CN102241058A - 陶瓷瓷砖的填充介质及其自动添加*** - Google Patents
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Abstract
一种陶瓷瓷砖的填充介质,其包括以下重量百分比的组分:碳酸氢钙:60-70%、纳米水:30-40%;以及一种陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加***,将加温至25-35℃的纳米水与碳酸氢钙混合,通过超洁亮纳米抛光机使碳酸氢钙和纳米水均匀的分布于砖面,并完全渗透至稍大的砖面气孔和微裂纹之中。本发明提供的陶瓷瓷砖的填充介质、填充介质的自动添加***,使用一种颗粒性大于纳米水的介质碳酸氢钙,与纳米水联合使用对较大的砖面毛孔和微裂纹进行填充,达到全面提升高档瓷砖的超洁亮防污性和砖面效果。
Description
技术领域
本发明涉及一种陶瓷瓷砖的填充介质、填充介质的自动添加***,以及超洁亮陶瓷瓷砖。
背景技术
陶瓷瓷砖通过原料制粉、压机压制、窑炉烧制、抛光、超洁亮防污、分级、包装等一系列工序,最后才能成为优质合格的产品,在生产过程中使用了十几种原料,因各种原料的特性不一,在窑炉烧制的过程中不可避免的出现一些微裂纹和表面气孔。微裂纹和表面气孔有时很大、有时很小,其分布没有明显的规律,完全靠各技术人员凭经验控制,致使发现有微裂纹和表面气孔时,已经有大批量的产品具有这种缺陷。而这些缺陷大大影响了瓷砖的品质和在日常使用中的防污性能。
目前,超白砖、渗花砖、微粉砖、抛釉砖等新型高档陶瓷砖全面应用超洁亮防污***。超洁亮防污***主要通过纳米水填充砖面的表面气孔和微裂纹,为瓷砖表面增添特殊防护功能且结构稳定的纳米级保护层,全面提升了新型高档陶瓷砖的防污性能、光泽度和抗磨损性能。而纳米水的特性是颗粒细小,无色无味,呈透明状,通过纳米抛光机磨盘的高速旋转,再施加一定的气压,达到对纳米水加温加压,增加纳米水的渗透性,使其能完全渗透进砖面的表面气孔和微裂纹中。正是因为纳米水的特性,在对一些较大的表面气孔和微裂纹达不到完全填充的效果,从而影响新型高档砖在生产过程中的防污性和砖面效果。
同时,陶瓷行业是流水线生产,对瓷砖的产量有一定的要求,也就是对流水线的速度有一定要求。纳米水其材料颗粒小至纳米级,很容易对细小的砖面毛孔和微裂纹填充。在线速度一定的情况下,如果砖面毛孔和微裂纹稍大,纳米水就无法做到完全填充,生产中就会出现防污不达标,至使瓷砖缺陷大大超标,这种问题在线速度越快的情况就会越明显。
发明内容
本发明的目的在于克服上述缺点,提供一种陶瓷瓷砖的填充介质、填充介质的自动添加***,使用一种颗粒性大于纳米水的介质碳酸氢钙,与纳米水联合使用对较大的砖面毛孔和微裂纹进行填充,达到全面提升高档瓷砖的超洁亮防污性和砖面效果。
为解决上述问题,本发明通过以下技术方案实现:
本发明的一种陶瓷瓷砖的填充介质,其包括以下重量百分比的组分:碳酸氢钙:60-70%、纳米水:30-40%。
本发明还涉及一种陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加***,其包括以下步骤:
a.经过抛光后的瓷砖从进口线架传递向超洁亮纳米抛光机时,设置在进口线架和超洁亮纳米抛光机之间的料斗内的碳酸氢钙滴落至砖面;
b.瓷砖经过超洁亮纳米抛光机时,加温至25-35℃的纳米水滴落至砖面,其中步骤a中的碳酸氢钙与纳米水所占的重量百分比为:碳酸氢钙:60-70%、纳米水:30-40%。
c.利用超洁亮纳米抛光机的第一组、第二组磨盘加压、升温,使砖面温度也达到25-35℃,同时施加4KG的压力,以增强碳酸氢钙和纳米水的渗透性;再通过磨盘的高速旋转,使碳酸氢钙和纳米水均匀的分布于砖面,并完全渗透至稍大的砖面气孔和微裂纹之中。
在所述的料斗顶部设置有通过电磁阀开关控制的气管,在料斗内部设置有振动器,在料斗的底设置有过滤网,电磁阀、振动器分别与PLC连接。
在步骤b中所述的加温至25-35℃的纳米水,加温温度优选加温至30℃,步骤c中所述的砖面加温温度也优选加温至30℃。
本发明还涉及一种超洁亮陶瓷瓷砖,其在瓷砖表面和纳米层1之间添加填充介质,其包括以下重量百分比的组分:碳酸氢钙:60-70%、纳米水:30-40%。
本发明还涉及一种根据所述的陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加***制备的超洁亮陶瓷瓷砖。
本发明的陶瓷瓷砖的填充介质,在纳米层与砖面之间填充碳酸轻钙和纳米水的混合液,能有效填充砖面较大的表面气孔(直径约1MM以上)和微裂纹(长度约1MM以上),弥补纳米水只能填充微小的气孔和微裂纹的不足,达到全面填充的效果;由于填充工序设置在使用超洁亮纳米抛光机之前,在达到填充效果的同时,也保持了纳米水的特性,有效的降低了脱落、落脏等缺陷的发生率,全面提升新型高档瓷砖的质量。本发明涉及的填充介质的自动添加***,在超洁亮纳米抛光机设置有由PLC自动控制的料斗,能够在不影响原有自动化流水线生产的基础上,增加了添加碳酸氢钙填料的工序,使生产的瓷砖的质量更好。
附图说明
图1为填充了填充介质的陶瓷瓷砖的结构示意图;
图2为本发明所述的填充介质的自动添加***的结构示意图;
图号说明:
1…纳米层 2…瓷砖表面 3…填充介质 4…进口线架
5…超洁亮纳米抛光机 6…料斗 7…电磁阀 8…气管
9…振动器 10…过滤网
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步详细说明。
本发明的陶瓷瓷砖的填充介质3,其包括以下重量百分比的组分:碳酸氢钙:60-70%、纳米水:30-40%。具体实施方式见表1:
表1:填充介质的组成(重量百分比%)
组分 | 酸氢钙(%) | 纳米水(%) | 纳米水温度(℃) |
#1 | 60 | 40 | 25 |
#2 | 65 | 35 | 30 |
#3 | 70 | 30 | 35 |
本发明还涉及一种陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加***,其包括以下步骤:
a.经过抛光后的瓷砖从进口线架4传递向超洁亮纳米抛光机5时,设置在进口线架4和超洁亮纳米抛光机5之间的料斗6内的碳酸氢钙滴落至砖面;
b.瓷砖经过超洁亮纳米抛光机5时,加温至25-35℃(优选30℃)的纳米水滴落至砖面,其中步骤a中的碳酸氢钙与纳米水所占的重量百分比为:碳酸氢钙:60-70%、纳米水:30-40%(具体参数可根据表1进行配比)。
c.利用超洁亮纳米抛光机5的第一组、第二组磨盘加压、升温,使砖面温度也达到25-35℃(优选30℃),同时施加4KG的压力,以增强碳酸氢钙和纳米水的渗透性;再通过磨盘的高速旋转,使碳酸氢钙和纳米水均匀的分布于砖面,并完全渗透至稍大的砖面气孔和微裂纹之中。
在所述的料斗6安装在进口线架4和超洁亮纳米抛光机5之间,料斗6顶部设置有通过电磁阀7开关控制的气管8,在料斗6内部设置有振动器9,电磁阀7、振动器9分别与PLC连接,在料斗6的底部设置有300目的过滤网10,保障填充料的细度,防止大颗粒的填充料流入砖面,影响填充性和渗透性。
在瓷砖从进口线架4传递向超洁亮纳米抛光机5时,通过PLC自动控制电磁阀7的开关,通过气管8施加2KG左右的气压,以保证填充料能通过料斗6下口匀速滴落至砖面。同时,振动器9不断按固定频率动作,使碳酸轻钙(或颗粒程度近似,白色、无味的填充料)不至于结块、结团。
本发明的陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加***的具体工作流程为:通过欧姆龙PLC自动控制,瓷砖通过进口线架4传递向超洁亮纳米抛光机5(K1649A-10型)进口处时,自动打开电磁阀7,打开通过气管8引来的2KG左右的气压,对料斗6中的碳酸轻钙(或颗粒程度近似,白色、无味的填充料)进行加压。同时,通过振动器9的不断振动,防止了填充料结块、结团。
最后填充料通过300目不锈钢筛网过滤,匀速的作用于砖面。同时,利用PLC自动控制打开加温至30℃度左右的纳米水,通过流量计算,按填充料60%-70%,纳米水30%-40%的比例滴落至砖面,形成了工艺原理图中的填充介质3。
填充介质3作用于砖面后,再使用超洁亮纳米抛光机5(K1649A-10型)的前二组磨盘对填充介质3扩散至全部砖面,并施加约4KG的压力,增强填充介质3的渗透性,使填充介质3完全渗透至砖面毛孔和微裂纹之中。接着用超洁亮纳米抛光机5(K1649A-10型)进行纳米水抛光,形成纳米水保护层。从而大大的提高了砖面效果及防污性。
填充介质3对较大的砖面毛孔和微裂纹进行预填充后,再由超洁亮纳米抛光机5(K1649A-10型)进行超洁亮防污处理,使纳米水填充至细小毛孔和微裂纹中。同时,在已填充至砖面气孔和微裂纹中的填充介质3表面形成一个纳米保护层,从而做到一个砖面二次填充,提高了超洁亮纳米抛光机5(K1649A-10型)对瓷砖表面的防污处理效果,全面提升了砖面的防污性能、光泽度和抗磨性。
本发明还涉及一种超洁亮陶瓷瓷砖,其在瓷砖表面2和纳米层1之间添加填充介质3,其包括以下重量百分比的组分:碳酸氢钙:60-70%、纳米水:30-40%。
本发明还涉及一种根据所述的陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加***制备的超洁亮陶瓷瓷砖。
综上所述,仅为本发明的较佳实施里而已,并非对本发明作任何形式上的限制;凡本行业的普通技术人员均可按以上所述而顺畅地实施本发明;但是,凡熟悉本专业的技术人员在不脱离本发明技术方案范围内,可利用以上所揭示的技术内容而做出的些许变更,修饰与演变的等同变化,均为本发明的等效实施例;同时,凡依据本发明的实质技术对以上实施例所作的任何等同变化的变更、修饰与演变,均仍属于本发明的技术方案的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种陶瓷瓷砖的填充介质,其特征在于:
其包括以下重量百分比的组分:碳酸氢钙:60-70%、纳米水:30-40%。
2.一种陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加***,其特征在于:
其包括以下步骤:
a.经过抛光后的瓷砖从进口线架传递向超洁亮纳米抛光机时,设置在进口线架和超洁亮纳米抛光机之间的料斗内的碳酸氢钙撒落至砖面;
b.瓷砖经过超洁亮纳米抛光机时,加温至25-35℃的纳米水滴落至砖面,其中步骤a中的碳酸氢钙与纳米水所占的重量百分比分别为:碳酸氢钙:60-70%、纳米水:30-40%。
c.利用超洁亮纳米抛光机的第一组、第二组磨盘加压、升温,使砖面温度也达到25-35℃,同时施加4KG的压力,以增强碳酸氢钙和纳米水的渗透性;再通过磨盘的高速旋转,使碳酸氢钙和纳米水均匀的分布于砖面,并完全渗透至稍大的砖面气孔和微裂纹之中。
3.根据权利要求2所述的陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加***,其特征在于:
在所述的料斗顶部设置有通过电磁阀开关控制的气管,在料斗内部设置有振动器,在料斗的底部设置有过滤网,电磁阀、振动器分别与PLC连接。
4.根据权利要求2所述的陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加***,其特征在于:
在步骤b中所述的加温至25-35℃的纳米水,加温温度优选加温至30℃,步骤c中所述的砖面加温温度也优选加温至30℃。
5.一种超洁亮陶瓷瓷砖,其特征在于:
在瓷砖表面和纳米层1之间添加权利要求1所述的填充介质,其包括以下重量百分比的组分:碳酸氢钙:60-70%、纳米水:30-40%。
6.一种根据权利要求2所述的陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加***制备的超洁亮陶瓷瓷砖。
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