承载面与位于第一承载面边缘的第二承载面,第一承载面与加压头之间的距离不同于第二承载面与加压头之间的距离。
在本发明的一实施例中,上述的升降平台包括平台本体与驱动元件。平台本体具有承载部,而驱动元件连接平台本体,以驱使平台本体朝接近或远离研磨模块的方向移动。
为达上述优点至少其中之一,本发明另提出一种板体研磨装置,其包括升降平台、研磨模块以及加压模块。升降平台具有承载部,而研磨模块与承载部相对。研磨模块包括研磨带及驱动组件。研磨带具有相对的研磨面与背面。驱动组件连接研磨带,以驱使研磨带转动。加压模块包括加压头、多个滚珠以及压力调整组件。加压头适于移动而接触至升降平台与加压头之间的部分研磨带的背面。滚珠设置于加压头内,且加压头包括接触面用于接触研磨带,接触面上设有多个孔洞,滚珠分别经由孔洞伸出接触面外以接触研磨带。压力调整组件连接加压头,并适于移动加压头以调整加压头施加于研磨带的压力。
本发明一实施例的板体研磨装置中,板体设置于升降平台上,并通过加压模块将研磨带加压至板体,以对板体进行研磨,而这样的方式有助于精准控制研磨厚度。此外,本发明另一实施例的板体研磨装置中,因加压头内设有滚珠以减少研磨带与加压头的之间的摩擦力,所以能延长研磨带的使用寿命,以降低维护成本。
上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本发明的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举较佳实施例,并配合附图,详细说明如下。
附图说明
图1为现有一种研磨装置的示意图。
图2是本发明一实施例的一种板体研磨装置的示意图。
图3是图2的加压头的接触面的示意图。
图4是图2的研磨带的研磨面的示意图。
图5是本发明另一实施例的承载部及其所承载的板体的俯视示意图。
图6是沿图5的I-I线的剖面示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例,对依据本发明提出的板体研磨装置的具体实施方式、结构、特征及功效,详细说明如后。
图2是本发明一实施例的一种板体研磨装置的示意图。请参照图2,本实施例的板体研磨装置200包括升降平台210、研磨模块220以及加压模块230,其中升降平台210具有承载部211以承载板体60,而研磨模块220与承载部211相对。此升降平台210例如包括平台本体212与驱动元件213。上述的承载部211属于平台本体212,而驱动元件213连接平台本体212。驱动元件213例如是马达,其用以驱使平台本体212沿方向D3移动以接近或远离研磨模块220。板体60例如为显示面板、玻璃基板等元件,但不限于此。
研磨模块220包括研磨带221与驱动组件222。研磨带221具有相对的研磨面223与背面224,研磨面223例如为粗糙面,且位在承载部211与加压模块230之间的部分研磨面223面对承载部211。驱动组件222连接研磨带221,以驱使研磨带221转动。本实施例的驱动组件222例如包括滚轮组222,而滚轮组222转动时可带动研磨带221转动。
加压模块230包括加压头231与压力调整组件232。加压头231适于移动而接触至位于升降平台211与加压头231之间的部分研磨带221的背面224,而压力调整组件232连接加压头231,并适于移动加压头231以调整加压头231施加于研磨带221的压力。
在本实施例中,当要对板体60进行研磨时,通过驱动组件222驱动研磨带221转动,并通过驱动元件213驱使平台本体212沿着方向B3朝接近研磨模块220的方向移动,使板体60接触研磨带221的研磨面223或是与研磨带221的研磨面223保持适当间距。接着,通过压力调整组件232使加压头231施加压力于研磨带221,以使研磨带221对板体60的表面进行研磨。
有别于现有技术,本实施例的板体研磨装置200在设计上是通过升降平台210来承载板体60,并通过加压模块230将研磨带221加压至板体60以对板体60进行研磨。升降平台210的驱动元件213可准确控制平台本体212上升的高度,有助于精准控制研磨厚度。此外,为了更精准控制研磨厚度,升降平台210的驱动元件213可配合用以感测板体60位置的高度传感器(图未示)来控制平台本体212上升的高度。
为了更精准且稳定地控制施加于研磨带221的压力,本实施例所选用的压力调整组件232例如包括腔体233、电磁线圈234、永久磁铁235以及连接件236。腔体233具有远离加压头231的顶侧237,永久磁铁235可移动地设置于电磁线圈234与顶侧237之间,且永久磁铁235与顶侧237之间形成密封气密室S。此密封气密室S内的气压例如为可调整。电磁线圈234固定于腔体233,并位于加压头231与永久磁铁235之间,而连接件236例如是穿过电磁线圈234并连接于永久磁铁235与加压头231。
通过控制通入电磁线圈234的电流方向及强弱,使电磁线圈234与永久磁铁235之间产生排斥力,且此排斥力恰可支撑永久磁铁235、连接件236与加压头231。并且,通过控制密封气密室S内的气压可驱使永久磁铁235向下移动,并带动连接件236与加压头231移动,藉以调整加压头231施加于研磨带221的压力。有别于现有技术,本实施例所选用的压力调整组件232可采用磁力混用压力缸的方式来驱使加压头231移动,所以能较为精准且稳定地控制加压头231施加于研磨带221的压力,以避免研磨效果不佳或损伤板体60的情形。
需说明的是,本发明并不限定压力调整组件232的驱动方式。在另一实施例中,也可通过电磁线圈234与永久磁铁235之间产生的超距力来驱使永久磁铁235移动,而连接件236与加压头231则随着永久磁铁235移动。更详细地说,可仅通过控制通入电磁线圈234的电流的方向与强弱来调整电磁线圈234所产生的磁力的方向与强弱,以使电磁线圈234与永久磁铁235之间产生适当的吸引力或排斥力,从而控制永久磁铁235的移动方向,以调整加压头231施加在研磨带221的压力。在其它实施例中,也可选用其它的压力调整组件来取代上述的压力调整组件232。
此外,板体研磨装置200可进一步包括配置于承载部211的压力侦测模块240,而压力调整组件230更包括电性连接至压力侦测模块240与电磁线圈234的控制单元(图未示)。压力侦测模块240例如包括多个压力侦测器242,其用以感测压力,而控制单元可根据压力侦测模块240的感测结果来控制通入电磁线圈234的电流的强弱与方向或是调整密封气密室S内的气压,以更准确且稳定地控制加压头231施加于研磨带221的压力。
图3是图2的加压头的接触面的示意图。请参照图2与图3,为了减低加压头231的接触面239与其所接触的研磨带221之间的摩擦力,加压模块230可更包括设置于加压头231内的多个滚珠251,且加压头231的接触面239上可设有多个孔洞252,这些滚珠251分别经由孔洞252伸出接触面239外以接触研磨带221。如此,可降低研磨带221转动的阻力并提升研磨带221的使用寿命,进而降低板体研磨装置200的维护成本。
图4是图2的研磨带的研磨面的示意图。请参照图2至图4,为了提升清洁板体60的效果,可使清洁液(如水)经由加压头231流至研磨带221的研磨面223。具体而言,加压头231的接触面239可设有多个出液孔253,加压头231的其它表面(如与接触面239相对的表面)例如设有入液口,以供注入清洁液。此外,研磨带221设有多个贯孔225,贯孔225从研磨面223延伸至背面224,如此从出液孔253流出的清洁液可经由贯孔225流至研磨面223与板体60之间。
图5是本发明另一实施例的承载部及其所承载的板体的俯视示意图,而图6是沿图5的I-I线的剖面示意图。请参照图5与图6,在板体非均厚的实施例中,承载部的承载面可设计成与板体的形状相配合。举例来说,当承载部211a用以承载板体60a(如显示面板)时,由于板体60a包括基板61与基板62,且基板61突出于基板62之外,为了承载基板61的突出于基板62的部分,承载部211a可被设计成包括第一承载面214与位于第一承载面214边缘的第二承载面215。第一承载面215与图2所示的加压头231之间的距离不同于第二承载面215与加压头231之间的距离。第一承载面215用以承载基板62,而第二承载面215例如是高于第一承载面214,以承载基板61的突出于基板62的部分,如此能避免板体60a受到压力时产生歪斜的情形,所以能均匀地研磨基板61的表面63。
综上所述,在本发明的板体研磨装置中,板体设置于升降平台上,并通过加压模块将研磨带加压至板体,以对板体进行研磨。由于升降平台的驱动元件可准确控制平台本体上升的高度,此有助于精准控制研磨厚度。此外,在一实施例的板体研磨装置中,因加压头内设有滚珠以减少研磨带与加压头的之间的摩擦力,所以能延长研磨带的使用寿命,以降低板体研磨装置的维护成本。另外,有别于现有技术单纯使用气缸驱动的方式,在压力调整组件包括腔体、电磁线圈、永久磁铁以及连接件的实施例中,可采用磁力混用压力缸的方式来驱动加压头,所以能更精准且稳定地控制加压头施加于研磨带的压力。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本发明技术方案内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (8)
1.一种板体研磨装置,其特征在于,包括:
一升降平台,具有一承载部;
一研磨模块,与该承载部相对,该研磨模块包括:
一研磨带,具有相对的一研磨面与一背面;以及
一驱动组件,连接该研磨带,以驱使该研磨带转动;以及一加压模块,包括:
一加压头,适于移动而接触至位于该升降平台与该加压头之间的部分该研磨带的该背面;以及
一压力调整组件,连接该加压头,并适于移动该加压头以调整该加压头施加于该研磨带的压力,该压力调整组件包括一腔体、一电磁线圈、一永久磁铁以及一连接件,该腔体具有一远离该加压头的顶侧,该永久磁铁可移动地设置于该电磁线圈与该顶侧之间,且该永久磁铁与该顶侧之间形成一密封气密室,该电磁线圈固定于该腔体,并位于该加压头与该永久磁铁之间,而该连接件连接于该永久磁铁与该加压头。
2.如权利要求1所述的板体研磨装置,其特征在于,更包括一压力侦测模块,配置于该承载部,而该压力调整组件更包括一控制单元,电性连接至该压力侦测模块与该电磁线圈。
3.如权利要求1所述的板体研磨装置,其特征在于,该研磨面为一粗糙面。
4.如权利要求1所述的板体研磨装置,其特征在于,该加压模块更包括多个滚珠,设置于该加压头内,且该加压头包括一接触面用于接触该研磨带,该接触面上设有多个孔洞,该些滚珠分别经由该些孔洞伸出该接触面外以接触该研磨带。
5.如权利要求1所述的板体研磨装置,其特征在于,该加压头包括一接触面用于接触该研磨带,该接触面设有多个出液孔,该研磨带设有多个贯孔,该些贯孔从该研磨面延伸至该背面。
6.如权利要求1所述的板体研磨装置,其特征在于,该驱动组件包括一滚轮组。
7.如权利要求1所述的板体研磨装置,其特征在于,该承载部包括一第一承载面与位于该第一承载面边缘的一第二承载面,该第一承载面与该加压头之间的距离不同于该第二承载面与该加压头之间的距离。
8.如权利要求1所述的板体研磨装置,其特征在于,该升降平台包括:
一平台本体,具有该承载部;以及
一驱动元件,连接该平台本体,以驱使该平台本体朝接近或远离该研磨模块的方向移动。
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20141008 Termination date: 20210320 |
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