CN101196571A - 光学玻璃和光学元件 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种高折射、低分散、具有异常部分分散性、加工性和耐失透性优良、并且能够抑制纹理产生的光学玻璃和光学元件。该光学玻璃的特征在于,折射率(nd)为1.54~1.60,阿贝数(υd)为65~78,部分分散比为0.530以上,比重为4.0以下,液相温度下的粘度为4dPa·s以上。另外,该光学玻璃的特征在于,当通过阳离子%来表示时,作为阳离子成分含有20~50%的P5+、0.1~20%的Al3+、0.1~20%的Mg2+、0~20%的Ca2+、0~20%的Sr2+、0.1~30%的Ba2+、0~10%的Y3+,并且作为阴离子成分含有F-和O2-,当以阳离子%为基准时,Mg2+的含量与Al3+的含量的比例Mg2+/Al3+为1.2以下。
Description
技术领域
本发明涉及光学玻璃和光学元件。
更具体地说,本发明涉及适于用作在照相机或投影仪等当中使用的透镜用玻璃的高折射率、低分散、具有异常部分分散性、并且加工性优良的光学玻璃以及由该光学玻璃形成的光学元件。
背景技术
在照相机等的光学***中,为了消除透镜的色差,通常采用组合阿贝数不同的玻璃的“消色”的设计。此时,如果在其中组合阿贝数的差大的玻璃,则效果明显。特别是为了二次消色,要求部分分散比与通常的光学玻璃不同的异常部分分散玻璃。作为阿贝数大、具有异常部分分散性的光学玻璃,阿贝数为80以上的氟磷酸盐玻璃已经实用化。但是,上述氟磷酸盐玻璃的折射率为1.5以下,不适用于屈光度大的透镜。
另一方面,作为折射率比1.5大的异常部分分散玻璃,例如公开了折射率为1.54~1.60、阿贝数为68~75、部分分散比为0.537以上的氟磷酸盐玻璃(例如,参照专利文献1)。但是,该氟磷酸盐玻璃存在如下问题:机械性质和热性质差,尤其是磨耗度大,加工性极差。因此,难以避免高的加工成本而提供低价、高性能的透镜。
另外,作为重量轻的异常部分分散玻璃,公开了折射率为1.54~1.60、阿贝数为70~80、比重小于4.1的光学玻璃(例如,参照专利文献2)。该光学玻璃的重量轻,光学性质优良,但是与专利文献1所公开的玻璃一样,其机械性质或热性质均无法说得到了充分的满足。
另一方面,高折射、低分散、具有异常部分分散性的玻璃的液相温度容易变高。因此,为了避免失透而必须制造低粘性的玻璃,但是当使用该玻璃来制造光学元件时,会出现在得到的光学元件的表面上容易产生纹理、成品率容易降低的问题。
专利文献1:日本专利文献特开平4-43854号公报;
专利文献2:日本专利文献特开2003-160356号公报。
发明内容
本发明是鉴于上述问题而完成的,其目的在于提供一种高折射、低分散、具有异常部分分散性、加工性和耐失透性优良、并且能够抑制纹理产生的光学玻璃以及由该光学玻璃形成的高性能透镜等光学元件。
本发明的发明者为了达到上述目的而进行了深入的研究,结果发现通过特定的光学玻璃可以达到上述目的,并根据该发现而完成了本发明。
即,本发明提供:
(1)、一种光学玻璃,其特征在于,折射率(nd)为1.54~1.60,阿贝数(υd)为65~78,部分分散比为0.530以上,比重为4.0以下,液相温度下的粘度为4dPa·s以上。
(2)、如(1)所述的光学玻璃,其特征在于,作为阳离子成分,当通过阳离子%来表示时,含有20~50%的P5+、0.1~20%的Al3+、0.1~20%的Mg2+、0~20%的Ca2+、0~20%的Sr2+、0.1~30%的Ba2+、0~10%的Y3+,并且作为阴离子成分含有F-和O2-,当以阳离子%为基准时,Mg2+的含量与Al3+的含量的比例Mg2+/Al3+为1.2以下。
(3)、如(2)所述的光学玻璃,其特征在于,当以阳离子%为基准时,Ba2+的含量与Mg2+、Ca2+、Sr2+、以及Ba2+的合计含量R2+的比例Ba2+/R2+小于0.5。
(4)、如(2)或(3)所述的光学玻璃,其特征在于,当通过阳离子%来表示时,含有20~50%的F-。
(5)、如(2)至(4)中任一项所述的光学玻璃,其特征在于,不含Ba3+。
(6)、如(1)至(5)中任一项所述的光学玻璃,其特征在于,磨耗度为550以下。
(7)、一种光学元件,其特征在于,所述光学元件由(1)至(6)中任一项所述的光学玻璃形成。
发明的效果
根据本发明,可以提供一种适于用作照相机或投影仪等所使用的透镜用玻璃的高折射率、低分散、具有异常部分分散性、加工性和耐失透性优良、并且能够抑制纹理的产生的光学玻璃以及由该光学玻璃形成的高性能透镜等光学元件。
本发明的光学玻璃尤其适于用作抑制色差的异常部分分散玻璃。另外,由于玻璃转移点低,因此可以在低温度下进行模压成形,因此也适用于使用经过了精密加工的模具的模压成形(精密模压成形)。
具体实施方式
本发明的光学玻璃有光学玻璃I和光学玻璃II这两种方式。以下,依次说明光学玻璃I和光学玻璃II。
(光学玻璃I)
光学玻璃I的特征在于:折射率(nd)为1.54~1.60,阿贝数(υd)为65~78,部分分散比为0.530以上,比重为4.0以下,并且液相温度下的粘度为4dPa·s以上。
光学玻璃I的折射率(nd)优选为1.545~1.60,进一步优选为1.55~1.60,特别优选为1.56~1.60。另外,阿贝数(υd)优选为66~78,进一步优选为67~78,特别优选为68~78。并且,光学玻璃I的部分分散比优选超过0.530,进一步优选为0.535以上,特别优选为0.535~0.545。
在这里,部分分散比表示折射率的波长相关性中某2个波长区域的折射率差的比例,例如由下式表示:
Pg,F=(ng-nF)/(nF-nC)
(在这里,ng表示g线(435.83nm)、nF表示F线(486.13nm)、nc表示c线(656.27nm)的折射率。)
通常,上述部分分散比与阿贝数之间近似存在线性关系,将脱离该线性关系的性质称为异常部分分散性。
由于光学玻璃I具有高折射率、低分散性和异常部分分散性,因此通过使用光学玻璃I,可以有效地对透镜的色差进行修正或使透镜单元小型化,从而可以提供一种能够进行二次消色的光学***。
光学玻璃I的比重优选小于3.95,进一步优选为3.90以下,特别优选为3.50~3.90。这样,由于光学玻璃I的重量轻,因此例如可以实现由光学玻璃I形成的透镜等的轻量化,减小自动聚焦等对驱动电机的负荷。
另外,光学玻璃I的液相温度下的粘度优选为5dPa·s以上,进一步优选为10dPa·s以上,特别优选为20~1000dPa·s。由于光学玻璃I具有上述粘度,因此通过使用光学玻璃I,可以在不产生纹理等内部缺陷的情况下制造出适用于大口径的透镜的玻璃素材。
另外,光学玻璃I的液相温度优选为850℃以下,进一步优选为800℃以下,更加优选为750℃以下。
光学玻璃I的磨耗度优选为550以下,进一步优选为500以下,更加优选为450以下,特别优选为400~450。
通过使光学玻璃I的磨耗度处于上述范围内,可以减小加工时的磨耗,使研磨面不会变得过软,得到高的加工面精度,并且不易在研磨面上残留研磨伤痕。
光学玻璃I的热膨胀系数优选小于160×10-7/℃,进一步优选为155×10-7/℃,更加优选为150×10-7/℃,特别优选为130×10-7/℃~150×10-7/℃。通过使光学玻璃I的热膨胀系数处于上述范围内,可以提高耐热冲击性,不易在研磨加工中由于切削液的温度或清洗介质的温度差而导致破裂的产生。并且,当通过蒸镀等对玻璃表面进行涂覆处理时,可以缩短冷却至室温的时间。
作为光学玻璃I的具体的组成,可以例举出以下说明的光学玻璃II所具有的组成。
(光学玻璃II)
光学玻璃II的特征在于:作为阳离子成分,当通过阳离子%来表示时,含有20~50%的P5+、0.1~20%的Al3+、0.1~20%的Mg2+、0~20%的Ca2+、0~20%的Sr2+、0.1~30%的Ba2+、0~10%的Y3+,并且作为阴离子成分而含有F-和O2-,当以阳离子%为基准时,Mg2+的含量与Al3+的含量的比例Mg2+/Al3+为1.2以下。
以下,对光学玻璃II的组成进行详细的说明,如果没有特殊的标记,%在阳离子成分的情况下表示阳离子%,在阴离子的情况下表示阴离子%。
P5+是氟磷酸盐玻璃的基本成分,是对于得到耐失透性、高折射率来说非常重要的阳离子成分。当小于20%时,耐失透性降低,折射率也容易下降。相反,当超过50%时,有时失透性会恶化,阿贝数会变得过小。因此,P5+为20~50%,优选为25~45%,进一步优选为30~40%,特别优选为32~38%。
Al3+是提高氟磷酸盐玻璃的耐失透性、抑制热膨胀的重要成分。当小于0.1%时,耐失透性会恶化,液相温度变高,从而难以进行高质量的玻璃的熔解成形。相反,当超过20%时,会出现耐失透性恶化的倾向。因此,Al3+的含量为0.1%~20%,优选为1%~20%,进一步优选为3%~18%,特别优选为5%~15%。
Mg2+是提高氟磷酸盐玻璃的耐失透性、减小比重、降低磨耗度并提高加工性的重要的阳离子成分。当Mg2+小于0.1%时,难以获得上述效果,而当超过20%时,可能会出现折射率降低并且耐失透性下降的情况。因此,Mg2+的含量为0.1%~20%,优选为1%~20%,进一步优选为3%~18%,特别优选为5%~15%。
另外,在光学玻璃II中,当以阳离子%为基准时,Mg2+的含量与Al3+的含量的比例Mg2+/Al3+为1.2以下,优选为1.1 5以下,进一步优选为1.1以下,特别优选为0.7~1.1。
具有高折射率、低分散性、以及异常部分分散性的玻璃的液相温度容易变高。因此,为了避免失透,必须制造低粘性的玻璃,结果就会出现在玻璃上容易产生纹理、成品率降低的问题。为了解决该问题,本发明的发明者进行了深入的研究而发现了如下事实并解决了上述问题,即:通过使Al3+和Mg2+的含量分别处于上述范围内,并且使当以阳离子%为基准时Mg2+的含量与Al3+的含量的比例Mg2+/Al3+为1.2以下,可以提高耐失透性,并增加熔融玻璃成形时的玻璃粘性,抑制纹理的产生。
Ca2+是提高氟磷酸盐玻璃的耐失透性、降低磨耗度并提高加工性的阳离子成分。当Ca2+超过20%时,有可能会出现折射率降低并且耐失透性下降的情况。因此,Ca2+的含量为0%~20%,优选为1%~20%,进一步优选为3%~18%,特别优选为5%~15%。
Sr2+是提高氟磷酸盐玻璃的耐失透性和折射率的阳离子成分。当Sr2+超过20%时,可能会出现折射率降低并且耐失透性下降的情况。因此,Sr2+的含量为0%~20%,优选为1%~20%,进一步优选为3%~18%,特别优选为5%~15%。
Ba2+是增大比重和热膨胀、提高磨耗度并使加工性恶化的成分,但是出于提高氟磷酸盐玻璃的耐失透性和折射率的目的,优选少量添加。当Ba2+小于0.1%时,玻璃容易失透,而当Ba2+超过30%时,会出现磨耗度变大、加工性下降的倾向。因此,Ba2+的含量为0.1%~30%,优选为0.1%~25%,进一步优选为5%~25%,进一步优选为10%~25%,特别优选为10%~20%。
在光学玻璃II中,为了提高氟磷酸盐玻璃的光学特性和加工性等而导入Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+等碱土类金属离子,如上所述,Ba2+具有会由于过量导入而使比重或热膨胀增大、提高磨耗度并使加工性恶化的作用。因此,在光学玻璃II中,当以阳离子%为基准时,Ba2+的含量与Mg2+、Ca2+、Sr2+、以及Ba2+的合计含量R2+的比例Ba2+/R2+优选小于0.5。Ba2+/R2+进一步优选为0.45以下,更加优选为0.4以下,特别优选为0.3~0.4。当Ba2+/R2+为0.5以上时,磨耗度会变大,加工性下降。
另外,为了提高玻璃的耐失透性并达到本发明的目的,R2+优选为35~60%,进一步优选为40~55%,特别优选为45~55%。
Y3+是提高光学玻璃II的折射率并且在不损害异常部分分散性的情况下提高失透性和加工性的重要的阳离子成分。由于当Y3+的含量超过10%时会出现失透的倾向,因此使Y3+的含量为0~10%,优选为1~10%,进一步优选为1~8%,特别优选为1~5%。
La3+不是必须成分,它是在不损害异常部分分散性的情况下提高光学玻璃II的折射率的阳离子成分,可以作为Y3+的辅助而少量地含有。但是,由于当其含量超过5%时玻璃容易失透,因此La3+的含量优选为0~5%,进一步优选为0~3%,特别优选为0~1%。
另外,为了达到发明的目的,优选使上述阳离子成分的合计量超过95%,进一步优选为98%以上,更加优选为99%以上,进一步优选为100%。
另外,出于调整折射率和阿贝数、提高耐失透性、调整热特性、提高机械特性等目的,Sb3+、Zn2+、Li+、Na+、K+、以及Si4+可以以小于5%的合计含量进行添加。优选小于2%。
当作为玻璃成分而导入B3+时,对于调整折射率和阿贝数、提高耐失透性、调整热特性、提高机械特性等有效,但由于当过多地导入B3+时熔解温度会显著上升(例如,超过1000℃),因此能够使用的熔解设备会受到限制。另外,当向含有F-的玻璃II中导入B3+时,由于在熔融时会大量地产生含有B或F的白烟状的化合物,因此必须通过吸尘器来收集白烟并废弃。此外,玻璃中的B3+和F-的含量会由于白烟的产生而发生变化,因此玻璃的化学特性容易改变。因此,当玻璃II含有B3+时,优选将其含量限制为0~1%,进一步优选限制为0~0.5%,进一步优选不含有。
Gd3+是可以调整光学特性的成分,虽然可以作为玻璃成分而含有,但由于比重会增大并且是高价的原料,因此成本会上升。因此,当玻璃II含有B3+时,优选将其含量限制为小于3%,进一步优选限制为小于1%,进一步优选不含有。
作为阴离子成分的F-是增大阿贝数、提高异常部分分散性的不可缺少的成分,但由于会削弱玻璃的构造,因此也是增大热膨胀和磨耗度的成分。当F-小于20%时,阿贝数小,无法得到充分的异常部分分散性。相反,当超过50%时,则可能会出现阿贝数变得过大、热膨胀系数和磨耗度变大的情况,并且当用于精密模压成形时挥发量会增多。因此,F-的含量优选为20~50%,进一步优选为25~45%,更加优选为25~40%,特别优选为30~40%。
作为阴离子成分,除了F-以外,光学玻璃II还含有O2-。O2-的含量优选为50~80%,进一步优选为55~75%,更加优选为60~75%,特别优选为60~70%。
作为阴离子成分,除了F-、O2-以外,在光学玻璃II中例如还可以添加Cl-或I-等卤素,但是为了达到发明的目的,F-和O2-的合计含量优选为95%以上,进一步优选为98%以上,更加优选为99%以上,特别优选为100%。
光学玻璃II的磨耗度优选为550以下,进一步优选为500以下,更加优选为450以下,特别优选为400~450。
通过使光学玻璃II的磨耗度处于上述范围内,可以减小加工时的磨损,同时可以使研磨面不会变得过软,得到高的加工面精度,并且不易在研磨面上残留研磨伤痕。
光学玻璃II的折射率(nd)、阿贝数(υd)、部分分散比、比重、液相温度下的粘度、液相温度、以及热膨胀系数优选与上述光学玻璃I相同。
例如可以如下来制造光学玻璃I或光学玻璃II:秤量规定量的、与要得到的玻璃组成相对应的磷酸盐、氟化物、碳酸盐、硝酸盐、氧化物等原料,在进行混合之后,通过耐热坩锅在900~1000℃左右进行熔解,并进行搅拌、澄清。
为了促进氟的挥发,优选不使用氢氧化物或水合物等原料。另外,在熔解时,优选使用耐热盖。
光学玻璃I或光学玻璃II的特征之一是熔解温度低,可以在900℃下熔解。因此,能够在熔解过程中抑制玻璃成分的挥发,从而可以减小对环境造成的负担。当在900℃下对玻璃原料进行1小时的熔解时,玻璃I和玻璃II的重量的减少10%以下,优选为5%以下,特别优选为0.1~3%。
根据需要,进行了搅拌、澄清处理的玻璃可以通过铸入成形、拉伸成形、模压成形等成形方法而被成形为规定的形状。当对熔融状态的玻璃进行成形时,成分从高温的玻璃表面挥发出来是产生纹理的原因。为了抑制玻璃成分的挥发,优选采用在干燥气氛中使熔融玻璃流出而进行成形的方法、在氮气等惰性气体气氛中(进一步优选为干燥惰性气体)使玻璃流出而进行成形的方法。当通过铸入成形来进行成形时,由于优选尽量使铸造模具内的玻璃不暴露于气氛,因此优选采用如下方法:使用具有通孔的铸造模具,从通孔的一个开口部导入熔融玻璃,使玻璃充满通孔内部,并从通孔的另一个开口部引出在通孔内进行了成形的玻璃成形体。为了防止从铸造模具取出的玻璃成形体由于急冷而破损,优选进行使成形体内部的温度与表面温度接近的操作,例如优选移至预先加热到玻璃转移温度附近的温度的退火炉中并缓冷至室温。然后,适当地进行切断、研削、研磨处理,成形为由期望组成的玻璃形成的玻璃件(glass gob)。
下面,说明本发明的光学元件。
本发明的光学元件的特征在于由光学玻璃I或光学玻璃II形成。
如上所述,光学玻璃I和光学玻璃II是加工性、耐失透性优良并抑制了纹理的产生而得到的,因此可以说由这些光学玻璃形成的光学元件的表面精度和透明性高,生产率也高。
作为光学元件,例如可以例举出非球面透镜等透镜、透镜阵列、衍射光栅、棱镜等。
作为制造本发明的光学元件的方法,优选采用如下方法:对由光学玻璃I或光学玻璃II形成的玻璃成形体或玻璃件进行精密模压成形的方法;或者对由光学玻璃I或光学玻璃II形成的玻璃成形体适当地进行切断、研削、研磨的方法等。特别优选通过精密模压成形来进行成形的方法。
上述精密模压成形也被称为模制光学成形,在本技术领域中是公知的方法。在光学元件中,透射、折射、衍射、反射光线的面被成为光学功能面(当以透镜为例时,非球面透镜的非球面或球面透镜的球面等透镜面相当于光学功能面),通过使用精密模压成形将模压成形模具的成形面精密地复制到玻璃上,可以通过模压成形来形成光学功能面,而不需要为了精加工光学功能面而进行研削或研磨等机械加工。
精密模压成形所使用的模压成形模具是公知的,例如可以使用在碳化硅、氧化锆、氧化铝等耐热性陶瓷的型材的成形面上设置脱模膜的模具,其中优选使用由碳化硅制造的模压成形模具,作为脱模膜,可以使用含碳膜等。从耐久性、成本等方面出发,特别优选碳膜。
在精密模压成形中,为了将模压成形模具的成形面保持为良好的状态,优选使成形时的气氛为非氧化性气体。作为非氧化性气体,优选氮、氮和氢的混合气体等。
(实施例)
下面,通过实施例来进一步详细地说明本发明,但是本发明不受这些例子的任何限制。
实施例1~4和比较例1
可以如下来进行制造:秤量规定量的、与要得到的玻璃组成相对应的磷酸盐、氟化物、碳酸盐、硝酸盐、氧化物等原料,在进行混合之后,通过耐热坩锅在900~1000℃左右进行熔解,并进行搅拌、澄清。
秤量规定量的、与表1所示的各玻璃组成相对应的磷酸盐、氟化物、碳酸盐、硝酸盐、氧化物等原料,在进行混合之后,在铂坩锅中进行熔解。实施例1~4的玻璃在900~1000℃的温度下熔解。
在进行了玻璃的搅拌、澄清之后,使玻璃流出到铁板上而成形为玻璃块。将该玻璃块移至预先加热到玻璃转移点附近的温度的炉中,进行退火处理并直至室温。
从得到的玻璃块切分出各种用于测定的样品,并如下测定了其物理特性。
折射率(nd)和阿贝数(υd)根据日本光学玻璃工业协会标准JOGIS-01来进行测定。
根据作为g线、F线、c线的各个折射率的ng、nF、nc并通过Pg,F=(ng-nF)/(nF-nC)求出了部分分散比(Pg,F)。
玻璃转移点(Tg)和热膨胀系数(α)是根据日本光学玻璃工业协会标准JOGIS-08进行测定的。另外,热膨胀系数对于玻璃转移点小于300℃的实施例来说也存在,因此均在100℃至250℃的范围内进行测定。
比重(Sg)是根据日本光学玻璃工业协会标准JOGIS-05进行测定的。
磨耗度(FA)是根据日本光学玻璃工业协会标准JOGIS-10进行测定的。努氏硬度是根据日本光学玻璃工业协会标准JOGIS-09进行测定的。
(表1)
单位 | 实施例1 | 实施例2 | 实施例3 | 实施例4 | 比较例1 | |
P5+ | 阳离子% | 35.5 | 36.5 | 34.9 | 36.5 | 45.0 |
Al3+ | 阳离子% | 12.9 | 9.7 | 8.5 | 9.7 | 18.8 |
Mg2+ | 阳离子% | 10.0 | 6.8 | 10.0 | 10.0 | 0.0 |
Mg2+/Al3+ | 阳离子%比 | 0.78 | 0.70 | 1.18 | 1.03 | 0.0 |
Ca2+ | 阳离子% | 6.5 | 11.6 | 8.4 | 11.6 | 0.9 |
Sr2+ | 阳离子% | 14.3 | 13.8 | 14.8 | 10.6 | 1.0 |
Ba2+ | 阳离子% | 18.6 | 18.2 | 19.0 | 18.2 | 30.6 |
Ba2+/R2+* | 阳离子%比 | 0.38 | 0.36 | 0.36 | 0.37 | 0.94 |
Y3+ | 阳离子% | 2.2 | 3.4 | 4.4 | 3.4 | 3.4 |
阳离子合计 | 100.0 | 100.0 | 100.0 | 100.0 | 99.7 | |
O2- | 阴离子% | 62.3 | 60.0 | 61.3 | 65.2 | 60.7 |
F- | 阴离子% | 37.7 | 40.0 | 38.7 | 34.8 | 39.3 |
阴离子合计 | 100.0 | 100.0 | 100.0 | 100.0 | 100.0 | |
折射率(nd) | 1.56103 | 1.55708 | 1.56065 | 1.55900 | 1.56802 | |
阿贝数(υd) | 71.74 | 71.6 | 71.88 | 71.50 | 71.44 | |
部分分散比(Pg,F) | 0.5358 | 0.5398 | 0.5659 | 0.5345 | 0.5333 | |
热膨胀系数(α) | ×10-7/℃ | 138 | 148 | 145 | 145 | 139 |
玻璃转移温度(Tg) | 520 | 490 | 505 | 482 | 490 | |
比重(Sg) | 3.8 | 3.86 | 3.75 | 3.84 | 4.05 | |
磨耗度(FA) | 480 | 470 | 460 | 470 | 620 | |
努氏硬度 | 350 | 330 | 330 | 340 | 340 | |
液相温度 | ℃ | 840 | 740 | 820 | 690 | 860 |
液相温度下的粘度 | dPa·s | 4 | 25 | 5 | 150 | 3 |
*R2+:Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+的合计总量
根据实施例1~4,本发明的光学玻璃的折射率(nd)高至1.55708~1.56103,阿贝数(υd)高至71.50~71.88,根据阿贝数(υd)与部分分散比(Pg,F)的关系可知具有异常部分分散性。另外,可知本发明的光学玻璃的比重小至3.75~3.86(重量轻),液相温度下的粘度大至4~150(能够抑制纹理的产生),磨耗度小至460~480(加工性优良)。
另外,通过对比实施例1~4与比较例1可知:不含Mg2+、含有30.6%的Ba2+的比较例1的光学玻璃的玻璃比重大(重)至4.05,液相温度下的粘度小至3dPa·s(容易引起纹理的产生),磨耗度高至620(加工性低)。
实施例5
在熔融容器内对按照与表1所示的实施例1的玻璃组成相对应的方式秤量的各玻璃原料进行加热、熔解,制造出澄清、均质化的熔融玻璃,使该熔融玻璃流出而铸入到铸造模具中,得到具有棒状、板状等形状的玻璃成形体。
在对这些玻璃成形体进行缓冷之后,通过切断或割断上述玻璃成形体而分割为被称为切片(cut piece)的玻璃片,对玻璃片进行机械加工,使其成为整个表面光滑的规定重量的精密模压成形用玻璃件。可以根据需要在该玻璃件的表面上形成脱模膜。
然后,将上述玻璃件导入到精密模压成形模具中,将玻璃件与上述模具一起进行加热,进行精密模压成形,从而制造出光学元件。
这样,制造出由实施例1的玻璃形成的光学元件。得到的光学元件的透明性高,在其表面上未发现研磨伤痕或纹理等缺陷,得到了高质量的光学元件。另外,当进行机械加工时,玻璃未发生破损。
在上述方法中将玻璃件与精密模压成形模具一起进行加热,但也可以向经过预热的精密模压成形模具导入另外加热的玻璃件而进行精密模压成形,从而制造出光学元件。
另外,玻璃成形体的制造、玻璃片的制造、玻璃件的制造、玻璃件的精密模压成形等可以使用公知的方法。
这样,可以制造出以非球面透镜等各种透镜为代表的光学元件。也可以根据需要在光学元件的表面上形成防反射膜等光学多层膜。
比较例2
除了代替实施例1的玻璃而使用了比较例1的玻璃以外,与实施例5同样地制造了光学元件。
在得到的光学元件的表面上未发现研磨伤痕或纹理等缺陷。另外,当进行机械加工时,玻璃的一部分破损。
(工业实用性)
本发明的光学玻璃为高折射率、低分散的玻璃并具有异常部分分散性,其加工性、耐失透性优良,能够抑制纹理的产生,因此适于作为用于抑制色差的异常部分分散玻璃而例如用作照相机或投影仪等所使用的透镜。
Claims (7)
1.一种光学玻璃,其特征在于,
所述光学玻璃的折射率nd为1.54~1.60,阿贝数υd为65~78,部分分散比为0.530以上,比重为4.0以下,液相温度下的粘度为4dPa·s以上。
2.如权利要求1所述的光学玻璃,其特征在于,
当通过阳离子%来表示时,作为阳离子成分含有20~50%的P5+、0.1~20%的Al3+、0.1~20%的Mg2+、0~20%的Ca2+、0~20%的Sr2+、0.1~30%的Ba2+、0~1 0%的Y3+,并且作为阴离子成分含有F-和O2-,
当以阳离子%为基准时,Mg2+的含量与Al3+的含量的比例Mg2+/Al3+为1.2以下。
3.如权利要求2所述的光学玻璃,其特征在于,
当以阳离子%为基准时,Ba2+的含量与Mg2+、Ca2+、Sr2+、以及Ba2+的合计含量R2+的比例Ba2+/R2+小于0.5。
4.如权利要求2或3所述的光学玻璃,其特征在于,当通过阳离子%来表示时,含有20~50%的F-。
5.如权利要求2至4中任一项所述的光学玻璃,其特征在于,不含有Ba3+。
6.如权利要求1至5中任一项所述的光学玻璃,其特征在于,磨耗度为550以下。
7.一种光学元件,其特征在于,所述光学元件由权利要求1至6中任一项所述的光学玻璃形成。
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101993195A (zh) * | 2009-08-06 | 2011-03-30 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件以及预成形体 |
CN102260043A (zh) * | 2010-05-18 | 2011-11-30 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件和预成型坯 |
CN102557437A (zh) * | 2010-12-20 | 2012-07-11 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件和预成型坯 |
CN102674689A (zh) * | 2011-03-17 | 2012-09-19 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件以及预成型坯 |
CN104276759A (zh) * | 2010-05-18 | 2015-01-14 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件和预成型坯 |
CN105036549A (zh) * | 2014-04-17 | 2015-11-11 | 株式会社住田光学玻璃 | 光学玻璃、用于精密冲压成型的预成型件及光学元件 |
CN106746613A (zh) * | 2016-12-13 | 2017-05-31 | 成都光明光电股份有限公司 | 光学玻璃 |
CN110937809A (zh) * | 2012-05-15 | 2020-03-31 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件及预成型体 |
CN111434634A (zh) * | 2019-01-11 | 2020-07-21 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件以及预制件 |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060252775A1 (en) * | 2005-05-03 | 2006-11-09 | Henderson Samuel T | Methods for reducing levels of disease associated proteins |
JP5063537B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2012-10-31 | Hoya株式会社 | フツリン酸ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子ブランクおよび光学素子とそれら製造方法 |
JP5069649B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2012-11-07 | Hoya株式会社 | フツリン酸ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子ブランクおよび光学素子とそれら製造方法 |
JP5188269B2 (ja) | 2008-05-30 | 2013-04-24 | Hoya株式会社 | 光学ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子およびそれらの製造方法 |
JP2010059021A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-03-18 | Hoya Corp | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子それぞれの製造方法 |
JP2010235429A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Ohara Inc | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム |
JP5823859B2 (ja) * | 2009-04-28 | 2015-11-25 | 株式会社オハラ | 光学ガラス、光学素子及び精密プレス成形用プリフォーム |
WO2011024270A1 (ja) | 2009-08-26 | 2011-03-03 | Hoya株式会社 | フツリン酸ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、光学素子およびそれらの製造方法ならびにガラス成形体の製造方法 |
JP5919595B2 (ja) * | 2010-05-18 | 2016-05-18 | 株式会社オハラ | 光学ガラス、光学素子およびプリフォーム |
JP5660846B2 (ja) * | 2010-10-14 | 2015-01-28 | Hoya株式会社 | フツリン酸塩ガラス、プレス成型用ガラス素材、光学素子それぞれの製造方法。 |
JP5919594B2 (ja) * | 2010-12-15 | 2016-05-18 | 株式会社オハラ | 光学ガラス、光学素子およびプリフォーム |
JP2013100213A (ja) * | 2011-10-19 | 2013-05-23 | Ohara Inc | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム |
JP6096501B2 (ja) * | 2011-12-28 | 2017-03-15 | 株式会社オハラ | 光学ガラス及び光学素子 |
JP5721781B2 (ja) * | 2012-06-29 | 2015-05-20 | 株式会社オハラ | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム |
JP5721780B2 (ja) * | 2012-06-29 | 2015-05-20 | 株式会社オハラ | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム |
TWI649292B (zh) * | 2012-06-29 | 2019-02-01 | 日商小原股份有限公司 | 光學玻璃、光學元件及預成形體 |
JP5987228B2 (ja) * | 2012-07-18 | 2016-09-07 | Hoya株式会社 | 光学ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子とそれらの製造方法 |
JP6366122B2 (ja) * | 2012-11-21 | 2018-08-01 | 日本電気硝子株式会社 | フツリン酸ガラスの製造方法 |
JP6537781B2 (ja) * | 2013-04-30 | 2019-07-03 | 株式会社オハラ | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム |
CN105452183B (zh) | 2013-06-04 | 2018-04-27 | Hoya株式会社 | 光学玻璃、光学元件坯件、压制成型用玻璃材料、光学元件及它们的制造方法 |
JP2016124733A (ja) * | 2014-12-26 | 2016-07-11 | Hoya株式会社 | ガラス塊の製造方法、及び、ガラス塊の製造装置 |
JP6985173B2 (ja) * | 2018-02-14 | 2021-12-22 | 光ガラス株式会社 | 光学ガラス、光学素子、光学系、カメラ用交換レンズ及び光学装置 |
JP2020111497A (ja) * | 2019-01-11 | 2020-07-27 | 株式会社オハラ | 光学ガラス、光学素子及びプリフォーム |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53105517A (en) * | 1977-02-28 | 1978-09-13 | Hoya Glass Works Ltd | Fluorophosphate laser glass |
JPS55144448A (en) * | 1979-04-24 | 1980-11-11 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Fluorophosphate optical glass |
JPH0643254B2 (ja) * | 1988-02-29 | 1994-06-08 | ホーヤ株式会社 | 弗燐酸塩ガラス |
JPH02124740A (ja) * | 1988-10-06 | 1990-05-14 | Sumita Kogaku Glass Seizosho:Kk | フツリン酸塩光学ガラス |
JP2726078B2 (ja) * | 1989-01-31 | 1998-03-11 | ホーヤ株式会社 | 近赤外線吸収フィルターガラス |
JPH0443854A (ja) | 1990-06-08 | 1992-02-13 | Aisan Ind Co Ltd | 燃料噴射弁 |
JP3154575B2 (ja) * | 1992-11-20 | 2001-04-09 | 株式会社オハラ | 弗燐酸塩光学ガラス |
JP3575836B2 (ja) * | 1994-10-03 | 2004-10-13 | Hoya株式会社 | 高紫外線透過性弗燐酸塩ガラス及びその製造方法 |
JPH09211505A (ja) * | 1996-01-30 | 1997-08-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光ファイバ増幅器 |
JP5349721B2 (ja) | 2000-06-05 | 2013-11-20 | 株式会社オハラ | 光照射による屈折率変化の小さい光学ガラス |
JP2003095694A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | モールドレンズ用ガラス |
WO2003037813A1 (fr) * | 2001-10-30 | 2003-05-08 | Sumita Optical Glass,Inc. | Verre optique destine a la formation de moules |
JP3973410B2 (ja) * | 2001-11-26 | 2007-09-12 | Hoya株式会社 | 光学ガラスおよび光学部品 |
JP4053810B2 (ja) * | 2002-04-18 | 2008-02-27 | 株式会社オハラ | 異常分散性を有する光学ガラス |
JP4169545B2 (ja) * | 2002-07-05 | 2008-10-22 | Hoya株式会社 | 近赤外光吸収ガラス、近赤外光吸収素子、近赤外光吸収フィルターおよび近赤外光吸収ガラス成形体の製造方法 |
US7192897B2 (en) | 2002-07-05 | 2007-03-20 | Hoya Corporation | Near-infrared light-absorbing glass, near-infrared light-absorbing element, near-infrared light-absorbing filter, and method of manufacturing near-infrared light-absorbing formed glass article, and copper-containing glass |
JP3965352B2 (ja) * | 2002-10-16 | 2007-08-29 | Hoya株式会社 | 銅含有ガラス、近赤外光吸収素子および近赤外光吸収フィルター |
US7157391B2 (en) * | 2002-12-27 | 2007-01-02 | Hoya Corporation | Optical glass, preform for press molding and optical element |
JP4162532B2 (ja) * | 2003-04-18 | 2008-10-08 | Hoya株式会社 | 光学ガラス、プレス成形用プリフォーム及びその製造方法、光学素子及びその製造方法 |
JP4165703B2 (ja) * | 2003-09-01 | 2008-10-15 | Hoya株式会社 | 精密プレス成形用プリフォームの製造方法および光学素子の製造方法 |
JP4744795B2 (ja) * | 2003-09-04 | 2011-08-10 | Hoya株式会社 | 精密プレス成形用プリフォームおよびその製造方法並びに光学素子およびその製造方法 |
EP1555247A1 (de) * | 2004-01-16 | 2005-07-20 | Schott AG | Optisches Glas insbesondere für blankgepresste optische Elemente |
JP4166172B2 (ja) * | 2004-03-01 | 2008-10-15 | Hoya株式会社 | 精密プレス成形用プリフォームの製造方法および光学素子の製造方法 |
US7598189B2 (en) * | 2004-09-29 | 2009-10-06 | Hoya Corporation | Phosphate optical glass, preform for precision press molding and manufacturing method of the same, optical element and manufacturing method of the same |
JP4570576B2 (ja) | 2005-03-30 | 2010-10-27 | Hoya株式会社 | 光学ガラス、プレス成形用プリフォームとその製造方法、および光学素子とその製造方法 |
CN1854100B (zh) * | 2005-03-30 | 2012-05-09 | Hoya株式会社 | 光学玻璃、模压预制体、其制造方法、光学元件及其制造方法 |
JP4498315B2 (ja) * | 2005-07-28 | 2010-07-07 | Hoya株式会社 | 光学ガラスおよび光学素子とその製造方法 |
JP5004202B2 (ja) * | 2005-09-14 | 2012-08-22 | Hoya株式会社 | 光学ガラス、精密プレス成形用プリフォームおよび光学素子 |
JP5160043B2 (ja) | 2006-03-31 | 2013-03-13 | Hoya株式会社 | モールドプレス用ガラス素材、及びガラス光学素子の製造方法 |
JP5079273B2 (ja) * | 2006-07-03 | 2012-11-21 | Hoya株式会社 | リン酸塩ガラス、フツリン酸塩ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子およびそれぞれの製造方法 |
-
2006
- 2006-12-05 JP JP2006328631A patent/JP2008137877A/ja active Pending
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2007
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Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101993195A (zh) * | 2009-08-06 | 2011-03-30 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件以及预成形体 |
CN101993195B (zh) * | 2009-08-06 | 2016-06-29 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件以及预成形体 |
CN102260043B (zh) * | 2010-05-18 | 2016-05-18 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件和预成型坯 |
CN102260043A (zh) * | 2010-05-18 | 2011-11-30 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件和预成型坯 |
CN104276759A (zh) * | 2010-05-18 | 2015-01-14 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件和预成型坯 |
CN102557437A (zh) * | 2010-12-20 | 2012-07-11 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件和预成型坯 |
CN102674689A (zh) * | 2011-03-17 | 2012-09-19 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件以及预成型坯 |
CN110937809A (zh) * | 2012-05-15 | 2020-03-31 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件及预成型体 |
CN105036549A (zh) * | 2014-04-17 | 2015-11-11 | 株式会社住田光学玻璃 | 光学玻璃、用于精密冲压成型的预成型件及光学元件 |
CN112159103A (zh) * | 2014-04-17 | 2021-01-01 | 株式会社住田光学玻璃 | 光学玻璃、用于精密冲压成型的预成型件及光学元件 |
CN106746613A (zh) * | 2016-12-13 | 2017-05-31 | 成都光明光电股份有限公司 | 光学玻璃 |
CN106746613B (zh) * | 2016-12-13 | 2020-03-31 | 成都光明光电股份有限公司 | 光学玻璃 |
CN111434634A (zh) * | 2019-01-11 | 2020-07-21 | 株式会社小原 | 光学玻璃、光学元件以及预制件 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7989377B2 (en) | 2011-08-02 |
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CN101196571B (zh) | 2012-05-30 |
JP2008137877A (ja) | 2008-06-19 |
EP1930301A1 (en) | 2008-06-11 |
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