CN100396980C - 在公共平面中有歧管连接的模块式衬底配气板 - Google Patents

在公共平面中有歧管连接的模块式衬底配气板 Download PDF

Info

Publication number
CN100396980C
CN100396980C CNB03822366XA CN03822366A CN100396980C CN 100396980 C CN100396980 C CN 100396980C CN B03822366X A CNB03822366X A CN B03822366XA CN 03822366 A CN03822366 A CN 03822366A CN 100396980 C CN100396980 C CN 100396980C
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
manifold
port
groove
forms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CNB03822366XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN1682054A (zh
Inventor
基姆·恩格西·乌
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Entegris Inc
Original Assignee
Entegris Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Entegris Inc filed Critical Entegris Inc
Publication of CN1682054A publication Critical patent/CN1682054A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100396980C publication Critical patent/CN100396980C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
    • F16K27/003—Housing formed from a plurality of the same valve elements
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00—Fluid handling
    • Y10T137/8593—Systems
    • Y10T137/877—With flow control means for branched passages
    • Y10T137/87885—Sectional block structure

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Valve Housings (AREA)
  • Fluid-Pressure Circuits (AREA)
  • Loading And Unloading Of Fuel Tanks Or Ships (AREA)
  • Coupling Device And Connection With Printed Circuit (AREA)

Abstract

一种包括第一气体棒(A)、第二气体棒和第一歧管(110)的配气板。第一气体棒(A)有包括第一组在公共平面中形成的众多端口的第一流动路径，而第二气体棒(B)有包括第二组在公共平面中形成的众多端口的第二流动路径。第一歧管有形成于公共平面中的第一和第二端口(37、39)，第一端口(37)与第一气体棒(A)的第一组众多端口之中的一个端口流体地连接，而第二端口(39)与第二气体棒(B)的第二组众多端口之中的一个端口流体地连接。绝热减振组件可能用来把第一和第二气体棒安装到安装板上。

Description

在公共平面中有歧管连接的模块式衬底配气板
本发明的技术领域
本发明指向流体分配***，更具体地说，指向在公共平面中形成元件和流体流动路径之间的连接的流体分配***。
本发明的现有技术
流体分配***被用于各式各样的应用，包括半导体器件的制造、药用化合物的制造，等等。在许多这样的应用中，流体分配***的尺寸能戏剧地影响成本。例如，在半导体器件的制造中，流体分配***或其某些部分保存在诸如洁净室之类的超净环境中是典型的。此外，因为许多在半导体制造中使用的流体是有毒的、高活性的、或两者，所以这样的流体分配***时常需要专用的密封装置和通风设备。就这样的***而言，在流体分配***的尺寸方面的任何减少都是有利的。
本发明的概述
依照本发明的一个实施方案，提供一种能用来分配流体的***。该***包括有包括在第一表面中形成的第一衬底端口和第二衬底端口和按第一方向延伸把第一衬底端口流体地连接到第二衬底端口的第一流体通道的衬底主体的衬底和歧管。歧管有包括在第一表面中形成的第一歧管端口、歧管主体，在横切第一表面的第二表面中形成的第二歧管端口和把第一歧管端口流体地连接到第二歧管端口的流体通道。衬底进一步包括在衬底主体的第一表面中形成的按第二方向延伸的沟槽，该沟槽适合这样放置歧管，以致衬底主体的第一表面和歧管主体的第一表面在公共平面中取齐。
依照本发明的另一个实施方案，提供一种包括衬底主体、在衬底主体的第一表面中形成的第一端口和第二端口、在衬底主体中形成的按第一方向延伸把第一端口流体地连接到第二端口的第一流体通道和沟槽的衬底。沟槽是在衬底主体的第一表面中形成的并且按不同于第一方向的第二方向延伸。沟槽适合这样放置有包括在歧管主体的第一表面中形成的第一端口、在歧管主体的第二表面中形成的第二端口，和流体地连接到歧管的第一端口到歧管的第二端口的流体通道的歧管主体的歧管，以致衬底主体的第一表面和歧管主体的第一表面在公共平面中取齐。
依照本发明进一步的实施方案，提供包括第一气体棒、第二气体棒和第一歧管的配气板。第一气体棒有包括在公共平面中形成的第一组众多端口的第一流动路径，而第二气体棒有包括在公共平面中形成的第二组众多端口的第二流动路径。第一歧管有在公共平面中形成的第一和第二端口，第一端口被流体地连接到第一气体棒的第一组众多端口之中的一个端口，第二端口被流体地连接到第二气体棒的第二组众多端口之中的一个端口。
依照本发明的另一个实施方案，提供一种歧管。歧管适合被纳入有包括在衬底主体的第一表面中形成的第一和第二衬底端口、按第一方向延伸流体地连接第一和第二衬底端口的第一衬底流体通道和在衬底主体的第一表面中形成按第二方向延伸的沟槽的衬底主体的衬底。歧管包括歧管主体、至少一个在歧管主体第一表面中形成的第一歧管端口、在横切歧管主体第一表面的歧管主体第二表面中形成的第二歧管端口和在歧管主体中形成按第二方向延伸把那至少一个第一歧管端口流体地连接到第二歧管端口的歧管流体通道。歧管主体的尺寸适合这样放置在沟槽之内，以致衬底主体的第一表面和歧管主体第一表面在公共平面中取齐。
依照本发明另一方面，提供一种安装组件。依照一个实施方案，安装组件包括第一和第二构件和第一紧固件。第一构件有包括在第一构件主体的对置表面上面向第一方向的第一表面和面向与第一方向相反的第二方向的第二表面的主体。第二表面有包括毗邻***部分的周界安排的凹槽的***部分和从***部分按第二方向延伸的中央部分。第二构件有包括在第二构件主体的对置表面上面向第一方向的第一表面和面向与第一方向相反的第二方向的第二表面的主体。第二表面有中央部分和从中央部分延伸出来的***部分而且包括毗邻***部分的周界安排的凹槽。第二构件的主体进一步包括从第一表面到第二表面的中央部分贯穿主体的通孔。第一紧固件有螺纹短柄，其尺寸适合穿过第二构件主体上的通孔与第一构件主体的第二表面的中央部分接合。
依照另一个实施方案，提供用来把流体分配衬底安装到有第一表面和平行于第一表面的第二表面的板上的安装组件。安装组件包括第一和第二安装构件和第一和第二紧固件。第一安装构件是毗邻板的第一表面安排的而且有带内螺纹的通孔。第一紧固件有带外螺纹的短柄，以便与第一安装构件中带内螺纹的通孔接合使衬底刚性地附着到第一安装构件上。第二安装构件是毗邻板的第二表面安排的而且也有通孔。第二紧固件有带外螺纹的短柄以便与第一安装构件中带内螺纹的通孔接合使第二安装构件刚性地附着到第一安装构件上。安装组件进一步包括用来隔绝衬底和板之间的热和振动传递的装置。
依照本发明的另一方面，提供一种使衬底附着到有从安装板的第一表面到安装板的第二表面贯穿安装板的孔的安装板上的方法。该方法包括下述行为：把上半部分安装子组件放置在毗邻孔的第一表面上并且使上半部分子组件的中央部分穿过孔；把下半部分安装子组件这样放置在毗邻孔的第二表面上，以致上半部分安装子组件的中央部分被安排在下半部分安装子组件的中央部分之内；把下半部分安装子组件紧固到上半部分安装子组件上；以及把衬底紧固到上半部分安装子组件上。
附图简要说明
附图不打算按比例绘制。在这些附图中，用各种不同的视图列举的每个同一的或几乎同一的元件是用相似的数字表示的。为了清楚，并非每个元件在每张视图中都被标示出来。在这些附图中：
图1是依照本发明的一个实施方案的流体分配面板的平面图；
图2是图1的流体分配面板的侧视图；
图3是沿着图2的线3-3截取的一部分流体分配面板的截面图；
图4是图1的流体分配面板被反时针旋转90°的侧视图；
图5是图1的流体分配面板被顺时针旋转大约45°的透视图；
图6是图1的流体分配面板被顺时针旋转大约135°的透视图；
图7是在图5中识别的流体分配面板的一部分的放大透视图；
图8是在图6中识别的流体分配面板的一部分的放大透视图；
图9是可能用来形成图1的流体分配面板的许多不同的歧管和衬底的透视图；
图10是依照本发明一个方面的双元件位衬底的放大透视图；
图11是图10的双元件位衬底的截面图；
图12是依照本发明的另一方面的单一元件位衬底的放大透视图；
图13是图12所示的单元件衬底的截面图；
图14是依照本发明的另一个实施方案的流体分配面板的平面图；
图15是图14的流体分配面板的侧视图；
图16是图14的流体分配面板被反时针旋转90°的侧视图；
图17是图14的流体分配面板被顺时针旋转大约135°的透视图；
图18是在图17中识别的流体分配面板的一部分的放大透视图；
图19是图14的流体分配面板被顺时针旋转大约45°的透视图；
图20是在图19中识别的流体分配面板的一部分的放大透视图；
图21是可能用来形成图14的流体分配面板的若干不同的歧管的放大透视图；
图22是可能用来形成图14的流体分配面板的若干附加歧管和单一元件位衬底的放大透视图；
图23是依照本发明的一个方面各种衬底的放大透视图；
图24是可能用来形成图14的流体分配面板的若干多元件衬底和衬底***物的放大透视图；
图25是沿着图15的线25-25截取的图14的流体分配面板的局部剖面侧视图；
图26是依照本发明的另一方面可能用来把流体分配面板的各种不同的元件安装到安装板上的自动定位安装组件的放大图；
图27是图26的自动定位安装组件的来自多种不同透视的分解图；而
图28是在安装板中可能用来容纳图26的自动定位安装组件的孔的平面图。
本发明的详细描述
这项发明在它的应用方面不局限于在下面的描述中陈述的或用附图列举的元件的构造和安排的细节。本发明能够体现在其它的实施方案中和以各种不同的方式实践或实施。另外，本文使用的措辞和术语是为了描述的目的，不应该被看作是限制。“包括”、“组成”或“有”、“包含”、“涉及”及其变化在本文中的使用意味着囊括其后列出的项目及其同等物以及添加的项目。
图1举例说明依照本发明的一个实施方案的流体分配面板的平面图。图1中举例的流体分配面板可以用来有选择地把一种或多种不同的工艺流体提供给公用歧管。例如，流体分配面板可能用来有选择地把一种或多种不同的工艺流体提供给本身可能与流体***的其它部分或流体处理工具流体耦合的公用歧管。
虽然在此本发明主要就用于半导体加工应用的气态流体的分配予以描述，但是人们应该领会到本发明不受这样的限制，而且可以与诸如液体或淤浆之类其它的工艺流体或与气体、液体或淤浆的组合一起使用。而且，本发明不局限于半导体加工应用，因为它也可能用于化学应用，制药应用等等。因此，虽然本发明是参照提供在半导体加工应用中使用的工艺气体的分配的***描述的，但是人们应该领会到本发明不受这样的限制。
概括地说，图1举例的流体分配面板100包括众多的气体棒A-L，每个都适合接受来自工艺气源(未展示)的工艺气体并且把工艺气体或诸如清洗气体之类的其它气体提供给气体***或处理工具的另一部分。气体棒A-L之中每个都提供按第一方向(在图1中从下到上)延伸并且包括众多在公共平面中形成的端口的流动路径。诸如阀门、净化器、过滤器、压力转换器、压力调节器、除湿器、质量流量控制器之类各种不同的流体处理装置(未展示)可以被密封地紧固到在每个对应的气体棒中相邻的端口上并且沿着流动路径输送工艺气体或其它气体。包括众多端口的第一公用歧管110可以放置在每个气体棒的流动路径中，以允许用各自的气体棒把工艺气体或诸如清洗气体之类的其它气体提供给第二公用歧管120。第二公用歧管也包括众多的端口，而且被放置在每个气体棒的流动路径末端以便把一种或多种工艺气体或其它气体提供给处理工具或气体***中后续部分。因为每个公用歧管中的端口在流动路径中诸端口的公共平面内排成一行，所以可能获得高度被减少的配气板。这是有利的，因为在时常使用这样的配气板的净室环境中空间是非常珍贵的。此外，把每个流动路径与公用歧管流体耦合所必需的密封件数目从衬底和歧管以不同的高度隔开的配气板的数目减少下来。此外，在使用衬底把一个或多个衬底的两个端口流体耦合到歧管的端口的地方，实现防泄漏密封所的必需的紧固件数目可以被减少到四个紧固件，与传统设计中的六个以上紧固件相反。本发明的这些和其它方面现在结合附图予以详细描述。
如图1所示，配气板100包括众多的气体棒A-L，每个气体棒都被安装到公共底面10上。虽然在附图中没有举例说明特定的安装配置，但是气体棒可以用许多众所周知的方法中的任何方法从底面上方或从底面下方安装到公共底面10上。气体棒A-L之中每个都包括通常使用诸如Allen螺栓之类的螺纹紧固件紧固到公共底面10的单一元件位衬底60和双元件位衬底70。每个衬底60、70通常都是用一块诸如316不锈钢之类的不锈钢、镍基合金或适合与计划中的流体一起使用其它材料制成的。每个衬底60、70都有在其中形成的沟槽69、79(在图9、10、11、12和13中看得最清楚)以便容纳歧管部分20、25、30、35和40。每个歧管部分20、25、30、35和40(在图9中看得最清楚)通常也是用一块长的不锈钢或其它适当的材料制成的，而且被连接在一起形成公用歧管110、120。例如，在用不锈钢制成歧管部分20、25、30、35和40的场合，歧管部分可能以传统的方式焊接在一起形成公用歧管110、120。在图1举例的实施方案中，每个气体棒A-L的双元件衬底70接受用来有选择地把清洗气体(经由导管85提供的)提供给各自的气体棒的流动路径的歧管部分(例如，气体棒A中的歧管部分35)。如图1所示，每个单元件衬底60也接受用来提供每个气体棒A-L公用的可以与气体处理***的处理工具或另一部分90连接的公用出口的歧管部分(例如，气体棒A的歧管部分20)。在举例的实施方案中，气体处理***的部分90是用通过引证在此将其全部并入的美国专利第6,394,138B1号中描述的众多互相连接的阴阳衬底形成的。
在使用中，每个气体棒A-L是通过用一对紧固件(未展示)紧固到底面10上的法兰50连接到工艺气源上的。互补的法兰(未展示)通常被连接到法兰50和从工艺气源提供工艺气体的导管上。如同在图8中最清楚地见到的那样，法兰50包括用于(经由互补的法兰)连接工艺气源的顶部端口51和与法兰50的顶部端口51和衬底70的进气口71连接的侧面端口52。工艺气体通过衬底70内部的流体通道(例如，见图11)流到在衬底70的顶面中形成的排气口72(图10，11)。二通阀或其它流体处理元件(未展示)被放置在排气口72和也在衬底70的顶面中形成的进气口73上面，而且用衬底70形成密封。金属密封垫或其它类型的密封构件(未展示)通常用来在端口72、73以及衬底70顶面中的其它端口周围提供防泄漏密封。例如，在图1描绘的实施方案中，每个在衬底顶面中形成的端口(以及在歧管部分中形成的端口)都包括适合接受环形的C形密封件的沉头孔(未编号，但是在图9、10、11、12和13中展示)。作为替代，其它类型的环形密封件(例如，在通过引证在此将它们全部并入的美国专利第5,803,507号和美国专利第6,142,539号中描述的那些)可以在衬底和歧管部分中适当地配置端口的情况下被使用。在所描述的实施方案中，二通阀有选择地允许工艺气体沿着气体棒进一步流动。
然后，工艺气体从进气口73通过在衬底70的主体中形成的V形槽(如图11所示)流到也在衬底70的顶面中形成的排气口74。衬底70包括用来接受公用歧管部分110的沟槽79。例如，在图1列举的实施方案中，气体棒A的衬底70接受有两个在歧管部分35的顶面形成的端口37、39(图9)和在歧管部分35上横切顶面的表面中形成的另一个端口36的双位歧管部分35。在歧管部分35的横向表面中形成的端口36被流体地连接到另一个歧管部分(例如，图1和9中的歧管部分40)，一起形成公用歧管部分110。衬底70中的沟槽79适合这样放置歧管部分35，以致在歧管部分35的顶面中形成的端口37、39之一在衬底70的顶面的公共平面中与排气口74和在衬底70的沟槽79的另一边的进气口76排成一行。如同下面进一步详细描述的那样，沟槽和歧管部分每个都可以包括用来使在衬底70的顶面中形成端口74、76与在歧管部分35的顶面中的端口(例如，37、39)之一排成一行的装置。
在列举的实施方案中，三通阀(未被列举)被放置在衬底70中的端口74和76歧管部分35的顶面中的端口37、39之一的上方而且用众多紧固件(未展示)紧固到衬底70上。众多的紧固件被纳入在衬底70的沟槽79的每个侧面上包括至少一个孔(优选两个孔)的衬底70的顶面中的孔。有利的是，为了形成对阀门的无泄漏密封只需要四个紧固件(沟槽79两边每边两个)，然而在传统设计中，传统上每个端口需要两个紧固件，为了实现对三个端口的无泄漏密封总共需要六个紧固件。在沟槽79每边纳入的紧固件以及密合垫(未展示)或其它封闭构件一起形成在衬底端口74、76和歧管部分35的顶面端口37或39之中的无泄漏密封。三通阀允许用连接衬底70中的进气口76和衬底70中的排气口78的V形槽提供用公用歧管110传送的工艺气体或诸如清洗气体之类的其它气体(见图11)。在列举的实施方案中，质量流量控制器的进气口(未展示)被流体地连接到衬底70中的排气口78上并且经由质量流量控制器的排气口将工艺气体或其它气体提供给单一元件位衬底60的进气口61。质量流量控制器桥接衬底70和衬底60。
如同在图12和13中清楚地列举的那样，单一元件位衬底60包括衬底60的顶面中形成的用V形通道连接起来的进气口61和排气口62。至少一个沉头孔(优选两个沉头孔)是在衬底60的顶面中形成的，以便把质量流量控制器的排气口密封地紧固到衬底60的进气口61上。
衬底60还包括用来接受公用歧管部分120的沟槽69。例如，在图1列举的实施方案中，气体棒A的衬底60接受有在歧管部分20的顶面中形成的端口22(图9)和在歧管部分20中横切顶面的对置表面中形成的一对端口21、23的单位歧管部分20。在歧管部分20的横向表面中形成的端口21、23之一被流体地连接到经由另一个歧管部分被流体地连接到其它气体棒B-L的排气口62的另一个歧管部分(例如，图1的歧管部分40)，而且端口21、23之中的另一个端口被流体地连接到与气体***的处理工具或其它部分90流体地连接的导管80上。
衬底60中的沟槽69适合这样放置歧管部分20，以致在顶面中形成的端口22在衬底60的顶面的公共平面中与衬底60中的排气口62排成一行。如同下面进一步详细描述的那样，沟槽69和歧管部分20每个都可能包括用来使在衬底60的顶面中形成的排气口62与在歧管部分20的顶面中形成的端口22排成一行的装置。
在列举的实施方案中，二通阀(未被列举)被放置在衬底60的端口62和在歧管部分20的顶面中的端口22的上面而且用众多的紧固件(未展示)紧固到衬底60上。众多的紧固件被纳入在衬底60的沟槽69两边各包括至少一个沉头孔(优选两个沉头孔)的衬底60的顶面上的沉头孔。纳入沟槽69两边的紧固件以及密封垫(未展示)或其它的密封构件一起在衬底60的端口62和歧管部分20的顶面的端口22之中形成无泄漏密封。二通阀准许把工艺气体或诸如清洗气体之类的其它气体提供给公用歧管120，再从公用歧管到***的另一部分90。
图9举例说明依照本发明的一个实施方案可以用来形成的配气板的许多歧管部分20、25、30、35和40。歧管部分20、25、30、35和40是相似的每个都包括用长块制成的歧管主体而且每个都包括至少一个在歧管主体顶面中形成的端口和至少一个在横切歧管主体顶面的歧管主体表面中形成的端口。此外，每个歧管部分都包括用来使在歧管主体顶面中形成的一个或多个端口与在衬底60、70的顶面中形成的一个或多个端口排成一行的装置。在列举的实施方案中，每个歧管部分都包括在歧管主体的横向表面中形成的一对凹槽，它们在横向表面上被隔开在端口的两边并且被用来使歧管主体顶面上的端口与衬底中的一个或多个端口排成一行。人们应该领会到如同熟悉这项技术的人已知的那样只有一个凹槽及其定位装置(例如，在通过引证在此将其全部并入的公开的美国专利申请第2002/0000256A 1号中列举的那些)能被二中择一地使用。
如图9所示，歧管部分20包括在歧管主体的顶面中形成的单一端口22和在横切歧管主体顶面的对置的歧管主体表面中形成的一对端口21、23。沿着歧管主体的纵轴形成的内部的流体通道把顶面端口22与每个在横向表面中形成的端口21、23连接起来。
歧管部分25类似于歧管部分20，然而，歧管部分25只包括在歧管主体的横向表面中形成的单一端口26。歧管部分25通常被用来终止借助毗邻歧管部分的相互连接形成的公用流体歧管110、120。
歧管部分30类似于歧管部分20，它包括在歧管主体的对置横向表面中形成的一对端口31、33。然而，歧管部分30包括在歧管主体顶面中形成的两个端口32、34。每个端口31、32、33和34都与在歧管主体中沿着歧管主体纵轴形成的内部流体通道连通。每个在歧管顶面中形成的端口32、34都被在歧管主体两边形成的众多定位槽包围着。歧管部分30可以用来把第一气体棒和第二气体棒的流动路径部分流体地连接到另一个歧管部分上并因此连接到公用歧管110、120上。
另一个歧管部分35包括在歧管主体的顶面中形成的一对端口37、39和在歧管主体的横向表面中形成的单一端口36。歧管部分35类似于歧管25，它可以用来终止公用歧管110、120。然而，歧管部分35被用来把两根气体棒的流体流动路径部分连接到公用歧管110、120上，例如，图1所列举的。
歧管部分还包括三位歧管部分40，后者包括在歧管主体顶面中形成的三个端口41、42的43和在歧管主体上横切顶面的对置的横向表面中形成的一对端口47、49。歧管部分40的每个侧表面包括在歧管主体的每个侧表面上毗邻每个端口41、42和43形成的可以用来使歧管部分40的端口与各自衬底的端口排成一行的众多对凹槽。
人们应该领会到，虽然若干不同的歧管部分20、25、30、25和40已经在此予以描述，但是本发明不局限于列举的实施方案。例如，可能使用在歧管主体顶面上形成四个或更多的端口而在歧管主体的横向表面中只有单一端口或在歧管主体的对置横向表面中形成两个端口的歧管部分。人们应该进一步领会到，虽然在歧管部分顶面中形成的端口被列举为包括适合接受环形的C型密封件的沉头孔，但是不同的端口构型可以被这样二中择一地使用，以致标准的流体处理元件可以与它一起使用。而且，不需要所有在歧管顶面中形成的端口具有同一类型的密封结构，因为一种类型的密封可能被用于一个端口，而另一种类型的密封可能被用于另一个端口。
如图9、10、11、12和13所示，可以用来使歧管部分定位在衬底的沟槽69、79里面的定位槽也可能是在衬底60和70中的每个沟槽的侧表面中形成的。在使用中，歧管部分被这样***沟槽69、79，以致衬底60、70中的和歧管部分中的定位槽近似地对齐，然后把定位销钉67、77从上方***每对定位槽，使歧管在沟槽69、79内精确地定位。定位销钉67、77可以用任何适当的材料制成，但是优选用对在用的工艺流体呈惰性的材料制成，以致万一发生任何泄漏，沟槽里面歧管部分的直线排列不会被破坏。
每个定位销钉67、77有这样的长度，以致当定位销钉***衬底和歧管部分上的凹槽的时候，定位销钉的顶面不高于衬底和歧管部分的顶面从而避免干扰在衬底和歧管的端口和在其上紧固的流体元件之间的密封。虽然附图未予以展示，在沟槽侧面的凹槽可能延伸到沟槽69、79的底面之中，以致定位销钉在长度方面可能比沟槽的深度更长，而且在完全***时仍然保持在衬底顶面以下。
如图11和13所示，在它，每个衬底60、70可以包括在沟槽的底面中形成的可以用来在歧管部分已被***沟槽之后拆除它的孔65、75。例如，诸如螺丝刀之类的刚性构件可以从衬底下面***而且被用来把歧管部分从沟槽中推出。作为替代，在沟槽底面中的孔65、75可能是带螺纹的，以致带螺纹的构件可以递增地***孔65、75，拆除歧管部分。
如同在图10、11和12之中展示的那样，至少衬底60、70顶面中的端口之一可以包括在衬底顶面中形成的泄漏端口95。通常，泄漏端口95是在与流体元件流体地连接的每对端口之间提供的。
在本文描述的实施方案中，每个公用歧管110、120都被流体地连接到气体处理***的另一部分90。人们应该领会到本发明不局限于这种列举的配置。例如，公用歧管110可能改为借助法兰50流体地直接连接到另一个气源上。而且，虽然每个衬底60、70都被描绘成有单一的沟槽69、79在其中形成，但是可能作为替代提供多重沟槽，以致各种不同的流体可以被引到气体棒A-L之中的每个气体棒，或作为替代被引到诸气体棒之中的一个或多个气体棒。此外，人们应该领会到那虽然把使用二通阀、三通阀和质量流量控制器用在每个气体棒A-L中的特定配置已被描述，但是本发明不受这样的限制。因此，依照本发明的教导，可以在单一衬底上提供两个以上元件站。例如，衬底70可以包括一个或多个适合接受过滤器、压力传感器或压力调节器、或照惯例提供的各种其它流体处理元件的附加的元件站。此外，不要求安装到每个衬底上的流体元件在每个气体棒中是一样的，因为无数种不同的元件组合可能是容易想象的。
除此之外，虽然本发明已主要根据利用沉头孔型密封的流体处理元件予以描述，但是人们应该领会到，也可能使用其它类型的流体处理元件，例如，面安装型元件、筒安装型元件，等等，以致这种配气板能适应各式各样的市场上买得到的和/或标准的元件。此外，虽然尚未展示用来把衬底60、70安装到底面10上的特定配置，但是人们应该领会到许多种安装方法是可以使用的。
图14-28举例说明依照本发明的另一个实施方案的流体分配面板。与前面结合图1-13描述的实施方案一样，图14-28的实施方案允许在衬底顶面中形成的端口在公共平面中与在公用歧管顶面中或公用歧管某些部分中形成的端口排成一行。为了这个目的，许多衬底包括在衬底顶面中形成的可以接受歧管部分的沟槽。然而，图14-28的实施方案使用不同的装置使衬底和歧管部分中的端口排成一行，而不是使用与在沟槽和歧管部分的侧面形成的凹槽配合的定位销钉(例如，图9-13中的定位销钉67和77)。例如，如图22所示，互补的定位柱281和定位孔282可以在沟槽的底面和歧管部分的底面提供，以使歧管部分顶面中的端口与衬底顶面中的一个或多个的端口排成一行。定位柱可能是在沟槽底面中形成的，而定位孔如图所示是在歧管部分的底面中形成的，或作为替代，定位柱可能是在歧管部分的底面中形成的，而定位孔是在沟槽底面中形成的。
在图1-13的实施方案和图14-28的实施方案之间的另一个差别是图14-28的实施方案使用机械紧固件把歧管部分和衬底的顶面固定在公共平面之内，而不是利用阀门或过滤器之类的气体处理元件的安装来固定端口在公共平面中的定位。如同下面进一步详细描述的那样，通过把歧管部分刚性地安装在衬底的沟槽里面，所形成的流体路径实质上变得对冲击或振动引起的泄漏更有免疫力。
在图1-13的实施方案和图14-28的实施方案之间进一步的差别是在图14-28的实施方案中，每个元件衬底(以及其它的元件)被弹性地安装到可以刚性地附着在面板底面上的安装板上。具体地说，浮动底座用来使各种不同的元件附着到准许在三个正交的方向上的有限的运动、提供重要的拉伸和剪切强度、实现元件与安装板和底面之间的热分离(借此准许元件被有效地加热或冷却，而不需要首先加热或冷却底面热质量)和提供振动阻尼的安装板上。图14-28的实施方案的这些和其它方面现在将在下面予以详细的描述。
图14列举的流体分配面板200包括众多的气体棒A-L，每个都适合接受来自工艺气源(未展示)的工艺气体和把工艺气体和/或诸如清洗气体之类的另一种气体提供给气体***的另一部分或处理工具。每个气体棒A-L提供按第一方向(在图14中从上到下)延伸的流动路径并且包括在公共平面中形成的众多端口。诸如阀门、净化器、过滤器、压力传感器、除湿器、质量流量控制器之类的各种流体处理装置(未展示)被密封地紧固到在每个相应的气体棒中相邻的端口上并且沿着流动路径传送工艺气体或其它气体。包括众多端口的第一公用歧管2110被放置在众多气体棒(即，气体棒A-F)的流动路径中，以允许每个气体棒把工艺气体或诸如清洗气体之类的另一种气体提供给第二公用歧管2120。第二公用歧管2120也包括众多的端口，而且被放置在每个气体棒A-E的流动路径末端，以便把一种或多种工艺气体或其它气体提供给处理工具或气体***的后续部分(例如，混合衬底410)。包括众多端口的第三公用歧管2130是为接受来自一个或多个气体棒H-L的工艺气体和把那些工艺气体或工艺气体的组合提供给处理工具或气体***的后续部分(例如，混合衬底410)而定位的。与前面结合图1描述的流体分配面板一样，因为在流动路径中每个公用歧管的端口在端口的公共平面内排成一行，所以可以获得高度减少的配气板。
如图14所示，配气板200包括气体的众多棒A-L。与图1中描述的流体分配面板相反，不是每个气体棒被刚性地直接安装在公共底面(例如，图1中的底面10)上，而是图14中的每个气体棒A-L是使用本身被安装到底面(未展示)或其它刚性结构上的浮动底座(下面结合图26和27进一步详细描述)弹性地安装在安装板210上的。在图14描述的实施方案中，安装板210可以用以图15和16举例说明的方式弯曲的金属片制成。如同下面将进一步详细描述的那样，安装板210有比图1的底面10少得多的热质量，以致可以通过使用***穿过形成衬底的气体棒延伸的孔500(见图15，例如)的加热或冷却棒以有效的方式给气体棒A-L之中的一个或多个气体棒加热或冷却。为了进一步热隔离气体棒，作为替代，安装板210可以用绝热的而不是导热的刚性材料(例如，塑料)制成。
每个气体棒A-E都包括通常用带螺纹的紧固件(例如，Allen螺栓)弹性地紧固到安装板210上的单一元件位衬底260和双元件位衬底270。每个衬底260、270通常是用一块不锈钢(例如，316不锈钢)、镍基合金或适合与计划中的流体一起使用的其它材料制成的。每个衬底260、270都有在其中形成的沟槽269、279(在图22和23中看得最清楚)接受歧管部分220、225、230、235、240、255和265(在图21和22中看得最清楚)。每个歧管部分220、225、230、235、240、255和265通常也是用一块长的不锈钢或其它适当的材料制成的而且被连接在一起形成公用歧管2110、2120和2130。例如，在用不锈钢制成歧管部分的情况下，歧管部分可以以传统的方式被对接焊到一起，形成公用歧管2110、2120和2130。
在图14列举的实施方案中，每个气体棒A-F的双元件位衬底270接受用来有选择地把清洗气体(经由导管285和衬底***物435A从清洗气体入口201提供的)提供给相应的气体棒的流动路径的歧管部分(例如，气体棒A的歧管部分220)。每个单一元件位衬底260也接受用来提供对于每个气体棒A-E是公用的而且可以与处理工具或气体处理***的另一部分连接的公共出口的歧管部分(例如，气体棒A的歧管部分235)，如图14所示。在列举的实施方案中，一种或多种工艺气体或清洗气体是先经由与公用歧管2120流体地连接的左拐衬底***物420提供给混合入口衬底410，然后经由另一个***物435B到混合出口衬底415，再到排气口202。
其它的工艺气体可以是经由气体棒G-L的入口203接收的，然后经由单一元件位衬底405(它不包括沟槽)提供给与公用歧管2130流体地连接的其它的单一元件位衬底260。在气体棒G-L中举例说明的单一元件位衬底405通常将会用来接受惰性的、无毒的和/或无活性的不需要利用清洗气体的工艺气体。如图所示，来自一个或多个气体棒G-L的工艺气体经由右拐衬底***物425提供给混合入口衬底410，然后经由另一个***物435C到混台出口衬底415，然后到排气口202。
在使用中，每个气体棒A-L借助进气口口203与工艺气源连接，在列举的实施方案中，这种连接为螺纹连接。就气体棒A-F而言，工艺气体流向进气口271(例如，见图23)，然后通过衬底270中的内部流体通道到在衬底270的顶面中形成的排气口272。二通阀或其它流体处理元件(未展示)被放置在排气口272和也在衬底270的顶面中形成的进气口273上面，而且用衬底270形成密封。金属密封垫或其它类型的密封构件(未展示)通常被用来在端口272、273以及衬底270的顶面中的其它端口周围提供无泄漏密封。与图1描绘的实施方案一样，每个在衬底270顶面中形成的端口(以及在歧管部分中形成的端口)都可以包括适合接受环形的C型密封件的沉头孔。作为替代，其它类型的环形密封(例如，在美国专利第5,803,507号和美国专利第6,142,539号中描述的那些)可以与在衬底和歧管部分中适当配置的端口一起使用。在所描述的实施方案中，二通阀有选择地允许工艺气体进一步沿着气体棒A-F流动。
然后，工艺气体从进气口273经过在衬底270的主体中形成的V形槽(在图23中展示)流到也在衬底270的顶面中形成的排气口274。衬底270包括用来接受公用歧管部分2110的沟槽279。例如，在图14列举的实施方案中，气体棒A的衬底270接受有在歧管部分220的顶面中形成的单一端口222(图21)和在歧管部分220上横切顶面的对置表面上形成的一对端口221、223的单位歧管部分220。在歧管部分220的横向表面中形成的端口221、223被流体地连接到导管285和另一个歧管部分(例如，图14和23中的歧管部分240)，一起形成公用歧管部分2110。衬底270中的沟槽279适合这样放置歧管部分220，以致在顶面中形成的端口222在衬底270的顶面的公共平面中与排气口274以及在衬底270的沟槽279的另一边的进气口276排成一行。
与气体处理元件或诸如阀门或过滤器之类的装置的安装被用来固定端口在公共平面中的直线排列的双元件位衬底70相反，双元件位衬底270使用一对安排在沟槽279两边的紧固件205把歧管部分刚性地安装在衬底沟槽279里面。每个紧固件205被纳入在沟槽侧壁中形成的安装凹陷290，如图23所示。安装凹陷290通常在外形上向外呈弓形，止于内螺纹孔291，而且包括支架或边缘292。安装凹陷290的边缘292起阻挡紧固件205头部的底部边缘的作用(类似于图26所示的紧固件315的构造)。每个歧管部分220、225、230、240、255和265包括这样的互补凹陷295(见图21和22)，以致当紧固件205被***的时候，紧固件205头部的底部边缘迫使歧管紧密地抵住衬底270的沟槽279的底部。一般地说，每个安装凹陷290取值范围大于180度，而在歧管部分中的互补凹陷295取值范围小于180度。定位时，凹陷290、295形成实质上完整的圆。紧固件205的最高部分和边缘292的深度是这样确定尺寸的，以致紧固件205的最高部分不从衬底270的顶面凸出来而且不干扰密封。一般地说，位于沟槽279对置的侧表面的一对紧固件205足以迫使歧管部分紧密地固定在衬底270的沟槽279里面。
在列举的实施方案中，三通阀(未展示)通常被放置在衬底270上的端口274、276和歧管部分220顶面上的端口222的上面而且借助众多紧固件(未展示)紧固到衬底270上。众多的紧固件被纳入在衬底270顶面的沉头孔，包括在衬底270的沟槽279每边的至少一个沉头孔，优选两个沉头孔。在沟槽279每边接受的紧固件与密封垫(未展示)或其它的密封构件一起在衬底中的端口274、276和歧管部分220的顶面中的端口222之中形成无泄漏密封。三通阀允许把衬底270中的进气口276连接到衬底270中的排气口278的V形槽(见图23)提供用公用歧管2110引导的工艺气体或诸如清洗气体之类的另一种气体。在列举的实施方案中，质量流量控制器的进气口(未展示)通常被流体地连接到衬底270的排气口278并且经由质量流量控制器的排气口把工艺气体或其它气体提供给单一元件位衬底260(图23)的进气口261。质量流量控制器以桥接每个气体棒A-E中的衬底270和衬底260。
就气体棒G-L而言，在气体入口203收到的工艺气体流向单一元件位衬底405的进气口406(见图23)，经过衬底405中的内部流体通道到在衬底405的顶面中形成的排气口407。二通阀或其它的流体处理元件(未展示)通常被放置在排气口405和也在衬底405的顶面中形成的进气口408上面，而且与衬底405形成密封。金属密封垫或其它类型的密封构件(未展示)可以用来在端口407、408以及衬底405顶面中的其它端口周围提供无泄漏密封。在衬底405的顶面中形成的每个端口407、408和409可以包括适合接受环形的C型密封件的沉头孔，虽然可以作为替代使用其它类型的环形密封件。二通阀有选择地允许工艺气体进一步沿着气体棒G-L流动。单一元件位衬底405不包括沟槽(例如，沟槽269)，而且如同先前注意到的那样可以用来接受不需要净化的工艺气体。
然后，来自衬底405的进气口408工艺气体流过在衬底405(图23)的主体中形成的V形槽到也在衬底405的顶面中形成的排气口409。就每个气体棒H-L而言，质量流量控制器的进气口(未展示)通常被流体地连接到衬底405中的排气口409而且经由质量流量控制器的排气口把工艺气体提供给单一元件位衬底260的进气口261(图23)。质量流量控制器桥接每个气体棒G-L的衬底405和衬底260。
如同在图22和23中最清楚地举例说明的那样，单一元件位衬底260包括在衬底260的顶面中形成的用内部的V形通道连接的进气口261和排气口262。为了把质量流量控制器的排气口密封地紧固到衬底260的进气口261上，在衬底260的顶面中形成至少一个沉头孔，而且优选两个沉头孔。
衬底260包括用来接受公用歧管部分2120和2130的沟槽269。例如，在图14列举的实施方案中，气体棒A的衬底260接受有在歧管部分235的顶面形成的一对端口237、239(图21)和在歧管部分235中横切顶面的表面上形成的端口236的双位歧管部分235。在歧管部分235的横向表面中形成的端口236被流体地连接到另一个歧管部分(例如，图14中歧管部分240)，后者经由其它的歧管部分被流体地连接到其它气体棒的排气口262。衬底260中的沟槽269适合这样放置歧管部分235，以致在顶面中形成的端口237、239之一(即，端口237)在衬底260的顶面的公共平面中与衬底260的排气口262排成一行。
与利用气体处理元件或诸如阀门或过滤器之类的装置的安装把端口的直线排列固定在公共平面中的单一元件位衬底60相反，单一元件位衬底260使用安排在沟槽269两边的一对紧固件205把歧管部分刚性地安装在衬底260的沟槽269里面。在这方面，单一元件位衬底260类似于双元件位衬底270，因为如同在图23中举例说明的那样每个紧固件205都被纳入在沟槽269的侧壁中形成的安装凹陷290。安装凹陷290在内螺纹孔291中终止，而且包括起阻挡紧固件205头部的底部边缘的支架或边缘292。每个歧管部分220、225、230、240、255和265包括互补的凹陷295(见图21和22)，以致当***紧固件205的时候，紧固件205头部的底部边缘迫使歧管部分紧密地抵住衬底260的沟槽269的底面。紧固件205的最高部分和边缘292的深度是这样确定尺寸的，部分被以致紧固件205的最高部分不高出衬底260的顶面和干扰密封。与双元件放置衬底270一样，一对位于沟槽269对置的侧表面的紧固件205足以迫使歧管部分紧密地在衬底260的沟槽269里面。
在列举的实施方案中，二通阀(未展示)被放置在衬底260中的端口262和歧管部分(例如歧管部分235)的顶面中的端口(例如，端口239)上面并且被众多的紧固件(未展示)紧固到衬底260上。众多的紧固件被纳入在衬底260中沟槽269的两边各包括至少一个沉头孔(优选两个沉头孔)的衬底260的顶面中的沉头孔。在沟槽269每边纳入的紧固件连同密封垫(未展示)或其它的封闭构件一起在衬底260的端口262和歧管部分顶面的端口之中形成无泄漏密封。二通阀允许把工艺气体或诸如清洗气体之类的另一种气体提供给公用歧管2120，再从公用歧管到***的另一部分。
气体棒F和G与气体棒A-E和H-L一样分享某些元件，但是举例说明其它的元件可能怎样用来产生能适应各式各样的配置的流体分配***。例如，气体棒F包括双元件位衬底270、一元件位T形槽衬底430和左拐的衬底***物420。双元件位衬底270在气体入口271接受来自工艺气源的工艺气体并且把工艺气体经由内部的流体通道提供给在衬底270的顶面中形成的排气口272。二通阀或其它的流体处理元件(未展示)被放置在排气口272和也在衬底270的顶面中形成的进气口273上面，而且用衬底270形成密封。然后，来自进气口273的工艺气体流过在衬底270的主体中形成的V形槽(在图23中展示)到也在衬底270的顶面中形成的排气口274。衬底270包括用来接受歧管部分2110的沟槽279。例如，在图14列举的实施方案中，气体棒F的衬底270接受有一对在顶面中形成的端口237、239(图21)和在歧管部分235中横切顶面的表面中形成的单一端口236的双位歧管部分235。衬底270的沟槽279适合这样放置歧管部分235，以致在顶面中形成的端口237在衬底270的顶面的公共平面中与排气口274和在衬底270的沟槽279另一边的进气口276排成一行。
三通阀(未展示)通常被放置在衬底270的端口274、276和歧管部分235的顶面端口237上面并且借助众多的紧固件(未展示)紧固到衬底270上。在沟槽279每边接受的紧固件连同密封垫(未展示)或其它的封闭构件一起在衬底的端口274、276和歧管部分235的顶面端口237之中形成无泄漏密封。三通阀允许借助把衬底270中的进气口276连接到衬底270的排气口278的V形槽(见图23)提供用公用歧管2110引导的工艺气体或诸如清洗气体之类的另一种气体之一。质量流量控制器的进气口(未展示)被流体地连接到衬底270的排气口278，并且经由质量流量控制器的排气口把工艺气体或其它气体提供给单一元件位T形槽衬底430的进气口431(图23)。质量流量控制器在气体棒F中桥接衬底270和T形槽衬底430。
气体棒F使用适合接受要么左拐要么右拐的衬底***物420、425(图24)的单一元件位T形槽衬底430，而不是与在每个气体棒A-E和H-L中一样使用单一元件位衬底260。T形槽衬底430包括在其顶面中形成的进气口431和排气口432，和构造类似于单一元件位衬底260的沟槽269。然而，T形槽衬底430还包括在衬底430的顶面中形成的允许接受要么左拐要么右拐的衬底***物420、425的附加沟槽283。
每个左拐或右拐的衬底***420、425包括一对在其顶面中形成的用V形槽连接的端口(422、423和427、428)。每个左拐或右拐的衬底***物420、425(图24)还包括在衬底***物中横切顶面的表面中形成的端口421、426。端口421、426在内部被流体地连接到V形槽并因此到每个端口422、423和427、428，而且可能用来连接与公用歧管2120或2130流体地连接的歧管部分(例如，图14的歧管部分240)。在图14举例说明的实施方案中，二通阀(未展示)可以被这样放置在衬底430的端口432上面和衬底***420、425的端口422、427上面以便把来自一个或多个气体棒A-F和G-L的一种或多种工艺气体或清洗气体有选择地提供给衬底***物420、425的端口423、428，然后从那里到混合入口衬底410。通常，三通阀被放置在衬底***420、425的端口423、428上面以便经由***物435B和435C把工艺气体提供给混合入口衬底410或混合出口衬底415。
图21和22举例说明依照本发明的实施方案可以用来形成的配气板的许多歧管部分220、225、230、235、240、255和265。歧管部分220、225、230、235、240、255和265类似于前面结合图9的描述的那些，其中每个都包括用一块长的不锈钢或其它的适当材料制成的歧管主体，而且每个都包括至少一个在歧管主体顶面中形成的端口。此外，每个歧管部分都包括至少一个在横切顶面的表面中形成的连接另一个歧管部分的端口。因为歧管部分220、225、230、235、240、255和265实质上类似于前面结合图9描述的那些，所以下面将仅仅详细描述其差别。
如图21和22所示，每个歧管部分220、225、230、235、240、255和265包括至少一个(优选一对)在歧管部分横向侧表面中形成的而且被彼此隔开的凹陷295。每个凹陷在外形上都呈向外的弓形而且形成不足一半的圆(即，取值范围小于180度)。优选的是，对于在歧管主体顶面中形成的每个端口，一对凹陷295是在每个歧管主体侧表面上形成的，每个凹陷与端口等间距隔开。在歧管主体对称的情况下(例如，歧管部分220、240，等等)，人们应该领会到，可以提供较少的几对凹陷，例如，一对凹陷安排在歧管主体的每个对置侧表面上。每个凹陷295在边缘296终止。如同图18和20最清楚地展示的那样，每个凹陷都是为了接受把歧管部分刚性地锁定在衬底260、270的沟槽269，279里面的紧固件205而构成的。凹陷295的边缘296起阻挡(在构造方面与图26所示的的紧固件315相似的)紧固件205的头部的底部边缘的作用，而且当***紧固件205的时候，紧固件205的头部的底部边缘迫使歧管紧密地抵住衬底260、270的沟槽269、279的底面。紧固件205的最高部分和凹陷295的深度是这样确定尺寸的，以致紧固件205的最高部分不高出衬底260、270的顶面而且不干扰密封。一般地说，一对在歧管部分的对置侧表面上位于端口两边的紧固件205足以迫使歧管部分紧紧地装在衬底260、270的沟槽269、279里面。如同前面提到的那样，每个衬底260、270都包括互补的安装凹陷290，以致当歧管部分在沟槽269、279的底面中定位的时候，凹陷290和295形成一个普通的圆孔。
熟悉这项技术的人应该领会到，使用这样描述的紧固件205起防止在衬底的端口、歧管部分的端口和从上面附着其上的流体处理装置之间泄漏的可能性。明确地说，通过迫使歧管部分稳固地抵住衬底260、270中的沟槽269、279的底部，歧管部分起用个别的衬底260、270定义直线排列的作用。如果歧管部分不稳固地固定在衬底260、270的沟槽269、279中，那么剧烈的冲击或振动经由歧管部分在沟槽内的垂直运动(歧管部分的厚度可能小于沟槽深度)进一步压缩密封垫(往往是通常放在流体处理装置和衬底和歧管部分的端口之间的可变形的金属密封垫)，一旦那个冲击或振动力被撤除，密封件本身可能泄漏是可能的。
在歧管部分220、225、230、235、240、255和265和前面结合图9描述的那些歧管部分之间的另一个差别是定位孔282出现在歧管部分的下表面。如同在图22中能最清楚地看到的那样，每个歧管部分可能包括一个或多个为了与在衬底260、270的沟槽269、279的底面中形成的互补定位销钉281配对而构成的定位孔282。定位销钉281可以是用能压配合地进入在沟槽269、279的底面中钻出的适当的孔的开槽销钉制成的。通过使用压配合的开槽销钉，加工成本能被大幅度减少，而且开槽销钉能按正确的尺寸购买。
优选的是，每个歧管部分包括中心安排在歧管部分的底面中位于在歧管部分的顶面中形成的每个端口的两边的两个定位孔282。在列举的实施方案中，这些定位孔282通常对准歧管部分的侧表面中的凹陷295。人们应该领会到，可能代之以提供定位销钉281，而不是有在歧管部分底部表面中形成定位孔282，而定位孔282是在衬底260、270的沟槽269、279的底面中提供的。人们也应该领会到，不管定位销钉281和定位孔282在哪里形成，定位销钉281都应该在长度上比定位孔更短，以致歧管部分的底部表面与沟槽的底面是重合的。
虽然在此已经描述了若干不同的歧管部分220、225、230、235、240、255和265，但是人们应该领会到本发明不局限于列举的实施方案。例如，可能使用有不同数目的在歧管主体顶面上形成的端口的歧管部分，而在歧管主体的横向表面只有单一的端口，或有两个端口在歧管主体的对置的横向表面中形成。人们应该进一步领会到，虽然在歧管部分的顶面中形成的端口被举例说明为包括适合接受环的C型密封件的沉头孔，但是不同的端口配置可能作为替代被使用，以致标准流体处理元件可以与它们一起使用。此外，不要求所有在歧管的顶面中形成的端口都具有同一类型的密封配置，在一种类型的密封可以被用于一个端口的同时，另一种类型的密封可能被用在另一个端口。
如图23和24所示，至少衬底260、270、405、410、420、425、430的顶面中的端口之一可以包括在衬底的顶面中形成的泄漏端口95。通常，泄漏端口95是在将与流体元件流体地连接的每对端口之间提供的。而且，虽然每个衬底260、270被描绘为有在其中形成的单一的沟槽269、279，但是可以改为提供多重沟槽，以致各种不同的流体可以被引向每个气体棒A-L，或作为替代引向一个或多个气体棒。此外，人们应该领会到，虽然已经描述了在每个气体棒A-L中使用二通阀、三通阀和质量流量控制器的特定配置，但是本发明不受这样的限制。因此，依照本发明的教导，可以在单一衬底上提供两个以上元件站。例如，衬底260、270可能包括一个或多个适合接受过滤器，压力传感器或压力调节器或照惯例提供的各式各样其它的流体处理元件的附加元件站。而且，不要求安装到每个衬底上的流体元件在每个气体棒中都是一样的，因为无数种不同的元件组合可能是很容易想象的。
依照本发明的另一方面，图14-28的实施方案利用浮动底座把衬底和其它的元件弹性地安装到随后附着到底面上的安装板上，而不是把衬底直接安装到底面上。浮动底座允许在三个正交的方向有限的运动，以致流体分配***的衬底、歧管部分和其它部分可能是容易互相连接的，而在安装板中孔的布置不需要极端精确。浮动底座还使元件脱离与安装板和底面的热耦合，借此允许用传统技术给元件有效地加热或冷却。此外，浮动底座也使流体分配***对冲击和振动变得比较不敏感，还提供重要的拉伸和剪切强度。现在结合图14、18、20、23、24、25、26、27和28着重描述本发明的这个方面。
如图23和24所示，各种不同的衬底260、270、405、410、415和430每个都可能包括众多可以用来把衬底弹性地安装到安装板210上的安装孔或通孔263。这些安装孔263每个都接受螺纹紧固件315，例如Allen螺栓。每个安装孔263都有为接受紧固件315的头部的底部或下边缘构成的当紧固件接合在浮动底座300中的时候把衬底推向安装板210(图26)的凹陷边缘316。边缘316的深度是这样的，以致当紧固件315与浮动底座300接合的时候，紧固件的最高部分在衬底顶面以下，如图26所示。安装板的边缘是这样弯曲的，以致安装板中安装流体分配元件的区域从安装板所附着的底面提升，如图25所示。
螺纹紧固件315被纳入用图26和27最好地举例说明的浮动底座300。如图所示，浮动底座300包括上加压环351；下加压环354；上面的和下面的弹性构件352、353和螺纹紧固件355。上加压环351在外形上通常是圆的而且通常有在短柄的两侧有平面的圆筒形的短柄356。短柄356两侧的平面与安装板210中形成互补的孔299(图28)的壁面接合。穿过上加压环351的中心延伸的内螺纹孔358和短柄356接受紧固件315的螺纹部分。上加压环351还包括在其下侧形成的接受环形的上弹性构件352的环形沟槽361。环形的上弹性的构件352通常是用诸如橡胶、VitonTM、NeopreneTM或Buna-NTM之类的弹性体材料制成的，而且可能是传统的O型圈。
下加压环354通常在外形上也是圆的而且包括在其顶面的接受环形的下弹性构件353的环形沟槽357。下加压环354也包括螺纹紧固件355的外螺纹末端可以从中穿过的通孔362，而且包括允许在下加压环354之内接受上加压环351的短柄356的轴向净空孔360。上、下加压环351、354可以是用棒料加工的，作为替代，形成加压环的粉末金属法可以被使用。
在使用中，上弹性构件352是在上加压环351和安装板210之间的上加压环351的环形沟槽361中定向的，而下弹性构件353是在下加压环354和安装板210之间的下加压环的环形沟槽357中定向的。带外螺纹的紧固件355被纳入上加压环351的内螺纹短柄356而且为了把上、下加压环拉到一起被拧紧。因为短柄356两侧的平面与安装板210的孔299的平壁接合，所以浮动底座300的转动在拧紧螺纹紧固件355期间得以避免。衬底或其它的元件被放在上加压环351上面，而且螺纹紧固件315是从上面拧紧的。再者，短柄356上的平面在拧紧螺纹紧固件315期间阻止浮动底座转动。上加压环351的短柄356和螺纹紧固件315、355是这样确定尺寸的，以致在完全拧紧的时候，螺纹紧固件315和355的末端不彼此接触。
如同熟悉这项技术的人可以领会到的那样，浮动底座300提供许多超越把流体元件和其它结构直接安装到底面的安装技术的优点。例如，上、下弹性构件352、353是为吸收冲击和振动而工作的，而且允许在三个正交方向之中的每个方向上(即，在图14的平面中向左、向右和垂直地)轻微地运动。因此，安装板中的安装孔299可以以比元件和其它的结构被直接安装到安装板上之时所需要的精度低的精度形成。然而，因为元件衬底是用螺纹紧固件附着到浮动底座300上，而且浮动底座是用螺纹连接形成的，所以安装具有结实的拉伸和剪切强度。
上、下弹性构件352，353也有使元件与安装板210热隔离的作用。因此，每个元件衬底260、270、405、410、415和430也可能包括接受符合特定应用要求的加热元件或冷却元件的孔500(见图23和24)。因为元件衬底与安装板和底面热隔离，所以，施加给衬底的加热或冷却不容易对充当大散热片的安装板和底面实施。
虽然浮动底座已被描述为与元件衬底260、270、405、410、415和430一起使用，但是它也可能与附着在安装板上的其它结构一起使用。例如，图14和20举例说明用来支撑提供工艺气体的导管和把导管弹性地安装到安装板210上的支撑310。螺纹紧固件305(图26)可以穿过支撑310底面上的孔***浮动底座300。一般地说，任何可能用螺纹紧固件附着到流体分配***的底面上的元件或结构在需要轴向柔顺性、减振或绝热的场合都可以与浮动底座300一起使用用离析被哪里。
至此已经描述了这项发明的至少一个实施方案的一些方面，人们将领会到各种不同的替代方案、修改方案和改进方案对于熟悉这项技术的人将很容易发生。例如，虽然衬底70、270和405中的输入端口71、271和406被举例说明为被安排衬底正面的横向表面中(见图10、11和23)，但是作为替代它们可能被安排在左侧或右侧的横向表面中，以便形成与工艺流体来源成直角的连接，而不是直线连接。这样的替代方案、修改方案和改进方案预计是这份揭示的一部分，而且倾向于落在本发明的精神和范围里面。因此，前面的描述和附图仅仅是作为例子。

Claims (54)

1.一种促成流体分配的***，该***包括衬底，衬底具有形成于衬底的第一表面中的第一端口和第二端口，形成于衬底中并按将第一端口与第二端口连通的第一方向延伸的第一流体通道，形成于衬底的第一表面中并按不同于第一方向的第二方向延伸的沟槽，所述沟槽适合于放置歧管，该歧管包括分别形成于歧管的第一表面和第二表面的第一端口和第二端口，所述的歧管还具有把歧管的第一端口与歧管的第二端口连通的流体通道，其特征在于：在衬底的第一表面中形成的沟槽经过配置将歧管容纳于其中，以致衬底的第一表面和歧管的第一表面在公共平面中对准。
2.根据权利要求1的***，其中衬底的第一和第二端口被安排在沟槽的第一边。
3.根据权利要求2的***，其中衬底包括在衬底的第一表面中形成的众多孔口，众多孔口包括至少一个安排在沟槽的第一边的第一孔口和至少一个安排在沟槽的第二边的第二孔口，至少一个第一和第二孔口是为以与衬底的第二端口和歧管的第一端口密封接合的方式安装流体元件而安排的。
4.根据权利要求3的***，其中至少第一和第二孔口是为以与衬底的第二端口和歧管的第一端口密封接合的方式安装二通阀而安排的。
5.根据权利要求1-4中的任何一种***，其中沟槽包括用于使衬底的第二端口与歧管的第一端口对准的装置。
6.根据权利要求2的***，其中衬底进一步包括在衬底的第一表面上形成的并置于沟槽的第二边的第三和第四端口，以及在衬底上形成的并按第一方向延伸的第二流体通道，第二流体通道把第三端口与第四端口连通。
7.根据权利要求6的***，其中衬底包括在衬底的第一表面中形成的第一众多孔口，第一众多孔口包括至少一个安排在沟槽的第一边的第一孔口和至少一个安排在沟槽的第二边的第二孔口，第一众多孔口是为以与衬底的第二和第三端口和歧管的第一端口密封接合的方式安装流体元件而安排的。
8.根据权利要求7的***，其中第一众多孔口包括不超过四个孔口，四个孔口包括两个安排在沟槽的第一边的孔口和两个安排在沟槽的第二边的孔口。
9.根据权利要求7或者权利要求8的***，其中第一众多孔口是为以与衬底的第二和第三端口和歧管的第一端口密封接合的方式安装三通阀而安排的。
10.根据权利要求7或者权利要求8的***，其中衬底进一步包括在衬底的第一表面上形成的并被置于沟槽的第一边的第五端口，被安排在沟槽的第一边和形成于横切衬底的第一表面的衬底的第二表面上的第六端口，和按第一方向延伸的第三流体通道，第三流体通道把第五端口与第六端口连通。
11.根据权利要求10的***，其中流体元件是第一流体元件，而且其中衬底进一步包括形成于衬底的第一表面中的并置于第一和第五端口周围的第二众多孔口，第二众多孔口是为以与衬底的第一和第五端口密封接合的方式安装第二流体元件安排的。
12.根据权利要求11的***，其中第二流体元件包括流动连接衬底的第一和第五端口的二通阀。
13.根据权利要求12的***，其中第一流体元件包括流动连接衬底的第二和第三端口与歧管的第一端口的三通阀。
14.根据权利要求13的***，其中第二方向垂直于第一方向。
15.根据权利要求11的***，其中第一众多孔口是为以与衬底的第二和第三端口和歧管的第一端口密封接合的方式安装三通阀而安排的，以及第二众多孔口是为以与衬底的第一和第五端口密封接合的方式安装二通阀而安排的。
16.根据权利要求11的***，其中衬底进一步包括在衬底的第一表面上形成的并置于第四端口周围的第三众多孔口，第三众多孔口是为在第四端口上安装第三流体元件而安排的。
17.根据权利要求16的***，其中第一众多孔口是为以与衬底的第二和第三端口和歧管的第一端口密封接合的方式安装三通阀而安排的，第二众多孔口是为以与衬底的第一和第五端口密封接合的方式安装二通阀而安排的，以及第三众多孔口是为将质量流量控制器的输入边和输出边之一安装到第四端口上而安排的。
18.根据权利要求6-8中的任何一种***，其中沟槽包括用于使歧管的第一端口与衬底的第二和第三端口对准的装置。
19.根据权利要求1-4和6-8中的任何一种***，其中沟槽包括一对侧壁和底面，而且沟槽的底面包括能***刚性构件把歧管从沟槽中取出的孔。
20.根据权利要求19的***，其中孔是螺纹孔并适合容纳带螺纹的刚性构件以便把歧管从沟槽中取出。
21.根据权利要求1的***，其中衬底是第一衬底，***进一步包括：第二衬底，第二衬底具有在第二衬底的第一表面形成的第一衬底端口和第二衬底端口；以及按第一方向延伸并流动连接第二衬底的第一和第二衬底端口的第一流体通道；其中第二衬底进一步包括在第一表面中形成的按第二方向延伸的沟槽，该沟槽适合于使歧管容纳于其中，以致第二衬底的第一表面和歧管的第一表面在公共平面中对准。
22.根据权利要求21的***，其中第一衬底中的沟槽沿着第二方向与第二衬底中的沟槽对准。
23.根据权利要求1的***，其中第二表面横切第一表面，而且其中歧管包括将歧管的第一和第二端口连通的流体通道。
24.根据权利要求23的***，其中歧管包括至少一个在歧管的第一表面形成的止于边缘的第一凹陷，其中沟槽包括一对侧壁和底面，并且其中一对侧壁中的至少一个侧壁包括至少一个延伸到底面的第一凹陷和具有互补于至少一个第一凹陷的第一边缘。
25.根据权利要求23所述的***，其中衬底是第一衬底，并且歧管是第一歧管；***进一步包括第二衬底，第二衬底具有形成于第二衬底的第一表面上的第一衬底端口和第二衬底端口；以及按第一方向延伸的并流动连接第二衬底的第一和第二衬底端口的第一流体通道；第二歧管包括在第二歧管的第一表面形成的第一歧管端口，在横切第二歧管的第一表面的第二歧管的第二表面形成的第二歧管端口；第一流体通道流动连接第二歧管的第一和第二歧管端口；其中第二衬底进一步包括在第二衬底的第一表面上形成的并按第二方向延伸的沟槽，沟槽适合于以放置第二歧管以致第二衬底的第一表面和第二歧管的第一表面在公共平面中对准。
26.根据权利要求25的***，其中第一衬底的第一流体通道在第一方向上对准第二衬底的第一流体通道。
27.根据权利要求25或权利要求26的***，该***进一步包括第三衬底，第三衬底具有在第三衬底的第一表面上形成的第一衬底端口和第二衬底端口；以及按第一方向延伸的并流动连接第三衬底的第一和第二衬底端口的第一流体通道；其中第三衬底进一步包括在第三衬底的第一表面形成的按第二方向延伸的沟槽，该沟槽适合于以放置第一歧管以致第三衬底的第一表面和第一歧管的第一表面在公共平面中对准。
28.根据权利要求27的***，进一步包括第四衬底，第四衬底具有在第四衬底的第一表面上形成的第一衬底端口和第二衬底端口；以及按第一方向延伸的并流动连接第四衬底的第一和第二衬底端口的第一流体通道；其中第四衬底进一步包括在第四衬底的第一表面形成的按第二方向延伸的沟槽，该沟槽适合于以放置第二歧管以致第四衬底的第一表面和第二歧管的第一表面在公共平面中对准。
29.根据权利要求28的***，其中第二方向垂直于第一方向。
30.根据权利要求23的***，其中至少沟槽和歧管之一包括用于对准歧管的第一端口与衬底的第二端口的装置。
31.根据权利要求23的***，其中沟槽包括一对侧壁和底面，其中一对侧壁中的至少一个侧壁包括至少一个第一凹槽，其中的歧管包括至少一个第二凹槽，***进一步包括至少一枚销钉对准第一和第二凹槽以致歧管的第一端口与衬底的第二端口对准。
32.根据权利要求31的***，其中至少一个销钉有当***第一和第二凹槽的时候不延伸到公共平面上方的长度。
33.根据权利要求23的***，其中至少衬底的第一和第二端口之一包括用来检测是否已实现无泄漏密封的装置。
34.根据权利要求23的***，其中沟槽包括一对侧壁和底面，其中一对侧壁中的至少一个侧壁包括延伸到底面的第一凹陷并且具有第一边缘，其中的歧管包括至少一个止于第二边缘的互补于至少一个第一凹陷的第二凹陷，***进一步包括至少一个使第一和第二边缘接合的紧固件。
35.根据权利要求34的***，其中紧固件在与第一和第二边缘接合的时候不在公共平面上方延伸。
36.根据权利要求23的***，其中歧管和沟槽之一包括一对有某种形状的定位孔，而歧管和沟槽之中另一个包括一对与一对定位孔形状互补的定位柱，定位孔的深度大于对应的定位柱的高度。
37.根据权利要求36的***，其中定位孔和定位柱是这样构成和安排的，以致在匹配时歧管的第一端口在第一方向对准衬底的第二端口。
38.根据权利要求23的***，其中歧管的第一端口包括在歧管的第一表面形成的众多第一歧管端口，众多第一歧管端口中的每一个都被流动连接到歧管流体通道。
39.根据权利要求38的***，进一步包括在歧管的第三表面形成的第三歧管端口，歧管的第三表面横切歧管的第一表面并平行于歧管的第二表面，第三歧管端口与歧管流体通道流动连接。
40.根据权利要求39的***，其中的歧管是第一歧管，其中第一歧管的第二端口适合于匹配第二歧管的歧管端口，其中第一歧管的第三歧管端口适合于匹配第三歧管的歧管端口，第一、第二和第三歧管形成公用的歧管。
41.根据权利要求40的***，其中至少歧管的一个侧表面横切歧管的第一、第二和第三表面，该歧管包括使用各个衬底的各个端口对准众多第一歧管端口中的每一个端口的装置。
42.根据权利要求23的***，其中歧管是第一歧管，并且其中的第一歧管的第二端口适合于匹配第二歧管的歧管端口以形成公用的歧管。
43.根据权利要求23的***，其中第一歧管的第二端口适合于法兰匹配，所述法兰与工艺流体源连通。
44.根据权利要求23的***，其中横切歧管的第一和第二表面的至少歧管的一个侧表面包括用来使第一歧管的第一端口与衬底的第一和第二端口之一对准的装置。
45.根据权利要求23的***，其中至少一个横切歧管的第一和第二表面的歧管侧表面包括至少一个凹槽，该凹槽适合容纳使歧管的第一端口与衬底的第一和第二端口之一对准的销钉。
46.根据权利要求23的***，进一步包括至少一个在平行于第一表面但横切第二表面的歧管第三表面中形成的定位孔或定位柱。
47.根据权利要求23的***，进一步包括至少一个在歧管的第一表面中形成的止于边缘的凹陷。
48.根据权利要求1，23或25中的任何一项所述的***，该***包括一种安装组件，其中安装组件包括：
有主体的第一构件，第一构件的主体包括在第一构件主体的对置表面上面对第一方向的第一表面和面对与第一方向相反的第二方向的第二表面，第二表面有包括毗邻***部分的周边安排的凹槽的***部分和从***部分按第二方向延伸的中央部分；
有主体的第二构件，第二构件的主体包括在第二构件主体的对置表面上面对第一方向的第一表面和面对与第一方向相反的第二方向的第二表面，第二表面有中央部分和从中央部分伸出包括毗邻***部分的周边安排的凹槽的***部分，第二构件的主体进一步包括从第一表面至第二表面的中央部分贯穿主体的通孔；以及
具有尺寸适合纳入第二构件主体上的通孔而且与第一构件主体的第二表面的中央部分接合的螺纹短柄的第一紧固件。
49.根据权利要求48的***，进一步包括：
尺寸适合至少部份地装配在第一构件主体的第二表面的***部分中的凹槽里面的第一弹性构件；以及
尺寸适合至少部份地装配在第二构件主体的第二表面的***部分中的凹槽里面的第二弹性构件。
50.根据权利要求49的***，其中第一构件的主体进一步包括在第二表面的中央部分有内螺纹的孔，而第一紧固件的螺纹短柄有外螺纹而且尺寸适合纳入在第一构件主体的第二表面中央部分中有内螺纹的通孔。
51.根据权利要求50的***，其中第一和第二构件在外形上通常是圆的。
52.根据权利要求51的***，其中第一构件主体的第二表面中央部分在外形上通常是有一对对置的平侧面的圆筒形的。
53.根据权利要求52的***，其中在第一构件主体的第二表面中央部分中有内螺纹的孔从第一构件主体的第一表面至第二表面中央部分贯穿第一构件的主体。
54.根据权利要求49的***，其中第一和第二弹性构件是用弹性体材料制成的。
CNB03822366XA 2002-08-27 2003-08-26 在公共平面中有歧管连接的模块式衬底配气板 Expired - Fee Related CN100396980C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US40613202P 2002-08-27 2002-08-27
US60/406,132 2002-08-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1682054A CN1682054A (zh) 2005-10-12
CN100396980C true CN100396980C (zh) 2008-06-25

Family

ID=31978264

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB03822366XA Expired - Fee Related CN100396980C (zh) 2002-08-27 2003-08-26 在公共平面中有歧管连接的模块式衬底配气板

Country Status (8)

Country Link
US (2) US7334605B2 (zh)
EP (1) EP1543544A2 (zh)
JP (1) JP2005539375A (zh)
KR (1) KR20060017577A (zh)
CN (1) CN100396980C (zh)
AU (1) AU2003262953A1 (zh)
TW (1) TWI244669B (zh)
WO (1) WO2004021412A2 (zh)

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2003262953A1 (en) * 2002-08-27 2004-03-19 Celerity Group, Inc. Modular substrate gas panel having manifold connections in a common plane
GB2431206B (en) * 2002-11-26 2007-05-30 Swagelok Co Modular surface mount fluid system
US6874538B2 (en) * 2003-03-26 2005-04-05 Kevin S. Bennett Fluid delivery system
US7178556B2 (en) * 2003-08-07 2007-02-20 Parker-Hannifin Corporation Modular component connector substrate assembly system
CN1887029A (zh) * 2003-11-07 2006-12-27 迅捷公司 表面安装的加热器
EP1744131A1 (en) * 2005-07-15 2007-01-17 Indufil B.V. Module for a gas system
JP4780555B2 (ja) * 2005-09-12 2011-09-28 株式会社フジキン 流体制御装置
JP4780558B2 (ja) * 2005-12-09 2011-09-28 株式会社フジキン 流体制御装置用継手およびそれを用いた流体制御装置
JP4755498B2 (ja) * 2006-01-06 2011-08-24 東京エレクトロン株式会社 加熱装置及び加熱方法
US7575616B2 (en) * 2006-02-10 2009-08-18 Entegris, Inc. Low-profile surface mount filter
US7806143B2 (en) 2007-06-11 2010-10-05 Lam Research Corporation Flexible manifold for integrated gas system gas panels
US7784497B2 (en) * 2007-07-12 2010-08-31 Eriksson Mark L MSM component and associated gas panel assembly
JP5000469B2 (ja) * 2007-12-05 2012-08-15 株式会社キッツエスシーティー 容器用ブロックバルブ
KR101229775B1 (ko) * 2008-12-26 2013-02-06 엘지디스플레이 주식회사 기판 세정장치
US8307854B1 (en) 2009-05-14 2012-11-13 Vistadeltek, Inc. Fluid delivery substrates for building removable standard fluid delivery sticks
KR101779849B1 (ko) * 2009-06-10 2017-10-10 비스타델텍, 엘엘씨 극 유량 및/또는 고온 유체 전달 기판
KR101097509B1 (ko) * 2009-07-17 2011-12-22 주식회사 엠엠티 기판 세정장치
WO2011112515A2 (en) * 2010-03-10 2011-09-15 Coast Pneumatics, Inc. Modular manifold with quick disconnect valve fittings
US8327879B2 (en) 2010-03-10 2012-12-11 Coast Pneumatics, Inc. Modular manifold with quick disconnect valve fittings
US8333214B2 (en) 2010-03-10 2012-12-18 Coast Pneumatics, Inc. Modular manifold with quick disconnect valve fittings
US8336573B2 (en) 2010-03-10 2012-12-25 Coast Pneumatics, Inc. Modular manifold with quick disconnect valve fittings
US9074686B2 (en) 2010-12-06 2015-07-07 Microflex Technologies Llc Ring seal retainer assembly and methods
US9114788B2 (en) * 2011-01-27 2015-08-25 Wabtec Holding Corp. Manifold joint seal
JP5277278B2 (ja) * 2011-03-29 2013-08-28 株式会社フジキン 流体制御装置用継手
WO2012151292A2 (en) 2011-05-02 2012-11-08 Advantage Group International Inc. Manifold system for gas and fluid delivery
US9188990B2 (en) * 2011-10-05 2015-11-17 Horiba Stec, Co., Ltd. Fluid mechanism, support member constituting fluid mechanism and fluid control system
US8851113B2 (en) * 2012-03-27 2014-10-07 Lam Research Coporation Shared gas panels in plasma processing systems
US9091397B2 (en) 2012-03-27 2015-07-28 Lam Research Corporation Shared gas panels in plasma processing chambers employing multi-zone gas feeds
JP6175300B2 (ja) * 2013-07-17 2017-08-02 株式会社フジキン 流体制御装置用継手部材および流体制御装置
KR102544885B1 (ko) 2014-04-07 2023-06-16 램 리써치 코포레이션 구성 독립된 가스 전달 시스템
US10557197B2 (en) 2014-10-17 2020-02-11 Lam Research Corporation Monolithic gas distribution manifold and various construction techniques and use cases therefor
US10022689B2 (en) 2015-07-24 2018-07-17 Lam Research Corporation Fluid mixing hub for semiconductor processing tool
US10118263B2 (en) 2015-09-02 2018-11-06 Lam Researech Corporation Monolithic manifold mask and substrate concepts
US10215317B2 (en) 2016-01-15 2019-02-26 Lam Research Corporation Additively manufactured gas distribution manifold
US9879795B2 (en) 2016-01-15 2018-01-30 Lam Research Corporation Additively manufactured gas distribution manifold
KR20190075100A (ko) * 2016-10-24 2019-06-28 가부시키가이샤 후지킨 유체제어장치 및 이 유체제어장치를 사용한 제품 제조방법
JP7061808B2 (ja) * 2017-03-15 2022-05-02 株式会社フジキン 継手および流体制御装置
JP2022529263A (ja) * 2019-04-15 2022-06-20 ラム リサーチ コーポレーション ガス送給用のモジュール式構成要素システム
JP7333944B2 (ja) * 2019-06-27 2023-08-28 株式会社フジキン 流体制御装置
TW202138950A (zh) * 2020-04-09 2021-10-16 日商堀場Ｓｔｅｃ股份有限公司 流體控制裝置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4082324A (en) * 1976-10-04 1978-04-04 Obrecht Robert E Connection arrangement for manifold blocks
US4524807A (en) * 1982-05-21 1985-06-25 Humphrey Products Company Snap-together modular manifold construction
EP0169963A1 (en) * 1984-07-27 1986-02-05 Luciano Migliori Subbase for feeding and supporting control valves
GB2178139A (en) * 1985-06-27 1987-02-04 Festo Kg A valve housing arrangement
EP0845623A1 (en) * 1996-11-20 1998-06-03 Tadahiro Ohmi Shutoff-opening device
WO2001016512A1 (en) * 1999-09-01 2001-03-08 Silicon Valley Group, Inc. Layered block fluid delivery system

Family Cites Families (65)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1625306B1 (de) * 1967-10-24 1971-02-25 Daimler Benz Ag Steckmutter für eine schraubverbindung
US4067531A (en) * 1976-07-22 1978-01-10 Derre & Company Vibration isolation and sealing gasket
US4490083A (en) * 1980-01-10 1984-12-25 Russell, Burdsall, & Ward Corporation Sealing capped nut and bolt therefor
US4681476A (en) * 1986-05-01 1987-07-21 Motorola, Inc. Flex-lock dovetail mounting apparatus for radio transceivers and accessories
US5440477A (en) * 1991-05-20 1995-08-08 Creative Pathways, Inc. Modular bottle-mounted gas management system
US5368062A (en) * 1992-01-29 1994-11-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Gas supplying system and gas supplying apparatus
US5275074A (en) * 1992-08-25 1994-01-04 Taylor Christopher L Miter slider
WO1996001994A1 (en) * 1994-07-11 1996-01-25 Tekmar Company Modular vial autosampler
DE9411684U1 (de) 1994-07-19 1994-09-15 Elco Klöckner Heiztechnik GmbH, 72379 Hechingen Steuervorrichtung für einen Wärme- oder Kältekreislauf
US5605179A (en) * 1995-03-17 1997-02-25 Insync Systems, Inc. Integrated gas panel
JP3661040B2 (ja) * 1995-05-31 2005-06-15 忠弘 大見 流体制御装置
JP3546275B2 (ja) * 1995-06-30 2004-07-21 忠弘 大見 流体制御装置
KR100232112B1 (ko) * 1996-01-05 1999-12-01 아마노 시게루 가스공급유닛
DE19600629A1 (de) * 1996-01-10 1997-07-17 Meuleman Andre Spezialschraube zum Verbinden von beschichteten Blechteilen
JP3726168B2 (ja) * 1996-05-10 2005-12-14 忠弘 大見 流体制御装置
US5662143A (en) * 1996-05-16 1997-09-02 Gasonics International Modular gas box system
US5915409A (en) * 1996-06-13 1999-06-29 Ckd Corporation Manifold
JP3650859B2 (ja) * 1996-06-25 2005-05-25 忠弘 大見 遮断開放器およびこれを備えた流体制御装置
US5794645A (en) * 1996-07-15 1998-08-18 Creative Pathways, Inc. Method for supplying industrial gases using integrated bottle controllers
JP3122386B2 (ja) * 1996-07-16 2001-01-09 シーケーディ株式会社 ガスケット保持具
US5992463A (en) * 1996-10-30 1999-11-30 Unit Instruments, Inc. Gas panel
US6394138B1 (en) * 1996-10-30 2002-05-28 Unit Instruments, Inc. Manifold system of removable components for distribution of fluids
US6293310B1 (en) * 1996-10-30 2001-09-25 Unit Instruments, Inc. Gas panel
JP3997337B2 (ja) * 1996-11-20 2007-10-24 忠弘 大見 流体制御装置
US5836355A (en) * 1996-12-03 1998-11-17 Insync Systems, Inc. Building blocks for integrated gas panel
JPH10220698A (ja) * 1996-12-03 1998-08-21 Nippon Aera Kk 流体制御装置
US6302141B1 (en) * 1996-12-03 2001-10-16 Insync Systems, Inc. Building blocks for integrated gas panel
JP3997338B2 (ja) * 1997-02-14 2007-10-24 忠弘 大見 流体制御装置
JPH10300000A (ja) * 1997-02-28 1998-11-13 Benkan Corp 集積化ガス制御装置
JP3814704B2 (ja) * 1997-05-08 2006-08-30 忠弘 大見 流体制御器用継手
JP3774800B2 (ja) * 1997-09-24 2006-05-17 株式会社フジキン 下段部材の固定装置およびこれを備えた流体制御装置
JP3737869B2 (ja) * 1997-05-13 2006-01-25 シーケーディ株式会社 プロセスガス供給ユニット
US6152175A (en) * 1997-06-06 2000-11-28 Ckd Corporation Process gas supply unit
US5860676A (en) * 1997-06-13 1999-01-19 Swagelok Marketing Co. Modular block assembly using angled fasteners for interconnecting fluid components
JP3876351B2 (ja) * 1997-06-18 2007-01-31 忠弘 大見 管継手
JP4235759B2 (ja) * 1997-08-05 2009-03-11 忠弘 大見 流体制御装置
JP4378553B2 (ja) * 1997-10-13 2009-12-09 忠弘 大見 流体制御装置
US5975590A (en) * 1998-02-17 1999-11-02 Applied Materials, Inc. High pressure fitting
US6629546B2 (en) * 1998-03-05 2003-10-07 Swagelok Company Modular surface mount manifold assemblies
US6502601B2 (en) * 1998-03-05 2003-01-07 Swagelok Company Modular surface mount manifold assemblies
CN1107830C (zh) * 1998-03-05 2003-05-07 斯瓦戈洛克公司 按标准形式设计的表面安装歧管
JP3780096B2 (ja) * 1998-04-27 2006-05-31 シーケーディ株式会社 プロセスガス供給ユニット
CA2332550C (en) * 1998-05-18 2008-01-08 The Swagelok Company Modular surface mount manifold assemblies
JP4288629B2 (ja) 1998-06-05 2009-07-01 日立金属株式会社 集積形流体制御装置
US6085783A (en) * 1998-09-02 2000-07-11 Hollingshead; J. Gregory Unified modular multi-directional flow chemical distribution block
US6260581B1 (en) * 1998-06-12 2001-07-17 J. Gregory Hollingshead Apparatus for assembling modular chemical distribution substrate blocks
JP4110304B2 (ja) * 1998-06-30 2008-07-02 株式会社フジキン 流体制御装置および流体制御装置組立て方法
JP3921565B2 (ja) * 1998-07-10 2007-05-30 株式会社フジキン 流体制御装置
JP2000145979A (ja) * 1998-11-16 2000-05-26 Fujikin Inc 下段部材の固定装置およびこれを備えた流体制御装置
KR100427563B1 (ko) * 1999-04-16 2004-04-27 가부시키가이샤 후지킨 병렬분류형 유체공급장치와, 이것에 사용하는 유체가변형압력식 유량제어방법 및 유체가변형 압력식 유량제어장치
US6363958B1 (en) * 1999-05-10 2002-04-02 Parker-Hannifin Corporation Flow control of process gas in semiconductor manufacturing
US6186177B1 (en) * 1999-06-23 2001-02-13 Mks Instruments, Inc. Integrated gas delivery system
US6729353B2 (en) * 1999-09-01 2004-05-04 Asml Us, Inc. Modular fluid delivery apparatus
US6125887A (en) * 1999-09-20 2000-10-03 Pinto; James V. Welded interconnection modules for high purity fluid flow control applications
EP1222402A1 (en) * 1999-10-20 2002-07-17 Parker Hannifin Plc Fluid control system
US6546960B1 (en) * 2000-03-03 2003-04-15 Creative Pathways, Inc. Self-aligning SmartStrate™
DE60106312T2 (de) * 2000-03-10 2005-11-17 Tokyo Electron Ltd. Fluidregelvorrichtung
US6523570B2 (en) * 2000-05-04 2003-02-25 Parker-Hannifin Corp. Manifold for valve assembly
US6349744B1 (en) * 2000-10-13 2002-02-26 Mks Instruments, Inc. Manifold for modular gas box system
JP3564115B2 (ja) * 2001-12-06 2004-09-08 シーケーディ株式会社 ガス供給ユニット
US6634385B2 (en) * 2001-12-21 2003-10-21 Motorola, Inc. Apparatus for conveying fluids and base plate
AU2003262953A1 (en) 2002-08-27 2004-03-19 Celerity Group, Inc. Modular substrate gas panel having manifold connections in a common plane
US6874538B2 (en) * 2003-03-26 2005-04-05 Kevin S. Bennett Fluid delivery system
US20050005981A1 (en) 2003-03-26 2005-01-13 Paul Eidsmore Modular fluid components and assembly
US7178556B2 (en) * 2003-08-07 2007-02-20 Parker-Hannifin Corporation Modular component connector substrate assembly system

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4082324A (en) * 1976-10-04 1978-04-04 Obrecht Robert E Connection arrangement for manifold blocks
US4524807A (en) * 1982-05-21 1985-06-25 Humphrey Products Company Snap-together modular manifold construction
EP0169963A1 (en) * 1984-07-27 1986-02-05 Luciano Migliori Subbase for feeding and supporting control valves
GB2178139A (en) * 1985-06-27 1987-02-04 Festo Kg A valve housing arrangement
EP0845623A1 (en) * 1996-11-20 1998-06-03 Tadahiro Ohmi Shutoff-opening device
WO2001016512A1 (en) * 1999-09-01 2001-03-08 Silicon Valley Group, Inc. Layered block fluid delivery system

Also Published As

Publication number Publication date
US7225835B2 (en) 2007-06-05
US20040129324A1 (en) 2004-07-08
JP2005539375A (ja) 2005-12-22
TW200419630A (en) 2004-10-01
US7334605B2 (en) 2008-02-26
AU2003262953A1 (en) 2004-03-19
KR20060017577A (ko) 2006-02-24
TWI244669B (en) 2005-12-01
AU2003262953A8 (en) 2004-03-19
WO2004021412A2 (en) 2004-03-11
US20060011247A1 (en) 2006-01-19
WO2004021412A3 (en) 2004-09-02
CN1682054A (zh) 2005-10-12
EP1543544A2 (en) 2005-06-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100396980C (zh) 在公共平面中有歧管连接的模块式衬底配气板
US6938644B2 (en) Modular surface mount manifold
US7213618B2 (en) Gas-panel assembly
EP1260743B1 (en) Fluid control apparatus
US7178556B2 (en) Modular component connector substrate assembly system
US8281816B2 (en) Fluid control apparatus
US8220495B2 (en) Fluid control apparatus and method for assembling the same
JP2005539375A5 (zh)
US7036528B2 (en) Modular surface mount manifold assemblies
CN102510937B (zh) 用于内燃机的气体冷却器
JP2003526759A (ja) モジュール式面取付型マニホルド組立体
KR20010034873A (ko) 모듈형 표면 실장 매니폴드 조립체
EP1571381B1 (en) Modular surface mount manifold
EP1767839A2 (en) Modular surface mount manifold assembly and fitting therefor
JPH0725391U (ja) 流体器具のマニホールドホルダー
ITMI950828U1 (it) Attacco rapido a parete per rubinetti miscelatori o simili

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: CELERITY INC.

Free format text: FORMER OWNER: CELERITY GROUP INC.

Effective date: 20070518

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20070518

Address after: texas

Applicant after: Entegris Inc.

Address before: American California

Applicant before: Celerity Group Inc.

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20080625

Termination date: 20090928