CN102473480B - 透明导电性膜、电子设备及触摸面板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供具有充分的硬度、耐擦伤性优异、且防污性也优异的具有硬涂层的透明导电性膜、使用其的电子设备以及触摸面板。所述透明导电性膜(10)是含有透明膜基材(11)、透明导电性薄膜(12)及硬涂层(13)的透明导电性膜，所述硬涂层(13)是由含有(A)成分：具有丙烯酸酯基和甲基丙烯酸酯基中的至少一者的基团的固化型化合物、(B)成分：反应性氟化合物和(C)成分：反应性硅化合物的硬涂形成用组合物形成的。

Description

透明导电性膜、电子设备及触摸面板
技术领域
本发明涉及透明导电性膜、电子设备及触摸面板。
背景技术
以往，作为透明导电性薄膜，已知有在玻璃上形成氧化铟薄膜的所谓导电性玻璃，但因为导电性玻璃的基材是玻璃，因而挠性、加工性差，根据用途不同会有无法使用的情况。因而，近年除挠性、加工性以外，从耐冲击性优异、轻量等优点出发，使用以聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜为代表的各种塑料膜作为基材而形成的透明导电性膜。
为触摸面板所使用的透明导电性膜的情况时，因为相比于液晶显示装置等，与导电性膜直接接触的频率较高，因而寻求能兼顾耐擦伤性与防污性。所以，提出了下述方案：在透明导电性膜上设置硬涂层，为了提高硬涂层的耐擦伤性和防污性，使用含有具有氟原子和硅原子中任一原子的化合物的固化性组合物的硬涂层(例如参照专利文献1)。然而，随着近年来触摸面板的大幅普及而导致应用范围的多样化，可推定表面遭受损伤或附着脏污的机会也呈多样化。所以，对透明导电性膜寻求更高水平的耐擦伤性及防污性，以及上述特性的持续性。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2003-335984号公报
发明内容
发明所要解决的问题
因此，本发明的目的在于，提供具有充分的硬度、耐擦伤性优异、且防污性也优异的具有硬涂层的透明导电性膜、使用其的电子设备以及触摸面板。
用于解决问题的手段
为了实现上述目的，本发明的透明导电性膜是含有透明膜基材、透明导电性薄膜及硬涂层的透明导电性膜，其特征在于，所述硬涂层是由含有下述(A)成分、(B)成分及(C)成分的硬涂形成用组合物而形成的，其中，
(A)成分是具有丙烯酸酯基和甲基丙烯酸酯基中的至少一者的基团的固化型化合物，
(B)成分是反应性氟化合物，
(C)成分是反应性硅化合物。
本发明的电子设备是具备透明导电性膜的电子设备，其特征在于，所述透明导电性膜是上述本发明的透明导电性膜。
本发明的触摸面板是具备透明导电性膜的触摸面板，其特征在于，所述透明导电性膜是上述本发明的透明导电性膜。
发明的效果
本发明的透明导电性膜具有充分的硬度、耐擦伤性优异、且防污性也优异，因此经过长期表面也不易附着脏污，且即使在附着有脏污的情况下，也可以容易地拭除该脏污。本发明的透明导电性膜由于耐擦伤性优异，因此在进行上述擦拭时，亦不易造成擦伤。所以，使用本发明的透明导电性膜的电子设备及触摸面板可维持良好的特性。
附图说明
图1是表示本发明的透明导电性膜的一例的示意剖视图。
图2是表示本发明的透明导电性膜的另一例的示意剖视图。
图3是表示本发明的透明导电性膜的又另一例的示意剖视图。
图4是表示本发明的触摸面板的构成的一例的示意剖视图。
图5是表示本发明的透明导电性膜的再另一例的示意剖视图。
图6是表示本发明的触摸面板的构成的另一例的示意剖视图。
图7是表示本发明的触摸面板的构成的又另一例的示意剖视图。
具体实施方式
本发明的透明导电性膜中，上述(B)成分例如可以具有下述通式(1)表示的结构。下述通式(1)中，至少一个R是具有氟代烷基的取代基，且至少一个R是具有丙烯酸酯基和甲基丙烯酸酯基中的至少一者的取代基。
对于本发明的透明导电性膜，上述通式(1)的R中，上述具有氟代烷基的取代基例如可以具有下述通式(2)表示的结构。下述通式(2)表示的结构在其末端具有全氟聚醚单元(-CF2-CF2-(O-CF2-CF2-CF2)n-O-CF2-CF3)。上述全氟聚醚单元中，n是1以上的整数。
对于本发明的透明导电性膜，上述通式(1)的R中，上述具有丙烯酸酯基的取代基例如可以具有下述通式(3)表示的取代基。
上述(B)成分由上述通式(1)表示，上述通式(1)的R中，优选具有一个含有具有上述通式(2)表示的结构的氟代烷基的取代基，且具有二个含有具有上述通式(3)表示的结构的丙烯酸酯基的取代基。
本发明的透明导电性膜中，上述(C)成分例如可以具有下述通式(4)表示的结构。下述通式(4)中，R是从具有硅氧烷结构的取代基、具有丙烯酸酯基和甲基丙烯酸酯基中的至少一者的取代基、以及具有活性氢基的取代基中选择的取代基，各个R可以相同也可以不同。
本发明的透明导电性膜中，上述(C)成分例如可以具有下述通式(9)表示的结构。将下述通式(9)表示的结构规定为6-异氰酸酯己基三聚异氰酸单元(a)。
对于本发明的透明导电性膜，上述通式(4)的R中，上述具有硅氧烷结构的取代基例如可以具有下述通式(5)表示的结构。下述通式(5)表示的结构在其末端具有聚二甲基硅氧烷单元(c)，上述单元(c)与甲基羟丙基硅氧烷单元(b)键合，上述单元(b)的羟基与上述单元(a)的一部分即6-异氰酸酯己基三聚异氰酸的末端异氰酸酯基进行氨基甲酸酯键合。上述聚二甲基硅氧烷单元(c)中，n为1以上的整数，优选为1～7。
对于本发明的透明导电性膜，上述通式(4)的R中，上述具有活性氢基的取代基例如可以具有下述通式(6)表示的取代基。上述通式(6)表示的取代基中，上述单元(a)的一部分即6-异氰酸酯己基三聚异氰酸的末端异氰酸酯基会成为羧基。另外，上述通式(6)表示的取代基中，上述羧基也可以进行脱碳氧化而成为氨基。
对于本发明的透明导电性膜，上述通式(4)的R中，上述具有丙烯酸酯基的取代基例如可以具有下述通式(7)表示的结构。上述通式(7)表示的结构含有在末端具有丙烯酸酯基的脂肪族聚酯单元(d)，上述单元(d)与上述单元(a)的一部分即6-异氰酸酯己基三聚异氰酸的末端异氰酸酯基进行氨基甲酸酯键合。上述通式(7)中，m与n分别是1～10的整数，可以相同也可以不同。I是1～5的整数。
上述(C)成分为含有上述通式(9)表示的结构的单元(a)、且含有上述通式(5)～(7)表示的取代基的6-异氰酸酯己基三聚异氰酸的衍生物时，上述单元(a)：上述单元(b)：上述单元(c)：上述单元(d)的成分比例(摩尔比)如下：将上述单元(a)设为100时，上述单元(b)例如在1～80的范围内，优选在1～60的范围内；上述单元(c)例如在10～400的范围内，优选在10～300的范围内；上述单元(d)例如在1～100的范围内，优选在5～50的范围内。
本发明中，上述(C)成分的各构成成分(单元)的比例(摩尔比)例如可以从1H-NMR谱图的积分曲线求得。上述(C)成分的重均分子量(Mw)例如在500～150000的范围内，优选在2000～100000的范围内。上述重均分子量(Mw)例如可通过凝胶渗透色谱(GPC)法进行测定。
上述(B)成分优选使用具有上述通式(1)表示的结构的化合物，且上述(C)成分优选使用具有上述通式(4)表示的结构的化合物。通过使用具有类似的结构的化合物，推测各自所具有的作用在所形成的硬涂层中容易显现，但本发明并不受该推测的任何限制。
本发明的透明导电性膜中，上述硬涂形成用组合物优选相对于上述(A)成分100重量份，按照上述(B)成分为0.05～0.4重量份的范围进行配合，且按照上述(C)成分为0.05～1重量份的范围进行配合。
本发明的透明导电性膜中，上述硬涂形成用组合物优选进一步含有下述(D)成分。
(D)成分：无机氧化物粒子表面被含有聚合性不饱和基团的有机化合物修饰、且重均粒径在200nm以下的粒子。
本发明的透明导电性膜中，从防止光的散射、防止硬涂层的透射率降低、以及防止着色和透明性等观点出发，上述(D)成分的重均粒径优选为1～100nm的范围内。上述重均粒径例如可利用后述实施例所记载的方法进行测定。
本发明的透明导电性膜中，作为上述(D)成分，可举出例如氧化钛、氧化硅、氧化铝、氧化锌、氧化锡、氧化锆等微粒。其中优选氧化钛、氧化硅(二氧化硅)、氧化铝、氧化锌、氧化锡、氧化锆的微粒。它们可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
本发明的透明导电性膜中，上述硬涂形成用组合物优选相对于上述(A)成分100重量份，按照上述(D)成分为100～200重量份的范围进行配合。
本发明的透明导电性膜中，上述硬涂形成用组合物优选进一步含有下述(E成分。
(E)成分：下述通式(8)表示的二醇系化合物
上述通式(8)中，m与n分别是1以上的整数，可以相同也可以不同。
本发明的透明导电性膜中，上述硬涂形成用组合物相对于上述(A)成分100重量份，优选按照上述(B)成分为0.05～0.4重量份的范围进行配合，且按照上述(C)成分和上述(E)成分合计为0.1～1重量份的范围进行配合。
本发明的透明导电性膜中，上述硬涂层的最表层在采用ESCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis，化学分析电子能谱仪)的分析中，优选来自反应性氟化合物的氟原子强度在5～30％的范围内，且来自反应性硅化合物的硅原子强度在0.2～10％的范围内。如果在该范围内，则可更良好地兼顾耐擦伤性与防污性。
另外，反应性氟化合物或反应性硅化合物的添加量与最表层中上述各原子强度之间存在不一定会一致或成比例关系的倾向。例如，即使在使用同一组成的硬涂层形成用组合物来形成硬涂层的情况下，如果上述硬涂层的膜厚不同，也有最表层中上述各原子强度不相同的情况。所以，当想要使用本发明的硬涂层形成用组合物来获得具有更良好特性的硬涂膜时，进行着眼于上述各原子强度的特性评价是有效的。
上述氟原子强度更优选在10～30％的范围内，进一步优选在15～30％的范围内。上述硅原子强度更优选在0.2～8％的范围内，进一步优选在0.2～6％的范围内。
本发明的透明导电性膜中，上述硬涂层的厚度并无特别限制，可根据上述透明膜基材的厚度等来设定最佳厚度，例如为3～50μm的范围。通过将上述厚度设在上述范围，能够在不导致硬度降低的情况下，更有效地防止透明导电性膜发生卷曲和弯折。上述厚度更优选为4～25μm的范围，进一步优选为5～18μm的范围。
本发明的透明导电性膜中，上述硬涂层表面的根据JIS K 5600-5-4规定的在施加重负为500g下的铅笔硬度在4H以上。
本发明的透明导电性膜中，上述硬涂层表面的表面自由能优选为15～25mJ/m2的范围。所谓表面自由能，是指按照Kaelble Uy理论的水/十六烷的2成分的计算所算出的数值。上述表面自由能更优选为15～22mJ/m2的范围，进一步优选为15～20mJ/m2的范围。上述表面自由能值是对水和十六烷分别测定接触角，再从该值进行计算，可通过协和界面科学株式会社制“全自动接触角计DM700”等自动算出。
本发明的透明导电性膜中，上述硬涂层优选进一步含有微粒。
本发明的透明导电性膜中，优选在上述透明膜基材的一个面上具有上述硬涂层，且在另一个面上具有上述透明导电性薄膜。
本发明的透明导电性膜中，上述透明膜基材是将多片透明膜通过透明粘合剂层进行贴合而得到的层叠体。
本发明的透明导电性膜中，优选上述透明膜中的至少一片是装饰膜。
接着，对本发明进行详细说明。但本发明并不限定于以下的记载。
本发明的透明导电性膜含有透明膜基材、透明导电性薄膜及硬涂层。
本发明的透明导电性膜可以在透明膜基材的一个面上具有硬涂层，且在另一个面上具有透明导电性薄膜。或者，也可以在一个面上具有透明导电性薄膜，且在上述透明导电性薄膜上具有硬涂层。从发挥优异的防污性的观点出发，本发明的透明导电性膜优选在指头或笔等所接触到的最表面侧(例如作为触摸面板用途而使用时，即为其可见侧)层叠有硬涂层。
透明膜基材的材料并无特别限制，可适当地选择使用各种透明材料，但优选可见光的光线透射率优异(优选光线透射率为90％以上)、且透明性优异的材料(优选雾度值为1％以下的材料)。作为该材料，可举出例如聚酯系树脂、醋酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚偏氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫醚系树脂等。其中，优选聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚烯烃系树脂。
上述透明膜基材的折射率并无特别限制。上述折射率例如为1.30～1.80的范围，优选为1.40～1.70的范围。
本发明中，如果考虑强度、处理性等操作性及薄层性等方面，上述透明膜基材的厚度优选为1～400μm。更优选为5～200μm的范围。当上述厚度小于1μm时，从耐久性、加工性的观点出发不优选。另外，当大于400μm时，除了在具有本发明的透明导电性膜的电子设备或触摸面板中部件会变厚之外，例如在电阻膜方式的触摸面板的情况下，输入时需要施加较重的重负，因而不优选。
上述透明膜基材也可以是将多片透明膜通过透明粘合剂层进行贴合而得到的层叠体。在该情况下，可适当地选择各膜的厚度和材料，但优选至少1片的厚度在20～125μm的范围内。
另外，上述透明膜基材也可以是装饰膜。在透明膜基材是将多片透明膜通过透明粘合剂层进行贴合而得到的层叠体时，只要上述多片透明膜中的至少1片是装饰膜即可。上述装饰膜可以使用在透明膜的单面或双面上，采用印刷等公知的方法形成色彩或图案的装饰膜。在上述装饰膜上采用溅射法等形成透明导电性薄膜时，有时因溅射时所施加的热而导致装饰的部分遭受损伤。因此，在使用上述装饰膜时，如前所述，优选使用多片透明膜的层叠体作为上述透明膜基材，并在未施行装饰的透明膜上形成透明导电性薄膜。
作为在上述透明膜基材是上述透明膜的层叠体时所使用的粘合剂层，可在无特别限制的情况下使用具有透明性的粘合剂层。例如可使用丙烯酸系粘合剂、聚硅氧烷系粘合剂、橡胶系粘合剂等。上述粘合剂层在上述透明膜贴合后，通过其缓冲效果，具有使设置在上述透明膜基材的一个面上的透明导电性薄膜的耐擦伤性提高，或是使用于触摸面板时的打点特性提高的功能。从使该功能更良好发挥的观点出发，优选将粘合剂层的弹性模量设定为1～100N/cm2的范围。根据同样的理由，上述粘合剂层的厚度优选为1μm以上、更优选为5～100μm的范围。
若上述弹性模量低于1N/cm2，则上述粘合剂层为非弹性，因而会因加压而容易变形，使得上述膜基材、进而上述透明导电性薄膜上产生凹凸，且容易发生从加工切断面溢出粘合剂等情况。此外，上述透明导电性薄膜的耐擦伤性或上述打点特性的提高效果会降低。另一方面，如果弹性模量超过100N/cm2，则上述粘合剂层***，无法期待其缓冲效果，因而无法提高上述透明导电性薄膜的耐擦伤性或上述打点特性。另外，如果粘合剂层的厚度低于1μm，则还是无法期待其缓冲效果，因而无法期待上述透明导电性薄膜的耐擦伤性或上述打点特性的提高。相反，如果过厚，则有时损害透明性、或在上述粘合剂层的形成及膜基材贴合时的操作性或成本等方面不易获得良好结果。
透明膜基材也可在其表面上设置易粘接处理层，以提高上述硬涂层或上述透明导电性薄膜的密合性。上述易粘接处理层可通过在上述透明膜基材的表面上预先施行溅射处理、电晕放电处理、等离子体处理、火焰处理、紫外线照射处理、电子射线照射处理、酸或碱处理、蚀刻处理来设置，且可施行底涂处理来设置。另外，在形成上述硬涂层或上述透明导电性薄膜之前，根据需要也可以利用溶剂清洗、超声波清洗等进行除尘、清洁化。设置上述易粘接处理层对于上述硬涂层的形成时特别有效。
上述透明导电性薄膜的形成所使用的薄膜材料并无特别限制，可适当地选择使用能形成透明的导电性膜的材料。例如可使用包含金、银、铂、钯、铜、铝、镍、铬、钛、铁、钴、锡及它们的合金等的金属，或者包含氧化铟、氧化锡、氧化钛、氧化镉及它们的混合物的金属氧化物，包含碘化铜等的其他金属化合物，聚噻吩或聚苯胺等导电性高分子，包含碳纳米管的组合物等。上述透明导电性薄膜可以是结晶层、非结晶层中的任一者。作为上述材料，优选使用含有氧化锡的氧化铟、含有锑的氧化锡等。
作为上述透明导电性薄膜的形成方法，可适当地选择例如真空蒸镀法、溅射法、离子镀法、喷雾热分解法、化学镀覆法、电镀法或它们的组合法等各种薄膜形成法。从透明导电性薄膜的形成速度或大面积膜的形成性、生产率等观点出发，上述薄膜形成法优选采用真空蒸镀法、溅射法。
上述透明导电性薄膜的厚度可以根据使用目的而适当地决定。厚度通常为10～300nm、优选为10～200nm、更优选为15～50nm。上述透明导电性薄膜优选设定为具有其表面电阻值在1×103Ω/□以下的良好导电性的连续覆膜。
上述透明导电性薄膜也可以通过锚钉层进行设置。上述锚钉层可设置1层或2层以上。锚钉层通过无机物、有机物、或无机物与有机物的混合物而形成。锚钉层的形成对于提高上述透明膜基材与上述透明导电性薄膜的密合性，而且提高上述透明导电性薄膜的耐擦伤性与耐弯曲性，以及提高作为触摸面板用时的打点特性是有效的。
作为形成上述锚钉层的无机材料，例如，作为无机物，优选使用SiO2、MgF2、A12O3等。另外，作为有机物，可举出丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、三聚氰胺树脂、醇酸树脂、聚硅氧烷系聚合物等有机物。特别地，作为有机物，优选使用由三聚氰胺树脂、醇酸树脂和有机硅烷缩合物的混合物所构成的热固化型树脂。
上述锚钉层可使用上述材料，通过真空蒸镀法、溅射法、离子镀法、涂布法等而形成。
上述锚钉层的厚度通常为100nm以下、优选为15～100nm左右、更优选为20～60nm。
上述硬涂层是使用含有上述(A)成分、上述(B)成分及上述(C)成分的硬涂层形成用组合物而形成的。
作为上述(A)成分，可使用例如具有通过热、光(紫外线等)或电子射线等而固化的丙烯酸酯基和甲基丙烯酸酯基中的至少一者的基团的固化型化合物。作为上述(A)成分，例如可举出聚硅氧烷树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、聚硫醇多烯树脂、多元醇等多官能化合物的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等低聚物或预聚物等。它们可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
作为上述(A)成分，可以使用例如具有丙烯酸酯基和甲基丙烯酸酯基中的至少一者的基团的反应性稀释剂。上述反应性稀释剂包含例如单官能丙烯酸酯、单官能甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。上述单官能丙烯酸酯包含例如环氧乙烷改性酚的丙烯酸酯、环氧丙烷改性酚的丙烯酸酯、环氧乙烷改性壬酚的丙烯酸酯、环氧丙烷改性壬酚的丙烯酸酯、2-乙基己基卡必醇丙烯酸酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸四氢糠酯、丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丙酯、丙烯酸羟丁酯、丙烯酸羟己酯、二乙二醇单丙烯酸酯、三乙二醇单丙烯酸酯、三丙二醇单丙烯酸酯等。上述单官能甲基丙烯酸酯包含例如环氧乙烷改性酚的甲基丙烯酸酯、环氧丙烷改性酚的甲基丙烯酸酯、环氧乙烷改性壬酚的甲基丙烯酸酯、环氧丙烷改性壬酚的甲基丙烯酸酯、2-乙基己基卡必醇甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸四氢糠酯、甲基丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟丙酯、甲基丙烯酸羟丁酯、甲基丙烯酸羟己酯、二乙二醇单甲基丙烯酸酯、三乙二醇单甲基丙烯酸酯、三丙二醇单甲基丙烯酸酯等。上述多官能丙烯酸酯包含例如二乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、四丙二醇二丙烯酸酯、聚丙二醇二丙烯酸酯、1，4-丁二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、环氧乙烷改性新戊二醇的二丙烯酸酯、环氧乙烷改性双酚A的二丙烯酸酯、环氧丙烷改性双酚A的二丙烯酸酯、环氧乙烷改性氢化双酚A的二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷烯丙醚二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、环氧乙烷改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、环氧丙烷改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯等。上述多官能甲基丙烯酸酯包含例如二乙二醇二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、二丙二醇二甲基丙烯酸酯、三丙二醇二甲基丙烯酸酯、四丙二醇二甲基丙烯酸酯、聚丙二醇二甲基丙烯酸酯、1，4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、1，6-己二醇二甲基丙烯酸酯、环氧乙烷改性新戊二醇的二甲基丙烯酸酯、环氧乙烷改性双酚A的二甲基丙烯酸酯、环氧丙烷改性双酚A的二甲基丙烯酸酯、环氧乙烷改性氢化双酚A的二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷烯丙醚二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、环氧乙烷改性三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、环氧丙烷改性三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯等。作为上述反应性稀释剂，优选三官能团以上的丙烯酸酯、三官能团以上的甲基丙烯酸酯。这是因为可使硬涂层的硬度更优异。作为上述(A)成分，也可以举出例如丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、三聚异氰酸的丙烯酸酯、三聚异氰酸的甲基丙烯酸酯等。上述(A)成分可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
上述(B)成分与上述(C)成分如前所述。通过使用上述(B)成分，所得的硬涂层的表面自由能值降低，且上述硬涂层的防污性提高。另一方面，如果上述(B)成分的配合量过剩，则会有所得的硬涂层的耐擦伤性降低的倾向。另外，通过使用上述(C)成分，例如所形成的硬覆层的表面构造变为刚性同时滑性提高，耐擦伤性优异。另一方面，如果上述(C)成分的配合量过剩，则会有所得的硬涂层的防污性降低的倾向。从上述观点出发，上述(B)成分与上述(C)成分的配合比例相对于上述(A)成分100重量份，优选上述(B)成分在0.05～0.4重量份的范围内，且上述(C)成分在0.05～1.0重量份的范围内，更优选上述(B)成分在0.1～0.3重量份的范围内，且上述(C)成分在0.2～1.0重量份的范围内。
本发明的透明导电性膜例如可通过下述方法制造：在上述透明膜基材的一个面上形成透明导电性薄膜，进而，准备将上述三成分溶解或分散于溶剂中而得到的硬涂层形成用组合物，将上述硬涂层形成用组合物涂布于已形成有上述透明导电性薄膜的上述透明膜基材上，形成涂膜，从而进行制造。上述硬涂层形成用组合物可以涂布在上述透明导电性薄膜上，也可以涂布在形成有上述透明导电性薄膜的面的相反侧的面上。也可以涂布在已形成有上述透明导电性薄膜的上述透明膜基材的两个面上。
上述溶剂并无特别的限定。上述溶剂包含例如二丁醚、二甲氧基甲烷、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、环氧丙烷、1，4-二噁烷、1，3-二氧杂戊环、1，3，5-三噁烷、四氢呋喃、丙酮、甲乙酮(MEK)、二乙酮、二丙酮、二异丁酮、环戊酮、环己酮、甲基环己酮、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸正戊酯、醋酸甲酯、醋酸乙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、醋酸正戊酯、乙酰丙酮、二丙酮醇、乙酰醋酸甲酯、乙酰醋酸乙酯、甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、1-戊醇、2-甲基-2-丁醇、环己醇、醋酸异丁酯、甲基异丁基酮(MIBK)、2-辛酮、2-戊酮、2-己酮、2-庚酮、3-庚酮、乙二醇单乙基醚醋酸酯、乙二醇单乙基醚、乙二醇单丁基醚、乙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚醋酸酯、丙二醇单甲基醚等。它们可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
如前所述，上述硬涂层形成用组合物优选进一步含有上述(D)成分。上述(D)成分中，作为无机氧化物粒子，可以举出例如氧化硅(二氧化硅)、氧化钛、氧化铝、氧化锌、氧化锡、氧化锆等的微粒。其中优选氧化硅(二氧化硅)、氧化钛、氧化铝、氧化锌、氧化锡、氧化锆的微粒。它们可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
本发明的硬涂层形成用组合物中，从防止光的散射、防止硬涂层的透射率降低、以及防止着色及透明性等方面出发，上述(D)成分是重均粒径为200nm以下的范围的所谓纳米粒子。上述重均粒径例如可以通过后述实施例所记载的方法来测定。上述重均粒径优选为1nm～100nm的范围。
上述(D)成分中，上述无机氧化物粒子与含有聚合性不饱和基团的有机化合物相键合(表面修饰)。通过使上述聚合性不饱和基团与上述(A)成分进行反应固化，使硬涂层的硬度提高。作为上述聚合性不饱和基团，优选例如丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、丙烯基、丁二烯基、苯乙烯基、乙炔基、肉桂酰基、马来酸酯基、丙烯酰胺基。另外，上述含有聚合性不饱和基团的有机化合物优选是分子内具有硅醇基的化合物或通过水解而生成硅醇基的化合物。上述含有聚合性不饱和基团的有机化合物优选是具有光感应性基团的化合物。
上述(D)成分的配合量相对于上述(A)成分100重量份，优选为100～200重量份的范围。通过将上述(D)成分的配合量设为100重量份以上，可以更有效地防止透明导电性膜发生卷曲及弯折，通过设为200重量份以下，可以使耐擦伤性与铅笔硬度较高。上述(D)成分的配合量相对于上述(A)成分100重量份，更优选为120～180重量份的范围。
通过调整上述(D)成分的配合量，可调整例如上述硬涂层的折射率。从防止在上述透明膜基材与上述硬涂层界面发生的干涉条纹等方面出发，优选使上述透明膜基材与上述硬涂层的折射率差较小。上述干涉条纹是入射于透明导电性膜的外部光线的反射光呈彩虹颜色的色相的现象。最近，在办公室等处大多使用清晰性优异的三波长荧光灯。在上述三波长荧光灯下，上述干涉条纹显著显现。从上述观点出发，在调制上述硬涂层形成用组合物时，优选以缩小上述折射率差的方式，调整上述(D)成分的配合量。
上述折射率差优选为0.04以下，更优选为0.02以下。具体而言，例如当使用PET膜(折射率：约1.64)作为上述透明膜基材时，上述(D)成分使用氧化钛，通过将其相对于上述硬涂层形成用组合物中的树脂成分整体以30～40重量％左右进行配合，可将上述折射率差控制在0.02以下，从而能够抑制干涉条纹的发生。
如前所述，上述硬涂层形成用组合物优选进一步含有上述(E)成分。
当使用上述(E)成分时，在上述硬涂层形成用组合物的调制中，上述(E)成分优选以与上述(C)成分的混合物的形式来准备。作为含有上述混合物的材料，可以使用例如市售品。作为上述市售品，可举出例如大日本油墨化学工业株式会社制的商品名为“GRANDIC PC-4100”等。含有上述混合物的材料的重均分子量(Mw)并无特别限制。
通过使用上述(E)成分，例如所形成的硬涂层表面构造成为刚性同时滑性提高，耐擦伤性更优异。从兼顾耐擦伤性与防污性的观点出发，上述(E)成分的配合比例相对于上述(A)成分100重量份，优选上述(B)成分在0.05～0.4重量份的范围内，且上述(C)成分与上述(E)成分合计在0.1～1重量份的范围内，更优选上述(B)成分在0.1～0.3重量份的范围内，且上述(C)成分与上述(E)成分合计在0.2～1重量份的范围内。
上述硬涂层形成用组合物根据需要在不损害性能的范围内，可以含有颜料、填充剂、分散剂、增塑剂、紫外线吸收剂、表面活性剂、抗氧化剂、触变化剂等。上述添加剂可单独使用1种，也可以并用2种以上。
通过在上述硬涂层形成用组合物中添加微粒，可获得进一步兼备防眩性的透明导电性膜。上述微粒的主要功能是将所形成的硬涂层表面形成为凹凸形状而赋予防眩性，且控制上述硬涂层的雾度值。上述硬涂层的雾度值可通过对上述微粒与上述硬涂层形成用组合物的折射率差进行控制来进行设计。作为上述微粒，例如有无机微粒与有机微粒。上述无机微粒并无特别限制，可举出例如氧化硅微粒、氧化钛微粒、氧化铝微粒、氧化锌微粒、氧化锡微粒、碳酸钙微粒、硫酸钡微粒、滑石微粒、高岭土微粒、硫酸钙微粒等。另外，有机微粒并无特别限制，可举出例如聚甲基丙烯酸甲酯树脂粉末(PMMA微粒)、聚硅氧烷树脂粉末、聚苯乙烯树脂粉末、聚碳酸酯树脂粉末、丙烯酸-苯乙烯树脂粉末、苯并胍胺树脂粉末、三聚氰胺树脂粉末、聚烯烃树脂粉末、聚酯树脂粉末、聚酰胺树脂粉末、聚酰亚胺树脂粉末、聚氟乙烯树脂粉末等。这些无机微粒与有机微粒可单独使用1种，也可以并用2种以上。
上述硬涂层形成用组合物中，当上述(A)成分含有光固化型化合物时，可使用例如日本特开2008-88309号公报中记载的以往公知的光聚合引发剂。上述光聚合引发剂可单独使用1种，也可以并用2种以上。上述光聚合引发剂的配合量并无特别限制。上述配合量相对于上述(A)成分100重量份，例如在1～30重量份的范围内，优选在1～25重量份的范围内。
作为将上述硬涂层形成用组合物涂布在上述透明膜基材上、或者涂布在形成于上述透明膜基材上的上述透明导电性薄膜上而形成涂膜的方法，可使用例如：喷注式涂布法、模涂法、旋涂法、喷涂法、凹版涂布法、辊涂法、棒涂法等涂布法。形成涂膜后，使上述涂膜固化。优选在进行该固化之前使上述涂膜干燥。上述干燥例如可以是自然干燥，可以是吹风而进行风干，也可以是加热干燥，也可以是将它们进行组合的方法。
上述硬涂层形成用组合物的涂膜的固化手段并无特别限制。上述固化手段优选为电离放射线固化。上述固化手段可使用各种活性能量。上述活性能量优选为紫外线。作为能量射线源，优选例如高压汞灯、卤素灯、氙灯、金属卤化物灯、氮激光、电子射线加速装置、放射性元素等放射线源。上述能量射线源的照射量以紫外线波长为365nm下的积分曝光量计，优选为50～5000mJ/cm2的范围。如果上述照射量在50mJ/cm2以上，固化将更充分，所形成的上述硬涂层的硬度也会更充分。如果上述照射量在5000mJ/cm2以下，则可防止所形成的上述硬涂层的着色，可提高透明性。
通过上述方法，能够制造本发明的透明导电性膜。此外，本发明的透明导电性膜也可以用除上述方法以外的制造方法进行制造。
图1的示意剖视图表示本发明的透明导电性膜的构成的一例。同图中，为了容易理解，各构成部件的大小、比例等与实际不同。如图所示，该透明导电性膜10中，在透明膜基材11的单面上形成透明导电性薄膜12，并在另一面上形成硬涂层13。但本发明并不限定于此。根据透明导电性膜的用途，也可以采用如图2的示意剖视图所示的透明导电性膜20那样的，在透明膜基材11的单面上形成透明导电性薄膜12、并在该透明导电性薄膜12上形成硬涂层13的构成。另外，上述例的硬涂层13是单层。但本发明并不限定于此，上述硬涂层13也可以是二层以上层叠而成的多层构造。此时，只要至少本发明中的硬涂层形成用组合物形成的硬涂层在最表面即可。
上述透明导电性膜合适地用于例如电阻膜方式的触摸面板或静电容量方式的触摸面板等。
上述硬涂层13也可以进一步施行防反射处理、防眩(antiglare)处理等。
图3的示意剖视图表示本发明的透明导电性膜的构成的又另一例。图3中，对与图1相同的部分赋予相同的符号。图3所示的透明导电性膜30是使用将2片透明膜31a、31b通过透明粘合剂层32进行贴合得到的层叠体来代替图1的透明膜基材11时的一例。如该例所示，当上述透明膜基材为多片透明膜的层叠体时，透明导电性膜以上述多片透明膜层叠的状态用于触摸面板或电子设备的电极等。此例的透明导电性膜例如能够使已形成有硬涂层的第1透明膜与已形成有透明导电性薄膜的第2透明膜进行贴合而制造。另外，各透明膜的大小(面积)也可以不同。图3中透明膜是2片层叠，但透明膜的层叠也可以是3片以上。例如，如图5的示意剖视图所示，也可以层叠3片透明膜。图5中，对与图1相同的部分赋予相同的符号。图5所示的透明导电性膜50是使用将3片透明膜51a、51b及51c通过透明粘合剂层52a与52b进行贴合而得到的层叠体来代替图1的透明膜基材11时的一例。如该例所示，当上述透明膜基材是3片透明膜的层叠体时，已形成有透明导电性薄膜的第1透明膜(例如图5的透明膜51c)的厚度优选为20～200μm，更优选为20～125μm。未形成上述透明导电性薄膜及具有防污性的硬涂层的第2透明膜(例如图5的透明膜51b)的厚度优选为20～300μm。形成有上述硬涂层的第3透明膜(例如图5的透明膜51a)的厚度优选为20～300μm。
(触摸面板)
图4的剖视图表示本发明的触摸面板的构成的一例。图4中，对与图1相同的部分赋予相同的符号。如图所示，该触摸面板40具备具有透明导电层的一对面板41a、41b及间隔物42。其中一个面板41a是图1所示的本发明的透明导电性膜10。另一个面板41b是在基体43上层叠有透明导电性薄膜12而成的构成。上述一对面板41a、41b以各透明导电性薄膜之间相对向的方式隔着上述间隔物42而配置。上述基体43例如可以是上述透明膜基材，当未对触摸面板要求挠性时，例如也可以是厚度为0.05～10mm左右的玻璃板或膜状或板状塑料。上述塑料的材质与上述透明膜基材的形成材料相同。
该触摸面板40是下述的电阻膜方式的触摸面板：当从上述一个面板41a侧通过指头或输入笔等对抗上述间隔物42的弹性力而进行按压打点时，上述一对面板41a、41b的透明导电性薄膜之间便会接触，使电路成为ON状态，如果解除按压，则返回OFF状态。即，该触摸面板40作为透明开关结构而发挥功能。因为上述一个面板41a是图1所示的本发明的透明导电性膜，因而例如耐擦伤性、防污性及打点特性等均优异，且经过长期仍可稳定地维持上述功能。但本发明的触摸面板并不限定于此。本发明的触摸面板例如可以如图6所示的触摸面板60那样，一个面板是由图3所示的本发明的透明导电性膜构成的面板61a，也可以如图7所示的触摸面板70那样，一个面板是由图5所示的本发明的透明导电性膜构成的面板71a。另外，上述另一个面板41b可以是本发明的透明导电性膜。
上述间隔物42可以采用以往公知的间隔物。上述间隔物42的制造方法、尺寸、配置位置及数量均无特别的限制。另外，上述间隔物42的形状可采用例如大致球形、多边形等以往公知的形状。
本发明的透明导电性膜也可以良好地使用于静电容量方式的触摸面板。静电容量方式的触摸面板是在面板表面上形成均匀的电场，并传感由指头碰触所引起的电容变化。静电容量方式的触摸面板除图1所示的本发明的透明导电性膜以外，也可优选使用如图2所示的在透明导电性薄膜12上形成有硬涂层13的本发明的透明导电性膜。
本发明的透明导电性膜如上所述，能够合适地应用于例如电阻膜方式、静电容量方式、超声波方式等的触摸面板。特别适合于静电容量方式的触摸面板。当将本发明的透明导电性膜用于触摸面板时，从发挥优异防污性的观点出发，本发明的透明导电性膜优选以在指头或笔等所接触到的最表面侧(例如触摸面板的可见侧)层叠有硬涂层而形成的构成来进行使用。另外，本发明的透明导电性膜也能够合适地应用于例如电泳方式、扭转向列球方式、热敏重写方式、光写入液晶方式、高分子分散型液晶方式、宾主型液晶方式、色粉显示(toner display)方式、变色(chromism)方式、电场析出方式等挠性显示元件等电子设备。本发明的透明导电性膜除了触摸面板及显示元件以外，也可使用于要求导电性的任意用途。作为该用途，可举出例如防静电干扰膜、电磁波屏蔽等。
实施例
接着，对本发明的实施例与比较例一并进行说明。但本发明并不受以下的实施例和比较例的限制。另外，下述实施例和比较例的各种特性通过下述方法进行评价或测定。
(硬涂层的厚度)
使用Mitutoyo株式会社制的Microgage式厚度计，测定硬涂膜的整体厚度，再从上述整体厚度中减去透明膜基材的厚度，从而算出硬涂层的厚度。
(耐擦伤性)
硬涂层的耐擦伤性通过以下的试验内容进行评价。
(1)从硬涂膜的中心部切取150mm×50mm的样品，使未形成硬涂层的面位于下方，载置于玻璃板上。
(2)在直径为11mm的圆柱平滑截面上，均匀地安装钢丝棉#0000，并以载荷为1.5kg将上述样品表面以每秒约100mm的速度进行10次往复后，通过目视计数样品表面上所划入刮痕的条数，并通过以下的指标进行判定。
A：刮痕条数在10条以下
B：刮痕条数在11条～29条
C：刮痕条数在30条以上
(笔擦动性)
硬涂层的耐擦伤性通过以下试验内容的笔擦动性进行评价。
从由透明导电性层叠体所构成的面板侧，使用聚缩醛制的笔(前端直径为0.8R)，以荷重为500g、速度为5000mm/分钟、笔划为100mm的条件使笔尖往复而进行100万次擦动，观察硬涂层表面的状态。
A：擦动部未发现刮痕
B：仅在擦动往复部分能够发现刮痕
C：擦动部分整体均能够发现刮痕
(铅笔硬度)
从硬涂膜的中心部切取100mm×50mm的样品，使未形成硬涂层的面位于下方，载置于玻璃板上，然后根据JIS K 5600-5-4记载的铅笔硬度试验规定，测定载荷为500g下的铅笔硬度。铅笔使用三菱铅笔株式会社制“Uni”(铅笔刮痕值试验用日涂检检查完毕)。
(表面自由能)
使用协和界面科学株式会社制“全自动接触角计DM700”，测定水、十六烷的接触角，并利用解析软件FAMAS算出表面自由能。计算方法采用按照Kaelble Uy理论的2成份解析。
(利用ESCA的原子强度测定)
将试样切断为5mm见方的程度，将获得的试样片配置于钼(Mo)板上，并将Mo板连同试样台进行固定。使用ULVAC-PHI株式会社制“Quantum2000”进行原子强度的测定。X射线源设为单氯A1Kα，X射线输出设为30W(15kV)，测定区域设为200μmΦ，光电子取出角设为相对于试样表面呈45°。键能的修正通过将Cls光谱中起因于C-C键的峰修正为285.0eV而进行。中和条件以并用中和枪和Ar离子枪(中和模式)而进行。
对试样的任意2点在0～1100eV进行宽扫描测定，并实施定性分析。对所检测到的元素进行窄扫描，算出元素比例(atomic％)。针对Si2p光谱，用双官能硅、以及多官能硅及SiOx的各键所归属的峰进行波形解析，算出来自反应性硅化合物的硅原子强度。
按照上述条件，能够对从试样的最表面到深度约5～10nm的区域测定各原子强度比。试样表面为了预先除去污染物，以不会破坏试样表面程度的擦拭进行了清洗。进而，通过C60离子枪除去蚀刻，从而进行了污染物的除去。
(粒子((B)成分)的重均粒径)
将含有(B)成分的树脂原料用甲乙酮(MEK)稀释至固体成分浓度为10％，并使用动态光散射式粒径分布测定装置(堀场制作所株式会社制、“LB-500”)，测定了粒度分布。从所得到的粒度分布算出重均粒径。
(重均分子量)
重均分子量通过凝胶渗透色谱(GPC)法将聚苯乙烯作为标准试样而进行测定。具体而言，利用下述装置、器具及测定条件进行测定。
分析装置：TOSOH株式会社制，商品名“SC-8020”
柱：昭和电工株式会社制，商品名“Shodex”
柱尺寸：20.0mmΦ×500mm
柱温：室温
洗脱液：氯仿
流量：3.5mL/分钟
入口压：70kgf/cm2(6.9MPa)
[实施例1]
(硬涂层形成用组合物的调制)
准备分散有粒子表面被含有聚合性不饱和基团的有机化合物修饰的纳米二氧化硅粒子(上述(D)成分)、且含有上述(A)成分的树脂原料(JSR株式会社制，商品名“Opstar Z7540”，固体成分：56重量％，溶剂：醋酸丁酯/甲乙酮(MEK)＝76/24(重量比)]。
上述树脂原料含有二季戊四醇及异佛尔酮二异氰酸酯系聚氨酯作为上述(A)成分(紫外线固化型化合物)和表面经过有机分子修饰的二氧化硅微粒(重均粒径：100nm以下)作为上述(D)成分，且以(A)成分合计∶(D)成分＝2∶3的重量比含有。上述树脂原料的固化皮膜的折射率是1.485。
相对于100重量份该树脂原料的固体成分，添加0.2重量份反应性氟化合物(Daikin工业株式会社制，商品名“OPTOOL(注册商标)DAC”，固体成分20％，溶剂：1H，1H，3H-四氟丙醇)、0.5重量份反应性硅化合物(大日本油墨化学工业株式会社制，商品名“GRANDIC PC-4100”)、以及0.5重量份光聚合引发剂(Ciba Specialty Chemicals公司制，商品名“IRGACURE127”)，并按照固体成分浓度达到50重量％的方式，使用醋酸丁酯进行稀释，从而调制硬涂层形成用组合物。另外，上述反应性氟化合物以下述化合物为主成分，该化合物以上述通式(1)表示，上述通式(1)的R中，具有一个含有具有上述通式(2)表示的结构的氟代烷基的取代基，并具有二个含有具有上述通式(3)表示的结构的丙烯酸酯基的取代基。另外，上述反应性硅化合物是含有下述所示的成分1、成分2及溶剂的混合物。
成分1：上述通式(4)表示的反应性聚硅氧烷(上述通式(5)的单元(c)的聚二甲基硅氧烷单元(X1)、上述通式(5)的单元(b)的甲基羟丙基硅氧烷单元(X2)、上述通式(9)的6-异氰酸酯己基三聚异氰酸单元(X3)与上述通式(7)的单元(d)的取代基(X4)以X1∶X2∶X3∶X4(摩尔比)＝187∶39∶100∶57的比例含有)(6.85重量份)
成分2：上述通式(8)表示的二醇系化合物(3.15重量份)
溶剂：醋酸乙酯(90重量份)
(硬涂层的形成)
将上述硬涂层形成用组合物用棒涂器涂布在两表面设有易粘接层的透明膜基材(厚度为125μm的PET膜)的一个面上，形成涂膜。上述涂布后，通过在60℃下加热1分钟，使上述涂膜干燥。对上述干燥后的涂膜用金属卤化物灯照射积分光量为300mJ/cm2的紫外线而实施固化处理，形成厚度为7μm的硬涂层。
(透明导电性薄膜的形成)
在由氩气80％与氧气20％构成的4×103Torr(5.33x105Pa)气氛中，通过使用氧化铟90重量％-氧化锡10重量％的烧结体的反应性溅镀法，在上述PET膜的未形成硬涂层的面上，形成由厚度为25nm的ITO膜(光折射率：2.00)所构成的透明导电性薄膜。这样制作了本实施例的透明导电性膜。
[实施例2]
除了以使厚度为15μm的方式形成上述硬涂层以外，通过与实施例1同样的方法，获得本实施例的透明导电性膜。
[实施例3]
除了将上述反应性氟化合物设为0.1重量份，并将上述反应性硅化合物设为0.5重量份以外，通过与实施例1同样的方法，获得本实施例的透明导电性膜。
[实施例4]
除了将上述反应性氟化合物设为0.2重量份，并将上述反应性硅化合物设为0.2重量份以外，通过与实施例1同样的方法，获得本实施例的透明导电性膜。
[实施例5]
除了将上述反应性氟化合物设为0.1重量份，并将上述反应性硅化合物设为1重量份以外，通过与实施例1同样的方法，获得本实施例的透明导电性膜。
[实施例6]
除了将上述反应性氟化合物设为0.2重量份，并将上述反应性硅化合物设为1重量份以外，通过与实施例1同样的方法，获得本实施例的透明导电性膜。
[实施例7]’
除了将上述反应性氟化合物设为0.1重量份，并将上述反应性硅化合物设为0.2重量份以外，通过与实施例1同样的方法，获得本实施例的透明导电性膜。
[实施例8]
除了将上述反应性氟化合物设为0.1重量份，并将上述反应性硅化合物设为0.1重量份以外，通过与实施例1同样的方法，获得本实施例的透明导电性膜。
[实施例9]
除了将上述反应性氟化合物设为0.2重量份，并将上述反应性硅化合物设为0.1重量份以外，通过与实施例1同样的方法，获得本实施例的透明导电性膜。
[实施例10]
与实施例1同样地，在两表面上设有易粘接层的第一PET膜(厚度为125μm)的一个面上形成硬涂层。在由氩气80％与氧气20％构成的4×103Torr(5.33x105Pa)气氛中，通过使用氧化铟90重量％-氧化锡10重量％的烧结体的反应性溅镀法，在第二PET膜(厚度为25μm)的一个面上，形成由厚度为25nm的ITO膜(光折射率：2.00)所构成的透明导电性薄膜。在上述第一PET膜的未形成硬涂层的面上，形成约20μm厚度的丙烯酸系透明粘合层。在该粘合层面上，贴合上述第二PET膜的未设置透明导电性薄膜侧的面，从而制得层叠体。这样制作了本实施例的透明导电性膜。
[比较例1]
除了未添加上述反应性氟化合物与上述反应性硅化合物以外，通过与实施例1同样的方法，获得本比较例的透明导电性膜。
[比较例2]
除了未添加上述反应性氟化合物，且将上述反应性硅化合物设为0.2重量份以外，通过与实施例1同样的方法，获得本比较例的透明导电性膜。
[比较例3]
除了未添加上述反应性氟化合物，且将上述反应性硅化合物设为1重量份以外，通过与实施例1同样的方法，获得本比较例的透明导电性膜。
[比较例4]
除了将上述反应性氟化合物设为0.2重量份，且未添加上述反应性硅化合物以外，通过与实施例1同样的方法，获得本比较例的透明导电性膜。
[比较例5]
除了将上述反应性氟化合物设为1重量份，且未添加上述反应性硅化合物以外，通过与实施例1同样的方法，获得本比较例的透明导电性膜。
对这样得到的实施例及比较例的各透明导电性膜进行了各种特性的测定或评价。其结果示于下述表1。
如上述表1所示，实施例的透明导电性膜的耐擦伤性及以表面自由能值表示的防污性均良好。特别是在实施例1～6及10中显示出极优异的耐擦伤性。另外，实施例的透明导电性膜的铅笔硬度高，且卷曲特性良好。与此相对，比较例的透明导电性膜的耐擦伤性不足。比较例1～3的透明导电性膜的表面自由能值大，不能说是防污性良好。比较例4及比较例5的透明导电性膜虽然表面自由能值小，但耐擦伤性不足。
产业上的可利用性
本发明的透明导电性膜具有充分的硬度，耐擦伤性优异，且防污性也优异。所以，本发明的透明导电性膜可适当地用于挠性显示元件等的电子设备、触摸面板等，其用途并无限制，可适用于广泛的领域。
符号说明
10、20、30、50透明导电性膜
11透明膜基材
12透明导电性薄膜
13硬涂层
31a、31b、51a、51b、51c透明膜
32、52a、52b透明粘合剂层
40、60、70触摸面板
41a、41b、61a、71a面板
42间隔物
43基体

Claims (23)

1.一种透明导电性膜，其是含有透明膜基材、透明导电性薄膜及硬涂层的透明导电性膜，其特征在于，所述硬涂层是由含有下述(A)成分、(B)成分及(C)成分的硬涂形成用组合物而形成的，其中，
(A)成分是具有丙烯酸酯基和甲基丙烯酸酯基中的至少一者的基团的固化型化合物，
(B)成分是反应性氟化合物，
(C)成分是反应性硅化合物；
所述硬涂形成用组合物进一步包含下述（D）成分，所述（D）成分是无机氧化物粒子表面被含有聚合性不饱和基团的有机化合物修饰，且重均粒径在200nm以下的粒子，
所述硬涂形成用组合物进一步包含下述（E）成分，所述（E）成分是下述通式（8）表示的二醇系化合物，
[化8]
所述通式（8）中，m和n分别是1以上的整数，它们可以相同也可以不同。
2.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述(B)成分具有下述通式（1）表示的结构，
[化1]
所述通式（1）中，至少一个R是具有氟代烷基的取代基，且至少一个R是具有丙烯酸酯基和甲基丙烯酸酯基中的至少一者的取代基。
3.根据权利要求2所述的透明导电性膜，其中，所述通式（1）的R中，所述具有氟代烷基的取代基具有下述通式（2）表示的结构，
[化2]
所述通式（2）中，n为1以上的整数。
4.根据权利要求2所述的透明导电性膜，其中，所述通式（1）的R中，所述具有丙烯酸酯基的取代基具有下述通式（3）表示的取代基，
[化3]
5.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述（C）成分具有下述通式（4）表示的结构，
[化4]
所述通式（4）中，R是从具有硅氧烷结构的取代基、具有丙烯酸酯基和甲基丙烯酸酯基中的至少一者的取代基、以及具有活性氢基的取代基中选择的取代基，各个R可以相同也可以不同，至少一个R是具有硅氧烷结构的取代基。
6.根据权利要求5所述的透明导电性膜，其中，所述通式（4）的R中，所述具有硅氧烷结构的取代基具有下述通式（5）表示的结构，
[化5]
所述通式（5）中，n为1以上的整数。
7.根据权利要求5所述的透明导电性膜，其中，所述通式（4）的R中，所述具有活性氢基的取代基具有下述通式（6）表示的取代基，
[化6]
8.根据权利要求5所述的透明导电性膜，其中，所述通式（4）的R中，所述具有丙烯酸酯基的取代基具有下述通式（7）表示的取代基，
[化7]
所述通式（7）中，m和n分别是1～10的整数，它们可以相同也可以不同；l是1～5的整数。
9.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，在所述硬涂形成用组合物中，相对于100重量份所述（A）成分，以0.05～0.4重量份的范围配合有所述（B）成分，且以0.05～1重量份的范围配合有所述（C）成分。
10.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述（D）成分的重均粒径是1～100nm的范围。
11.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述（D）成分含有从氧化钛、氧化硅、氧化铝、氧化锌、氧化锡及氧化锆所组成的组中选择的至少1种微粒。
12.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，在所述硬涂形成用组合物中，相对于100重量份所述（A）成分，以100～200重量份的范围配合有所述（D）成分。
13.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，在所述硬涂形成用组合物中，相对于100重量份所述（A）成分，以0.05～0.4重量份的范围配合有所述（B）成分，且以总计为0.1～1重量份的范围配合有所述（C）成分和所述（E）成分。
14.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述硬涂层的最表层在通过ESCA的分析中，来自反应性氟化合物的氟原子强度在5～30％的范围内，且来自反应性硅化合物的硅原子强度在0.2～10%的范围内。
15.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述硬涂层的厚度在3～50μm的范围内。
16.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述硬涂层表面的根据JIS K5600-5-4规定的在施加重负为500g下的铅笔硬度在4H以上。
17.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述硬涂层表面的表面自由能在15～25mJ/m2的范围内。
18.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述硬涂层进一步含有微粒。
19.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，在所述透明膜基材的一个面上具有所述硬涂层，且在另一个面上具有所述透明导电性薄膜。
20.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，所述透明膜基材是将多片透明膜通过透明粘合剂层进行贴合而得到的层叠体。
21.根据权利要求20所述的透明导电性膜，其中，所述透明膜中的至少一片是装饰膜。
22.一种电子设备，其是具备透明导电性膜的电子设备，其特征在于，所述透明导电性膜是权利要求1中记载的透明导电性膜。
23.一种触摸面板，其是具备透明导电性膜的触摸面板，其特征在于，所述透明导电性膜是权利要求1中记载的透明导电性膜。
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