CN101055448A - 二维表面发射激光器阵列、多束扫描单元以及成像装置 - Google Patents
二维表面发射激光器阵列、多束扫描单元以及成像装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101055448A CN101055448A CNA200610172562XA CN200610172562A CN101055448A CN 101055448 A CN101055448 A CN 101055448A CN A200610172562X A CNA200610172562X A CN A200610172562XA CN 200610172562 A CN200610172562 A CN 200610172562A CN 101055448 A CN101055448 A CN 101055448A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- surface emitting
- emitting laser
- bivariate table
- laser array
- theta
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
- B41J2/473—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/123—Multibeam scanners, e.g. using multiple light sources or beam splitters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/18—Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/42—Arrays of surface emitting lasers
- H01S5/423—Arrays of surface emitting lasers having a vertical cavity
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N9/00—Details of colour television systems
- H04N9/12—Picture reproducers
- H04N9/31—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM]
- H04N9/3141—Constructional details thereof
- H04N9/315—Modulator illumination systems
- H04N9/3161—Modulator illumination systems using laser light sources
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
Abstract
一种具有两种副扫描间距的二维表面发射激光器阵列。多束扫描单元采用此激光器阵列,成像装置采用此多束扫描单元。二维表面发射激光器阵列包括n×m个表面发射激光器,其包括在基线N上以基本相等的间隔a设置的n个表面发射激光器以及在n条斜线M上以基本相等的间隔b设置的m个表面发射激光器,n条斜线M相对于基线N倾斜角度θ且通过相应的n个表面发射激光器。选择性地形成以第一副扫描间距P1隔开的多条第一扫描线或以宽度不同于该第一副扫描间距P1的第二副扫描间距P2隔开的多条第二扫描线。变量a、b、Φ和θ满足(见公式(Ⅰ))n和m是大于2的正整数,Φ是第一扫描线与第二扫描线之间的角度。
Description
技术领域
本发明涉及二维表面发射激光器阵列、采用该二维表面发射激光器阵列的多束扫描单元、以及采用该多束扫描单元的成像装置。更特别地,本发明涉及用于形成两类以不同副扫描间距隔开的扫描线的二维表面发射激光器阵列、采用该二维表面发射激光器阵列的多束扫描单元、以及采用该多束扫描单元的成像装置。
背景技术
由于多束扫描单元采用能够发射多束激光束的光源阵列同时扫描多条扫描线,所以与采用单束的单束扫描单元比,此多束扫描单元可在减小光束偏转器的驱动速度例如旋转多面镜的转数的同时提供相等或者更高的扫描性能。因此,由于光束偏转器的驱动速度减小,多束扫描单元可进行高速和高分辨率的印刷并确保低噪音和高可靠性。于是,多束扫描单元可应用于例如激光打印机、数字复印机和传真机一类的成像装置。
在采用多个可独立控制的光源来发射多束激光束的多束激光扫描单元中,需要减小相邻光源之间的距离以减小形成在感光介质上的扫描线之间的距离。
由于光源之间的距离小,一维激光器阵列具有光源之间相互干扰的问题。干扰导致感光介质的成像表面上的激光能大于或小于预定值,从而使印刷图像的密度不一致以及印刷质量下降例如图像模糊。
为解决此与一维激光器阵列相关的问题,美国专利No.5848087公开了一种多个激光器以恒定间隔设在二维平面上的二维表面发射激光器阵列,在此引入该申请的全部公开内容以供参考。
图1是传统二维表面发射激光器阵列的透视图。参照图1,传统二维表面发射激光器阵列包括以间距d1设在基线A上的多个激光器1和以间距d2设在斜线B上的多个激光器5,该斜线B相对于基线A倾斜角度α且通过激光器1。图1所示传统二维表面发射激光器阵列包括以4×3构形设置的12个激光器。利用分别位于第二和第三线处的第三和第四激光器6和7在利用基线A上相邻的第一和第二激光器2和3形成的扫描线L1之间形成两条扫描线L1。由此,12条扫描线以副扫描间距P11相等地隔开。与一维激光器阵列相比,二维激光器可在加宽相邻激光器之间距离的同时减小副扫描间距,从而避免相邻激光器之间的干扰。
当二维表面发射激光器阵列用作多束扫描单元的光源且如图2所示旋转任意角度β时,副扫描间距改变。也就是说,当如图1所示被构造用以形成扫描线L1的二维表面发射激光器阵列转动角度β以形成如图2所示的扫描线L2时,相邻的第一和第三激光器2和6以副扫描间距P22隔开,相邻的第三和第四激光器6和7以副扫描间距P21隔开,以及相邻的第一和第二激光器2和3以副扫描间距P23隔开。参照图2,副扫描间距P21和P22相等,而副扫描间距P23不同于副扫描间距P21和P22中的每个。
因此,二维表面发射激光器阵列不容许光源具有不同的副扫描间距。也就是说,传统二维表面发射激光器阵列不能形成如图1中所示的以副扫描间距P11相等隔开的两扫描线,而形成以大于或小于该副扫描间距P11的副扫描间距隔开的扫描线。因此,传统二维表面发射激光器阵列一般不能被具有不同分辨率的成像装置采用。
于是,需要这样一种具有多束扫描单元的成像装置,该多束扫描单元包括用于形成两类以不同副扫描间距隔开的扫描线的二维表面发射激光器阵列。
发明内容
本发明的示范实施例提供一种形成以不同副扫描间距隔开的两类扫描线的二维表面发射激光器阵列、采用该二维表面发射激光器阵列的多束扫描单元、以及采用该多束扫描单元的成像装置。依据本发明的一方面,二维表面发射激光器阵列发射沿感光介质的副扫描方向具有预定间隔的多束激光束。此二维表面发射激光器阵列包括n×m个表面发射激光器,该n×m个表面发射激光器包括在基线N上以间隔a设置的n个表面发射激光器以及在n条斜线M上以间隔b设置的m个表面发射激光器,n条斜线M相对于基线N倾斜角度θ且通过相应的n个表面发射激光器。选择性地形成以第一副扫描间距P1隔开的多条第一扫描线或以宽度不同于该第一副扫描间距P1的第二副扫描间距P2隔开的多条第二扫描线。变量a、b、Φ和θ满足
a=m×P1
这里,n和m都是大于2的正整数,且Φ是第一扫描线与第二扫描线之间的角度。
依据本发明的另一方面,二维表面发射激光器阵列发射沿感光介质的副扫描方向具有预定间隔的多束激光束。此二维表面发射激光器阵列包括n×2个表面发射激光器,该n×2个表面发射激光器包括在基线N上以间隔a设置的n个表面发射激光器以及在n条斜线M上以间隔b设置的两个表面发射激光器,n条斜线M相对于基线N倾斜角度θ且通过相应的n个表面发射激光器。选择性地形成以第一副扫描间距P1隔开的多条第一扫描线或以宽度不同于该第一副扫描间距P1的第二副扫描间距P2隔开的多条第二扫描线。变量a、b、Φ和θ满足
a=2×P1
这里,n是大于2的正整数,且Φ是第一扫描线与第二扫描线之间的角度。
依据本发明的另一方面,一种多束扫描单元包括同时发射沿感光介质的副扫描方向具有预定间隔的多束激光束的二维表面发射激光器阵列。光束偏转器沿感光介质的主扫描方向偏转和扫描利用二维表面发射激光器阵列发射的多束激光束。此二维表面发射激光器阵列包括n×m个表面发射激光器,该n×m个表面发射激光器包括在基线N上以间隔a设置的n个表面发射激光器以及在n条斜线M上以间隔b设置的m个表面发射激光器,n条斜线M相对于基线N倾斜角度θ且通过相应的n个表面发射激光器。选择性地形成以第一副扫描间距P1隔开的多条第一扫描线或以宽度不同于该第一副扫描间距P1的第二副扫描间距P2隔开的多条第二扫描线。变量a、b、Φ和θ满足
a=m×P1
这里,n和m都是大于2的正整数,且Φ是第一扫描线与第二扫描线之间的角度。
依据本发明的另一方面,一种多束扫描单元包括同时发射沿感光介质的副扫描方向具有预定间隔的多束激光束的二维表面发射激光器阵列。光束偏转器沿感光介质的主扫描方向偏转和扫描利用二维表面发射激光器阵列发射的多束激光束。此二维表面发射激光器阵列包括n×2个表面发射激光器,该n×2个表面发射激光器包括在基线N上以间隔a设置的n个表面发射激光器以及在n条斜线M上以间隔b设置的两个表面发射激光器,n条斜线M相对于基线N倾斜角度θ且通过相应的n个表面发射激光器。选择性地形成以第一副扫描间距P1隔开的多条第一扫描线或以宽度不同于该第一副扫描间距P1的第二副扫描间距P2隔开的多条第二扫描线。变量a、b、Φ和θ满足
a=2×P1
这里,n是大于2的正整数,且Φ是第一扫描线与第二扫描线之间的角度。
依据本发明的另一方面,一种成像装置包括具有暴露于激光束的感光介质的显影单元。多束扫描单元通过扫描激光束到感光介质上来形成静电潜像。转移单元对应于显影单元且把利用该显影单元显影的图像转移到印刷介质上。定影单元固定被转移到印刷介质上的图像。
自以下结合附图公开本发明示范实施例的详细说明,本发明的其它目的、优点和显著特征将变得明显。
附图说明
通过参照附图详细说明本发明的示范实施例,本发明的以上及其它特征和优点将变得更明显,其中:
图1是传统二维表面发射激光器阵列的透视图;
图2是当图1所示传统二维表面发射激光器阵列转动任意角度β时副扫描间距的变化的透视图;
图3是依据本发明一种示范实施例的多束扫描单元的透视图;
图4表示依据本发明一种示范实施例的包括以4×2构形设置的激光器的二维表面发射激光器阵列的布置;
图5表示包括以4×3构形设置的激光器的图4所示二维表面发射阵列的变形;
图6表示依据本发明另一示范实施例的第一扫描线数为2n+1的二维表面发射激光器阵列;
图7表示第一扫描线数为2n-1的图2所示二维表面发射激光器阵列的变形;以及
图8是依据本发明一种示范实施例的成像装置的剖视图。
在所有附图中,相同附图标记将被理解为指代相同部件、组件和结构。
具体实施方式
参照表示本发明示范实施例的附图更充分地说明本发明。
图3是表示依据本发明一种示范实施例的多束扫描单元的布置的透视图。
参照图3,多束扫描单元把光线扫描到感光介质50上,该感光介质50具有绕方向D转动的暴露面。多束扫描单元包括二维表面发射激光器阵列10和光束偏转器30,该二维表面发射激光器阵列10发出沿感光介质50的副扫描方向Y具有预定间隔的多束激光束,且该光束偏转器30沿感光介质50的主扫描方向X偏转和扫描利用二维表面发射激光器阵列10发射的多束激光束。
光束偏转器30可以是如图3中所示的多面镜单元,所述光束偏转器30沿感光介质50的主扫描方向X偏转和扫描利用二维表面发射激光器单元10发射的光线。多面镜单元包括驱动源31和相对于该驱动源31转动的多面镜35。多面镜35具有多个反射侧面35a,且在转动的同时偏转和扫描入射光线。光束偏转器30不限于多面镜单元,而可以是全息盘式光束偏转器、用于偏转和扫描入射光束的检流计扫描***、或者任何其它适当的光束偏转器。
准直透镜21和柱面透镜23设在二维表面发射激光器阵列10与光束偏转器30之间的光路中。准直透镜21准直或会聚从二维表面发射激光器阵列10发射的多束光束。柱面透镜23沿主扫描方向和/或副扫描方向把经由准直透镜21输出的光束聚集成光束偏转器30上的线。柱面透镜23包括至少一个透镜。
多束扫描单元还包括f-θ透镜41和同步信号检测装置。f-θ透镜41设在光束偏转器30与感光介质50之间。f-θ透镜41包括至少一个透镜,且沿着主扫描方向和副扫描方向以不同的放大率校正利用光束偏转器30偏转的光线以使经校正的光线在感光介质50上成像。
同步信号检测装置接收从二维表面发射激光器阵列10发出的一些光束,并水平同步该扫描光束。同步信号检测装置包括:同步信号传感器29,其接收利用光束偏转器30偏转且通过f-θ透镜41的一些光束;镜25,其设在f-θ透镜41与同步信号传感器29之间且反射入射光束;以及聚焦利用镜25反射的光束的聚焦透镜27。
此外,反射镜45可设在f-θ透镜41与感光介质50之间。反射镜45反射从光束偏转器30入射的扫描线,以在感光介质50的暴露面上同时形成多条扫描线例如图3所示的四条扫描线L11、L12、L13和L14。
二维表面发射激光器阵列10用于发射沿感光介质50的副扫描方向Y具有预定间隔的多束激光束,该激光器阵列10可依据光学布置选择性地形成相邻激光束之间以不同副扫描间距基本相等地隔开的两类扫描线之一。
图4表示依据本发明一种示范实施例的二维表面发射激光器阵列的布置。
参照图4,二维表面发射激光器阵列10包括n×m个表面发射激光器15,该n×m个表面发射激光器15包括在基线N上以相等间隔a相互隔开的n个表面发射激光器以及在n条斜线M上以相等间隔b相互隔开的m个表面发射激光器,该n条斜线M相对于基线N倾斜角度θ且通过相应的n个表面发射激光器。表面发射激光器15可以是朝向基本垂直于基片11(参见图3)表面的方向发射激光束的垂直空腔表面发射激光器(VCSEL)。VCSEL可容易地在半导体制造过程中排列于基片11上。
参照图4,二维表面发射激光器阵列10包括以4×2构形设置的8个表面发射激光器15,这里,n=4且m=2。这8个表面发射激光器15被独立地驱动以同时发射8条光束。当变量a、b、Φ和θ满足方程1时,依据二维表面发射激光器阵列10与光束偏转器30(参见图3)之间就它们的布置而言的关系,该二维表面发射激光器阵列10可利用所发射的多条光束选择性地形成以第一副扫描间距P1相等隔开的8条第一扫描线L11至L18或以宽度不同于第一副扫描间距P1的第二副扫描间距P2相等隔开的8条第二扫描线L21至L28。
a=m×P1
这里,n和m都是大于2的正整数,且Φ是第一扫描线与第二扫描线之间的角度。也就是说,Φ指示被设置成具有第一副扫描间距P1的二维表面发射激光器阵列10转动至具有第二副扫描间距P2的角度。
当n×m个表面发射激光器15被构造成满足方程1时,二维表面发射激光器阵列10可选择性地扫描以第一副扫描间距P1隔开的多条第一扫描线L11至L18或以第二副扫描间距P2隔开的多条第二扫描线L21至L28。例如,对于如图4所示以4×2构形设置的表面发射激光器15,为满足P1=14μm且P2=7μm,可基于方程1算出变量Φ、θ、a和b。也就是说,通过把多个表面发射激光器15设在基片11(参见图3)上以使Φ=60°、θ=49.11°、a=28μm和b=21.39μm,第一副扫描间距P1为14μm且第二副扫描间距P2为7μm。
图5表示表面发射激光器15以4×3构形设置的图4所示二维表面发射阵列的变形。为满足P1=14μm且P2=7μm,可如下算出变量Φ、θ、a和b。通过把多个表面发射激光器15设在基片11(参见图3)上以使Φ=60°、θ=49.11°、a=42μm和b=21.39μm,第一副扫描间距P1为14μm且第二副扫描间距P2为7μm。
因此,对于以4×4构形或4×5构形设置的表面发射激光器15,为形成以与副扫描间距P1和P2相同的距离隔开的扫描线,Φ、θ和b应分别设定为上述值即60°、49.11°和21.39μm,且a应设定为56μm或70μm。
图6表示依据本发明另一示范实施例的第一扫描线数为2n+1的二维表面发射激光器阵列的布置。图7表示第一扫描线数为2n-1的图6所示二维表面发射激光器阵列的变形。
参照图6和7,二维表面发射激光器阵列10分别包括n×2个表面发射激光器16和17,该n×2个表面发射激光器16和17包括在基线N上以基本相等的间隔a设置的n个表面发射激光器以及在n条斜线M上以间隔b设置的两个表面发射激光器,该n条斜线M相对于基线N倾斜角度θ且通过相应的n个表面发射激光器。
当利用位于基线N上的表面发射激光器16a形成的第二扫描线遇到该基线N旁边的第二基线N2时,(2n+1)和(2n-1)中的一个是位于第二扫描线与基线N之间的交点Pi同第二扫描线与第二基线N2之间的交点P0之间的第一扫描线的数量。
图6所示的二维表面发射激光器阵列10具有9(=2×4+1)条第一扫描线,图7所示的二维表面发射激光器阵列10具有7(=2×4-1)条第一扫描线。
图6表示包括以4×2构形设置的8个表面发射激光器的二维表面发射激光器阵列10,其中,第一扫描线的数量是2n+1(n=4)。各个表面发射激光器16被独立地驱动以同时发射8条光束。当变量a、b、Φ和θ满足方程2时,依据二维表面发射激光器阵列10与光束偏转器30(参见图3)之间就它们的布置而言的关系,该二维表面发射激光器阵列10利用多条光束选择性地形成以第一副扫描间距P1基本相等地隔开的8条第一扫描线或以宽度不同于第一副扫描间距P1的第二副扫描间距P2基本相等地隔开的8条第二扫描线。
a=2×P1
这里,n是大于2的正整数,且Φ是第一扫描线与第二扫描线之间的角度。也就是说,Φ指示被设置成具有第一副扫描间距P1的二维表面发射激光器阵列10转动至具有第二副扫描间距P2的角度。
当n×2个表面发射激光器16被构造成满足方程2时,二维表面发射激光器阵列10可选择性地扫描以第一副扫描间距P1隔开的多条第一扫描线或以第二副扫描间距P2隔开的多条第二扫描线。例如,对于如图6所示以4×2构形设置的表面发射激光器16,为满足P1=14μm且P2=7μm,可基于方程2算出变量Φ、θ、a和b。也就是说,通过把多个表面发射激光器16设在基片11(参见图3)上以使Φ=75.52°、θ=66.72°、a=28μm和b=35.42μm,第一副扫描间距P1为14μm且第二副扫描间距P2为7μm。
图7表示包括以4×2构形设置的8个表面发射激光器17的二维表面发射激光器阵列10,其中,第一扫描线的数量是2n-1(n=4)。各个表面发射激光器17被独立地驱动以同时发射8条光束。当变量a、b、Φ和θ满足方程3时,依据二维表面发射激光器阵列10与光束偏转器30(参见图3)之间就它们的布置而言的关系,该二维表面发射激光器阵列10利用所发射的多条光束选择性地形成以第一副扫描间距P1基本相等地隔开的8条第一扫描线或以宽度不同于第一副扫描间距P1的第二副扫描间距P2基本相等地隔开的8条第二扫描线。
a=2×P1
这里,n是大于2的正整数,且Φ是第一扫描线与第二扫描线之间的角度。也就是说,Φ指示被设置成具有第一副扫描间距P1的二维表面发射激光器阵列10转动至具有第二副扫描间距P2的角度。
当n×2个表面发射激光器17被构造成满足方程3时,二维表面发射激光器阵列10可选择性地扫描以第一副扫描间距P1隔开的多条第一扫描线或以第二副扫描间距P2隔开的多条第二扫描线。例如,对于如图7所示以4×2构形设置的表面发射激光器17,为满足P1=14μm且P2=7μm,可基于方程3算出变量Φ、θ、a和b。也就是说,通过把多个表面发射激光器17设在基片11(参见图3)上以使Φ=104.48°、θ=61.04°、a=28μm和b=28.92μm,第一副扫描间距PA1为14μm且第二副扫描间距P2为7μm。
由此,通过布置二维表面发射激光器阵列10以使多条扫描线以第一或第二副扫描间距P1或P2隔开,多束扫描单元可具有两种副扫描放大率或两种分辨率。
图8是依据本发明一种示范实施例的成像装置的剖视图。参照图8,成像装置包括箱体110、安装在该箱体110内的显影单元160、形成静电潜像的多束扫描单元140、把利用显影单元160显影的图像转移到印刷介质上的转移单元173、以及固定被转移到印刷介质上的图像的定影单元175。
箱体110限定成像装置的外形,所排出的印刷单元M堆积于其上的排出单元180设在该箱体110的外部。印刷介质M堆积于其上的输送单元120可拆卸地设在箱体110上。利用输送单元120输送的印刷介质M经由印刷介质路径131传送至显影单元160。
输送单元120包括用于自动地输送印刷介质M的第一输送单元121和用于手动地输送印刷介质M的第二输送单元125。第一输送单元121设在箱体110的内部,且经由第一输送辊122的转动来输送印刷介质M。第二输送单元125安装在箱体110的外部,且经由第二输送辊126的转动把印刷介质M输送至印刷介质路径131。
印刷介质路径131形成在箱体110内且包括多个传送辊133和135,印刷介质M通过利用输送单元120输送而经由该印刷介质路径131传送。印刷介质路径131在第一和第二输送单元121和125附近分成两个部分且是单路径,同时有助于成像和印刷介质的排出。
显影单元160包括用于容纳预定颜色调色剂T的调色剂容器161,以及用于从该调色剂容器161接收调色剂T并形成图像的成像单元。
成像单元包括:对利用多束扫描单元140扫描的多束激光束L敏感的感光介质163;把该感光介质163充电至预定电位的充电器165;面向感光介质163并利用调色剂T对形成在该感光介质163上的静电潜像进行显影的显影辊167;以及把调色剂T供应给显影辊167的供应辊169。
多束扫描单元140扫描光线到感光介质163上,以在该感光介质163上形成静电潜像。扫描单元140包括:二维表面发射激光器阵列10,其基本同时地发射沿感光介质163的副扫描方向具有预定间隔的多束激光束(参见图3);光束偏转器141,其沿感光介质163的主扫描方向偏转和扫描利用该二维表面发射激光器阵列10发射的多束激光束;以及f-θ透镜145。多束扫描单元140的结构和原理基本类似于图3所示的多束扫描单元,因此省略对其的详细说明。
转移单元173面向感光介质163,且经由印刷介质路径131传送的印刷介质位于其间。转移单元173把形成在感光介质163上的图像转移给印刷介质。利用转移单元173转移给印刷介质的图像经由定影单元175固定。
如上所述,本发明示范实施例的二维表面发射激光器阵列构成具有宽度不同的两种副扫描间距的光源。因此,通过改变二维表面发射激光器阵列的转角,此二维表面发射激光器阵列可应用于具有两种副扫描放大率或两种分辨率的光学***。
同时,通过采用此二维表面发射激光器阵列作为光源且依据光学布置选择性地形成激光束之间以不同副扫描间距基本相等地隔开的两类扫描线之一,本发明示范实施例的多束扫描单元可普遍用于具有不同分辨率的成像装置。
此外,采用本发明示范实施例的多束扫描单元的成像装置可降低制造成本,因为该多束扫描单元可普遍地用于具有不同分辨率的成像装置。同时,通过改变多束扫描单元的布置,成像装置可改变分辨率,而无需更换该多束扫描单元。
尽管已参照本发明的示范实施例具体表示且描述了本发明,但本领域那些普通技术人员将理解的是,可在形式和细节上对这些实施例做出各种变化而不脱离如以下权利要求书限定的本发明的精神和范围。
本申请基于35 U.S.C§119(a)要求享有2006年4月12日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2006-0033212的权益,在此引入该申请的全部公开内容以供参考。
Claims (12)
1.一种二维表面发射激光器阵列,发射沿感光介质的副扫描方向具有预定间隔的多束激光束,所述二维表面发射激光器阵列包括:
n×m个表面发射激光器,包括在基线N上以基本相等的间隔a设置的n个表面发射激光器以及在n条斜线M上以基本相等的间隔b设置的m个表面发射激光器,所述n条斜线M相对于所述基线N倾斜角度θ且通过相应的n个表面发射激光器,
其中,为选择性地形成以第一副扫描间距P1隔开的多条第一扫描线或以宽度不同于所述第一副扫描间距P1的第二副扫描间距P2隔开的多条第二扫描线,变量a、b、Φ和θ满足
a=m×P1
这里,n和m都是大于2的正整数,且Φ是所述第一扫描线与所述第二扫描线之间的角度。
2.权利要求1所述的二维表面发射激光器阵列,其中,所述表面发射激光器是垂直空腔表面发射激光器。
3.一种二维表面发射激光器阵列,发射沿感光介质的副扫描方向具有预定间隔的多束激光束,所述二维表面发射激光器阵列包括:
n×2个表面发射激光器,包括在基线N上以基本相等的间隔a设置的n个表面发射激光器以及在n条斜线M上以基本相等的间隔b设置的两个表面发射激光器,所述n条斜线M相对于所述基线N倾斜角度θ且通过相应的n个表面发射激光器,
其中,为选择性地形成以第一副扫描间距P1隔开的多条第一扫描线或以宽度不同于所述第一副扫描间距P1的第二副扫描间距P2隔开的多条第二扫描线,变量a、b、Φ和θ满足
a=2×P1
这里,n是大于2的正整数,且Φ是所述第一扫描线与所述第二扫描线之间的角度。
4.权利要求3所述的二维表面发射激光器阵列,其中,所述表面发射激光器是垂直空腔表面发射激光器。
5.一种多束扫描单元,包括:
二维表面发射激光器阵列,同时发射沿感光介质的副扫描方向具有预定间隔的多束激光束;以及
光束偏转器,沿所述感光介质的主扫描方向偏转和扫描利用所述二维表面发射激光器阵列发射的所述多束激光束,
其中,所述二维表面发射激光器阵列包括n×m个表面发射激光器,所述n×m个表面发射激光器包括在基线N上以相等间隔a设置的n个表面发射激光器以及在n条斜线M上以相等间隔b设置的m个表面发射激光器,所述n条斜线M相对于所述基线N倾斜角度θ且通过相应的n个表面发射激光器,且变量a、b、Φ和θ满足
a=m×P1
这里,n和m都是大于2的正整数,且Φ是所述第一扫描线与所述第二扫描线之间的角度。
6.权利要求5所述的多束扫描单元,其中,所述表面发射激光器是垂直空腔表面发射激光器。
7.一种多束扫描单元,包括:
二维表面发射激光器阵列,基本同时发射沿感光介质的副扫描方向具有预定间隔的多束激光束;以及
光束偏转器,沿所述感光介质的主扫描方向偏转和扫描利用所述二维表面发射激光器阵列发射的所述多束激光束,
其中,所述二维表面发射激光器阵列包括n×2个表面发射激光器,所述n×2个表面发射激光器包括在基线N上以基本相等的间隔a设置的n个表面发射激光器以及在n条斜线M上以基本相等的间隔b设置的两个表面发射激光器,所述n条斜线M相对于所述基线N倾斜角度θ且通过相应的n个表面发射激光器,且变量a、b、Φ和θ满足
a=2×P1
这里,n是大于2的正整数,且Φ是所述第一扫描线与所述第二扫描线之间的角度。
8.权利要求7所述的多束扫描单元,其中,所述表面发射激光器是垂直空腔表面发射激光器。
9.一种成像装置,包括:
显影单元,具有暴露于激光束的感光介质;
多束扫描单元,通过扫描激光束到所述感光介质上来形成静电潜像;
转移单元,对应于所述显影单元且把利用所述显影单元显影的图像转移到印刷介质上;以及
定影单元,固定被转移到所述印刷介质上的所述图像;
其中,所述多束扫描单元包括:
二维表面发射激光器阵列,同时发射沿感光介质的副扫描方向具有预定间隔的多束激光束;以及
光束偏转器,沿所述感光介质的主扫描方向偏转和扫描利用所述二维表面发射激光器阵列发射的所述多束激光束,
其中,所述二维表面发射激光器阵列包括n×m个表面发射激光器,所述n×m个表面发射激光器包括在基线N上以相等间隔a设置的n个表面发射激光器以及在n条斜线M上以相等间隔b设置的m个表面发射激光器,所述n条斜线M相对于所述基线N倾斜角度θ且通过相应的n个表面发射激光器,且变量a、b、Φ和θ满足
a=m×P1
这里,n和m都是大于2的正整数,且Φ是所述第一扫描线与所述第二扫描线之间的角度。
10.权利要求9所述的成像装置,其中,所述表面发射激光器是垂直空腔表面发射激光器。
11.一种成像装置,包括:
显影单元,具有暴露于激光束的感光介质;
多束扫描单元,通过扫描激光束到所述感光介质上来形成静电潜像;
转移单元,对应于所述显影单元且把利用所述显影单元显影的图像转移到印刷介质上;以及
定影单元,固定被转移到所述印刷介质上的所述图像;
其中,所述多束扫描单元包括:
二维表面发射激光器阵列,基本同时发射沿感光介质的副扫描方向具有预定间隔的多束激光束;以及
光束偏转器,沿所述感光介质的主扫描方向偏转和扫描利用所述二维表面发射激光器阵列发射的所述多束激光束,
其中,所述二维表面发射激光器阵列包括n×2个表面发射激光器,所述n×2个表面发射激光器包括在基线N上以基本相等的间隔a设置的n个表面发射激光器以及在n条斜线M上以基本相等的间隔b设置的两个表面发射激光器,所述n条斜线M相对于所述基线N倾斜角度θ且通过相应的n个表面发射激光器,且变量a、b、Φ和θ满足
a=2×P1
这里,n是大于2的正整数,且Φ是所述第一扫描线与所述第二扫描线之间的角度。
12.权利要求11所述的成像装置,其中,所述表面发射激光器是垂直空腔表面发射激光器。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR33212/06 | 2006-04-12 | ||
KR1020060033212A KR100754215B1 (ko) | 2006-04-12 | 2006-04-12 | 2차원 면발광 레이저 어레이, 이를 채용한 멀티 빔주사장치 및 화상형성장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101055448A true CN101055448A (zh) | 2007-10-17 |
Family
ID=38283010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNA200610172562XA Pending CN101055448A (zh) | 2006-04-12 | 2006-12-31 | 二维表面发射激光器阵列、多束扫描单元以及成像装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20070242717A1 (zh) |
EP (1) | EP1844941A1 (zh) |
KR (1) | KR100754215B1 (zh) |
CN (1) | CN101055448A (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105785343A (zh) * | 2016-04-29 | 2016-07-20 | 中国科学院电子学研究所 | 空间多光束激光发射装置、多通道接收装置和探测装置 |
CN109521562A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-03-26 | 珠海奔图电子有限公司 | 光扫描单元及电子成像装置 |
CN109597199A (zh) * | 2018-12-06 | 2019-04-09 | 金华飞光科技有限公司 | 一种基于多束点光源的数字图像产生方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20110019064A1 (en) * | 2008-03-20 | 2011-01-27 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Two-dimensional array of radiation spots for an optical scanning device |
JP5590829B2 (ja) * | 2009-07-03 | 2014-09-17 | キヤノン株式会社 | 面発光レーザ、面発光レーザアレイ及び画像形成装置 |
JP2011166108A (ja) * | 2010-01-15 | 2011-08-25 | Ricoh Co Ltd | 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE59403475D1 (de) * | 1993-09-15 | 1997-08-28 | Oce Printing Systems Gmbh | Anordnung zur erzeugung eines rasterbildes auf einem lichtempfindlichen aufzeichunungsträger |
JP3198909B2 (ja) | 1996-01-23 | 2001-08-13 | 富士ゼロックス株式会社 | 2次元面発光レーザビームスキャナおよびレーザビーム記録装置 |
JPH1010448A (ja) | 1996-06-24 | 1998-01-16 | Canon Inc | 光走査装置 |
JP2000089146A (ja) | 1998-09-17 | 2000-03-31 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム記録装置 |
EP1134996A1 (en) * | 2000-03-17 | 2001-09-19 | Motorola, Inc. | Method for synchronisation in a radio communication system |
JP2002172815A (ja) | 2000-12-07 | 2002-06-18 | Konica Corp | 画像形成装置およびマルチビーム露光装置 |
US6865003B2 (en) * | 2002-11-06 | 2005-03-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Multibeam exposure head and multibeam recording method using the same |
-
2006
- 2006-04-12 KR KR1020060033212A patent/KR100754215B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2006-10-18 US US11/582,477 patent/US20070242717A1/en not_active Abandoned
- 2006-12-12 EP EP06125951A patent/EP1844941A1/en not_active Withdrawn
- 2006-12-31 CN CNA200610172562XA patent/CN101055448A/zh active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105785343A (zh) * | 2016-04-29 | 2016-07-20 | 中国科学院电子学研究所 | 空间多光束激光发射装置、多通道接收装置和探测装置 |
CN109597199A (zh) * | 2018-12-06 | 2019-04-09 | 金华飞光科技有限公司 | 一种基于多束点光源的数字图像产生方法 |
CN109521562A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-03-26 | 珠海奔图电子有限公司 | 光扫描单元及电子成像装置 |
WO2020135122A1 (zh) * | 2018-12-29 | 2020-07-02 | 珠海奔图电子有限公司 | 光扫描单元及电子成像装置 |
CN109521562B (zh) * | 2018-12-29 | 2021-05-04 | 珠海奔图电子有限公司 | 光扫描单元及电子成像装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100754215B1 (ko) | 2007-09-03 |
US20070242717A1 (en) | 2007-10-18 |
EP1844941A1 (en) | 2007-10-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101055448A (zh) | 二维表面发射激光器阵列、多束扫描单元以及成像装置 | |
CN1313280C (zh) | 图像形成装置 | |
CN1158574C (zh) | 图像形成装置 | |
CN1940750A (zh) | 光学扫描设备 | |
CN1975505A (zh) | 光扫描装置以及图像形成装置 | |
CN1734355A (zh) | 印刷版成像装置和隔行光栅扫描线法 | |
CN1892478A (zh) | 多光束激光扫描单元及具有该单元的成像装置 | |
CN1800997A (zh) | 成像装置 | |
CN1272649C (zh) | 光学扫描装置 | |
JP2001272615A (ja) | 光走査装置 | |
CN1716101A (zh) | 描绘装置及描绘方法 | |
CN1430084A (zh) | 多束光扫描光学***以及使用此***的图像形成装置 | |
CN1247991A (zh) | 多光束扫描装置 | |
CN1896795A (zh) | 激光扫描单元和具有该激光扫描单元的成像装置 | |
CN1746719A (zh) | 光学扫描装置和图像形成装置 | |
CN1975592A (zh) | 图像形成装置 | |
US20120050827A1 (en) | Optical scanning device and image forming apparatus | |
CN1908727A (zh) | 光束扫描装置及图像形成装置 | |
CN1145821C (zh) | 光扫描装置 | |
CN101377567A (zh) | 光扫描装置、图像形成装置 | |
JP2008275711A (ja) | 光走査装置及び画像形成装置 | |
CN1847989A (zh) | 图像形成装置 | |
CN1680840A (zh) | 光学多光束扫描装置和图像形成装置 | |
CN101059597A (zh) | 多束扫描单元和具有这种多束扫描单元的成像装置 | |
JP2010179629A (ja) | 画像形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |