CN101736301A - 真空磁控镀膜室中的遮挡装置 - Google Patents
真空磁控镀膜室中的遮挡装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101736301A CN101736301A CN200810235988A CN200810235988A CN101736301A CN 101736301 A CN101736301 A CN 101736301A CN 200810235988 A CN200810235988 A CN 200810235988A CN 200810235988 A CN200810235988 A CN 200810235988A CN 101736301 A CN101736301 A CN 101736301A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- film coating
- chamber
- magnetic control
- control film
- vacuum magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种能够有效阻挡阴极溅射下的杂质、保证镀膜质量的真空磁控镀膜室中的遮挡装置，包括：腔室，设置在腔室内的阴极靶材装置和玻璃输送辊道，在阴极靶材装置的四周设置有冷却挡板，并且冷却挡板的底部设有向内弯折的折边。本发明适合于真空镀膜玻璃的生产装置。
Description
技术领域
本发明涉及到一种真空磁控镀膜室中的遮挡装置。
背景技术
传统的磁控镀膜玻璃真空室采用一个腔室，这种腔室在对玻璃进行镀膜时，阴极溅射下的杂质到处飞溅，当溅到镀膜玻璃上时，影响了镀膜的质量，导致整块玻璃不合格，既浪费了材料又浪费了人工。当腔室长期处于镀膜状态下时，腔室温度变得过高，影响了镀膜的质量，降低了腔室的使用寿命。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是：将提供一种能够有效阻挡阴极溅射下的杂质、保证镀膜质量的真空磁控镀膜室中的遮挡装置。
为解决上述问题，本发明采用的技术方案是：真空磁控镀膜室中的遮挡装置，包括：腔室，设置在腔室内的阴极靶材装置和玻璃输送辊道，在阴极靶材装置的四周设置有冷却挡板，并且冷却挡板的底部设有向内弯折的折边。
在玻璃输送辊道的两侧还分别设置有冷却挡板。
本发明的优点是：通过采用冷却挡板后，能够有效阻挡阴极溅射的杂质，减少杂质飞溅，提高了腔室的使用寿命。
附图说明
图1是本发明所述的真空磁控镀膜室中的遮挡装置的结构示意图；
图2是图1中A-A剖视图。
图中：1、玻璃输送辊道，2、阴极靶材装置，3、冷却挡板，31，折边，4、腔室。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明所述的技术方案和优点作进一步的描述。
如图1所示，一种真空磁控镀膜室中的遮挡装置，包括：腔室4，设置在腔室4内的阴极靶材装置2和玻璃输送辊道1，在阴极靶材装置2的四周设置有冷却挡板3，并且冷却挡板3的底部设有向内弯折的折边31。在玻璃输送辊道1的两侧还分别设置有冷却挡板3。
本发明的优点是：在阴极靶材装置2的四周和玻璃输送辊道的两侧设置了冷却挡板3后，有效防止了阴极溅射下的杂质到处飞溅，当冷却挡板3长期使用后无法达到预期效果时，只需更换冷却挡板3即可，延长了腔室4的使用寿命。另外，在实际使用时还可将循环冷却水管附着在冷却挡板3上，这样可有效防止腔室4内的温度过高，进一步确保镀膜质量。
Claims (2)
1.真空磁控镀膜室中的遮挡装置，包括：腔室，设置在腔室内的阴极靶材装置和玻璃输送辊道，其特征在于：在阴极靶材装置的四周设置有冷却挡板，并且冷却挡板的底部设有向内弯折的折边。
2.按照权利要求1所述的真空磁控镀膜室中的遮挡装置，其特征在于：在玻璃输送辊道的两侧还分别设置有冷却挡板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN200810235988A CN101736301A (zh) | 2008-11-19 | 2008-11-19 | 真空磁控镀膜室中的遮挡装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN200810235988A CN101736301A (zh) | 2008-11-19 | 2008-11-19 | 真空磁控镀膜室中的遮挡装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101736301A true CN101736301A (zh) | 2010-06-16 |
Family
ID=42460326
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN200810235988A Pending CN101736301A (zh) | 2008-11-19 | 2008-11-19 | 真空磁控镀膜室中的遮挡装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101736301A (zh) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102367569A (zh) * | 2011-11-23 | 2012-03-07 | 林嘉宏 | 辊轮溅射污染低的真空磁控溅射镀膜装置 |
| CN102465260A (zh) * | 2010-11-17 | 2012-05-23 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 腔室组件及应用该腔室组件的半导体处理设备 |
| CN102560427A (zh) * | 2012-02-17 | 2012-07-11 | 南京航空航天大学 | 一种真空镀膜设备中的冷却挡板装置 |
| CN103204637A (zh) * | 2012-01-12 | 2013-07-17 | 上海北玻玻璃技术工业有限公司 | 一种透明导电氧化物镀膜玻璃镀膜线真空*** |
| CN103374702A (zh) * | 2012-04-24 | 2013-10-30 | 上海北玻镀膜技术工业有限公司 | 一种溅射挡板 |
| CN109778128A (zh) * | 2017-11-15 | 2019-05-21 | 佳能特机株式会社 | 溅射装置 |
| CN112159961A (zh) * | 2020-09-06 | 2021-01-01 | 湖北亿钧耀能新材股份公司 | 一种玻璃镀膜设备之溅射腔体 |
| RU2798494C1 (ru) * | 2022-12-19 | 2023-06-23 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Казанский (Приволжский) федеральный университет" (ФГАОУ ВО КФУ) | Комбинированная мишень для планарного магнетрона и способ её изготовления |
-
2008
- 2008-11-19 CN CN200810235988A patent/CN101736301A/zh active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102465260A (zh) * | 2010-11-17 | 2012-05-23 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 腔室组件及应用该腔室组件的半导体处理设备 |
| CN102367569A (zh) * | 2011-11-23 | 2012-03-07 | 林嘉宏 | 辊轮溅射污染低的真空磁控溅射镀膜装置 |
| CN103204637A (zh) * | 2012-01-12 | 2013-07-17 | 上海北玻玻璃技术工业有限公司 | 一种透明导电氧化物镀膜玻璃镀膜线真空*** |
| CN103204637B (zh) * | 2012-01-12 | 2015-08-12 | 上海北玻玻璃技术工业有限公司 | 一种透明导电氧化物镀膜玻璃镀膜线真空*** |
| CN102560427A (zh) * | 2012-02-17 | 2012-07-11 | 南京航空航天大学 | 一种真空镀膜设备中的冷却挡板装置 |
| CN103374702A (zh) * | 2012-04-24 | 2013-10-30 | 上海北玻镀膜技术工业有限公司 | 一种溅射挡板 |
| CN103374702B (zh) * | 2012-04-24 | 2015-08-12 | 上海北玻镀膜技术工业有限公司 | 一种防溅射装置 |
| CN109778128A (zh) * | 2017-11-15 | 2019-05-21 | 佳能特机株式会社 | 溅射装置 |
| CN109778128B (zh) * | 2017-11-15 | 2022-08-23 | 佳能特机株式会社 | 溅射装置 |
| CN112159961A (zh) * | 2020-09-06 | 2021-01-01 | 湖北亿钧耀能新材股份公司 | 一种玻璃镀膜设备之溅射腔体 |
| RU2798494C1 (ru) * | 2022-12-19 | 2023-06-23 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Казанский (Приволжский) федеральный университет" (ФГАОУ ВО КФУ) | Комбинированная мишень для планарного магнетрона и способ её изготовления |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101736301A (zh) | 真空磁控镀膜室中的遮挡装置 | |
| CN104919080B (zh) | 溅射靶及其制造方法 | |
| CN103834924A (zh) | 一种制备超高纯铝及超高纯铝合金溅射靶材的方法 | |
| CN201326010Y (zh) | 真空磁控镀膜室中的遮挡装置 | |
| CN101857951A (zh) | 磁控溅射装置 | |
| CN104907539A (zh) | 带衬管铝及铝合金旋转靶材连续铸造工艺 | |
| CN104204270A (zh) | 真空成膜装置及真空成膜方法 | |
| CN103866241B (zh) | 一种离子辅助热蒸发复合磁控溅射镀膜装置 | |
| CN102699626A (zh) | 一种钨平面靶的制作工艺 | |
| CN201538814U (zh) | 钽溅射环组件 | |
| CN102400073A (zh) | 镍靶坯及靶材的制造方法 | |
| CN201883141U (zh) | 一种薄膜沉积设备和防着板 | |
| CN106947950B (zh) | 一种利用率高的靶材***及其使用方法 | |
| CN102994963A (zh) | 连续式卷绕溅射镀膜机 | |
| CN115537747A (zh) | 一种磁控溅射阴极装置及磁控溅射设备 | |
| CN206052146U (zh) | 一种用于五金件的磁控溅射连续镀膜线 | |
| CN201890919U (zh) | 一种真空离子镀膜机 | |
| CN108330307A (zh) | 一种电弧喷涂用锌铜钛合金丝材及其制备工艺 | |
| CN209081972U (zh) | 新型磁控溅射镀膜机的真空容器结构 | |
| CN204265827U (zh) | 一种柔性衬底上卷对卷制备高结合力吸收层的装置 | |
| CN209974873U (zh) | 一种高场强高靶材利用率的阴极 | |
| CN108624856A (zh) | 靶材组件 | |
| CN112921286A (zh) | 渐变色u型镀膜生产方法 | |
| CN202226911U (zh) | 单管直流溅射玻璃镀膜设备 | |
| CN101463467B (zh) | 一种合金拼接靶 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C12 | Rejection of a patent application after its publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20100616 |