CN101666884B - 预成型件组及光学元件的制造方法 - Google Patents

预成型件组及光学元件的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供能够不仅防止异物混入且抑制因挥发导致的特性变动并在一定条件下通过精密加压成型稳定地供给光学元件的预成型件组。所述预成型件组由多个精密加压成型用预成型件构成,所述精密加压成型用预成型件由含有磷、氧和氟作为玻璃成分的氟磷酸玻璃形成,其中,由O2-含量相对于P5+含量的摩尔比O2-/P5+为3.5以上的氟磷酸玻璃形成的多个预成型件构成。

Description

预成型件组及光学元件的制造方法
技术领域
本发明涉及由多个精密加压成型用预成型件构成的预成型件组以及使用该预成型件组制造光学元件的方法。
背景技术
关于氟磷酸玻璃,由于分散低,具备反常分散性,在可见区域的宽范围能获得较高的光线透射率等性质,因此是需求很高的玻璃。低分散性、反常分散性对于色差的修正是有效的,出色的光线透射性不仅使其作为摄像光学***光学元件的材料有效,而且作为用于对近紫外光等短波长的光进行导光的光学元件材料也是有效的。此外,通过使其含有铜离子,可以赋予切断近红外光的滤波器功能,而且作为半导体摄像元件的补偿滤波器材料也是有效的。氟磷酸玻璃如此被记载在专利文献1中。
专利文献1:特开平10-139454号公报
发明内容
如此氟磷酸玻璃是有用的光学材料,但是由于在高温状态下示出显著的挥发性,因此在由熔融玻璃制造玻璃成型体时容易产生波筋,难以稳定地生产出高品质的玻璃。而且,挥发成分随着时间而从熔融状态的玻璃中丧失,因此存在折射率等光学特性、玻璃化转变温度等热特性的变化虽小但是容易变化的问题。
然而,在批量生产氟磷酸玻璃制的非球面透镜、微透镜等光学元件时,优选应用精密加压成型法。精密加压成型法使用经过精密加工的加压成型模具,即使是非球面透镜等难以磨削、研磨的光学元件,也能通过将加热、软化的玻璃仅进行加压成型而高效地批量生产光学元件。
对于利用精密加压成型法的光学元件的批量生产而言,准备多个由相当于每个成型品的量的玻璃形成的预成型件,将这些预成型件依次加热,使用加压成型模具进行加压成型。
预成型件通过如下步骤进行批量生产,即,将玻璃原料熔融、澄清、匀质化后而得到熔融玻璃,使该熔融玻璃流出,从流出的熔融玻璃中依次分离熔融玻璃块而进行成型,从而批量生产。或者,也可以将熔融玻璃连续浇铸到铸型中,成型为成为预成型件母材的长条的玻璃板或玻璃棒,对该母材进行加工,从而批量生产预成型件。
所有的方法都存在如下的问题,即,由于花费时间对高温的熔融玻璃成型而批量生产预成型件、花费时间制作成为预成型件母材的玻璃成型体,因此就富于挥发性的氟磷酸玻璃而言,最初成型的玻璃的特性和最后成型的玻璃的特性会产生差异。
用这种方法来批量生产预成型件时,即使是具有相同规格、即由同种玻璃形成、相同形状、相同质量的预成型件,也会产生折射率的波动、玻璃化转变温度的波动。
如此,在使用相同规格的预成型件的集合,即,使用预成型件组(也称为批次,英文:preform lot)进行精密加压成型,而批量生产光学元件时,就会存在下面的问题,即由于形成折射率稍有差异的光学元件或者因热特性的波动而必须在批量生产过程中多次对精密加压成型的条件进行调整等,所以在提高生产率、作业性方面成为妨碍。
而且,熔融状态的氟磷酸玻璃富于反应性,容易侵蚀构成熔融容器的铂等。氟磷酸玻璃是较难将铂溶解的玻璃,由于侵蚀而混入的铂以固形物残留在玻璃中,存在成为光散射源而使光学品质降低的问题。
本发明的目的在于,消除上述问题,提供如下所述的预成型件组、以及使用上述预成型件组批量生产光学元件的方法,所述预成型件组是能够通过抑制氟磷酸玻璃固有的挥发性、侵蚀性,不仅防止异物混入,而且抑制因挥发导致的特性变动,并在一定条件下通过精密加压成型稳定地供给光学元件的预成型件组。
作为解决上述课题的手段,本发明提供如下内容:
(1)一种预成型件组,由多个精密加压成型用预成型件构成,所述精密加压成型用预成型件由含有磷、氧和氟作为玻璃成分的氟磷酸玻璃形成,其中,
由O2-含量相对于P5+含量的摩尔比O2-/P5+为3.5以上的氟磷酸玻璃形成的多个预成型件构成。
(2)根据上述(1)项所述的预成型件组,其中,所述氟磷酸玻璃在将磷成分换算成P5+时含有超过3阳离子%且在30阳离子%以下的磷,核磁共振波谱中的在31P的基准频率附近产生的共振峰的一次边带峰的强度I(1)与所述共振峰的强度I(0)之比I(1)/I(0)为0.08以下。
(3)根据上述(1)项所述的预成型件组,其中,所述氟磷酸玻璃在将磷成分换算成P5+时含有30~50阳离子%的磷,核磁共振波谱中的在31P的基准频率附近产生的共振波谱的形状是高斯函数形状。
(4)一种预成型件组,由利用如下所述的氟磷酸玻璃所形成的多个预成型件构成,所述氟磷酸玻璃在将磷成分换算成P5+时含有超过3阳离子%且在30阳离子%以下的磷,且核磁共振波谱中的在31P的基准频率附近产生的共振峰的一次边带峰的强度I(1)与所述共振峰的强度I(0)之比I(1)/I(0)为0.08以下。
(5)一种预成型件组,由利用如下所述的氟磷酸玻璃所形成的多个预成型件构成,所述氟磷酸玻璃在将磷成分换算成P5+时含有30~50阳离子%的磷,且核磁共振波谱中的在31P的基准频率附近产生的共振波谱的形状是高斯函数形状。
(6)根据上述(1)~(5)项中任一项所述的预成型件组,其中,在将该玻璃的折射率nd的值设为nd(1),将该玻璃在氮气气氛中以900℃再熔融1小时,冷却到玻璃化转变温度,然后以每小时30℃的降温速度冷却到25℃后的折射率nd的值设为nd(2)时,nd(1)与nd(2)之差nd(2)-nd(1)的绝对值为0.00300以内。
(7)根据上述(1)~(6)项中任一项所述的预成型件组,其中,所述玻璃的阿贝数vd超过70。
(8)根据上述(7)项所述的预成型件组,其中,所述玻璃的阿贝数vd超过78。
(9)根据上述(1)~(7)项中任一项所述的预成型件组,其中,所述玻璃,作为阳离子成分而含有的稀土元素的总含量小于5阳离子%,作为阴离子成分而含有的F-的含量相对于F-和O2-的总含量的摩尔比F-/(F-+O2-)为0.2以上,折射率nd超过1.53。
(10)根据上述(1)、(6)~(9)项中任一项所述的预成型件组,其中,所述玻璃以阳离子%表示,含有:
P5+   3~50%、
Al3+  5~40%、
Mg2+  0~10%、
Ca2+  0~30%、
Sr2+  0~30%、
Ba2+  0~40%,
其中,Mg2+、Ca2+、Sr2+和Ba2+的总含量为10%以上,还含有:
Li+   0~30%、
Na+   0~20%、
K+    0~20%、
Y3+   0~10%、
La3+  0~10%、
Gd3+  0~10%、
Yb3+  0~10%、
B3+   0~10%、
Zn2+  0~20%、
In2+  0~20%,
并且以阴离子%表示,还含有:
F-    20~95%、
O2-   5~80%。
(11)根据上述(1)~(10)项中任一项所述的预成型件组,其中,所述玻璃的F-含量为65阴离子%以上。
(12)根据上述(1)、(6)~(9)、(11)项中任一项所述的预成型件组,其中,所述玻璃以阳离子%表示,含有:
P5+     3~15%、
Al3+    25~40%、
Ca2+    5~35%、
Sr2+    5~25%。
(13)根据上述(12)项所述的预成型件组,其中,所述玻璃以阳离子%表示,含有:
Mg2+    0~10%、
Ba2+    0~20%、
Li+     0~20%、
Na+     0~10%、
K+      0~10%、
Y3+     0~5%。
(14)根据上述(1)~(13)项中任一项所述的预成型件组,其中,所述玻璃的内部所含的粒径10μm以上异物的数密度小于5个/cm3
(15)一种预成型件组的制造方法,经过将玻璃原料导入到熔融容器中进行熔融、澄清、匀质化后而将所得的熔融玻璃流出、成型的工序,批量生产精密加压成型用预成型件,制造作为所述预成型件的集合物的预成型件组的方法,其特征在于,
制作上述(1)~(14)项中任一项所述的预成型件组。
(16)根据上述(15)项所述的预成型件组的制造方法,其中,使用至少含有氟、氧和磷的玻璃原料,按照所述玻璃原料中氧的含量相对于磷的含量的摩尔比O/P为3.5以上的方式,调合所述玻璃原料,导入到熔融容器中进行熔融。
(17)根据上述(15)或(16)项所述的预成型件组的制造方法,其中,将熔融玻璃连续地流出并浇铸到铸型中而成型,将成型的玻璃成型体从所述铸型中取出,对该玻璃成型体进行分割、加工,从而批量生产预成型件。
(18)根据上述(15)或(16)项所述的预成型件组的制造方法,其中,反复进行如下工序来批量生产预成型件,所述工序是将熔融玻璃连续地流出并从所述熔融玻璃中分离熔融玻璃块,将所述熔融玻璃块成型而制作预成型件的工序。
(19)一种光学元件的制造方法,其中,反复进行如下工序来批量生产光学元件,所述工序是对构成上述(1)~(14)项中任一项所述的预成型件组的预成型件进行加热并利用加压成型模具进行精密加压成型来制作光学元件的工序。
(20)一种光学元件的制造方法,其中,反复进行如下工序来批量生产光学元件,所述工序是利用上述(15)~(19)项中任一项所述的方法制作预成型件组,对构成所述预成型件组的预成型件进行加热,利用加压成型模具进行精密加压成型来制作光学元件的工序。
根据本发明,可以提供如下所述的预成型件组、以及使用上述预成型件组批量生产光学元件的方法,所述预成型件组是能够通过抑制氟磷酸玻璃固有的挥发性、侵蚀性,不仅防止异物混入,而且抑制因挥发导致的特性变动,并在一定条件下通过精密加压成型稳定地供给光学元件的预成型件组。
附图说明
图1是表示氟磷酸玻璃的摩尔比O2-/P5+、nd(2)-nd(1)的绝对值Δnd、玻璃中所含的粒径10μm以上的铂异物的数密度的关系的曲线图。
图2是在本发明的实施例中使用的精密加压成型装置的示意图。
图3是表示氟磷酸玻璃的折射率变化量Δnd的变化和玻璃中的粒径10μm以上的金属粒子的数密度的变化相对于玻璃的强度比I(1)/I(0)的变化的曲线图。
图4是本发明的实施例2中的氟磷酸玻璃No.2-1的31P核磁共振波谱。
图5是比较氟磷酸玻璃No.2-1的31P核磁共振波谱。
图6是表示氟磷酸玻璃的折射率变化量Δnd的变化和金属粒子(铂异物)的数密度的变化相对于摩尔比O2-/P5+的变化的曲线图。
图7是本发明的实施例3的氟磷酸玻璃No.3-3(摩尔比O2-/P5+=3.5)的31P核磁共振波谱。
图8是将图7的31P核磁共振波谱用高斯函数拟合而得到的图。
图9是比较氟磷酸玻璃No.3-1(摩尔比O2-/P5+=3.0)的31P核磁共振波谱。
图10是将图9的31P核磁共振波谱用高斯函数拟合而得到的图。
符号说明:1-上模,2-下模,3-体模,4-预成型件,9-支承棒,10-下模-体模托架,11-石英管,12-加热器,13-推杆,14-热电偶。
具体实施方式
作为氟磷酸玻璃的原料,一般使用磷酸盐。另外,作为阴离子成分,要尽可能增加氟(F-)的导入量,因此使用氧(O2-)原子数相对于1个磷(P5+)原子的比(氧原子/磷原子)小的偏磷酸盐(氧原子/磷原子=3)。
认为在使用偏磷酸盐将玻璃熔融时,来自原料的偏磷酸和氟发生反应,由此产生挥发性高的磷酰氟(POF3、三氟一氧化磷)。与此相对,明确了如果将熔融玻璃中的氧原子相对于一个磷原子的原子比调整、控制成3.5以上(氧原子/磷原子≥3.5)时,则挥发成分的产生量大幅降低。也就是说,通过对玻璃原料中的氧原子的含量与磷原子的含量的摩尔比O/P进行调整,即通过调整玻璃中所含的O2-含量相对于P5+含量的摩尔比O2-/P5 +,可以抑制玻璃的挥发性、侵蚀性。
认为这是由于,作为在熔融玻璃中存在的磷酸,氧(O2-)原子数相对于1个磷(P5+)原子的比(氧原子/磷原子)为3.5的二磷酸,比氧(O2-)原子数相对于1个磷(P5+)原子的比(氧原子/磷原子)为3的偏磷酸稳定。
通过使氟磷酸玻璃中的O2-含量相对于P5+含量的摩尔比O2-/P5+为3.5以上,可以抑制挥发成分的产生本身。其结果,熔融玻璃的反应性可以得到抑制,而且侵蚀性可以也大幅降低。
因此,控制玻璃中的O2-含量相对于P5+含量的摩尔比O2-/P5+,而且使再熔融已固化的玻璃时的再熔融前后的折射率变化量接近于零,由此可以提供集挥发性和侵蚀性被大幅抑制,不含异物等诸特性于一身的作为预成型件集合的预成型件组。
另外,认为通过这样的方法,反应性、侵蚀性被抑制在极低水平的玻璃作为氟磷酸玻璃,不同于以往玻璃的结构。
玻璃具有非结晶结构,一般认为其结构是各向同性的,但是若存在带来挥发性和侵蚀性的生成物,则认为在玻璃结构中产生些许的各向异性。为了证实这种想法,作为分析玻璃的各向异性的方法,使用普通的核磁共振法,测定31P的核磁共振波谱。其结果,在波谱中见到挥发性和侵蚀性被抑制到极低水平的玻璃与以往玻璃之间的明显不同。
在核磁共振法中旋转玻璃试样进行测定。根据各向异性的大小不同,对于磷含量少的氟磷酸玻璃而言,所得的波谱的主峰和经试样的旋转而产生的旋转边带的强度比发生变化,而对于磷含量多的氟磷酸玻璃而言,共振波谱的形状发生变化。
为了得到挥发性和侵蚀性被抑制的氟磷酸玻璃,制成具有挥发性和侵蚀性被进一步抑制的氟磷酸玻璃所特有的核磁共振特性的玻璃即可。
关于本发明的预成型件组,可以将构成预成型件的氟磷酸玻璃,大致分为通过上述摩尔比O2-/P5+赋予特征的第一方式、和通过核磁共振波谱赋予特征的第二方式和第三方式这三种。
即,本发明的预成型件组的第一方式(称为预成型件组1),由多个精密加压成型用预成型件构成,所述精密加压成型用预成型件由含有磷、氧和氟作为玻璃成分的氟磷酸玻璃形成,其中,是由O2-含量相对于P5+含量的摩尔比O2-/P5+为3.5以上的氟磷酸玻璃形成的多个预成型件构成。
本发明的预成型件组的第二方式(称为预成型件组2),由利用如下所述的氟磷酸玻璃所形成的多个预成型件构成,其中,所述氟磷酸玻璃在将磷成分换算成P5+时含有超过3阳离子%且在30阳离子%以下的磷,核磁共振波谱中的在31P的基准频率附近产生的共振峰的一次边带峰的强度I(1)与所述共振峰的强度I(0)之比I(1)/I(0)为0.08以下。
本发明的预成型件组的第三方式(称为预成型件组3),由利用如下所述的氟磷酸玻璃所形成的多个预成型件构成,其中,所述氟磷酸玻璃在将磷成分换算成P5+时含有30~50阳离子%的磷,核磁共振波谱中的在31P的基准频率附近产生的共振波谱的形状是高斯函数形状。
关于预成型件组2和预成型件组3,由于玻璃中的磷成分的含量不同,因此没有既属于预成型件组2又属于预成型件组3的预成型件组,但是本发明存在既属于预成型件组1又属于预成型件组2的预成型件组。而且本发明也存在既属于预成型件组1又属于预成型件组3的预成型件组。
这里,所谓预成型件组,是指具有相同规格的多个预成型件的集合物。此外,所谓相同规格,意味着由同种玻璃构成,并具有相同形状和相同质量。
在实际应用上,可以使构成预成型件组的预成型件的个数以100个以上为标准。尤其是在光学元件的生产规模较大时,所述预成型件的个数达5000个以上,在生产规模更大时,所述预成型件的个数达10000个以上。构成预成型件组的预成型件的个数没有特别的上限,但在实际应用上可以以100000000个以下为标准。
以下,按照预成型件组1、预成型件组2、预成型件组3的顺序依次详细说明,但除了关于氟磷酸玻璃的磷成分的含量和阿贝数vd的说明外,关于预成型件组1的说明和关于预成型件组2的说明是通用的,关于预成型件组1的说明和关于预成型件组3的说明是通用的。
[预成型件组1]
对于构成预成型件的氟磷酸玻璃而言,在O2-含量相对于P5+含量的摩尔比O2-/P5+小于3.5时,则如上所述,无法抑制挥发成分的产生,也无法抑制伴随挥发成分的产生而产生的玻璃的反应性、侵蚀性。因此,在本发明中,使氟磷酸玻璃中的O2-含量相对于P5+含量的摩尔比O2-/P5+为3.5以上。
对于摩尔比O2-/P5+的上限,只要能得到成为目标的玻璃,就没有特别限制,但是从维持玻璃的热稳定性的观点出发,优选将摩尔比O2-/P5+的上限设为4。
在玻璃中的F-的含量小于65阴离子%时,由于可以提高阴离子成分中氧成分的比例,因此从进一步抑制挥发性、侵蚀性的角度出发,优选提高摩尔比O2-/P5+,优选使摩尔比O2-/P5+为3.53以上,更优选为3.55以上,进一步优选为3.6以上。
从抑制熔融玻璃的挥发性、侵蚀性,使品质、光学特性和热特性稳定,进一步提高通过精密加压成型的光学元件的批量生产性的角度出发,在将构成所述预成型件的玻璃的折射率nd的值设为nd(1),将该玻璃在氮气气氛中以900℃再熔融1小时,冷却到玻璃化转变温度,然后以每小时30℃的降温速度冷却到25℃后的折射率nd的值设为nd(2)时,优选nd(1)与nd(2)之差nd(2)-nd(1)的绝对值Δnd为0.00300以内。
nd(2)-nd(1)的绝对值的优选范围为0.00250以内,更优选的范围为0.00200以内,进一步优选的范围为0.00150以内,再进一步优选的范围为0.00120以内,特别优选的范围为0.00100以内。
关于氟磷酸玻璃,氟是使玻璃的折射率相对降低的成分,因此nd(2)-nd(1)的值一般为正。
用于测定nd(2)而进行的再熔融时的气氛,为氮气气氛,以使得玻璃的折射率不受到玻璃和气氛的反应的挥发以外的其他要因的影响。再熔融在900℃、1小时的规定条件下进行,然后冷却到玻璃化转变温度。nd(2)的值还受到冷却时的降温速度的影响,因此冷却以每小时30℃的规定降温速度进行,冷却到25℃。
折射率的测定可以使用公知的方法,优选以有效位数6位(小数点以后5位)的精度进行测定。作为折射率的测定例,可以应用日本光学硝子工业会标准JOGIOS 01-1994“光学玻璃的折射率的测定方法”。
根据玻璃的形状、体积等,例如玻璃是较小的球状,或成型为薄壁的透镜时,有时无法将玻璃加工成上述标准中确定的形状、尺寸的试样。在这种情况下,将玻璃加热、软化而加压成型,退火后形成两个平面以一定的角度相交的棱镜形状。此外,基于与上述标准相同的测定原理,测定折射率。(将其称为折射率测定法A。)利用加压成型制造预成型件时的加热温度,最多不过是能够将玻璃软化的温度范围,由于比将玻璃熔融的温度低很多,因此是能够忽视对挥发性物质浓度的影响的程度,忽视上述加热前后的折射率变化量也无妨。
图1示出了使摩尔比O2-/P5+在3.0到4.0之间变化时的折射率变化量(nd(2)-nd(1))的绝对值Δnd、氟磷酸玻璃中所含的粒径为10μm以上的铂异物的数密度的变化。需要说明的是,玻璃的熔融是在铂坩埚中进行的。
需要说明的是,根据本发明,熔融玻璃的挥发性得到抑制,因此,摩尔比O2-/P5+与玻璃原料中的氧原子的量O相对于磷原子的量P的摩尔比O/P相等。
根据图1可知,通过将摩尔比O2-/P5+设为3.5以下,氟磷酸玻璃的挥发性得到抑制而使Δnd为0.00300以下,同时氟磷酸玻璃的侵蚀性得到抑制,能够抑制铂异物的数密度。
然而,对于预成型件而言,由于其形状、内部的偏斜等往往难以直接测定折射率。在这种情况下,折射率利用折射率测定法A来测定即可,但关于折射率测定法A,是将预成型件进行再成型而制成适合测定折射率的形状,因此,已测定折射率的预成型件,无法直接在精密加压成型中使用。为此,要想确认作为光学元件材料的氟磷酸玻璃的折射率是否达到规定的值,就要制作用于测定折射率的试样,测定该试样的折射率,通过其结果是否达到规定的值来进行确认。
为了使该确认法有效,要求折射率测定用试样的折射率和在实际制造光学元件时使用的玻璃的折射率严格相等。但是,对于氟磷酸玻璃的情况,由于显著的挥发而使折射率随着时间地经过而大幅变动,因此难以进行这种确认。
根据本发明,由于作为预成型件材料的氟磷酸玻璃的熔融状态、熔融液状态下的挥发性得到抑制,因此能够使构成预成型件组的预成型件相互间折射率基本相等,并且从预成型件组中将预成型件取样而再成型,能够进行折射率的确认。此外,调合玻璃原料以获得所需的折射率,若将玻璃熔融,则因挥发所导致的折射率变动极小,因此能够获得具有所需折射率的玻璃,并且能够提供由光学特性一致的预成型件构成的预成型件组。
利用折射率测定法A对构成本发明的预成型件组的各预成型件测定折射率nd,计算折射率公差时在±0.00050以内,优选在±0.00020以内。与此相对,对于未满足本发明要件的预成型件组,折射率nd的公差在±0.00500左右。
进而,根据本发明,能够抑制预成型件之间的折射率波动,因此也能够抑制通过精密加压成型而得到的光学元件的折射率波动。
当在光学元件间存在折射率的波动时,为了使各光学元件的折射率一致,进行用于调整折射率的精密退火。在该方法中,必须按照折射率不同的每个光学元件来设定精密退火条件,以使得在精密退火后各光学元件的折射率一致。
但是,根据本发明,由于能够使光学元件间的折射率恒定,因此可以不对光学元件进行精密退火,即使在进行精密退火的情况下,若是在一定条件下进行精密退火,也能够生产出折射率波动小的光学元件组。
此外,在对光学元件的光学功能面涂敷防反射膜等光学薄膜时,即使在以相同膜结构即让构成光学多层膜各层的物质、各层的厚度相同而批量生产的的光学元件上,进行涂敷,也能够在全部批量生产品中获得如设计那样的性能。构成防反射膜的各层物质是公知的物质,例如可以是氟化镁、氧化硅、氧化钛、氧化锆等,至于将各层如何层叠、各层的厚度等,都可以根据众所周知的防反射膜设计法来确定,也可以用蒸镀等成膜法来进行涂敷。
然而,以往由于氟磷酸玻璃的显著挥发,预成型件间的热特性波动、例如玻璃化转变温度的波动大,在开始批量生产时,即便使精密加压成型的条件最佳化,也会由于预成型件的热特性波动而使最佳条件发生变动,其结果,存在光学元件的生产成品率降低的问题。但是,根据本发明,预成型件间的玻璃化转变温度Tg等热特性的波动得到抑制,因此在开始批量生产时,使精密加压成型的条件、例如预成型件的加热温度、加压成型模具的加热温度、加压压力、加压时间、成型后的成型品的冷却速度等的条件最佳化,若在保持最佳化的条件为恒定的同时批量生产光学元件,则可以稳定地生产形状精度、光学功能面的面精度高的高品质的光学元件。
在本发明中,构成预成型件组的各预成型件的玻璃化转变温度Tg的公差优选在±3℃以内,更优选±1℃以内。
与此相对,关于由采用以往的玻璃形成的预成型件构成的预成型件组,其玻璃化转变温度Tg的公差在±15℃左右,比本发明的玻璃化转变温度的公差高很多。
此外,根据本发明,构成预成型件的氟磷酸玻璃的反应性、侵蚀性也能够得到充分抑制,因此防止侵蚀在制造玻璃时使用的熔融容器、管道、搅拌棒等器具,也能防止侵蚀物作为异物混入到玻璃中。
在利用熔融法来制造以光学玻璃为代表的高品质的玻璃时,坩埚等熔融容器、引导熔融玻璃的管道、使熔融玻璃匀质化的搅拌棒等各种器具的、与熔融玻璃接触的部分,往往用铂、铂合金制成。混入到玻璃中的铂粒子、铂合金粒子若全部溶在玻璃中,则不会成为光的散射源,但是氟磷酸玻璃是较难溶解铂、铂合金的玻璃,被侵蚀的铂、铂合金等容易作为将光散射的异物残存在玻璃中。根据本发明,由于能够抑制玻璃的侵蚀性本身,因此能够得到由不含成为光散射源的异物的在光学上匀质的玻璃构成的预成型件组。
此外,即使是少量的铂、铂合金溶入玻璃中,也会成为玻璃着色的原因。根据本发明,由于能够抑制玻璃的侵蚀性,因此也能够提供由着色少的预成型件构成的预成型件组。
接着,对作为构成本发明的预成型件组的预成型件材料优选的玻璃进行说明。
第一例是阿贝数vd超过70的氟磷酸玻璃(称为氟磷酸玻璃I)。阿贝数vd很大程度地依赖于玻璃中的氟成分量。即,在阴离子成分中,如果氟成分所占比例大,则阿贝数vd增加,如果氟成分所占比例小,则阿贝数vd减小。因此,阿贝数vd大的玻璃,其氧成分量少,摩尔比O2-/P5+变小,熔融状态下的玻璃的挥发性、侵蚀性变得显著。本发明通过调整磷成分量使得摩尔比O2-/P5+为3.5以上,虽然是阿贝数vd超过70的超低分散性的氟磷酸玻璃,但实现了挥发性和侵蚀性得到抑制的玻璃,从而可以提供上述预成型件组。
作为包括氟磷酸玻璃I的用本发明方法制造的氟磷酸玻璃,优选阿贝数vd超过75的氟磷酸玻璃,更优选阿贝数vd超过78的氟磷酸玻璃,进一步优选阿贝数vd超过80的氟磷酸玻璃。
关于在氟磷酸玻璃I中优选的玻璃,作为阳离子成分而含有的稀土元素的总含量小于5阳离子%,作为阴离子成分而含有的F-的含量相对于F-和O2-的总含量的摩尔比F-/(F-+O2-)为0.2以上,折射率nd超过1.53(称为氟磷酸玻璃I-a)。
在作为阳离子成分而含有的稀土元素的含量变得过剩时,玻璃的熔化温度、液相温度、熔融玻璃的流出温度、成型温度上升。尤其是在折射率nd超过1.53的玻璃中,如果稀土元素的总含量达到5阳离子%以上,则玻璃的熔化温度、液相温度、熔融玻璃的流出温度、成型温度上升。本发明通过使摩尔比O2-/P5+为3.5以上,抑制了玻璃的挥发性、侵蚀性,但对熔化温度、液相温度、成型温度的上升进行的抑制在更进一步抑制玻璃的挥发性、侵蚀性方面是有效的。而且,在液相温度高的玻璃中,要想降低流出温度、成型温度,则流出时、成型时的玻璃的粘性提高,难以将熔融玻璃块、熔融玻璃滴从熔融玻璃中分离,变得难以成型。从这样的理由出发,优选使上述稀土元素的总含量为小于5阳离子%,更优选为4阳离子%以下,进一步优选为3阳离子%以下。
另外,从能够不使玻璃着色、不使热稳定性大幅降低而提高折射率的角度出发,当在氟磷酸玻璃I-a中导入稀土元素时,优选导入Y、La、Gd、Yb中的任一种以上。即,优选使Y3+、La3+、Gd3+和Yb3+的总含量为小于5阳离子%,更优选为4阳离子%以下,进一步优选为3阳离子%以下。其中,就Y而言,从维持热稳定性、提高折射率的效果出色的角度出发,优选使Y3+的含量为小于5阳离子%,更优选为4阳离子%以下,进一步优选为3阳离子%以下。
就作为阳离子成分而含有的稀土元素的总含量不足5阳离子%、作为阴离子成分而含有的F-的含量相对于F-和O2-的总含量的摩尔比F-/(F-+O2-)为0.2以上、折射率nd超过1.53的玻璃而言,特别优选作为氟磷酸玻璃I,但不仅作为氟磷酸玻璃I优选,在阿贝数vd为70以下的氟磷酸玻璃中也优选。
此外,在氟磷酸玻璃I中,当作为阴离子成分而含有的F-的含量相对于F-和O2-的总含量的摩尔比F-/(F-+O2-)为0.2以上时,氧含量相对降低,摩尔比O2-/P5+减少而玻璃的挥发性、侵蚀性容易变高。根据本发明,即便是这样的玻璃,通过使摩尔比O2-/P5+为3.5以上,玻璃的挥发性、侵蚀性也会被抑制,结合如上所示地限制稀土元素的含量,就能够提供由诸特性的波动被抑制的高品质的预成型件构成的预成型件组。
需要说明的是,氟磷酸玻璃I-a的折射率nd超过1.53,作为氟磷酸玻璃而言属于高折射率的玻璃,因此通过使用由氟磷酸玻璃I-a形成的预成型件,即便在具有相同焦距的透镜中也能够增加光学功能面的曲率半径的绝对值,并且能够使精密加压成型性提高,除此之外,通过使用高折射率玻璃,有利于光学元件的高功能化、组装了光学元件的光学***的紧凑化。从这种观点出发,作为氟磷酸玻璃I-a,优选折射率nd为1.54以上的玻璃,更优选折射率nd为1.55以上的玻璃。
关于第二例,是如下的氟磷酸玻璃(称为氟磷酸玻璃II),以阳离子%表示,含有:
P5+     3~50%、
Al3+    5~40%、
Mg2+    0~10%、
Ca2+    0~30%、
Sr2+    0~30%、
Ba2+    0~40%,
其中,Mg2+、Ca2+、Sr2+和Ba2+的总含量为10%以上,还含有:
Li+     0~30%、
Na+     0~20%、
K+      0~20%、
Y3+     0~10%、
La3+    0~10%、
Gd3+    0~10%、
Yb3+    0~10%、
B3+     0~10%、
Zn2+    0~20%、
In2+    0~20%,
并且以阴离子%表示,还含有:
F-      20~95%、
O2-     5~80%。
以下详细说明氟磷酸玻璃II,在氟磷酸玻璃II的说明中,阳离子成分的含量、总含量以阳离子%表示,阴离子成分的含量、总含量以阴离子%表示。
P5+是在玻璃中作为网络形成体发挥作用的重要成分,在小于3%时,玻璃变得极端不稳定,而超过50%时,要使摩尔比O2-/P5+为3.5以上,就必须控制氟的导入量,而无法获得必要的低分散性。因此,P5+的含量优选是3~50%的范围,更优选是3~45%的范围,进一步优选是5~40%的范围。
Al3+在氟磷酸玻璃中是用于提高稳定性的重要成分,小于5%时,玻璃变得不稳定。另一方面,超过40%时,其他成分的总量过少,因此反而变得不稳定。因此,Al3+的含量优选在5~40%的范围,更优选5~38%的范围,进一步优选10~35%的范围。
Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+这样的碱土金属是提高玻璃的稳定性、提高折射率的成分,通过使其总量为10%以上,对稳定性的效果提高。但是,在特定的碱土金属成分过多时,破坏与其他成分的平衡,因此优选平均地导入,优选导入Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+中的至少2种以上。具体而言,Mg2+优选为0~10%,更优选1~10%。Ca2+优选为0~30%,更优选1~30%。Sr2+优选为0~30%,更优选为1~20%。Ba2+优选为0~40%,更优选为2~40%。
Li+、Na+、K+这样的碱金属,是能够使玻璃的粘性、玻璃化转变温度降低而容易地制造玻璃的成分,但过剩导入会使稳定性降低。因此,优选使Li+的含量为0~30%、Na+的含量为0~20%、K+的含量为0~20%。在碱金属中,由于Li+提高稳定性的效果也大,因此更优选导入0.5%以上的Li+,进一步优选导入1%以上,特别优选导入2%以上。因此,Li+的量的优选范围是0~30%、更优选的范围是0.5~30%、进一步优选的范围是1~30%、更进一步优选的范围是2~30%。
Na+的含量的优选范围为0~20%,更优选的范围为0~10%,进一步优选的范围为1~5%,K+的含量的优选范围为0~20%,优选的范围为0~10%,进一步优选的范围为0~5%。
Y3+、La3+、Gd3+、Yb3+等稀土元素是保持玻璃的低分散性并且提高折射率的成分,但过剩的导入会使熔化温度上升,还会降低玻璃的稳定性。因此,优选将上述各成分的含量分别设为0~10%,更优选设为0~5%,进一步优选设为1~5%。
B3+是使玻璃的耐久性提高的成分,但在熔化中存在以氟化物挥发的趋势,因此也是使生产率降低的成分。因此,优选使导入量为0~10%,更优选为0~5%,进一步优选0~1%,更进一步优选不导入。
Zn2+、In3+与碱土金属一样具有能容易地导入到玻璃中的特性,虽然可以期待由于导入Zn2+、In3+而成为多组分所带来的稳定性的提高效果,但不优选过剩的导入。为此,Zn2+和In3+的导入量,优选分别为0~20%,更优选分别为0~10%,进一步优选0~5%,更进一步优选0~1%,特别优选不导入。
接着,对氟磷酸玻璃II的阴离子成分、阴离子添加物进行说明。在氟磷酸玻璃中,一般F-和O2-是主要的阴离子成分。从实现所需的光学特性和出色的玻璃稳定性的角度出发,优选导入20~95%的F-、5~80%的O2-
通过少量导入Cl-、Br-、I-,在玻璃的制造时或流出时使用的铂容器、铂制喷嘴等铂制品上,玻璃熔融液变得难以润湿,因此可以容易地进行玻璃的制造。Cl-、Br-、I-的过剩导入,会招致因成分挥发所致的折射率变动和铂异物的产生,因此优选使Cl-的含量为0~3阴离子%、Br-的含量为0~1阴离子%、I-的含量为0~1阴离子%,更优选使Cl-的含量为0~1阴离子%、Br-的含量为0~0.5阴离子%、I-的含量为0~0.5阴离子%。此外,优选使Cl-、Br-和I-的总含量为0~3阴离子%。
需要说明的是,从使上述效果进一步显著的角度出发,优选F-、O2-、Cl-、Br-和I-的总量为98阴离子%以上,更优选为99阴离子%以上,进一步优选为100阴离子%。
对氟磷酸玻璃II的光学特性没有特别限定,但优选阿贝数vd超过70且在98以下,更优选70~95。此外,对于折射率nd,优选1.43~1.6,更优选1.45~1.6。
第三例是F-含量为65阴离子%以上的氟磷酸玻璃(称为氟磷酸玻璃III。)。在氟磷酸玻璃III中,为了实现超低分散性、反常分散性,使F-含量为65阴离子%以上。在氟磷酸玻璃III中,F-含量的优选范围为65~95阴离子%,更优选的范围是70~92阴离子%。
在氟磷酸玻璃中,就像氟磷酸玻璃III这样F-含量多的玻璃而言,在玻璃熔融液状态下的粘性非常小,因挥发所致的波筋的产生、折射率变动尤为显著。通过将摩尔比O2-/P5+控制在3.5以上,抑制挥发性物质的生成本身、使挥发性显著降低,同时也抑制玻璃的反应性、侵蚀性,因此能够稳定地生产由高品质的氟磷酸玻璃构成的预成型件组。
关于摩尔比O2-/P5+的上限,只要能够稳定地制造玻璃,就没有特别限制,但认为以4.0为标准即可。
关于氟磷酸玻璃III中优选的玻璃,以阳离子%表示,含有:
P5+     3~15%、
Al3+    25~40%、
Ca2+    5~35%、
Sr2+    5~25%。
就上述玻璃而言,以阳离子%表示,还含有:
Mg2+    0~10%、
Ba2+    0~20%、
Li+     0~20%、
Na+     0~10%、
K+      0~10%、
Y3+     0~5%。
在氟磷酸玻璃III的说明中,阳离子成分的含量、总含量以阳离子%表示,阴离子成分的含量、总含量以阴离子%表示。
在氟磷酸玻璃III中,P5+作为网络形成体发挥作用。P5+的含量小于3%时稳定性降低,而超过15%时,为了保持摩尔比在O2-/P5+为3.5以上,就必须增加O2-的含量,其结果,F-含量降低,难以获得足够的低分散性、反常分散性。因此,优选使P5+的含量为3~15%。P5+的含量更优选的范围是3.5~13%,进一步优选的范围是4~11%。
Al3+是起到提高玻璃稳定性的作用的成分。在Al3+的含量小于25%时,稳定性降低,而即便超过40%,稳定性也会降低,因此优选使Al3 +的含量为25~40%。Al3+的含量更优选的范围是28~36%,进一步优选的范围是30~36%。
Ca2+具有提高玻璃的稳定性的效果,是F-含量越增加就越希望其含量越多的成分。在Ca2+的含量小于5%时,难以充分获得上述效果,而超过35%时,稳定性降低,因此,优选使Ca2+的含量为5~35%。Ca2+的含量更优选的范围是10~35%,进一步优选的范围是20~30%。
Sr2+具有提高玻璃的稳定性的效果,在其含量小于5%时,上述效果不充分,而超过25%时,稳定性降低。因此,优选使Sr2+的含量为5~25%。Sr2+的含量更优选的范围是10~25%,进一步优选的范围是15~20%。
如此,通过使Ca2+和Sr2+共存,可以使玻璃的稳定性进一步提高。
通过导入Mg2+达10%,起到使玻璃稳定性提高的作用。因此,优选使Mg2+的含量为0~10%,更优选1~10%,进一步优选3~8%。
通过导入Ba2+达20%,起到使玻璃稳定性提高的作用。因此,优选使Ba2+的含量为0~20%。Ba2+虽然在F-含量少的玻璃中使稳定性提高的作用很强,但在F-含量多的玻璃中,不是必需成分。Ba2+含量的更优选范围是1~15%,进一步优选的范围是2~10%。
从使玻璃的稳定性进一步提高的角度出发,优选使Ca2+、Sr2+和Mg2 +共存,使Ca2+、Sr2+和Ba2+共存,使Ca2+、Sr2+、Mg2+和Ba2+共存。
Li+使玻璃熔融液的粘性降低,但是使液相温度降低的作用非常强,综合来讲,是具有防止在将熔融玻璃流出、成型时产生的波筋的效果的成分。这样的效果,与通过使摩尔比O2-/P5+在所需范围而得到的抑制挥发成分产生的效果具有协同效应,通过这样的协同效应,大大有助于提高氟磷酸玻璃的品质。但是,在导入超过20%的Li+时,引起玻璃熔融液的粘性过度降低,引起因促进结晶化而致的玻璃的失透、波筋产生之类的问题。因此,Li+的含量优选为0~20%。Li+的含量更优选的范围是0~15%,进一步优选的范围是1~10%,更进一步优选的范围是1~7%。
Na+起到使玻璃化转变温度降低的作用,但过剩导入会使玻璃的稳定性降低。此外,耐水性也降低。因此,优选使Na+的含量为0~10%。Na+的含量的更优选范围是0~7%,进一步优选的范围是1~5%。
K+也起到使玻璃化转变温度降低的作用,但过剩导入会使玻璃的稳定性降低。此外,耐水性也降低。因此,优选使K+的含量为0~10%。K+的含量的更优选范围是0~5%,进一步优选的范围是0~3%。
通过使碱金属成分Li+、Na+、K+中的多种共存,能够使玻璃的稳定性提高。
通过少量导入Y3+,能够期待玻璃稳定性的提高,但在其含量超过5%时,玻璃的熔融温度上升,不仅助长从熔融玻璃的挥发,而且玻璃的稳定性也降低。因此,优选使Y3+的含量为0~5%。Y3+的含量的更优选范围是1~5%,进一步优选的范围是1~3%。
除此之外,以折射率的调节等为目的,可以导入少量的La3+、Gd3+、Zr4+、Zn2+
需要说明的是,从获得熔融玻璃的成型性出色、品质较高的氟磷酸玻璃的角度出发,优选使P5+、Al3+、Li+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Na+、K+和Y3+的总含量为95%以上,更优选为97%以上,进一步优选为98%以上,更进一步优选为99%以上。
氟磷酸玻璃III的玻璃化转变温度,优选小于500℃,更优选为480℃以下,进一步优选为460℃以下,更进一步优选为440℃以下。如此,由于玻璃化转变温度低,因此适于精密加压成型,除此之外,玻璃的再加热、软化并成型时的成型性也出色。玻璃化转变温度如上所述为较低,因此成型时的加热温度也能被抑制成较低。为此,也难以引起玻璃与加压成型模具等成型模具的化学反应,因此能够成型为洁净且具有平滑表面的玻璃成型体。此外,也能抑制成型模具的劣化。
在氟磷酸玻璃III中,阿贝数(vd)的优选范围是88以上,更优选的范围是88~98,进一步优选的范围是90~97。
折射率nd的优选范围是1.42~1.47,更优选的范围是1.43~1.46。
氟磷酸玻璃III在具有超低分散性的同时,还具备液相温度为700℃以下的出色的玻璃稳定性,因此能够提供高品质的氟磷酸玻璃作为适于修正色差的光学元件材料。
需要说明的是,在包括氟磷酸玻璃I、II、III的本发明中使用的氟磷酸玻璃中,从减轻对环境的负荷的角度出发,均优选不导入Pb、As、Cd、Th、Tl、Te、Cr、Se、U。
在本发明中使用的氟磷酸玻璃,可以含有Lu、Sc、Hf、Ge之类的成分,也可以不含有。Lu、Sc、Hf、Ge是昂贵的成分,因此优选不导入这些成分。
此外,在包括氟磷酸玻璃I、II、III的本发明中使用的氟磷酸玻璃中,除了具有低分散性、反常部分分散性等之外,还具有所谓在可见区域中从短波长到长波长的宽范围光线透过率较高的性质。利用这种性质,适合作为用于获得透镜、棱镜等各种光学元件的材料,但在这种用途中,优选不含在可见区域有吸收、成为着色的原因的离子,例如Fe、Cu、Ni、Co、Cr、Mn、V、Nd、Ho、Er之类的金属元素的离子。
第四例是含有Cu的氟磷酸玻璃(称为氟磷酸玻璃IV。)。通过在氟磷酸玻璃中添加Cu2+,可以成为显示近红外线吸收特性的近红外线吸收玻璃。关于Cu2+的添加量,优选以相对于包括Cu2+在内的总成分的比例计为0.5~13阳离子%。在Cu2+的添加量过少时,无法得到充分的色灵敏度修正功能,在Cu2+的添加量过剩时,玻璃的热稳定性降低而玻璃的生产率降低。含有Cu2+的玻璃适合作为CCD、CMOS等半导体摄像元件的色灵敏度修正滤波器材料。关于Cu2+的添加量,考虑上述滤波器的厚度,在上述范围内适当确定即可。就含有Cu2+的玻璃而言,除了调整吸收特性的情况以外,优选不添加Cu2+以外的在可见区域具有吸收的离子。就上述第四例中特别优选的玻璃而言,是以相对于包括Cu2+在内的总成分的比例计含有0.5~13阳离子%的Cu2+的含Cu2+玻璃(称为氟磷酸玻璃IV-1)。作为氟磷酸玻璃IV-1更优选的是下述的氟磷酸玻璃,以阳离子表示含有:
P5+   5~40%、
Al3+  0~20%、
Li+、Na+及K+的总计为0~30%、
Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+和Zn2+的合计为5~40%、
Cu2+  0.5~13%,
并且以阴离子%表示,还含有:
F-   20~70%、
O2-  30~80%。
在上述组成中,P5+是氟磷酸玻璃的基本成分,是带来Cu2+的红外区域的吸收的重要成分。在P5+的含量小于5%时,玻璃的颜色变差,带有绿色,相反在超过40%时,耐气候性、耐失透性变差。因此,P5+的含量优选是5~40%,更优选10~40%,进一步优选是15~35%。
Al3+是使氟磷酸玻璃的耐失透性和耐热性、耐热冲击性、机械强度、化学耐久性提高的成分。但是,在超过20%时,近红外吸收特性变差。因此,优选使Al3+的含量为0~20%,更优选1~20%,进一步优选5~20%,更进一步优选5~15%。
Li+、Na+和K+是改善玻璃的熔融性、耐失透性并提高可见光区域的透射率的成分,但在以总量计超过30%时,玻璃的耐久性、加工性变差。因此,优选使Li+、Na+和K+的总含量为0~30%,更优选为0~28%,进一步优选为0~25%。
在碱金属成分中,Li+的上述作用出色,更优选使Li+的量为1~30%,进一步优选为10~30%。
Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+和Zn2+是使玻璃的耐失透性、耐久性、加工性提高的有用成分,但由于过剩导入而使耐失透性降低,因此优选使Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+和Zn2+的总量为5~40%,更优选为10~40%。
Mg2+含量的优选范围是0~20%,更优选的范围是1~15%。
Ca2+含量的优选范围是0~20%,更优选的范围是1~20%。
Sr2+含量的优选范围是0~25%,更优选的范围是5~25%。
Ba2+含量的优选范围是0~20%,更优选的范围是1~20%,进一步优选的范围是5~20%。
Cu2+是近红外线吸收特性的中坚成分。在其量小于0.5%时,近红外线吸收小,相反,在超过13%时,玻璃的热稳定性降低,耐失透性变差。因此,Cu2+的含量优选0.5~13%,更优选0.5~10%,进一步优选1~5%,更进一步优选1~3%。
F-是降低玻璃的熔点、使耐气候性提高的重要的阴离子成分。通过含有F-,可以降低玻璃的熔融温度,抑制Cu2+的还原,得到所需的光学特性。在F-的量小于10%时,耐气候性变差,相反在超过70%时,由于O2-含量减少,因此产生由一价Cu+引起的在400nm附近的着色。因此,优选使F-的含量为10~70%。为了使上述特性进一步提高,更优选使F-的量为10~60%,进一步优选为15~50%。
O2-是重要的阴离子成分,优选全部阴离子成分中除了F-以外的全部剩余部分由O2-成分来构成。因此,O2-的优选量的范围是从100%中减去上述F-的优选量而得的范围。在O2-过少时,二价的Cu2+被还原而成为一价Cu+,因此在短波长区域、尤其是在400nm附近的吸收就会变大,从而呈现绿色。相反在过剩时,玻璃的粘度增高、熔融温度升高,因此透射率变差。另外,Pb、As的有害性强,因此优选不使用。
含有Cu的近红外线吸收玻璃的优选透射率特性如下所示。
换算成在波长500~700nm的分光透射率中显示50%透射率的波长为615nm的厚度,波长400~1200nm的分光透射率显示如下所述的特性。
波长400nm的透射率为78%以上、优选为80%以上、更优选83%以上、进一步优选85%以上,波长500nm的透射率为85%以上、优选88%以上、更优选89%以上,波长600nm的透射率为51%以上、优选为55%以上、更优选56%以上,波长700nm的透射率为12%以下、优选11%以下、更优选10%以下,波长800nm的透射率为5%以下、优选3%以下、更优选2.5%以下、进一步优选2.2%以下、更进一步优选2%以下,波长900nm的透射率为5%以下、优选3%以下、更优选2.5%以下、进一步优选2.2%以下、更进一步优选2%以下,波长1000nm的透射率为7%以下、优选6%以下、更优选5.5%以下、进一步优选5%以下、更进一步优选4.8%以下,波长1100nm的透射率为12%以下、优选11%以下、更优选10.5%以下、进一步优选10%以下,波长1200nm的透射率为23%以下、优选22%以下、更优选21%以下、进一步优选20%以下。
即,使波长700~1200nm的近红外线的吸收增大,使波长400~600nm的可见光线的吸收减小。在这里,所谓透射率,是指假想具有相互平行且经光学研磨的两个平面的玻璃试样,当光垂直入射到所述平面的一方时,从所述平面的另一方射出的光的强度除以所述入射光的在试样入射前的强度而得到的值,也被称为外部透射率。
由于这种特性,可以良好地进行CCD、CMOS等半导体摄像元件的颜色修正。
[预成型件组2]
预成型件组2由利用如下所述的氟磷酸玻璃所形成的多个预成型件构成,所述氟磷酸玻璃在将磷成分换算成P5+时含有超过3阳离子%且在30阳离子%以下的磷,且核磁共振波谱中的在31P的基准频率附近产生的共振峰的一次边带峰的强度I(1)与所述共振峰的强度I(0)之比I(1)/I(0)为0.08以下。
核磁共振波谱的测定,是边使玻璃试样以一定速度围绕与外部磁场方向正交的轴旋转边进行的。当磷含量在上述范围时,对于挥发性和侵蚀性均未被抑制的氟磷酸玻璃和仅挥发性被抑制而侵蚀性未被抑制的氟磷酸玻璃而言,由于上述各向异性,上述边带峰的强度增大,强度比I(1)/I(0)增大。
图3表示通过强度比I(1)/I(0)的增减而挥发性、侵蚀性发生变化的情况。图3的横轴是强度比I(1)/I(0),左侧的纵轴是折射率变化量Δnd、右侧的纵轴是玻璃中所含的粒径10μm以上的金属粒子的数密度。折射率变化量Δnd是将原料熔化1小时后得到的200g试样的折射率nd(称为nd(1h))和将原料熔化3小时后得到的200g试样的折射率nd(称为nd(3h))之差的绝对值,Δnd越大则挥发性越高。而且,金属粒子的数密度越大则侵蚀性越高。由图3可知,强度比I(1)/I(0)为0.08以下时,Δnd急剧减少而挥发性被抑制,而且金属粒子的数密度也急剧减少而侵蚀性也被抑制。因此,从抑制挥发性、侵蚀性的角度出发,使强度比I(1)/I(0)为0.08以下。从进一步抑制挥发性、侵蚀性的角度出发,优选使强度比I(1)/I(0)为0.06以下。要想使强度比I(1)/I(0)为0.08以下,从上述理由出发,将O2-含量相对于P5+含量的摩尔比O2-/P5+控制在3.5以上即可。
需要说明的是,图4是后述的实施例2的氟磷酸玻璃No.2-1(参照表2-1)的31P核磁共振波谱。图5是比较氟磷酸玻璃No.2-1(参照表2-2)的31P核磁共振波谱。
在图4、图5中,横轴是化学位移(单位是ppm),纵轴是信号强度(任意单位)。中央最高的峰是31P的共振峰(主峰),以*表示的峰是旋转边带。接近主峰的旋转边带是一次峰。一次旋转边带有两个,这些峰的高度相等,因此在求强度I(1)时,可以使用任何一个峰。
这样,根据挥发性、侵蚀性的有无,强度比I(1)/I(0)不同。
在氟磷酸玻璃中,P5+是在玻璃中作为网络形成体发挥作用的重要的必需成分。从确保玻璃的稳定性且利用上述核磁共振特性获得挥发性抑制、侵蚀性抑制效果的角度出发,使P5+的含量超过3%。另一方面,在超过30%时,为了使摩尔比O2-/P5+为3.5以上,必须抑制氟的导入量,无法获得必要的低分散性。因此,P5+的含量在超过3%且为30%以下的范围。
作为氟磷酸玻璃,优选的是O2-含量相对于P5+含量的摩尔比O2-/P5 +为3.5以上的氟磷酸玻璃,控制玻璃组成以使摩尔比O2-/P5+为3.5以上,从而实现上述强度比I(1)/I(0)
从抑制挥发性、侵蚀性的角度出发,优选在3.5以上的范围内增大摩尔比O2-/P5+,但当F-的含量增加时,作为同样是阴离子成分的O2-的含量受到限制。其结果,在F-含量较大的玻璃中,如果过度增大摩尔比O2-/P5+,有可能会使P5+含量达不到必需量。因此,对于F-含量为65阴离子%以上的玻璃而言,若摩尔比O2-/P5+为3.5以上,则不过度增大上述摩尔比为好。
根据上述玻璃,不仅挥发性被充分抑制,侵蚀性也被充分抑制,因此对构成在制造玻璃时使用的坩埚、管道、搅拌棒等的铂等的侵蚀得以防止,并且能够防止铂异物等混入到玻璃中。
作为构成预成型件组2的玻璃,优选如下的玻璃,即作为阳离子成分,含有:
P5+超过3%且为30%以下、
Al3+    5~40%、
Mg2+    0~10%、
Ca2+    0~40%、
Sr2+    0~30%、
Ba2+    0~30%,
其中,Mg2+、Ca2+、Sr2+和Ba2+的总含量为10%以上,还含有:
Li+     0~20%、
Na+     0~10%、
K+      0~10%、
Y3+     0~10%、
La3+    0~10%、
Gd3+    0~20%、
Yb3+    0~10%、
B3+     0~5%、
Zn2+    0~20%、
In3+    0~5%,
作为阴离子成分,还含有:
F-      50~98%、
O2-     2~50%。
以下,如果没有特别记载,则各阳离子成分的含量、总含量以阳离子%表示,各阴离子成分的含量、总含量以阴离子%表示。
P5+是在玻璃中作为网络形成体发挥作用的重要必需成分。在确保玻璃的稳定性的同时,利用上述核磁共振特性得到挥发性抑制、侵蚀性抑制效果,基于这一点,使P5+的含量超过3%。另一方面,在超过30%时,为了使摩尔比O2-/P5+为3.5以上,就必须要控制氟的导入量,而无法获得必要的低分散性。因此,P5+的含量优选超过3%且为30%以下的范围,P5+的含量优选是5~25%的范围。
Al3+在氟磷酸玻璃中是用于提高稳定性的重要成分,在小于5%时,玻璃容易变得不稳定。另一方面,在超过40%时,其他成分的总量过少,因此反而变得不稳定。因此,Al3+的含量优选在5~40%的范围。
Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+这样的碱土金属是提高玻璃的稳定性、提高折射率的成分,通过使其总量为10%以上,对稳定性的效果提高。但是,在特定的碱土金属成分过多时,破坏与其他成分的平衡,因此优选平均地导入,优选导入Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+中的至少2种以上。具体而言,优选Mg2+为0~10%、Ca2+为0~40%、Sr2+为0~30%、Ba2+为0~30%。
Li+、Na+、K+这样的碱金属,是能够使玻璃的粘性、玻璃化转变温度降低而容易地制造玻璃的成分,但过剩导入会使稳定性降低。因此,优选使Li+的量为0~20%、Na+的量为0~10%、K+的量为0~10%。在碱金属中,由于Li+提高稳定性的效果也大,因此更优选导入0.5%以上的Li+,进一步优选导入1%以上,特别优选导入5%以上。
Y3+、La3+、Gd3+、Yb3+等稀土元素是保持玻璃的低分散性并且提高折射率的成分,但过剩导入会使熔化温度上升,还会降低玻璃的稳定性。因此,优选将上述各成分的量分别设为0~10%。
B3+是使玻璃的耐久性提高的成分,但在熔化过程中存在以氟化物挥发的趋势,因此也是使生产率降低的成分。因此,优选使导入量为0~5%,更优选为0~3%,进一步优选不导入。
Zn2+、In3+与碱土金属一样具有能容易地导入到玻璃中的特性,虽然可以期待由于导入Zn2+、In3+而成为多组分所带来的稳定性的提高效果,但不优选过剩的导入。为此,Zn2+和In3+的导入量,优选分别为0~20%、0~5%,更优选分别为0~15%、0~3%,Zn2+进一步优选为0~10%,In3+特别优选不导入。
需要说明的是,上述氟磷酸玻璃不仅具有低分散性、反常部分分散性等,而且还具有所谓在可见区域中从短波长到长波长的宽范围光线透射率较高的性质。利用这种性质,适合作为用于获得透镜、棱镜等各种光学元件的材料,但是在这种用途中,优选不添加在可见区域具有吸收的离子,例如Fe、Cu、Ni、Co、Cr、Mn、V、Nd、Ho、Er之类的金属元素的离子。
另一方面,通过添加Cu2+,可以赋予近红外线吸收特性,因此在制作近红外线吸收玻璃时,优选以相对于包括Cu2+在内的总成分的比例计加入0.5~13%的Cu2+。含有Cu2+的玻璃适合作为CCD、CMOS等半导体摄像元件的补偿滤波器材料。关于Cu2+的添加量,考虑上述滤波器的厚度,在上述范围内适当确定即可。含有Cu2+的玻璃,除了调整吸收特性的情况以外,优选不添加Cu2+以外的在可见区域具有吸收的离子。
接着,对阴离子成分、阴离子添加物进行说明。上述氟磷酸玻璃的主要阴离子成分是F-和O2-。从实现所需的低分散特性和出色的玻璃稳定性的角度出发,优选导入50~98%的F-、2~50%的O2-,更优选导入55~95%的F-、5~45%的O2-
此外,通过少量导入Cl-、Br-、I-,在玻璃的制造时或流出时使用的铂容器、铂制喷嘴等铂制品上,氟磷酸玻璃变得难以润湿,因此可以容易地进行玻璃的制造。Cl-、Br-、I-的过剩导入,会招致因成分挥发所致的折射率变动和铂异物的产生,因此导入量优选总计为0~5%。作为Cl-、Br-和I-的总量的上限,更优选4%,进一步优选3%。另一方面,作为Cl-、Br-和I-的总量的下限,更优选0.01%,进一步优选是0.05%,更进一步优选是0.1%。
需要说明的是,从完成发明目的的角度出发,优选F-、O2-、Cl-、Br-和I-的总量为98阴离子%以上,更优选为99阴离子%以上,进一步优选为100阴离子%。
构成预成型件组2的氟磷酸玻璃中,阿贝数vd的优选范围是75~97,更优选的范围是80~93。
此外,上述氟磷酸玻璃的折射率nd的优选范围是1.43~1.52,更优选的范围1.45~1.51。
为了熔融光学上匀质的玻璃,在将熔融玻璃匀质化而流出的过程中蓄积玻璃的容器、引导玻璃的管道,由难以溶到玻璃中的耐热性材料例如铂、铂合金等金属或合金构成。
这些金属系的材料虽然具有上述性质,但如上所述,随着熔融玻璃的温度降低,容易以金属粒子在玻璃中析出。特别是氟磷酸玻璃,难以溶解金属离子,这样的问题尤为显著。
通过上述氟磷酸玻璃,难以侵蚀耐热性金属系材料,因此混入到玻璃中的这些金属的量能够被大幅抑制,可以获得由利用异物极少的氟磷酸玻璃形成的预成型件构成的预成型件组。
关于这样获得的氟磷酸玻璃,内部所含的粒径10μm以上异物例如铂粒子或含有铂的粒子的数密度小于5个/cm3。上述粒子成为使光线例如可见光线散射的异物,使光学元件的性能降低。这样,由于成为光散射源的异物大幅减少或不存在,因此可以提供高品质的光学玻璃。玻璃内部所含的粒径10μm以上异物优选的数密度小于5个/cm3,更优选小于2个/cm3
上述氟磷酸玻璃也是具有反常分散性的光学玻璃,也适合作为高级的颜色修正用光学元件的材料。
作为构成预成型件组2的玻璃,优选玻璃原料中的O2-的总含量相对于P5+总含量的摩尔比O2-/P5+为3.51以上,更优选3.55以上,进一步优选3.6以上。
[预成型件组3]
预成型件组3由利用如下所述的氟磷酸玻璃所形成的多个预成型件构成,其中,所述氟磷酸玻璃在将磷成分换算成P5+时含有30~50阳离子%的磷,核磁共振波谱中的在31P的基准频率附近产生的共振波谱的形状是高斯函数形状。
如上所述,在核磁共振法中,边使玻璃试样围绕与外部磁场方向正交的轴旋转边进行测定。核磁共振波谱是以化学位移为横轴,以核磁共振信号的强度为纵轴画出的曲线图。根据各向异性的大小不同,所得的波谱形状的对称性发生变化。对于挥发性、侵蚀性均被抑制的玻璃,上述波谱的形状成为高斯函数形状,与此相对,对于挥发性、侵蚀性均未被抑制的玻璃或者挥发性被抑制而侵蚀性未被抑制的玻璃而言,上述波谱的形状不会成为高斯函数形状,相对于波谱的峰成为非对称形状。因此,为了得到挥发性和侵蚀性被进一步抑制的氟磷酸玻璃,使31P核磁共振波谱的形状为高斯函数形状即可。
此处,所谓在31P的基准频率附近产生的共振波谱,是来自31P核旋转的共振波谱,以下简称为共振波谱。
换言之,上述共振波谱成为多个高斯函数的合成形。例如,在能够将共振波谱的形状分解成峰的位置不同的两个以上的高斯函数时,在共振波谱中出现肩(shoulder),峰***成多个。另一方面,对于玻璃结构的各向异性被降低且玻璃的挥发性、侵蚀性均被抑制的玻璃而言,共振波谱的形状成为单一的高斯函数形状。
图6是表示相对于摩尔比O2-/P5+的变化的折射率变化量Δnd的变化、和金属粒子的数密度的变化的曲线图。图6的横轴是摩尔比O2-/P5+,左侧的纵轴是折射率变化量Δnd、右侧的纵轴是玻璃中所含的粒径10μm以上的金属粒子的数密度。折射率变化量Δnd是将原料熔化1小时后得到的200g试样的折射率nd(称为nd(1h))和将原料熔化3小时后得到的200g试样的折射率nd(称为nd(3h))之差的绝对值,Δnd越大则挥发性越高。而且,金属粒子的数密度越大则侵蚀性越高。
在摩尔比O2-/P5+在3.5以上时,挥发性被抑制而折射率变化量Δnd减少,同时侵蚀性也被抑制而金属粒子的数密度也减少。
此外,在摩尔比O2-/P5+为3.5以上的范围时,共振波谱的形状成为单一的高斯函数形,与此相对,在摩尔比O2-/P5+为小于3.5的范围时,共振波谱的形状成为非高斯函数形。因此,通过共振波谱的形状为高斯函数形的氟磷酸玻璃,能够实现挥发性和侵蚀性的抑制。
图7是表示挥发性和侵蚀性被抑制的后述实施例3的氟磷酸玻璃No.3-3(摩尔比O2-/P5+为3.5,参照表3)的共振波谱,图8是将图7的共振波谱以高斯函数拟合而得到的图。
此外,图9是示出挥发性和侵蚀性的后述比较氟磷酸玻璃3-1(摩尔比O2-/P5+为3.0,参照表3)的共振波谱,图10是将图9的共振波谱以高斯函数拟合(fitting)而得到的图。
如图8可知,挥发性和侵蚀性均被抑制的氟磷酸玻璃的共振波谱的形状以单一的高斯函数表示。另一方面,如图10可知,显示挥发性和侵蚀性的氟磷酸玻璃的共振波谱的形状,通过峰的位置不同的两个高斯函数的合成来表示,不能用单一的高斯函数表示。
需要说明的是,在图7~图10中,在共振峰的两侧分别看到两个峰,这些峰被称为旋转边带,不会直接影响共振波谱的形状。
这样的挥发性、侵蚀性和核磁共振波谱的对应关系,适合于P5+的含量为30~50阳离子%的氟磷酸玻璃。
需要说明的是,为了使共振波谱形状为高斯函数形状,从上述理由出发,在制造玻璃时,将O2-含量相对于P5+含量的摩尔比O2-/P5+控制为3.5以上即可。
从进一步抑制挥发性和侵蚀性的角度出发,更优选使摩尔比O2-/P5 +为3.51以上,更优选为3.54以上,进一步优选为3.55以上。
在构成预成型件组3的氟磷酸玻璃中,从玻璃组成的角度出发,优选的氟磷酸玻璃如下所示,即以阳离子%表示,含有:
P5+     30~50%、
Al3+    1~30%、
Mg2+    0~15%、
Ca2+    0~15%、
Sr2+    0~15%、
Ba2+    0~40%,
其中,Mg2+、Ca2+、Sr2+和Ba2+的总含量为20%以上,还含有:
Li+     0~30%、
Na+     0~10%、
K+      0~10%、
Y3+     0~5%、
La3+    0~5%、
Gd3+    0~5%、
Yb3+    0~5%、
B3+     0~5%、
Zn2+    0~15%、
In3+    0~5%,
作为阴离子成分,含有:
F-      20~50%、
O2-     50~80%。
接着,对各成分的作用和上述组成范围的优选理由进行说明,但以下,阳离子成分的含量、总含量如果没有特别记载,以阳离子%表示,阴离子成分的含量、总含量如果没有特别记载,以阴离子成分表示。
P5+是在玻璃中作为网络形成体发挥作用的重要必需成分。从确保玻璃的稳定性的角度出发,使P5+的含量为30%以上。另一方面,从利用上述核磁共振特性得到挥发性抑制、侵蚀性抑制效果的角度出发,使P5+的含量为50%以下。使摩尔比O2-/P5+为3.5以上的角度出发,使P5+的含量为50%以下也是合适的。当使P5+的量为50%以下时,也可以在维持摩尔比O2-/P5+为3.5以上的同时减小O2-的量。这就意味着可以使F-的量增加,伴随F-的量增加,能够进一步降低分散。从这种观点出发,使P5+的含量为30~50%。P5+含量的优选范围为30~45%,更优选的范围为30~40%。
Al3+在氟磷酸玻璃中是用于提高稳定性的重要成分,在小于1%时,玻璃容易变得不稳定。另一方面,在超过30%时,其他成分的总量变得过少,因此反而变得不稳定。因此,Al3+的含量优选在1~30%的范围。
Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+这样的碱土金属是提高玻璃的稳定性、提高折射率的成分,通过使其总量为20%以上,对稳定性的效果提高。但是,在特定的碱土金属成分过多时,破坏与其他成分的平衡,因此优选平均地导入,优选导入Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+中的至少2种以上。具体而言,优选含有Mg2+为0~15%、Ca2+为0~15%、Sr2+为0~15%、Ba2+为0~40%。更优选含有Mg2+为1~10%、Ca2+为1~10%、Sr2+为1~10%、Ba2+为10~40%。
Li+、Na+、K+这样的碱金属,是能够使玻璃的粘性、玻璃化转变温度降低而容易地制造玻璃的成分,但过剩导入会使稳定性降低。因此,优选使Li+的量为0~30%、Na+的量为0~10%、K+的量为0~10%。在碱金属中,由于Li+提高稳定性的效果也大,因此更优选导入5%以上的Li+,进一步优选导入10%以上,特别优选导入15%以上。
Y3+、La3+、Gd3+、Yb3+等稀土元素是保持玻璃的低分散性且提高折射率的成分,但过剩导入会使熔化温度上升,还会降低玻璃的稳定性。因此,优选使上述各成分的量分别为0~5%。La3+、Gd3+、Yb3+更优选分别为0~1%,特别优选不含有。
B3+是使玻璃的耐久性提高的成分,但在熔化过程中存在以氟化物挥发的趋势,因此也是使生产率降低的成分。因此,优选使导入量为0~5%,更优选为0~2%,更进一步优选不导入。
Zn2+、In3+与碱土金属一样具有能容易地导入到玻璃中的特性,虽然可以期待由于导入Zn2+、In3+而成为多组分所带来的稳定性的提高效果,但不优选过剩导入。为此,Zn2+和In3+的导入量,优选分别为0~15%、0~5%,更优选分别为0~10%、0~3%,Zn2+进一步优选为0~8%,特别优选不导入In3+
需要说明的是,氟磷酸玻璃I不仅具有低分散性、反常部分分散性等,而且还具有所谓在可见区域中从短波长到长波长的宽范围光线透射率较高的性质。利用这种性质,适合作为用于获得透镜、棱镜等各种光学元件的材料,但是在这种用途中,优选不添加在可见区域具有吸收的离子,例如Fe、Cu、Ni、Co、Cr、Mn、V、Nd、Ho、Er之类的金属元素的离子。
另一方面,通过添加Cu2+,可以赋予近红外线吸收特性,因此在制作近红外线吸收玻璃时,优选以相对于包括Cu2+在内的总成分的比例计加入0.5~13%的Cu2+。含有Cu2+的玻璃适合作为CCD、CMOS等半导体摄像元件的补偿滤波器材料。关于Cu2+的添加量,考虑上述滤波器的厚度,在上述范围内适当确定即可。含有Cu2+的玻璃,除了调整吸收特性的情况以外,优选不添加Cu2+以外的在可见区域具有吸收的离子。
接着,对阴离子成分、阴离子添加物进行说明。本发明的氟磷酸玻璃的主要阴离子成分是F-和O2-。从实现所需的低分散特性和出色的玻璃稳定性的角度出发,优选导入20~50%的F-、50~80%的O2-,更优选导入20~40%的F-、60~80%的O2-
此外,通过少量导入Cl-、Br-、I-,在玻璃的制造时或流出时使用的铂容器、铂制喷嘴等铂制品上,氟磷酸玻璃变得难以润湿,因此可以容易地进行玻璃的制造。Cl-、Br-、I-的过剩导入,会招致因成分挥发所致的折射率变动和铂异物的产生,因此导入量优选总计为0~5%。关于Cl-、Br-和I-的总量的优选上限和下限,与在预成型件组2中说明的上限和下限相同。
另外,从实现本发明目的的角度出发,优选使F-、O2-、Cl-、Br-和I-的总量为98阴离子%以上,更优选为99阴离子%以上,进一步优选为100阴离子%。
构成预成型件组3的氟磷酸玻璃中,阿贝数vd的优选范围是68~75,更优选的范围是68~73。
此外,上述氟磷酸玻璃的折射率nd的优选范围是1.52~1.61,更优选1.54~1.61。
[玻璃的侵蚀性]
接着,对成为预成型件材料的氟磷酸玻璃的侵蚀性进行说明。为了将光学上匀质的玻璃熔融,在将熔融玻璃匀质化而流出的过程中蓄积玻璃的容器、引导玻璃的管道,由难以溶到玻璃中的耐热性材料例如铂、铂合金等金属或合金构成。
这些金属系的材料虽然具有上述性质,但是如上所述,伴随着熔融玻璃的温度降低,容易以金属粒子在玻璃中析出。特别是氟磷酸玻璃难以溶解金属离子,这样的问题尤为显著。
根据本发明,作为预成型件材料的氟磷酸玻璃,在熔融状态下难以侵蚀耐热性金属系材料,因此也能够大幅抑制在玻璃中溶解的这些金属的量,能够得到异物极少的预成型件组。
关于这样获得的氟磷酸玻璃,内部所含的粒径10μm以上异物例如铂粒子或含有铂的粒子的数密度小于5个/cm3。上述粒子成为使光线例如可见光线散射的异物,使光学元件的性能降低。根据本发明,成为光散射源的异物大幅减少或不存在,因此可以提供高品质的光学玻璃。玻璃内部所含的粒径10μm以上异物的优选数密度小于5个/cm3,更优选小于3个/cm3,进一步优选为2.5个/cm3个以下,更进一步优选为2个/cm3以下。
构成本发明的预成型件组的氟磷酸玻璃,是具有反常分散性的光学玻璃,也适合作为高级的颜色修正用光学元件的材料。
[氟磷酸玻璃的制造]
对本发明的氟磷酸玻璃的制造方法进行说明。
关于本发明的氟磷酸玻璃的制造方法,经过将玻璃原料导入到熔融容器中进行熔融、澄清、匀质化后而将所得的熔融玻璃流出、成型的工序,批量生产精密加压成型用预成型件,制造作为所述预成型件的集合物的预成型件组,所述方法的特征在于,制作上述本发明的预成型件组。
在玻璃的熔融时,使用至少含有氟、氧和磷的玻璃原料,按照所述玻璃原料中的氧含量相对于磷含量的摩尔比O/P为3.5以上的方式,调合所述玻璃原料并将其熔融。
需要说明的是,上述氧的含量是导入到玻璃中的氧的量,不包括在玻璃熔融过程中以COX气体、NOX气体、氧气、水蒸气等排出到熔融物外的氧的量。
例如,在使用碳酸盐、硝酸盐、氢氧化物等作为玻璃原料时,碳酸盐、硝酸盐、氢氧化物通过玻璃原料的加热而分解,产生上述气体,这些气体排出到玻璃熔融物外,因此上述气体中所含的氧对玻璃化反应没有贡献。此外,当在玻璃原料中存在化合水时,化合水因玻璃原料的加热而脱离,变成水蒸气而排出到玻璃熔融物外,因此水蒸气中的氧对玻璃化反应也没有贡献。因此,成为上述气体而排出到玻璃熔融物外的氧排除在上述的氧含量之外。
在使用碳酸盐、硝酸盐、氢氧化物时,考虑到是由这些化合物中所含的成为玻璃成分的阳离子和氧构成的氧化物,因此作为上述氧化物,可以认为上述化合物中所含的氧的量为被导入到玻璃中的氧的量。
在这里,所谓玻璃原料包括调合、混合多种化合物的原料、所谓批料、碎玻璃等。
进行玻璃原料的调合,以使光学特性等达到所需的值,且在将玻璃原料中所含的氧、磷的总量换算成P5+量和O2-量时使O2-的量相对于P5+的量的摩尔比O2-/P5+为3.5以上,对调合玻璃原料进行熔融。这样,可以将玻璃中的O2-含量相对于P5+含量的摩尔比O2-/P5+控制在3.5以上。
从更确实可靠地进行这样的控制的角度出发,优选进行原料调合以便在将玻璃原料中所含的氧、磷的总量换算成P5+量和O2-量时使O2-的量相对于P5+的量的摩尔比O2-/P5+为3.5以上。
在仅使用偏磷酸原料和氟化物原料进行原料调合时,将玻璃原料中所含的氧、磷的总量换算成P5+量和O2-量,则O2-的量相对于P5+的量的摩尔比O2-/P5+为3,由于氧量的不足而达不到3.5。因此,优选并用氧化物、硝酸盐等,以便能够将氧独立于磷而导入到玻璃中。此外,还可以将通常用作磷酸原料的偏磷酸盐的一部分或全部替换为焦磷酸盐。在使用焦磷酸盐的情况下,也优选并用氧化物、硝酸盐等。
[精密加压成型用预成型件组的制造]
接着对精密加压成型用预成型件说明。
关于本发明的精密加压成型用预成型件,由上述氟磷酸玻璃形成。
精密加压成型用预成型件,简单称为预成型件,是与供给精密加压成型的精密加压成型品的质量相当的玻璃预备成型体,这里,所谓精密加压成型,如众所周知的那样也被称为模制光学(Mold Optics)成型,是通过转印加压成型模具的成型面而形成光学元件的光学功能面的方法。另外,所谓光学功能面,是指在光学元件中使控制对象的光发生折射、反射、衍射、或入射出射的面,透镜中的透镜面等相当于该光学功能面。
在精密加压成型时,为了防止玻璃和加压成型模具成型面的反应、融合,同时使玻璃沿着成型面的拉伸为良好,优选在预成型件的表面被覆含碳膜。作为含碳膜,优选以碳为主要成分(在膜中的元素含量以原子%表示时,碳含量比其他元素的含量多)。具体而言,能够例示碳膜、烃膜等。作为含碳膜的成膜法,使用如下公知的方法即可,即使用了碳原料的真空蒸镀法、溅射法、离子喷镀法等公知的方法;使用了烃等材料气体的热分解等公知的方法。
接着,对本发明的预成型件组的制造方法进行说明。
本发明的预成型件组的制造方法,经过将玻璃原料导入到熔融容器中进行熔融、澄清、匀质化后而将所得的熔融玻璃流出、成型的工序,批量生产精密加压成型用预成型件,制造作为所述预成型件的集合物的预成型件组,所述方法的特征在于,制作上述本发明的预成型件组。
具体而言,调合上述玻璃原料,以使玻璃原料中的O含量相对于P的含量的摩尔比O/P为3.5以上,将其导入到熔融容器中进行熔融。
关于预成型件组的制造方法的第一例,是将熔融玻璃连续地流出并浇铸到铸型中进行成型,而且将已成型的玻璃成型体从所述铸型中取出,对该玻璃成型体进行分割、加工,从而批量生产预成型件的方法。
关于第一例,在将匀质的熔融玻璃浇铸到铸型中成型后,通过退火而除去成型体的变形,进行切断或割断,分割成规定的尺寸、形状,制作多个玻璃片,研磨玻璃片使表面光滑,并且制成由规定质量的玻璃构成的预成型件。优选在如此制作的预成型件的表面被覆含碳膜而使用。
关于第二例,是反复进行如下所示的工序而批量生产预成型件的方法,所述工序是将熔融玻璃连续地流出,并且将熔融玻璃块从所述熔融玻璃中分离,将所述熔融玻璃块成型而制作预成型件的工序。
在第二例中,将玻璃原料熔融、澄清、匀质化而准备匀质的熔融玻璃,将上述熔融玻璃从已调整温度的由铂、铂合金、金、金合金中任一种做成的流出喷嘴或流出管道中流出。在对小型的预成型件、球状的预成型件进行成型的情况下,从流出喷嘴以所需质量的熔融玻璃滴滴加熔融玻璃,利用预成型件成型模具对其进行接受并成型为预成型件。或者,同样地将所需质量的熔融玻璃滴从流出喷嘴滴加到液体氮等中而成型为预成型件。在制作中大型的预成型件的情况下,利用流出管道使熔融玻璃流下,用预成型件成型模具等的支承体接受熔融玻璃流的前端部,在熔融玻璃流的喷嘴和支承体之间制成缩颈部后,将支承体急速下降(优选向正下方急速下降。),利用熔融玻璃的表面张力在缩颈部分离熔融玻璃流,从而在预成型件成型模具上接受所需质量的熔融玻璃块,从而成型为预成型件。
将流出熔融玻璃的流出喷嘴、流出管道的温度控制为恒定,使每单位时间的熔融玻璃流出量为恒定。此外,若是使熔融玻璃的滴加时间间隔为恒定,可以得到恒定质量的熔融玻璃滴,通过对这些玻璃滴成型,可以得到由恒定质量的预成型件形成的预成型件组。
此外,如上所述,也可以将每单位时间的熔融玻璃流出量设为恒定,将接受熔融玻璃流的前端部时的喷嘴或管道的玻璃流出口和支承体的距离设为恒定,将用支承体接受熔融玻璃流的前端部后支承体急速下降的时间点设为恒定,得到恒定质量的熔融玻璃块,对这些熔融玻璃块成型,可以得到由恒定质量的预成型件形成的预成型件组。
为了制造出表面没有伤痕、污染、褶皱、表面变质等且表面光滑的预成型件,例如制造具有自由表面的预成型件,使用下面的方法等,即在预成型件成型模具等上对熔融玻璃块施加风压使其上浮、同时成型为预成型件,或者向液氮等在常温、常压下冷却气态物质而成为液体的介质中加入熔融玻璃滴,从而成型为预成型件的方法等。
在边使熔融玻璃块上浮边成型为预成型件时,对该熔融玻璃块喷出气体(称为上浮气体),从而施加向上的风压。此时,如果熔融玻璃块的粘度过低,则上浮气体进入到玻璃中,在预成型件中成为气泡而残留。但是,通过使熔融玻璃块的粘度为3~60dPa·s,可以在上浮气体不进入玻璃中的情况下,使玻璃块上浮。
作为对预成型件喷吹上浮气体时使用的气体,可以举出空气、氮气、氧气、氩气、氦气、水蒸气等。此外,关于风压,只要能使预成型件在不与成型模具表面等固体接触的情况下上浮,则没有特别限制。
利用预成型件制造的精密加压成型品(例如光学元件),由于往往像透镜那样具有旋转对称轴,因此优选预成型件的形状也是具有旋转对称轴的形状。作为具体例,可以示出球形或具有一个旋转对称轴的形状。作为具有一个旋转对称轴的形状,可以举出在包含上述旋转对称轴的截面具有无棱角、坑洼的平滑的轮廓线的形状,例如有在上述截面以短轴与旋转对称轴一致的椭圆为轮廓线的形状等,使球扁平后的形状(确定一个通过球的中心的轴,在所述轴方向上缩小尺寸的形状)。
优选在如此制作的预成型件的表面被覆含碳膜而使用。
[光学元件的制造方法]
接着,对本发明的光学元件的制造方法进行说明。
关于本发明的光学元件的制造方法的第一方式,是反复进行如下工序来批量生产光学元件的方法,所述工序是对构成上述本发明的预成型件组的预成型件进行加热并利用加压成型模具进行精密加压成型来制作光学元件的工序。
本发明的光学元件的制造方法的第二方式,是反复进行如下工序来批量生产光学元件的方法,所述工序是利用上述本发明的方法制作预成型件组,对构成所述预成型件组的预成型件进行加热,利用加压成型模具进行精密加压成型来制作光学元件的工序。
上述两个方式均能够抑制构成预成型件组的预成型件间的光学特性、热特性的波动,且能够稳定地批量生产品质出色的光学元件。
上述两个方式均优选在将精密加压成型的条件保持为恒定的同时,批量生产光学元件。本发明中使用的预成型件组由玻璃化转变温度等热特性一致的预成型件构成,因此如果在开始批量生产时,将精密加压成型的条件最佳化,并且将该条件维持恒定,则能够批量生产出性能、品质均稳定的光学元件。此外,在批量生产过程中,无需频繁地调整精密加压成型的条件,因此还能够进一步改善批量生产性。
此外,根据本发明,如上所述利用精密加压成型来制作光学元件,为了在一定条件下对构成光学元件的玻璃的折射率进行调整,可以对上述光学元件进行精密退火,也可以不进行上述精密退火即无精密退火。任一种情况都不必对每个光学元件调整精密退火条件,因此,能够进一步改善光学元件的批量生产性。
此外,在本发明中,优选反复进行在光学元件的光学功能面上形成具有一定规格的防反射膜的工序,来批量生产带防反射膜的光学元件。根据本发明,由于经批量生产而得的光学元件组的折射率的波动得到抑制,因此若使一定规格的防反射膜形成在经精密加压成型而得到的光学元件的光学功能面上,则各光学元件均可以进行具有足够防反射性能的涂敷。尤其是通过使精密加压成型条件为恒定且使精密退火时的精密退火条件为恒定,且形成一定规格的防反射膜,可以稳定地批量生产性能、品质均出色的光学元件。当在上述批量生产过程中,不进行精密退火即无精密退火时,不必根据每个光学元件来调整精密退火条件,因此在这种情况下,可以稳定地批量生产性能、品质均出色的光学元件。
作为利用本发明的方法制造的光学元件,没有特别限定,但可以举出例如非球面透镜、球面透镜、微透镜、透镜阵列、棱镜、衍射光栅、带透镜的棱镜、带衍射光栅的透镜等。作为非球面透镜、球面透镜的具体例,可以具出正弯月透镜、负弯月透镜、双凸透镜、双凹透镜、平凸透镜、平凹透镜等。通过使用添加铜而赋予近红外线吸收特性的玻璃,也可以批量生产出CCD、CMOS等半导体摄像元件的色灵敏度修正用滤波器。
此外,从用途的角度出发,可以举出构成摄像光学***的光学元件、构成投射光学***的光学元件、光通信用元件、如光读取透镜或准直透镜那样用于从DVD、CD等光记录式信息记录介质读取或写入数据的透镜等。
作为构成摄像光学体系的光学元件,可以例示数码相机、数码摄像机、使用以往的胶片的照相机、监控摄像机、车载摄像机等各种摄像机上搭载的透镜、棱镜、带照相机的移动电话的照相机镜头、望远镜的前透镜等。
作为构成投射光学***的光学元件,可以例示构成液晶投影、背投的光学***的透镜、棱镜等。
本发明的光学元件是利用具有反常分散性的玻璃制成,因此适合用作高级别的颜色修正。
此外,由含Cu的氟磷酸玻璃形成的光学元件,具有近红外光吸收功能,适合作为CCD、CMOS等半导体摄像元件的补偿滤波器等光学元件。
在光学元件的表面,如上所述,根据需要可以形成防反射膜等用于控制光线反射率的光学薄膜。
接着,对精密加压成型进行说明。
在精密加压成型中,就加压成型模具及预成型件的加热和加压工序而言,为了防止加压成型模具的成型面或在所述成型面上设置的脱模膜的氧化,优选在氮气或者氮气和氢气的混合气体等那样的非氧化性气体气氛中进行。在非氧化性气体气氛中,被覆预成型件表面的含碳膜也不会被氧化,从而在经精密加压成型的成型品的表面残存所述膜。该膜虽然最终应被除去,但为了比较容易且完全地除去含碳膜,在氧化性气氛例如大气中对精密加压成型品进行加热即可。含碳膜的氧化、除去应该在精密加压成型品经加热不变形的温度下进行。具体而言,优选在低于玻璃的转变温度的温度范围内进行。
对于精密加压成型而言,使用预先将成型面以高精度加工成所需形状的加压成型模具,但为了防止加压时玻璃与成型面的融合,可以在成型面上形成脱模膜。作为脱模膜,可以举出含碳膜、氮化物膜、贵金属膜,作为含碳膜,优选烃膜、碳膜等。对于精密加压成型而言,向成型面的形状被精密加工后的对置的一对上模和下模之间供给预成型件,然后对成型模具和预成型件两者进行加热并加热至玻璃的粘度相当于105~109dPa·s的温度,而使预成型件软化,对其进行加压成型,从而将成型模具的成型面精密地转印到玻璃上。
此外,向成型面的形状被精密加工且对置的一对上模和下模之间,供给预先升温至玻璃的粘度相当于104~108dPa·s的温度的预成型件,对其进行加压成型,从而将成型模具的成型面精密地转印到玻璃上。
关于加压时的压力和时间,可以考虑玻璃的粘度等而适当决定,例如加压压力可以是约5~15MPa,加压时间可以是10~300秒。就加压时间、加压压力等的加压条件而言,结合成型品的形状、尺寸在众所周知的范围内适当设定即可。
然后,对成型模具和精密加压成型品进行冷却,优选在温度达到变形点以下时,进行脱模、取出精密加压成型品。需要说明的是,为了使光学特性精密地与所需值一致,可以适当调整冷却时的成型品的退火处理条件、例如退火速度等。
精密加压成型从以下的观点出发大致分为2种方法。关于第一方法,是将玻璃原材料导入到加压成型模具中,将玻璃原材料和加压成型模具一起加热,进行精密加压成型的光学元件的制造方法,在重视面精度、偏心精度等成型精度的提高的情况下,推荐该方法,关于第二方法,是对玻璃原材料进行加热,导入到已预热的加压成型模具中进行精密加压成型的光学元件的制造方法,在重视生产率提高的情况下,推荐该方法。
因此,可以根据目的选择第一方法或第二方法。
[实施例]
以下,根据实施例对本发明进行更加具体的说明,但这些实施例可以基于上述说明在本发明的整个范围内扩展、一般化。
(实施例1)
为了制作具有表1-1~表1-6中示出的各组成的玻璃,称量与各玻璃成分对应的二磷酸盐等磷酸盐、氟化物等原料,充分地混合。所得的玻璃中的O2-的总含量相对于P5+的总含量的比(O2-/P5+)、F-的含量相对于F-和O2-的总含量的比(F-/(F-+O2-))一并记于表1-1~表1-6中。将上述混合原料投入到铂坩埚中,在900℃的电炉内,边搅拌边用1~3小时加热熔化原料,经澄清、匀质化而得到熔融玻璃,将该熔融玻璃浇铸到铸型中,得到由氟磷酸玻璃No.1-1~1-59的各种氟磷酸玻璃形成的块状的玻璃。另外,在调合玻璃原料时,按照获得以光学特性为代表的所需诸特性且使玻璃原料中所含的氧原子的量相对于磷原子的量的摩尔比O/P为3.5以上的方式,进行玻璃原料的调合。在玻璃的熔化、澄清、匀质化时,不进行气氛的更换。
玻璃原料中所含的氧原子的量是导入到玻璃中的氧的量。在使用碳酸盐、硝酸盐、氢氧化物时,考虑到是由这些化合物中所含的成为玻璃成分的阳离子和氧构成的氧化物,因此作为上述氧化物,可以认为上述化合物中所含的氧的量为被导入到玻璃中的氧的量。
如此得到的59种氟磷酸玻璃、即氟磷酸玻璃No.1-1~1-59,均未见到波筋。
关于氟磷酸玻璃No.1-1~1-59的各玻璃,如表1-1~表1-6所示,O2-的总含量相对于P5+的总含量的摩尔比(O2-/P5+)为3.5以上。通过将各玻璃制备成摩尔比O2-/P5+均为3.5以上,成为挥发性和侵蚀性被大幅降低的具有所需特性的光学玻璃。此外,在上述制造例中使用了二磷酸盐等磷酸盐、氟化物之类的未玻璃化原料,但也可以使用碎玻璃,或者并用未玻璃化原料和碎玻璃。
以缓慢冷却降温速度-30℃/小时对如此成型的氟磷酸玻璃No.1-1~1-59进行冷却,得到由各种玻璃形成的试样,测定各试样的折射率nd。测定所得的折射率nd在表1-1~表1-6中以nd(1)表示。接着,测定下述情况下的折射率nd,即将各试样在氮气气氛中以900℃再熔融1小时,冷却到玻璃化转变温度,然后以缓慢冷却降温速度-30℃/小时冷却到25℃后的折射率nd。所得的折射率nd的值在表1-1~表1-6中以nd(2)表示。在表1-1~表1-6中,示出nd(1)与nd(2)之差nd(2)-nd(1)、和其绝对值。
(1)阿贝数(vd)
对使缓慢冷却降温速度为-30℃/小时而得到的玻璃进行测定。
(2)玻璃化转变温度(Tg)
利用理学电机株式会社的热机械分析装置(Thermo Plus TMA8310),使升温速度为4℃/分钟来测定。
(3)玻璃中金属制异物的数量
用光学显微镜放大100倍观察玻璃内部,对粒径10μm以上异物进行计数,根据异物的数量和观察区域的体积来计算单位体积中异物的数量。
另外,也可以向上述氟磷酸玻璃No.1-1~1-59中,以相对于包括Cu2+在内的总成分的比例计添加0.5~13阳离子%的Cu2+,制成近红外线吸收玻璃,所得的近红外线吸收玻璃未见到波筋、金属制异物。
此外,如图1所示,制作摩尔比O2-/P5+(在本实施例中,与玻璃原料中的磷原子的量P和氧原子的量O的摩尔比O/P相等)为3.4、3.3、3.2、3.1、3.0的五种氟磷酸玻璃,测定nd(1)、nd(2)、玻璃中的粒径10μm以上的金属粒子的数密度。其结果,所有玻璃的nd(2)-nd(1)的绝对值均超过0.00300,金属粒子的数密度也增大了。此外,这些玻璃也均未见到波筋。
接着,采用如下所示的方法分离熔融玻璃块,所述方法是:使由氟磷酸玻璃No.1-1~1-59的各玻璃获得的熔融玻璃,在不使玻璃失透的情况下,从已将温度调整为可以稳定流出的温度范围的铂合金制管道中以一定流量流出,滴加玻璃块的方法;或者使用支承体支承熔融玻璃流前端,然后将支承体急速下降而分离玻璃块的方法。得到的各熔融玻璃块的质量,与每个目标预成型件的质量相等。
接着,在底部具有气体喷出口的承模上接受所得的各熔融玻璃块,从气体喷出口喷出气体而使玻璃块上浮同时成型,批量生产加压成型用预成型件。预成型件的形状具有一定形状,制作由球状预成型件构成的组、由扁平球状的预成型件构成的组等。构成各组的各预成型件的质量与设定值精密地一致,表面均光滑,未见到波筋及铂、铂合金等金属异物。此外,从构成预成型件组的预成型件中,取出最初成型的、最后成型的、中途成型的几个作为样品,利用折射率测定法A测定折射率nd,计算折射率nd的公差,结果是±0.00020以内。
接着,使由氟磷酸玻璃No.1-1~1-59的各玻璃形成的熔融玻璃,在不使玻璃失透的情况下,从已将温度调整为可以稳定流出的温度范围的铂合金制管道中以一定流量流出,连续地流入到铸型中,并且从铸型侧面的开口部将已成型的玻璃成型体沿水平方向以恒定速度拉出,使其通过退火炉中,以-30℃/小时的条件进行退火,然后将玻璃成型体的前端部分切断成所需长度,接连得到玻璃板。
由最初得到的玻璃板、最终得到的玻璃板、中途得到的玻璃板分别制作折射率测定用试样,测定折射率nd,计算折射率nd的公差,结果是±0.00020以内。
接着,将上述玻璃板切成骰子状,制作多个玻璃片,对这些玻璃片进行磨削、研磨,得到由表面光滑且在光学上匀质的一定质量、一定形状的预成型件构成的预成型件组。
表1-1
  1-1   1-2   1-3   1-4   1-5   1-6   1-7   1-8   1-9   1-10
  阳离子成分(阳离子%)
  P5+   19   20.3   20   19.7   32.6   29   31.9   30   11.67   11.17
  Al3+   22.7   22.3   22.4   22.5   11.6   9   11.7   12   31.59   32.08
  Mg2+   6.8   6.7   6.7   6.8   6.3   6   6.4   6.6   4.07   4.07
  Ca2+   8.5   8.4   8.4   8.5   6.3   4   6.4   6.6   23.26   25.00
  Sr2+   14.5   14.3   14.3   14.4   5.3   5   5.3   5.5   15.09   16.09
  Ba2+   10.1   10   10   10   16.9   25   17   17.5   8.52   5.79
  Mg2++Ca2++Sr2++Ba2+   39.9   39.4   39.4   39.7   34.8   40   35.1   36.2   50.94   50.95
  Li+   17.3   17   17.1   17.1   20   21   20.2   20.8   3.12   3.12
  Na+   0   0   0   0   0   0   0   0   0.00   0.00
  K+   0   0   0   0   0   0   0   0   0.00   0.00
  Y3+   1.1   1   1.1   1   1   1   1.1   1   2.68   2.68
  La3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Gd3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Yb3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Y3++La3++Gd3++Yb3+   1.1   1   1.1   1   1   1   1.1   1   2.68   2.68
  B3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Zn2+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  In3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  阳离子总计   100   100   100   100   100   100   100   100   100   100
  阴离子成分(阴离子%)
  F-   62.9   62   61.8   61.7   35.1   41.3   34.6   39.4   81.60   82.00
  O2-   37.1   38   38.2   38.3   64.9   58.7   65.4   60.6   18.20   17.80
  Cl-   0   0   0   0   0   0   0   0   0.20   0.20
  阴离子总计   100   100   100   100   100   100   100   100   100   100
  F-/(F-+O2-)   0.629   0.62   0.618   0.617   0.351   0.413   0.346   0.394   0.817635   0.821643
  摩尔比O2-/P5+   3.74   3.61   3.67   3.72   3.5   3.51   3.56   3.54   3.50   3.59
  折射率nd   1.49817   1.49504   1.49649   1.49671   1.55021   1.54837   1.5533   1.55439   1.45886   1.45599
  nd(1)   1.49817   1.49504   1.49649   1.49671   1.55021   1.54837   1.5533   1.55439   1.45886   1.45599
  nd(2)   1.49867   1.49565   1.49704   1.49719   1.55131   1.54942   1.5542   1.55534   1.45996   1.45699
  nd(2)-nd(1)   0.0005   0.00061   0.00055   0.00048   0.0011   0.00105   0.0009   0.00095   0.0011   0.001
  |nd(2)-nd(1)|   0.0005   0.00061   0.00055   0.00048   0.0011   0.00105   0.0009   0.00095   0.0011   0.001
  阿贝数vd   81.3   81.7   81.4   81.7   71.8   71.2   71.7   72.49   90   90.5
  玻璃化转变温度(℃)   405   406   410   400   390   385   392   395
  液相温度(℃)   590   600   600   600   590   600   300   600   620   610
  金属粒子的数密度(个/cm3)   1以下   1以下   1以下   1以下   3   2   1以下   1   2   1
表1-2
  1-11   1-12   1-13   1-14   1-15   1-16   1-17   1-18   1-19   1-20
  阳离子成分(阳离子%)
  P5+   11.17   11.17   11.44   11.17   11.17   11.17   6.80   6.17   6.00   5.67
  Al3+   32.09   32.09   31.82   32.09   34.09   32.09   35.80   36.09   35.80   34.59
  Mg2+   4.07   4.07   4.20   4.07   4.07   4.07   4.30   3.07   4.30   4.07
  Ca2+   23.26   23.26   23.13   23.26   23.26   23.26   23.70   25.38   24.50   23.26
  Sr2+   15.09   15.09   15.09   15.09   15.09   15.09   18.40   15.09   18.40   15.09
  Ba2+   8.52   8.52   8.52   8.52   8.52   8.52   6.00   8.52   6.00   8.52
  Mg2++Ca2++Sr2++Ba2+   50.94   50.94   50.94   50.94   50.94   50.94   52.4   52.06   53.2   50.94
  Li+   3.12   3.12   3.12   3.12   3.12   3.12   2.30   2.00   2.30   6.12
  Na+   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00
  K+   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00
  Y3+   2.68   2.68   2.68   2.68   0.68   2.68   2.70   3.68   2.70   2.68
  La3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Gd3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Yb3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Y3++La3++Gd3++Yb3+   2.68   2.68   2.68   2.68   0.68   2.68   2.7   3.68   2.7   2.68
  B3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Zn2+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  In3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  阳离子总计   100   100   100   100   100   100   100   100   100   100
  阴离子成分(阴离子%)
  F-   82.00   82.00   82.06   82.50   82.50   82.50   89.61   90.62   90.82   91.12
  O2-   17.80   17.80   17.76   17.32   17.32   17.32   10.22   9.21   9.01   8.70
  Cl-   0.20   0.20   0.18   0.18   0.18   0.18   0.17   0.17   0.17   0.18
  阴离子总计   100   100   100   100   100   100   100   100   100   100
  F-/(F-+O2-)   0.821643   0.821643   0.82208   0.826488   0.826488   0.826488   0.897626   0.907743   0.909747   0.912843
  摩尔比O2-/P5+   3.59   3.59   3.50   3.50   3.50   3.50   3.50   3.50   3.50   3.50
  折射率nd   1.45869   1.45936   1.45832   1.45729   1.45305   1.45762   1.43915   1.43821   1.43696   1.43761
  nd(1)   1.45869   1.45936   1.45832   1.45729   1.45305   1.45762   1.43915   1.43821   1.43696   1.43761
  nd(2)   1.45989   1.46026   1.45945   1.45834   1.45395   1.4586   1.44007   1.43924   1.4381   1.43886
  nd(2)-nd(1)   0.0012   0.0009   0.00113   0.00105   0.0009   0.00098   0.00092   0.00103   0.00114   0.00125
  |nd(2)-nd(1)|   0.0012   0.0009   0.00113   0.00105   0.0009   0.00098   0.00092   0.00103   0.00114   0.00125
  阿贝数vd   90.1   90.6   90.4   90.4   91.2   90.4   94.9   95.5   95.2   94.9
  玻璃化转变温度(℃)   424   422   410   395
  液相温度(℃)   620   620   610   620   650   600   650   650   670   650
  金属粒子的数密度(个/cm3)   1   1   3   2   1   1   1   1   1   1
表1-3
  1-21   1-22   1-23   1-24   1-25   1-26   1-27   1-28   1-29   1-30
  阳离子成分(阳离子%)
  P5+   5.42   5.42   5.42   5.42   5.42   5.52   5.42   5.42   5.42   5.17
  Al3+   33.70   33.69   33.70   33.20   33.20   33.90   33.70   33.70   33.70   35.09
  Mg2+   6.83   6.83   6.83   7.83   6.83   5.93   6.83   5.83   6.83   4.07
  Ca2+   28.72   30.52   28.72   28.22   29.22   27.92   28.72   27.72   28.72   27.26
  Sr2+   17.16   17.16   17.16   17.16   17.16   17.36   17.16   18.16   16.16   15.09
  Ba2+   4.70   2.91   4.70   4.70   4.70   5.90   4.70   5.70   4.70   4.52
  Mg2++Ca2++Sr2++Ba2+   57.41   57.42   57.41   57.91   57.91   57.11   57.41   57.41   56.41   50.94
  Li+   1.00   1.00   1.00   1.00   1.00   1.00   1.00   1.00   1.00   6.12
  Na+   1.20   1.20   1.20   1.20   1.20   1.20   1.20   1.20   1.20   0.00
  K+   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00
  Y3+   1.27   1.27   1.27   1.27   1.27   1.27   1.27   1.27   1.27   2.68
  La3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Gd3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Yb3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Y3++La3++Gd3++Yb3+   1.27   1.27   1.27   1.27   1.27   1.27   1.27   1.27   1.27   2.68
  B3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0.00   0
  Zn2+   0   0   0   0   0   0   0   0   1.00   0
  In3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0.00   0
  阳离子总计   100   100   100   100   100   100   100   100   100   100
  阴离子成分(阴离子%)
  F-   91.57   91.59   91.59   91.66   91.66   91.72   91.76   91.76   91.76   91.92
  O2-   8.43   8.24   8.24   8.17   8.17   8.28   8.24   8.24   8.24   7.91
  Cl-   0.00   0.17   0.17   0.17   0.17   0.00   0.00   0.00   0.00   0.17
  阴离子总计   100   100   100   100   100   100   100   100   100   100
  F-/(F-+O2-)   0.9157   0.91746   0.91746   0.918161   0.918161   0.9172   0.9176   0.9176   0.9176   0.920765
  摩尔比O2-/P5+   3.57   3.50   3.50   3.50   3.50   3.50   3.50   3.50   3.50   3.50
  折射率nd   1.43284   1.43062   1.43295   1.43128   1.43256   1.43252   1.43229   1.4345   1.43224   1.43165
  nd(1)   1.43284   1.43062   1.43295   1.43128   1.43256   1.43252   1.43229   1.4345   1.43224   1.43165
  nd(2)   1.4338   1.43193   1.43435   1.43238   1.43355   1.4335   1.43328   1.43553   1.43304   1.43279
  nd(2)-nd(1)   0.00096   0.00131   0.0014   0.0011   0.00099   0.00098   0.00099   0.00103   0.0008   0.00114
  |nd(2)-nd(1)|   0.00096   0.00131   0.0014   0.0011   0.00099   0.00098   0.00099   0.00103   0.0008   0.00114
  阿贝数vd   93.2   95.9   96   96.3   95.9   95.9   96.9   95.9   96.1   95.7
  玻璃化转变温度(℃)   415   417   418   419
  液相温度(℃)   650   650   650   650   650   650   650   650   650   650
  金属粒子的数密度(个/cm3)   1以下   1   1   1   1   1   2   1   1   1
表1-4
  1-31   1-32   1-33   1-34   1-35   1-36   1-37   1-38   1-39   1-40
  阳离子成分(阳离子%)
  P5+   5.17   5.17   5.17   4.67   11.67   11.17   11.17   11.17   11.44   11.17
  Al3+   35.09   36.09   35.09   35.59   31.59   32.08   32.09   32.09   31.82   32.09
  Mg2+   4.07   4.07   4.07   4.07   4.07   4.07   4.07   4.07   4.20   4.07
  Ca2+   25.38   25.38   25.38   23.26   23.26   25.00   23.26   23.26   23.13   23.26
  Sr2+   15.09   15.09   15.09   15.09   15.09   16.09   15.09   15.09   15.09   15.09
  Ba2+   9.52   8.52   8.52   8.52   8.52   5.79   8.52   8.52   8.52   8.52
  Mg2++Ca2++Sr2++Ba2+   54.06   53.06   53.06   50.94   50.94   50.95   50.94   50.94   50.94   50.94
  Li+   3.00   3.00   3.00   6.12   3.12   3.12   3.12   3.12   3.12   3.12
  Na+   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00
  K+   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00
  Y3+   2.68   2.68   3.68   2.68   2.68   2.68   2.68   2.68   2.68   2.68
  La3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Gd3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Yb3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Y3++La3++Gd3++Yb3+   2.68   2.68   3.68   2.68   2.68   2.68   2.68   2.68   2.68   2.68
  B3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Zn2+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  In3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  阳离子总计   100   100   100   100   100   100   100   100   100   100
  阴离子成分(阴离子%)
  F-   92.03   92.06   92.06   92.71   81.67   82.00   82.00   82.00   82.06   82.50
  O2-   7.80   7.77   7.77   7.12   18.15   17.82   17.82   17.82   17.76   17.32
  Cl-   0.17   0.17   0.17   0.17   0.18   0.18   0.18   0.18   0.18   0.18
  阴离子总计   100   100   100   100   100   100   100   100   100   100
  F-/(F-+O2-)   0.921867   0.922168   0.922168   0.928679   0.818173   0.821479   0.821479   0.821479   0.82208   0.826488
  摩尔比O2-/P5+   3.50   3.50   3.50   3.50   3.50   3.59   3.59   3.59   3.50   3.50
  折射率nd   1.43795   1.43644   1.43811   1.43382   1.45886   1.45599   1.45869   1.45936   1.45832   1.45729
  nd(1)   1.43795   1.43644   1.43811   1.43382   1.45886   1.45599   1.45869   1.45936   1.45832   1.45729
  nd(2)   1.43903   1.43769   1.43929   1.43489   1.45989   1.45693   1.45951   1.46016   1.45931   1.45843
  nd(2)-nd(1)   0.00108   0.00125   0.00118   0.00107   0.00103   0.00094   0.00082   0.0008   0.00099   0.00114
  |nd(2)-nd(1)|   0.00108   0.00125   0.00118   0.00107   0.00103   0.00094   0.00082   0.0008   0.00099   0.00114
  阿贝数vd   95.4   95.7   95.7   95.8   90   90.5   90.1   90.6   90.4   90.4
  玻璃化转变温度(℃)   407   410   409   390   424
  液相温度(℃)   650   650   650   670   620   610   620   620   610   620
  金属粒子的数密度(个/cm3)   1   1   1   1   2   1   1以下   1   1   1
表1-5
  1-41   1-42   1-43   1-44   1-45   1-46   1-47   1-48   1-49   1-50
  阳离子成分(阳离子%)
  P5+   11.17   11.17   6.80   6.17   6.00   5.42   5.42   5.42   5.42   5.42
  Al3+   34.09   32.09   35.80   36.09   35.80   33.70   33.69   33.70   33.20   33.20
  Mg2+   4.07   4.07   4.30   3.07   4.30   6.83   6.83   6.83   7.83   6.83
  Ca2+   23.26   23.26   23.70   25.38   24.50   28.72   30.52   28.72   28.22   29.22
  Sr2+   15.09   15.09   18.40   15.09   18.40   17.16   17.16   17.16   17.16   17.16
  Ba2+   8.52   8.52   6.00   8.52   6.00   4.70   2.91   4.70   4.70   4.70
  Mg2++Ca2++Sr2++Ba2+   50.94   50.94   52.4   52.06   53.2   57.41   57.42   57.41   57.91   57.91
  Li+   3.12   3.12   2.30   2.00   2.30   1.00   1.00   1.00   1.00   1.00
  Na+   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   1.20   1.20   1.20   1.20   1.20
  K+   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00
  Y3+   0.68   2.68   2.70   3.68   2.70   1.27   1.27   1.27   1.27   1.27
  La3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Gd3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Yb3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Y3++La3++Gd3++Yb3+   0.68   2.68   2.7   3.68   2.7   1.27   1.27   1.27   1.27   1.27
  B3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Zn2+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  In3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  阳离子总计   100   100   100   100   100   100   100   100   100   100
  阴离子成分(阴离子%)
  F-   82.50   82.50   89.61   90.62   90.82   91.57   91.59   91.59   91.66   91.66
  O2-   17.32   17.32   10.22   9.21   9.01   8.43   8.24   8.24   8.17   8.17
  Cl-   0.18   0.18   0.17   0.17   0.17   0.00   0.17   0.17   0.17   0.17
  阴离子总计   100   100   100   100   100   100   100   100   100   100
  F-/(F-+O2-)   0.826488   0.826488   0.897626   0.907743   0.909747   0.9157   0.91746   0.91746   0.918161   0.918161
  摩尔比O2-/P5+   3.50   3.50   3.50   3.50   3.50   3.57   3.50   3.50   3.50   3.50
  折射率nd   1.45305   1.45762   1.43915   1.43821   1.43696   1.43284   1.43062   1.43295   1.43128   1.43256
  nd(1)   1.45305   1.45762   1.43915   1.43821   1.43696   1.43284   1.43062   1.43295   1.43128   1.43256
  nd(2)   1.4544   1.45877   1.44051   1.43926   1.43828   1.43379   1.43175   1.43419   1.43231   1.43363
  nd(2)-nd(1)   0.00135   0.00115   0.00136   0.00105   0.00132   0.00095   0.00113   0.00124   0.00103   0.00107
  |nd(2)-nd(1)|   0.00135   0.00115   0.00136   0.00105   0.00132   0.00095   0.00113   0.00124   0.00103   0.00107
  阿贝数vd   91.2   90.4   94.9   95.5   95.2   93.2   95.9   96   96.3   95.9
  玻璃化转变温度(℃)   422   410   418
  液相温度(℃)   650   600   650   650   670   650   650   650   650   650
  金属粒子的数密度(个/cm3)   1   3   1   1   1   1以下   1   1   1   2
表1-6
  1-51   1-52   1-53   1-54   1-55   1-56   1-57   1-58   1-59
  阳离子成分(阳离子%)
  P5+   5.42   5.42   5.42   5.42   5.17   5.17   5.17   5.17   4.67
  Al3+   33.70   33.70   33.70   33.70   35.09   35.09   36.09   35.09   35.59
  Mg2+   5.83   6.83   5.83   6.83   4.07   4.07   4.07   4.07   4.07
  Ca2+   27.72   28.72   27.72   28.72   27.26   25.38   25.38   25.38   23.26
  Sr2+   17.16   17.16   18.16   16.16   15.09   15.09   15.09   15.09   15.09
  Ba2+   5.70   4.70   5.70   4.70   4.52   9.52   8.52   8.52   8.52
  Mg2++Ca2++Sr2++Ba2+   56.41   57.41   57.41   56.41   50.94   54.06   53.06   53.06   50.94
  Li+   1.00   1.00   1.00   1.00   6.12   3.00   3.00   3.00   6.12
  Na+   1.20   1.20   1.20   1.20   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00
  K+   1.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00   0.00
  Y3+   1.27   1.27   1.27   1.27   2.68   2.68   2.68   3.68   2.68
  La3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Gd3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Yb3+   0   0   0   0   0   0   0   0   0
  Y3++La3++Gd3++Yb3+   1.27   1.27   1.27   1.27   2.68   2.68   2.68   3.68   2.68
  B3+   0   0   0   0.00   0   0   0   0   0
  Zn2+   0   0   0   1.00   0   0   0   0   0
  In3+   0   0   0   0.00   0   0   0   0   0
  阳离子总计   100   100   100   100   100   100   100   100   100
  阴离子成分(阴离子%)
  F-   91.72   91.76   91.76   91.76   91.92   92.03   92.06   92.06   92.71
  O2-   8.28   8.24   8.24   8.24   7.91   7.80   7.77   7.77   7.12
  Cl-   0.00   0.00   0.00   0.00   0.17   0.17   0.17   0.17   0.17
  阴离子总计   100   100   100   100   100   100   100   100   100
  F-/(F-+O2-)   0.9172   0.9176   0.9176   0.9176   0.920765   0.921867   0.922168   0.922168   0.928679
  摩尔比O2-/P5+   3.50   3.50   3.50   3.50   3.50   3.50   3.50   3.50   3.50
  折射率nd   1.43252   1.43229   1.4345   1.43224   1.43165   1.43795   1.43644   1.43811   1.43382
  nd(1)   1.43252   1.43229   1.4345   1.43224   1.43165   1.43795   1.43644   1.43811   1.43382
  nd(2)   1.43362   1.43361   1.43574   1.43357   1.43275   1.43908   1.43774   1.43928   1.43502
  nd(2)-nd(1)   0.0011   0.00132   0.00124   0.00133   0.0011   0.00113   0.0013   0.00117   0.0012
  |nd(2)-nd(1)|   0.0011   0.00132   0.00124   0.00133   0.0011   0.00113   0.0013   0.00117   0.0012
  阿贝数vd   95.9   96.9   95.9   96.1   95.7   95.4   95.7   95.7   95.8
  玻璃化转变温度(℃)   417   418   419   407   410   409   390
  液相温度(℃)   650   650   650   650   650   650   650   650   670
  金属粒子的数密度(个/cm3)   1   1   1以下   1   1   1   1以下   1   1
(实施例2)
为了制作具有表2-1~表2-5中示出的各组成的氟磷酸玻璃No.2-1~2-17、比较氟磷酸玻璃No.2-1、2-2,称量与各玻璃成分对应的二磷酸盐等磷酸盐、氟化物等原料,充分地混合。各混合原料中的O2-的总含量相对于P5+的总含量的比(O2-/P5+)、碱土金属成分的总含量和稀土成分的总含量,与各玻璃的组成、特性一并记于表2-1~表2-5中。将上述混合原料投入铂坩埚中,在900℃的电炉内,边搅拌边用1~3小时对原料进行加热熔化,经澄清、匀质化而得到氟磷酸玻璃No.2-1~2-17。
在制作氟磷酸玻璃No.2-1~2-17的各氟磷酸玻璃时,如表2-1~表2-5所示,使O2-的总含量相对于P5+的总含量的比(O2-/P5+)为3.5以上,挥发性和侵蚀性被抑制,使其他成分的含量平衡,而得到具有所需特性的光学玻璃。此外,在上述制造例中使用了二磷酸盐等磷酸盐、氟化物之类的未玻璃化原料,但也可以使用碎玻璃,或者并用未玻璃化原料和碎玻璃。
需要说明的是,玻璃原料中所含的氧原子的量是导入到玻璃中的氧的量。在使用碳酸盐、硝酸盐、氢氧化物时,考虑到是由这些化合物中所含的成为玻璃成分的阳离子和氧构成的氧化物,因此作为上述氧化物,可以认为上述化合物中所含的氧的量为被导入到玻璃中的氧的量。
对氟磷酸玻璃No.2-1~2-17和比较氟磷酸玻璃No.2-1~2-2的各玻璃而言,测定了核磁共振波谱中的在31P的基准频率附近产生的共振峰的强度I(0)和一次边带峰的强度I(1)、折射率nd、阿贝数vd以及玻璃中所含的粒径10μm以上的金属粒子的数密度。并且,从上述19种玻璃中,对一部分玻璃测定了玻璃化转变温度Tg。这些测定结果示于表2-1~表2-5中。
另外,上述强度I(0)、强度I(1)、折射率nd、阿贝数vd、金属粒子的数密度和玻璃化转变温度,分别利用下面的方法来测定。
(1)强度I(0)和强度I(1)
使用Varian公司制VXR-300S,在观测频率121.4MHz、基准试样85%H3PO4、磁场强度H0=7.0T、试样转速9.0kHz的条件下,测定波谱,将在0ppm附近的主峰I(0)和在70ppm附近出现的旋转边带峰强度I(1)除去基线而算出,从而算出强度比(I(1)/I(0))。
需要说明的是,图4是氟磷酸玻璃No.2-1的31P核磁共振波谱,图5是比较氟磷酸玻璃No.2-1的31P核磁共振波谱。
在图4、图5中,横轴是化学位移(单位是ppm),纵轴是信号强度(任意单位)。中央最高的峰是31P的共振峰(主峰),以*表示的峰是旋转边带。接近主峰的旋转边带是一次峰。一次旋转边带有两个,但是这些峰的高度相等,因此在求强度I(1)时,可以使用任何一个峰。
(2)折射率nd和阿贝数vd
对以缓慢冷却降温速度为-30℃/小时而得到的光学玻璃进行测定。
(3)金属粒子的数密度
用光学显微镜放大100倍进行观察,对金属粒子的数量进行计数,根据观察区域的体积来计算金属粒子的数密度。
(4)玻璃化转变温度Tg
利用理学电机株式会社的热机械分析装置(Thermo Plus TMA8310),使升温速度为4℃/分钟来测定。
此外,对于各氟磷酸玻璃,将原料熔化1小时后得到的200g玻璃试样的折射率nd设为nd(1h)、阿贝数vd设为vd(1h),将原料熔化3小时后得到的200g玻璃试样的折射率nd设为nd(3h)、阿贝数vd设为vd(3h)。测定nd(1h)、nd(3h),并且对一部分玻璃测定vd(1h)、vd(3h),并测定液相温度LT。结果示于表2-1~表2-5中。
氟磷酸玻璃No.2-1~2-17的各玻璃的挥发极少,玻璃中所含的粒径10μm以上的金属粒子的数量也极少。另一方面,对于比较氟磷酸玻璃No.2-1、2-2,由于挥发而见到波筋,粒径10μm以上的金属粒子的数量也很多。另外,玻璃中所含的金属粒子均是铂粒子。
如表2-1~表2-5所示,关于氟磷酸玻璃No.2-1~2-17,nd(3h)-nd(1h)的绝对值是0.00200以下,因原料的熔化时间差别所致的折射率变化小,与此相对,关于比较氟磷酸玻璃No.2-1~2-2,nd(3h)-nd(1h)大到0.00400以上。
此外,对于阿贝数,在氟磷酸玻璃No.2-1~2-5中,vd(3h)-vd(1h)的绝对值是0.4以内,与此相对,在比较氟磷酸玻璃No.2-1~2-2中,为0.5以上,因原料的熔化时间差别所致的阿贝数变化也大。
关于上述氟磷酸玻璃,由于原料的熔化时间的差异所致的阿贝数的差小,因此可以将vd(3h)和vd(1h)中的任一个作为阿贝数,但在必须严格要求阿贝数时,以vd(1h)作为氟磷酸玻璃的阿贝数。
需要说明的是,也可以向上述氟磷酸玻璃No.2-1~2-17中,以相对于包括Cu2+在内的总成分的比例计添加0.5~13阳离子%的Cu2+,而制成近红外线吸收玻璃。
就氟磷酸玻璃No.2-1~2-17和向这些氟磷酸玻璃中以相对于包括Cu2+在内的总成分的比例计添加0.5~13阳离子%的Cu2+而制成的近红外线吸收玻璃而言,均未见到波筋,在光学上极为匀质。
表2-1
表2-2
表2-3
表2-4
表2-5
(实施例3)
为了制作具有表3中示出的组成的氟磷酸玻璃No.3-1~3-4、比较氟磷酸玻璃No.3-1,称量与各玻璃成分对应的二磷酸盐等磷酸盐、氟化物等原料,充分地混合。一并记载各混合原料中的O2-的总含量相对于P5 +的总含量的比(O2-/P5+)、稀土元素的含有比例(阳离子%)。将上述混合原料投入到铂坩埚中,在900℃的电炉内,边搅拌边用1~3小时对原料进行加热熔化,经澄清、匀质化而得到氟磷酸玻璃No.3-1~3-4。
在制作氟磷酸玻璃No.3-1~3-4的各氟磷酸玻璃时,如表3所示,为使挥发性得到抑制,将O2-的总含量相对于P5+的总含量的比(O2-/P5 +)控制在3.5以上,使其他成分的含量平衡,且挥发性被大幅降低,从而得到具有所需特性的光学玻璃。此外,在上述制造例中使用了二磷酸盐等磷酸盐、氟化物之类的未玻璃化原料,但也可以使用碎玻璃,或者并用未玻璃化原料和碎玻璃。
对各氟磷酸玻璃测定核磁共振波谱、折射率nd、阿贝数vd、金属粒子的数密度、将原料熔化1小时后得到的200g试样的折射率nd(1h)及阿贝数vd(1h)、将原料熔化3小时后得到的200g试样的折射率nd(3h)及阿贝数vd(3h),并且对一部分玻璃测定玻璃化转变温度。结果示于表3。
需要说明的是,各氟磷酸玻璃的因31P引起的共振波谱的形状、折射率nd、阿贝数vd、玻璃中所含的金属粒子的数密度和玻璃化转变温度Tg,分别利用下面的方法来测定。
(1)共振波谱的形状
使用Varian公司制VXR-300S,在观测频率121.4MHz、基准试样85%H3PO4、磁场强度H0=7.0T、试样转速9.0kHz的条件下,测定波谱,用高斯函数近似从0ppm附近的主峰的基线起的形状,将能够以一个高斯函数近似的情况作为高斯函数形,将以两个以上的高斯函数来近似的情况作为非高斯函数形。
(2)折射率nd和阿贝数vd
对以缓慢冷却降温速度为-30℃/小时而得到的光学玻璃进行测定。
(3)金属粒子的数密度
用光学显微镜放大100倍进行观察,对粒径10μm以上的金属粒子的数量进行计数,根据观察区域的体积来计算金属粒子的数密度。
(4)玻璃化转变温度Tg
利用理学电机株式会社的热机械分析装置(Thermo Plus TMA8310),使升温速度为4℃/分钟来测定。
氟磷酸玻璃No.3-1~3-4的各玻璃的挥发极少,玻璃中所含的粒径10μm以上的金属粒子的数量也极少。另一方面,对于比较氟磷酸玻璃No.3-1,由于挥发而见到波筋,粒径10μm以上的金属粒子的数量也很多。另外,上述金属粒子是铂粒子。
由表3可知,关于氟磷酸玻璃No.3-1~3-4,nd(3h)-nd(1h)的绝对值是0.00300以下,因原料的熔化时间差别所致的折射率变化小,与此相对,关于比较氟磷酸玻璃,nd(3h)-nd(1h)大到0.00400以上。
此外,对于阿贝数,在氟磷酸玻璃No.3-2~3-4中,vd(3h)-vd(1h)的绝对值是0.4以内,与此相对,在比较氟磷酸玻璃中,为0.5以上,因原料的熔化时间差别所致的阿贝数变化也大。
关于本实施例的氟磷酸玻璃,由于原料的熔化时间的差异所致的阿贝数之差小,因此可以将vd(3h)和vd(1h)中的任一个作为阿贝数,但当必须严格要求阿贝数时,以vd(1h)作为本发明的光学玻璃的阿贝数。
需要说明的是,也可以向上述各氟磷酸玻璃No.3-1~3-4中,以相对于包括Cu2+在内的总成分的比例计添加0.5~13阳离子%的Cu2+,而制成近红外线吸收玻璃。
就氟磷酸玻璃No.3-1~3-4和向这些氟磷酸玻璃中以相对于包括Cu2+在内的总成分的比例计添加0.5~13阳离子%的Cu2+而制成的近红外线吸收玻璃而言,均未见到波筋,在光学上极为匀质。
表3
(实施例4)
使用图2所示的加压装置,对由在实施例1~3中得到的氟磷酸玻璃No.1-1~1-59、氟磷酸玻璃No.2-1~2-17、氟磷酸玻璃No.3-1~3-4的各玻璃形成的预成型件组,进行精密加压成型,从而批量生产非球面透镜。预成型件组由20000个预成型件构成。
即,从预成型件组中取出预成型件4,在由上模1、下模2和体模3构成的加压成型模具的下模2和上模1之间,设置该预成型件4,然后使石英管11内为氮气气氛,对加热器12通电而加热石英管11。将加压成型模具内部的温度设为成型的玻璃显示出108~1010dPa·s的粘度的温度,边维持该温度,边使推杆13下降,按压上模1,对位于成型模具内的预成型件加压。加压的压力为8MPa、加压时间为30秒。在加压后,解除加压的压力,在使加压成型的玻璃成型品与下模2及上模1接触的状态下,缓慢冷却至上述玻璃的粘度为1012dPa·s以上的温度,接着冷却到室温,将玻璃成型品从成型模具中取出,得到非球面透镜。
反复这样的工序,将构成预成型件组的所有预成型件精密加压成型为同样规格的非球面透镜。需要说明的是,关于上述精密加压成型的各条件,在非球面透镜的批量生产开始时进行最佳化,然后维持恒定。
在上述非球面透镜的批量生产中,不论是未进行精密退火而得到的非球面透镜(称为无精密退火非球面透镜),还是以-30℃/小时之类的恒定条件进行精密退火的非球面透镜(称为已完成精密退火非球面透镜),都具有极高的面精度,而且没有折射率的波动。
接着,利用蒸镀法在批量生产的非球面透镜的光学功能面上涂敷防反射膜。将防反射膜的结构、蒸镀条件设为恒定,在所有的无精密退火非球面透镜和已完成精密退火非球面透镜上涂敷防反射膜。然后,向已完成涂敷的非球面透镜的光学功能面上入射白色光,测定光学功能面的反射率,其结果,在所有的已完成涂敷的非球面透镜,反射率几乎为零。
另外,在上述精密加压成型中,通过适当变更加压成型模具的成型面的形状,可以批量生产出正弯月透镜、负弯月透镜、双凹透镜、双凸透镜、平凸透镜、平凹透镜等各种非球面透镜。
这样一来,能够以良好的生产率且高精度地得到由不含异物且没有波筋的在光学上匀质的玻璃形成的光学元件。
在图2中,参考数字9是支承棒,参考数字10是下模-体模托架,参考数字14是热电偶。
(实施例5)
接着,一边使预成型件上浮,一边对预成型件进行预热使温度为使构成预成型件的玻璃的粘度为108dPa·s的温度,另一方面,对具备上模、下模、体模的加压成型模具进行加热,使温度为构成所述预成型件的玻璃显示出109~1012dPa·s的粘度的温度,将上述已预热的预成型件导入到加压成型模具的腔体内,以10MPa进行精密加压成型,在加压开始的同时开始玻璃和加压成型模具的冷却,冷却到已成型的玻璃的粘度为1012dPa·s以上,然后将成型品脱模而得到非球面透镜,除了这点之外,与实施例2同样地操作,批量生产已完成涂布的非球面透镜。所得的各非球面透镜,没有折射率的波动,具有极高的面精度。
无精密退火非球面透镜、已完成精密退火的非球面透镜没有折射率的波动,在相同条件下涂敷有防反射膜的已完成涂敷的非球面透镜的光线反射率几乎为零等,这些与实施例2中得到的结果相同。
另外,通过适当变更加压成型模具的成型面的形状,可以制成正弯月透镜、负弯月透镜、双凹透镜、双凸透镜、平凸透镜、平凹透镜等各种非球面透镜,这点也与实施例2一样。
这样一来,能够以良好的生产率且高精度地得到由不含异物且没有波筋的在光学上匀质的玻璃形成的光学元件。

Claims (17)

1.一种预成型件组,由多个精密加压成型用预成型件构成,所述精密加压成型用预成型件由含有磷、氧和氟作为玻璃成分的氟磷酸玻璃形成,其中,所述玻璃以阳离子%表示,含有:
其中,Mg2+、Ca2+、Sr2+和Ba2+的总含量为10%以上,还含有:
并且,以阴离子%表示,还含有:
F-   20~95%、
O2-  5~80%,
并且,所述氟磷酸玻璃是O2-含量相对于P5+含量的摩尔比O2-/P5+为3.50以上的氟磷酸玻璃,并且不添加Cu的离子。
2.根据权利要求1所述的预成型件组,其中,所述氟磷酸玻璃在将磷成分换算成P5+时含有超过3阳离子%且在30阳离子%以下的磷,核磁共振波谱中的在31P的基准频率附近产生的共振峰的一次边带峰的强度I(1)与所述共振峰的强度I(0)之比I(1)/I(0)为0.08以下。
3.根据权利要求1所述的预成型件组,其中,所述氟磷酸玻璃在将磷成分换算成P5+时含有30~50阳离子%的磷,核磁共振波谱中的在31P的基准频率附近产生的共振波谱的形状是高斯函数形状。
4.一种预成型件组,由多个精密加压成型用预成型件构成,所述精密加压成型用预成型件由含有磷、氧和氟作为玻璃成分的氟磷酸玻璃形成,其中,所述玻璃以阳离子%表示,含有:
并且,所述氟磷酸玻璃是O2-含量相对于P5+含量的摩尔比O2-/P5+为3.50以上的氟磷酸玻璃,并且不添加Cu的离子。
5.根据权利要求4所述的预成型件组,其中,所述玻璃以阳离子%表示,含有:
6.根据权利要求1~5中任一项所述的预成型件组,其中,在将该玻璃的折射率nd的值设为nd(1),将该玻璃在氮气气氛中以900℃再熔融1小时,冷却到玻璃化转变温度,然后以每小时30℃的降温速度冷却到25℃后的折射率nd的值设为nd(2)时,nd(1)与nd(2)之差nd(2)-nd(1)的绝对值为0.00300以内。
7.根据权利要求1~5中任一项所述的预成型件组,其中,所述玻璃的阿贝数vd超过70。
8.根据权利要求7所述的预成型件组,其中,所述玻璃的阿贝数vd超过78。
9.根据权利要求1~5中任一项所述的预成型件组,其中,所述玻璃,作为阳离子成分而含有的稀土元素的总含量小于5阳离子%,作为阴离子成分而含有的F-的含量相对于F-和O2-的总含量的摩尔比F-/(F-+O2-)为0.2以上,折射率nd超过1.53。
10.根据权利要求1~5中任一项所述的预成型件组,其中,所述玻璃的F-含量为65阴离子%以上。
11.根据权利要求1~5中任一项所述的预成型件组,其中,所述玻璃的内部所含的粒径10μm以上异物的数密度小于5个/cm3
12.一种预成型件组的制造方法,经过将玻璃原料导入到熔融容器中进行熔融、澄清、匀质化后而将所得的熔融玻璃流出、成型的工序,批量生产精密加压成型用预成型件,制造作为所述预成型件的集合物的预成型件组的方法,其特征在于,
制作权利要求1~11中任一项所述的预成型件组。
13.根据权利要求12所述的预成型件组的制造方法,其中,使用至少含有氟、氧和磷的玻璃原料,按照所述玻璃原料中氧的含量相对于磷的含量的摩尔比O/P为3.5以上的方式,调合所述玻璃原料,导入到熔融容器中进行熔融。
14.根据权利要求12或13所述的预成型件组的制造方法,其中,将熔融玻璃连续地流出并浇铸到铸型中而成型,将成型的玻璃成型体从所述铸型中取出,对该玻璃成型体进行分割、加工,从而批量生产预成型件。
15.根据权利要求12或13所述的预成型件组的制造方法,其中,反复进行如下工序来批量生产预成型件,所述工序是将熔融玻璃连续地流出并从所述熔融玻璃中分离熔融玻璃块,将所述熔融玻璃块成型而制作预成型件的工序。
16.一种光学元件的制造方法,其中,反复进行如下工序来批量生产光学元件,所述工序是对构成权利要求1~11中任一项所述的预成型件组的预成型件进行加热并利用加压成型模具进行精密加压成型来制作光学元件的工序。
17.一种光学元件的制造方法,其中,反复进行如下工序来批量生产光学元件,所述工序是利用权利要求12~15中任一项所述的方法制作预成型件组,对构成所述预成型件组的预成型件进行加热,利用加压成型模具进行精密加压成型来制作光学元件的工序。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109796126A (zh) * 2019-04-03 2019-05-24 湖北戈碧迦光电科技股份有限公司 一种玻璃成型设备

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010189269A (ja) * 2010-04-02 2010-09-02 Hoya Corp 光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームおよび光学素子
JP5660846B2 (ja) * 2010-10-14 2015-01-28 Hoya株式会社 フツリン酸塩ガラス、プレス成型用ガラス素材、光学素子それぞれの製造方法。
CN102557437B (zh) * 2010-12-20 2016-08-17 株式会社小原 光学玻璃、光学元件和预成型坯
CN106145668B (zh) 2016-06-24 2019-01-04 成都光明光电股份有限公司 光学玻璃、光学预制件和光学元件

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1663923A (zh) * 2004-03-02 2005-09-07 Hoya株式会社 光学玻璃、精密模压坯材及其制造方法、光学元件及其制造方法
CN1854100A (zh) * 2005-03-30 2006-11-01 Hoya株式会社 光学玻璃、模压预制体、其制造方法、光学元件及其制造方法
CN1903765A (zh) * 2005-07-28 2007-01-31 Hoya株式会社 光学玻璃、光学元件及其制造方法
CN1931761A (zh) * 2005-09-14 2007-03-21 Hoya株式会社 光学玻璃,精密压模成型预制体和光学元件
CN1939856A (zh) * 2005-09-29 2007-04-04 Hoya株式会社 透镜,近红外线吸收玻璃批及其制造方法
CN1958487A (zh) * 2005-09-30 2007-05-09 Hoya株式会社 玻璃制预成形件组、玻璃制预成形件的制造方法、光学元件的生产方法
CN101152970A (zh) * 2006-09-29 2008-04-02 Hoya株式会社 光学玻璃的制造方法、精密模压成形用预成形件的制造方法以及光学元件的制造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02124740A (ja) * 1988-10-06 1990-05-14 Sumita Kogaku Glass Seizosho:Kk フツリン酸塩光学ガラス
JP3154575B2 (ja) * 1992-11-20 2001-04-09 株式会社オハラ 弗燐酸塩光学ガラス
JP4179641B2 (ja) * 1994-10-31 2008-11-12 株式会社住田光学ガラス Tb又はEuを含有するフツ燐酸塩蛍光ガラス
JPH1160267A (ja) * 1997-08-14 1999-03-02 Ohara Inc 弗燐酸塩光学ガラス
JP2000290025A (ja) * 1999-04-01 2000-10-17 Sumita Optical Glass Inc 希土類元素を含有したリン酸塩系光学材料及びゾル−ゲル法によるその製造方法
JP2001278636A (ja) * 2000-03-29 2001-10-10 Koa Glass Kk 紫外線蛍光ガラス、紫外線蛍光ガラス製品、および紫外線蛍光ガラスの製造方法
JP3890418B2 (ja) * 2003-11-07 2007-03-07 独立行政法人産業技術総合研究所 発光器具
DE102004038727A1 (de) * 2004-08-10 2006-02-23 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Hybridlinsen
JP4570576B2 (ja) * 2005-03-30 2010-10-27 Hoya株式会社 光学ガラス、プレス成形用プリフォームとその製造方法、および光学素子とその製造方法
JP4652941B2 (ja) * 2005-09-30 2011-03-16 Hoya株式会社 レンズおよびその製造方法
JP2007161944A (ja) * 2005-12-16 2007-06-28 Nippon Electric Glass Co Ltd 蛍光体

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1663923A (zh) * 2004-03-02 2005-09-07 Hoya株式会社 光学玻璃、精密模压坯材及其制造方法、光学元件及其制造方法
CN1854100A (zh) * 2005-03-30 2006-11-01 Hoya株式会社 光学玻璃、模压预制体、其制造方法、光学元件及其制造方法
CN1903765A (zh) * 2005-07-28 2007-01-31 Hoya株式会社 光学玻璃、光学元件及其制造方法
CN1931761A (zh) * 2005-09-14 2007-03-21 Hoya株式会社 光学玻璃,精密压模成型预制体和光学元件
CN1939856A (zh) * 2005-09-29 2007-04-04 Hoya株式会社 透镜,近红外线吸收玻璃批及其制造方法
CN1958487A (zh) * 2005-09-30 2007-05-09 Hoya株式会社 玻璃制预成形件组、玻璃制预成形件的制造方法、光学元件的生产方法
CN101152970A (zh) * 2006-09-29 2008-04-02 Hoya株式会社 光学玻璃的制造方法、精密模压成形用预成形件的制造方法以及光学元件的制造方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP特开2001-264501A 2001.09.26
JP特开平11-71129A 1999.03.16

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109796126A (zh) * 2019-04-03 2019-05-24 湖北戈碧迦光电科技股份有限公司 一种玻璃成型设备
CN109796126B (zh) * 2019-04-03 2021-09-14 湖北戈碧迦光电科技股份有限公司 一种玻璃成型设备

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