CN101881851A

CN101881851A - Pdp滤光片及其制备方法

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Publication number: CN101881851A
Application number: CN2010102147638A
Authority: CN
Inventors: 朱焰焰; 耿秋菊
Original assignee: BEICHUAN TIANNUO PHOTOELECTRIC MATERIAL Co Ltd
Current assignee: BEICHUAN TIANNUO PHOTOELECTRIC MATERIAL Co Ltd
Priority date: 2010-07-01
Filing date: 2010-07-01
Publication date: 2010-11-10

Abstract

本发明提供一种PDP滤光片及其制备方法，该PDP滤光片在透明基材的一面上有防反射层，在相反面上有依次层叠的电磁波屏蔽层、近红外线吸收层及氖黄光吸收层；或在相反面上有依次层叠的近红外线吸收层、电磁波屏蔽层及氖黄光吸收层。它们被制成一体化的薄片状，并且所述氖黄光吸收层的未与透明基材结合的漏出面具有粘结性，其中电磁波屏蔽层是先采用物理镀薄层金属层后再蚀刻成网格，然后再电镀厚层金属层，在厚层金属层上采用黑化工艺，使暴露在外面的金属均变成黑色，这样即节省能源，又减少蚀刻时侧蚀现象的产生，使线径变黑，可以增加镀层的吸光度，使图像更加清晰。

Description

PDP滤光片及其制备方法

技术领域：

本发明涉及滤光材料及其制备方法。尤其涉及一种用于等离子体显示器等光学图像显示装置的显示面中的以薄片状层叠一体化的滤光片及其制备方法。

背景技术：

等离子体显示装置(PDP)是通过将具有显示电极、总线电极、电介质层及保护层的前面玻璃基板；与具有数据电极、电介质层及在条状间隔壁中具有荧光体层的背面玻璃基板贴合，使得电极正交，而形成小室，向该小室中封入氙气等放电气体而构成。等离子体显示装置的发光是通过向数据电极与显示电极之间施加电压，引起氙气的放电，在变为等离子体状态的氙气离子回到基态时会产生紫外线，该紫外线将荧光体层激发，发出红、绿及蓝色光。在这些可见光的发光过程中，除了这些可见光以外，还产生近红外线及电磁波。由此，在等离子体显示装置中，一般来说在玻璃基材的等离子体显示器发光部的前面，设有防反射膜、近红外线吸收膜及被赋予了电磁波截除功能的滤波片。

等离子体显示装置作为薄型显示装置，设置空间小，被认为作为壁挂型显示装置等十分有用。但是，所述的等离子体显示装置中，由于在包括发光机构的PDP装置上，与之拉开一定的空间地设有在玻璃上贴合层叠了几层薄膜的薄膜叠层体而构成的滤光片机构，因此不能说实现了充分的轻型化，实际上，由于是挂在一般的家庭用居室内的墙壁上，因此墙壁足够强固是很重要的，从而也会有需要预先对墙壁自身实施加强施工的情况。另外，还有因PDP的前面玻璃部、滤光片的表面及背面的反射，外来光在显示面上双重映射等缺点。由于一般用于滤光片中的电磁波屏蔽薄膜的主要的形式为被蚀刻了处理了的金属铜网，或在被蚀刻的端面露出金属铜，因此金属铜特有的反射色会对显示图像的色调造成不良影响。

发明内容：

本发明的目的旨在克服现有技术的不足，目的之一是提供一种易于加工制作，性能优良，图像更清晰的PDP滤光片；目的之二是提供该PDP滤光片的制备方法。

本发明的目的之一可通过如下技术措施来实现：

该PDP滤光片在透明基材的一面上有防反射层，在相反面上有依次层叠的电磁波屏蔽层、近红外线吸收层及氖黄光吸收层；或

在透明基材的一面上有防反射层，在相反面上有依次层叠的近红外线吸收层、电磁波屏蔽层及氖黄光吸收层。

本发明的目的之一还可通过如下技术措施来实现：

所述的氖黄光吸收层由氖黄光吸收染料与高分子树脂构成，或氖黄光吸收染料与粘合剂构成；所述的氖黄光吸收层进一步包括在可见光区域400nm至700nm具有最大吸收波长的能调节氖黄光吸收滤光颜色的颜色校正染料；所述的近红外线吸收层是在近红外区域800nm至1200nm具有最大吸收波长；在防反射层外有增硬层。

本发明的氖黄光吸收层还包括能调节氖黄光吸收滤光膜颜色的颜色校正染料。颜色校正染料一般是在可见光区域400nm至700nm具有最大吸收波长的有机染料，如蒽醌类、花青类、酞菁类、偶氮类等。颜色校正染料可与氖黄光吸收染料混合在一起溶于有机溶剂中，再与高分子树脂或粘合剂混合，涂覆成既有氖黄光吸收又有颜色校正功能的一层薄膜；也可单独溶于溶剂，再与高分子树脂或粘合剂混合，涂覆成仅有颜色校正功能的一层薄膜。

本发明的目的之二可通过如下技术措施来实现：

首先对透明基材采用等离子体进行表面处理，然后在透明基材的一面上形成防反射层及增硬层，由金属网构成的电磁波屏蔽层被形成于透明基材的另一面上，近红外线吸收层被形成于电磁波屏蔽层与氖黄光吸收层之间；或

首先对透明基材采用等离子体进行表面处理，然后在透明基材的一面上形成防反射层及增硬层，近红外线吸收层被形成于透明基材的另一面上，由金属网构成的电磁波屏蔽层被形成于所述近红外线吸收层与氖黄光吸收层之间。

本发明的目的之二还可通过如下技术措施来实现：

所述的电磁波屏蔽层是先采用物理镀厚度为3-1000nm的薄层金属层，然后蚀刻成线径为1-30微米、厚度为3-30微米的网格，再电镀厚度为0.5μm-12μm的厚层金属层，最后在整个金属线径上电镀厚度为0.5μm-12μm的黑色金属层。所述的物理镀是指溅射镀。所述的黑色金属层是指含锌、锡、镍、铬的金属及其合金层。

所述的薄层金属层是指铝、镍、镁、铜、铁、钴、锌、锡、银、金、钛、铋，硅、砷、钼、铟、铬、铂、不锈钢或含该金属的化合物或它们的组合物或金属氧化物构成的镀层。所述金属氧化物是氧化铟锡、氧化铟锌、氧化铝锌或氧化锡。

所述的电镀厚层金属层是指铝、镍、镁、铜、铁、钴、锌、锡、银、金、钛、铋，硅、砷、钼、铟、铬、铂、不锈钢或含该金属的化合物或它们的组合物或金属氧化物构成的镀层，其中以电镀铜及其合金层为最好。

近红外线吸收层没有特别限制。只要在可见光区透明，最大吸收波长在近红外区域800nm至1200nm的薄膜均可使用。近红外线吸收层可以由近红外吸收色素和高分子树脂或粘合剂组成，也可以由ITO、ATO等无机材料通过溅射法制得。

电磁屏蔽层没有特别限制。具有可见光区透明，并能屏蔽PDP组件发射出的电磁波的薄膜均可使用，如具有电磁屏蔽功能的铜、镍等导电网状膜或透明ITO膜等。

防反射层没有特别限制，其作用是降低等离子体显示面板滤光片对光的反射，提高透过率。

本发明所述的氖黄光吸收层是将由如下结构式表示的三苯甲烷类染料(氖黄光吸收染料)溶解在有机溶剂中，然后与高分子树脂或粘合剂混合，涂布在电磁波屏蔽层或近红外线吸收层上。

其中：R₁-R₆为氢原子、取代或未取代的烷基、苯基、烷氧基、烯基；

X为中和电荷必需的阴离子。

所述的R₁-R₆为氢原子、取代或未取代的C₁-C₄的烷基、苯基或烷氧基；所述的X为一价的有机或无机阴离子；所述的X为卤化阴离子、硝酸根离子、钛酸根离子、硫酸根离子、磷酸根离子、有机磺酸根离子、有机硼酸根离子或有机羧酸根离子；所述的X为Cl^-、ZnCl₃ ^-、ClO₄ ^-、HS0₄ ^-、H₂PO₄ ^-、萘磺酸根离子、甲苯磺酸根离子、十二烷基苯磺酸根离子或醋酸根离子；所述的三苯甲烷类染料是在可见光区域570nm-610nm具有最大吸收波长。

用三苯甲烷类染料作为氖黄光吸收染料，该染料具有优异的耐热性、耐湿性和较低的成本。由上述三苯甲烷类染料组成的氖黄光吸收滤光膜具有优异的耐高温耐湿性能，并且成本较低，用于等离子体显示板可提高图像分辨率和色纯度。

所述的有机溶剂是本领域中常用的溶剂，可以是甲苯、二甲苯等芳香族系，氯仿、二氯甲烷等氯代烃类，甲醇、乙醇等醇类，二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、甲基吡咯烷酮等酰胺系，丙酮、丁酮等酮系，四氢呋喃等。这些有机溶剂可单独使用，也可根据需要混合使用。

所述的高分子树脂或粘合剂的种类没有特别限制，可见光区透明，并具有优异的热稳定性和耐老化性能的高分子均可使用。高分子树脂可以为热固性或热塑性树脂，包括有机硅树脂、聚氨酯树脂、丙烯酸基树脂、氟碳树脂、醇酸树脂、环氧树脂等；粘合剂可以为压敏粘合剂、热敏粘合剂或光敏粘合剂，包括丙烯酸类粘合剂、聚氨酯类粘合剂等。

PDP滤光片包括透明的基材和形成于所述透明基材的一面上的防反射层及外设的增硬层，所述基材的另一面上，包括被相互层叠的电磁波屏蔽层(EMI层)、近红外线吸收层及Ne-Cut层(氖黄光吸收层)，它们被制成一体化的薄片状，并且所述氖黄光吸收层的未与所述透明基材结合的露出面具有粘结性，其中EMI层制备首先在高透光薄膜上采用等离子体进行表面处理后，物理镀薄层金属，半加成法蚀刻成网格，然后在网格上电镀厚金属层，这样即节省能源，又避免蚀刻时侧蚀现象的产生；最后在厚金属层上采用黑化工艺，使暴露在外面的金属层涂成黑色，增强镀层的吸光度，防止了金属铜特有的反射色对显示图像的色调造成的不良影响，使图像更加清晰。

所述EMI层由高透光性金属网构成，此金属网的制备工艺只需损耗少量金属并节约能源。

所述的电镀黑色金属，防止了金属铜特有的反射色对显示图像的色调造成不良影响。

所述的产生金属层的工艺可以实现卷对卷连续生产，提高了生产效率。

本发明的滤光片轻质而容易制造及处置，在使用耐久性、可视图像的识认性等方面优良，例如可以用作等离子体显示装置的显示面板用滤光片。本发明的制备方法简单，易于操作和控制，制备的产品质量有保证。

附图说明：

图1是本发明实施例的电磁波屏蔽层位于近红外线吸收层与氖黄光吸收层之间的结构示意图；

图2是本发明实施例的近红外线吸收层位于电磁波屏蔽层与氖黄光吸收层之间的结构示意图。

具体实施方式：

实施例1：

首先对透明基材4采用等离子体进行表面处理，然后在透明基材4的一面上依次形成防反射层6及增硬层5，由金属网构成的电磁波屏蔽层2被形成于透明基材4的另一面上，在近红外区域800nm具有最大吸收波长的近红外线吸收层3被形成于电磁波屏蔽层2与由结构式(2)表示的三苯甲烷类染料与压敏粘合剂构成的氖黄光吸收层1之间；或

首先对透明基材4采用等离子体进行表面处理，然后在透明基材4的一面上依次

形成防反射层6及增硬层5，在近红外区域800nm具有最大吸收波长的近红外线吸收层3被形成于透明基材4的另一面上，由金属网构成的电磁波屏蔽层2被形成于所述近红外线吸收层3与由结构式(2)表示的三苯甲烷类染料与压敏粘合剂构成的氖黄光吸收层1之间。

所述的电磁波屏蔽层2是先采用溅射镀厚度为3nm的薄层金属镀层铝镀层，然后蚀刻成线径为30微米、厚度为3微米的网格，再电镀厚度为12μm的厚层金属镀层铜镀层，最后在整个金属线径上电镀厚度为0.5μm的黑色金属镀层锌镀层。

实施例2：

首先对透明基材4采用等离子体进行表面处理，然后在透明基材4的一面上依次形成防反射层6及增硬层5。由金属网构成的电磁波屏蔽层2被形成于透明基材4的另一面上，在近红外区域1200nm具有最大吸收波长的近红外线吸收层3被形成于电磁波屏蔽层2与由结构式(3)表示的三苯甲烷类染料与压敏粘合剂构成的氖黄光吸收层1之间；或

首先对透明基材4采用等离子体进行表面处理，然后在透明基材4的一面上依次形成防反射层6及增硬层5，在近红外区域1200nm具有最大吸收波长的近红外线吸收层3被形成于透明基材4的另一面上，由金属网构成的电磁波屏蔽层2被形成于所述近红外线吸收层3与由结构式(3)表示的三苯甲烷类染料与压敏粘合剂构成的氖黄光吸收层1之间。

所述的电磁波屏蔽层2是先采用溅射镀厚度为1000nm的薄层金属镀层铝镀层，然后蚀刻成线径为1微米、厚度为30微米的网格，再电镀厚度为0.5μmμm的厚层金属镀层铜镀层，最后在整个金属线径上电镀厚度为12μm的黑色金属镀层锌镀层。

实施例3

首先对透明基材4采用等离子体进行表面处理，然后在透明基材4的一面上依次形成防反射层6及增硬层5，由金属网构成的电磁波屏蔽层2被形成于透明基材4的另一面上，在近红外区域1000nm具有最大吸收波长的近红外线吸收层3被形成于电磁波屏蔽层2与由结构式(4)表示的三苯甲烷类染料与压敏粘合剂构成的氖黄光吸收层1之间；或

首先对透明基材4采用等离子体进行表面处理，然后在透明基材4的一面上依次形成防反射层6及增硬层5，在近红外区域1000nm具有最大吸收波长的近红外线吸收层3被形成于透明基材4的另一面上，由金属网构成的电磁波屏蔽层2被形成于所述近红外线吸收层3与由结构式(4)表示的三苯甲烷类染料与压敏粘合剂构成的氖黄光吸收层1之间。

所述的电磁波屏蔽层2是先采用溅射镀厚度为500nm的薄层金属镀层铝镀层，然后蚀刻成线径为15微米、厚度为20微米的网格，再电镀厚度为6μm的厚层金属镀层铜镀层，最后在整个金属线径上电镀厚度为6μm的黑色金属镀层锌镀层。

实施例4：

用“所示的三苯甲烷类染料、在可见光区域400nm至700nm具有最大吸收波长的能调节氖黄光吸收滤光颜色的颜色校正染料与压敏粘合剂构成的氖黄光吸收层1之间”代替“所示的三苯甲烷类染料与压敏粘合剂构成的氖黄光吸收层1之间”，其他分别同实施例1-3。

实施例5：

薄层金属镀层分别用镍、镁、铜、铁、钴、锌、锡、银、金、钛、铋，硅、砷、钼、铟、铬、铂、不锈钢或含该金属的化合物或它们的组合物构成的镀层代替铝镀层，其他分别同实施例1-4。

实施例6：

薄层金属镀层分别用氧化铟锡、氧化铟锌、氧化铝锌或氧化锡构成的镀层代替铝镀层，其他分别同实施例1-4。

实施例7：

厚层金属镀层分别用铝、镍、镁、铁、钴、锌、锡、银、金、钛、铋，硅、砷、钼、铟、铬、铂、不锈钢或含该金属的化合物或它们的组合物或金属氧化物构成的镀层代替铜镀层，其他分别同实施例1-6。

实施例8：

厚层金属镀层用铜合金镀层代替铜镀层，其他分别同实施例1-7。

实施例9：

分别用锡、镍、铬或其合金镀层代替黑色金属镀层的锌镀层，其他分别同实施例1-8。

实施例10：

分别用有机硅树脂、聚氨酯树脂、丙烯酸树脂、氟碳树脂、醇酸树脂、环氧树脂、热敏粘合剂或光敏粘合剂，包括丙烯酸类粘合剂、聚氨酯类粘合剂代替压敏粘合剂，其他分别同实施例1-9。

Claims

1.PDP滤光片，其特征在于：

在透明基材(4)的一面上有防反射层(6)，在相反面上有依次层叠的电磁波屏蔽层(2)、近红外线吸收层(3)及氖黄光吸收层(1)；或

在透明基材(4)的一面上有防反射层(6)，在相反面上有依次层叠的近红外线吸收层(3)、电磁波屏蔽层(2)及氖黄光吸收层(1)。

2.根据权利要求1所述的PDP滤光片，其特征在于所述的氖黄光吸收层(1)由氖黄光吸收染料与高分子树脂或粘合剂构成。

3.如权利要求书2所述的PDP滤光片，其特征在于所述的氖黄光吸收层(1)进一步包括在可见光区域400nm至700nm具有最大吸收波长的能调节氖黄光吸收滤光颜色的颜色校正染料。

4.如权利要求书1所述的PDP滤光片，其特征在于所述的近红外线吸收层(3)是在近红外区域800nm至1200nm具有最大吸收波长。

5.根据权利要求1所述的PDP滤光片，其特征在于在防反射层(6)外有增硬层(5)。

6.权利要求书1的PDP滤光片的制备方法，其特征在于：

首先对透明基材(4)采用等离子体进行表面处理，然后在透明基材(4)的一面上形成防反射层(6)及增硬层(5)，由金属网构成的电磁波屏蔽层(2)被形成于透明基材(4)的另一面上，近红外线吸收层(3)被形成于电磁波屏蔽层(2)与氖黄光吸收层(1)之间；或

首先对透明基材(4)采用等离子体进行表面处理，然后在透明基材(4)的一面上形成防反射层(6)及增硬层(5)，近红外线吸收层(3)被形成于透明基材(4)的另一面上，由金属网构成的电磁波屏蔽层(2)被形成于所述近红外线吸收层(3)与氖黄光吸收层(1)之间。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于所述的电磁波屏蔽层(2)是先采用物理镀厚度为3-1000nm的薄层金属层，然后蚀刻成线径为1-30微米、厚度为3-30微米的网格，再电镀厚度为0.5μm-12μm的厚层金属层，最后在整个金属线径上电镀厚度为0.5μm-12μm的黑色金属层。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于所述的物理镀是指溅射镀。

9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于所述的黑色金属层是指含锌、锡、镍、铬的金属及其合金层。

10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于所述的薄层金属层是指铝、镍、镁、铜、铁、钴、锌、锡、银、金、钛、铋，硅、砷、钼、铟、铬、铂、不锈钢或含该金属的化合物或它们的组合物或金属氧化物构成的镀层；所述的厚层金属层是指铝、镍、镁、铜、铁、钴、锌、锡、银、金、钛、铋，硅、砷、钼、铟、铬、铂、不锈钢或含该金属的化合物或它们的组合物或金属氧化物构成的镀层。