CN102101794B - 一种釉上低温艳红釉及其陶瓷制品的生产工艺 - Google Patents
一种釉上低温艳红釉及其陶瓷制品的生产工艺 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102101794B CN102101794B CN 201110025810 CN201110025810A CN102101794B CN 102101794 B CN102101794 B CN 102101794B CN 201110025810 CN201110025810 CN 201110025810 CN 201110025810 A CN201110025810 A CN 201110025810A CN 102101794 B CN102101794 B CN 102101794B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- glaze
- percent
- low temperature
- ceramic
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
本发明涉及一种釉上低温艳红釉及其陶瓷制品的生产工艺,属陶瓷技术领域。釉上低温艳红釉按重量百分比由艳红颜料40-45%和低温熔块55-60%混合而成,低温熔块各组分重量百分比为:Li2O 1.2-2.4%、KNaO 6.3~7.7%、SiO243.1-46.2%、Fe2O30.03%、Al2O34.9-6.9%、CaO 4.9-5.6%、B2O327.2-28.9%、SrO 3.6%、ZrO 1.0%和F 1.2-1.6%。釉上低温艳红釉陶瓷制品的生产工艺包括:釉料配料后,加入解凝剂和水,均混,球磨,过筛,上釉,阴干,烤烧。本发明技术易实施,产品具有坯釉结合牢固,呈色艳丽,光泽度高,硬度高,无毒害等特点。
Description
技术领域
本发明涉及一种釉上低温艳红釉及其陶瓷制品的生产工艺,属陶瓷技术领域。
背景技术
目前,釉上彩是一种广泛应用于陶瓷制品的装饰方法。传统的釉上彩生产工艺是加入30-50%的氧化铅,使陶瓷釉上颜料的烤烧温度范围宽且发色纯正。但铅在陶瓷颜料的生产和使用过程中,对环境和人体均有害。因此,很多研发机构和生产厂家都在努力寻找一种可以代替氧化铅的添加剂,同时能使陶瓷釉料具有烧成温度低、色泽光亮的特点。目前,已出现了利用Bi2O3熔点低的优点代替氧化铅的做法。但铋也具有毒性,且由于引入Bi2O3,不易形成均匀的玻璃体造成熔剂结构疏松,影响化学稳定性,耐酸耐碱的性质也会下降。为改善陶瓷制品外观质量,降低能耗,满足消费者需求,必须对釉原料配方及生产工艺作进一步改进。
另一方面,由于釉上彩是在经高温烧成后的陶瓷制品表面施釉的,高温烧成的陶瓷制品表面较光滑,不吸水,色料不易吸附、这就导致了釉上彩产品表面易出现施釉不均,色釉易脱落等缺点,严重影响产品外观质量。
发明内容
本发明目的在于克服上述不足,提供一种釉上低温艳红釉及其陶瓷制品的生产工艺。本发明技术易实施,工艺科学合理,制得的釉上彩产品具有坯釉结合牢固,呈色艳丽,光泽度高,硬度高,无毒害等特点,符合消费者需求。
本发明目的是通过以下技术方案实现的:
本发明所述釉上低温艳红釉,按重量百分比由艳红颜料40-45%和低温熔块55-60%混合而成。
所述艳红颜料市场有售,可直接购买。
所述低温熔块各组分重量百分比为:Li2O 1.2-2.4%、KNaO 6.3~7.7%、SiO243.1-46.2%、Fe2O30.03%、Al2O34.9-6.9%、CaO 4.9-5.6%、B2O327.2-28.9%、SrO 3.6%、ZrO 1.0%和F 1.2-1.6%。
所述低温熔块的制备工艺为:熔块熔制温度为1200-1250℃,保温时间30分钟,经水淬后,破碎干燥,备用。
本发明所述釉上低温艳红釉陶瓷制品的生产工艺包括以下步骤:
1、釉料配料:按重量百分比由艳红颜料40-45%和上述低温熔块55-60%混合成合成料,再在每千克合成料中加入解凝剂200-250ml和水320-350ml。
2、球磨:将上述配料均混,加入球磨机中球磨,时间为12小时。
3、过筛:将上述球磨好的釉浆用细度为320目的筛网进行过筛。
4、施釉:采用浸釉方式,在经高温烧成的陶瓷制品上施釉,阴干。
5、烧成:采用电窑烤烧,烤烧温度800-950℃,烤烧时间100-120分钟,即得釉上低温艳红釉陶瓷制品。
所述解凝剂为聚丙乙酸钠。
本发明的有益效果是:在釉料配方中通过引入Li2O、K2O、Na2O、CaO、SrO等复合助熔助色成分,降低熔块烧结温度,特别是加入离子半径最小的Li+降低了熔剂的膨胀系数,改变传统熔剂硅硼比的一般原则(SiO2/B2O3≥2)。同时适当添加了SnO2、SrO有利于提高色釉料的表面硬度、光泽度及透明度。
本发明另一创新之处是在光滑的陶瓷制品表面采用浸釉方式上色,通过选用解凝剂既保障适当的含水量又增强表面吸附力,合成的色釉料悬浮而不沉降,攻克了高温陶瓷制品不吸水,色釉料难于吸附和上色不均匀的技术问题。本发明所述制作方法简单,易于进行批量化生产,经济效益显著。
具体实施方式
实施例1
1、低温熔块的制备:低温熔块的化学组成的重量百分比为:Li2O 2.4%、KNaO 6.3%、SiO245.7%、Fe2O30.03%、Al2O36.4%、CaO 4.6%、B2O328.9%、SrO 3.6%、ZrO 1.0%和F 1.2%。熔块熔制温度为1200℃,保温时间30分钟,经水淬后,破碎干燥,备用。
2、釉料配料:按重量百分比由艳红颜料40%和上述低温熔块60%混合成合成料,再在每千克合成料中加入聚丙乙酸钠200ml和水320ml。
3、球磨:将上述配料均混,加入球磨机中球磨,时间为12小时。
4、过筛:将上述球磨好的釉浆用细度为320目的筛网进行过筛。
5、施釉:采用浸釉方式,在经高温烧成的陶瓷制品上施釉,阴干。
6、烧成:采用电窑烤烧,烤烧温度850℃,烤烧时间120分钟,即得釉上低温艳红釉陶瓷制品。
实施例2
1、低温熔块的制备:低温熔块的化学组成的重量百分比为:Li2O 2.4%、KNaO7.9%、SiO243.1%、Fe2O30.03%、Al2O36.9%、CaO4.8%、B2O327.1%、SrO6.1%、ZrO 1.0%和F 1.6%。熔块熔制温度为1240℃,保温时间30分钟,经水淬后,破碎干燥,备用。
2、釉料配料:按重量百分比由艳红颜料43%和上述低温熔块57%混合成合成料,再在每千克合成料中加入聚丙乙酸钠220ml和水340ml。
3、球磨:将上述配料均混,加入球磨机中球磨,时间为12小时。
4、过筛:将上述球磨好的釉浆用细度为320目的筛网进行过筛。
5、施釉:采用浸釉方式,在经高温烧成的陶瓷坯体上施釉,阴干。
6、烧成:采用电窑烤烧,烤烧温度900℃,烤烧时间110分钟,即得釉上低温艳红釉陶瓷制品。
实施例3
1、低温熔块的制备:低温熔块的化学组成的重量百分比为:Li2O 1.4%、KNaO 7.4%、SiO245.8%、Fe2O30.03%、Al2O34.9%、CaO 5.6%、B2O328.5%、SrO 4.6%、ZrO 1.0%和F 1.6%。熔块熔制温度为1250℃,保温时间30分钟,经水淬后,破碎干燥,备用。
2、釉料配料:按重量百分比由艳红颜料45%和上述低温熔块55%混合成合成料,再在每千克合成料中加入聚丙乙酸钠250ml和水350ml。
3、球磨:将上述配料均混,加入球磨机中球磨,时间为12小时。
4、过筛:将上述球磨好的釉浆用细度为320目的筛网进行过筛。
5、施釉:采用浸釉方式,在经高温烧成的陶瓷制品上施釉,阴干。
6、烧成:采用电窑烤烧,烤烧温度950℃,烤烧时间100分钟,即得釉上低温艳红釉陶瓷制品。
Claims (1)
1.一种釉上低温艳红釉,按重量百分比由艳红颜料40-45%和低温熔块55-60%混合而成,所述低温熔块各组分重量百分比为:Li2O 1.2-2.4%、KNaO6.3~7.7%、SiO2 43.1-46.2%、Fe2O30.03%、Al2O3 4.9-6.9%、CaO 4.9-5.6%、B2O327.2-28.9%、SrO 3.6%、ZrO 1.0%和F 1.2-1.6%;其陶瓷制品的生产工艺包括以下步骤:(1)釉料配料:按重量百分比由艳红颜料40-45%和低温熔块55-60%混合成合成料,再在每千克合成料中加入解凝剂聚丙乙酸钠200-250ml和水320-350ml;(2)球磨:将上述配料均混,加入球磨机中球磨,时间为12小时;(3)过筛:将上述球磨好的釉浆用细度为320目的筛网进行过筛;(4)施釉:采用浸釉方式,在经高温烧成的陶瓷制品上施釉,阴干;(5)烧成:采用电窑烤烧,烤烧温度800-950℃,烤烧时间100-120分钟,即得釉上低温艳红釉陶瓷制品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 201110025810 CN102101794B (zh) | 2011-01-20 | 2011-01-20 | 一种釉上低温艳红釉及其陶瓷制品的生产工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 201110025810 CN102101794B (zh) | 2011-01-20 | 2011-01-20 | 一种釉上低温艳红釉及其陶瓷制品的生产工艺 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102101794A CN102101794A (zh) | 2011-06-22 |
CN102101794B true CN102101794B (zh) | 2013-01-16 |
Family
ID=44154884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN 201110025810 Expired - Fee Related CN102101794B (zh) | 2011-01-20 | 2011-01-20 | 一种釉上低温艳红釉及其陶瓷制品的生产工艺 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102101794B (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102515862B (zh) * | 2011-12-14 | 2014-01-08 | 广东松发陶瓷股份有限公司 | 装饰用大红釉 |
CN103613408A (zh) * | 2013-11-20 | 2014-03-05 | 江苏省宜兴彩陶工艺厂 | 低温玫红釉陶瓷制品及其制造方法 |
CN105541297A (zh) * | 2015-12-17 | 2016-05-04 | 安徽省含山民生瓷业有限责任公司 | 一种瓷器的生产工艺 |
CN106542736A (zh) * | 2016-10-21 | 2017-03-29 | 陕西火凤凰艺术陶瓷有限责任公司 | 一种艳红釉料及其制备方法和上釉方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1298844A (zh) * | 1999-12-03 | 2001-06-13 | 淄博工业陶瓷厂 | 高级日用瓷无铅熔块釉 |
US6340650B1 (en) * | 1999-02-02 | 2002-01-22 | Michael Joseph Haun | Ceramic products made from waste glass, raw batch formulations, and method |
CN101717276A (zh) * | 2009-11-20 | 2010-06-02 | 景德镇陶瓷学院 | 一种膨胀系数小的透明无铅熔块釉及其制备方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05132382A (ja) * | 1991-11-07 | 1993-05-28 | Mitsubishi Materials Corp | グレーズドセラミツク基板の製造方法 |
-
2011
- 2011-01-20 CN CN 201110025810 patent/CN102101794B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6340650B1 (en) * | 1999-02-02 | 2002-01-22 | Michael Joseph Haun | Ceramic products made from waste glass, raw batch formulations, and method |
CN1298844A (zh) * | 1999-12-03 | 2001-06-13 | 淄博工业陶瓷厂 | 高级日用瓷无铅熔块釉 |
CN101717276A (zh) * | 2009-11-20 | 2010-06-02 | 景德镇陶瓷学院 | 一种膨胀系数小的透明无铅熔块釉及其制备方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JP特开平5-132382A 1993.05.28 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102101794A (zh) | 2011-06-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101759441B (zh) | 一种陶瓷釉料及其制作工艺 | |
CN101050060B (zh) | 低温釉上无铅陶瓷颜料 | |
CN101786795B (zh) | 一种珐琅釉料及其制备工艺 | |
CN103232225B (zh) | 一种多彩木叶天目瓷的制备方法及其制得的产品 | |
CN101759440A (zh) | 一种无铅陶瓷釉料及其制备工艺 | |
CN101768016A (zh) | 一种珐琅彩陶瓷釉料及其制作工艺和应用 | |
CN101050061B (zh) | 玻璃无铅颜料 | |
CN102775196B (zh) | 一种骨质瓷釉下五彩装饰方法 | |
CN102731168B (zh) | 一种白胎冰裂纹釉瓷的制备方法及其制得的产品 | |
CN101618943A (zh) | 透明裂纹釉及透明裂纹制品的加工方法 | |
CN103642317A (zh) | 一种低温陶瓷喷墨墨水 | |
CN103833329B (zh) | 一种强化骨质瓷的制备方法及其制得的产品 | |
CN101244950A (zh) | 一种中温日用陶瓷裂纹釉的制作方法 | |
CN103288493A (zh) | 一种利用金属铜、铁制备的天青钧瓷釉及其制备方法 | |
WO2015054805A1 (zh) | 高白度釉下多彩低温陶瓷及制备方法 | |
CN101891501A (zh) | 一种无铅无镉骨瓷釉料及其制备工艺 | |
CN107032832A (zh) | 一种具有变色效果的陶瓷砖及其制备方法 | |
CN102951929B (zh) | 茶黄无光釉及其制造方法 | |
CN102101794B (zh) | 一种釉上低温艳红釉及其陶瓷制品的生产工艺 | |
CN108298818A (zh) | 珐琅彩瓷用云母钛珠光釉料及其釉浆制备方法和应用 | |
CN101913843B (zh) | 一种翠玉瓷的制备方法 | |
CN104478217A (zh) | 一种环保铜红玻璃釉、其制备方法以及由其制备铜红玻璃釉面的方法 | |
JP2014201477A (ja) | 陶磁器用低融点無鉛ガラス組成物 | |
CN100528812C (zh) | 中温大红色釉料的配制方法 | |
CN100369841C (zh) | 中温陶瓷大红釉 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
DD01 | Delivery of document by public notice | ||
DD01 | Delivery of document by public notice |
Addressee: Ke Weiyu Document name: payment instructions |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20130116 Termination date: 20220120 |