CN101546133A - 曝光装置及曝光方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及曝光装置和曝光方法。该曝光装置(100)是将具有规定宽度的胶卷形状的被曝光体(T)送至曝光台(50)上，并将掩膜(M)的电路图案曝光在被曝光体上的曝光装置。该曝光装置(100)具有：按压被曝光体的压板(42)；用于观察形成在被曝光体上的第1校准识别标记(AM)和形成在电路图案掩膜上的第2校准识别标记(MM)的图像识别部(54)；使压板和图像识别部同时向被曝光体的规定宽度方向移动的第1移动部(43)。

Description

曝光装置及曝光方法

技术领域

本发明涉及从供给侧向曝光部传送胶卷形状的带子，并将在该曝光部进行曝光的带子传送至卷绕侧的曝光装置及曝光方法。

背景技术

通常，由于移动电话、移动办公机器等的各种小型机器的机体轻薄短小，因此用于小型机器的电路基板(印制电路板)的电路基材使用薄而高精度的胶卷形状带子(以下，称为“带子”)。

这种带子的材料，逐渐倾向于厚度为0.1mm左右至0.06mm的薄型化。再有，最近使用厚度在0.05mm以下、宽度为100～250mm、长度为700m的薄而宽的带状且非常长的带子。由于是长带子因此通常卷绕成卷筒状而使用。

在这种卷筒状的带子上制造电路基板时，会出现如下情况：卷筒状的带子被逐片送向曝光部的途中变得松弛，或者在带状工件W的孔眼附近的带子上产生褶皱。由于带子上出现褶皱，因此即使在这种状态下真空吸附带子，带子也不能吸附在台座表面上。作为消除该问题点的曝光装置存在专利文献1中公开的技术。

在专利文献1中公开的薄膜曝光装置为了可靠地进行真空吸附，设置有带子按压机构，该带子按压机构从带子宽度方向的两侧按压带子的边缘部分。

但是，在专利文献1中公开的薄膜曝光装置中，若带子宽度发生变化，则存在需要更换压板的问题。另外还存在需要在投影光学系和真空台之间的狭小的作业区域上配置带子按压机构的问题点。

专利文献1：日本特开2005-274670号公报

发明内容

因此，本发明是鉴于上述问题点的发明，其目的在于，即使在带子宽度发生变化的情况也不需要更换压板的作业。本发明的另一个目的是，能够通过在校准识别标记的近旁按压带子来防止带子的翘曲或松弛，且能够观察带子的校准识别标记。

第1观点的曝光装置是将具有规定宽度的胶卷形状的被曝光体送至曝光台上，并将掩膜的电路图案曝光在被曝光体上的曝光装置。该曝光装置具有：按压被曝光体的压板；用于观察形成在被曝光体上的第1校准识别标记(例如：校准识别标记AM)和形成在电路图案掩膜上的第2校准识别标记(例如：掩膜识别标记MM)的图像识别部；使压板和图像识别部同时向被曝光体的规定宽度方向移动的第1移动部。

根据这种构成，由于第1移动部可以同时移动压板和图像识别部，因此可以缩短吸附被曝光体整面之后进行校准所需的时间。另外，由于无需设置个别的移动部，因此可以降低制造成本。

第2观点的曝光装置的压板，按压被曝光体按压至规定宽度方向上的比第1校准识别标记更靠内侧的位置，并且压板具有观察第1校准识别标记和第2校准识别标记的观察窗。

由于使用可以覆盖第1校准识别标记和第2校准识别标记的长度的压板，因此能够可靠地按压被曝光体的端部。再有，图像识别部可以从观察窗观察第1及第2校准识别标记。

第3观点的曝光装置的压板仅按压规定宽度方向上的比第1校准识别标记更靠外侧的位置。

尤其，若被曝光体的规定宽度大致不变，则缩短压板也能够可靠地按压被曝光体的端部。

第4观点的曝光装置的第1移动部具有第2移动部，该第2移动部使压板沿着与被曝光体交叉的方向移动，以使压板接触到被曝光体。

第5观点的曝光装置的第1移动部使压板和图像识别部以被曝光体的传送方向为轴进行旋转。

第6观点的曝光装置至少设置2个以上图像识别部。由此，可以校准掩膜和被曝光体。

本发明所涉及的曝光装置即使在带子的宽度发生变化时也可以迅速且灵活地进行对应，另外同时能够高精度地对准校准识别标记，因此可以进行提高了掩膜图案重合的曝光。

附图说明

图1是表示本发明的实施方式所涉及的曝光装置100的概略图。

图2是表示本发明的实施方式所涉及的带子传送系60的概略立体图。

图3是表示本发明的实施方式所涉及的校准绘图装置30及校准照相机40的概略立体图。

图4是从第1传送滚子64侧观察了校准照相机40a和校准照相机40b的平面图。

图5A是压板42的侧视图。

图5B是压板42的平面图。

图6A是第1变形例的压板42-1的平面图。

图6B是第2变形例的压板42-2的平面图。

图6C是第3变形例的压板42-3的平面图。

图7是校准照相机40的动作流程图。

图8是表示实施方式2所涉及的校准照相机40的变形例的图。

符号说明：

10—水银灯，12—椭圆反射镜，14—反射镜，16—复眼透镜，18—聚光透镜，20—投影光学系，30—校准绘图装置，31—端面检测器，33—校准识别标记用光掩膜，35—紫外线光源，40—校准照相机，41—摄影照相部，42—压板，42R—弯曲部，42W—观察窗，43—校准照相机可动部，43L—导轨，43M—电动机，43ar、45ar—箭头，44—压板可动部，45—压板支撑部，45M—电动机，50—曝光台，51—照像机镜头，52—照明部，53—半透明反射镜，54—摄影部，55—吸附孔，56—排出口，60—带运送系，61—供给卷筒旋转部，62—供给侧第1引导滚子，63—供给侧第2引导滚子，63M—第2引导滚子电动机，64—第1传送滚子，64a—吸附孔，64M—传送滚子电动机，66—第2传送滚子，66a—吸附孔，67—卷绕侧第1引导滚子，68—卷绕侧第2引导滚子，69—卷绕套筒旋转部，70—校准照相机旋转部，71—中心轴，72—摄影照相机支撑部，72a—外筒，72b—内筒，72M—电动机，80—供给套筒，81—凸缘部，90—卷绕套筒，100—投影曝光装置，D1—供给侧松弛吸收部，D2—卷绕侧松弛吸收部，M—光掩膜，AM—校准识别标记，BM—铬识别标记，MM—掩膜识别标记，T—胶卷形状的带子，HR—水平面，AM1—校准识别标记AM的反射光，MM1—掩膜识别标记MM的入射光。

具体实施方式

(实施方式1)

<曝光装置的构成>

以投影曝光装置的情况为例子，对本发明的实施形态进行说明。

图1是表示本发明的实施方式所涉及的投影曝光装置100的概略图。在此，本发明所涉及的投影曝光装置100传送薄膜状带子(以下称为带子)T，并将绘制在光掩膜M上的电路图案曝光在其带子T上。

带子T是由用作电路基板的挠性基板或薄膜状带子的材料构成。这种带子T是由例如厚度在0.05mm以下、宽度为100～250mm、长度为700m的薄而宽的部件构成，并卷绕在供给卷筒旋转部61上。存在如下形状的带子T：在该带子T的左右两侧边缘部上形成有孔眼(未图示)的带子T，或者不具有孔眼的带子T。在此，在带子T的表面上预先涂布适用于水银灯10的光致抗蚀剂。

投影曝光装置100间歇性地向沿铅直方向设置的曝光台50逐片传送带子T。然后投影曝光装置100利用发自水银灯10的光，通过光掩膜M的电路图案一片一片地对逐片传送的带子T进行曝光。

投影曝光装置100具有水银灯10、反射镜14、复眼透镜16、聚光透镜18、光掩膜M以及投影光学系20。水银灯10照射包含365nm波长的紫外线的光。除了水银灯10以外还可以使用紫外线激光或紫外线LED。椭圆反射镜12配置在覆盖该水银灯10的后面的位置。反射镜14将从水银灯10照射出的光向光掩膜M进行反射。

复眼透镜16是将多个正透镜元件以其中心轴线沿光轴延伸的方式纵横且细致地进行排列。复眼透镜16起到均匀地调整来自反射镜14的光照分布的作用。

通过了聚光透镜18的光束重叠照射形成有电路图案的光掩膜M。透射了由曝光光进行照明的掩膜M的光束朝向投影光学系20。在光掩膜M的电路图案的周围形成有掩膜识别标记MM，用于对准带子T和光掩膜M。

光掩膜M保持在未图示的掩膜台上，可以沿相对于投影光学系20的光轴正交的方向移动。投影光学系20可以使用仅以透镜系构成的折射型、以反射镜的组合构成的反射型、组合透镜和反射镜的反射折射型等。投影光学系20还可以使用放大光学系、等倍光学系或缩小光学系的任何一种。

在投影光学系20的焦点位置上配置有曝光台50。曝光台50以真空吸附的方式吸附并保持带子T、可以利用未图示的曝光台驱动机构沿Z轴方向移动。曝光台50利用未图示的焦点检测装置检测出带子T的焦点位置而沿X轴方向移动。这样，从投影光学系20射出的光束在带子T上成像。即，光掩膜M的电路图案在带子T上成像，电路图案由涂布在带子T上的光致抗蚀剂而复制在带子T上。

投影曝光装置100具有配置在图1左侧的带子传送系60，以便将带子T送至曝光台50上。

另外，投影曝光装置100具有：在带子T的规定部位上绘制校准识别标记的校准绘图装置30；以及配置在投影光学系20和曝光台50之间的校准照相机40。

<带子传送系的构成>

图2是表示本发明的实施方式所涉及的带子传送系60的概略立体图。

该带子传送系60具有：安装在卷绕有带子T的供给卷筒80的中央卷筒孔上而使供给卷筒80旋转的供给卷筒旋转部61；引导被传送的带子T的供给侧第1引导滚子62；以及供给侧第2引导滚子63。

另外，投影曝光装置100具有：配置在曝光台50的上下位置上用于传送带子T的第1传送滚子64及第2传送滚子66；卷绕侧第1引导滚子67及卷绕侧第2引导滚子68；以及使卷绕带子T的卷绕卷筒90旋转的卷绕卷筒旋转部69。投影曝光装置100还具有吸收带子T在传送中产生的松弛的供给侧松弛吸收部D1及卷绕侧松弛吸收部D2。

供给卷筒旋转部61是用于轴支撑卷绕了作为电路基板材料的带子T的线轴状的供给卷筒80而送出带子T的部件，并且由安装供给卷筒80的卷筒孔的金属轴构成。该金属轴利用未图示的驱动电动机进行旋转。

在此，供给卷筒80例如由卷绕部分的直径为750mm的部件构成，并在左右边缘上具有凸缘部81。卷绕在该供给卷筒80上的带子T被第1传送滚子64拉紧，由此与供给卷筒旋转部61一同旋转并传送至供给侧第1引导滚子62上。

供给侧第1引导滚子62是卷挂带子T的辅助滚子，使卷绕在供给卷筒80上的带子T向供给侧松弛吸收部D1送出，且以轴部作为中心而旋转自如地进行配设。供给侧松弛吸收部D1是例如通过带子T因自身的重量而松弛成U字型来向带子T施加张力的装置，使得从供给卷筒旋转部61传送来的带子T在供给卷筒旋转部61和供给侧第1引导滚子62之间，以及在供给侧第2引导滚子63和第1传送滚子64之间传送时不产生过度的负荷或松弛。

供给侧第2引导滚子63从供给侧松弛吸收部D1向第1传送滚子64传送带子T，并且具有能够向宽度方向(箭头ar)移动带子T的带子位置调整机构。该供给侧第2引导滚子63具有第2引导滚子电动机63M及未图示的轴承等。

第2引导滚子电动机63M能够使供给侧第2引导滚子63一边旋转一边向箭头ar的轴方向(带子T的宽度方向)移动，从而调整带子T的宽度方向上的位置。另外，第2引导滚子电动机63M能够通过正转及反转来调整供给侧第2引导滚子63和后述的第1传送滚子64之间的带子T的张力。

如上所述地构成的供给侧第2引导滚子63通过旋转第2引导滚子电动机63M使带子T的位置向Y方向移动而调整至适宜的位置上，由此能够正确地进行校准绘图装置30上的校准识别标记的描绘。

第1传送滚子64从供给侧第2引导滚子63向曝光台50传送带子T，通过传送滚子电动机64M间歇性地旋转驱动该第1传送滚子64而使带子T逐片传送。在该第1传送滚子64上具有使带子T吸附在第1传送滚子64的滚子表面上的吸附孔64a，并且通过吸附孔64a连接在用于吸附带子T的未图示的真空装置上。

另外，该第1传送滚子64配置在供给侧第2引导滚子63的z方向的下方，并且以带子T与曝光台50的表面平行的方式配置在曝光台50的正上方。

第2传送滚子66配置在曝光台50的传送方向的下游侧，将已在曝光台50上进行曝光的带子T传送至卷绕侧，并且配置在第1传送滚子64及曝光台50的正下方。该第2传送滚子66具有与第1传送滚子64相同的构造，在该第2传送滚子66上具有将带子T吸附在第2传送滚子66的滚子表面上的吸附孔66a。

卷绕侧第1引导滚子67配置在第2传送滚子66的传送方向的下游侧将带子T传送至卷绕侧松弛吸收部D2上。卷绕侧第1引导滚子67具有与供给侧第2引导滚子63相同的构造，并具有进行带子位置调整的第1引导电动机67M等。

卷绕侧第2引导滚子68是用于引导带子T的辅助滚子，以使需要卷绕在卷绕套筒90上的带子T传送至卷绕卷筒90上，并且具有与供给侧第1引导滚子62相同的构造。

卷绕卷筒旋转部69支撑卷绕套筒90，该卷绕套筒90卷绕已在曝光台50上进行曝光的带子。该卷绕卷筒旋转部69将安装有卷绕套筒90的轴筒部的轴部作为中心而旋转自如地进行配置，并通过驱动电动机(未图示)进行驱动。

<校准绘图装置及校准照相机>

图3是表示本发明的实施方式所涉及的校准绘图装置30及校准照相机40的概略立体图。

<<校准绘图装置30的构成>>

校准绘图装置30具有：观察带子T端面的端面检测器31a、31b；校准识别标记用光掩膜33a、33b；以及紫外线光源35a、35b，35c、以及35d。

端面检测器31由线性CCD或二维CCD或CMOS照相机构成，通过接受来自带子T的反射光或透射光来检测带子T的端面。端面检测器31为了检测带子T的传送方向的倾斜度，至少在传送方向上具有相互分离的第1端面传感器31a和第2端面传感器31b。这些传感器已定位在适当的位置，并固定在未图示的框架等上。在此，只要能够通过照相机测定出带子T端面的位置及倾斜度，即可替代端面检测器31而使用。这里，照相机具有可以观察带子T的整个宽度方向的视野。

校准识别标记用光掩膜33是用铬等在晶体玻璃板上制作了校准识别标记图案(铬识别标记BM)的光掩膜。由于晶体玻璃的热膨胀系数小而且紫外线的透射率高，因此作为掩膜的材料非常优秀，另外由于铬与晶体玻璃的粘合性良好，紫外线的遮蔽非常优秀，并且随着时间的推移变化很小，因此非常适合。校准识别标记用光掩膜33可以沿Y方向移动，并且具有：具有2个铬识别标记BM的第1校准识别标记用光掩膜33a；以及具有2个铬识别标记BM的第2校准识别标记用光掩膜33b，以便容易进行控制。

紫外线光源35可以使用照射紫外线的LED(UVLED)，该紫外线对涂布在带子T上的光致抗蚀剂进行曝光。也可以使用由光纤从水银灯10引出的光，还可以使用由光纤从另外准备的UV激光光源引出的光。紫外线光源35由4个UVLED35a、35b、35c及35d构成，这里紫外线光源35数量与铬识别标记BM的数量一致。

利用来自端面检测器31的信号掌握带子T的位置，根据该位置从紫外线光源35照射紫外线，并在涂布于带子T表面上的光致抗蚀剂上描绘出绘制在校准识别标记用光掩膜33上的校准识别标记像。描绘在带子T上的校准识别标记AM是显像前的识别标记，一般称为潜像。即，校准识别标记像曝光在带子T的光致抗蚀剂上，使得曝光处发出与光致抗蚀剂不同的颜色，从而能够作为校准识别标记AM进行识别。

在此，虽然校准识别标记AM的数量只要与形成在光掩膜M上的掩膜识别标记MM的数量一致即可，但在1个电路图案的周围至少需要2个以上。假设，在形成6个校准识别标记AM时，或者重新准备校准识别标记用光掩膜33，或者使带子T的传送量约为1片的一半且每回都描绘校准识别标记AM。

在此，如图2所示，校准绘图装置30配置在供给侧第2引导滚子63和第1传送滚子64之间。将放大了校准绘图装置30的放大图表示在图3上。在此，校准绘图装置30还可以配置在第1传送滚子64和曝光台50之间。

<<校准照相机的40构成>>

图3所示的校准照相机40由摄影照相部41和压板42构成，做成可以利用校准照相机可动部43及压板可动部44移动的构造。在本实施方式中，校准照相机40设置在4处，对向配置在带子T的宽度方向。校准照相机40a和校准照相机40b设置在第1传送滚子64侧，校准照相机40c和校准照相机40d设置在第2传送滚子66侧。对于校准照相机可动部43及压板可动部44，在后面进行描述。

校准照相机40检测由校准绘图装置30形成的校准识别标记AM的潜像，还检测通过投影光学系20形成的光掩膜M的周围的掩膜识别标记MM的投影像。利用多个校准照相机40检测校准识别标记AM和掩膜识别标记MM，基于其检测信号使图1中所示的光掩膜M在YZ平面上移动。其次，在校准识别标记AM和掩膜识别标记MM重合的情况，校准照相机40从带子T上退避。之后，开放遮蔽水银灯10光源的光掩膜M区域的快门(未图示)，由此将光掩膜M的电路图案复制在带子T上。

在此，当校准识别标记AM和掩膜识别标记MM错开的情况，不移动光掩膜M，而利用未图示的曝光台驱动机构使带子T在Y轴方向、Z轴方向及θ方向移动来调整带子T的位置，由此可以使多个校准识别标记AM和掩膜识别标记MM重合。

<校准照相机可动部43、压板可动部44及曝光台50的构成>

图4是从第1传送滚子64侧观察了校准照相机40a和校准照相机40b的平面图。在此，图4还表示了摄影照相部41的内部构造，以便了解校准照相机40的构成。由于校准照相机40a和校准照相机40b具有相同的结构，因此以下将校准照相机40a作为代表进行说明。另外，未图示的校准照相机40c和校准照相机40d也具有相同的构造。

摄影照相部41由照像机镜头51、利用LED等的可见光的照明部52、半透明反射镜53及摄影部54构成。照明部52从照相机透镜51的周围对带子T进行照明。摄影部54使用CCD(charge-coupled device)或CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)等的摄影元件。

压板42由板弹簧等的弹性部件形成，并接合在压板支撑部45上。在图5A及图5B和图6A、图6B及图6C中对压板42进行详细说明。

校准照相机可动部43接合在摄影照相部41上，且在内部具有步进电动机43M及驱动电动机45M。可以代替步进电动机43M而使用易于定位控制的驱动装置。另外，可以代替驱动电动机45M而使用气缸等的驱动装置。

在校准照相机可动部43的内部设置有导轨43L。从而，摄影照相部41可以通过旋转压板可动部44的步进电动机43M向Y轴方向(箭头43ar方向)移动。使用步进电动机43M可以根据带子T的宽度容易进行定位。

压板支撑部45由旋转轴构成，该旋转轴被例如未图示的轴承等所支撑，且在压板支撑部45的前端部上具有夹持压板42的夹持部45C。压板支撑部45的夹持部45C做成根据校准识别标记AM的位置(Y方向)而容易更换的构造。压板支撑部45可以通过旋转设置在压板可动部44的内部的电动机45M向X轴方向(箭头45ar方向)移动。压板42可以通过压板支撑部45移动至规定的位置上而向带子T施加适当的压力。

摄影照相部41及压板42通过步进电动机43M的旋转，同时向箭头43ar方向移动。在检测校准识别标记AM及掩膜识别标记MM的情况和按压带子T端部的情况，摄影照相部41及压板42移动至曝光台50的带子T上。在复制光掩膜M的电路图案的情况，摄影照相部41及压板42可以从曝光台50的带子T上退避。

由于校准照相机40a可以沿箭头43ar方向自由移动，因此即使带子T的宽度或带子T上的校准识别标记AM的位置(Y方向)发生了变化，也可以通过改变设定值使摄影照相部41及压板42移动至对应于带子T宽度的校准识别标记AM的位置上。

曝光台50的表面上形成有真空吸附带子T的吸附孔55。在曝光台50上具有空气的排出口56，并利用真空泵(未图示)抽出空气使得形成在曝光台50内部的吸附孔55呈负压，由此吸附带子T。

第1传送滚子64和第2传送滚子66之间的带子T通过第1传送滚子64和第2传送滚子66相互拉紧而成为施加了张力的状态。由于被施加张力的带子T的宽度方向的中心部和端部在拉伸难易度上存在差异，因此带子T产生变形。另外，带子T也可以由形成在带子T上的金属膜等引起变形。即，如图4所示地带子T的端部在曝光台50的附近被掀起，带子T从其长轴方向观察呈弓形。即使弓形的带子T被曝光台50的吸附孔55所吸引，也仅能吸附带子T的宽度方向的中心部而端部不容易被吸附。因此，利用压板42按压带子T的端部来辅助吸附该带子T端部，由此使带子T的整个宽度被吸附在曝光台50上。带子T一旦被曝光台50吸附，只要不停止真空泵的抽气，即使解除压板42的压力带子T也不会脱落。

在带子T完全吸附在曝光台50的表面上的状态，利用校准照相机40校准光掩膜M和带子T，并将光掩膜M的电路图案曝光在带子T上。在此，由于曝光台50的表面在Z方向上呈铅直状态，因此若解除带子T的真空吸附，则带子T由自身的重量从曝光台50的表面上脱离。

如图4的左侧校准照相机40a中所示，利用发自照明部52的照明光通过压板42的观察窗42W对校准识别标记AM进行照明，从而浮现出校准识别标记AM的潜像。来自浮现的潜像的反射光AM1通过照相机镜头51在半透明反射镜上产生反射而被摄影部54检测。

另一方面，如图4的右侧校准照相机40b中所示，掩膜识别标记MM的入射光MM1从X轴方向射入，并通过校准照相机40b的半透明反射镜53和照相机镜头51，再通过压板42的观察窗42W在带子T的表面上成像。成像的掩膜识别标记MM通过观察窗42W及摄像机镜头51在半透明反射镜53上产生反射而被摄影部54检测。

为了有助于理解，在图4中使来自潜像的反射光AM1及掩膜识别标记MM的入射光MM1分别射入到校准照相机40a及校准照相机40b中，但是各摄影部54是同时观察来自潜像的反射光AM1及掩膜识别标记MM的入射光MM1。

图5A是使压板42按压至曝光台50的规定位置的侧视图。图5B是图5A的平面图。

压板42由板弹簧等的具有弹性的金属材料形成，以不损伤带子T的方式施加压力，且在施加压力的状态下变形成与带子T平行的形状。为了不损伤带子T，可以在压板42的带子T侧进行氟树脂加工或者贴上树脂薄膜。在压板42前端的近旁形成有观察窗42W，可以从观察窗42W观察到带子T的位置上观察掩膜识别标记MM及校准识别标记AM。在压板42的前端形成有弯曲部42R，起到防止带子T受损的作用。

如图5B所示地观察窗42W呈圆形，另外以校准识别标记AM及掩膜识别标记MM能够充分地进入到观察窗42W的中心附近的大小形成。观察窗42W还以不损害压板42的强度和柔软性的方式形成。

观察窗42W的中心位置与照相机镜头51的中心轴大体一致。观察窗42W虽然在图5B中为圆形，但只要不损害强度和柔软性，也可以是四边形等的多边形。另外在本实施方式中虽然用十字形表示校准识别标记AM，用4个四边形表示掩膜识别标记MM，但是也可以使用圆形及圆环等形状。

图6A是将另外的具有观察窗42N的压板42-1按压至曝光台50的规定位置的平面图。图6B是将没有形成孔或凹口的压板42-2按压至曝光台50的规定位置的平面图。图6C是将长度较短的压板42-3按压至曝光台50的规定位置的平面图。

图6A所示，压板42-1具有从前端开始形成凹口的观察窗42N。校准照相机40也可以利用这种观察窗42N对校准识别标记AM等进行观察。

另外，图6B所示的压板42-2由丙烯或聚碳酸酯等透射性高的树脂板形成。因此，即使在压板42-2上没有形成孔或凹口，校准照相机40也可以通过压板42-2对校准识别标记AM等进行观察。即，压板42-2本身构成为观察窗。

另外，图6C所示的压板42-3的长度比较短，使得仅能按压带子T的端部。因此，压板42-3不覆盖校准识别标记AM等。若使用的各种带子T的宽度大致不变，则不覆盖校准识别标记AM等的长度的压板42-3就非常有效。

<校准照相机的动作>

下面，参照图7的流程图对校准照相机40的动作进行说明。如上所述，在本实施方式中校准照相机40至少设置在2处，但是由于都同步进行相同的动作，因此将校准相机40a作为代表进行说明。

在步骤S1中，通过使第1传送滚子64及第2传送滚子66旋转规定量，将形成有校准识别标记AM的相当于电路图案的一片带子T传送至曝光台50上。

在步骤S2中，压板可动部44内部的步进电动机43M进行旋转。其次，将摄影照相部41及压板42移动至曝光台50侧的规定位置上。

在步骤S3中，压板可动部44内部的驱动电动机45M进行旋转。由此，压板支撑部45靠近曝光台50侧并移动至规定位置上。压板支撑部45的压板42按压带子T的端部。带子T的端部被按压在曝光台50上，由此带子T的整面被吸附在曝光台50上。

在步骤S4中，运行曝光台50的真空泵，利用吸附孔55吸附带子T。在此，由于此时带子T为被施加张力的状态，因此带子T的端部被掀起，从带子T的长轴方向观察呈弓形。从而，成为仅吸附了带子T的中央区域的状态。

在步骤S5中，摄影照相部41的摄影部54从压板42的观察窗42W检测掩膜识别标记MM及校准识别标记AM。由于观察窗42W的中心和校准识别标记AM的照相机镜头51的中心轴大致重合，因此没有必要为了观察掩膜识别标记MM及校准识别标记AM而再次利用步进电动机43M来移动校准照相机40。

在步骤S6中，判断掩膜识别标记MM和校准识别标记AM的位置是否错开。在没有错开的情况继续执行步骤S7，在错开的情况执行步骤S10来修正错开的位置。

在步骤S7中，通过逆向旋转压板可动部44内部的步进电动机43M及驱动电动机45M使校准照相机40a及压板42退避。由于在步骤S4中压板42按压了带子T的端部，因此即便使压板42退避，带子T的整面也吸附在曝光台50上。

在步骤S8中，开放光掩膜M区域的快门，由此通过了光掩膜M的电路图案的水银灯10的光束在带子T的正确位置上成像并进行复制。

在步骤S9中，移动连接在曝光台50的空气排出口56(参照图4)上的未图示的电磁阀向大气开放吸附孔55，由此带子T利用张力自然地从曝光台50上脱离。

在步骤S10中，通过沿Y轴方向、Z轴方向及θ方向移动光掩膜M来修正掩膜识别标记MM和校准识别标记AM的错开的位置。修正了错开的位置后再次执行步骤S6。

投影曝光装置可以根据图7的流程图曝光一片部分的光掩膜M的电路图案，并且可以通过再次回到图7的步骤S1来对下一片部分进行曝光处理。在此，若在步骤S4中压板42按压带子T的端部使整面带子T被吸附在曝光台50上，则也可以在执行步骤S5之前逆向旋转驱动电动机45M使压板42从带子T上离开。

(实施方式2)

图8表示校准照相机40的可动方式与实施方式1不同的情况，并且是与图4相同地从第1传送滚子64侧观察的平面图。由于投影曝光装置100的其它构成与实施方式1相同，因此仅对校准照相机40的可动方式进行说明。在此，与实施方式1相同地将校准照相机40a作为代表进行说明。

由于本实施方式的校准照相机40a可以同时移动摄影照相部41和压板42，因此可以减少处理工序和部件数量。

摄影照相部41接合在摄影照相支撑部72上，压板支撑部45也固定在摄影照相部72上而与其接合。压板42与实施方式1相同地接合在压板支撑部45上，并由板弹簧等具有弹性的材料形成。摄影照相支撑部72由外筒72a和内筒72b构成，且在摄影照相部72的内部藏有电动机72M。

摄影照相支撑部72通过旋转电动机72M使旋转半径发生变化，即使在带子T的宽度发生了变化的情况，也可以通过改变设定值使摄影照相部41及压板42移动至对应于带子T宽度的校准识别标记的位置上。另外，摄影照相支撑部72接合在校准照相机旋转部70上，且利用电动机(未图示)以校准照相机旋转部70的中心轴71(与带子T的传送方向平行的轴)为中心进行旋转。

使曝光台50上的带子T的吸附面和校准照相机旋转部70的中心轴71与水平面HR一致，由此压板42可以垂直地对带子T施加压力。

实施方式2的校准照相机的动作与图7中说明的实施方式1的校准照相机的情况大致相同。在此特别对图7的流程图的步骤S3、S7进行简单地说明。

在图7的流程图的步骤S3中，校准照相机旋转部70通过电动机的驱动被配置在图8的实线所示的校准照相机40a的位置上。摄影照相部41被配置在规定位置上，由此可以检测掩膜识别标记MM和校准识别标记AM，同时压板42可以通过旋转校准照相机旋转部70来按压带子T。

在图7的流程图的步骤S7中，校准照相机旋转部70通过电动机的旋转被配置在图8的虚线所示的校准照相机40a的位置上。虚线的校准照相机40a的位置为从掩膜识别标记MM及校准识别标记AM的检测位置旋转了90度的位置，可以从光掩膜M的电路图案的曝光范围退避。在此，虽然校准照相机旋转部70旋转90度而做出退避动作，但是也可以旋转180而退避。

在产业利用上，本发明不限定于上述实施方式，例如即便是接触曝光(Contact Exposure)方式或近接曝光(Proximity exposure)方式的装置，也可以在其技术思想范围内进行各种改造及变更，本发明也涉及这些改造及变更的发明。例如，本曝光装置100虽然对没有形成孔眼或校准识别标记的带子效果特别明显，但对已经具有校准识别标记或校准用穿孔的情况，在需要绘制其它用途的校准识别标记的情况也有效。

虽然在本实施方式中在4处使用了的校准照相机40，但即使在2处使用校准照相机40也可以检测校准识别标记AM及掩膜识别标记MM，但随着光掩膜M的大型化，最好在多处进行校准识别标记AM及掩膜识别标记MM的检测。

Claims (6)

1、一种曝光装置，该曝光装置将具有规定宽度的胶卷形状的被曝光体送至曝光台上，并将掩膜的电路图案曝光在被曝光体上，其特征在于，具有：

按压所述被曝光体的压板；

用于观察形成在所述被曝光体上的第1校准识别标记和形成在所述掩膜上的第2校准识别标记的图像识别部；

使所述压板和所述图像识别部同时向所述被曝光体的规定宽度方向移动的第1移动部。

2、根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述压板按压所述被曝光体，按压至所述规定宽度方向上的比所述第1校准识别标记更靠内侧的位置，并且所述压板具有观察所述第1校准识别标记和所述第2校准识别标记的观察窗。

3、根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述压板仅按压所述规定宽度方向上的比所述第1校准识别标记更靠外侧的位置。

4、根据权利要求1～3所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1移动部具有第2移动部，所述第2移动部使所述压板沿着与所述被曝光体交叉的方向移动，以使所述压板接触到所述被曝光体。

5、根据权利要求1至3的任意一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1移动部使所述压板和所述图像识别部以所述被曝光体的传送方向为轴进行旋转。

6、根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

至少设置2个以上的所述图像识别部。

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