KR20220001534A - 마스크 검사 장치 및 마스크 검사 방법 - Google Patents

마스크 검사 장치 및 마스크 검사 방법 Download PDF

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Abstract

마스크 검사 장치 및 마스크 검사 방법이 제공된다. 마스크 검사 방법은 복수의 제1 개구부 및 복수의 제2 개구부를 포함하며, 상기 제1 개구부 각각은 상기 제2 개구부 각각과 평면상 다른 형상을 갖는 증착용 마스크를 준비하는 단계, 각각 적어도 하나의 상기 제1 개구부 및 적어도 하나의 상기 제2 개구부를 포함하는 제1 그룹 및 제2 그룹을 지정하는 단계, 상기 제1 그룹의 이미지와 상기 제2 그룹의 이미지를 비교하는 단계, 및 상기 제1 그룹의 이미지와 상기 제2 그룹의 이미지를 비교한 결과를 근거로, 상기 제1 그룹 및 상기 제2 그룹의 불량 여부를 판단하는 단계를 포함하되, 상기 제1 그룹에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 배열은 상기 제2 그룹에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 배열과 동일하다.

Description

마스크 검사 장치 및 마스크 검사 방법{Mask inspection apparatus and method of inspecting mask}
본 발명은 마스크 검사 장치 및 마스크 검사 방법에 관한 것이다.
일반적으로 휘도 특성 및 시야각 특성이 우수하고, 액정표시장치와 달리 별도의 광원부를 요구하지 않는 유기발광 표시장치(Organic Light Emitting Diode Display: OLED)가 차세대 평판표시장치로 주목받고 있다. 유기발광 표시장치는 별도의 광원을 필요로 하지 않아, 경량화 및 박형으로 제작될 수 있다. 또한, 유기발광 표시장치는 낮은 소비 전력, 높은 휘도, 및 높은 반응 속도 등의 특성을 갖는다.
유기 발광 표시 장치는 애노드, 유기 발광층, 및 캐소드를 각각 포함하는 복수 개의 유기 발광 소자들을 포함한다. 유기 발광 소자들의 제조시 증착용 마스크가 기판 상에 배치되고, 증착용 마스크의 개구부들을 통해 유기 발광층들을 형성하기 위한 유기 물질이 기판 상에 제공된다. 기술 발달과 함께 고 해상도의 표시 장치가 요구됨에 따라서, 표시 장치의 유기 발광 소자들의 개수가 많아지고 있다.
유기 발광 소자들의 개수가 많아짐에 따라 유기 발광층들의 제조시 사용되는 증착용 마스크의 개구부들의 개수도 많아지고 있다. 이러한 증착용 마스크는 금속을 포함하는 재질로 형성하는데 제조상의 문제로 복수의 개구가 모두 원하는 패턴으로 정확하게 형성되지 않을 수 있다. 이 경우, 증착 패턴에 불량이 발생할 수 있다. 상기 불량을 방지하기 위해 마스크를 미리 검사한다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 서로 다른 형상을 갖는 개구를 포함하는 마스크의 불량을 일괄적으로 검사할 수 있는 마스크 검사 장치 및 마스크 검사 방법을 제공하는 데에 있다.
본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 과제 해결을 위한 일 실시예에 따른 마스크 검사 방법은 복수의 제1 개구부 및 복수의 제2 개구부를 포함하며, 상기 제1 개구부 각각은 상기 제2 개구부 각각과 평면상 다른 형상을 갖는 증착용 마스크를 준비하는 단계, 각각 적어도 하나의 상기 제1 개구부 및 적어도 하나의 상기 제2 개구부를 포함하는 제1 그룹 및 제2 그룹을 지정하는 단계, 상기 제1 그룹의 이미지와 상기 제2 그룹의 이미지를 비교하는 단계, 및 상기 제1 그룹의 이미지와 상기 제2 그룹의 이미지를 비교한 결과를 근거로, 상기 제1 그룹 및 상기 제2 그룹의 불량 여부를 판단하는 단계를 포함하되, 상기 제1 그룹에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 배열은 상기 제2 그룹에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 배열과 동일하다.
상기 제1 그룹의 이미지와 상기 제2 그룹의 이미지를 비교하는 단계는 상기 제1 그룹의 면적과 상기 제2 그룹의 면적을 비교하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 제1 그룹과 상기 제2 그룹을 비교하는 단계 전에, 복수의 화소를 포함하는 CCD 센서를 포함하는 비전 유닛을 이용하여, 상기 제1 그룹과 상기 제2 그룹을 촬영하여 상기 제1 그룹의 이미지와 상기 제2 그룹의 이미지를 획득하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 제1 그룹의 면적과 상기 제2 그룹의 면적을 비교하는 단계는 상기 CCD 센서의 상기 화소 중 상기 제1 그룹 내에 배치된 일부의 개수와 상기 CCD 센서의 상기 화소 중 상기 제2 그룹 내에 배치된 다른 일부의 개수를 비교하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 제1 그룹의 이미지와 상기 제2 그룹의 이미지를 비교하는 단계는 상기 제1 그룹의 형상과 상기 제2 그룹의 형상을 비교하는 단계를 포함할 수 있다.
복수의 화소를 포함하는 CCD 센서를 포함하는 비전 유닛을 이용하여, 상기 제1 그룹과 상기 제2 그룹을 촬영하는 단계를 더 포함하고, 상기 제1 그룹의 형상과 상기 제2 그룹의 형상을 비교하는 단계는 상기 CCD 센서의 상기 화소 중 상기 제1 그룹 내에 배치된 일부의 형상과 상기 CCD 센서의 상기 화소 중 상기 제2 그룹 내에 배치된 다른 일부의 형상을 비교하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 제1 그룹과 상기 제2 그룹을 비교하는 단계는 상기 제1 그룹의 이미지 및 상기 제2 그룹의 이미지 중 어느 하나를 수평 방향으로 회전시키는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 제1 그룹의 이미지와 상기 제2 그룹의 이미지를 비교하는 단계는 검사자의 육안으로 비교하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 과제 해결을 위한 일 실시예에 따른 마스크 검사 방법은 복수의 제1 개구부 및 복수의 제2 개구부를 포함하며, 상기 제1 개구부 각각은 상기 제2 개구부 각각과 평면상 다른 형상을 갖는 증착용 마스크를 준비하는 단계, 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부를 포함하는 레퍼런스 이미지를 준비하는 단계, 각각 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부를 포함하는 복수의 그룹을 지정하는 단계, 상기 레퍼런스 이미지와 상기 그룹의 이미지를 비교하는 단계, 및 상기 레퍼런스 이미지와 상기 그룹의 이미지를 비교한 결과를 근거로, 상기 그룹의 불량 여부를 판단하는 단계를 포함하되, 상기 그룹에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 배열은 상기 레퍼런스 이미지에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 배열과 동일하다.
상기 레퍼런스 이미지와 상기 그룹의 이미지를 비교하는 단계는 상기 레퍼런스 이미지에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 면적과 상기 그룹에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 면적을 비교하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 레퍼런스 이미지와 상기 그룹의 이미지를 비교하는 단계는 상기 레퍼런스 이미지에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 형상과 상기 그룹에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 형상을 비교하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 레퍼런스 이미지와 상기 그룹의 이미지를 비교하는 단계는 검사자의 육안으로 비교하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 과제 해결을 위한 일 실시예에 따른 마스크 검사 장치는 복수의 제1 개구부 및 각각이 평면상 상기 제1 개구부 각각과 다른 형상을 갖는 복수의 제2 개구부를 포함하는 증착용 마스크를 검사하는 마스크 검사 장치로서, 상기 증착용 마스크를 지지하는 지지대, 상기 지지대와 이격되며, 상기 증착용 마스크를 촬영하는 비전 유닛, 및 상기 비전 유닛에 의해 획득된 이미지를 근거로, 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 불량 여부를 판단하는 제어부를 포함하되, 상기 제어부는 상기 복수의 제1 개구부 중 적어도 하나와 상기 제2 개구부 중 적어도 하나를 각각 포함하는 제1 그룹과 제2 그룹을 지정하고, 상기 제1 그룹을 촬영한 제1 이미지와 상기 제2 그룹을 촬영한 제2 이미지를 비교한다.
상기 제어부는 상기 제1 그룹의 면적과 상기 제2 그룹의 면적을 비교하는 비교부를 포함할 수 있다.
상기 비전 유닛은 상기 증착용 마스크를 향해 광을 방출하는 광 조사 부재, 및 상기 광 조사 부재로부터 방출된 상기 광의 적어도 일부를 수광하며 복수의 화소를 포함하는 CCD 센서를 포함하는 수광 부재를 더 포함할 수 있다.
상기 비교부는 상기 CCD 센서의 상기 화소 중 상기 제1 그룹 내에 배치된 일부 화소의 개수와 상기 CCD 센서의 상기 화소 중 상기 제2 그룹 내에 배치된 다른 일부 화소의 개수를 비교할 수 있다.
상기 비교부는 상기 제1 그룹의 평면상 형상과 상기 제2 그룹의 평면상 형상을 비교할 수 있다.
상기 제어부는 상기 증착용 마스크 상의 이물 유무를 판단하는 이물 검출부를 더 포함할 수 있다.
상기 제어부에 의해 판단된 불량 여부에 대한 정보를 출력하는 출력부를 더 포함할 수 있다.
상기 비전 유닛에 의해 촬영된 이미지 정보를 처리하여, 상기 제어부로 제공하는 데이터 처리부를 더 포함할 수 있다.
기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
일 실시예에 따른 마스크 검사 장치 및 마스크 검사 방법에 의하면, 서로 다른 형상을 갖는 개구를 포함하는 마스크의 불량을 일괄적으로 검사할 수 있다.
실시예들에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.
도 1은 일 실시예에 따른 마스크 검사 장치를 개략적으로 나타낸 측면도이다.
도 2는 마스크의 일부 영역을 확대한 평면도이다.
도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ' 선을 따라 자른 단면도이다.
도 4는 도 2 및 도 3의 증착용 마스크를 이용하여 증착하는 공정을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 5는 증착용 마스크를 이용하여 제조된 유기 발광 표시 장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 6은 일 실시예에 따른 마스크 검사 방법을 나타낸 순서도이다.
도 7은 일 실시예에 따른 마스크 검사 방법을 간략히 도시한 평면도이다.
도 8은 다른 실시예에 따른 마스크 검사 방법을 간략히 도시한 평면도이다.
도 9는 다른 실시예에 따른 표시 장치의 화소 배열을 나타낸 개략적인 배치도이다.
도 10은 또 다른 실시예에 따른 마스크 검사 방법을 간략히 도시한 평면도이다.
도 11은 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 화소 배열을 나타낸 개략적인 배치도이다.
도 12는 또 다른 실시예에 따른 마스크 검사 장치를 개략적으로 나타낸 측면도이다.
도 13은 또 다른 실시예에 따른 마스크 검사 방법을 나타낸 순서도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층의 "상(on)"으로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.
이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 구체적인 실시예들에 대해 설명한다.
도 1은 일 실시예에 따른 마스크 검사 장치를 개략적으로 나타낸 측면도이다.
도 1을 참조하면, 일 실시예에 따른 마스크 검사 장치(10)는 지지대(110), 비전 유닛(120), 데이터 처리부(130), 제어부(140) 및 출력부(150)를 포함할 수 있다.
지지대(110)는 검사 대상체인 증착용 마스크(20)가 안착될 수 있는 공간을 제공할 수 있다. 즉, 증착용 마스크(20)는 지지대(110) 상에 안착될 수 있다. 지지대(110)는 광 조사 부재(121)로부터 방출된 광이 투광될 수 있는 투명한 유리 등을 포함할 수 있다.
이에 제한되는 것은 아니지만, 지지대(110)는 증착용 마스크(20)를 인장된 상태로 고정시킬 수 있다. 이 경우, 지지대(110)는 증착용 마스크(20)의 양 측면을 고정시키는 클램프(미도시), 및 상기 클램프(미도시)를 선형 운동시켜 증착용 마스크(20)를 인장 시키는 실린더 또는 기어 및 모터를 포함할 수 있다. 지지대(110)는 마스크 프레임(미도시)를 더 포함할 수 있으며, 증착용 마스크(20)는 마스크 프레임(미도시)에 부착된 상태일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
아울러, 도시하진 않았으나, 마스크 검사 장치(10)는 이동 부재(미도시)를 더 포함할 수 있으며, 지지대(110)는 이동 부재(미도시)와 연결되고, 이동 부재(미도시)에 의해 이동될 수 있다.
비전 유닛(120)은 증착용 마스크(20) 상부 및/또는 하부에 배치되어 증착용 마스크(20)의 표면 형상을 촬영할 수 있다. 비전 유닛(120)은 지지대(110) 및 대상 기판(20)과 이격될 수 있다. 비전 유닛(120)은 증착용 마스크(20)를 촬영함으로써 이미지를 생성하고, 촬영된 이미지를 제어부(140)에 전달할 수 있다. 비전 유닛(120)은 광 조사 부재(121)와 수광 부재(122)를 포함할 수 있다.
광 조사 부재(121)는 지지대(110) 하부에 배치되어 지지대(110) 측으로 광을 방출할 수 있다. 광 조사 부재(121)는 지지대(110) 상에 안착된 대상 기판(20)을 향해 광을 방출할 수 있다.
수광 부재(122)는 지지대(110) 상부에 배치될 수 있다. 수광 부재(122)는 대상 기판(20)을 사이에 두고 광 조사 부재(121)와 대향할 수 있다. 수광 부재(122)는 광 조사 부재(121)로부터 방출된 광을 수광함으로써, 증착용 마스크(20)를 촬영할 수 있다. 즉, 광 조사 부재(121)로부터 방출된 광 중 적어도 일부는 증착용 마스크(20)의 개구부(OP1, OP2, 도 2 및 도 3 참조)를 통과하여 수광 부재(122)에 도달할 수 있고, 이에 따라, 수광 부재(122)는 증착용 마스크(20)를 촬영할 수 있다.
수광 부재(122)는 이에 제한되는 것은 아니지만, CCD 센서 등을 포함할 수 있다. 수광 부재(122)가 CCD 센서를 포함하는 경우, 상기 CCD 센서는 2차원의 센서로, 일정 개수의 화소가 배치된 촬영 영역을 포함할 수 있다. 이에 제한되는 것은 아니지만, 예를 들어, 상기 CCD 센서는 2048 화소 X 512 화소(1 화소가 70nm X 70nm인 경우, 144㎛ X 36㎛)의 촬영 영역을 가질 수 있다. 즉, 상기 CCD 센서는 일 방향으로 복수 단(예를 들면, 512 단)의 라인에 의해 구성되고, 상기 각 라인은 복수의 화소(예를 들면, 2048 화소)에 의해 구성될 수 있다.
데이터 처리부(130)는 비전 유닛(120)에서 촬영한 이미지 정보를 처리할 수 있다. 데이터 처리부(130)는 비전 유닛(120)에서 전달받은 이미지 정보를 전송하기 적합한 형식으로 변환시키고, 이를 제어부(140)에 제공할 수 있다. 데이터 처리부(130)는 유선 또는 무선 통신 방식으로 필요한 정보를 제어부(140)에 제공할 수 있다.
제어부(140)는 데이터 처리부(130)에서 전달받은 데이터(이미지 정보)를 근거로 서로 다른 형상의 개구부(OP1, OP2, 도 2 참조)를 포함하는 개구 그룹(GR1 내지 GR6, 도 2 참조)을 지정할 수 있으며, 증착용 마스크(20)의 불량 유무를 판단할 수 있다. 제어부(140)는 상기 데이터(이미지 정보)를 비교하는 비교부(141) 및 상기 비교 결과에 따라 불량 유무를 판단하는 판단부(142)를 포함할 수 있다.
제어부(140)가 증착용 마스크(20)의 불량 유무를 판별하는 방법은 이에 제한되는 것은 아니지만, 예를 들어, 상이한 위치에 있는 동일 패턴을 촬영하여 얻어진 이미지끼리 비교하는 방법(다이-다이 비교(Die-to-Die) 검사 방법), 또는 증착용 마스크(20) 형성 시에 사용된 도면 데이터로부터 생성된 참조 이미지(레퍼런스, reference)와 실제 마스크의 패턴을 촬영하여 얻어진 이미지를 비교하는 방법(다이-데이터 베이스(Die-to-Database) 비교 검사 방법) 등이 이용될 수 있다. 증착용 마스크(20)를 검사하는 방법에 대해서는 후술하기로 한다.
제어부(140)는 다양한 형태로 형성될 수 있다. 이에 제한되는 것은 아니지만, 예를 들어, 제어부(140)는 별도로 설치되는 단말기, 퍼스널 컴퓨터, 노트북, PDA 등으로 제공될 수 있으며, 별도의 장치가 아닌 다른 구성과 함께 내부에 설치되는 회로기판 등으로 제공될 수도 있다.
출력부(150)는 제어부(140)에서 판단한 증착용 마스크(20)의 불량 유무에 대한 정보를 출력할 수 있다. 출력부(150)는 증착용 마스크(20)의 개구부(OP1, OP2, 도 2 및 도 3 참조) 중 정상이라고 판단한 개구부들과 불량이라고 판단한 개구부들에 대한 정보를 출력할 수 있다. 상기 정보는 출력부(150)는 증착용 마스크(20)의 개구부(OP1, OP2, 도 2 및 도 3 참조) 중 불량이라고 판단한 개구부들의 위치를 알려주는 좌표상의 정보를 포함할 수 있다. 이를 통하여, 사용자는 불량이라고 판단한 개구부들을 선택적으로 정상의 개구부로 교정하거나, 불량이라고 판단된 개구부들이 일정 수 이상인 경우 증착용 마스크(20) 자체를 교체하여 증착 공정을 진행할 수 있다.
증착용 마스크(20)는 평면상 서로 다른 형상을 갖는 적어도 2 이상의 개구부(OP1, OP2)를 포함할 수 있다. 증착용 마스크(20)에 대해 보다 자세히 설명하기 위해 도 2 및 도 3이 참조된다.
도 2는 마스크의 일부 영역을 확대한 평면도이다. 도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ' 선을 따라 자른 단면도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 도면에서 제1 방향(DR1)은 평면도상 증착용 마스크(20)의 가로 방향을 나타내고, 제2 방향(DR2)은 평면도상 증착용 마스크(20)의 세로 방향을 나타낸다. 또한, 제3 방향(DR3)은 증착용 마스크(20)의 두께 방향을 나타낸다. 제1 방향(DR1)과 제2 방향(DR2)은 서로 수직으로 교차하며, 제3 방향(DR3)은 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)이 놓이는 평면에 교차하는 방향으로 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)에 모두 수직으로 교차한다. 다만, 실시예에서 언급하는 방향은 상대적인 방향을 언급한 것으로 이해되어야 하며, 실시예는 언급한 방향에 한정되지 않는다.
증착용 마스크(20)는 차단부(BL) 및 차단부(BL)의 내부에 형성된 복수의 개구부(OP1, OP2)를 포함한다. 차단부(BL)는 증착 물질의 진행을 차단하는 역할을 할 수 있다. 차단부(BL)는 차단 부재를 포함할 수 있다. 차단 부재는 니켈(Ni), 니켈 합금, 니켈-코발트 합금 등의 금속을 포함하여 이루어질 수 있다. 차단 부재는 금속 박막으로 이루어질 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
개구부(OP1, OP2)는 차단부(BL) 내부에 형성되며, 차단부(BL)를 구성하는 물질층을 두께 방향(제3 방향(DR3))으로 관통하는 형상을 갖는다. 개구부(OP1, OP2)는 증착 물질을 통과시켜 대상 기판(330, 도 4 참조)에 개구부(OP1, OP2)의 형상에 상응하는 패턴이 형성될 수 있도록 한다.
증착용 마스크(20)는 일면(20a) 및 타면(20b)을 포함할 수 있다. 증착용 마스크(20)의 일면(20a) 및 타면(20b)은 서로의 반대면일 수 있다. 이에 제한되는 것은 아니지만, 예를 들어, 증착용 마스크(20)의 일면(20a)은 대상 기판(330, 도 4 참조)에 대향하는 면이고, 타면(20b)은 그 반대면으로서 도가니(미도시)를 향하는 면일 수 있다.
증착용 마스크(20)는 제1 내측면(S1) 및 제2 내측면(S2)을 더 포함할 수 있다. 제1 내측면(S1)은 차단부(BL)에서 제1 개구부(OP1)를 향하고, 제2 내측면(S2)은 차단부(BL)에서 제2 개구부(OP2)를 향할 수 있다. 즉, 제1 개구부(OP1)의 내측벽은 제1 내측면(S1)을 포함하고, 제2 개구부(OP2)의 내측벽은 제2 내측면(S2)을 포함할 수 있다.
증착용 마스크(20)는 제1 일측 단부(BE1), 제1 타측 단부(UE1), 제2 일측 단부(BE2) 및 제2 타측 단부(UE2)를 더 포함할 수 있다. 제1 일측 단부(BE1)는 증착용 마스크(20)의 일면(20a)과 제1 내측면(S1)이 만나는 부분을, 제1 타측 단부(UE1)는 증착용 마스크(20)의 타면(20b)과 제1 내측면(S1)이 만나는 부분을 지칭할 수 있다. 제2 일측 단부(BE2)는 증착용 마스크(20)의 일면(20a)과 제2 내측면(S2)이 만나는 부분을, 제2 타측 단부(UE2)는 증착용 마스크(20)의 타면(20b)과 제2 내측면(S2)이 만나는 부분을 지칭할 수 있다.
증착용 마스크(20)의 개구부(OP1, OP2)는 평면상 서로 다른 형상을 가질 수 있다. 증착용 마스크(20)의 개구부(OP1, OP2)가 가질 수 있는 평면상 형상은 적어도 2 이상일 수 있다. 증착용 마스크(20)는 평면상 서로 다른 형상을 갖는 적어도 2 이상의 개구부(OP1, OP2)를 포함할 수 있다. 증착용 마스크(20)는 평면상 서로 다른 형상을 갖는 제1 개구부(OP1) 및 제2 개구부(OP2)를 포함할 수 있다.
평면상 제1 일측 단부(BE1)는 제1 타측 단부(UE1)를 둘러싸며, 제1 일측 단부(BE1)의 평면상 형상과 제1 타측 단부(UE1)의 평면상 형상은 서로 상응할 수 있다. 평면상 제2 일측 단부(BE2)는 제2 타측 단부(UE2)를 둘러싸며, 제2 일측 단부(BE2)의 평면상 형상과 제2 타측 단부(UE2)의 평면상 형상은 서로 상응할 수 있다. 즉, 제1 일측 단부(BE1)의 평면상 형상은 제2 일측 단부(BE2)의 평면상 형상과 상이하며, 제1 타측 단부(UE1)의 평면상 형상은 제2 타측 단부(UE2)의 평면상 형상과 상이할 수 있다.
제1 개구부(OP1) 및 제2 개구부(OP2)는 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)을 따라 상호 이격되고, 교대로 배치될 수 있다. 즉, 제1 방향(DR1)으로 제1 개구부(OP1)와 제2 개구부(OP2)가 교대로 반복되어 배치되며, 제2 방향(DR2)으로 제1 개구부(OP1)와 제2 개구부(OP2)가 교대로 반복되어 배치될 수 있다.
복수의 제1 개구부(OP1) 중 적어도 일부는 평면상 시계 방향으로 0° 초과 내지 360° 미만의 범위에서 회전되어 배치될 수 있다. 또는, 도면상 제1 방향(DR1)으로 좌, 우 반전되거나, 제2 방향(DR2)으로 상, 하 반전될 수 있다. 아울러, 복수의 제2 개구부(OP2) 중 적어도 일부는 평면상 시계 방향으로 0° 초과 내지 360° 미만의 범위에서 회전되어 배치될 수 있다. 또는, 도면상 제1 방향(DR1)으로 좌, 우 반전되거나, 제2 방향(DR2)으로 상, 하 반전될 수 있다.
증착용 마스크(20)는 개구 그룹(GR)을 더 포함할 수 있다. 개구 그룹(GR)은 하나의 제1 개구부(OP1)와 하나의 제2 개구부(OP2)를 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 즉, 증착용 마스크(20)는 반복적으로 배치된 제1 개구부(OP1) 및 제2 개구부(OP2)를 포함하며, 각각 제1 개구부(OP1) 및 제2 개구부(OP2)를 포함하는 개구 그룹(GR)을 포함할 수 있다.
개구 그룹(GR)은 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)을 따라 반복적으로 나열될 수 있다. 개구 그룹(GR) 중 일부는 평면상 시계 방향으로 0° 초과 내지 360° 미만의 범위에서 회전되어 배치될 수 있다. 또는, 도면상 제1 방향(DR1)으로 좌, 우 반전되거나, 제2 방향(DR2)으로 상, 하 반전될 수 있다.
도 2 및 도 3에 도시된 개구부(OP1, OP2)의 평면상 및 단면상 형상은 예시적인 것이며, 상기 형상은 이에 제한되는 것은 아니다.
도 4는 도 2 및 도 3의 증착용 마스크를 이용하여 증착하는 공정을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4를 참조하면, 일 실시예에 따라 유기 발광 표시 장치의 유기 발광층이나 전극을 증착하는 공정은 진공 챔버(300)에서 수행될 수 있다.
진공 챔버(300) 내부의 하측에는 증착원(310)이 배치될 수 있다. 증착원(310)은 증착 물질이 담겨져 있는 용기로, 예를 들어, 도가니일 수 있다. 증착원(310)과 마주보는 진공 챔버(300) 내부의 상측에는 일 실시예에 따른 증착용 마스크(20)가 지지체(320)에 의해 장착될 수 있다. 증착용 마스크(20) 상에는 대상 기판(330) 예를 들어, 유기 발광 표시 장치를 제조하기 위한 대상 기판(330)이 배치될 수 있다. 증착용 마스크(20)와 대상 기판(330)은 직접 접할 수 있다.
전술한 진공 챔버(300) 내의 증착원(310)에서 증착 물질이 증착용 마스크(20)를 향해 증발하면, 증착용 마스크(20)에 형성된 개구부(OP1, OP2, 도2 및 도 3 참조)를 통해 대상 기판(330)의 일 영역에 패턴 형상으로 증착 물질이 증착될 수 있다.
도 5는 증착용 마스크를 이용하여 제조된 유기 발광 표시 장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 5를 참조하면, 표시 장치(400)는 베이스 기판(401)을 포함할 수 있다. 베이스 기판(401)은 베이스 기판(401) 상에 적층되는 구성들을 지지할 수 있다. 베이스 기판(401)은 절연 기판일 수 있다. 베이스 기판(401)은 투명한 물질을 포함할 수 있다.
베이스 기판(401) 상에 버퍼막(405)이 배치될 수 있다. 버퍼막(405)은 투습에 취약한 베이스 기판(401)을 통해 침투하는 수분으로부터 박막 트랜지스터(TFT)와 발광 소자(EMD)를 보호하기 위해 베이스 기판(401)의 일면 상에 배치될 수 있다.
버퍼막(405) 상에 구동 소자로서 박막 트랜지스터(TFT)가 배치될 수 있다. 박막 트랜지스터(TFT)는 반도체층(410), 제1 절연층(421), 제2 절연층(422) 및 게이트 전극(430)을 포함할 수 있다.
버퍼막(405) 상에는 박막 트랜지스터(TFT)의 반도체층(410)이 배치될 수 있다. 반도체층(410)은 다결정 실리콘, 단결정 실리콘, 저온 다결정 실리콘, 비정질 실리콘, 또는 산화물 반도체를 포함할 수 있다.
반도체층(410) 상에는 제1 절연층(421)이 배치될 수 있다. 제1 절연층(421)은 무기막으로 형성될 수 있다.
제1 절연층(421) 상에는 게이트 전극(430)이 배치될 수 있다. 게이트 전극(430)은 반도체층(410)과 중첩할 수 있다. 게이트 전극(430)은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층으로 형성될 수 있다.
게이트 전극(430) 상에 제2 절연층(422)이 배치될 수 있다. 제2 절연층(422)은 무기막으로 형성될 수 있다.
제2 절연층(422) 상에 박막 트랜지스터(TFT)의 소스 전극(451)(또는 드레인 전극) 및 드레인 전극(452)(또는 소스 전극)이 배치될 수 있다. 소스 전극(451)과 드레인 전극(452)은 제2 절연층(422) 및 제1 절연층(421)을 관통하는 콘택홀을 통해 반도체층(410)에 연결될 수 있다.
소스 전극(451) 및 드레인 전극(452) 상에 제3 절연층(423)이 배치될 수 있다. 제3 절연층(423)은 하부 박막 트랜지스터(TFT)를 보호하는 패시베이션막일 수 있다. 제3 절연층(423)은 무기막으로 형성될 수 있다.
제3 절연층(423) 상에 비아층(VIA)이 배치될 수 있다. 비아층(VIA)은 박막 트랜지스터(TFT)로 인한 단차를 평탄하게 하기 위한 평탄화막일 수 있다. 비아층(VIA)은 유기 절연 물질을 포함할 수 있다.
비아층(VIA) 상에 발광 소자(EMD)가 배치될 수 있다. 발광 소자(EMD)는 화소 전극(PXE), 발광층(EML), 및 공통 전극(CME)을 포함할 수 있다.
구체적으로, 비아층(VIA) 상에 화소 전극(PXE)이 배치될 수 있다. 화소 전극(PXE)은 발광 소자(EMD)의 제1 전극 예를 들어 애노드 전극일 수 있다. 화소 전극(PXE)은 비아층(VIA)을 관통하는 컨택홀을 통해 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(452)(또는 소스 전극)에 연결될 수 있다.
화소 전극(PXE) 상에 화소 정의막(PDL)이 배치될 수 있다. 화소 정의막(PDL)은 화소 전극(PXE) 상에 배치되며, 화소 전극(PXE)을 노출하는 개구부를 포함할 수 있다. 화소 정의막(PDL)은 유기 절연 물질을 포함할 수 있다.
화소 정의막(PDL)이 노출하는 화소 전극(PXE) 상에 발광층(EML)이 배치될 수 있다. 발광층(EML)은 유기 물질층을 포함할 수 있다. 발광층(EML)의 유기 물질층은 유기 발광층을 포함하며, 정공 주입/수송층 및/또는, 전자 주입/수송층을 더 포함할 수 있다.
발광층(EML) 상에는 공통 전극(CME)이 배치될 수 있다. 공통 전극(CME)은 발광 소자(EMD)의 제2 전극, 예를 들어 캐소드 전극일 수 있다. 공통 전극(CME)은 화소들에 공통적으로 형성될 수 있다.
일 화소 또는 일 서브 화소의 발광 소자(EMD)가 평면상 서로 다른 형상으로 배치되더라도, 증착용 마스크(20)가 서로 다른 형상을 갖는 경우, 각 화소 또는 각 서브 화소의 발광 소자(EMD)가 공통으로 포함하는 공통층을 일괄적으로 적층할 수 있다.
아울러, 일 실시예에 따른 마스크 검사 장치(10, 도 1 참조)는 증착용 마스크(20)가 평면상 서로 다른 형상을 갖는 2 이상의 개구부(OP1, OP2)를 포함하더라도, 증착용 마스크(20)의 불량을 검사할 수 있다. 이하에서, 일 실시예에 따른 마스크 검사 방법에 대해 설명한다.
도 6은 일 실시예에 따른 마스크 검사 방법을 나타낸 순서도이다. 도 7은 일 실시예에 따른 마스크 검사 방법을 간략히 도시한 평면도이다.
도 1 및 도 6 내지 도 7을 참조하면, 우선, 서로 다른 형상을 갖는 개구부(OP1, OP2)를 포함하는 증착용 마스크(20)를 준비한다(S10).
증착용 마스크(20)는 도 2 및 도 3에서 상술한 증착용 마스크(20)와 실질적으로 동일하며, 도 1의 마스크 검사 장치(10)의 지지대(110) 상의 미리 정해진 영역에 대응되는 위치에 안착될 수 있다. 마스크 검사 장치(10)를 이용하여 증착용 마스크(20)를 검사하는 과정에서 증착용 마스크(20)는 이동할 수 있다. 증착용 마스크(20)는 지지대(110)와 별개의 구성에 의해 지지대(110) 상에서 이동하거나, 지지대(110)에 고정되고 지지대(110)가 이동함에 따라 이동할 수 있다.
이어, 증착용 마스크(20)의 검사 영역(IA)을 지정한다(S20).
검사 영역(IA)은 복수의 개구부(OP1, OP2)를 포함할 수 있다. 검사 영역(IA) 내에 배치된 개구부(OP1, OP2)은 일정한 패턴을 가지고 반복적으로 배치될 수 있다. 즉, 제1 방향(DR1)을 따라 제1 개구부(OP1)와 제2 개구부(OP2)가 교대로 반복 배치되며, 제2 방향(DR2)을 따라 제1 개구부(OP1)와 제2 개구부(OP2)가 교대로 반복 배치될 수 있다. 이에 제한되는 것은 아니지만, 검사 영역(IA) 내에 배치된 개구부(OP1, OP2) 중 서로 인접한 개구부는 서로 상이한 형상을 가지고 배치될 수 있다. 즉, 서로 다른 형상을 갖는 제1 개구부(OP1)와 제2 개구부(OP2)는 교대로 반복적으로 배치되고, 서로 인접하여 배치될 수 있다.
검사 영역(IA)은 상술한 비전 유닛(120)을 통해 일괄적으로 촬영할 수 있는 영역의 적어도 일부를 포함할 수 있다. 즉, 비전 유닛(120)이 CCD 센서를 포함하는 경우, CCD 센서로 촬영할 수 있는 촬영 영역의 적어도 일부를 포함할 수 있다.
검사 영역(IA) 내에는 총 12개의 개구부(OP1, OP2)가 배치된 것으로 도시하였으나, 검사 영역(IA) 내에 배치되는 개구부(OP1, OP2)의 개수는 이에 제한되지 않으며, 12개보다 많거나, 적을 수도 있다. 아울러, 검사 영역(IA)을 지정하는 단계(S20)는 생략될 수도 있다.
이어, 반복되는 개구부(OP1, OP2) 중 일부를 개구 그룹(GR1 내지 GR6)으로 그룹화한다(S30).
검사 영역(IA) 내에 배치된 개구부(OP1, OP2)는 인접 배치된 적어도 2개의 개구부(OP1, OP2)를 하나의 개구 그룹(GR)으로 그룹화할 수 있다. 이에 제한되는 것은 아니지만, 예를 들어, 서로 인접한 제1 개구부(OP1)와 제2 개구부(OP2)는 각각의 개구 그룹(GR1 내지 GR6)으로 그룹화될 수 있다. 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)은 동일한 수의 개구부(OP1, OP2)를 포함할 수 있으며, 동일한 수의 제1 개구부(OP1) 및 동일한 수의 제2 개구부(OP2)를 포함할 수 있다. 아울러, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)에 포함된 개구부(OP1, OP2)의 배열(또는 배치)은 실질적으로 동일할 수 있다.
각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)은 검사 영역(IA) 내에서 반복적으로 배치될 수 있다. 즉, 개구 그룹(GR1 내지 GR6)은 검사 영역(IA) 내에서 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)을 따라 반복적으로 배치될 수 있다.
개구 그룹(GR1 내지 GR6)은 검사 영역(IA) 내에서 반복되는 최소 단위일 수 있다. 검사 영역(IA) 내에는 제1 개구부(OP1)와 제2 개구부(OP2)가 배치되고, 제1 개구부(OP1)와 제2 개구부(OP2)는 반복적되어 배치될 수 있다. 이 경우, 개구 그룹(GR1 내지 GR6)은 하나의 제1 개구부(OP1)와 하나의 제2 개구부(OP2)를 포함할 수 있으며, 개구 그룹(GR1 내지 GR6)은 검사 영역(IA) 내에서 반복적으로 배치될 수 있다. 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)에 포함된 개구부(OP1, OP2)의 총 개수, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)에 포함된 제1 개구부(OP1)의 개수, 및 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)에 포함된 제2 개구부(OP2)의 개수는 상호 동일할 수 있다.
검사 영역(IA) 내에 배치된 개구부(OP1, OP2)는 서로 다른 형상을 가질 수 있으나, 검사 영역(IA) 내에 배치된 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 형상은 실질적으로 동일할 수 있다. 즉, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)은 동일하게 제1 개구부(OP1) 및 제2 개구부(OP2)를 포함하되, 개구 그룹(GR1 내지 GR6) 중 일부 개구 그룹(GR2, GR5)은 수평 방향으로(또는, 두께 방향(제3 방향(DR3))으로 연장된 축을 기준으로) 일정 각도 회전되어 배치될 수 있다. 도면상, 상기 일부 개구 그룹(GR2, GR5)은 수평 방향으로 180° 회전되어 배치되나, 회전되는 각도는 이에 제한되지 않는다.
개구 그룹(GR1 내지 GR6)은 검사 영역(IA) 내에서 반복되는 최소 단위로서, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)은 증착용 마스크(20)의 개구부(OP1, OP2) 불량을 검사하는 최소 단위가 될 수 있다. 즉, 서로 다른 형상을 갖는 제1 개구부(OP1) 및 제2 개구부(OP2)를 하나의 개구 그룹(GR1 내지 GR6)으로 그룹화하고 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)을 하나의 단위로 불량 여부를 검사함에 따라, 증착용 마스크(20)의 개구부(OP1, OP2)가 서로 다른 형상을 갖더라도, 증착용 마스크(20)의 개구부 불량 여부를 검사할 수 있다.
이어, 검사 영역(IA) 내에 배치된 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)을 촬영하고(S40), 촬영한 결과를 근거로 하여, 상기 결과가 임계 범위 내에 존재하는지 여부를 판단한다(S50). 이에 따라, 증착용 마스크(20)에 배치된 개구부(OP1, OP2)의 불량 여부를 판단한다(S51, S52).
검사 영역(IA) 내에 배치된 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)을 비전 유닛(120)으로 촬영하고, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)을 서로 비교한다. 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)을 서로 비교하는 과정은 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)을 촬영한 각 이미지를 서로 비교함으로써, 수행될 수 있다. 이에 따라, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2)의 면적을 비교함으로써, 개구 그룹(GR1 내지 GR6) 중 불량 개구부를 포함하는 개구 그룹을 찾아낼 수 있다.
비전 유닛(120)이 CCD 센서를 포함하여 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)을 촬영하는 경우, 촬영 이미지 상에서 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2) 내에는 CCD 센서의 화소가 배치될 수 있다. 비전 유닛(120)의 CCD 센서의 화소는 일정 간격으로 배치되고, 개구부(OP1, OP2) 내에 배치된 CCD 센서의 화소 수에 따라 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2)의 면적을 비교할 수 있다.
CCD 센서의 화소는 각 개구부(OP1, OP2)의 일측 단부(UE1, UE2) 내에 위치하거나, 및/또는 각 개구부(OP1, OP2)의 타측 단부(BE1, BE2) 내에 위치할 수 있다. 즉, 개구부(OP1, OP2)의 불량을 판단함에 있어, 각 개구부(OP1, OP2)의 일측 단부(UE1, UE2) 내에 위치하는 CCD 센서의 화소, 및 각 개구부(OP1, OP2)의 타측 단부(BE1, BE2) 내에 위치하는 CCD 센서의 화소 중 적어도 어느 하나가 불량 판단의 기준이 될 수 있다.
검사 영역(IA) 내에 배치된 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2) 중 양품인 개구부(OP1, OP2)에는 일정 개수 범위의 CCD 센서의 화소가 위치할 수 있으며, 불량인 개구부(OP1, OP2)에는 상기 범위를 벗어나는 개수의 CCD 센서의 화소가 위치할 수 있다. 즉, 검사 영역(IA) 내에 배치된 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2)을 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)별로 비교할 수 있고, 이에 따라, 임계 범위 내에 있는 개수의 CCD 센서의 화소가 위치하는 개구부(OP1, OP2)를 양품(정상)으로, 임계 범위를 벗어나는 범위에 있는 개수의 CCD 센서의 화소가 위치하는 개구부(OP1, OP2)를 불량으로 판단할 수 있다.
또한, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2)의 형상을 비교함으로써, 개구 그룹(GR1 내지 GR6) 중 불량 개구부를 포함하는 개구 그룹을 찾아낼 수 있다.
검사 영역(IA) 내에 배치된 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2) 중 개구부(OP1, OP2)의 테두리 형상에 따라, CCD 센서의 화소가 배치될 수 있다. 각 테두리에 배치된 CCD 센서의 화소의 개수를 통해, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2) 각 테두리의 길이를 비교할 수 있으며, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 각 개구부(OP1, OP2)의 형상을 비교할 수 있다. 개구부(OP1, OP2)의 상기 테두리는 개구부(OP1, OP2)의 일측 단부(UE1, UE2) 및/또는 타측 단부(BE1, BE2) 중 적어도 어느 하나일 수 있다.
예를 들어, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 제1 개구부(OP1) 및 제2 개구부(OP2)의 제1 방향(DR1)으로 연장된 테두리의 길이, 제2 방향(DR2)으로 연장된 테두리의 길이, 및/또는 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)에 대해 기울어진 방향으로 연장된 테두리의 길이를 비교할 수 있다. 상기 길이 등을 통해 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 제1 개구부(OP1) 및 제2 개구부(OP2) 형상을 비교할 수 있다.
즉, 개구부(OP1, OP2)의 불량을 판단함에 있어, 검사 영역(IA)의 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 각 개구부(OP1, OP2)의 형상을 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)간 상호 비교할 수 있다. 이 경우, 임계 범위 내에 있는 형상을 갖는 개구부(OP1, OP2)를 양품(정상)으로, 임계 범위를 벗어나는 개구부(OP1, OP2)를 불량으로 판단할 수 있다.
각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2)를 비교함에 있어, 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 일부는 수평 방향으로의 회전이 고려될 수 있다. 예를 들어, 개구 그룹(GR1 내지 GR6) 중 일부 개구 그룹(GR2, GR5)는 나머지 개구 그룹(GR1, GR3, GR4, GR6)의 형상에서 수평 방향으로 180° 회전되어 배치될 수 있고, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2) 비교하는 경우, 회전된 상기 개구 그룹(GR2, GR5)은 수평 방향으로의 180° 회전이 고려되어, 개구부(OP1, OP2) 비교할 수 있다. 즉, 회전된 상기 개구 그룹(GR2, GR5)은 회전된 방향의 반대 방향으로 다시 180° 회전된 상태에서 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2)를 비교할 수 있다. 이에 따라, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6) 중 일부가 수평 방향으로 일정 각도 회전되더라도, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2)의 불량 여부를 보다 정확하게 판단할 수 있다.
각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2)의 면적 및/또는 형상을 비교함에 있어, 우선, 검사자(Inspector)는 육안을 통해 비전 유닛(120)에 의해 촬영된 이미지를 근거로, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2)의 면적 및/또는 형상을 비교할 수 있다. 상기 비교 결과를 근거로 불량 여부를 판단할 수 있다. 즉, 검사자(Inspector)는 일차적으로 육안을 통해 서로 이웃하는 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2) 중 다른 면적 및/또는 형상을 갖는 불량품을 검출할 수 있다. 다만, 이에 제한되는 것은 아니고, 검사자(Inspector)의 육안을 통한 불량품 검출 과정은 생략될 수도 있다.
이상에서, 서로 다른 형상의 개구부(OP1, OP2)를 우선 그룹화(S30)한 뒤, 상기 그룹들을 촬영하고 이를 비교(S40)하는 것으로 설명하였으나, 상기 순서는 이에 제한되는 것은 아니고, 검사 영역(IA)을 우선 촬영하고(S40), 이후에, 촬영한 이미지에서 서로 다른 형상의 개구부(OP1, OP2)를 그룹화(S30)하고, 이를 비교하여 불량 여부를 판단(S50)할 수도 있다.
아울러, 불량 개구부를 판단함에 있어, 검사 영역(IA) 내에서 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2)를 상호 비교하였으나, 불량 개구부를 판단하는 방법은 이에 제한되지 않으며, 증착용 마스크(20) 형성 시에 사용된 도면 데이터로부터 생성된 참조 이미지와 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2)를 상호 비교할 수도 있다. 이 경우, 마스크 검사 방법은 참조 이미지를 얻는 단계를 더 포함할 수 있으며, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6)의 개구부(OP1, OP2)의 배열(또는 배치)은 참조 이미지에 포함된 개구부의 배열(또는 배치)과 실질적으로 동일할 수 있다.
이하, 다른 실시예들에 대해 설명한다. 이하의 실시예에서, 이미 설명한 실시예와 동일한 구성에 대해서는 그 설명을 생략하거나 간략화하며, 차이점을 위주로 설명하기로 한다.
도 8은 다른 실시예에 따른 마스크 검사 방법을 간략히 도시한 평면도이다.
도 8을 참조하면, 본 실시예에 따른 마스크 검사 방법은 각 개구 그룹(GR1_1, GR2_1, GR3_1, GR4_1, GR5_1, GR6_1)은 서로 다른 형상을 갖는 3개의 개구부(OP1_1, OP2_1, OP3_1)를 갖는다는 점에서 도 7의 실시예와 차이가 있다.
구체적으로 설명하면, 본 실시예에 따른 증착용 마스크(20_1)은 검사 영역(IA_1)을 포함할 수 있고, 검사 영역(IA_1) 내에는 복수의 개구 그룹(GR1_1, GR2_1, GR3_1, GR4_1, GR5_1, GR6_1)가 배치될 수 있다. 각 개구 그룹(GR1_1, GR2_1, GR3_1, GR4_1, GR5_1, GR6_1)은 서로 다른 형상을 갖는 3개의 개구부(OP1_1, OP2_1, OP3_1)를 포함할 수 있다.
검사 영역(IA_1) 내부 뿐만 아니라 외부에서도 각 개구 그룹(GR1_1, GR2_1, GR3_1, GR4_1, GR5_1, GR6_1)은 반복적으로 배치되며, 각 개구 그룹(GR1_1, GR2_1, GR3_1, GR4_1, GR5_1, GR6_1)의 개구부(OP1_1, OP2_1, OP3_1)는 반복적으로 배치될 수 있다. 개구부(OP1_1, OP2_1, OP3_1)는 서로 인접하여 배치될 수 있다.
이 경우에도, 증착용 마스크(20_1)에 배치된 개구부(OP1_1, OP2_1, OP3_1)가 평면상 서로 다른 형상을 갖더라도, 증착용 마스크(20_1)의 불량 여부를 검사할 수 있다.
도 9는 다른 실시예에 따른 표시 장치의 화소 배열을 나타낸 개략적인 배치도이다. 도 9는 도 8의 증착용 마스크(20_1)에 의해 제조할 수 있는 표시 장치(400_1)의 일 예를 도시하였다.
도 9를 참조하면, 표시 장치(400_1)는 복수의 화소(PX)를 포함한다. 화소(PX)는 표시를 위한 반복되는 최소 단위를 의미한다. 풀 컬러를 디스플레이하기 위해 각 화소(PX)는 서로 다른 색을 방출하는 복수의 서브 화소(PXS1, PXS2, PXS3)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 각 화소(PX)는 적색 광 방출을 담당하는 제1 서브 화소(PXS1), 청색 광 방출을 담당하는 제2 서브 화소(PXS2) 및 녹색 광 방출을 담당하는 제3 서브 화소(PXS3)를 포함할 수 있다. 제1 서브 화소(PXS_1), 제2 서브 화소(PXS_2) 및 제3 서브 화소(PXS_3)는 각 화소(PX)별로 하나씩 구비될 수 있다. 제1 서브 화소(PXS_1), 제2 서브 화소(PXS_2) 및 제3 서브 화소(PXS_3)의 평면상 형상은 서로 다를 수 있다. 이 경우라 하더라도, 각 서브 화소(PXS1, PXS2, PXS3)의 발광 소자(EMD, 도 5 참조)에 공통으로 배치되는 공통층을 일괄적으로 적층할 수 있다.
도 10은 또 다른 실시예에 따른 마스크 검사 방법을 간략히 도시한 평면도이다.
도 10을 참조하면, 본 실시예에 따른 마스크 검사 방법은 각 개구 그룹(GR1_2, GR2_2, GR3_2)이 서로 다른 영역에 배치된 개구부(OP1_2, OP2_2, OP4_2, OP5_2)를 포함한다는 점에서 도 7의 실시예와 차이가 있다.
구체적으로 설명하면, 본 실시예에 따른 증착용 마스크(20_2)는 개구부의 배치 패턴이 서로 다른 두 영역(AR1_2, AR2_2)을 포함할 수 있다. 제1 영역(AR1_2)은 제1 내지 제3 개구부(OP1_2, OP2_2, OP3_2)를 포함할 수 있고, 제1 내지 제3 개구부(OP1_2, OP2_2, OP3_2)는 평면상 서로 다른 형상을 가질 수 있다. 제2 영역(AR2_2)은 제4 내지 제6 개구부(OP4_2, OP5_2, OP6_2)를 포함할 수 있고, 제4 내지 제6 개구부(OP4_2, OP5_2, OP6_2)는 평면상 서로 다른 형상 및/또는 크기를 가질 수 있다. 아울러, 제1 내지 제3 개구부(OP1_2, OP2_2, OP3_2)와 제4 내지 제6 개구부(OP4_2, OP5_2, OP6_2)는 서로 다른 형상 및/또는 크기를 가질 수 있다.
제1 영역(AR1_2)에서 제1 내지 제3 개구부(OP1_2, OP2_2, OP3_2)가 배치된 패턴은 제2 영역(AR2_2)에서 제4 내지 제6 개구부(OP4_2, OP5_2, OP6_2)이 배치된 패턴과 상이할 수 있다. 아울러, 후술하겠으나, 제1 영역(AR1_2)의 제1 내지 제3 개구부(OP1_2, OP2_2, OP3_2) 각각은 제2 영역(AR2_2)의 제4 내지 제6 개구부(OP4_2, OP5_2, OP6_2) 각각과 실질적으로 동일한 역할을 수행할 수 있다. 즉, 제1 영역(AR1_2)의 제1 개구부(OP1_2)와 제2 영역(AR2_2)의 제4 개구부(OP4_2)는 형상 및/또는 크기가 다르지만, 동일한 색(예를 들어, 적색)의 광을 발광하는 화소를 형성하기 위해 사용될 수 있다. 제1 영역(AR1_2)의 제2 개구부(OP2_2)와 제2 영역(AR2_2)의 제5 개구부(OP5_2)는 형상 및/또는 크기가 다르지만, 동일한 색(예를 들어, 청색)의 광을 발광하는 화소를 형성하기 위해 사용될 수 있다. 제1 영역(AR1_2)의 제3 개구부(OP3_2)와 제2 영역(AR2_2)의 제6 개구부(OP6_2)는 형상 및/또는 크기가 다르지만, 동일한 색(예를 들어, 녹색)의 광을 발광하는 화소를 형성하기 위해 사용될 수 있다.
제1 영역(AR1_2)과 제2 영역(AR2_2)의 경계에서, 개구 그룹(GR1_2, GR2_2, GR3_2)은 제1 내지 제3 개구부(OP1_2, OP2_2, OP3_2) 중 적어도 하나와 제4 내지 제6 개구부(OP4_2, OP5_2, OP6_2) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 각 개구 그룹(GR1_2, GR2_2, GR3_2)은 상기 경계에서 제1 영역(AR1_2)의 제1 개구부(OP1_2)와 제2 개구부(OP2_2)를 포함하며, 제2 영역(AR2_2)의 제4 개구부(OP4_2)와 제5 개구부(OP5_2)를 포함할 수 있다.
이 경우, 각 개구 그룹(GR1_2, GR2_2, GR3_2)을 비교하여, 각 개구 그룹(GR1_2, GR2_2, GR3_2)에 포함된 개구부(OP1_2, OP2_2, OP4_2, OP5_2)의 불량 여부를 검사할 수 있다. 아울러, 상기 검사가 진행되기 전 또는 후에, 제1 영역(AR1_2)의 제1 내지 제3 개구부(OP1_2, OP2_2, OP3_2)에 대한 검사 및 제2 영역(AR2_2)의 제4 내지 제6 개구부(OP4_2, OP5_2, OP6_2)에 대한 검사가 각각 진행될 수 있다. 제1 영역(AR1_2)에 대한 검사 및 제2 영역(AR2_2)에 대한 검사 방법은 상술한 검사 방법이 동일하게 적용될 수 있다.
마스크 검사의 최소 단위가 되는 각 개구 그룹(GR1_2, GR2_2, GR3_2)이 상기 영역(AR1_2, AR2_2)의 경계에서 각 영역(AR1_2, AR2_2)에 포함된 개구부(OP1_2, OP2_2, OP3_2, OP4_2, OP5_2, OP6_2) 중 적어도 일부를 포함함에 따라, 증착용 마스크(20_2)가 서로 다른 개구부 배치 패턴을 갖는 복수의 영역(AR1_2, AR2_2)을 포함하더라도, 증착용 마스크(20_2)의 불량 여부를 보다 정밀하게 검사할 수 있다. 즉, 제1 영역(AR1_2) 및 제2 영역(AR2_2)의 경계에서 상기 경계에 인접한 일부 개구부(OP1_2, OP2_2, OP4_2, OP5_2)들은 제1 영역(AR1_2)에 대한 검사 및 제2 영역(AR2_2)에 대한 검사 각각에서 그룹화되지 못하더라도, 상술한 방법에 의해 불량 여부를 검사할 수 있다.
이 경우, 증착용 마스크(20_2)에 배치된 개구부(OP1_2, OP2_2, OP3_2, OP4_2, OP5_2, OP6_2)가 평면상 서로 다른 형상을 가지며, 개구부(OP1_2, OP2_2, OP3_2, OP4_2, OP5_2, OP6_2)의 배치가 서로 다른 두 영역을 포함하더라도, 증착용 마스크(20_2)의 불량 여부를 검사할 수 있다.
도 11은 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 화소 배열을 나타낸 개략적인 배치도이다. 도 11은 도 10의 증착용 마스크(20_2)에 의해 제조할 수 있는 표시 장치(400_2)의 일 예를 도시하였다.
도 11을 참조하면, 표시 장치(400_2)는 투광부(TA)를 포함하는지 여부에 따라 제1 표시 영역과 제2 표시 영역으로 구분될 수 있다. 예를 들어, 표시 장치(400_2)는 제1 표시 영역인 표시 전용 영역(DPA_D)과 제2 표시 영역인 표시 투광 영역(DPA_T)을 포함할 수 있다. 표시 전용 영역(DPA_D)은 도 10의 제1 영역(AR1_2)에 대응되며, 표시 투광 영역(DPA_T)은 도 10의 제2 영역(AR2_2)에 대응될 수 있다.
표시 전용 영역(DPA_D)과 표시 투광 영역(DPA_T)은 공히 발광 영역을 포함하는 복수의 화소(PX_R, PX_B, PX_G)를 포함하며, 각 화소(PX_R, PX_B, PX_G)의 발광 영역의 발광을 통해 화상을 표시한다. 표시 투광 영역(DPA_T)은 발광 영역을 포함하는 화소(PX_R, PX_B, PX_G) 이외에 복수의 투광부(TA)를 더 포함한다. 표시 전용 영역(DPA_D)은 투광부(TA)를 포함하지 않는다. 표시 투광 영역(DPA_T)의 투광부(TA)는 그 자체로 발광하지 않는 영역으로, 두께 방향으로 빛을 투과시키는 부분이다.
표시 투광 영역(DPA_T)의 투광부(TA)는 다양한 용도로 활용될 수 있다. 이에 제한되는 것은 아니지만, 예를 들어, 표시 투광 영역(DPA_T)의 투광부(TA)는 광 센싱을 위한 통로로 활용될 수 있다. 도시하진 않았으나, 표시 장치(400_2)의 하부에는 광 센싱 부재(미도시)가 배치될 수 있다, 광 센싱 부재(미도시)는 빛을 수광하여 정보를 취득하거나 특정 기능을 발현하는 장치로서, 광전 변환 소자를 포함하는 카메라, 적외선 근접 센서, 홍채 인식 센서, 지문 센서 등이 예시될 수 있다. 이에 따라, 표시 투광 영역(DPA_T)은 영상 및 화상을 표시하면서도, 외부에서 진입하는 빛을 광 센싱 부재(미도시)에 도달시키는 통로의 역할을 수행할 수 있다.
도 12는 또 다른 실시예에 따른 마스크 검사 장치를 개략적으로 나타낸 측면도이다. 도 13은 또 다른 실시예에 따른 마스크 검사 방법을 나타낸 순서도이다.
도 12 및 도 13을 참조하면, 본 실시예에 따른 마스크 검사 장치(10_3)는 이물 검출부(143_3)를 더 포함한다는 점에서 도 1의 실시예와 차이가 있으며, 본 실시예에 따른 마스크 검사 방법은 이물이 존재하는지 여부를 판단하는 단계(S60_3)를 더 포함한다는 점에서 도 6 내지 도 7의 실시예와 차이가 있다.
구체적으로 설명하면, 본 실시예에 따른 마스크 검사 장치(10_3)는 증착용 마스크(20) 상의 이물이 존재하는지 여부를 판단하는 이물 검출부(143_3)를 더 포함할 수 있다. 이물의 존재 여부는 제어부(140_3)에 의해 판단될 수 있고, 제어부(140_3)는 이물 검출부(143_3)를 더 포함할 수 있다.
이물이 존재하는지 여부를 판단하는 단계(S60_3)는 개구 그룹(GR1 내지 GR6, 도 7참조)들을 촬영하고 비교하는 단계(S40) 이후에 진행될 수 있다. 비전 유닛(120)을 통해 획득한 개구 그룹(GR1 내지 GR6, 도 7참조)의 이미지 정보를 근거로 이물의 존재 여부를 판단할 수 있다. 이에 제한되는 것은 아니지만, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6, 도 7참조)에서의 광 반사률, 표면의 거칠기 또는 형상 등을 고려하여, 이물의 존재 여부를 판단할 수 있다.
이물이 존재하는지 여부를 판단하는 단계(S60_3)에서 이물이 존재하는 것으로 판단되는 경우, 상기 이물을 제거할 수 있다(S61_3). 상기 이물을 제거하는 방법은 이에 제한되는 것은 아니지만, 예를 들어 세정 등을 통해 상기 이물을 제거할 수 있다. 이물을 제거하는 단계(S61_3) 이후, 재차 상기 개구 그룹(GR1 내지 GR6, 도 7참조)들을 촬영하고 비교할 수 있다(S40).
이물이 존재하는지 여부를 판단하는 단계(S60_3)에서 이물이 존재하지 않는 것으로 판단되는 경우, 각 개구 그룹(GR1 내지 GR6, 도 7참조)의 촬영 결과가 임계 범위 내에 존재하는지 여부를 판단한다(S50).
이 경우에도, 증착용 마스크(20)에 배치된 개구부(OP1, OP2, 도 7 참조)가 평면상 서로 다른 형상을 갖더라도, 증착용 마스크(20)의 불량 여부를 검사할 수 있다. 아울러, 이물의 존재 여부를 더 검사함에 따라, 증착용 마스크(20)의 불량을 감소시킬 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
OP: 개구부 140: 제어부
GR: 개구 그룹 141: 비교부
110: 지지대 142: 판단부
120: 비전 유닛 143_3: 이물 검출부
121: 광 조사 부재 150: 출력부
122: 수광 부재
130: 데이터 처리부

Claims (20)

  1. 복수의 제1 개구부 및 복수의 제2 개구부를 포함하며, 상기 제1 개구부 각각은 상기 제2 개구부 각각과 평면상 다른 형상을 갖는 증착용 마스크를 준비하는 단계;
    각각 적어도 하나의 상기 제1 개구부 및 적어도 하나의 상기 제2 개구부를 포함하는 제1 그룹 및 제2 그룹을 지정하는 단계;
    상기 제1 그룹의 이미지와 상기 제2 그룹의 이미지를 비교하는 단계; 및
    상기 제1 그룹의 이미지와 상기 제2 그룹의 이미지를 비교한 결과를 근거로, 상기 제1 그룹 및 상기 제2 그룹의 불량 여부를 판단하는 단계를 포함하되,
    상기 제1 그룹에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 배열은 상기 제2 그룹에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 배열과 동일한 마스크 검사 방법.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 그룹의 이미지와 상기 제2 그룹의 이미지를 비교하는 단계는 상기 제1 그룹의 면적과 상기 제2 그룹의 면적을 비교하는 단계를 포함하는 마스크 검사 방법.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 제1 그룹과 상기 제2 그룹을 비교하는 단계 전에, 복수의 화소를 포함하는 CCD 센서를 포함하는 비전 유닛을 이용하여, 상기 제1 그룹과 상기 제2 그룹을 촬영하여 상기 제1 그룹의 이미지와 상기 제2 그룹의 이미지를 획득하는 단계를 더 포함하는 마스크 검사 방법.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 제1 그룹의 면적과 상기 제2 그룹의 면적을 비교하는 단계는 상기 CCD 센서의 상기 화소 중 상기 제1 그룹 내에 배치된 일부의 개수와 상기 CCD 센서의 상기 화소 중 상기 제2 그룹 내에 배치된 다른 일부의 개수를 비교하는 단계를 포함하는 마스크 검사 방법.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 그룹의 이미지와 상기 제2 그룹의 이미지를 비교하는 단계는 상기 제1 그룹의 형상과 상기 제2 그룹의 형상을 비교하는 단계를 포함하는 마스크 검사 방법.
  6. 제5 항에 있어서,
    복수의 화소를 포함하는 CCD 센서를 포함하는 비전 유닛을 이용하여, 상기 제1 그룹과 상기 제2 그룹을 촬영하는 단계를 더 포함하고,
    상기 제1 그룹의 형상과 상기 제2 그룹의 형상을 비교하는 단계는 상기 CCD 센서의 상기 화소 중 상기 제1 그룹 내에 배치된 일부의 형상과 상기 CCD 센서의 상기 화소 중 상기 제2 그룹 내에 배치된 다른 일부의 형상을 비교하는 단계를 포함하는 마스크 검사 방법.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 제1 그룹과 상기 제2 그룹을 비교하는 단계는 상기 제1 그룹의 이미지 및 상기 제2 그룹의 이미지 중 어느 하나를 수평 방향으로 회전시키는 단계를 더 포함하는 마스크 검사 방법.
  8. 제5 항에 있어서,
    상기 제1 그룹의 이미지와 상기 제2 그룹의 이미지를 비교하는 단계는 검사자의 육안으로 비교하는 단계를 포함하는 마스크 검사 방법.
  9. 복수의 제1 개구부 및 복수의 제2 개구부를 포함하며, 상기 제1 개구부 각각은 상기 제2 개구부 각각과 평면상 다른 형상을 갖는 증착용 마스크를 준비하는 단계;
    상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부를 포함하는 레퍼런스 이미지를 준비하는 단계;
    각각 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부를 포함하는 복수의 그룹을 지정하는 단계;
    상기 레퍼런스 이미지와 상기 그룹의 이미지를 비교하는 단계; 및
    상기 레퍼런스 이미지와 상기 그룹의 이미지를 비교한 결과를 근거로, 상기 그룹의 불량 여부를 판단하는 단계를 포함하되,
    상기 그룹에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 배열은 상기 레퍼런스 이미지에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 배열과 동일한 마스크 검사 방법.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 레퍼런스 이미지와 상기 그룹의 이미지를 비교하는 단계는 상기 레퍼런스 이미지에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 면적과 상기 그룹에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 면적을 비교하는 단계를 포함하는 마스크 검사 방법.
  11. 제9 항에 있어서,
    상기 레퍼런스 이미지와 상기 그룹의 이미지를 비교하는 단계는 상기 레퍼런스 이미지에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 형상과 상기 그룹에 포함된 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 형상을 비교하는 단계를 포함하는 마스크 검사 방법.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 레퍼런스 이미지와 상기 그룹의 이미지를 비교하는 단계는 검사자의 육안으로 비교하는 단계를 포함하는 마스크 검사 방법.
  13. 복수의 제1 개구부 및 각각이 평면상 상기 제1 개구부 각각과 다른 형상을 갖는 복수의 제2 개구부를 포함하는 증착용 마스크를 검사하는 마스크 검사 장치로서,
    상기 증착용 마스크를 지지하는 지지대;
    상기 지지대와 이격되며, 상기 증착용 마스크를 촬영하는 비전 유닛; 및
    상기 비전 유닛에 의해 획득된 이미지를 근거로, 상기 제1 개구부 및 상기 제2 개구부의 불량 여부를 판단하는 제어부를 포함하되,
    상기 제어부는 상기 복수의 제1 개구부 중 적어도 하나와 상기 제2 개구부 중 적어도 하나를 각각 포함하는 제1 그룹과 제2 그룹을 지정하고, 상기 제1 그룹을 촬영한 제1 이미지와 상기 제2 그룹을 촬영한 제2 이미지를 비교하는 마스크 검사 장치.
  14. 제13 항에 있어서,
    상기 제어부는 상기 제1 그룹의 면적과 상기 제2 그룹의 면적을 비교하는 비교부를 포함하는 마스크 검사 장치.
  15. 제14 항에 있어서,
    상기 비전 유닛은 상기 증착용 마스크를 향해 광을 방출하는 광 조사 부재, 및 상기 광 조사 부재로부터 방출된 상기 광의 적어도 일부를 수광하며 복수의 화소를 포함하는 CCD 센서를 포함하는 수광 부재를 더 포함하는 마스크 검사 장치.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 비교부는 상기 CCD 센서의 상기 화소 중 상기 제1 그룹 내에 배치된 일부 화소의 개수와 상기 CCD 센서의 상기 화소 중 상기 제2 그룹 내에 배치된 다른 일부 화소의 개수를 비교하는 마스크 검사 장치.
  17. 제14 항에 있어서,
    상기 비교부는 상기 제1 그룹의 평면상 형상과 상기 제2 그룹의 평면상 형상을 비교하는 마스크 검사 장치.
  18. 제13 항에 있어서,
    상기 제어부는 상기 증착용 마스크 상의 이물 유무를 판단하는 이물 검출부를 더 포함하는 마스크 검사 장치.
  19. 제13 항에 있어서,
    상기 제어부에 의해 판단된 불량 여부에 대한 정보를 출력하는 출력부를 더 포함하는 마스크 검사 장치.
  20. 제19 항에 있어서,
    상기 비전 유닛에 의해 촬영된 이미지 정보를 처리하여, 상기 제어부로 제공하는 데이터 처리부를 더 포함하는 마스크 검사 장치.
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