CN102540726A - 正型感光性树脂组成物、硬化膜及其形成方法、层间绝缘膜以及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种正型感光性树脂组成物、硬化膜及其形成方法、层间绝缘膜以及显示装置，所述正型感光性树脂组成物各种性能综合优异。本发明的正型感光性树脂组成物的特征在于：包含含有丁氧基甲基丙烯酰胺等的碱可溶性树脂及感放射线酸产生剂。

Description

正型感光性树脂组成物、硬化膜及其形成方法、层间绝缘膜以及显示装置

技术领域

本发明涉及一种感光性树脂组成物、硬化膜的形成方法、硬化膜、有机电激发光(electroluminescence，EL)显示装置、以及液晶显示装置。更详细而言，本发明涉及一种适合于形成液晶显示装置、有机EL显示装置、集成电路元件、固体摄像元件等电子零件的平坦化膜、保护膜或层间绝缘膜的正型感光性树脂组成物以及使用该正型感光性树脂组成物的硬化膜的形成方法。

背景技术

薄膜晶体管(thin film transistor，以下记作“TFT”)型液晶显示元件或磁头元件、集成电路元件、固体摄像元件等电子零件中，通常为了使配置成层状的配线之间绝缘而设置层间绝缘膜。形成层间绝缘膜的材料优选为用以获得所需图案形状的步骤数少且具有充分平坦性的材料，因此广泛使用感光性树脂组成物(参照日本专利特开2001-354822号公报以及日本专利特开2001-343743号公报)。

所述电子零件中，例如TFT型液晶显示元件是经过在所述的层间绝缘膜上形成透明电极膜，然后在该透明电极膜上形成液晶配向膜的步骤来制造，因此层间绝缘膜在透明电极膜的形成步骤中会曝露于高温条件下，或者曝露于电极的图案形成时所使用的抗蚀剂的剥离液中，因此必需具有对它们的充分耐性。

另一方面，高感度的感光性树脂组成物已知有丙烯酸系抗蚀剂或脂环烯烃系抗蚀剂(日本专利特开2010-181730号公报、日本专利特开2009-235414号公报)。另外，负型感光性树脂组成物已知有日本专利特开2002-40649号公报。

近年来，TFT型液晶显示元件存在大画面化、高亮度化、高精细化、高速响应化、薄型化等的动向，其中使用的层间绝缘膜形成用组成物为高感度，对于所形成的层间绝缘膜，在低介电常数、高穿透率等方面，要求比以往更高的性能。

如上所述，当由感光性树脂组成物来形成层间绝缘膜时，要求组成物为高感度，且对由该组成物形成的层间绝缘膜要求低介电常数、高穿透率等各种性能综合而言优异，但以往还没有发现满足这种要求的感光性树脂组成物。

发明内容

本发明是基于以上情况而形成的。因此，本发明的目的在于提供一种可获得各种性能优异的硬化膜且感度优异的感光性树脂组成物、将所述感光性树脂组成物硬化而获得的硬化膜及其形成方法、以及包括所述硬化膜的有机EL显示装置及液晶显示装置。

基于所述情况，本案发明人进行积极研究，结果发现，通过使用含有特定结构单元的碱可溶性树脂作为树脂成分，可提供各种性能综合而言优异的正型感光性树脂组成物，从而完成本发明。

具体而言，本发明通过以下的手段<1>，优选为通过手段<2>～手段<26>来解决所述问题。

<1>一种正型感光性树脂组成物，其特征在于：包含(A)含有通式(1)所表示的结构单元的碱可溶性树脂及(C)感放射线酸产生剂：

通式(1)

(式中，R¹表示氢原子或甲基，R²表示碳数1～9的烷基)。

<2>根据<1>所述的正型感光性树脂组成物，其中还满足以下的(1)和/或(2)：

(1)(A)含有通式(1)所表示的结构单元的碱可溶性树脂具有酸不稳定基；

(2)该正型感光性树脂组成物包含(B)具有酸不稳定基的树脂。

<3>根据<2>所述的正型感光性树脂组成物，其中所述含有酸不稳定基的碱可溶性树脂是含有酸基及交联基的树脂。

<4>根据<1>～<3>中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中(C)感放射线酸产生剂为肟磺酸酯化合物。

<5>根据<2>～<4>中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中所述含有酸不稳定基的碱可溶性树脂是含有作为酸解离性基的酸不稳定基的树脂，所述酸解离性基利用酸的作用而产生羧基或酚性羟基。

<6>根据<2>～<5>中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中所述含有酸不稳定基的碱可溶性树脂是含有作为羧基的酸基以及作为酸解离性基的酸不稳定基的树脂，所述酸解离性基利用酸的作用产生羧基或酚性羟基。

<7>根据<2>～<6>中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中所述含有酸不稳定基的碱可溶性树脂含有下述所表示的结构单元的至少1种：

(所述式中，R¹分别表示氢原子或者碳数1～4的烷基，L¹表示羰基或者亚苯基，R²分别表示碳数1～4的烷基。n1及n2分别为1～5的整数，n3为1～4的整数，n4为1～3的整数)。

<8>根据<2>～<7>中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中所述含有酸不稳定基的碱可溶性树脂含有下述通式(2)或通式(3)所表示的结构单元：

通式(2)    通式(3)

<9>根据<8>所述的正型感光性树脂组成物，其中所述含有酸不稳定基的碱可溶性树脂含有通式(2)所表示的结构单元。

<10>根据<2>～<9>中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中所述含有酸不稳定基的碱可溶性树脂是含有包含氧杂环丁烷基和/或环氧基的交联基的树脂。

<11>根据<2>～<10>中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中包含(A)含有通式(1)所表示的结构单元的碱可溶性树脂、及(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂。

<12>根据<11>所述的正型感光性树脂组成物，其中所述(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂是将(a)不饱和羧酸、(b)含有氧杂环丁烷或者环氧基的自由基聚合性化合物以及(c)含有酸不稳定基的自由基聚合性化合物进行共聚合而成的树脂。

<13>根据<11>所述的正型感光性树脂组成物，其中所述(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂是将(a)不饱和羧酸、(b)含有氧杂环丁烷基的自由基聚合性化合物以及(c)含有酸不稳定基的自由基聚合性化合物进行共聚合而成的树脂。

<14>根据<1>～<13>中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中(A)碱可溶性树脂是还包含含有酸基的结构单元的聚合物。

<15>根据<1>～<14>中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中(A)碱可溶性树脂是还含有来自苯乙烯的结构单元的聚合物。

<16>根据<2>～<15>中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中固体成分的主成分为树脂成分，且包含(A)含有通式(1)所表示的结构单元的碱可溶性树脂及(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂作为该树脂成分，且相对于总固体成分而以0.1％～10％的范围包含(C)感放射线酸产生剂。

<17>根据<1>～<16>中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中还包含(D)交联剂。

<18>根据<17>所述的正型感光性树脂组成物，其中固体成分的主成分为树脂成分，且包含(A)含有通式(1)所表示的结构单元的碱可溶性树脂及(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂作为该树脂成分，且相对于总固体成分而以0.1％～10％的范围内包含(C)感放射线酸产生剂，以1％～40％的范围包含(D)交联剂。

<19>根据<2>～<18>中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中以总树脂成分中10重量％～97重量％的比例包含(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂。

<20>根据<2>～<18>中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中还包含(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂以外的(B′)树脂，且以总树脂成分中3重量％～70重量％的比例包含该(B′)树脂。

<21>一种硬化膜，将根据<1>～<20>中任一项所述的正型感光性树脂组成物应用于基板上，利用光和/或热使其硬化而成。

<22>一种硬化膜，将根据<1>～<20>中任一项所述的正型感光性树脂组成物应用于基板上，通过在曝光后不包括加热处理而进行显影、进而加热的步骤来形成。

<23>一种层间绝缘膜，使用根据<21>或<22>所述的硬化膜。

<24>一种液晶显示装置或者有机EL显示装置，包括根据<23>所述的层间绝缘膜。

<25>一种硬化膜的形成方法，包括以下步骤：

(1)将根据<1>～<20>中任一项所述的感光性树脂组成物应用于基板上的步骤；

(2)从所应用的感光性树脂组成物中去除溶剂的步骤；

(3)利用活性放射线进行曝光的步骤；

(4)利用水性显影液进行显影的步骤；以及

(5)进行热硬化的步骤。

<26>根据<25>所述的硬化膜的形成方法，其中在所述进行显影的步骤后、进行热硬化的步骤前包括全面曝光的步骤。

(发明效果)

通过本发明，可获得各种性能综合而言优异的正型感光性树脂组成物。

附图说明

图1表示有机EL显示装置的一例的构成概念图。表示底部发光型有机EL显示装置中的基板的示意剖面图，具有平坦化膜4。

图2表示液晶显示装置的一例的构成概念图。表示液晶显示装置中的主动矩阵基板的示意剖面图，具有作为层间绝缘膜的硬化膜17。

符号的说明

1、16：TFT

2：配线

3、8：绝缘膜

4：平坦化层

5：第一电极

6：玻璃基板

7、18：接触孔

10：液晶显示装置

12：背光源单元

14、15：玻璃基板

17：硬化膜

19：铟锡氧化物透明电极

20：液晶

22：RGB彩色滤光器

具体实施方式

以下，对本发明的内容进行详细说明。此外，本案说明书中“～”是以将其前后所记载的数值作为下限值及上限值的含义来使用。

另外，本发明中的所谓有机EL元件，是指有机电激发光元件。

进而，所谓(甲基)丙烯酸是指丙烯酸和/或甲基丙烯酸。

另外，本发明中所谓“碱可溶性”，是指通过将化合物(树脂)的溶液应用于基板上，在90℃下加热2分钟而形成的化合物(树脂)的膜(厚度3μm)在23℃下在0.4％四甲基氢氧化铵水溶液中的溶解速度为0.01μm/sec以上，所谓“碱不溶性”，是指通过将化合物(树脂)的溶液应用于基板上，在90℃下加热2分钟而形成的化合物(树脂)的膜(厚度3μm)在23℃下在0.4％四甲基氢氧化铵水溶液中的溶解速度小于0.01μm/sec。

本发明的正型感光性树脂组成物的特征在于：包含(A)含有通式(1)所表示的结构单元的碱可溶性树脂及(C)感放射线酸产生剂。通过设为这种构成，可飞跃性提高正型感光性树脂组成物的各种性能。

通式(1)

(式中，R¹表示氢原子或甲基，R²表示碳数1～9的烷基。)

本发明所使用的树脂的特征在于含有通式(1)所表示的结构单元，但优选为除此以外还具有酸不稳定基。酸不稳定基可包含在含有通式(1)所表示的结构单元的碱可溶性树脂中，也可以包含在与该碱可溶性树脂不同的碱可溶性树脂中。进而，更优选为具有酸基和/或交联性基。另外，也可以含有其他结构单元。本发明中，这些基团或结构单元可仅包含在1种树脂中，也可以包含在2种以上树脂的任1种或者2种以上中。以下，将本发明所使用的树脂的实施形态示于以下。但是，本发明所使用的树脂当然并不限定于这些树脂。

(实施形态1)

(A)含有通式(1)所表示的结构单元的碱可溶性树脂(以下有时称为“(A)树脂”)还含有酸不稳定基的态样。

(实施形态2)

(A)树脂还包含酸不稳定基及交联基的态样。

(实施形态3)

(A)树脂还含有酸不稳定基及酸基的态样。

(实施形态4)

(A)树脂还含有酸不稳定基、交联基及酸基的态样。

(实施形态5)

所述实施形态1～实施形态4的任一形态中，(A)树脂还含有其他结构单元的态样。

(实施形态6)

(A)含有通式(1)所表示的结构单元的碱可溶性树脂、及与该(A)树脂不同的树脂含有酸不稳定基的态样。以下，有时将此时的含有酸不稳定基的树脂表示为“(B)树脂”。

(实施形态7)

包含(A)树脂及(B)树脂，且(B)树脂含有酸不稳定基及交联基的态样。

(实施形态8)

包含(A)树脂及(B)树脂，且(B)树脂含有酸不稳定基及酸基的态样。

(实施形态9)

包含(A)树脂及(B)树脂，且(B)树脂含有酸不稳定基、交联性基及酸基的态样。

(实施形态10)

所述实施形态6～实施形态9的任一形态中，(A)树脂还含有酸基的态样。

(实施形态11)

所述实施形态6～实施形态10的任一形态中，(A)树脂或(B)树脂还含有其他结构单元的态样。

(实施形态12)

所述实施形态11中，(A)树脂含有来自苯乙烯的结构单元，且(B)树脂含有来自(甲基)丙烯酸的结构单元的态样。

所述实施形态中，(A)树脂及(B)树脂分别可以仅为1种，也可以包含2种以上。

通式(1)所表示的结构单元

通式(1)中，R¹表示氢原子或甲基，优选为氢原子。

R²表示碳数1～9的烷基，优选为碳数1～7的烷基，尤其优选为碳数2～6的烷基。烷基可以是直链或者分支烷基中的任一种。

通式(1)所表示的结构单元优选为以(A)树脂的1摩尔％～50摩尔％的比例来含有，更优选为以10摩尔％～40摩尔％的比例来含有，尤其优选为30摩尔％。

酸不稳定基

本发明的树脂优选为含有酸不稳定基。通过含有酸不稳定基，可使碱可溶性增大。本发明中包含的酸不稳定基是指在酸的存在下可分解的官能基，优选为利用酸的作用产生羧基或酚性羟基的酸解离性基。

更具体而言，本发明所使用的树脂优选为含有来自含有酸不稳定基的单体的结构单元。这种结构单元通常是使用来自具有利用酸的作用产生羧基或酚性羟基的酸解离性基的单体的结构单元。

(a1-1)来自具有利用酸的作用而产生羧基的酸解离性基的单体的结构单元

(a1-1-1)来自具有羧基的单体的结构单元

具有羧基的单体例如可列举来自不饱和单羧酸、不饱和二羧酸、不饱和三羧酸等分子中具有至少1个羧基的不饱和羧酸等的单体。

为了获得来自具有羧基的单体的结构单元而使用的不饱和羧酸是使用以下列举的羧酸。即，不饱和单羧酸例如可列举丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸、α-氯丙烯酸、肉桂酸等。另外，不饱和二羧酸例如可列举顺丁烯二酸、反丁烯二酸、亚甲基丁二酸、甲基顺丁烯丁二酸、甲基反丁烯二酸等。另外，为了获得来自具有羧基的单体的结构单元而使用的不饱和多元羧酸也可以是其酸酐。具体而言，可列举顺丁烯二酸酐、亚甲基丁二酸酐、甲基顺丁烯丁二酸酐等。另外，不饱和多元羧酸可以是多元羧酸的单(2-甲基丙烯酰氧基烷基)酯，例如可列举丁二酸单(2-丙烯酰氧基乙)酯、丁二酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙)酯、邻苯二甲酸单(2-丙烯酰氧基乙)酯、邻苯二甲酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙)酯等。

进而，不饱和多元羧酸可以是其两末端二羧基聚合物的单(甲基)丙烯酸酯，例如可列举ω-羧基聚己内酯单丙烯酸酯、ω-羧基聚己内酯单甲基丙烯酸酯等。

另外，不饱和羧酸也可以使用丙烯酸-2-羧基乙酯、甲基丙烯酸-2-羧基乙酯、顺丁烯二酸单烷基酯、反丁烯二酸单烷基酯、4-羧基苯乙烯等。其中，就显影性的观点而言，为了形成来自具有羧基的单体的结构单元，优选为使用丙烯酸、甲基丙烯酸、或者不饱和多元羧酸的酸酐等，更优选为使用丙烯酸或者甲基丙烯酸。

来自具有羧基的单体的结构单元(a1-1-1)可包含单独1种，也可以包含2种以上。

(a1-1-2)来自同时具有乙烯性不饱和基及酸酐残基的单体的结构单元

来自同时具有乙烯性不饱和基及酸酐残基的单体的结构单元(a1-2)优选为来自下述单体的单元，该单体是使来自具有乙烯性不饱和基的单体的结构单元中所存在的羟基与酸酐进行反应而获得。

酸酐可使用公知的酸酐，具体而言可列举：顺丁烯二酸酐、丁二酸酐、亚甲基丁二酸酐、邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、氯桥酸酐等二元酸酐；偏苯三甲酸酐、均苯四甲酸酐、二苯甲酮四甲酸酐、联苯四甲酸酐等酸酐。这些酸酐中，就显影性的观点而言，优选为邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、或者丁二酸酐。

就显影性的观点而言，酸酐对于羟基的反应率优选为10摩尔％～100摩尔％，更优选为30摩尔％～100摩尔％。

(a1-1-3)来自具有利用酸的作用而产生羧基的酸解离性基的单体的结构单元

所谓来自具有利用酸的作用而产生羧基的酸解离性基的单体的结构单元，优选为来自具有所述(a1-1-1)、所述(a1-1-2)记载的羧基由以下详细说明的酸分解性基加以保护的残基的单体的结构单元。

酸分解性基可使用迄今为止作为KrF用正型抗蚀剂、ArF用正型抗蚀剂中的酸分解性基而公知的基团，并无特别限定。以前，酸分解性基已知有利用酸而比较容易分解的基团(例如四氢吡喃基等的缩醛系官能基)或利用酸而比较难以分解的基团(例如叔丁酯基、碳酸叔丁酯基等的叔丁基系官能基)。

这些酸分解性基中，就抗蚀剂的基本物性，特别是感度或图案形状、接触孔的形成性、感光性树脂组成物的保存稳定性的观点而言，优选为来自具有羧基由缩醛加以保护的残基、或者羧基由缩酮加以保护的残基的单体的结构单元。进而酸分解性基中，就感度的观点而言，更优选为羧基由下述式(a1-1)所表示的缩醛或缩酮加以保护的残基。此外，在羧基由下述式(a1-1)所表示的缩醛或缩酮加以保护的残基的情况下，残基的总体形成-(C＝O)-O-CR¹R²(OR³)的结构。

(式(a1-1)中，R¹及R²分别独立地表示氢原子或者烷基，其中，R¹与R²均为氢原子的情况除外；R³表示烷基；R¹或R²可以与R³连结而形成环状醚。)

式(a1-1)中，R¹～R³分别独立地表示氢原子或者烷基，该烷基可以是直链状、分支链状、环状中的任一种。此处，不存在R¹及R²两者表示氢原子的情况，而是R¹及R²的至少一个表示烷基。

式(a1-1)中，在R¹、R²及R³表示烷基的情况下，该烷基可以是直链状、分支链状、或环状中的任一种。

直链状或者分支链状的烷基优选为碳数1～12，更优选为碳数1～6，尤其优选为碳数1～4。具体而言可列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、新戊基、正己基、2，3-二甲基丁烷-2-基(thexyl)(2，3-二甲基-2-丁基)、正庚基、正辛基、2-乙基己基、正壬基、正癸基等。

环状烷基优选为碳数3～12，更优选为碳数4～8，尤其优选为碳数4～6。环状烷基例如可列举：环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、降冰片基、异冰片基等。

所述烷基可具有取代基，取代基可例示卤素原子、芳基、烷氧基。在具有卤素原子作为取代基的情况下，R¹、R²、R³成为卤烷基，在具有芳基作为取代基的情况下，R¹、R²、R³成为芳烷基。

卤素原子可例示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子，这些卤素原子中，优选为氟原子或者氯原子。

另外，所述芳基优选为碳数6～20的芳基，更优选为碳数6～12，具体而言可例示苯基、α-甲基苯基、萘基等，经芳基取代的烷基总体、即芳烷基可例示苄基、α-甲基苄基、苯乙基、萘基甲基等。

所述烷氧基优选为碳数1～6的烷氧基，更优选为碳数1～4，更优选为甲氧基或者乙氧基。

另外，在烷基为环烷基的情况下，该环烷基可以具有碳数1～10的直链状或者分支链状的烷基作为取代基，在烷基为直链状或者分支链状的烷基的情况下，可以具有碳数3～12的环烷基作为取代基。这些取代基可以经所述取代基进一步取代。

式(a1-1)中，在R¹、R²及R³表示芳基的情况下，该芳基优选为碳数6～12，更优选为碳数6～10。该芳基可具有取代基，该取代基可优选例示碳数1～6的烷基。芳基例如可例示苯基、甲苯基、硅烷基、异丙苯基、1-萘基等。

另外，R¹、R²及R³可以相互结合，与它们所结合的碳原子一起形成环。R¹与R²、R¹与R³或R²与R³结合的情况的环结构例如可列举环丁基、环戊基、环己基、环庚基、四氢呋喃基、金刚烷基以及四氢吡喃基等。

此外，式(a1-1)中，R¹及R²的任一个优选为氢原子或者甲基。

为了形成来自具有式(a1-1)所表示的残基的单体的结构单元而使用的自由基聚合性单体可以使用市售的单体，也可以使用利用公知方法来合成的单体。例如可如下所述，在酸催化剂的存在下通过使(甲基)丙烯酸与乙烯醚进行反应来合成。

R¹¹表示氢原子或者烷基，该烷基在式(a1-1)中，与作为R¹～R³来表示的烷基相同。R¹¹优选为氢原子或者甲基。

R¹²及R¹³作为-CH(R¹²)(R¹³)，与式(a1-1)中的R²含义相同，R¹⁴与式(a)中的R¹含义相同，R¹⁵与式(a1-1)中的R³含义相同，另外，它们连优选范围也相同。

所述的合成可以使(甲基)丙烯酸与其他单体预先进行共聚合，然后在酸催化剂的存在下与乙烯醚进行反应。

本发明所使用的含有利用酸的作用而产生羧基的酸解离性基的结构单元可列举以下单元作为优选的例子。

(所述式中，R¹分别表示氢原子或者碳数1～4的烷基，L¹表示羰基或者亚苯基，R²分别表示碳数1～4的烷基；n1及n2分别为1～5的整数，n3为1～4的整数，n4为1～3的整数。)

R¹分别表示氢原子或者碳数1～4的烷基，优选为氢原子或者甲基，尤其优选为甲基。

L¹表示羰基或者亚苯基，更优选为羰基。R²分别表示氢原子或者碳数1～4的烷基，优选为氢原子或者甲基，更优选为任一个均为氢原子。

n1、n2、n3及n4分别优选为0。

所述中，特别优选为(1)、(2)、(5)或(7)，尤其优选为(2)或(7)，最优选为(7)。

来自具有利用酸的作用而产生羧基的酸解离性基的单体的结构单元(a1-1)的优选具体例可例示来自下述单体的结构单元。此外，R表示氢原子或者甲基，更优选为甲基。

本发明中特别优选为含有酸不稳定基的碱可溶性树脂含有下述通式(2)或通式(3)所表示的结构单元。

通式(2)    通式(3)

(a1-2)来自具有利用酸的作用而产生酚性羟基的酸解离性基的单体的结构单元

(a1-2-1)来自具有酚性羟基的单体的结构单元

来自具有酚性羟基的单体的结构单元可列举来自羟基苯乙烯系单体的结构单元或来自酚醛清漆系树脂中的单体的结构单元，这些结构单元中，就透明性的观点而言，优选为来自源于α-甲基羟基苯乙烯的单体的结构单元。来自具有酚性羟基的单体的结构单元中，就透明性、感度的观点，优选为来自式(a1-2)所表示的单体的结构单元。

(式(a1-2)中，R²⁰表示氢原子或者甲基，R²¹表示单键或者连结基，R²²表示卤素原子或者烷基，a表示1～5的整数，b表示0～4的整数，a+b为5以下；此外，在R²²存在2个以上的情况下，这些R²²可以相互不同，也可以相同。)

式(a1-2)中，R²⁰表示氢原子或者甲基，优选为甲基。

另外，R²¹表示单键或者二价连结基。在R²¹为单键的情况下，可使感度提高，进而可使硬化膜的透明性提高，因此优选。R²¹的二价连结基可例示亚烷基，R²¹为亚烷基的具体例可列举：亚甲基、亚乙基、亚丙基、异亚丙基、正亚丁基、异亚丁基、叔亚丁基、亚戊基、异亚戊基、新亚戊基、亚己基等。其中，R²¹优选为单键、亚甲基、亚乙基。另外，所述二价连结基可具有取代基，取代基可列举卤素原子、羟基、烷氧基等。

另外，a表示1～5的整数，就本发明的效果的观点、或容易制造的方面而言，优选为a为1或2，更优选a为1。

另外，当将与R²¹结合的碳原子作为基准(1位)时，苯环中的羟基的结合位置优选为结合于4位。

R²²为卤素原子或者碳数1～5的直链或者分支链状的烷基。具体而言可列举：氟原子、氯原子、溴原子、甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、戊基、异戊基、新戊基等。其中，就容易制造的方面而言，优选为氯原子、溴原子、甲基或乙基。

另外，b表示0或1～4的整数。

来自具有酚性羟基的单体的结构单元中，所述式(a1-2)中，在R²¹不为亚烷基的情况，就透明性及感度的观点而言，尤其优选为来自式(a1-2′)所表示的单体的结构单元。R²¹的连结基除了亚烷基以外，可优选例示(从共聚物的主链侧起)亚烷氧基羰基等，此时优选为来自具有酚性羟基的单体的结构单元由下述式(a1-2′)所表示。

(式(a1-2′)中，R³⁰与式(a1-2)中的R²⁰含义相同，R³²与式(a1-2)中的R²²含义相同，a及b分别与式(a1-2)中的a及b含义相同；另外，优选的范围也相同。)

式(a1-2′)中，R³³表示二价连结基，可优选例示亚烷基。该亚烷基可以是直链状或者分支链状的任一个，优选为碳数2～6，可列举亚乙基、亚丙基、异亚丙基、正亚丁基、叔亚丁基、亚戊基、异亚戊基、新亚戊基、亚己基等。另外，二价连结基也可具有取代基，取代基可列举卤素原子、羟基、烷氧基等。这些基团中，就感度的观点而言，R³³优选为亚乙基、亚丙基、2-羟基亚丙基。

(a1-2-2)来自具有利用酸的作用而产生酚性羟基的酸解离性基的单体的结构单元

来自具有利用酸的作用而产生酚性羟基的酸解离性基的单体的结构单元是来自具有下述残基的单体的结构单元，该残基是(a1-2-1)来自具有酚性羟基的单体的结构单元的酚性羟基由以下所详细说明的酸分解性基加以保护的残基。酸分解性基如上所述可使用公知的酸分解性基，并无特别限定。酸分解性基中，就抗蚀剂的基本物性，特别是感度或图案形状、感光性树脂组成物的保存稳定性、接触孔的形成性的观点而言，优选为来自具有酚性羟基由缩醛加以保护的残基、或者酚性羟基由缩酮加以保护的残基的单体的结构单元。进而，酸分解性基中，就感度的观点而言，更优选为酚性羟基由式(a1-1)所表示的缩醛或者缩酮加以保护的残基。此外，在酚性羟基由式(a1-1)所表示的缩醛或者缩酮加以保护的残基的情况下，残基的总体成为-Ar-O-CR¹R²(OR³)的结构。此外，Ar表示亚芳基。

酚性羟基的缩醛酯结构的优选例子可例示R¹＝R²＝R³＝甲基或R¹＝R²＝甲基且R³＝苄基的组合。

另外，为了形成来自具有酚性羟基由缩醛或者缩酮加以保护的残基的单体的结构单元而使用的自由基聚合性单体，例如可列举：羟基苯乙烯的1-烷氧基烷基保护体、羟基苯乙烯的四氢吡喃基保护体、α-甲基-羟基苯乙烯的1-烷氧基烷基保护体、α-甲基-羟基苯乙烯的四氢吡喃基保护体、甲基丙烯酸4-羟基苯酯的1-烷氧基烷基保护体、甲基丙烯酸4-羟基苯酯的四氢吡喃基保护体、4-羟基苯甲酸(1-甲基丙烯酰氧基甲)酯的1-烷氧基烷基保护体、4-羟基苯甲酸(1-甲基丙烯酰氧基甲)酯的四氢吡喃基保护体、4-羟基苯甲酸(2-甲基丙烯酰氧基乙)酯的1-烷氧基烷基保护体、4-羟基苯甲酸(2-甲基丙烯酰氧基乙)酯的四氢吡喃基保护体、4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙)酯的1-烷氧基烷基保护体、4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙)酯的四氢吡喃基保护体、4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基-2-羟基丙)酯的1-烷氧基烷基保护体、4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基-2-羟基丙)酯的四氢吡喃基保护体等。

这些单体中，就透明性的观点而言，优选为：甲基丙烯酸4-羟基苯酯的1-烷氧基烷基保护体、甲基丙烯酸4-羟基苯酯的四氢吡喃基保护体、4-羟基苯甲酸(1-甲基丙烯酰氧基甲)酯的1-烷氧基烷基保护体、4-羟基苯甲酸(1-甲基丙烯酰氧基甲)酯的四氢吡喃基保护体、4-羟基苯甲酸(2-甲基丙烯酰氧基乙)酯的1-烷氧基烷基保护体、4-羟基苯甲酸(2-甲基丙烯酰氧基乙)酯的四氢吡喃基保护体、4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙)酯的1-烷氧基烷基保护体、4--羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙)酯的四氢吡喃基保护体、4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基-2-羟基丙)酯的1-烷氧基烷基保护体、4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基-2-羟基丙)酯的四氢吡喃基保护体。

酚性羟基的缩醛保护基以及缩酮保护基的具体例可列举1-烷氧基烷基，例如可列举：1-乙氧基乙基、1-甲氧基乙基、1-正丁氧基乙基、1-异丁氧基乙基、1-(2-氯乙氧基)乙基、1-(2-乙基己氧基)乙基、1-正丙氧基乙基、1-环己氧基乙基、1-(2-环己基乙氧基)乙基、1-苄氧基乙基等，这些基团可单独使用或者将2种以上组合使用。

为了形成来自单体的结构单元(a1)而使用的自由基聚合性单体可以使用市售的单体，也可以使用利用公知方法来合成的单体。例如可以通过在酸催化剂的存在下使具有酚性羟基的化合物与乙烯醚进行反应来合成。所述的合成也可以将具有酚性羟基的单体与其他单体预先进行共聚合，然后在酸催化剂的存在下与乙烯醚进行反应。

来自单体的结构单元(a1-2)的优选具体例可例示来自下述单体的结构单元，但本发明并不限定于这些结构单元。

在本发明所使用的(A)树脂含有酸不稳定基的情况下，来自这些单体的结构单元的含量优选为总树脂成分的结构单元的3摩尔％～70摩尔％，更优选为5摩尔％～60摩尔％，尤其优选为10摩尔％～50摩尔％。

进而在本发明所使用的(B)树脂含有酸不稳定基的情况下，具有酸不稳定基的结构单元的含量优选为(B)树脂中的结构单元的3摩尔％～90摩尔％，更优选为20摩尔％～90摩尔％，尤其优选为30摩尔％～85摩尔％。

作为利用酸的作用产生羧基或酚性羟基的酸解离性基的酸不稳定基优选至少是作为利用酸的作用而产生羧基的酸解离性基的酸不稳定基。另外，特别是若采用作为利用酸的作用而产生羧基的酸解离性基的酸不稳定基，且使用羧基作为后述的酸基，则更有效地发挥本发明的效果，因此优选。

交联性基

本发明所使用的碱可溶性树脂优选为含有交联性基。通过含有交联性基，存在对于所形成的硬化膜而言，耐铟锡氧化物(ITO)溅射性或对剥离液及蚀刻液等处理液的耐性提高的倾向。交联性基可例示氧杂环丁烷基、环氧基、甲基丙烯酰基、丙烯酰基，优选为氧杂环丁烷基和/或环氧基。

本发明中，通常使用具有这种交联性基的单体，将含有交联基的结构单元组入树脂中。

含有交联性基的结构单元优选为总树脂成分的合计成分的结构单元的10摩尔％～70摩尔％，更优选为20摩尔％～60摩尔％，尤其优选为30摩尔％～55摩尔％。

本发明中所使用的含有交联性基的结构单元更优选为来自(甲基)丙烯酸和/或其酯的结构单元。此外，也可以具有来自(甲基)丙烯酸和/或其酯的结构单元以外的结构单元，例如来自苯乙烯的结构单元或来自乙烯系化合物的结构单元等。

更优选为下述通式所表示的结构单元。

(所述式中，R¹表示氢原子或甲基，L¹为单键或者二价连结基，C为交联性基)

R¹表示氢原子或甲基，优选为甲基。L¹为单键或者二价连结基，优选为亚苯基、酯基、酰胺基，更优选为酯基。C为交联性基，优选为氧杂环丁烷基或者环氧基。

酸基

本发明所使用的碱可溶性树脂优选为含有酸基。通过含有酸基，变得容易溶解于碱性显影液中，更有效地发挥本发明的效果。本发明中的所谓酸基，是指pKa小于7的质子解离性基。酸基通常是使用可形成酸基的单体，作为含有酸基的结构单元而组入至树脂中。通过使含有这种酸基的结构单元包含在树脂中，存在碱可溶性变大的倾向。特别是在本发明的正型感光性树脂组成物除了包含(A)树脂以外，还另外包含(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂的情况，优选为(A)树脂及(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂分别含有包含酸基的结构单元。通过成为这种构成，变得容易均匀溶解于碱性显影液中。

本发明中所使用的酸基可例示来自羧酸基的酸基、来自羟基的酸基、来自磺酰胺基的酸基、来自1，3-二酮基的酸基等，优选为来自羧酸基的酸基和/或来自羟基的酸基。

本发明中所使用的含有酸基的结构单元更优选为来自(甲基)丙烯酸和/或其酯的结构单元。此外，也可以具有来自(甲基)丙烯酸和/或其酯的结构单元以外的结构单元，例如来自苯乙烯的结构单元、或来自乙烯系化合物的结构单元等。

更优选为下述通式所表示的结构单元。

(所述式中，R¹表示氢原子或甲基，L¹为单键或者二价连结基，A为酸基)

R¹表示氢原子或甲基，优选为甲基。L¹为单键或者二价连结基，优选为单键、亚烷基、亚芳基，更优选为单键、碳数1～3的亚烷基、亚苯基。A为酸基，优选为羟基、羧酸基，尤其优选为羧酸基。

含有酸基的单体的具体例可列举：丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸、顺丁烯二酸、反丁烯二酸、甲基顺丁烯丁二酸、甲基反丁烯二酸、亚甲基丁二酸。其中优选为丙烯酸、甲基丙烯酸。

含有酸基的结构单元优选为构成总树脂成分的结构单元的1摩尔％～50摩尔％，更优选为5摩尔％～40摩尔％，尤其优选为5摩尔％～30摩尔％。

进而，在(A)树脂具有酸不稳定基的情况，含有酸基的结构单元在(A)树脂中更优选为1摩尔％～20摩尔％，尤其优选为5摩尔％～10摩尔％。另一方面，在(A)树脂为不含酸不稳定基的态样，即包含(B)树脂的态样的情况，(A)树脂中的含有酸基的结构单元的含量优选为1摩尔％～50摩尔％，尤其优选为10摩尔％～30摩尔％。(B)树脂中的含有酸基的结构单元的含量优选为1摩尔％～30摩尔％，尤其优选为5摩尔％～10摩尔％。

其他结构单元

成分A可在不妨碍本发明效果的范围内还具有其他结构单元。

其他结构单元优选为来自选自由对羟基苯乙烯、α-甲基-对羟基苯乙烯、苯乙烯及α-甲基苯乙烯所组成组群中的至少1种单体的结构单元。

另外，结构单元的优选例子亦可列举来自选自由含羟基的不饱和羧酸酯、含脂环结构的不饱和羧酸酯、苯乙烯及N取代顺丁烯二酰亚胺所组成组群中的至少1种单体的结构单元。

这些结构单元中，就电气特性提高的观点而言，优选为如(甲基)丙烯酸三环[5.2.1.0^2，6]癸-8-基酯、(甲基)丙烯酸三环[5.2.1.0^2，6]癸烷-8-氧基乙酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2-甲基环己酯之类的含脂环结构的(甲基)丙烯酸酯类，或者如苯乙烯之类的疏水性单体。就感度的观点而言，优选为(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、N取代顺丁烯二酰亚胺。这些结构单元中，更优选为具有脂环结构的(甲基)丙烯酸酯类。另外，就耐蚀刻性的观点而言，优选为苯乙烯或α-甲基苯乙烯等苯乙烯类。

这些其他结构单元可单独使用1种或者将2种以上组合使用。

(A)树脂及(B)树脂分别优选为加成聚合型树脂，优选为含有选自来自(甲基)丙烯酸和/或其酯的结构单元、来自苯乙烯的结构单元以及来自乙烯系化合物的结构单元中的至少1种。

通过含有来自(甲基)丙烯酸和/或其酯的结构单元，可进一步提高感度，另外，可进一步提高透明性。通过含有来自苯乙烯的结构单元，可进一步降低干式蚀刻速度，进一步降低相对介电常数(K值)。

在(A)树脂含有酸不稳定基的态样的情况下，来自(甲基)丙烯酸和/或其酯的结构单元优选为占总体的50摩尔％～100摩尔％，更优选为占60摩尔％～95摩尔％。

另一方面，在(A)树脂不含酸不稳定基的态样，即包含(B)树脂的态样的情况下，(A)树脂中，来自苯乙烯的结构单元优选为占70摩尔％～20摩尔％，更优选为占60摩尔％～30摩尔％，来自(甲基)丙烯酸和/或其酯的结构单元优选为占总体的30摩尔％～80摩尔％，更优选为占40摩尔％～70摩尔％。此时，(B)树脂中，来自(甲基)丙烯酸和/或其酯的结构单元优选为占总体的50摩尔％～100摩尔％，更优选为占80摩尔％～95摩尔％。

特别是(B)树脂优选为将(a)不饱和羧酸、(b)含有氧杂环丁烷或者环氧基的自由基聚合性化合物、(c)含有酸不稳定基的自由基聚合性化合物进行共聚合而成的树脂，尤其优选为将(a)不饱和羧酸、(b)含有氧杂环丁烷基的自由基聚合性化合物、(c)含有酸不稳定基的自由基聚合性化合物进行共聚合而成的树脂。特别是这些成分以外的成分更优选为总体的2质量％。

(A)树脂及(B)树脂的分子量可适当决定，在(A)树脂含有酸不稳定基的态样的情况下，以重量平均分子量计优选为3000～30000，更优选为6000～20000。另一方面，在(A)树脂不含酸不稳定基的态样，即包含(B)树脂的态样的情况下，(A)树脂的重量平均分子量优选为5000～20000，更优选为6000～15000，(B)树脂的重量平均分子量优选为5000～30000，更优选为6000～20000。

(A)树脂及(B)树脂以外的树脂(B′)

本发明的正型感光性树脂组成物可以包含所述(A)树脂及(B)树脂以外的树脂(B′)。这种树脂(B′)优选为具有交联性基、酸基、或者其他结构单元中所列举的任一结构单元，优选为至少具有酸基。

这种树脂(B′)优选为侧链上具有羧基的树脂。例如可列举：如日本专利特开昭59-44615号、日本专利特公昭54-34327号、日本专利特公昭58-12577号、日本专利特公昭54-25957号、日本专利特开昭59-53836号、日本专利特开昭59-71048号的各公报中所记载的甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、亚甲基丁二酸共聚物、丁烯酸共聚物、顺丁烯二酸共聚物、部分酯化顺丁烯二酸共聚物等，以及侧链上具有羧基的酸性纤维素衍生物、在具有羟基的聚合物中加成酸酐而成的树脂等，进而也可以列举侧链上具有(甲基)丙烯酰基的高分子聚合物作为优选的例子。

除了所述以外，还可以列举：日本专利特开平7-140654号公报中记载的(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯/聚苯乙烯巨单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯巨单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羟基乙酯/聚苯乙烯巨单体/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羟基乙酯/聚苯乙烯巨单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物，日本专利特开平5-165214公报中记载的苯乙烯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸二环戊酯/甲基丙烯酸环氧丙酯共聚物等。

除此以外，还可以使用日本专利特开平7-207211号公报、日本专利特开平8-259876号公报、日本专利特开平10-300922号公报、日本专利特开平11-140144号公报、日本专利特开平11-174224号公报、日本专利特开2000-56118号公报、日本专利特开2003-233179号公报、日本专利特开2009-52020号公报等中记载的公知的高分子化合物。

这些其他树脂(B′)可以仅包含1种，也可以包含2种以上。

本发明的正型感光性树脂组成物通常是固体成分的主成分为树脂成分。此处，所谓主成分，是指调配量最多的成分，本发明中，优选为固体成分的70重量％以上为树脂成分，更优选为固体成分的80重量％以上为树脂成分，优选为固体成分的90重量％以上为树脂成分。

本发明中，在使用(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂的情况下，优选为以总树脂成分中10重量％～97重量％的比例包含该(B)树脂，更优选为包含15重量％～95重量％，尤其优选为包含20重量％～90重量％。

本发明中，在使用该(B′)树脂的情况下，优选以总树脂成分中3重量％～70重量％的比例包含该(B′)树脂，更优选为包含5重量％～65重量％，尤其优选为包含10重量％～60重量％。

(C)感放射线酸产生剂

本发明的感光性树脂组成物含有(C)感放射线酸产生剂。本发明中使用的感放射线酸产生剂优选为感应波长300nm以上、优选为波长300nm～450nm的活性光线而产生酸的化合物，但其化学结构并无特别限制。另外，关于对波长300nm以上的活性光线并不直接感应的感放射线酸产生剂，只要是通过与增感剂并用而感应波长300nm以上的活性光线来产生酸的化合物，则也可以与增感剂组合来优选使用。本发明中使用的感放射线酸产生剂优选为产生pKa为4以下的酸的感放射线酸产生剂，更优选为产生pKa为3以下的酸的感放射线酸产生剂。

感放射线酸产生剂的例子可列举：三氯甲基-均三嗪类、锍盐或碘鎓盐、四级铵盐类、重氮甲烷化合物、酰亚胺磺酸酯化合物、以及肟磺酸酯化合物、萘醌二叠氮化合物等。这些例子中，就绝缘性的观点而言，优选为使用肟磺酸酯化合物。这些感放射线酸产生剂可单独使用1种或者将2种以上组合使用。

这些具体例可例示以下例子。

三氯甲基-均三嗪类可例示：2-(3-氯苯基)-双(4，6-三氯甲基)-均三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-双(4，6-三氯甲基)-均三嗪、2-(4-甲硫基苯基)-双(4，6-三氯甲基)-均三嗪、2-(4-甲氧基-β-苯乙烯基)-双(4，6-三氯甲基)-均三嗪、2-胡椒基-双(4，6-三氯甲基)-均三嗪、2-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-双(4，6-三氯甲基)-均三嗪、2-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-双(4，6-三氯甲基)-均三嗪、2-[2-(4-二乙氨基-2-甲基苯基)乙烯基]-双(4，6-三氯甲基)-均三嗪或者2-(4-甲氧基萘基)-双(4，6-三氯甲基)-均三嗪等；

二芳基碘鎓盐类可例示：三氟乙酸二苯基碘鎓、三氟甲磺酸二苯基碘鎓、三氟甲磺酸4-甲氧基苯基苯基碘鎓、三氟乙酸4-甲氧基苯基苯基碘鎓、三氟甲磺酸苯基-4-(2′-羟基-1′-十四氧)苯基碘鎓、六氟锑酸4-(2′-羟基-1′-十四氧)苯基碘鎓、对甲苯磺酸苯基-4-(2′-羟基-1′-十四氧)苯基碘鎓等；

三芳基锍盐类可例示：三氟甲磺酸三苯基锍、三氟乙酸三苯基锍、三氟甲磺酸4-甲氧基苯基二苯基锍、三氟乙酸4-甲氧基苯基二苯基锍、三氟甲磺酸4-苯硫基苯基二苯基锍或者三氟乙酸4-苯硫基苯基二苯基锍等；

四级铵盐类可例示：丁基三(2，6-二氟苯基)硼酸四甲基铵、己基三(对氯苯基)硼酸四甲基铵、己基三(3-三氟甲基苯基)硼酸四甲基铵、丁基三(2，6-二氟苯基)硼酸苄基二甲基苯基铵、己基三(对氯苯基)硼酸苄基二甲基苯基铵、己基三(3-三氟甲基苯基)硼酸苄基二甲基苯基铵等；

重氮甲烷衍生物可例示：双(环己基磺酰基)重氮甲烷、双(叔丁基磺酰基)重氮甲烷、双(对甲苯磺酰基)重氮甲烷等；

酰亚胺磺酸酯衍生物可例示：三氟甲基磺酰氧基双环[2.2.1]庚-5-烯二羧基酰亚胺、丁二酰亚胺三氟甲基磺酸酯、邻苯二甲酰亚胺三氟甲基磺酸酯、N-羟基萘二甲酰亚胺甲磺酸酯、N-羟基-5-降冰片烯-2，3-二羧基酰亚胺丙磺酸酯等；

肟磺酸酯化合物可例示以下所示的化合物。

肟磺酸酯化合物即具有肟磺酸酯残基的化合物可优选例示含有式(b1)所表示的肟磺酸酯残基的化合物。

(式(b1)中，R⁵表示烷基或者芳基。)

任一基团均可被取代，R⁵中的烷基可以是直链状，也可以是分支状，还可以是环状。以下对容许的取代基进行说明。

R⁵的烷基优选为碳数1～10的直链状或者分支状烷基。R⁵的烷基可经碳数6～11的芳基、碳数1～10的烷氧基、或者环烷基(包含7，7-二甲基-2-侧氧降冰片基等的有桥式脂环基，优选为双环烷基等)所取代。

R⁵的芳基优选为碳数6～11的芳基，更优选为苯基或者萘基。R⁵的芳基可经低级烷基、烷氧基或者卤素原子所取代。

含有所述式(b1)所表示的肟磺酸酯残基的化合物特别优选为式(OS-3)、式(OS-4)或者式(OS-5)所表示的肟磺酸酯化合物。

(式(OS-3)～式(OS-5)中，R¹表示烷基、芳基或者杂芳基，R²分别独立地表示氢原子、烷基、芳基或者卤素原子，R⁶分别独立地表示卤素原子、烷基、烷氧基、磺酸基、氨基磺酰基或者烷氧基磺酰基，X表示O或者S，n表示1或2，m表示0～6的整数。)

所述式(OS-3)～式(OS-5)中，R¹中的烷基、芳基或者杂芳基可具有取代基。

所述式(OS-3)～式(OS-5)中，R¹中的烷基优选为可具有取代基的总碳数1～30的烷基。

R¹中的烷基可具有的取代基可列举：卤素原子、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基羰基。

R¹中的烷基可列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、正己基、正辛基、正癸基、正十二烷基、三氟甲基、全氟丙基、全氟己基、苄基。

另外，所述式(OS-3)～式(OS-5)中，R¹中的芳基优选为可具有取代基的总碳数6～30的芳基。

R¹中的芳基可具有的取代基可列举：卤素原子、烷基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基羰基、磺酸基、氨基磺酰基、烷氧基磺酰基。

R¹中的芳基可列举：苯基、对甲基苯基、对氯苯基、戊氯苯基、五氟苯基、邻甲氧基苯基、对苯氧基苯基。

另外，所述式(OS-3)～式(OS-5)中，R¹中的杂芳基优选为可具有取代基的总碳数4～30的杂芳基。

R¹中的杂芳基可具有的取代基可列举：卤素原子、烷基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基羰基、磺酸基、氨基磺酰基、烷氧基磺酰基。

所述式(OS-3)～式(OS-5)中，R¹中的杂芳基只要至少1个环为杂芳香环即可，例如杂芳香环与苯环可缩环。

R¹中的杂芳基可列举从选自由可具有取代基的噻吩环、吡咯环、噻唑环、咪唑环、呋喃环、苯并噻吩环、苯并噻唑环及苯并咪唑环所组成组群中的环上去除1个氢原子而得的基团。

所述式(OS-3)～式(OS-5)中，R²优选为氢原子、烷基或者芳基，更优选为氢原子或者烷基。

所述式(OS-3)～式(OS-5)中，化合物中存在2个以上的R²中，优选为1个或2个为烷基、芳基或者卤素原子，更优选为1个为烷基、芳基或者卤素原子，尤其优选为1个为烷基，且其余为氢原子。

所述式(OS-3)～式(OS-5)中，R²中的烷基或者芳基可具有取代基。R²中的烷基或者芳基可具有的取代基可例示与所述R¹中的烷基或者芳基可具有的取代基相同的基团。

R²中的烷基优选为可具有取代基的总碳数1～12的烷基，更优选为可具有取代基的总碳数1～6的烷基。

R²中的烷基优选为：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、正己基、烯丙基、氯甲基、溴甲基、甲氧基甲基、苄基，更优选为：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、正己基，尤其优选为：甲基、乙基、正丙基、正丁基、正己基，特别优选为甲基。

R²中的芳基优选为可具有取代基的总碳数6～30的芳基。

R²中的芳基具体而言优选为：苯基、对甲基苯基、邻氯苯基、对氯苯基、邻甲氧基苯基、对苯氧基苯基。

R²中的卤素原子可列举：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。

这些卤素原子中，优选为氯原子、溴原子。

所述式(OS-3)～式(OS-5)中，X表示O或者S，优选为O。

式(OS-3)～式(OS-5)中，含有X作为环员的环为5员环或者6员环。

所述式(OS-3)～式(OS-5)中，n表示1或2，在X为O的情况下，n优选为1，另外，在X为S的情况，n优选为2。

所述式(OS-3)～式(OS-5)中，R⁶中的烷基以及烷氧基可具有取代基。

所述式(OS-3)～式(OS-5)中，R⁶中的烷基优选为可具有取代基的总碳数1～30的烷基。

R⁶中的烷基可具有的取代基可列举：卤素原子、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基羰基。

R⁶中的烷基优选为：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、正己基、正辛基、正癸基、正十二烷基、三氟甲基、全氟丙基、全氟己基、苄基。

所述式(OS-3)～式(OS-5)中，R⁶中的烷氧基优选为可具有取代基的总碳数1～30的烷氧基。

R⁶中的烷氧基可具有的取代基可列举：卤素原子、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基羰基。

R⁶中的烷氧基优选为：甲氧基、乙氧基、丁氧基、己氧基、苯氧基乙氧基、三氯甲氧基或者乙氧基乙氧基。

所述式(OS-3)～式(OS-5)中，R⁶中的氨基磺酰基可列举：甲氨基磺酰基、二甲氨基磺酰基、苯氨基磺酰基、甲基苯氨基磺酰基、氨基磺酰基。

所述式(OS-3)～式(OS-5)中，R⁶中的烷氧基磺酰基可列举：甲氧基磺酰基、乙氧基磺酰基、丙氧基磺酰基、丁氧基磺酰基。

另外，所述式(OS-3)～式(OS-5)中，m表示0～6的整数，优选为0～2的整数，更优选为0或者1，特别优选为0。

另外，含有所述式(b1)所表示的肟磺酸酯残基的化合物特别优选为下述式(OS-6)～式(OS-11)中任一个所表示的肟磺酸酯化合物。

(式(OS-6)～式(OS-11)中，R¹表示烷基、芳基或者杂芳基，R⁷表示氢原子或者溴原子，R⁸表示氢原子、碳数1～8的烷基、卤素原子、氯甲基、溴甲基、溴乙基、甲氧基甲基、苯基或者氯苯基，R⁹表示氢原子、卤素原子、甲基或者甲氧基，R¹⁰表示氢原子或者甲基。)

式(OS-6)～式(OS-11)中的R¹与所述式(OS-3)～式(OS-5)中的R¹含义相同，优选态样也相同。

式(OS-6)中的R⁷表示氢原子或者溴原子，优选为氢原子。

式(OS-6)～式(OS-11)中的R⁸表示氢原子、碳数1～8的烷基、卤素原子、氯甲基、溴甲基、溴乙基、甲氧基甲基、苯基或者氯苯基，优选为碳数1～8的烷基、卤素原子或者苯基，更优选为碳数1～8的烷基，尤其优选为碳数1～6的烷基，特别优选为甲基。式(OS-8)及式(OS-9)中的R⁹表示氢原子、卤素原子、甲基或者甲氧基，优选为氢原子。

式(OS-8)～式(OS-11)中的R¹⁰表示氢原子或者甲基，优选为氢原子。

另外，所述肟磺酸酯化合物中，关于肟的立体结构(E，Z)，可以是其中任一个，也可以是混合物。

所述式(OS-3)～式(OS-5)所表示的肟磺酸酯化合物的具体例可列举下述例示化合物，但本发明并不限定于这些化合物。

含有式(b1)所表示的肟磺酸酯残基的所述化合物也优选式(OS-1)所表示的化合物。

(式(OS-1)中，R¹表示氢原子、烷基、烯基、烷氧基、烷氧基羰基、酰基、氨甲酰基、氨磺酰基、磺基、氰基、芳基、或者杂芳基；R²表示烷基、或者芳基。)

X表示-O-、-S-、-NH-、-NR⁵-、-CH₂-、-CR⁶H-、或者-CR⁶R⁷-，R⁵～R⁷表示烷基、或者芳基。

R²¹～R²⁴分别独立地表示氢原子、卤素原子、烷基、烯基、烷氧基、氨基、烷氧基羰基、烷基羰基、芳基羰基、酰胺基、磺基、氰基、或者芳基。R²¹～R²⁴中的2个可分别相互结合而形成环。

R²¹～R²⁴优选为氢原子、卤素原子以及烷基，另外，还优选列举R²¹～R²⁴中至少2个相互结合而形成芳基的态样。其中，就感度的观点而言，优选为R²¹～R²⁴均为氢原子的态样。

所述的官能基均可还具有取代基。

所述式(OS-1)所表示的化合物更优选为下述式(OS-2)所表示的化合物。

所述式(OS-2)中，R¹、R²、R²¹～R²⁴分别与式(OS-1)中的含义相同，另外优选例子也相同。

这些化合物中，更优选为式(OS-1)及式(OS-2)中的R¹为氰基、或者芳基的态样，最优选为式(OS-2)所表示，且R¹为氰基、苯基或者萘基的态样。

另外，所述肟磺酸酯化合物中，关于肟或苯并噻唑环的立体结构(E，Z等)，分别可以是其中任一个，也可以是混合物。

以下，表示本发明中可适合使用的式(OS-1)所表示的化合物的具体例(例示化合物b-1～例示化合物b-34)，但本发明并不限定于该具体例。此外，Me表示甲基，Et表示乙基，Bn表示苄基，Ph表示苯基。

所述化合物中，就感度与稳定性的并存的观点而言，优选为b-9、b-16、b-31、b-33。

含有式(b1)所表示的肟磺酸酯残基的所述化合物可以是下述式(b2)所表示的肟磺酸酯化合物。

(式(b2)中，R⁵表示烷基或者芳基，X表示烷基、烷氧基、或者卤素原子，m表示0～3的整数，当m为2或3时，多个X可以相同，也可以不同。)

作为X的烷基优选为碳数1～4的直链状或者分支状烷基。

作为X的烷氧基优选为碳数1～4的直链状或者分支状烷氧基。

作为X的卤素原子优选为氯原子或者氟原子。

m优选为0或1。

式(b2)中，特别优选为m为1，X为甲基，X的取代位置为邻位，R⁵为碳数1～10的直链状烷基、7，7-二甲基-2-侧氧降冰片基甲基、或者对甲苯甲酰基的化合物。

含有式(b1)所表示的肟磺酸酯残基的化合物可以是式(b3)所表示的肟磺酸酯化合物。

(式(b3)中，R⁵与式(b1)中的R⁵含义相同，X′表示卤素原子、羟基、碳数1～4的烷基、碳数1～4的烷氧基、氰基或者硝基，L表示0～5的整数。)

式(b3)中的R⁵优选为甲基、乙基、正丙基、正丁基、正辛基、三氟甲基、五氟乙基、全氟-正丙基、全氟-正丁基、对甲苯基、4-氯苯基或者五氟苯基，特别优选为正辛基。

X′优选为碳数1～5的烷氧基，更优选为甲氧基。

L优选为0～2，特别优选为0～1。

式(b3)所表示的化合物的具体例可列举：α-(甲基磺酰氧基亚氨基)苄基氰化物、α-(乙基磺酰氧基亚氨基)苄基氰化物、α-(正丙基磺酰氧基亚氨基)苄基氰化物、α-(正丁基磺酰氧基亚氨基)苄基氰化物、α-(4-甲苯磺酰氧基亚氨基)苄基氰化物、α-[(甲基磺酰氧基亚氨基)-4-甲氧基苯基]乙腈、α-[(乙基磺酰氧基亚氨基)-4-甲氧基苯基]乙腈、α-[(正丙基磺酰氧基亚氨基)-4-甲氧基苯基]乙腈、α-[(正丁基磺酰氧基亚氨基)-4-甲氧基苯基]乙腈、α-[(4-甲苯磺酰氧基亚氨基)-4-甲氧基苯基]乙腈。

优选的肟磺酸酯化合物的具体例可列举下述化合物(i)～化合物(viii)等，可以单独使用1种，或者并用2种以上。化合物(i)～化合物(viii)可作为市售品来获取。另外，也可以与其他种类的(C)感放射线酸产生剂组合使用。

醌二叠氮化合物可列举邻醌二叠氮化合物(1，2-醌二叠氮化合物)或对醌二叠氮化合物(1，4-醌二叠氮化合物)。其中，就感度或显影性的观点而言，优选为1，2-醌二叠氮化合物，特别优选为1，2-萘醌二叠氮化合物。

1，2-醌二叠氮化合物例如是通过使1，2-醌二叠氮磺酰氯类与羟基化合物、氨基化合物等，在脱盐酸剂的存在下进行缩合反应而获得。

1，2-醌二叠氮化合物例如可列举1，2-苯醌二叠氮磺酸酯、1，2-萘醌二叠氮磺酸酯、1，2-苯醌二叠氮磺酸酰胺、1，2-萘醌二叠氮磺酸酰胺等。具体而言可列举：J.Kosar著“感光***(Light-Sensitive Systems)”pp.339～352(1965)，John Wiley & Sons公司(New York)或W.S.De Forest著“光阻(Photoresist)”50(1975)，McGraw-Hill，Inc，(New York)中记载的1，2-醌二叠氮化合物，日本专利特开2004-170566号公报、日本专利特开2002-40653号公报、日本专利特开2002-351068号公报、日本专利特开2004-4233号公报、日本专利特开2004-271975号公报等中记载的1，2-醌二叠氮化合物。日本专利特开2008-224970号公报的段落0066～0081中记载的1，2-醌二叠氮化合物也优选。

具有1，2-萘醌二叠氮基的化合物中，具有以下结构的化合物的感度特别高，因此可优选使用。

进而，最优选的具有1，2-萘醌二叠氮基的化合物为下述化合物。就感度及透明性的观点而言，D中的H与1，2-萘醌二叠氮基的比例(摩尔比)优选为50∶50～1∶99。

本发明的感光性树脂组成物中，相对于树脂成分100重量份，(C)感放射线酸产生剂优选为使用0.1重量份～10重量份，更优选为使用0.5重量份～10重量份。特别优选为相对于总固体成分而以0.1％～10％的范围包含(C)感放射线酸产生剂。

(D)交联剂

本发明的感光性树脂组成物优选为视需要含有(D)交联剂。(D)交联剂例如可以添加以下所述的分子内具有2个以上环氧基或者氧杂环丁基的化合物、含烷氧基甲基的交联剂、具有至少1个乙烯性不饱和双键的化合物。本发明的感光性树脂组成物中，相对于树脂成分100重量份，(D)交联剂优选为使用1重量份～40重量份。特别优选为相对于总固体成分而以1％～40％的范围包含(D)交联剂。

通过添加(D)交联剂，可使硬化膜成为更牢固的膜。交联剂可以添加以下化合物。

<分子内具有2个以上环氧基的化合物>

分子内具有2个以上环氧基的化合物的具体例可列举：双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、甲酚酚醛清漆型环氧树脂、联苯型环氧树脂、脂肪族环氧树脂等。

这些化合物可作为市售品来获取。例如，双酚A型环氧树脂可列举：JER827、JER828、JER834、JER1001、JER1002、JER1003、JER1055、JER1007、JER1009、JER1010(以上由三菱化学(股)制造)，EPICLON 860、EPICLON1050、EPICLON 1051、EPICLON 1055(以上由DIC(股)制造)等；双酚F型环氧树脂可列举：JER806、JER807、JER4004、JER4005、JER4007、JER4010(以上由三菱化学(股)制造)，EPICLON 830、EPICLON 835(以上由DIC(股)制造)，LCE-21、RE-602S(以上由日本化药(股)制造)等；苯酚酚醛清漆型环氧树脂可列举：JER152、JER154、JER157S65、JER157S70(以上由三菱化学(股)制造)，EPICLON N-740、EPICLON N-740、EPICLONN-770、EPICLON N-775(以上由DIC(股)制造)等；甲酚酚醛清漆型环氧树脂可列举：EPICLON N-660、EPICLON N-665、EPICLON N-670、EPICLONN-673、EPICLON N-680、EPICLON N-690、EPICLON N-695(以上由DIC(股)制造)，EOCN-1020(以上由日本化药(股)制造)等；联苯型环氧树脂可列举：JERYX4000、JERYX4000H、JERYX4000HK、JERYL6121H(以上由三菱化学(股)制造)等；脂肪族环氧树脂可列举：ADEKA RESINEP-4080S、ADEKA RESIN EP-4085S、ADEKA RESIN EP-4088S(以上由(股)爱迪科(ADEKA)制造)，Celloxide 2021P、Celloxide 2081、Celloxide 2083、Celloxide 2085、EHPE3150、EPOLEAD PB 3600、EPOLEAD PB 4700(以上由大赛璐(Daicel)化学工业(股)制造)，Denacol EX-211、Denacol 212、Denacol 212L、Denacol 214L、Denacol 216L、Denacol 313、Denacol 314、Denacol321、Denacol 321L、Denacol 411、Denacol 421、Denacol 512、Denacol 521、Denacol 611、Denacol 612、Denacol 614、Denacol 614B、Denacol 622、Denacol810、Denacol 811、Denacol 850、Denacol 850L、Denacol 851、Denacol 821、Denacol 830、Denacol 832、Denacol 841、Denacol 911、Denacol 941、Denacol920、Denacol 931、Denacol DLC-201、Denacol DLC-203、Denacol DLC-204、Denacol DLC-205、Denacol DLC-206、Denacol DLC-301、Denacol DLC-402(以上由长濑化学技术(Nagase ChemteX)制造)，YH-300、YH-301、YH-302、YH-315、YH-324、YH-325(以上由新日铁化学制造)等。除此以外，还可以列举：ADEKA RESIN EP-4000S、ADEKA RESIN EP-4003S、ADEKA RESINEP-4010S、ADEKA RESIN EP-4011S(以上由(股)ADEKA制造)，NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上由(股)ADEKA制造)，JER1031S、JER1032H60、JER604、JER630等。这些化合物可单独使用1种或者将2种以上组合使用。

这些化合物中优选的化合物可列举：双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、脂肪族环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、甲酚酚醛清漆型环氧树脂、联苯型环氧树脂。特别优选为双酚A型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、脂肪族环氧树脂、联苯型环氧树脂。

<分子内具有2个以上氧杂环丁基的化合物>

分子内具有2个以上氧杂环丁基的化合物的具体例可使用OXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX(以上由东亚合成(股)制造)。

当将树脂成分的总量设为100重量份时，具有环氧基或者氧杂环丁基的化合物在感光性树脂组成物中的添加量优选为1重量份～50重量份，更优选为3重量份～30重量份。

<含烷氧基甲基的交联剂>

含烷氧基甲基的交联剂优选为烷氧基甲基化三聚氰胺、烷氧基甲基化苯并胍胺、烷氧基甲基化甘脲以及烷氧基甲基化脲等。这些交联剂分别是通过将羟甲基化三聚氰胺、羟甲基化苯并胍胺、羟甲基化甘脲、或者羟甲基化脲的羟甲基转变为烷氧基甲基而获得。对于该烷氧基甲基的种类并无特别限定，例如可列举甲氧基甲基、乙氧基甲基、丙氧基甲基、丁氧基甲基等，就逸出气体的产生量的观点而言，特别优选为甲氧基甲基。这些交联性化合物中，可列举烷氧基甲基化三聚氰胺、烷氧基甲基化苯并胍胺、烷氧基甲基化甘脲作为优选的交联性化合物，就透明性的观点而言，特别优选为烷氧基甲基化甘脲。

这些含烷氧基甲基的交联剂可作为市售品来获取，例如可优选使用：Cymel 300、Cymel 301、Cymel 303、Cymel 370、Cymel 325、Cymel 327、Cymel701、Cymel 266、Cymel 267、Cymel 238、Cymel 1141、Cymel 272、Cymel 202、Cymel 1156、Cymel 1158、Cymel 1123、Cymel 1170、Cymel 1174、CymelUFR65、Cymel 300(以上由三井氰胺(股)制造)，Nikalac MX-750、NikalacMX-032、Nikalac MX-706、Nikalac MX-708、Nikalac MX-40、Nikalac MX-31、Nikalac MX-270、Nikalac MX-280、Nikalac MX-290、Nikalac MS-11、NikalacMW-30HM、Nikalac MW-100LM、Nikalac MW-390(以上由(股)三和化学制造)等。

在本发明的感光性树脂组成物中使用含烷氧基甲基的交联剂的情况下，含烷氧基甲基的交联剂的添加量相对于树脂成分100重量份，优选为0.05重量份～50重量份，更优选为0.5重量份～10重量份。通过在该范围内添加，可获得显影时的优选碱溶解性、及硬化后的膜的优异耐溶剂性。

<具有至少1个乙烯性不饱和双键的化合物>

具有至少1个乙烯性不饱和双键的化合物，可优选使用单官能(甲基)丙烯酸酯、2官能(甲基)丙烯酸酯、3官能以上的(甲基)丙烯酸酯等的(甲基)丙烯酸酯化合物。

单官能(甲基)丙烯酸酯例如可列举：(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、邻苯二甲酸2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-2-羟基丙酯等。

2官能(甲基)丙烯酸酯例如可列举：乙二醇(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、双苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯、双苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯等。

3官能以上的(甲基)丙烯酸酯例如可列举：三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、磷酸三((甲基)丙烯酰氧基乙)酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。

这些具有至少1个乙烯性不饱和双键的化合物可单独使用1种或者将2种以上组合使用。

本发明的感光性树脂组成物中具有至少1个乙烯性不饱和双键的化合物的使用比例相对于树脂成分100重量份，优选为50重量份以下，更优选为30重量份以下。通过以这种比例含有具有至少1个乙烯性不饱和双键的化合物，可提高由本发明的感光性树脂组成物所获得的绝缘膜的耐热性及表面硬度等。在添加具有至少1个乙烯性不饱和双键的化合物的情况下，优选为添加(J)热自由基产生剂。

(E)溶剂

本发明的感光性树脂组成物通常含有(E)溶剂。本发明的感光性树脂组成物优选为制备成将必需成分、优选成分、任意成分溶解于(E)溶剂中而成的溶液。

本发明的感光性树脂组成物中使用的(E)溶剂可使用公知的溶剂，可例示：乙二醇单烷基醚类、乙二醇二烷基醚类、乙二醇单烷基醚乙酸酯类、丙二醇单烷基醚类、丙二醇二烷基醚类、丙二醇单烷基醚乙酸酯类、二乙二醇二烷基醚类、二乙二醇单烷基醚乙酸酯类、二丙二醇单烷基醚类、二丙二醇二烷基醚类、二丙二醇单烷基醚乙酸酯类、酯类、酮类、酰胺类、内酯类等。

本发明的感光性树脂组成物中使用的(E)溶剂例如可列举：

(E-1)乙二醇单甲醚、乙二醇单***、乙二醇单丙醚、乙二醇单丁醚等乙二醇单烷基醚类；

(E-2)乙二醇二甲醚、乙二醇二***、乙二醇二丙醚等乙二醇二烷基醚类；

(E-3)乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇单***乙酸酯、乙二醇单丙醚乙酸酯、乙二醇单丁醚乙酸酯等乙二醇单烷基醚乙酸酯类；

(E-4)丙二醇单甲醚、丙二醇单***、丙二醇单丙醚、丙二醇单丁醚等丙二醇单烷基醚类；

(E-5)丙二醇二甲醚、丙二醇二***、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单***等丙二醇二烷基醚类；

(E-6)丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单***乙酸酯、丙二醇单丙醚乙酸酯、丙二醇单丁醚乙酸酯等丙二醇单烷基醚乙酸酯类；

(E-7)二乙二醇二甲醚、二乙二醇二***、二乙二醇乙基甲醚等二乙二醇二烷基醚类；

(E-8)二乙二醇单甲醚乙酸酯、二乙二醇单***乙酸酯、二乙二醇单丙醚乙酸酯、二乙二醇单丁醚乙酸酯等二乙二醇单烷基醚乙酸酯类；

(E-9)二丙二醇单甲醚、二丙二醇单***、二丙二醇单丙醚、二丙二醇单丁醚等二丙二醇单烷基醚类；

(E-9-1)二丙二醇二甲醚、二丙二醇二***、二丙二醇乙基甲醚等二丙二醇二烷基醚类；

(E-10)二丙二醇单甲醚乙酸酯、二丙二醇单***乙酸酯、二丙二醇单丙醚乙酸酯、二丙二醇单丁醚乙酸酯等二丙二醇单烷基醚乙酸酯类；

(E-11)乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯、乳酸异丙酯、乳酸正丁酯、乳酸异丁酯、乳酸正戊酯、乳酸异戊酯等乳酸酯类；

(E-12)乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、乙酸正戊酯、乙酸异戊酯、乙酸正己酯、乙酸2-乙基己酯、丙酸乙酯、丙酸正丙酯、丙酸异丙酯、丙酸正丁酯、丙酸异丁酯、丁酸甲酯、丁酸乙酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁酯、丁酸异丁酯等脂肪族羧酸酯类；

(E-13)羟基乙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸乙酯、甲氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲氧基丁基乙酸3-甲酯、3-甲氧基丁基丙酸-3-甲酯、3-甲氧基丁基丁酸-3-甲酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯等其他酯类；

(E-14)甲基乙酮、甲基丙酮、甲基-正丁酮、甲基异丁酮、2-庚酮、3-庚酮、4-庚酮、环己酮等酮类；

(E-15)N-甲基甲酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、N-甲基乙酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯啶酮等酰胺类；

(E-16)γ-丁内酯等内酯类等。

另外，这些溶剂中也可以进一步视需要添加：碳酸-1，3-丙二酯、丙二醇二乙酸酯、乙二醇乙酸酯、苄基***、二己醚、乙二醇单苯醚乙酸酯、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单***、异佛尔酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苄醇、苯甲醚、乙酸苄酯、苯甲酸甲酯、苯甲酸乙酯、苯甲酸苄酯、乙二酸二乙酯、顺丁烯二酸二乙酯、碳酸乙二酯、碳酸-1，3-丙二酯等溶剂。这些溶剂可单独使用1种或者将2种以上混合使用。本发明中可使用的溶剂优选为单独使用1种、或者并用2种，更优选为并用2种，尤其优选为将丙二醇单烷基醚乙酸酯类与二乙二醇二烷基醚类并用。

本发明的感光性树脂组成物中的(E)溶剂的含量相对于树脂成分100重量份，优选为50重量份～3,000重量份，更优选为100重量份～2,000重量份，尤其优选为150重量份～1,500重量份。

在(A)树脂不含酸不稳定基的情况下，更优选为相对于正型感光性树脂组成物的总固体成分，在以质量换算为1％～70％的范围内包含(A)含有通式(1)所表示的结构单元的碱可溶性树脂，在30％～99％的范围内包含(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂，且在0.1％～10％的范围内包含(C)感放射线酸产生剂(其中，合计含量不会超过100％)。尤其是特别优选为相对于正型感光性树脂组成物的总固体成分，在以质量换算为1％～50％的范围内包含(A)含有通式(1)所表示的结构单元的碱可溶性树脂，在50％～98％的范围内包含(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂，在0.1％～10％的范围内包含(C)感放射线酸产生剂，且在1％～40％的范围内包含(D)交联剂(其中，合计含量不会超过100％)。

本发明的正型感光性树脂组成物中，除了所述成分以外，可添加密着改良剂、碱性化合物、表面活性剂、塑化剂及热自由基产生剂、抗氧化剂，与热酸产生剂、紫外线吸收剂、增黏剂及有机或者无机的防沉淀剂等公知的添加剂。

(F)密着改良剂

本发明的感光性树脂组成物还可以含有(F)密着改良剂。本发明的感光性树脂组成物中可使用的(F)密着改良剂是成为基材的无机物，例如硅、氧化硅、氮化硅等硅化合物，提高金、铜、铝等金属与绝缘膜的密着性的化合物。具体而言，可列举硅烷偶联剂、硫醇系化合物等。本发明中使用的作为(F)密着改良剂的硅烷偶联剂是以表面的改质为目的的化合物，并无特别限定，可使用公知的化合物。

优选的硅烷偶联剂例如可列举：γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基烷基二烷氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基烷基二烷氧基硅烷、γ-氯丙基三烷氧基硅烷、γ-巯基丙基三烷氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷。这些化合物中，更优选为γ-环氧丙氧基丙基三烷氧基硅烷或γ-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷，尤其优选为γ-环氧丙氧基丙基三烷氧基硅烷。这些化合物可单独使用1种或者将2种以上组合使用。这些化合物不仅对提高和基板的密着性而言有效，并且对调整和基板的锥角而言亦有效。

本发明的感光性树脂组成物中的(F)密着改良剂的含量相对于树脂成分100重量份，优选为0.1重量份～20重量份，更优选为0.5重量份～10重量份。

(G)碱性化合物

本发明的感光性树脂组成物还可以含有(G)碱性化合物。(G)碱性化合物可从化学增幅抗蚀剂所使用的化合物中任意选择来使用。例如可列举脂肪族胺、芳香族胺、杂环式胺、氢氧化四级铵、羧酸的四级铵盐等。

脂肪族胺例如可列举：三甲胺、二乙胺、三乙胺、二-正丙胺、三-正丙胺、二-正戊胺、三-正戊胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二环己基胺、二环己基甲胺等。

芳香族胺例如可列举：苯胺、苄胺、N，N-二甲基苯胺、二苯胺等。

杂环式胺例如可列举：吡啶、2-甲基吡啶、4-甲基吡啶、2-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2-苯基吡啶、4-苯基吡啶、N-甲基-4-苯基吡啶、4-二甲氨基吡啶、咪唑、苯并咪唑、4-甲基咪唑、2-苯基苯并咪唑、2，4，5-三苯基咪唑、烟碱、烟碱酸、烟碱酸酰胺、喹啉、8-氧基喹啉、吡嗪、吡唑、哒嗪、嘌呤、吡咯啶、哌啶、哌嗪、吗啉、4-甲基吗啉、1，5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯、1，8-二氮杂双环[5.3.0]-7-十一烯等。

氢氧化四级铵例如可列举：四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四-正丁基氢氧化铵、四-正己基氢氧化铵等。

羧酸的四级铵盐例如可列举：四甲基铵乙酸酯、四甲基铵苯甲酸酯、四-正丁基铵乙酸酯、四-正丁基铵苯甲酸酯等。

另外，本发明中也可以使用式(g1)所表示的化合物作为碱性化合物。通过使用式(g1)所表示的化合物，可实现低介电常数及高的基板密着性。

式(g1)

(式(g1)中，R¹及R²分别独立地表示碳数1～10的可分支的烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的环烷基、或者吗啉基；R³表示氧原子或者硫原子，A表示二价连结基。)

R¹优选为可具有取代基的芳基、可具有取代基的环烷基、或者吗啉基，尤其优选为吗啉基。

在R¹为芳基的情况下，可例示苯基及萘基，更优选为苯基。芳基可具有取代基，但优选为不具有取代基的芳基。

在R¹为环烷基的情况下，优选为5员环或6员环的环烷基，尤其优选为6员环的环烷基。环烷基可具有取代基，但优选为不具有取代基的环烷基。

R²优选为碳数1～10的可分支的烷基、可具有取代基的芳基、或者可具有取代基的环烷基。

在R²为烷基的情况下，优选为碳数1～8的烷基。

在R²为芳基的情况下，可例示苯基及萘基，更优选为苯基。芳基可具有取代基，但优选为不具有取代基的芳基。

在R²为环烷基的情况下，优选为5员环或6员环的环烷基，尤其优选为6员环的环烷基。环烷基可具有取代基，但优选为不具有取代基的环烷基。

A表示二价连结基，优选为亚烷基(例如亚甲基、亚乙基、亚丙基等)、环亚烷基(例如环亚己基、环亚戊基等)、亚芳基(例如1，2-亚苯基、1，3-亚苯基、1，4-亚苯基、亚萘基等)、醚基、羰基、酯基、酰胺基以及包含这些基团的组合的基团，尤其优选为亚烷基、醚基以及包含这些基团的组合的基团。

式(g1)所表示的化合物优选为式(g2)所表示的化合物。式(g2)：

(式(g2)中，R¹及R²分别独立地表示碳数1～10的可分支的烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的环烷基、或者吗啉基；A表示二价连结基)。

R¹、R²、A分别与所述式(g1)中的R¹、R²、A含义相同，优选的范围也含义相同。

式(g1)所表示的化合物更优选为式(g3)所表示的化合物。

式(g3)

(式(g3)中，A表示二价连结基。)

A与所述式(g1)中的A含义相同，优选的范围也含义相同。

本发明中可使用的碱性化合物可以单独使用1种，也可以并用2种以上。

本发明的感光性树脂组成物中的(G)碱性化合物的含量相对于树脂成分100重量份，优选为以0.001重量份～2.50重量份的比例包含，更优选为以0.005重量份～2.00重量份的比例包含。

(H)表面活性剂

本发明的感光性树脂组成物可含有(H)表面活性剂。(H)表面活性剂可使用阴离子系、阳离子系、非离子系、或者两性中的任一种，优选的表面活性剂为非离子系表面活性剂。

非离子系表面活性剂的例子可列举：聚氧乙烯高级烷基醚类、聚氧乙烯高级烷基苯醚类、聚氧乙二醇的高级脂肪酸二酯类、聚硅氧系、氟系表面活性剂。另外，可列举以下商品名：KP(信越化学工业(股)制造)、Polyflow(共荣公司化学(股)制造)、Eftop(JEMCO公司制造)、Megafac(DIC(股)制造)、Fluorad(住友3M(股)制造)、Aashi Guard、Surflon(旭硝子(股)制造)、PolyFox(OMNOVA公司制造)等各系列。另外，表面活性剂可列举在含有下述式(1)所表示的结构单元A及结构单元B且以四氢呋喃(THF)作为溶剂的情况下，利用凝胶渗透色谱法来测定的聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)为1,000以上10,000以下的共聚物作为优选例子。

结构单元A        结构单元B

(式(1)中，R¹及R³分别独立地表示氢原子或者甲基，R²表示碳数1以上4以下的直链亚烷基，R⁴表示氢原子或者碳数1以上4以下的烷基，L表示碳数3以上6以下的亚烷基，p及q为表示聚合比的重量百分率，p表示10重量％以上80重量％以下的数值，q表示20重量％以上90重量％以下的数值，r表示1以上18以下的整数，n表示1以上10以下的整数。)

所述L优选为下述式(2)所表示的分支亚烷基。式(2)中的R⁵表示碳数1以上4以下的烷基，就相容性及对被涂布面的润湿性方面而言，优选为碳数1以上3以下的烷基，更优选为碳数2或3的烷基。p与q的和(p+q)优选为p+q＝100，即100重量％。

所述共聚物的重量平均分子量(Mw)更优选为1,500以上5,000以下。

这些表面活性剂可单独使用1种或者将2种以上混合使用。

本发明的感光性树脂组成物中的(H)表面活性剂的添加量相对于树脂成分100重量份，优选为10重量份以下，更优选为0.01重量份～10重量份，尤其优选为0.01重量份～1重量份。

(I)塑化剂

本发明的感光性树脂组成物还可以含有(I)塑化剂。(I)塑化剂例如可列举：邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二十二烷基酯、聚乙二醇、甘油、二甲基甘油邻苯二甲酸酯、酒石酸二丁酯、己二酸二辛酯、三乙酰基甘油等。

本发明的感光性树脂组成物中的(I)塑化剂的添加量相对于树脂成分100重量份，优选为0.1重量份～30重量份，更优选为1重量份～10重量份。

(J)热自由基产生剂

本发明的感光性树脂组成物还可以含有(J)热自由基产生剂，在含有所述具有至少1个乙烯性不饱和双键的化合物之类的乙烯性不饱和化合物的情况，优选为含有(J)热自由基产生剂。本发明中的热自由基产生剂可使用公知的热自由基产生剂。

热自由基产生剂是利用热的能量来产生自由基，引发或促进聚合性化合物的聚合反应的化合物。通过添加热自由基产生剂，存在所得硬化膜变得更强韧，耐热性、耐溶剂性提高的情况。

优选的热自由基产生剂可列举：芳香族酮类、鎓盐化合物、有机过氧化物、硫代化合物、六芳基联咪唑化合物、酮肟酯化合物、硼酸盐化合物、嗪鎓化合物、二茂金属化合物、活性酯化合物、具有碳卤键的化合物、偶氮系化合物、联苄化合物等。(J)热自由基产生剂可以单独使用1种，也可以并用2种以上。

就膜物性提高的观点而言，当将(A)聚合物设为100重量份时，本发明的感光性树脂组成物中的(J)热自由基产生剂的添加量优选为0.01重量份～50重量份，更优选为0.1重量份～20重量份，最优选为0.5重量份～10重量份。

(K)抗氧化剂

本发明的感光性树脂组成物还可以含有(K)抗氧化剂。作为(K)抗氧化剂，可含有公知的抗氧化剂。通过添加(K)抗氧化剂，具有以下优点：可防止硬化膜的着色，或者可减少由分解引起的膜厚减少，另外，耐热透明性优异。这种抗氧化剂例如可列举：磷系抗氧化剂、酰肼类、受阻胺系抗氧化剂、硫系抗氧化剂、酚系抗氧化剂、抗坏血酸类、硫酸锌、糖类、亚硝酸盐、亚硫酸盐、硫代硫酸盐、羟基胺衍生物等。这些化合物中，就硬化膜的着色、膜厚减少的观点而言，特别优选为酚系抗氧化剂。这些抗氧化剂可单独使用1种，也可以将2种以上混合使用。

酚系抗氧化剂的市售品例如可列举：Adekastab AO-60、Adekastab AO-80(以上由(股)ADEKA制造)，Irganox 1098(汽巴日本(Ciba Japan)(股)制造)。

相对于感光性树脂组成物的总固体成分，(K)抗氧化剂的含量优选为0.1质量％～6质量％，更优选为0.2质量％～5质量％，特别优选为0.5质量％～4质量％。通过设为该范围，则获得所形成的膜的充分透明性，且图案形成时的感度也变得良好。

另外，作为抗氧化剂以外的添加剂，也可以将“高分子添加剂的新展开((股)日刊工业新闻公司)”中记载的各种紫外线吸收剂或金属失活剂等添加于本发明的感光性树脂组成物中。

<增感剂>

本发明的感光性树脂组成物在与(C)感放射线酸产生剂的组合中，为了促进其分解，优选为含有增感剂。增感剂吸收活性光线或者放射线而成为电子激发状态。成为电子激发状态的增感剂与光酸产生剂接触而产生电子转移、能量转移、发热等的作用。由此，光酸产生剂产生化学变化而分解生成酸。优选的增感剂的例子可列举属于以下化合物类，且在350nm至450nm波长域的任一个下具有吸收波长的化合物。

多核芳香族类(例如，芘(pyrene)、苝(perylene)、三亚苯(triphenylene)、蒽(anthracene)、9，10-二丁氧基蒽(9，10-dibutoxy anthracene)、9，10-二乙氧基蒽(9，10-diethoxy anthracene)、3，7-二甲氧基蒽(3，7-dimethoxy anthracene)、9，10-二丙氧基蒽(9，10-dipropyloxy anthracene))、氧杂蒽(xanthene)类(例如，荧光素(fluorescein)、曙红(eosin)、赤藓红(erythrosine)、罗丹明B(rhodamine B)、玫瑰红(rose bengal))、氧杂蒽酮(xanthone)类(例如，氧杂蒽酮、噻吨酮(thioxanthone)、二甲噻吨酮、二乙噻吨酮)、花青(cyanine)类(例如，硫杂羰花青(thiacarbocyanine)、氧杂羰花青(oxacarbocyanine))、部花青(merocyanine)类(例如，部花青(merocyanine)、羰部花青(carbomerocyanine))、若丹菁(rhodacyanine)类、氧喏(oxonol)类、噻嗪(thiazine)类(例如，硫堇(thionine)、亚甲基蓝(methylene blue)、甲苯胺蓝(toluidine blue))、吖啶(acridine)类(例如，吖啶橙(acridine orange)、氯黄素(chloroflavin)、吖啶黄素(acriflavine))、吖啶酮(acridone)类(例如，吖啶酮、10-丁基-2-氯吖啶酮)、蒽醌(anthraquinone)类(例如，蒽醌)、方酸内鎓盐类(例如，方酸内鎓盐)、苯乙烯基类、基础苯乙烯基类(例如，2-[2-[4-(二甲氨基)苯基]乙烯基]苯并噁唑)、香豆素类(例如，7-二乙氨基4-甲基香豆素、7-羟基4-甲基香豆素、2，3，6，7-四氢-9-甲基-1H，5H，11H[1]苯并吡喃并[6，7，8-ij]喹嗪-11-酮)。

这些增感剂中，优选为多核芳香族类、吖啶酮类、苯乙烯基类、基础苯乙烯基类、香豆素类，更优选为多核芳香族类。多核芳香族类中，最优选为蒽衍生物。

(硬化膜的形成方法)

以下，对本发明的硬化膜的形成方法进行说明。

本发明的硬化膜的形成方法的特征在于包括以下(1)～(5)的步骤。

(1)将本发明的感光性树脂组成物应用于基板上的步骤

(2)从所应用的感光性树脂组成物中去除溶剂的步骤

(3)利用活性光线进行曝光的步骤

(4)利用水性显影液进行显影的步骤

(5)进行热硬化的步骤(后烘烤步骤)

以下对各步骤依次进行说明。

(1)的应用步骤中，将本发明的感光性树脂组成物应用(通常为涂布)于基板上，形成含有溶剂的湿润膜。

(2)的溶剂去除步骤中，利用所应用的所述膜，通过减压(真空)和/或加热，来去除溶剂而在基板上形成干燥膜。

(3)的曝光步骤中，对所得的涂膜照射波长300nm以上450nm以下的活性光线。该步骤中，(B)光酸产生剂分解而产生酸。利用所产生的酸的催化剂作用，(A)共聚物中所含的酸分解性基进行水解而生成羧基或者酚性羟基。

酸催化剂的生成区域中，为了使所述水解反应加速，可视需要进行曝光后加热处理：Post Exposure Bake(以下也称为“PEB”)。通过PEB，可促进由酸分解性基生成羧基或者酚性羟基。

本发明中的来自式(a1-1)所表示的单体的结构单元中的酸分解性基由于酸分解的活化能量低，容易利用通过曝光的来自酸产生剂的酸而分解，产生羧基或者酚性羟基，因此也可以在不必进行PEB的情况下，通过显影来形成正图像。此外，还可以通过在比较低的温度下进行PEB，而在不产生交联反应的情况下，促进酸分解性基的水解。进行PEB的情况的温度优选为30℃以上130℃以下，更优选为40℃以上110℃以下，特别优选为50℃以上80℃以下。

(4)的显影步骤中，使用碱性显影液将具有游离的羧基或者酚性羟基的共聚物进行显影。将包含容易溶解于碱性显影液中的具有羧基或酚性羟基的树脂组成物的曝光部区域去除，由此形成正图像。

(5)的后烘烤步骤中，通过将所得的正图像进行加热，使结构单元(a1)中的酸分解性基进行热分解而生成羧基或者酚性羟基，使其与结构单元(a2)的交联基进行交联，由此可形成硬化膜。该加热优选为加热至150℃以上的高温，更优选为加热至180℃～250℃，特别优选为加热至200℃～250℃。加热时间可根据加热温度等来适当设定，优选为设为10分钟～90分钟的范围内。

若在后烘烤步骤之前添加将活性光线、优选为紫外线全面照射于显影图案的步骤，则可利用通过活性光线照射而产生的酸来促进交联反应。

接着，对使用本发明的感光性树脂组成物的硬化膜的形成方法进行具体说明。

<感光性树脂组成物的制备方法>

以规定的比例且利用任意方法将各种成分混合，进行搅拌溶解来制备感光性树脂组成物。例如，也可以制成使各成分预先溶解于(E)溶剂中而得的溶液，然后将它们以规定的比例混合来制备树脂组成物。以所述方式制备的组成物溶液也可以在利用孔径0.2μm的过滤器等进行过滤后，供于使用。

<应用步骤以及溶剂去除步骤>

可以通过将感光性树脂组成物应用于规定的基板上，通过减压和/或加热(预烘烤)来去除溶剂，从而形成所需的干燥涂膜。作为所述基板，例如在液晶显示元件的制造中，可例示设置有偏光板，进而视需要设置有黑矩阵层、彩色滤光器层，进而设置有透明导电电路层的玻璃板等。在基板上的应用方法并无特别限定，例如可使用狭缝涂布法、喷射法、辊涂布法、旋转涂布法等方法。其中，就适合于大型基板的观点而言，优选为狭缝涂布法。若利用大型基板来制造，则生产性高，优选。在此所谓大型基板，是指各边为1m以上的大小的基板。

另外，(2)溶剂去除步骤的加热条件是未曝光部的树脂成分中的结构单元(a1)中酸分解性基分解，使树脂成分在碱性显影液中无可溶性的范围，会根据各成分的种类或调配比而有所不同，优选为在80℃～130℃下进行30秒～120秒左右。

<曝光步骤以及显影步骤(图案形成方法)>

曝光步骤中，隔着具有规定图案的遮罩，对设置有涂膜的基板照射活性光线。曝光步骤后，视需要进行加热处理(PEB)，然后在显影步骤中，使用碱性显影液来去除曝光部区域而形成图像图案。

活性光线的曝光时可使用低压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、化学灯、发光二极管(light emitting diode，LED)光源、准分子激光产生装置等，可优选使用g线(436nm)、i线(365nm)、h线(405nm)等具有波长300nm以上450nm以下的波长的活性光线。另外，也可以视需要通过长波长截止滤光器、短波长截止滤光器、带通滤光器之类的分光滤光器来调整照射光。

显影步骤中使用的显影液中优选为包含碱性化合物。碱性化合物例如可使用：氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾等碱金属氢氧化物类；碳酸钠、碳酸钾等碱金属碳酸盐类；碳酸氢钠、碳酸氢钾等碱金属碳酸氢盐类；四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、氢氧化胆碱等氢氧化铵类；硅酸钠、偏硅酸钠等的水溶液。另外，也可以使用在所述碱类的水溶液中添加有适量的甲醇或乙醇等水溶性有机溶剂或表面活性剂的水溶液来作为显影液。

显影液的pH值优选为10.0～14.0。

显影时间优选为30秒～180秒，另外，显影的方法可以是浸置法(puddlemethod)、浸渍法等的任一种。显影后，可进行30秒～90秒的流水清洗，形成所需的图案。

<中间烘烤步骤(形状控制)>

对于和通过显影而获得的未曝光区域对应的图案，也可以通过在下述后烘烤步骤之前添加较后烘烤而言更低温度的烘烤来进行形状控制。中间烘烤通常是使用加热板或烘箱等加热装置，在较后烘烤而言更低的温度，例如70℃～130℃下，利用加热板进行1分钟～10分钟的加热处理，或者利用烘箱进行5分钟～20分钟的加热处理，由此来进行热流动以下温度下的硬化反应，抑制后续后烘烤时的热流动，使图案形状接近矩形。

<后烘烤步骤(交联步骤)>

对于和通过显影而获得的未曝光区域对应的图案，通过使用加热板或烘箱等加热装置，在规定的温度，例如180℃～250℃下进行规定时间的加热处理，例如在加热板上进行5分钟～60分钟，或者在烘箱中进行30分钟～90分钟，使树脂成分中的酸分解性基进行分解而产生羧基或者酚性羟基，使其与结构单元(a2)中的交联性基进行反应而交联，由此可形成耐热性、硬度等优异的保护膜或层间绝缘膜。另外，进行加热处理时，也可以通过在氮气环境下进行来提高透明性。此外，优选为通过在加热处理之前，利用活性光线对形成有图案的基板进行再曝光后，进行后烘烤(再曝光/后烘烤)，而由未曝光部分中存在的(B)成分产生酸，使其发挥作为促进交联步骤的催化剂的功能。

即，本发明的硬化膜的形成方法优选为在显影步骤与后烘烤步骤之间包括利用活性光线进行再曝光的再曝光步骤。再曝光步骤中的曝光只要利用与所述曝光步骤相同的方法来进行即可，所述再曝光步骤中，优选为对于基板的利用本发明感光性树脂组成物而形成有膜的一侧进行全面曝光。

再曝光步骤的优选曝光量为100mJ/cm²～1,000mJ/cm²。

利用本发明的感光性树脂组成物来获得绝缘性优异、在高温下烘烤的情况也具有高透明性的层间绝缘膜。使用本发明的感光性树脂组成物而形成的层间绝缘膜具有高透明性，且硬化膜物性优异，因此对于有机EL显示装置或液晶显示装置的用途而言有用。

本发明的有机EL显示装置或液晶显示装置除了具有使用所述本发明的感光性树脂组成物来形成的平坦化膜或层间绝缘膜以外，并无特别限制，可列举采取各种结构的公知的各种有机EL显示装置或液晶显示装置。

另外，本发明的感光性树脂组成物以及本发明的硬化膜并不限定于所述用途，可用于各种用途。例如，除了平坦化膜或层间绝缘膜以外，可适合用于用以将彩色滤光器的保护膜、或液晶显示装置中的液晶层的厚度保持固定的隔片，或固体摄像元件中设置于彩色滤光器上的微透镜等。

图1表示有机EL显示装置的一例的构成概念图。表示底部发光型有机EL显示装置中的基板的示意剖面图，具有平坦化膜4。

在玻璃基板6上形成底栅型TFT1，在覆盖该TFT1的状态下形成包含Si₃N₄的绝缘膜3。在绝缘膜3上形成在此省略图示的接触孔后，将经由该接触孔而与TFT1连接的配线2(高度1.0μm)形成于绝缘膜3上。配线2用来将TFT1之间或者在之后的步骤中形成的有机EL元件与TFT1连接。

进而，为了使由于配线2的形成而引起的凹凸变得平坦，在填埋由配线2引起的凹凸的状态下在绝缘膜3上形成平坦化层4。

平坦化膜4上形成有底部发光型的有机EL元件。即，包含ITO的第一电极5是经由接触孔7而与配线2连接来形成于平坦化膜4上。另外，第一电极5相当于有机EL元件的阳极。

形成有覆盖第一电极5的周缘的形状的绝缘膜8，通过设置该绝缘膜8，可防止第一电极5与在之后的步骤中形成的第二电极之间的短路。

进而，图1中并没有图示，但经由所需的图案遮罩，依次蒸镀设置电洞传输层、有机发光层、电子传输层，接着在基板上方的整个面上形成包含Al的第二电极，通过使用密封用玻璃板与紫外线硬化型环氧树脂进行贴合来密封，获得在各有机EL元件上连接用来驱动该元件的TFT1而形成的主动矩阵型有机EL显示装置。

图2是表示主动矩阵方式的液晶显示装置10的一例的概念的剖面图。该彩色液晶显示装置10是在背面具有背光源单元12的液晶面板，液晶面板配置有TFT16的元件，该TFT16的元件与配置在贴附有偏光膜的2片玻璃基板14、15之间的所有像素对应。形成于玻璃基板上的各元件上，通过形成于硬化膜17中的接触孔18而配线有形成像素电极的ITO透明电极19。ITO透明电极19上设置着液晶20的层及配置有黑矩阵的RGB彩色滤光器22。

实例

以下列举实例来对本发明进一步进行具体说明。以下的实例所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等只要不脱离本发明的主旨，则可适当变更。因此，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。

(粘合剂的合成例1)

向三口烧瓶中加入作为溶剂的二乙二醇乙基甲醚(东邦化学工业制造，Hisolve EDM，45g)，在氮气环境下升温至90℃。在该溶液中，溶解作为单体成分的甲基丙烯酸甲酯(MMA，和光纯药工业制造，3.27g)、甲基丙烯酸2-四氢呋喃酯(MATHF，合成品，22.17g)、甲基丙烯酸羟基乙酯(HEMA，和光纯药制造，6.57g)、甲基丙烯酸3-乙基-3-氧杂环丁基甲酯(OXE-30，大阪有机化学工业制造，20.26g)以及正丁氧基甲基丙烯酰胺(NBMA，东京化成制造，9.43g)，以及作为聚合引发剂的2，2′-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯(V-601，和光纯药工业制造，7.36g，相对于单体而言为8mol％)，以2小时滴下。滴下结束后搅拌2小时。向该溶液中进一步添加V-601(1.84g，相对于单体而言为2mol％)，进而搅拌2小时，使反应结束。由此获得粘合剂S-1。重量平均分子量为12000。

将单体种类等如下述表所示那样变更，此外以相同的方式合成S-2～S-4。

表1

所述表的单体成分的单位是以摩尔％表示。引发剂是表示为将单体成分设为100摩尔％时的摩尔％。固体成分浓度是以单体重量/(单体重量+溶剂重量)×100(单位：重量％)来表示。另外，使用V-601作为引发剂时的反应温度设为90℃，使用V-65作为引发剂时的反应温度设为70℃(对于以下的表也相同)。

所述表中，PHS表示对羟基苯乙烯(合成品)，MAEVE表示甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯(和光纯药工业制造)，GMA表示甲基丙烯酸环氧丙酯(和光纯药工业制造)，IBMA表示异丁氧基甲基丙烯酰胺(东京化成制造)，St表示苯乙烯(和光纯药工业制造)，V-65表示2，2′-偶氮双(2，4-二甲基戊腈)(和光纯药工业制造)。

(粘合剂的合成例2)

向三口烧瓶中加入作为溶剂的Hisolve EDM(35.7g)，在氮气环境下升温至90℃。在该溶液中溶解甲基丙烯酸(MAA，和光纯药工业制造，1.72g)、MMA(12.65g)、HEMA(11.05g)、St(5.20g)、NBMA(12.5g)、V-601(3.47g，相对于单体而言为8mol％)，以2小时滴下。滴下结束后搅拌2小时。向该溶液中进一步添加V-601(1.84g，相对于单体而言为2mol％)，进而搅拌2小时，使反应结束。由此获得粘合剂A-1。重量平均分子量为12000。以相同的方式合成A-2～A-21。将所使用的单体种类、溶剂等示于下述表。

所述表中，EHMA表示甲基丙烯酸2-乙基己酯(和光纯药工业制造)，MMAm表示甲氧基甲基丙烯酰胺(MRC Unitec公司制造)，PGMEA表示乙酸甲氧基丙酯(昭和电工制造)。另外，α-甲基苯乙烯二聚物是由和光纯药制造，十二烷基硫醇是由和光纯药制造。

(粘合剂的合成例3)

向三口烧瓶中加入PGMEA(35.7g)，在氮气环境下升温至90℃。在该溶液中，使MAA(1.72g)、MAEVE(12.65g)、OXE-30(11.05g)、HEMA(5.20g)、V-65(3.47g，相对于单体而言为3mol％)溶解于PGMEA(35.7g)中，以2小时滴下。滴下结束后搅拌2小时，使反应结束。由此获得粘合剂B-1。重量平均分子量为15000。

以相同的方式合成B-2～B-18及B′-1～B′-3。将所使用的单体种类、溶剂示于下述表中。

所述表中，t-BuMA表示甲基丙烯酸叔丁酯(和光纯药制造)，DCPM表示甲基丙烯酸二环戊酯(FA-513M，日立化成工业制造)，StOEVE表示4-(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯(对于以下的表也相同)。

表4

(比较粘合剂的合成例1)

向三口烧瓶中加入PGMEA(35.7g)，在氮气环境下升温至70℃。在该溶液中溶解MAA(1.03g)、MAEVE(12.65g)、OXE-30(12.52g)、HEMA(5.20g)、V-65(3.47g，相对于单体而言为7mol％)，以2小时滴下。滴下结束后搅拌4小时使反应结束。由此获得粘合剂R-1。重量平均分子量为10000。

以相同的方式合成R-2。将所使用的单体种类、溶剂示于下述表中。

表5

(比较粘合剂的合成例2)

依据日本专利特开2010-181730号公报中记载的方法，获得PHS/t-BuMA/BnMA聚合物(R-3)(日本专利特开2010-181730号公报中记载的A-1)。

(比较粘合剂的合成例3)

利用日本专利特开2009-235414号公报中记载的方法，获得降冰片烯的叔丁酯/双环(2.2.1)庚-5-烯-2-甲基苯甲酸酯(摩尔比：50/50)作为R-4。

甲基丙烯酸2-四氢呋喃酯(MATHF)的合成

将甲基丙烯酸(86g，1mol)冷却至15℃，添加樟脑磺酸(4.6g，0.02mol)。向该溶液中滴下2，3-二氢呋喃(71g，1mol，1.0当量)。搅拌1小时后，添加饱和碳酸氢钠水溶液(500mL)，以乙酸乙酯(500mL)进行萃取，以硫酸镁加以干燥后，将不溶物过滤，然后在40℃以下进行减压浓缩，将残渣的黄色油状物进行减压蒸馏，获得沸点(bp.)54℃/3.5mmHg～56℃/3.5mmHg的馏分MATHF 125g作为无色油状物(产率80％)。

StOEVE的合成

依据所述MATHF的合成来合成。

P-1：下述结构的肟磺酸酯的合成

向2-萘酚(10g)、氯苯(30mL)的悬浮溶液中添加氯化铝(10.6g)、2-氯丙酰氯(10.1g)，将混合液加热至40℃，使其反应2小时。在冰浴冷却下，向反应液中滴下4N的HCl水溶液(60mL)，添加乙酸乙酯(50mL)进行分液。向有机层中添加碳酸钾(19.2g)，在40℃下反应1小时后，添加2N的HCl水溶液(60mL)进行分液，将有机层浓缩后，利用二异丙醚(10mL)将结晶进行再浆(reslurry)，过滤、干燥而获得酮化合物(6.5g)。向所得的酮化合物(3.0g)、甲醇(30mL)的悬浮溶液中添加乙酸(7.3g)、50重量％羟基胺水溶液(8.0g)，加热回流。放冷后，添加水(50mL)，将析出的结晶过滤，以冷甲醇清洗后，加以干燥而获得肟化合物(2.4g)。

使所得的肟化合物(1.8g)溶解于丙酮(20mL)中，在冰浴冷却下添加三乙胺(1.5g)、对甲苯磺酰氯(2.4g)，升温至室温，反应1小时。向反应液中添加水(50mL)，将析出的结晶过滤后，以甲醇(20mL)进行再浆，过滤、干燥而获得B10(2.3g)。

此外，B10的¹H-NMR光谱(300MHz、CDCl₃)为δ＝8.3(d，1H)，8.0(d，2H)，7.9(d，1H)，7.8(d，1H)，7.6(dd，1H)，7.4(dd，1H)7.3(d，2H)，7.1(d.1H)，5.6(q，1H)，2.4(s，3H)，1.7(d，3H)。

P-3：下述结构的锍盐的合成

在甲醇(200mL)中溶解三苯基溴化锍(东京化成公司制造，34.3g)。向该溶液中，以30分钟滴下将对甲苯磺酸二水合物(20.8g)溶解于水(100mL)中的水溶液。将析出的结晶过滤，以甲醇/水＝50/50(50mL)进行再浆，过滤、干燥而获得30.3g的P-3。

<实例以及比较例的感光性树脂组成物的制备>

将下述所示的成分加以混合，以固体成分浓度成为20重量％的方式利用甲基乙二醇(MEDG)来调整。使用0.2μm的聚四氟乙烯制过滤器进行过滤，制备正型感光性树脂组成物。表中的粘合剂的调配比率表示重量比。

所述表中，各种添加剂的简称如下。

P-1：下述结构的肟磺酸酯(合成品)

P-2：下述结构的肟磺酸酯(PAI-101，绿化学工业公司制造)

P-3：下述结构的锍盐(合成品)

NQD：邻萘醌二叠氮(东洋合成工业公司制造)

S-1：下述结构的二丁氧基蒽(川崎化成公司制造)

JER：环氧交联剂(JER150S70，三菱化学制造)

JER2：环氧交联剂(JER1031S，三菱化学制造)

EX：环氧交联剂(Denacol EX-321L，Nagase ChemteX制造)

MX：甲氧基甲基交联剂(Nikalac MX-270，三和化学制造)

F-1：γ-环氧丙氧基丙基三烷氧基硅烷

G-1：2，4，5-三苯基咪唑

G-2：1，5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯

G-3：(g4)所表示的化合物

式(g4)

W-1：Megafac F-554(DIC制造)

W-2：FTX-218G(Neos公司制造)

所述式中，Ts表示对甲苯磺酰基，TsO^-表示对甲苯磺酸阴离子。

<评价>

对于所获得的组成物，以如下方式进行评价。

<穿透率>

在玻璃基板上形成膜厚3.0μm的涂膜。然后，使用i线步进机(Cannon(股)制造的FPA-3000i5+)，隔着规定的遮罩进行曝光。在碱性显影液(2.38重量％四甲基氢氧化铵水溶液)中在23℃下进行65秒的浸置显影后，以超纯水淋洗1分钟。对显影后的涂膜，使用超高压水银灯在波长365nm下照射300mJ/cm²的光后，在烘箱中以220℃加热45分钟。使用分光光度计(U-3000：(股)日立制作所制造)，以波长400nm来测定该硬化膜的穿透率。将最低穿透率示于表中(新鲜(Fresh)透明性)。

进而，在烘箱中以230℃加热2小时。以相同方式测定该硬化膜的穿透率(耐热穿透性)。

<感度>

在具有硅氧化膜的硅晶圆上狭缝涂布本发明的感光性树脂组成物，然后进行真空干燥而形成膜厚3μm的涂膜。

然后，使用i线步进机(Cannon(股)制造的FPA-3000i5+)，隔着规定的遮罩进行曝光。在碱性显影液(2.38重量％四甲基氢氧化铵水溶液)中，在23℃下进行65秒的浸置显影后，以超纯水淋洗1分钟。通过这些操作，将以1∶1来解析5μm的线与空间时的最佳曝光量作为感度。就生产性的观点而言，最佳曝光量优选为50mJ/cm²以下，更优选为20mJ/cm²以下。

<显影时的残膜率>

另外，测定显影后的未曝光部的膜厚，求出相对于涂布后的膜厚的比率(显影后的未曝光部膜厚÷涂布后的膜厚×100(％))，由此评价显影时的残膜率。

<相对介电常数>

在裸晶圆(N型低电阻)(SUMCO公司制造)上狭缝涂布感光性树脂组成物溶液，然后以90℃在加热板上预烘烤2分钟而形成膜厚3.0μm的感光性树脂组成物层。对所获得的感光性树脂组成物，利用Cannon(股)制造的PLA-501F曝光机(超高压水银灯)，以累计照射量达到300mJ/cm²(照度：20mW/cm²)的方式进行曝光，然后将该基板在烘箱中以220℃加热1小时，由此获得硬化膜。

对于该硬化膜，使用CVmap92A(Four Dimensions Inc.公司制造)，以测定频率1MHz来测定相对介电常数。该值小时，硬化膜的相对介电常数良好。

<耐干式蚀刻性>

在玻璃基板(Corning 1737，0.7mm厚(Corning公司制造))上狭缝涂布各感光性树脂组成物，然后在90℃/120秒加热板上进行加热来去除溶剂，形成膜厚4.0μm的感光性树脂组成物层。

对于所获得的感光性树脂组成物层，利用Cannon(股)制造的PLA-501F曝光机(超高压水银灯)，以累计照射量达到300mJ/cm²(照度：20mW/cm²，i线)的方式进行曝光，然后，将该基板在烘箱中以230℃加热1小时，获得硬化膜。对于该硬化膜，使用干式蚀刻装置“CDE-80N((股)ShibauraMechatronics制造)”，以作为蚀刻气体的CF4为50ml/min、O₂为10ml/min、输出功率为400mW、蚀刻时间为90秒的条件进行干式蚀刻。根据其膜减少量来算出蚀刻速度。数值越小，耐干式蚀刻性越高。

<耐透明电极溅射性的评价>

在玻璃基板(Corning 1737，0.7mm厚(Corning公司制造))上狭缝涂布各感光性树脂组成物，然后以90℃/120秒在加热板上加热来去除溶剂，形成膜厚4.0μm的感光性树脂组成物层。

对于所获得的感光性树脂组成物层，利用Cannon(股)制造的PLA-501F曝光机(超高压水银灯)，以累计照射量达到300mJ/cm²(照度：20mW/cm²，i线)的方式进行曝光，然后，将该基板在烘箱中以230℃加热1小时，获得硬化膜。

在该硬化膜上，通过溅射(ULVAC公司制造，SIH-3030，溅射温度250℃)来形成ITO作为透明电极。利用光学显微镜(500倍)来观察溅射后的硬化膜的表面。将无皱褶或者稍有皱褶但为实用水平的情况表示为OK，将其他表示为NG。

<锥角>

在玻璃基板上形成膜厚3.0μm的涂膜。然后，使用i线步进机(Cannon(股)制造的FPA-3000i5+)，隔着规定的遮罩，以具有与接触孔相当的直径10μm的中空图案的图案进行最佳曝光量的曝光。将所得的图案垂直切割，根据光学照片来算出与基盘的角度。

<膨润率>

在玻璃基板(Corning 1737，0.7mm厚(Corning公司制造))上狭缝涂布各感光性树脂组成物，然后以90℃/120秒在加热板上加热来去除溶剂，形成膜厚4.0μm的感光性树脂组成物层。

对于所获得的感光性树脂组成物层，利用Cannon(股)制造的PLA-501F曝光机(超高压水银灯)，以累计照射量达到300mJ/cm²(照度：20mW/cm²，i线)的方式进行曝光，然后，将该基板在烘箱中以230℃加热1小时，获得硬化膜。

使该硬化膜在单乙醇胺/二甲基亚砜＝30/70的混合溶液中浸渍6分种，提起该膜，拂去表面的液体后，立即测定膜厚。将浸渍前的膜厚与浸渍后的膜厚进行比较，将增加的比例以百分比来记载。

膨润率(％)＝浸渍后的膜厚(μm)/浸渍前的膜厚(μm)×100

<综合评价>

综合所述的评价，以5个阶段来评价。1为最优异。实用水平为3以上。将以上的结果总结示于下述表中。

根据所述表所明示，可知，正型感光性树脂组成物中，通过使用具有通式(1)所表示的结构单元的聚合物，而获得各种性能综合而言优异的正型感光性树脂组成物。进而，通过使氧亚甲基结构包含在树脂成分的结构单元中，不仅可改善耐干式蚀刻性以及K值，而且特别可获得感度非常高的正型感光性树脂组成物。进而，本发明的感光性树脂组成物在可提高耐剥离液性，可提高图案的锥角的方面也有意义。

(实例110)

使用实例1～实例98的组成物，在玻璃基板上形成膜厚3.0μm的涂膜。然后，使用i线步进机(Cannon(股)制造的FPA-3000i5+)，隔着规定的遮罩，以具有与接触孔相当的直径10μm的中空图案的图案进行最佳曝光量的曝光。显影后，使用烘箱，在90℃～130℃下进行暂时煅烧(称为中间烘烤)后，在烘箱中以230℃进行1小时的后烘烤。将所获得的图案垂直切割，根据光学照片来算出与基盘的角度。结果如下表，可通过进行中间烘烤来实现高的锥角度。

表12

表13

(实例111)

使用实例6的感光性树脂组成物，使用UV-LED光源曝光机取代超高压水银灯，实施与所述实例6相同的评价。结果，获得与实例6相同的结果。

(实例112)

除了使用实例6的感光性树脂组成物，将基板由硅晶圆变更为玻璃基板以外，以与对实例6的感光性树脂组成物所进行的感度评价相同的方式，来进行感度的评价。结果，获得与实例6相同的结果。

(实例113)

除了使用实例6的感光性树脂组成物，将曝光机由Cannon(股)制造的曝光机变更为(股)Nikon制造的FX-803M(gh-Line步进机)以外，以与对实例6的感光性树脂组成物所进行的感度评价相同的方式，来进行感度的评价。结果，获得与实例6相同的结果。

(实例114)

除了使用实例6的感光性树脂组成物，将曝光机由Cannon(股)制造的曝光机变更为355nm激光曝光机，来进行355nm激光曝光以外，以与对实例6的感光性树脂组成物所进行的感度评价相同的方式，来进行感度的评价。结果，获得与实例6相同的结果。

此外，355nm激光曝光机是使用(股)V-Technology制造的“EGIS”(波长355nm，脉冲宽度6nsec)，曝光量是使用OPHIR公司制造的“PE10B-V2”来测定。

如上所述，可知，不论基板、曝光机如何，实例的感光性树脂组成物均表现出优异的感度。

(实例115)

利用以下方法来制作使用薄膜晶体管(TFT)的有机EL显示装置(参照图1)。

在玻璃基板6上形成底栅型TFT1，以覆盖该TFT1的状态形成包含Si₃N₄的绝缘膜3。然后，在该绝缘膜3上形成在此省略图示的接触孔后，将经由该接触孔而与TFT1连接的配线2(高度1.0μm)形成于绝缘膜3上。该配线2用来将TFT1之间或者在之后步骤中形成的有机EL元件与TFT1连接。

进而，为了使由于配线2的形成而引起的凹凸变得平坦，在填埋由配线2引起的凹凸的状态下在绝缘膜3上形成平坦化层4。在绝缘膜3上形成平坦化膜4，是将实例18的感光性树脂组成物旋转涂布于基板上，在加热板上进行预烘烤(90℃×2分钟)后，从遮罩上使用高压水银灯来照射i线(365nm)45mJ/cm²(照度20mW/cm²)，然后利用碱性水溶液进行显影而形成图案，再在230℃下进行60分钟的加热处理。涂布该感光性树脂组成物时的涂布性良好，在曝光、显影、煅烧之后所获得的硬化膜上未发现皱褶或龟裂的产生。进而，配线2的平均阶差为500nm，所制作的平坦化膜4的膜厚为2,000nm。

接着，在所获得的平坦化膜4上形成底部发光型有机EL元件。首先，在平坦化膜4上，使包含ITO的第一电极5经由接触孔7而与配线2连接来形成。然后，涂布抗蚀剂，进行预烘烤，隔着所需图案的遮罩进行曝光、显影。以该抗蚀剂图案作为遮罩，通过使用ITO蚀刻剂的湿式蚀刻来进行图案加工。然后，使用抗蚀剂剥离液(单乙醇胺与二甲基亚砜(DMSO)的混合液)来剥离该抗蚀剂图案。如此所得的第一电极5相当于有机EL元件的阳极。

接着，形成覆盖第一电极5的周缘的形状的绝缘膜8。绝缘膜中使用实例7的感光性树脂组成物，以与所述相同的方法来形成绝缘膜8。通过设置该绝缘膜，可防止第一电极5与在之后的步骤中形成的第二电极之间的短路。

进而，在真空蒸镀装置内，隔着所需的图案遮罩，依次蒸镀而设置电洞传输层、有机发光层、电子传输层。接着，在基板上方的整个面上形成包含Al的第二电极。将所获得的所述基板从蒸镀机中取出，通过使用密封用玻璃板及紫外线硬化型环氧树脂进行贴合来密封。

以如上所述的方式，获得在各有机EL元件上连接用来驱动该元件的TFT1而形成的主动矩阵型有机EL显示装置。经由驱动电路来施加电压时表现出良好的显示特性，可知是可靠性高的有机EL显示装置。

(实例116)

实例115中，除了将实例6的感光性树脂组成物替代为实例1的感光性树脂组成物以外，以相同的方式制作有机EL装置。表现出良好的显示特性，可知是可靠性高的有机EL显示装置。

(实例117)

实例115中，除了将实例6的感光性树脂组成物替代为实例32的感光性树脂组成物以外，以相同的方式制作有机EL装置。表现出良好的显示特性，可知是可靠性高的有机EL显示装置。

(实例118)

日本专利第3321003号公报的图1及图2所记载的主动矩阵型液晶显示装置中，以如下方式形成硬化膜17作为层间绝缘膜，获得实例118的液晶显示装置。

即，使用实例6的感光性树脂组成物，以与所述实例115中的有机EL显示装置的平坦化膜4的形成方法相同的方法，来形成硬化膜17作为层间绝缘膜。

当对所获得的液晶显示装置施加驱动电压时，表现出良好的显示特性，可知是可靠性高的液晶显示装置。

(实例119)

实例118中，除了将实例6的感光性树脂组成物替代为实例1的感光性树脂组成物以外，以相同的方式制作液晶显示装置。表现出良好的显示特性，可知是可靠性高的液晶显示装置。

(实例120)

实例118中，除了将实例6的感光性树脂组成物替代为实例32的感光性树脂组成物以外，以相同的方式制作液晶显示装置。表现出良好的显示特性，可知是可靠性高的液晶显示装置。

Claims (26)

1.一种正型感光性树脂组成物，其特征在于：包含(A)含有通式(1)所表示的结构单元的碱可溶性树脂及(C)感放射线酸产生剂：

通式(1)

式中，R¹表示氢原子或甲基，R²表示碳数1～9的烷基。

2.根据权利要求1所述的正型感光性树脂组成物，其中还满足以下的(1)和/或(2)：

(1)(A)含有通式(1)所表示的结构单元的碱可溶性树脂具有酸不稳定基；

(2)该正型感光性树脂组成物包含(B)具有酸不稳定基的树脂。

3.根据权利要求2所述的正型感光性树脂组成物，其中所述含有酸不稳定基的碱可溶性树脂是含有酸基及交联基的树脂。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中(C)感放射线酸产生剂为肟磺酸酯化合物。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中所述含有酸不稳定基的碱可溶性树脂是含有作为酸解离性基的酸不稳定基的树脂，所述酸解离性基利用酸的作用而产生羧基或酚性羟基。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中所述含有酸不稳定基的碱可溶性树脂是含有作为羧基的酸基以及作为酸解离性基的酸不稳定基的树脂，所述酸解离性基利用酸的作用产生羧基或酚性羟基。

7.根据权利要求2至6中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中所述含有酸不稳定基的碱可溶性树脂含有下述所表示的结构单元的至少1种：

所述式中，R¹分别表示氢原子或者碳数1～4的烷基，L¹表示羰基或者亚苯基，R²分别表示碳数1～4的烷基；n1及n2分别为1～5的整数，n3为1～4的整数，n4为1～3的整数。

8.根据权利要求2至7中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中所述含有酸不稳定基的碱可溶性树脂含有下述通式(2)或通式(3)所表示的结构单元：

通式(2)    通式(3)

9.根据权利要求8所述的正型感光性树脂组成物，其中所述含有酸不稳定基的碱可溶性树脂含有通式(2)所表示的结构单元。

10.根据权利要求2至9中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中所述含有酸不稳定基的碱可溶性树脂是含有包含氧杂环丁烷基和/或环氧基的交联基的树脂。

11.根据权利要求2至10中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中包含(A)含有通式(1)所表示的结构单元的碱可溶性树脂、及(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂。

12.根据权利要求11所述的正型感光性树脂组成物，其中所述(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂是将(a)不饱和羧酸、(b)含有氧杂环丁烷或者环氧基的自由基聚合性化合物以及(c)含有酸不稳定基的自由基聚合性化合物进行共聚合而成的树脂。

13.根据权利要求11所述的正型感光性树脂组成物，其中所述(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂是将(a)不饱和羧酸、(b)含有氧杂环丁烷基的自由基聚合性化合物以及(c)含有酸不稳定基的自由基聚合性化合物进行共聚合而成的树脂。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中(A)碱可溶性树脂是还包含含有酸基的结构单元的聚合物。

15.根据权利要求1至14中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中(A)碱可溶性树脂是还包含来自苯乙烯的结构单元的聚合物。

16.根据权利要求2至15中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中固体成分的主成分为树脂成分，并且包含(A)含有通式(1)所表示的结构单元的碱可溶性树脂及(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂作为该树脂成分，且相对于总固体成分而在0.1％～10％的范围内包含(C)感放射线酸产生剂。

17.根据权利要求1至16中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中还包含(D)交联剂。

18.根据权利要求17所述的正型感光性树脂组成物，其中固体成分的主成分为树脂成分，并且包含(A)含有通式(1)所表示的结构单元的碱可溶性树脂及(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂作为该树脂成分，且相对于总固体成分而在0.1％～10％的范围内包含(C)感放射线酸产生剂，在1％～40％的范围内包含(D)交联剂。

19.根据权利要求2至18中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中以总树脂成分中10重量％～97重量％的比例包含(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂。

20.根据权利要求2至18中任一项所述的正型感光性树脂组成物，其中还包含(B)含有酸不稳定基的碱可溶性树脂以外的(B′)树脂，且以总树脂成分中3重量％～70重量％的比例包含该(B′)树脂。

21.一种硬化膜，将根据权利要求1至20中任一项所述的正型感光性树脂组成物应用于基板上，利用光和/或热使其硬化而成。

22.一种硬化膜，将根据权利要求1至20中任一项所述的正型感光性树脂组成物应用于基板上，通过在曝光后不包括加热处理而进行显影，进而加热的步骤来形成。

23.一种层间绝缘膜，使用根据权利要求21或22所述的硬化膜。

24.一种显示装置，其为液晶显示装置或者有机电激发光显示装置，包括根据权利要求23所述的层间绝缘膜。

25.一种硬化膜的形成方法，包括以下步骤：(1)将根据权利要求1至20中任一项所述的感光性树脂组成物应用于基板上的步骤；(2)从所应用的感光性树脂组成物中去除溶剂的步骤；(3)利用活性放射线进行曝光的步骤；(4)利用水性显影液进行显影的步骤；以及(5)进行热硬化的步骤。

26.根据权利要求25所述的硬化膜的形成方法，其中在所述进行显影的步骤后、进行热硬化的步骤前包括全面曝光的步骤。

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