TWI446122B - 曝光裝置 - Google Patents

Description

曝光裝置

本發明係關於一種將基板及光罩之對準標記分別攝影，並以這些影像為基礎，進行基板與光罩之對位，以進行曝光之曝光裝置；詳細而言，係有關一種將基板及光罩之各對準標記同時成像於攝影手段之受光面，以縮短對位處理時間之曝光裝置。

習知曝光裝置係包括：將塗佈有感光性樹脂之基板載置並保持於上面之載台；使光罩迫近面對該基板並加以保持之光罩載台；以及，將在前述基板所形成之基板側對準標記、和在前述光罩所形成之光罩側對準標記，分別捕捉到同一視野內加以拍攝之攝影手段；首先，在使光罩側對準標記成像在攝影手段受光面之狀態下，移動攝影手段，將光罩側對準標記定位在攝影手段之視野內之中央部，其次，再於使基板側對準標記成像在上述受光面之狀態下，移動載台，將基板側對準標記定位在攝影手段之視野內之中央部，以進行基板與光罩之對位動作(例如，請參照日本專利特開平第5－196420號公報)。

但是，這種習知曝光裝置，由於基板側對準標記和光罩側對準標記之位置會在攝影手段之光軸方向偏移，所以不能使兩對準標記同時成像於攝影手段之受光面。因此，在進行如上所述之基板與光罩之對位時，首先，必須調整光罩側對準標記之位置，使之成像於攝影手段之受光面，其次，必須再調整基板側對準標記之位置，使之成像於前述受光面，因而拉長對位處理時間。

本發明之目的即針對這種問題，提供一種能將基板及光罩之對位處理時間加以縮短之曝光裝置。

為達前述目的，依據本發明作成之曝光裝置，其係包含：一載台，將塗佈有感光性樹脂之一基板載置並保持於上面；一光罩載台，裝設於前述載台之上方，使一光罩迫近面對前述基板並加以保持；以及，一攝影手段，將形成於前述基板上之一基板側對準標記、和形成於前述光罩上之一光罩側對準標記，分別捕捉到同一視野內加以拍攝；且係藉由前述攝影手段所攝得之前述基板側及光罩側對準標記之各影像，相對移動前述載台及光罩載台，俾使前述基板與光罩對位，以進行曝光之曝光裝置；其特徴為，該曝光裝置包含一光學距離修正手段，可使前述攝影手段之受光面與基板間之光學距離、以及前述攝影手段之受光面與光罩間之光學距離，約略一致。

藉由這種構成，以該載台將其上所載置塗有感光性樹脂之基板保持住，並以該光罩載台迫近面對上述基板並保持住光罩，而以該光學距離修正手段，使攝影手段受光面與基板間之光學距離、以及攝影手段受光面與光罩間之光學距離，約略一致，再以攝影手段將基板側與光罩側對準標記，捕捉到同一視野內加以拍攝，並以前述拍攝到之基板側及光罩側對準標記之各影像為基礎，相對移動前述載台與光罩載台，以使前述基板與光罩對位，然後進行曝光。藉由此方法，則即使於攝影手段之光軸方向上，基板與光罩之配置相互偏移，也能將在基板上所形成之基板側對準標記、和在光罩上所形成之光罩側對準標記之影像，同時成像於攝影手段之受光面。因此，就能同時並且即時(real time)進行所拍攝到之基板側對準標記與光罩側對準標記之影像處理，於是就能縮短基板及光罩之對位處理時間。又，因為不是如習知技術於光軸方向移動攝影手段，以分別拍攝基板側及光罩側對準標記，所以不會有因攝影手段之移動而產生位置偏移之情形。因此，就能提高對位精確度。

再者，前述光學距離修正手段為一透明構件，至少係裝設在前述攝影手段之受光面與基板所連結成之光通路上，且具有一特定折射率。藉此，就可用具有特定折射率之透明構件，使攝影手段受光面與基板間之光學距離、及攝影手段受光面與光罩間之光學距離，約略一致。因此，藉由具有特定折射率之透明構件，能將相對於光罩側對準標記之成像位置而言，成像於前面之基板側對準標記之成像位置，挪到較後方，而可用簡單之構成來進行光學距離之修正。

更進一步，前述載台在曝光動作中會朝特定方向移動，並搬送其上面所載置之基板。藉此，利用朝特定方向移動之載台，在曝光動作中，將其上面所載置之基板加以搬送。因此，就能縮小光罩之尺寸，也就能降低光罩之成本。

而，前述攝影手段包含了排列成一直線狀之可接收光線之多數受光元件。藉此，以包含排列成一直線狀之多數受光元件，拍攝基板側及光罩側對準標記。因此，若將偵測出基板側對準標記之受光元件之單元編號(cell number)、與偵測出光罩側對準標記之受光元件之單元編號互相比較，就能輕易偵測出基板側對準標記和光罩側對準標記之水平距離；若相對移動載台與光罩載台，使該距離成為一特定值，就能進行基板與光罩之對位。

以下，以附圖詳細說明本發明之實施形態。圖1為表示本發明曝光裝置之實施形態之概略構成之前視圖。此曝光裝置係分別拍攝在基板所形成之基板側對準標記、和在光罩所形成之光罩側對準標記，並以這些影像為基礎，進行基板與光罩之對位，然後曝光，且其係由載台1、光罩載台2、攝影手段3、光學距離修正手段4、和曝光光學部分5所構成。而以下說明係針對基板為彩色濾光片基板之情形加以敘述。

前述載台1係用於載置並保持一彩色濾光片基板6，該彩色濾光片基板6之上面1a係塗佈有作為感光性樹脂之彩色光阻劑；其藉由一搬送手段(圖示省略)而移動，如圖1所示，以一定速度將彩色濾光片基板6朝箭頭A方向搬送。

在前述載台1之上方，係裝設有光罩載台2。相對於前述彩色濾光片基板6，此光罩載台2係隔著特定之間隙，例如100~300μm之間隙，使光罩7迫近面對前述彩色濾光片基板6並將光罩7加以保持。

於此，藉由照射曝光光線，前述光罩7可將其上所形成之光罩圖案轉印至彩色濾光片基板6上之彩色光阻劑，如圖2所示，其係由透明基材8、遮光膜9、光罩圖案10、觀察窗11、和光罩側對準標記17所構成。

前述透明基材8為可高效率透過紫外線及可見光之透明玻璃基材，例如可由石英玻璃構成。

如圖3或圖4所示，在前述透明基材8之一面8a，係形成有遮光膜9。此遮光膜9用於遮蔽曝光光線，以不透明薄膜製成，例如以鉻(Cr)形成。

在前述遮光膜9上，如圖2所示，有複數光罩圖案10朝同一方向排列而形成。而此複數光罩圖案10為可使曝光光線通過之具有特定形狀之開口；其能使曝光光線照射於對面之被搬送的彩色濾光片基板6上，而轉印在圖5所示之彩色濾光片基板6上所形成之黑色矩陣框(black matrix)12之像素13上。然後，使其包含與前述像素13寬度約略一致之寬度，並在與前述排列方向垂直之方向上，作成長矩形形狀，以與前述像素13之3間距(pitch)之間隔一致之間隔所形成。又，如圖2所示，將例如位於中央部之光罩圖案10a之左邊緣部，預先設定為基準位置S1。

又如圖3所示，在透明基材8之另一面8b，在與前述光罩圖案10之形成區域相對應之區域14(參照圖2)，則有紫外線反射防止膜9形成，用以提高曝光光線所含紫外線之穿透效率。

在前述遮光膜9，如圖2所示，在迫近前述光罩圖案10並與其並排方向之一側，有觀察窗11形成。此觀察窗11為用於觀察對面之搬送而來之圖5所示之彩色濾光片基板6上所形成之基板側對準標記16及黑色矩陣框12之像素13，其能以後述之攝影手段3偵測出，在前述基板側對準標記16之位置、及預先設定在黑色矩陣框12之例如圖5所示之位於中央部之像素13a之左上角部位置的基準位置S2。然後再如圖2所示，與前述複數光罩圖案10之排列方向平行，自中央部分朝一方之端部8c延展而形成矩形狀。

在前述遮光膜9，如圖2所示，在前述觀察窗11之一端側，自中央部分朝另一方之端部8d，排列形成複數光罩側對準標記17。此複數光罩側對準標記17係，將預先設定在前述光罩圖案10之基準位置S1、與預先設定在前述彩色濾光片基板6之像素13之基準位置S2予以對位所需，為對應前述光罩圖案10而形成。並且，其形成位置則作成使圖2中光罩側對準標記17之左邊緣部與相對應之光罩圖案10之左邊緣部一致。然後，將例如在遮光膜9之中央部分所形成之光罩側對準標記17，預先設定為基準標記17a。藉此，依位置之調整，使前述基準標記17a與前述彩色濾光片基板6之基板側對準標記16成為特定之位置關係，就能將前述光罩圖案10之基準位置S1與彩色濾光片基板6之基準位置S2加以對位。

又，如圖4所示，在透明基材8之另一面8b，在與前述觀察窗11及光罩側對準標記17之形成區域相對應之區域19(參照圖2)，有可穿透可見光並將紫外線予以反射之波長選擇性膜20形成；曝光光線所含之紫外線成分就透過前述觀察窗11及光罩側對準標記17，照射在彩色濾光片基板6，而可防止將塗佈於彩色濾光片基板6之彩色光阻劑曝光之情形發生。

而，前述光罩7係如圖1所示，將形成有前述遮光膜9之一面朝下，並為光罩載台2所保持。

在前述載台1之上方，裝設有攝影手段3。此攝影手段3為將在彩色濾光片基板6所形成之基板側對準標記16、和在光罩7上所形成之光罩側對準標記17，透過一半透半反鏡(half mirror)21分別捕捉到同一視野內加以拍攝，其包含：具有將接收光線之複數受光元件排列成一直線狀而作為受光面之線型CCD(charge coupled device；電荷耦合裝置)22；裝設於該線型CCD 22前方，且可使在彩色濾光片基板6所形成之基板側對準標記16、及在像素13或光罩7上所形成之光罩側對準標記17，各自成像於前述CCD 22上之聚光鏡23。

如圖1所示，在前述攝影手段3之光通路上，在前述線型CCD 22與聚光鏡23之間，裝設有光學距離修正手段4。此光學距離修正手段4之作用為使攝影手段3之線型CCD 22與彩色濾光片基板6間之光學距離、及攝影手段3之線型CCD 22與光罩7間之光學距離，約略一致；其係由具有比空氣折射率大之特定折射率之透明構件所構成，例如玻璃板即是。

在此情形下，由具有特定折射率之透明構件所構成之光學距離修正手段4就如圖6所示，裝設在隔著光罩7上所形成之觀察窗11而連結攝影手段3之線型CCD 22與彩色濾光片基板6之光通路上。或者，在前述線型CCD 22前方，裝設具有將其全面覆蓋之尺寸之光學距離修正手段4，而位於連結前述線型CCD 22與彩色濾光片基板6之光通路上之部分之厚度比其他部分厚，亦無不可。

如圖6所示，通常從自聚光鏡23起算距離相異之P1、P2二點所發出之光線，會聚光在自聚光鏡23起算距離相異之F1、F2二點。因此，在藉由攝影手段3拍攝光罩7之光罩側對準標記17之狀態(聚光點F2於線型CCD 22上呈現一致之狀態)下，相較於光罩7，自攝影手段3之聚光鏡23起之距離較遠之彩色濾光片基板6所發出之光線L1，就會聚光在線型CCD 22前面之點F1。因此，就不能使光罩7之光罩側對準標記17、與彩色濾光片基板6之基板側對準標記16，同時成像於攝影手段3之線型CCD 22上。但是，如圖6所示，若將光學距離修正手段4，裝設在隔著前述光罩7之觀察窗11而連結攝影手段3之線型CCD 22與彩色濾光片基板6之光通路上時，光學距離就變長，也就能將光線L1聚光在前述線型CCD 22上之點F3。藉由此方法，就能使光罩側對準標記17、與基板側對準標記16，同時成像於線型CCD 22上。此外，前述光學距離之調整可藉由調節光學距離修正手段4之構件之折射率及/或厚度加以進行。

如此構成之光罩載台2及攝影手段3，藉由圖示省略之對準機構，就能在與圖1所示之載台1之上面1a平行之面內，使其全體朝與箭頭A所示之搬送方向垂直之方向移動。

在前述載台1之上方，裝設有曝光光學部分5。此曝光光學部分5將曝光光線透過光罩7照射至彩色濾光片基板6上，使得光罩7之光罩圖案10之影像，轉印至塗佈於彩色濾光片基板6之彩色光阻劑上，並且其具有光源24和聚光鏡25。

前述光源24為可散發出含有紫外線之曝光光線之光源，例如超高壓水銀燈、氙燈或紫外線發光雷射。然後再藉由凹面鏡26聚光至其焦點。又，前述聚光鏡25裝設於光源24與光罩載台2之間，可將光源24所散發之曝光光線調為平行光並使其垂直照射於光罩7，而使其前焦點定位在靠近前述凹面鏡26之焦點旁。

其次，對於這種構成之曝光裝置之動作加以說明。

這裡所使用之彩色濾光片基板6，如圖5所示，其為鉻(Cr)等所組成之不透明膜在透明玻璃基板之一面形成，再如同圖所示，其為在曝光區域26內有複數像素13呈矩陣狀形成而成。並且，在曝光區域26之一端部26a之靠中央部，形成有一個細長狀基板側對準標記16，用於將預先設定在前述光罩7之基準位置S1、與預先設定在前述彩色濾光片基板6之基準位置S2間之位置偏移，加以修正而予以對準。又，在前述基板側對準標記16之一側，有自中央側朝向一方之端部6a排列之複數對準確認標記27，以與像素13相對應並與像素13所排列之3個間距(pitch)之間隔一致之間隔形成。並且，前述基板側對準標記16及對準確認標記27，係以在圖5中各標記之左邊緣部和所對應之像素13之左邊緣部彼此皆為一致之方式形成。

像這樣形成之彩色濾光片基板6，上面塗佈特定之彩色光阻劑，使形成有曝光區域26之前述基板側對準標記16之端部26a之一側，位在圖5箭頭A所示之搬送方向之起頭處，再裝載在載台1之上面1a，再藉由圖示省略之搬送手段，以一定之速度朝箭頭A方向搬送。

另一方面，如圖2所示，光罩7可使有觀察窗11形成之端部8e之一側，位在箭頭A所示之搬送方向之前面，並如圖1所示，其將形成遮光膜9之面置於下方而為載台2所保持。然後，光罩7就會迫近面對搬送而來之彩色濾光片基板6之上面。

在這種狀態下，通過在光罩7所形成之觀察窗11，彩色濾光片基板6上之基板側對準標記16、對準確認標記27以及像素13，就可由攝影手段3加以攝影。在此情形下，在隔著在光罩7所形成之觀察窗11而將攝影手段3之線型CCD 22與彩色濾光片基板6連結之光通路上，裝設有光學距離修正手段4，而由於其光學距離與攝影手段3之線型CCD 22與光罩7間之光學距離，約略一致，所以在攝影手段3之光軸方向偏移位置之彩色濾光片基板6之基板側對準標記16等之影像、和光罩7之光罩側對準標記17之影像，就會同時成像於攝影手段3之線型CCD 22上。因此，由攝影手段3同時拍攝之基板側對準標記16等之影像、與光罩側對準標記17之影像，就可以圖示省略之影像處理部，加以處理。

在此情形下，如圖7所示，首先藉由攝影手段3，將通過光罩7之觀察窗11觀察所得之彩色濾光片基板6上之基板側對準標記16、與光罩7之光罩側對準標記17，同時加以拍攝。此時，偵測出基板側對準標記16之線型CCD 22之受光元件之單元編號、和偵測出前述光罩7之基準標記17a之線型CCD 22之受光元件之單元編號，就可被讀取到，再以圖示省略之演算部演算出水平距離L。然後，再與預先設定並記憶之特定距離L₀ 比較。

在這裡，如圖7所示，在光罩7相對於彩色濾光片基板6，朝箭頭B方向偏移之情形時，如圖8所示，光罩7朝箭頭C方向移動，以使基板側對準標記16、與基準標記17a之距離L，等於L₀ 或L₀ ±x(x為容許值(tolerance；或稱公差))。藉此，光罩7之基準位置S1、與彩色濾光片基板6之基準位置S2，就會在所訂定之容許範圍內保持一致。

其次，如圖8所示，彩色濾光片基板6之對準確認標記27，藉由攝影手段3，通過光罩7之觀察窗11予以拍攝。然後，偵測出各對準確認標記27之線型CCD 22之受光元件之單元編號、以及偵測出光罩7之各光罩側對準標記17之線型CCD 22之受光元件之單元編號、就可被讀取到，再以演算部將各單元編號之平均值演算出來。此平均值在對準調整後，隨即與偵測出前述彩色濾光片基板6之基板側對準標記16之線型CCD 22之受光元件之單元編號互相比較，若兩者在所訂定之容許範圍內為一致之情形時，就判斷為對準確實實行，然後曝光光線就會照射到光罩7。藉此，光罩7之光罩圖案10之像，就會轉印到彩色濾光片基板6之像素13上。而，若前述平均值與單元編號為不一致之情形時，例如彩色濾光片基板6為別種基板，或者判斷為黑色矩陣框12之形成不良品時，對於這種情形就停止曝光並發出警報。

然後，將攝影手段3所拍攝之影像資料與記憶部所記憶之彩色濾光片基板6之基準位置S2之查找表(Look Up Table；LUT)互相比較後，偵測出基準位置S2。然後如圖9所示，將偵測出前述基準位置S2之線型CCD 22之受光元件之單元編號，與偵測出光罩7之基準標記17a之線型CCD 22之受光元件之單元編號互相比較，使光罩7朝箭頭B、C方向微動，俾使得兩者之距離L等於L₀ 或L₀ ±x。又，視情況需要，光罩7會以其面之中心為中心軸作轉動調整。藉此，即使彩色濾光片基板6在朝與箭頭A所示之方向垂直之方向，邊轉向邊搬送時，光罩7亦可對其追蹤動作，就可在目標位置上將光罩7之光罩圖案10之影像精確轉印上去。

在此情形下，如圖3所示，在光罩7之透明基材8之另一面8b，因為在與光罩圖案10之形成區域相對應之區域14(參照圖2)，有曝光光線所含紫外線成分之反射防止膜15形成，而紫外線因該反射防止膜15之故，反射得以受到抑制，所以就可很有效率地穿透光罩7之光罩圖案10。然後，就可以很有效率地將彩色濾光片基板6上之彩色光阻劑加以曝光。

另一方面，如圖4所示，在光罩7之透明基材8之另一面8b，因為在與觀察窗11及光罩側對準標記17之形成區域相對應之區域19(參照圖2)，有可穿透可見光並將紫外線予以反射之波長選擇性膜20形成之故，所以照射在前述觀察窗11及光罩側對準標記17之曝光光線之紫外線成分，就會由波長選擇性膜20予以反射。因此，曝光光線之紫外線成分就不會通過觀察窗11及光罩側對準標記17，照射到彩色濾光片基板6。

因此，即使觀察窗11及光罩側對準標記17迫近光罩圖案10而先後於搬送方向形成，前述觀察窗11及光罩側對準標記17之影像也不會轉印至彩色濾光片基板6之曝光區域26。

另一方面，可見光因可穿透前述波長選擇性膜20，所以就能透過前述觀察窗11去觀察彩色濾光片基板6上之基板側對準標記16、對準確認標記27以及像素13。因此，就能在迫近光罩圖案10之位置，透過觀察窗11去確認彩色濾光片基板6上之基板側對準標記16以及像素13之位置，也能將光罩7之基準位置S1與彩色濾光片基板6之基準位置S2加以對位，並比習知技術更能提高兩者之對位精確度。

此外，在前述實施形態之中，雖對光罩側對準標記17排列於觀察窗11旁而形成之情形，有所說明，然而本發明並不侷限於此，若將觀察窗11自透明基材8之一邊之端部8c延伸拉長至另一邊之端部8d而形成，並在其內部形成光罩側對準標記17亦可。而這情形之光罩側對準標記17就以不透明膜形成例如細長之形狀。

又，在前述實施形態之中，雖對在彩色濾光片基板6上有基板側對準標記16及對準確認標記27形成之情形，有所說明，然而本發明並不侷限於此，若將前述基板側對準標記16及對準確認標記27去除亦可。在此情形下，就在曝光區域26之搬送方向兩側之特定位置，形成另外之對準標記，亦在光罩7之兩邊部與其對應形成對準標記，並在搬送彩色濾光片基板6之前，藉由兩對準標記作對準粗調，而曝光進行中，就以攝影手段3透過觀察窗11偵測出基準位置S2，再藉由前述方法進行對位亦可。

並且，在前述實施形態之中，雖對曝光光線照射到光罩圖案10、觀察窗11以及光罩側對準標記17之情形，有所敘述，然而本發明並不侷限於此，若將曝光光線縮小範圍使其不照射到觀察窗11以及光罩側對準標記17之情形亦可。若是這種情形時，可穿透可見光並將紫外線予以反射之波長選擇性膜20，即不必形成為覆蓋觀察窗11以及光罩側對準標記17。

又，以上說明之中，雖對於將作為光學距離修正手段4之具有特定折射率之透明構件，裝設在隔著前述光罩7之觀察窗11而連結攝影手段3之線型CCD 22與彩色濾光片基板6之光通路上之情形，有所敘述，然而若將與攝影手段3之聚光鏡23不同種之聚光鏡，裝設在連結攝影手段3之線型CCD 22與光罩7之光罩側對準標記17之光通路上，而將聚光點F2挪到其前面，使該聚光點定位在自彩色濾光片基板6而來之L1之聚光點F1之位置亦可。

並且，以上說明之中，雖對載台1在曝光動作中朝預定方向移動，而搬送裝載其上面之彩色濾光片基板6之情形，有所敘述，然而本發明並不侷限於此，若載台1在曝光動作中停止，就將特定之曝光圖案一次曝光到彩色濾光片基板6之曝光區域26全面亦可。在此情形下，在曝光區域26周邊所形成之與前述不同之基板側對準標記，就透過在光罩形成之另外之觀察窗予以拍攝，並將光罩上與前述基板側對準標記相對應所形成之光罩側對準標記和前述基板側對準標記並列拍攝，再將載台與光罩相對移動使得兩對準標記成為所定之位置關係而加以對位亦可。

而在以上說明之中，雖對基板為彩色濾光片基板6之情形，有所敘述，然而本發明並不侷限於此，只要是形成特定之曝光圖案之物件，不論半導體基板或其他物件亦可。

1．．．載台

1a．．．上面

2．．．光罩載台

3．．．攝影手段

4．．．光學距離修正手段

5．．．曝光光學部分

6．．．彩色濾光片基板

6a、26a．．．端部

7．．．光罩

8．．．透明基材

8a、8b．．．面

8c、8d、8e．．．端部

9．．．遮光膜

10、10a．．．光罩圖案

11．．．觀察窗

12．．．黑色矩陣框

13、13a．．．像素

14、19．．．區域

15．．．反射防止膜

16．．．基板側對準標記

17．．．光罩側對準標記

17a．．．基準標記

20．．．波長選擇性膜

21．．．半透半反鏡

22．．．CCD

23、25．．．聚光鏡

24．．．光源

26．．．凹面鏡

27．．．對準確認標記

S1、S2．．．基準位置

X－X、Y－Y．．．線

A、B、C．．．箭頭

L．．．距離

L1、L2．．．光線

F1、F2、F3．．．聚光點

P1、P2．．．點

圖1為表示本發明曝光裝置之實施形態之概略構成之前視圖；圖2為表示在前述曝光裝置中所使用之光罩之一構成例之俯視圖；圖3為圖2之X－X線截面圖；圖4為圖2之Y－Y線截面圖；圖5為表示在前述曝光裝置中所使用之彩色濾光片之一構成例之俯視圖；圖6為表示在前述曝光裝置中所使用之光學距離修正手段之原理之說明圖；圖7為說明前述光罩與彩色濾光片基板之對位所用之圖，且係表示調整前狀態之說明圖；圖8為說明前述光罩與彩色濾光片基板之對位所用之圖，且係表示調整後狀態之說明圖；以及圖9為說明前述光罩與彩色濾光片基板之對位所用之圖，且係表示曝光執行中之微調整之說明圖。

1．．．載台

1a．．．上面

2．．．光罩載台

3．．．攝影手段

4．．．光學距離修正手段

5．．．曝光光學部分

6．．．彩色濾光片基板

7．．．光罩

8．．．透明基材

9．．．遮光膜

10．．．光罩圖案

11．．．觀察窗

21．．．半透半反鏡

22．．．CCD

23、25．．．聚光鏡

24．．．光源

26．．．凹面鏡

A．．．箭頭

Claims (2)

1. 一種曝光裝置，其係包含：一載台，將塗佈有感光性樹脂之一基板載置並保持於上面；一光罩載台，裝設於前述載台之上方，使一光罩迫近面對前述基板並加以保持；以及一攝影手段，係設置有：具有排列成一直線型之可接收光線的多數受光元件之線型CCD、與使得形成於前述基板上之一基板側對準標記及形成於前述光罩上之一光罩側對準標記分別成像於前述線型CCD上的相異位置處之聚光鏡片，來將前述基板側對準標記及前述光罩側對準標記分別捕捉到同一視野內加以拍攝，其中前述基板係相互錯開地存在於前述受光元件的排列方向上，而透過形成於前述光罩之觀察窗來加以觀察；且係計算前述攝影手段所攝得之前述基板側及光罩側對準標記之各影像間的距離，而使該距離成為特定距離般地相對移動前述載台及光罩載台，俾使前述基板與光罩對位，以進行曝光之曝光裝置；其特徵為，該攝影手段包含一光學距離修正手段，該光學距離修正手段係在連結前述基板側對準標記與前述光罩側對準標記的成像位置之光通路上，於前述線型CCD與前述聚光鏡片之間僅覆蓋前述線型CCD上之前述基板側對準標記所成像的部分般地，使 前述線型CCD與前述基板間之光學距離、以及前述線型CCD與前述光罩間之光學距離約略一致，且係由具有特定折射率及特定厚度之透明板所構成。
2. 如請求項第1項之曝光裝置，其中，前述載台在曝光動作中會朝一特定方向移動，並搬送其上面所載置之基板。