CN102385649A - 检测光学微影光罩的方法及***与装置 - Google Patents

检测光学微影光罩的方法及***与装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种检测光学微影光罩的方法及***与装置，其中接收到一设计数据库，并通过一偏向因子(Bias Factor)来调整此设计数据库的一图形，以产生被偏置的数据库(Biased Database)。对此被偏置的数据库进行影像显示(Image Rendering)，以产生被偏置的影像。亦使用此设计数据库来产生一光罩，而此光罩被造影产生一光罩影像。比较被偏置的影像与光罩影像，而可基于此比较来决定此偏向因子的一新数值。

Description

检测光学微影光罩的方法及***与装置
技术领域
本发明一般是有关于光学微影光罩，且特别是有关于一种检测光学微影光罩的方法与***。
背景技术
光学微影技术(photolithography)是一种于光敏媒介中产生变化的制程(process)。为了使用直接光学微影技术来选择性地暴露出光敏媒介的数个部分，一阻光媒介或光罩是置放在光源与光敏媒介之间。另一方面，可用使一反射光罩来反射光至光敏媒介上。当图形(或称为光罩特征)是大的时候，光敏媒介暴露出的形状是接近地对应至光罩的图形的形状。然而，当图形缩小时，如绕射、边缘效应(Fringing)和干涉的光行为变得较显著。减少光源的波长可减少这些效应。在半导体的生产中，光学微影技术是使用紫外光源和如离子束、X光、极紫外光(EUV)和深紫外光(DUV)等辐射光束来进行。当高频光不足时，光罩可能需要如饰纹(Serifs)或锤头(Hammerheads)等修改，以暴露出所要的设计图形。光罩亦可能需要次解析辅助图形(Subresolution Assist Features)，这些图形的尺寸不够大到足以直接解析在光敏媒介上，但大到足以影响通过其它图形的光行为。这些图形是被称为光学邻近修正(Optical Proximity Correction；OPC)图形。
使OPC图形成为必需物的相同的光行为阻止光罩图形被直接检测，替代的是，使用模拟模型来预测在检测时基于设计规格的光罩会如何出现。然后，可将此模型比较至光罩的一影像。然而，基于这些模型的比较会报导出相当数量的差异，而这些差异并不对应至实际光罩误差(Error)。经常地，这些差异必须被人工评估，以决定是否需要光罩修正。评估是昂贵且费工耗时的。因此，增加这些模型的精确度及减少假性(伪)误差的数量呈现出一真实价值。
发明内容
因此，本发明的一目的就是在提供一种检测光学微影光罩的方法、***与装置，借以增加光罩检测的精确度，来减少假性(伪)误差的数量；减少有缺点的光罩被用于生产中的风险；及减少设计规则的警戒带的需求。
根据本发明的一实施例，本发明提供一种检测光学微影光罩的方法。此方法包含接收一第一设计数据库；通过一偏向因子(Bias Factor)来调整第一设计数据库的一图形，以产生一第一被偏置的数据库(Biased Database)；该第一被偏置的数据库进行影像显示(Image Rendering)，以产生一第一被显示的数据库影像；接收一第一光罩影像；比较第一被显示的数据库影像与该第一光罩影像；以及基于比较步骤来决定该偏向因子的一新数值。
在又一实施例中，前述的比较步骤的一结果指出第一被显示的数据库影像与第一光罩影像间的一相配程度。
根据本发明的一实施例，本发明提供一种检测光学微影光罩的***。此***包含一第一接口、一第二接口和一偏置模块。第一接口是用以接收来自一设计实体的一设计数据库。第二接口是用以接收来自一外部来源的一偏向因子。偏置模块可***作来通过偏向因子调整该设计数据库的一图形，以产生一被偏置的数据库，被偏置的数据库是用以检测对应至设计数据库而被制作的一光罩。
在又一实施例中，前述的比较模块可操作来改善参考影像与光罩影像间的相配。
根据本发明的一实施例，本发明提供一种检测光学微影光罩的装置。此装置包含一第一接口、一第二接口、和一非暂时性有实体的计算机可读取储存媒介。第一接口是用以接收来自一设计实体的一设计数据库。第二接口是用以接收来自一外部来源的一偏向因子。非暂时性有实体的计算机可读取储存媒介储存有一计算机程序，其中计算机程序具有数个指令，当被执行时，这些指令通过该偏向因子来进行调整设计数据库的一图形，以产生一被偏置的数据库。被偏置的数据库是用以检测对应至设计数据库而被制作的一光罩。
在又一实施例中，前述的计算机程序还具有一组指令，当被执行时，此组指令进行：产生来自前述的被偏置的数据库的一被显示的数据库影像；以及比较前述的被显示的数据库影像与一光罩影像。
在又一实施例中，前述计算机程序还具有一组指令，当被执行时，此该组指令进行：改善前述的被显示的数据库影像与前述的光罩影像间的相配。
在又一实施例中，前述的偏向因子是有关于一性质，此性质可为：使用于光罩创作的一材料；使用于光罩造影的一模式；或使用于光罩造影的一检测平面。
本发明的优点为，可减少假性(伪)误差的数量；减少有缺点的光罩被用于生产中的风险；减少设计规则的警戒带的需求；及大幅地减少需要评估光罩的时间。
从以下结合所附附图所作的本发明实施例的详细描述，可对本发明上述与其它特征有更佳的了解。
附图说明
从上述结合所附附图所作的详细描述，可对本发明有更佳的了解。需强调的是，根据业界的标准实务，各特征并未依比例绘示。事实上，为了使讨论更为清楚，各特征的数量及尺寸都可任意地增加或减少。
图1是绘示依照本发明的一实施例的进行光学微影光罩检测的***的示意图；
图2是绘示依照本发明的一实施例的用以实施光学微影光罩检测制程的方法的流程图；
图3是绘示依照本发明的一实施例的用以实施光学微影光罩检测制程与修正制程的方法的流程图；
图4是绘示依照本发明的一实施例的用以实施使用多个偏向因子的光学微影光罩检测制程的方法的流程图；
图5是绘示依照本发明的一实施例的用以实施使用多个设计数据库的光学微影光罩检测制程的方法的流程图；
图6是绘示设计数据库的简化例子，此设计数据库是被偏置以较佳地对应至一关联的光罩；
图7是绘示依照本发明的一实施例的用以实施光学微影光罩检测制程的方法的流程图。
【主要组件符号说明】
10：光罩检测***                        12：偏置***
14：显像***                    16：比较***
18：设计数据库                  20：偏向因子
22：被偏置的数据库              24：被显像的数据库影像
26：光罩                        28：光罩产生设备
30：验证***                    32：光罩造影***
34：光罩影像                    36：最佳偏向因子
38：偏向调整步骤                40：显像步骤
42：光罩创作步骤                44：光罩验证步骤
46：光罩造影步骤                48：晶粒-至-数据库比较步骤
50：方块                        52：新的偏向决定步骤
54：最佳被偏置的数据库          56：最佳被显像的数据库影像
58：决定方块                    60：光罩修正决定步骤
62：偏向因子                    64：被偏置的数据库
66：被显像的数据库影像          68：偏向因子
70：被偏置的数据库              72：被显像的数据库影像
74：光罩造影步骤                76：光罩造影步骤
78：光罩影像                    80：光罩影像
82：光罩                        84：光罩影像
86：偏向因子                    88：被偏置的数据库
90：被显像的数据库影像          100：设计数据库
102：被偏置的数据库             104：被显像的数据库影像
106：设计数据库                 108：被偏置的数据库
110：被显像的数据库影像         112：光罩
114：光罩影像                   200：图形
202：对应图形                   204：图形
206：对应图形                   208：图形
210：图形                       212：图形
214：图形
300：接收设计数据库
302：以偏向因子来调整设计数据库而产生被偏置的数据库
304：对被偏置的数据库进行显像步骤而产生被显像的数据库影像
306：基于设计数据库来创作光罩
308：对光罩造影以产生光罩影像
310：比较被显像的数据库影像至光罩影像
312：决定一新数值给偏向因子
具体实施方式
本发明是有关于光学微影光罩的检测。当本发明是由制造集成电路的方面来描述时，可察知到，任何使用光学微影光罩来制造的装置的生产均可受益于本发明。
可理解的是，以下揭露提供许多不同实施例或例子，以实施发明的不同特征。以下叙述组件与其排列的特定例子，以简化本发明。这些组件与其排列仅是举例，并无意图成为限制。一些项目是以简化的形式绘示，并隐含有本技艺所熟知的组件。加上，本发明可能重复参考符号和/或字母于各种例子中。此重复是为了简明说明的目的，并不在其本身指出所讨论的各种实施例间和/或配置间的关系。
请参照图1，用于光学微影光罩的检测的***10的一实施例包含：偏置(Biasing)***(模块)12、显像(Rendering)***(模块)14和比较***(模块)16。***12、14和16每一者包含一或多个计算装置。另外，一或多个***12、14和16可被包含在单一计算装置中。例如：计算装置可包含服务器、超级计算机、个人计算机、个人数字助理器(Personal Digital Assistant；PDA)、传呼器、手机、其它合适的计算装置和/或其组合。计算装置可包含如中央处理单元、存储单元、输出输入装置、和/或网络接口。这些组件可通过总线***内连接在一起。可理解的是，每一计算机***可被不同地配置，且每一所列举的组件代表几个不同的组件。例如：中央处理单元可包含多重处理器或分布式处理***；存储单元可包含不同阶层的高速缓存、主存储器、硬盘、和/或远程储存位置；输出输入装置可包含监视器、鼠标、和/或键盘；网络接口可为调制解调器、无线收发器、和/或一或多个网络适配卡。由于计算装置可被连接至网络，某些组件有时可被其它装置所分享。因此，期望在计算装置的配置中有宽广的弹性范围。
请仍参照图1，设计数据库18被输入至***10中。设计数据库18是被一或多个数据文件所辨识，这些数据文件包含数个几何图案的全部或一次组合，此些几何图案是对应至一光罩的数个图形。这些几何图案一般是储存在如GDS-II或Oasis的布局描述语言(Layout Description Languae)中。由于当几何图案欲出现在光罩上时设计数据库18包含这些几何图案，故当检测相关联的光罩时设计数据库18可被视为黄金模型(Golden Model)。然而，当图形尺寸是小的时候，如绕射、边缘效应和干涉的光特性将对穿越光罩图形或自光罩图形反射出的光有显著的影响。例如：光罩中的方形孔可投射一圆形光至侦测器上。此结果是，即使对一完美的光罩而言，被一造影(Imaging)工具所报导出的图形将无法与设计数据库18中的图案相吻合。
在一实施例中，决定一初始偏向因子20，而偏置***12根据偏向因子20来调整设计数据库18中的一或多个图形。此可牵涉到修改图形的尺寸、位置、或整个形状。偏向因子20可包含一总体偏向，其中所有的图形均被一特别的偏向因子所调整。偏向因子20可包含一区域性偏向，其中一区域中的所有图形是被一特别的偏向因子所调整。偏向因子20可包含一图形偏向，其中图形种类(如饰纹、锤头和/或角落)是被一特别的偏向因子所调整。偏向因子20亦可包含一特定偏向，其中单一特定图形是被一特别的偏向因子所调整。习于此技艺的人士可认知到偏向值不需在各型式中均相等，亦不需沿着两轴均相等。偏置***12基于设计数据库18的被调整的图形来输出一被偏置的数据库22。被偏置的数据库22可包含数个几何图案，此些几何图案是对应至包含于设计数据库18中的几何图案的全部或一次组合。在一些实施例中，被偏置的数据库22将不会在与设计数据库18相同的格式中。
显像***14读入数据库，并通过决定当对应光罩被一光罩造影工具所观视时会如何出现，来模拟光罩创作。被偏置的数据库22是被输入至显像***14中。显像***14输出一被显像的数据库影像24(亦称为参考影像)，此参考影像代表使用被偏置的数据库22所产生的理想光罩的影像。
光罩26是被光罩产生设备(模块)28所产生。显像***14基于被偏置的数据库22产生一被模拟的光罩，而光罩产生设备28使用设计数据库18来产生一实际的光罩26。光罩26可包含基材、吸收层、和/或一或多个衰减层(Attenuating Layers)。此基材可包含熔凝硅土(Fused Silica)、熔凝石英、MoSi、氟化钙、和/或其它合适材料。此吸收层可包含铬(Cr)、MoSi、和/或其它合适材料。典型地，对应至设计数据库18的光罩图案是被蚀刻入吸收层中。此可使用如电子束写入和离子束写入的光罩写入技术、如湿式或干式蚀刻的蚀技术、或使用其它光罩写入技术来完成。衰减层可被形成为包含如金属硅化物、金属氮化物、氧化铁、无机材料、和/或其它合适材料的材料。光罩26可还包含一或多个反射层。可使用如硅/钼(Mo)、钼/铍(Be)、和/或其它合适材料来产生这些反射层。
以一验证***(模块)30来验证光罩26的全部或部分。验证提到决定光罩26是否正确地印出。可通过一或多个种种技术来进行验证，这些技术包含：直接检测、测量电子束的穿透或反射、测试印制在感光媒介上、或其它验证技术。此验证***30可包含电子显微镜(包含如光源或电子枪的幅射源、造影传感器、和自造影传感器记录数据的计算装置)；晶片(wafer)测试***(包含晶片探针器、和控制测试并记录数据的计算装置)；晶粒(chip)测试***(包含晶粒测试器、和控制测试并记录数据的计算装置)；和/或用以验证光罩或半导体组件的其它***。光罩26中的误差(其定义为不如预期般印出的区域)不需被修正，只要它们被辨识出即可。
以一光罩造影***(模块)32来对光罩26造影。光罩造影***32获得光罩26的影像。光罩造影***32可包含光源、造影传感器、和记录造影传感器的输出的计算硬件。光罩造影***32可被设置来测量自光罩26反射或通过光罩26的光。光源可操作在光化(Actinic)频率(一种用以对晶片曝光的频率)，但一般地，造影是使用具有较低频率的光源来进行。光罩造影***32记录由造影传感器所测量的原始值，且其亦可进行后处理以增加清晰度、分辨率，来模拟在另一光学平面的检测，或使相关的图形突出。这些处理过或未处理的测量是被输出为光罩影像34。
以比较***16将对应至光罩26的被验证部分的光罩影像34的一部分比较至被显像的数据库影像24。比较***16可比较整个设计或其次组合。光罩影像34和被显像的数据库影像24(其系与光罩26中的实质误差无关)间被报导出的差异是一伪真(False-positive)。伪真需要时间评估。由于如设计数据库18的未被偏置的数据库可能产生数千个伪真于一相对较小的区域中，故通过适当的偏向来减少伪真可大幅地减少需要评估光罩的时间。比较步骤亦可能造成一伪假(False-negative)，其中光罩26中的实质误差与被报导出的差异并无关联。直到修正此误差的成本已经上升时伪假才有可能被抓到，或者它们根本不会被抓到。若误差无法在有缺点的光罩用于生产前被发现，此光罩有可能产生大量的受损失产品。一种减少此风险的方法是加入一警戒带(Guard Band)至设计规则中。增加光罩检测的精确度可减少伪假；减少有缺点的光罩被用于生产中的风险；及减少设计规则的警戒带的需求。
一被适当偏置的被显像的数据库影像24将产生一最少数目的伪真和伪假。若伪真或伪假的数目是不可被接受的，将决定一新的偏向因子20，并设计数据库18将被偏置***12再次调整。若伪真或伪假的数目是可被接受的，则偏向因子20为一最佳偏向因子36。
请参照图2，一种检测光学微影光罩的方法是由接收设计数据库18和偏向因子20开始。对设计数据库18进行偏向调整步骤38，以通过偏向因子20修正设计数据库18的图形。所产生的形状被输出为被偏置的数据库22。对被偏置的数据库22进行显像步骤40。显像步骤40模拟对应至包含于被偏置的数据库22中的形状的光罩创作，并计算出光罩的外观，如同此光罩是被一光罩造影工具观视一般。此模拟的结果是被输出为被显像的数据库影像24。
设计数据库18亦可被用为通过光罩创作步骤42产生光罩26的输入。光罩26是被光罩验证步骤44所验证，以决定光罩26是否产生所要的形状于曝光的晶片上。对光罩26进行光罩造影步骤46，以获得光罩影像34。
于被显像的数据库影像24与光罩影像34间进行晶粒-至-数据库比较步骤48。如决定方块50所示，决定伪真或伪假的数目是否是可被接受的。若这些数目是不可被接受的，进行一新的偏向决定步骤52，以产生一新数值给偏向因子20。若这些数目是不被接受的，偏向因子20为最佳偏向因子36。
请参照图3，根据又一实施例，在光罩26使用于生产中之前，可使用最佳偏向因子36来检查并修正光罩26中的误差。此方法的开始是：使用最佳偏向因子36来对设计数据库18进行偏向调整步骤38。偏向调整步骤38产生最佳被偏置的数据库54。对最佳被偏置的数据库54进行显像步骤40，以产生最佳被显像的数据库影像56。同时，光罩创作步骤42制造对应至设计数据库18的光罩26。对光罩26进行光罩造影步骤46，并产生光罩影像34。以晶粒-至-数据库比较步骤48将光罩影像34比较至最佳被显像的数据库影像56。接着，必须于决定方块58中决定这些差异是否对应至光罩26中的实质误差。针对实质误差，进行光罩修正决定步骤60，以建立最佳解决方案来修正误差。可透过针对光罩26、设计数据库18、和/或其它合适的制程或组件的改变来实施修正。由于通过最佳偏向因子36来调整设计数据库18导致在晶粒-至-数据库比较步骤48中较少的假性(伪)状态，故偏向减少需要评估被报导出的差异的时间，此评估是用以决定哪些差异需要光罩修正。
请参照图4，在又一实施例中，通过使用二或多于二个独立的偏向因子来调整设计数据库18，可进一步地减少假性(伪)误差的数目，这些偏向因子的每一者是对一特别的制程变数被最佳化。例如：与测量被光罩反射的光线的光罩检测相比，测量穿透光罩的光线的光罩检测将会报导出不同边缘位置。因此，独立地分别决定穿透光线与反射光线的偏向因子是有帮助的。如又一实施例，光罩可于晶片平面中被检测，亦可于空气平面中被检测。在其它光学平面中的检测可报导出不同的边缘位置，这些边缘位置证明对每一检测平面的一偏向因子是适当的。
为完成上述实施例，以偏向因子62来调整设计数据库18，以产生一被偏置的数据库64。对被偏置的数据库64进行显像步骤40，以产生被显像的数据库影像66。同样地，以偏向因子68来调整设计数据库18，以产生一被偏置的数据库70。对被偏置的数据库70进行显像步骤40，以产生一被显像的数据库影像72。设计数据库18亦被用以产生光罩26。光罩造影步骤74和光罩造影步骤76代表于两个不同的检测模式中的检测。光罩26的光罩造影步骤74产生光罩影像78。光罩26的光罩造影步骤76产生光罩影像80。进行晶粒-至-数据库比较步骤48，以比较光罩影像78和被显像的数据库影像66；并进行晶粒-至-数据库比较步骤48，以比较光罩影像80和被显像的数据库影像72。进行两种不同的晶粒-至-数据库比较可容许偏向因子62和偏向因子68被独立地调整，因而减少必须被人工再检查的假性(伪)状态的数目。
请仍参照图4，在又一实施例中，独立地最佳化对应至二或多于二种光罩材料的二或多于二个偏向因子。光罩材料不同的光系数(n/k)，且在光罩造影步骤46中可产生不同的边缘位置。因此，当设计数据库18是被实施在多于一种光罩材料所制成的多于一个光罩中时，可通过对每一种光罩材料最佳化一独立的偏向因子来进一步减少假性(伪)误差的数目。
根据本实施例，光罩26是由设计数据库18所创作。此外，光罩82亦是由设计数据库18所产生。可使用不同于曾用以制造光罩26的光罩材料来制造光罩82。对光罩82进行光罩造影步骤46。同时，设计数据库18是被偏向因子86所调整，其是对应至用以制造光罩82的光罩材料。偏向调整步骤38，其是使用偏向因子86，并产生被偏置的数据库88。对被偏置的数据库88进行显像步骤40，以计算出一被显像的数据库影像90。进行晶粒-至-数据库比较步骤48，以比较光罩影像84和被显像的数据库影像90。***面检测)最佳化偏向因子，而仍在本发明的精神与范围中。
请参照图5，其为又一实施例的流程图，其可能使用不同的设计数据库以调整偏向因子20并产生生产用光罩。然后，调整用的设计数据库可被设计来包含结构简单以进行测试或高风险的结构。若这些结构不常发生于生产设计中，此步骤将证明是特别地有用的。调整用的设计数据库亦可小于用以产生生产用光罩的设计数据库。由于验证光罩的制程会是昂贵且花时间的，较小的数据库可容许较高的成本效益与有效率的调整。
请仍参照图5，以偏向因子20来调整设计数据库100，以产生被偏置的数据库102。对被偏置的数据库102进行显像步骤40，以产生一被显像的数据库影像104。光罩26是由设计数据库100所产生。对光罩26进行光罩验证步骤44，并对光罩26进行产生光罩影像34的光罩造影步骤46。晶粒-至-数据库比较步骤48比较光罩影像34与被显像的数据库影像104间的差异。若晶粒-至-数据库比较步骤48所报导出的假性(伪)误差的数目是不可被接受的高，进行一新的偏向决定步骤52，以决定一新数值给偏向因子20。当晶粒-至-数据库比较步骤48导致可接受数目的伪真或伪假时，则偏向因子20为一最佳偏向因子36。使用最佳偏向因子36来调整设计数据库106，以产生一被偏置的数据库108。被偏置的数据库108的显像步骤40造成一被显像的数据库影像110。使用设计数据库106来创作一光罩112，光罩112并被检测以产生一光罩影像114。进行晶粒-至-数据库比较步骤48以比较光罩影像114和被显像的数据库影像110。可通过修改设计数据库106、光罩112、和/或其它合适的制程或组件来修正对应至光罩112中的误差的差异。
本发明的实施例可采用计算机产品的形式，其可由提供计算机程序码的实体的计算机可使用或可读取媒介所存取，以被计算机或任何指令***所使用或连接。为了本叙述的目的，实体的计算机可使用或可读取媒介可为任何可包含、储存、通讯连接、传播、或运输被计算机或任何指令***所使用或连接的程序。此媒介可为电性的、磁性的、光学的、电磁性的、红外线、一半导体***(或装置或组件、)、或一传播媒介。
请参照图6，其是一简化的例子，在设计数据库18中，图形200是一正方形，边长为100nm。如图所示，假设显像步骤40是对设计数据库18进行，则一对应图形202大体上可能是圆形。显像步骤40可影响被显像的数据库影像24的结果。光罩26包含与图形200同位置和同形状的图形204。然而，在一例子中，光罩26的光罩造影步骤46产生大于图形204的一对应图形206。晶粒-至-数据库比较步骤48报导出一误差，如图形208所绘示。为修正此误差，对设计数据库18进行偏向调整步骤38，以产生被偏置的数据库22。在被偏置的数据库22中，图形210的边长为120nm。被偏置的数据库22的显像步骤40产生具有图形212的被显像的数据库影像24。图形212在尺寸上对应更接近图形206。晶粒-至-数据库比较步骤48无误差报导出，如图形214所绘示。
请参照图7，在一实施例中，在方块300中，方法是由接收设计数据库18开始。在方块302中，以偏向因子20来调整设计数据库18，而产生被偏置的数据库22。在方块304中，对被偏置的数据库22进行显像步骤40，而产生被显像的数据库影像24。在方块306中，亦使用(基于)设计数据库18来创作光罩26。在方块308中，对光罩26造影以产生光罩影像34。在方块310中，比较被显像的数据库影像24至光罩影像34。在方块312中，决定一新数值给偏向因子20。
因此，本发明提供一种检测光学微影光罩的方法。在一实施例中，此方法包含：接收一第一设计数据库，并通过一偏向因子来调整第一设计数据库的一图形，以产生一第一被偏置的数据库。此方法可亦包含：对第一被偏置的数据库进行影像显示，以产生一第一被显示的数据库影像(亦被称为第一被偏置的影像或第一参考影像)。此方法可还包含：接收一第一光罩影像；比较第一被显示的数据库影像与第一光罩影像；以及基于前述的比较步骤来决定偏向因子的一新数值。在又一实施例中，前述的接收一第一光罩影像的步骤包含；使用第一设计数据库来产生一第一光罩；以及对第一光罩造影，以产生第一光罩影像。
在一些实施例中，前述的方法亦包含：基于偏向因子来决定一最佳化的偏向因子，并通过最佳化的偏向因子来调整第一设计数据库的一图形，以产生一第二被偏置的数据库。此方法可亦包含：对第二被偏置的数据库进行影像显示，以产生一第二被显示的数据库影像(亦被称为第二被偏置的影像或第二参考影像)。此方法可亦包含：比较第二被显示的数据库影像与第一光罩影像；以及修正被此比较第二被显示的数据库影像与第一光罩影像的步骤所辨识出的缺陷。在其它实施例中，此方法可包含：产生一第二光罩；对第二光罩造影，以产生一第二光罩影像；比较第二被显示的数据库影像与第二光罩影像；以及修正被前述的比较第二被显示的数据库影像与第二光罩影像的步骤所辨识出的缺陷。
在一些实施例中，前述的方法包含：接收一第一设计数据库；通过一第一偏向因子来调整该第一设计数据库的一图形，以产生一第一被偏置的数据库；以及通过一第二偏向因子来调整该第一设计数据库的一图形，以产生一第二被偏置的数据库。第一偏向因子和第二偏向因子可与有关于一制程变量，此制程变量可为例如：第一光罩的一性质、或用以对第一光罩造影的一模式。
本发明亦提供一种检测光学微影光罩的***，此***包含一偏置***、一显像***和一比较***。偏置***能一设计数据库和一偏向因子，并被设计来通过偏向因子调整设计数据库的一图形，以产生一被偏置的数据库。显像模块能接收被偏置的数据库，并被设计来模拟对应至被偏置的数据库的一光罩的一影像及产生一被显示的数据库影像。比较模块能接收一光罩影像和一被显示的数据库影像，并被设计来比较参考影像与被显示的数据库影像。
本发明亦提供一种检测光学微影光罩的装置，此装置包含一非暂时性有实体的计算机可读取储存媒介，其储存有一计算机程序，其中计算机程序具有数个指令，当被执行时，这些指令通过偏向因子来进行调整设计数据库的一图形，并产生被偏置的数据库。
上述已概述数个实施例的特征，因此熟悉此技艺者可更了解上述的详细描述。熟悉此技艺者应了解到，其可轻易地利用本发明作为基础，来设计或润饰其它制程与结构，以实现相同的目的及/或达到与在此所介绍的实施例相同的优点。熟悉此技艺者也应了解到，这类对等架构并未脱离本发明的精神和范围，且熟悉此技艺者可在不脱离本发明的精神和范围下，进行各种的更动、取代与修改。

Claims (10)

1.一种检测光学微影光罩的方法，其特征在于，包含：
接收一第一设计数据库；
通过一偏向因子来调整该第一设计数据库的一图形，以产生一第一被偏置的数据库；
对该第一被偏置的数据库进行影像显示，以产生一第一被显示的数据库影像；
接收一第一光罩影像；
比较该第一被显示的数据库影像与该第一光罩影像，其中该比较步骤的一结果指出该第一被显示的数据库影像与该第一光罩影像间的一相配程度；以及
基于该比较步骤来决定该偏向因子的一新数值。
2.根据权利要求1所述的检测光学微影光罩的方法，其特征在于，该接收该第一光罩影像的步骤包含：
使用该第一设计数据库来产生一第一光罩；以及
对该第一光罩造影，以产生该第一光罩影像。
3.根据权利要求1所述的检测光学微影光罩的方法，其特征在于，该偏向因子是有关于一性质，该性质是选自由数个项目所组成的一群组，该些项目为：
使用于光罩创作的一材料；
使用于光罩造影的一模式；以及
使用于光罩造影的一检测平面。
4.根据权利要求1所述的检测光学微影光罩的方法，其特征在于，还包含：
基于该偏向因子来决定一最佳化的偏向因子；
通过该最佳化的偏向因子来调整该第一设计数据库的一图形，以产生一第二被偏置的数据库；
对该第二被偏置的数据库进行影像显示，以产生一第二被显示的数据库影像；
比较该第二被显示的数据库影像与该第一光罩影像；以及
修正被该比较该第二被显示的数据库影像与该第一光罩影像的步骤所辨识出的缺陷。
5.根据权利要求1所述的检测光学微影光罩的方法，其特征在于，还包含：
基于该偏向因子来决定一最佳化的偏向因子；
接收一第二设计数据库；
通过该最佳化的偏向因子来调整该第二设计数据库的一图形，以产生一第二被偏置的数据库；
对该第二被偏置的数据库进行影像显示，以产生一第二被显示的数据库影像；
接收一第二光罩影像，包含：
使用该第二设计数据库来产生一第二光罩；以及
对该第二光罩造影，以产生该第二光罩影像；
比较该第二被显示的数据库影像与该第二光罩影像；以及
修正被该比较该第二被显示的数据库影像与该第二光罩影像的步骤所辨识出的缺陷。
6.根据权利要求1所述的检测光学微影光罩的方法，其特征在于，该第一光罩影像是有关于一第一光罩材料，该检测光学微影光罩的方法还包含：
接收与一第二光罩材料有关的一第二光罩影像，包含：
使用该第一设计数据库来产生具有该第二光罩材料的一第二光罩；以及
对该第二光罩造影，以产生该第二光罩影像；
通过一第二偏向因子来调整该第一设计数据库的一图形，以产生一第二被偏置的数据库；
对该第一被偏置的数据库进行影像显示，以产生一第二被显示的数据库影像；
比较该第二被显示的数据库影像与该第二光罩影像；以及
基于该比较第二被显示的数据库影像与该第二光罩影像的步骤来决定该第二偏向因子的一新数值。
7.根据权利要求1所述的检测光学微影光罩的方法，其特征在于，该第一光罩影像是有关于在一第一模式中造影，该检测光学微影光罩的方法还包含：
接收关于在一第二模式中造影的一第二光罩影像，包含：
使用该第一设计数据库来产生一第一光罩；以及
在该第二模式中对该第一光罩造影，以产生该第二光罩影像；其中该第一模式和该第二模式是有关于一性质，该性质是选自由数个项目所组成的一群组，该些项目为：使用于光罩造影的一模式；以及使用于光罩造影的一检测平面；
通过一第二偏向因子来调整该第一设计数据库的一图形，以产生一第二被偏置的数据库；
对该第一被偏置的数据库进行影像显示，以产生一第二被显示的数据库影像；
比较该第二被显示的数据库影像与该第二光罩影像；以及
基于该比较第二被显示的数据库影像与该第二光罩影像的步骤来决定该第二偏向因子的一新数值。
8.一种检测光学微影光罩的***，其特征在于，包含：
一第一接口，用以接收来自一设计实体的一设计数据库；
一第二接口，用以接收来自一外部来源的一偏向因子；
一偏置模块，可操作来通过该偏向因子调整该设计数据库的一图形，以产生一被偏置的数据库，该被偏置的数据库是用以检测对应至该设计数据库而被制作的一光罩；
一显像模块，能接收该被偏置的数据库并可操作来产生一参考影像；
一比较模块，能接收一光罩影像和该参考影像，并可操作来比较该参考影像与该光罩影像，其中该比较模块可操作来改善该参考影像与该光罩影像间的相配；
一光罩产生模块，能接收该设计数据库并可操作来产生一光罩；以及
一光罩造影模块，能接收该光罩并可操作来产生一光罩影像。
9.根据权利要求8所述的检测光学微影光罩的***，其特征在于，该偏向因子是有关于一性质，该性质是选自由数个项目所组成的一群组，该些项目为：
使用于光罩创作的一材料；
使用于光罩造影的一模式；以及
使用于光罩造影的一检测平面。
10.一种检测光学微影光罩的装置，其特征在于，包含：
一第一接口，用以接收来自一设计实体的一设计数据库；
一第二接口，用以接收来自一外部来源的一偏向因子；以及
一非暂时性有实体的计算机可读取储存媒介，其储存有一计算机程序；其中
该计算机程序具有数个指令，当被执行时，该些指令通过该偏向因子来进行调整该设计数据库的一图形，以产生一被偏置的数据库，其中该被偏置的数据库系用以检测对应至该设计数据库而被制作的一光罩。
该计算机程序还具有一第一组指令，当该第一组指令被执行时，产生来自该被偏置的数据库的一被显示的数据库影像；以及比较该被显示的数据库影像与一光罩影像；以及
该计算机程序还具有一第二组指令，当第二组指令被执行时，改善该被显示的数据库影像与该光罩影像间的相配。
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