CN101205509A - 无机磨料清洁膏 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及清洁洗涤用品领域,特别是一种无机磨料清洁膏,其组分及其重量百分比分别为:无机磨料35-50%;保湿剂15-35%;去离子水15-30%;十二醇硫酸钠2-3%;酸碱调节剂0.1-0.3%;壳聚糖杀菌剂1-2%。本发明采用无机磨料代替以往的石油基化合物作为餐具清洁剂的主要成分,且其他成分中的有机物全部为无毒原料,使该无机磨料清洁膏不仅具有较强的去污能力,而且不会污染环境及影响人们的身体健康,还具有使用、运输方便、制造成本低廉、节约用水等优点,可作为现有餐具、炊具清洁剂的环保替代品。
Description
技术领域
本发明涉及清洁洗涤用品领域,特别是一种无机磨料清洁膏。
背景技术
清洁剂是人们日常生活经常使用到的清洁洗涤用品,对于餐具去污所使用的清洁剂,其基本功能为清洁保健,用于保证餐具的清洁,从而保证人们的饮食卫生。目前市场上销售的餐具清洁剂主要成分多为石油基化合物,其成分在自然环境下极难降解,在目前使用量巨大的情况下,洗涤餐具所产生的大量生活废水将会对生态环境造成很大的污染;而且,在人们使用时餐具上不可避免地会有少量化学成分的残留,天长日久在人体内积存,将会对人体健康造成不利影响。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种配方科学合理、去污效果好、使用更加方便的餐具无机磨料清洁膏。
本发明解决其技术问题是采取以下技术方案实现的:
该无机磨料清洁膏,其特征在于:其组分及其重量百分比分别为:
无机磨料 35-50%;
保湿剂 15-35%;
去离子水 15-30%;
十二醇硫酸钠 2-3%;
酸碱调节剂 0.1-0.3%;
壳聚糖杀菌剂 1-2%。
而且,所述的无机磨料为牙膏级轻质碳酸钙或牙膏级二氧化硅。
而且,所述的保湿剂为甘油、山梨醇、丙二醇、聚乙烯醇的其中之一或它们的混合物。
而且,所述的酸碱调节剂为苹果酸、柠檬酸的其中之一或者它们的混合物。
而且,所述的壳聚糖杀菌剂为羧甲基壳聚糖。
而且,所述的无机磨料清洁膏的PH值为6.0-6.3。
本发明的优点和积极效果是:
1.无机磨料清洁膏采用天然矿物碳酸钙或二氧化硅作为磨料,不仅具有较强的去污能力,而且餐具清洁、清洗过程中所产生的生活废水对生态环境不会造成污染,在餐具上的微量残留也不会对人体健康造成危害,彻底解决人们使用清洁剂的后顾之忧,而且由于采用摩擦清洁的方式,因此还可以大大减小用水量。
2.所采用的碳酸钙为牙膏级轻质碳酸钙,优选粒径为40-80纳米;所采用二氧化硅为牙膏级二氧化硅,优选粒径为粒径60-120纳米,也可以采用其他硬质无机物代替牙膏级轻质碳酸钙或牙膏级二氧化硅。膏体细腻柔滑,在对餐具进行摩擦清洁时不会在其表面产生划痕。
3.保湿剂采用甘油、山梨醇、丙二醇、聚乙烯醇的其中之一或它们的混合物,增加了产品的稳定性,而且其组分均可食用,对人体无毒副作用,长期使用也不会对人体健康造成影响,保证人们的安全使用。使用15-35%的保湿剂可以保证产品可使用1-2年。
4.酸碱调节剂采用苹果酸、柠檬酸中的一种或者它们的混合物,并调节使产品的PH值处于6.0-6.3,较市售的碱性清洁剂更能够保护手部皮肤,防止其因清洁剂的刺激而产生干燥、老化;且该酸碱调节剂可兼做香味剂,使产品具有清香的味道。
5.壳聚糖杀菌剂在PH值为6.0-6.3时具有最佳抑菌效果,可清除餐具上的病菌,保证人们饮食的卫生。
6.加入少量十二醇硫酸钠(ROSO3Na)作为洗涤泡沫剂,使产品具有更佳的分散、去污作用。
7.本发明采用无机磨料代替以往的石油基化合物作为餐具清洁剂的主要成分,且其他成分中的有机物全部为无毒原料,使该无机磨料清洁膏不仅具有较强的去污能力,而且不会污染环境及影响人们的身体健康,还具有使用、运输方便、制造成本低廉、节约用水等优点,可作为现有餐具、炊具清洁剂的环保替代品。
具体实施方式
以下结合实施例对本发明做进一步详述:
需要说明的是,保湿剂可以为甘油、山梨醇、丙二醇、聚乙烯醇以各种方式混合,且其混合没有技术要求。本发明在实施例中优选羧甲基壳聚糖作为杀菌剂,其他壳聚糖类杀菌剂均具有相同功能,在此不再赘述。
实施例1:
该无机磨料清洁膏,其组分及其重量百分比分别为:
牙膏级轻质碳酸钙 50%;
甘油 21.35%;
去离子水 25%;
十二醇硫酸钠 2%;
苹果酸 0.15%;
羧甲基壳聚糖 1.5%。
该无机磨料清洁膏的制作方法是在常温常压下,在半封闭反应器皿中按配比加入牙膏级轻质碳酸钙、去离子水和甘油,搅拌均匀,然后按配比加入十二醇硫酸钠及羧甲基壳聚糖,再加入苹果酸,调节PH值至6.2左右。本发明呈半固体膏状状态。使用时,取少量无机磨料清洁膏涂在要清洁的餐具、炊具上,轻轻地在有污渍的表面擦拭后用水冲洗,即可完成对餐具上的污渍进行清洁,并能够有效的去除细菌和异味,保证饮食的卫生。
实施例2:
该无机磨料清洁膏,其组分及其重量百分比分别为:
牙膏级轻质碳酸钙 45%,
山梨醇 30.3%,
去离子水 20%,
十二醇硫酸钠 3%,
柠檬酸 0.2%,
羧甲基壳聚糖 1.5%。
该无机磨料清洁膏的制作方法是在常温常压下,在半封闭反应器皿中按配比加入牙膏级轻质碳酸钙、去离子水和山梨醇,搅拌均匀,然后按配比加入十二醇硫酸钠及羧甲基壳聚糖,再加入柠檬酸,调节PH值至6.1左右。其它同实施例1。
实施例3:
该无机磨料清洁膏,其组分及其重量百分比分别为:
牙膏级二氧化硅 40%,
甘油 20%,
山梨醇 15%,
去离子水 20.8%,
十二醇硫酸钠 2.5%,
柠檬酸 0.2%,
羧甲基壳聚糖 1.5%。
该无机磨料清洁膏的制作方法是在常温常压下,在半封闭反应器皿中按配比加入牙膏级二氧化硅、去离子水、甘油和山梨醇,搅拌均匀,然后按配比加入十二醇硫酸钠及羧甲基壳聚糖,再加入柠檬酸,调节PH值至6.1左右。其它同实施例1。
Claims (6)
1.一种无机磨料清洁膏,其特征在于:其组分及其重量百分比分别为:
无机磨料 35-50%;
保湿剂 15-35%;
去离子水 15-30%;
十二醇硫酸钠 2-3%;
酸碱调节剂 0.1-0.3%;
壳聚糖杀菌剂 1-2%。
2.根据权利要求1所述的无机磨料清洁膏,其特征在于:所述的无机磨料为牙膏级轻质碳酸钙或牙膏级二氧化硅。
3.根据权利要求1所述的无机磨料清洁膏,其特征在于:所述的保湿剂为甘油、山梨醇、丙二醇、聚乙烯醇的其中之一或它们的混合物。
4.根据权利要求1所述的无机磨料清洁膏,其特征在于:所述的酸碱调节剂为苹果酸、柠檬酸的其中之一或者它们的混合物。
5.根据权利要求1所述的无机磨料清洁膏,其特征在于:所述的壳聚糖杀菌剂为羧甲基壳聚糖。
6.根据权利要求1所述的无机磨料清洁膏,其特征在于:所述的无机磨料清洁膏的PH值为6.0-6.3。
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PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20080625 |