CH713732A2 - Vorrichtung und Verfahren zum Montieren von Bauelementen auf einem Substrat. - Google Patents

Vorrichtung und Verfahren zum Montieren von Bauelementen auf einem Substrat. Download PDF

Info

Publication number
CH713732A2
CH713732A2 CH00427/18A CH4272018A CH713732A2 CH 713732 A2 CH713732 A2 CH 713732A2 CH 00427/18 A CH00427/18 A CH 00427/18A CH 4272018 A CH4272018 A CH 4272018A CH 713732 A2 CH713732 A2 CH 713732A2
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
substrate
component
camera
drive system
bonding head
Prior art date
Application number
CH00427/18A
Other languages
English (en)
Inventor
Bilewicz Norbert
Mayr Andreas
Pristauz Hugo
Selhofer Hubert
Original Assignee
Besi Switzerland Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Besi Switzerland Ag filed Critical Besi Switzerland Ag
Publication of CH713732A2 publication Critical patent/CH713732A2/de

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K13/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
    • H05K13/04Mounting of components, e.g. of leadless components
    • H05K13/0404Pick-and-place heads or apparatus, e.g. with jaws
    • H05K13/0413Pick-and-place heads or apparatus, e.g. with jaws with orientation of the component while holding it; Drive mechanisms for gripping tools, e.g. lifting, lowering or turning of gripping tools
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/52Mounting semiconductor bodies in containers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67121Apparatus for making assemblies not otherwise provided for, e.g. package constructions
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67132Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67144Apparatus for mounting on conductive members, e.g. leadframes or conductors on insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67276Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/681Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/20Sequence of activities consisting of a plurality of measurements, corrections, marking or sorting steps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K13/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
    • H05K13/04Mounting of components, e.g. of leadless components
    • H05K13/046Surface mounting
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K13/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
    • H05K13/08Monitoring manufacture of assemblages
    • H05K13/081Integration of optical monitoring devices in assembly lines; Processes using optical monitoring devices specially adapted for controlling devices or machines in assembly lines
    • H05K13/0815Controlling of component placement on the substrate during or after manufacturing
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/45Nc applications
    • G05B2219/45031Manufacturing semiconductor wafers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • H01L2224/757Means for aligning
    • H01L2224/75753Means for optical alignment, e.g. sensors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • H01L2224/758Means for moving parts
    • H01L2224/75821Upper part of the bonding apparatus, i.e. bonding head
    • H01L2224/75824Translational mechanism
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • H01L2224/758Means for moving parts
    • H01L2224/75841Means for moving parts of the bonding head
    • H01L2224/75842Rotational mechanism
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • H01L2224/7598Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors specially adapted for batch processes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • H01L2224/8112Aligning
    • H01L2224/81121Active alignment, i.e. by apparatus steering, e.g. optical alignment using marks or sensors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Operations Research (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Montieren von Bauelementen (1) auf einem Substrat (2). Die Vorrichtung umfasst einen Bondkopf (3) mit einem Bauelementgreifer (11), ein erstes Antriebssystem (6) zum Bewegen eines Trägers (7) über relativ grosse Distanzen, ein zweites, am Träger (7) befestigtes Antriebssystem (8) zum Hin- und Herbewegen des Bondkopfs (3) zwischen einer nominalen Arbeitsposition und einer Stand-by Position, einen am Bondkopf (3) befestigten Antrieb (14) zum Drehen des Bauelementgreifers (11) oder einen Rotationsantrieb (15) zum Drehen des Substrats (2) um eine Achse, wenigstens eine am Träger (7) befestigte Substratkamera (10) und wenigstens eine Bauelementkamera (9). Entweder ist das zweite Antriebssystem (8) auch ausgebildet, um mit dem Bondkopf (3) hochpräzise Korrekturbewegungen auszuführen, oder es ist ein drittes Antriebssystem vorhanden, um hochpräzise Korrekturbewegungen mit dem Substrat (2) durchzuführen. Am Bondkopf (3) oder am Bauelementgreifer (11) ist wenigstens eine Referenzmarkierung angebracht.

Description

Beschreibung
Technisches Gebiet [0001] Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung für die Montage von Bauelementen, typischerweise elektronischen oder optischen Bauelementen, insbesondere Halbleiterchips und Flipchips, auf einem Substrat. Die Montage wird in der Fachwelt auch als Bondprozess oder Bestückprozess bezeichnet.
Hintergrund der Erfindung [0002] Vorrichtungen dieser Art werden insbesondere in der Halbleiterindustrie verwendet. Beispiele derartiger Vorrichtungen sind Die Bonder oder Pick Place Maschinen, mit denen Bauelemente in der Form von Halbleiterchips, Flipchips, mikromechanischen, mikrooptischen und elektrooptischen Bauelementen, und dergleichen auf Substraten wie beispielsweise Leadframes, Leiterplatten, Keramiken, etc. abgesetzt und gebondet werden. Die Bauelemente werden dabei an einem Entnahmeort von einem Bondkopf aufgenommen, insbesondere angesaugt, zu einem Substratplatz gefahren und an einer genau definierten Position auf dem Substrat abgesetzt. Der Bondkopf ist Teil eines Pick und Place Systems, das Bewegungen des Bondkopfs in mindestens drei Raumrichtungen ermöglicht. Damit die Platzierung des Bauelements auf dem Substrat lagegenau erfolgen kann, muss sowohl die genaue Position des vom Bondkopf ergriffenen Bauelements in Bezug auf die Positionierungsachse des Bondkopfs als auch die genaue Position des Substratplatzes ermittelt werden.
[0003] Die auf dem Markt erhältlichen Montagevorrichtungen erreichen im besten Fall eine Platzierungsgenauigkeit von 2 bis 3 Mikrometern bei einer Standardabweichung von 3 Sigma.
Kurze Beschreibung der Erfindung [0004] Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung und ein Verfahren zu entwickeln, die eine im Vergleich zum Stand der Technik höhere Platzierungsgenauigkeit erreichen.
[0005] Die Erfindung besteht in den in den Ansprüchen 1 und 6 angegebenen Merkmalen. Vorteilhafte Ausgestaltungen ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.
[0006] Die erfindungsgemässe Vorrichtung umfasst einen Bondkopf mit einem Bauelementgreifer, ein erstes Antriebssystem zum Bewegen eines Trägers über relativ grosse Distanzen, ein zweites, am Träger befestigtes Antriebssystem zum Hin- und Herbewegen des Bondkopfs zwischen einer nominalen Arbeitsposition und einer Stand-by Position, einen am Bondkopf befestigten Antrieb zum Drehen des Bauelementgreifers oder einen Rotationsantrieb zum Drehen des Substrats um eine senkrecht zur Substratoberfläche verlaufende Achse, wenigstens eine am Träger befestigte Substratkamera und wenigstens eine Bauelementkamera. Der Bondkopf oder der Bauelementgreifer enthält wenigstens eine Referenzmarkierung, die sowohl von der mindestens einen Bauelementkamera als auch der mindestens einen Substratkamera verwendet wird, um die Lage des Bauelements relativ zum Bondkopf bzw. die Lage des Bondkopfs relativ zum Substratplatz zu bestimmen. Das Substrat enthält mindestens eine Substratmarkierung und das Bauelement mindestens eine Bauelementmarkierung oder eine als Bauelementmarkierung geeignete Struktur.
[0007] Das erste Antriebssystem dient zum Bewegen des Bondkopfs über relativ grosse Distanzen bei relativ geringer Positionsgenauigkeit. Das zweite Antriebssystem dient zum Hin- und Herbewegen des Bondkopfs zwischen der nominalen Arbeitsposition und einer Stand-by Position. In der nominalen Arbeitsposition verdeckt der Bondkopf die am Substrat angebrachte(n) Substratmarkierung(en) und wird deshalb temporär in die Stand-by Position gebracht, wo der Bondkopf die Substratmarkierung(en) nicht mehr verdeckt, so dass die Substratkamera(s) ein Bild der Substratmarkierung(en) aufnehmen kann/können. Das zweite Antriebssystem dient zudem vorzugsweise auch zum Bewegen des Bondkopfs über relativ kleine Distanzen bei sehr hoher Positionsgenauigkeit, d.h. zum Durchführen von hochpräzisen Korrekturbewegungen des Bondkopfs. Alternativ kann ein drittes Antriebssystem vorhanden sein, um hochpräzise Korrekturbewegungen des Substrats durchzuführen.
[0008] Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen und anhand der Zeichnung näher erläutert. Die Figuren sind schematisch und nicht massstäblich gezeichnet.
Beschreibung der Figuren [0009]
Fig. 1 zeigt schematisch ein erstes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemässen Vorrichtung zum Montieren von Bauelementen auf einem Substrat,
Fig. 2 zeigt schematisch ein zweites Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemässen Vorrichtung zum Montieren von Bauelementen auf einem Substrat, und
Fig. 3-5 zeigen Momentaufnahmen während des erfindungsgemässen Montageverfahrens.
CH 713 732 A2
Detaillierte Beschreibung der Erfindung [0010] Die Fig. 1 zeigt schematisch ein erstes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemässen Vorrichtung zum Montieren von Bauelementen 1 auf einem Substrat 2. Die Substrate 2 enthalten mindestens eine Substratmarkierung 23 (Fig. 3). Die Bauelemente 1 sind insbesondere Flipchips, jedoch auch andere Halbleiterchips. Die Bauelemente 1 können auch elektronische, optische oder elektrooptische oder auch beliebige andere Bauelemente sein, die mit einer im Mikrometerbereich oder Submikrometerbereich liegenden Präzision zu montieren sind.
[0011] Die Montagevorrichtung umfasst einen Bondkopf 3, eine Zuführeinheit 4 zum Zuführen der Bauelemente 1, eine Vorrichtung 5 zum Zuführen und Bereitstellen der Substrate 2, sowie ein erstes Antriebssystem 6 für einen Träger 7 und ein zweites Antriebssystem 8 für den Bondkopf 3. Das zweite Antriebssystem 8 ist am Träger 7 befestigt. Die Vorrichtung umfasst weiter wenigstens eine Bauelementkamera 9 und wenigstens eine Substratkamera 10. Die Substratkamera(s) 10 ist/sind am Träger 7 befestigt. Der Bondkopf 3 umfasst einen Bauelementgreifer 11, der um eine Achse 12 drehbar ist. Im Folgenden ist ein Bauelement, das vom Bondkopf 3 gehalten wird, als Bauelement 1 a bezeichnet. Der Bauelementgreifer 11 ist beispielsweise ein mit Vakuum beaufschlagbares Saugorgan, das ein Bauelement 1 ansaugt.
[0012] Die Zufuhreinheit 4 umfasst beispielsweise einen Wafertisch, der jeweils eine Vielzahl von Halbleiterchips bereitstellt, und eine Flipvorrichtung, die einen Halbleiterchip nach dem anderen vom Wafertisch entnimmt und für die Übergabe als Flipchip an den Bondkopf 3 bereitstellt. Die Zuführeinheit 4 kann auch eine Zuführeinheit sein, die Flipchips oder andere Bauelemente eines nach dem andern für die Übergabe an den Bondkopf 3 bereitstellt.
[0013] Der Bondkopf 3 oder der Bauelementgreifer 11 enthält wenigstens eine Referenzmarkierung 13 (Fig. 3). mit Vorteil wenigstens zwei Referenzmarkierungen 13, damit sowohl eine Verschiebung des vom Bauelementgreifer 11 des Bondkopfs 3 gehaltenen Bauelements 1a als auch eine Verdrehung des Bauelements 1a aus seiner Soll-Lage erfasst und korrigiert werden kann. Die Referenzmarkierung(en) 13 ist/sind so am Bondkopf 3 bzw. am Bauelementgreifer 11 angebracht, dass sie in dem von der Bauelementkamera 9 gelieferten Bild bzw. den von den Bauelementkameras 9 gelieferten Bildern sichtbar ist/sind, wenn sich der Bondkopf 3 im Blickfeld der Bauelementkamera 9 bzw. den Blickfeldern der Bauelementkameras 9 befindet, und in dem von der Substratkamera 10 gelieferten Bild bzw. den von den Substratkameras 10 gelieferten Bildern sichtbar ist/sind, wenn sich der Bondkopf 3 im Blickfeld der Substratkamera 10 bzw. den Blickfeldern der Substratkameras 10 befindet. Die Referenzmarkierung(en) 13 ist/sind beispielsweise als Kreuz in Bohrung(en) im Bauelementgreifer 11 ausgebildet, bevorzugt ist/sind sie auf einem Plättchen aus Glas in der Form von Strukturen aus Chrom gebildet. Glas ist durchsichtig, so dass die Referenzmarkierung(en) 13 von oben wie von unten und somit von allen Kameras 9 und 10 gesehen wird/werden. Bevorzugt wird ein Glas mit einem sehr geringen thermischen Ausdehnungskoeffizienten gewählt. Die Dicke des Glasplättchens ist mit Vorteil so ausgewählt, dass bei einer bestimmten Höhe des Bondkopfs 3 über dem Substrat 2 sowohl die Referenzmarkierung(en) 13 als auch die Substratmarkierung(en) 23 mit hinreichender Schärfe in dem von der/den Substratkamera(s) 10 aufgenommenen Bild abgebildet sind, d.h. dass sowohl die Referenzmarkierung(en) 13 als auch die Substratmarkierung(en) 23 im Schärfentiefebereich der Substratkamera(s) 10 liegen.
[0014] Das erste Antriebssystem 6 dient dazu, den Bondkopf 3 über relativ lange Distanzen zu transportieren, nämlich von einem Bauelement-Entnahmeort, wo der Bondkopf 3 das zu montierende Bauelement 1 von der Zuführeinheit 4 übernimmt, zu dem Substrat 2, wo der Bondkopf 3 das Bauelement 1a auf einem Substratplatz des Substrats 2 platziert. Die Anforderungen an die Positionsgenauigkeit des ersten Antriebssystems 6 sind relativ bescheiden, eine Positionsgenauigkeit von +/-10 pm reicht in der Regel aus. Das erste Antriebssystem 6 ist beispielsweise als sogenanntes «gantry» mit zwei oder mehr mechanisch hochstabilen Bewegungsachsen ausgebildet, von denen zwei Bewegungsachsen Bewegungen des Trägers 7 in zwei senkrecht zueinander verlaufenden horizontalen Richtungen ermöglichen.
[0015] Die Auf und Ab Bewegungen des Bondkopfs 3 zum Entnehmen eines Bauelements 1 von der Zuführeinheit 4 und dem Absetzen des Bauelements 1a auf dem Substratplatz des Substrats 2 können auf verschiedene Arten erfolgen, beispielsweise
- das erste Antriebssystem 6 enthält eine dritte, hochstabile Bewegungsachse für die Auf und Ab Bewegung des Trägers 7,
- das zweite Antriebssystem 8 enthält einen zusätzlichen, hochgenauen Antrieb für die Auf und Ab Bewegungen des Bondkopfs 3,
- der Bondkopf 3 enthält einen hochgenauen Antrieb für Auf und Ab Bewegungen des Bauelementgreifers 11, der mit Vorteil luft- oder kugelgelagert ist.
Die Vorrichtung kann nur einen, oder zwei oder alle drei der genannten Bewegungsachsen/Antriebe für die Auf und Ab Bewegungen enthalten.
[0016] Das zweite Antriebssystem 8 dient dazu, einerseits den Bondkopf 3 in eine Stand-by Position zu bewegen, wie weiter unten näher ausgeführt ist, und andererseits hochpräzise Korrekturbewegungen des Bondkopfs 3 in zwei verschiedenen horizontalen Richtungen zu ermöglichen. Das zweite Antriebssystem 8 umfasst einen ersten Antrieb für die Bewegung des Bondkopfs 3 entlang einer ersten, als u-Richtung bezeichneten Richtung und einen zweiten Antrieb für die Bewegung des Bondkopfs 3 entlang einer zweiten, als v-Richtung bezeichneten Richtung. Die Richtungen u und v verlaufen in horizontaler Richtung und bevorzugt orthogonal zueinander. Der Bondkopf 3 umfasst, fakultativ, einen Antrieb 14 für die Drehung des Bauelementgreifers 11 um die Achse 12. Die Vorrichtung 5 zum Zuführen und Bereitstellen der Substrate 2
CH 713 732 A2 kann einen Rotationsantrieb 15 enthalten, um das Substrat 2 um eine orthogonal zu seiner Oberfläche verlaufende Achse zu drehen, um alternativ auf diese Weise allfällige Winkelfehler zu eliminieren.
[0017] Die Bauelementkamera 9 oder die mehreren Bauelementkameras 9 dienen dazu, die Lage des Bauelements 1a in Bezug auf die Lage der Referenzmarkierung(en) 13 zu erfassen. Die Substratkamera 10 oder die mehreren Substratkameras 10 dienen dazu, die Lage des Substratplatzes, auf dem das Bauelement 1a zu platzieren ist, in Bezug auf die Lage der Referenzmarkierung(en) 13 zu erfassen. Jede Bauelementkamera 9 und jede Substratkamera 10 umfasst einen Bildsensor 17 und eine Optik 18 (Fig. 3). Die Optik 18 der Substratkamera(s) 10 umfasst beispielsweise zwei Umlenkspiegel 19.
[0018] Die Bauelementkamera(s) 9 ist/sind beispielsweise stationär an der Vorrichtung angeordnet und der Bondkopf 3 wird auf dem Weg vom Bauelement-Entnahmeort zum Substratplatz über die Bauelementkamera(s) 9 gefahren und bevorzugt, jedoch nicht zwingend, für die Aufnahme eines Bildes oder mehrerer Bilder angehalten. Die Bauelementkamera(s) 9 kann/können jedoch auch am Träger 7 befestigt sein. Beispielsweise ist entweder die Bauelementkamera(s) 9 oder der Bondkopf 3 mittels eines ein- und ausklappbaren Schwenkmechanismus am Träger 7 befestigt. Die Bauelementkamera(s) 9 bzw. der Bondkopf 3 wird dann während der Fahrt vom Bauelement-Entnahmeort zum Substratplatz in eine Bildaufnahmeposition eingeklappt, so dass während der Fahrt pro Bauelementkamera 9 ein oder mehrere Bilder aufgenommen werden können. Für die Entnahme des Bauelements 1 von der Zuführeinheit 4 und für die Aufnahmen mit der/den Substratkamera (s) 10 und zum Absetzen des Bauelements 1a wird die Bauelementkamera(s) 9 in eine Stand-by Position bzw. der Bondkopf 3 in seine Arbeitsposition ausgeklappt.
[0019] Der Bewegungsbereich des zweiten Antriebssystems 8 ist relativ klein und sogar sehr klein im Vergleich zum Bewegungsbereich des ersten Antriebssystems 6. Das zweite Antriebssystem 8 muss einerseits den Bondkopf 3 aus einer nominalen Arbeitsposition in die Stand-by Position bewegen können, in der die Substratmarkierungen 23 nicht durch den Bondkopf 3 verdeckt sind, und andererseits hochpräzise Korrekturbewegungen des Bondkopfs 3 in zwei verschiedenen horizontalen Richtungen ermöglichen. Für diesen Zweck reicht es aus, wenn der Bewegungsbereich des zweiten Antriebssystems 8 in der einen horizontalen Richtung relativ lang und in der anderen horizontalen Richtung sehr kurz ist. Der Bewegungsbereich in der einen Richtung beträgt typischerweise einige zehn Millimeter, beispielsweise 20 mm oder 30 mm oder noch mehr, der Bewegungsbereich in der anderen Richtung beträgt typischerweise (nur) einige Mikrometer.
[0020] Die nominale Arbeitsposition des Bondkopfs 3 ist eine Position, die nur wenig abweicht von der endgültigen Position, die der Bondkopf 3 im letzten Schritt des Montageprozesses einnimmt. Die Anforderungen an die Genauigkeit, mit der die nominale Arbeitsposition eingenommen wird, sind relativ gering, da jedwede Abweichung von der endgültigen Arbeitsposition im späteren Verlauf des Montageprozesses automatisch kompensiert wird.
[0021] Die Vorrichtung ist eingerichtet, den Träger 7 und/oder den Bondkopf 3 und/oder den Bauelementgreifer 11 so weit abzusenken, dass sich die Unterseite des Bauelements 1a in einer äusserst geringen Höhe von typischerweise nur 50-200 pm über der Substratoberfläche befindet, und erst dann mit der/den Substratkamera(s) 10 ein Bild der Substratmarkierung(en) 23 aufzunehmen. Damit wird erreicht, dass die einzige Bewegung nach der Bestimmung der IstPosition des Bauelements 1 a in Bezug auf seine Soll-Position auf dem Substratplatz und nach der Durchführung der hochpräzisen Korrekturbewegungen nur noch die Absenkbewegung des Trägers 7 und/oder des Bondkopfs 3 und/oder des Bauelementgreifers 11 ist und dass diese Wegstrecke so kurz ist, dass bei dieser Absenkbewegung allenfalls erfolgende Verschiebungen in der u-Richtung und in der v-Richtung im Submikrometerbereich liegen.
[0022] Ab dem Zeitpunkt, an dem der Träger 7 seine Position im Bereich des Substrats 2 erreicht hat, ändert sich die Position der Substratkamera(s) 10 relativ zum Substrat 2 nicht mehr. Ab diesem Zeitpunkt wird nur noch die Position des Bondkopfs 3 verändert, nämlich mittels des zweiten Antriebssystems 8. Die Position der Referenzmarkierung(en) 13 kann deshalb bis zum Absetzen des Bauelements 1a auf dem Substrat 2 überwacht und eine allfällige, während der letzten Phase des Absenkens des Bauelements 1a auftretende erneute Abweichung von seiner Soll-Position korrigiert werden. Die Bauelemente können deshalb mit einer bisher bei weitem nicht erreichten, im Submikrometerbereich liegenden Präzision montiert werden.
[0023] Die Fig. 2 illustriert ein zweites Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemässen Vorrichtung, die weitgehend wie das erste Ausführungsbeispiel ausgebildet ist, jedoch mit dem wesentlichen Unterschied, dass das zweite Antriebssystem 8 ausgebildet ist, den Bondkopf 3 zwischen der nominalen Arbeitsposition und der Stand-by Position hin und her zu bewegen, nicht jedoch für die hochpräzisen Korrekturbewegungen, und dass dafür die Vorrichtung 5 zum Zuführen und Bereitstellen der Substrate 2 ein drittes Antriebssystem 16 aufweist, das hochpräzise Korrekturbewegungen des Substrats 2 in wenigstens zwei verschiedenen horizontalen Richtungen ermöglicht. Das zweite Antriebssystem 8 kann also den Bondkopf 3 nur in einer einzigen parallel zur Oberfläche der Substrate 2 verlaufenden Richtung verschieben. Das zweite Antriebssystem 8 kann jedoch zudem fakultativ ausgebildet sein, den Bondkopf 3 anzuheben und abzusenken, d.h. in der orthogonal zur Oberfläche der Substrate 2 verlaufenden Richtung zu bewegen. Die hochpräzisen Korrekturbewegungen in der parallel zur Oberfläche des Substrats 2 verlaufenden Ebene hingegen werden bei diesem Ausführungsbeispiel durch das dritte Antriebssystem 16 durchgeführt. Das dritte Antriebssystem 16 umfasst einen ersten Antrieb für die Bewegung des Substrats 2 entlang einer ersten, wiederum als u-Richtung bezeichneten Richtung und einen zweiten Antrieb für die Bewegung des Substrats 2 entlang einer zweiten, wiederum als v-Richtung bezeichneten Richtung. Die Richtungen u und v verlaufen in horizontaler Richtung und bevorzugt orthogonal zueinander. Das dritte Antriebssystem 16 kann zudem
CH 713 732 A2 fakultativ einen Rotationsantrieb 15 aufweisen, der eine Drehung des Substrats 2 um eine senkrecht zur Oberfläche des Substrats 2 verlaufende Achse ermöglicht, um allfällige Winkelfehler zu eliminieren.
[0024] Mit dieser Vorrichtung lässt sich eine ähnlich hohe Positioniergenauigkeit erreichen, auch wenn während der letzten Phase des Absenkens des Bauelements 1a allenfalls noch nötige und durchgeführte weitere Korrekturbewegungen des Substrats 2 nicht mehr auf korrektes Erreichen überprüft werden können.
[0025] Die Montage eines Bauelements 1 wird nun im Detail erläutert. Das erfindungsgemässe Montageverfahren umfasst die folgenden Schritte A bis O. Die Schritte können teilweise in einer anderen Reihenfolge ausgeführt werden.
A) mit dem Bauelementgreifer 11 Aufnehmen eines Bauelements 1 von der Zuführeinheit 4.
B) mit dem ersten Antriebssystem 6 den Träger 7 zu der Bauelementkamera 9 bzw. den Bauelementkameras 9 bewegen, so dass die Referenzmarkierung bzw. die Referenzmarkierungen 13 und das Bauelement 1a in dem Blickfeld der Bauelementkamera 9 bzw. in den Blickfeldern der Bauelementkameras 9 sind.
[0026] Bei einer Montagevorrichtung, bei der die Bauelementkamera(s) 9 stationär angeordnet ist/sind, erfolgt der Schritt B durch: mit dem ersten Antriebssystem 6 Bewegen des Trägers 7 zu der Bauelementkamera 9 bzw. den Bauelementkameras 9. Bei einer Montagevorrichtung, bei der die Bauelementkamera(s) 9 an dem Träger 7 befestigt ist/sind, erfolgt der Schritt B durch: Bewegen der Bauelementkamera(s) 9 und des Bondkopfs 3 relativ zueinander in eine Bildaufnahmeposition.
C) mit der Bauelementkamera 9 bzw. den Bauelementkameras 9 Aufnehmen eines oder mehrerer Bilder.
[0027] Die Bauelemente 1 enthalten Bauelementmarkierungen 22 (Fig. 3) oder anderweitige Strukturen, die als Bauelementmarkierungen benutzt werden können. Die Bauelementmarkierungen 22 dienen dazu, die Lage des Bauelements 1 a in Bezug auf die Referenzmarkierung(en) 13 mit der erforderlichen Genauigkeit zu erfassen.
[0028] Bei einer Montagevorrichtung, bei der die Bauelementkamera(s) 9 an dem Träger 7 befestigt ist/sind, erfolgt nach dem Schritt C noch der Schritt: Bewegen der Bauelementkamera(s) 9 und des Bondkopfs 3 relativ zueinander, so dass sich der Bondkopf 3 in seiner normalen Arbeitsposition und gegebenenfalls die Bauelementkamera(s) 9 in einer Stand-by Position befinden.
D) anhand des im vorhergehenden Schritt aufgenommenen Bildes bzw. der im vorhergehenden Schritt aufgenommenen Bilder Bestimmen eines ersten Korrekturvektors, der eine Abweichung der Ist-Position des Bauelements 1a von seiner auf die Referenzmarkierung bzw. die Referenzmarkierungen 13 bezogenen Soll-Position beschreibt.
[0029] Der erste Korrekturvektor umfasst drei Komponenten Δχ-ι, Ay-i und ΑφΊ, wobei Δχ-ι die Verschiebung eines Referenzpunktes des Bauelements 1a in einer ersten, als x-i-Richtung bezeichneten Richtung und Ay-ι die Verschiebung des Referenzpunktes des Bauelements 1 a in einer zweiten, als y-Richtung bezeichneten Richtung und ΔφΊ die Verdrehung des Bauelements 1a um den Referenzpunkt des Bauelements 1a in Bezug auf die Referenzmarkierung(en) 13 bezeichnen. Die Komponenten ΔχΊ und Ay-ι sind gegeben in Pixelkoordinaten der Bauelementkamera(s) 9, die Komponente ΔφΊ ist ein Winkel. Der erste Korrekturvektor ist ein Nullvektor, wenn die Ist-Position des Bauelements 1a bereits seiner Soll-Position entspricht.
E) aus dem ersten Korrekturvektor Berechnen einer ersten Korrekturbewegung.
[0030] Die erste Korrekturbewegung umfasst drei Korrekturwerte Aui, Av-i undAO-i. Die Korrekturwerte Aui undAv-ι werden aus den Komponenten Ax-i, Ay-ι und Δθ-ι berechnet. Der Korrekturwert Δθ-ι wird aus dem Winkelfehler Δφ-ι berechnet. Die Korrekturwerte Aui, Av-i und Δθ-ι sind allesamt gegeben in Maschinenkoordinaten der entsprechenden Antriebe. Die Korrekturweite Au-i und Av-i geben an, um welche Distanzen das zweite Antriebssystem 8 den Bondkopf 3 (bei der in der Fig. 1 dargestellten Vorrichtung) bzw. das dritte Antriebssystem 16 das Substrat 2 (bei der in der Fig. 2 dargestellten Vorrichtung) in der als u-Richtung bezeichneten Richtung und in der als v-Richtung bezeichneten Richtung bewegen muss, und der Korrekturwert Δθ-ι gibt an, um welchen Winkel der am Bondkopf 3 angebrachte Antrieb 14 den Bauelementgreifer 11 oder der Rotationsantrieb 15 das Substrat 2 drehen muss, um die erfasste Abweichung der Ist-Position des Bauelements 1a von seiner auf die Referenzmarkierung(en) 13 bezogenen Soll-Position zu eliminieren.
F) mit dem ersten Antriebssystem 6 Bewegen des Trägers 7 zu einer Position oberhalb eines Substratplatzes des Substrats 2.
CH 713 732 A2
G) Absenken des Trägers 7 auf eine Höhe über dem Substrat 2, in der sich die Unterseite des vom Bauelementgreifer 11 gehaltenen Bauelements 1a in einer vorbestimmten Distanz D oberhalb des Substratplatzes befindet, wobei die Distanz D so bemessen ist, dass sowohl die Referenzmarkierung(en) 13 als auch die Substratmarkierung(en) 23 im Schärfentiefebereich der Substratkamera(s) 10 liegen.
[0031] Die Distanz D beträgt typischerweise etwa 50-200 Mikrometer, ist jedoch nicht auf diese Werte beschränkt. Die Distanz D ist jedoch so klein, dass beim späteren Absenken des Bauelements 1a auf den Substratplatz in der Regel keine zu einem nennenswerten Positionsfehler führende Verschiebungen des Bauelements 1a in den Richtungen u und v erfolgen.
H) mit dem zweiten Antriebssystem 8 Bewegen des Bondkopfs 3 in eine Stand-by Position.
[0032] Die Schritte F, G und H können nacheinander oder gleichzeitig, d.h. parallel miteinander, durchgeführt werden. Der Träger 7 und damit auch die am Träger 7 befestigte(n) Substratkamera(s) 10 werden während der folgenden, restlichen Schritte nicht mehr bewegt.
[0033] Der Bondkopf 3 befindet sich während der Schritte A bis G üblicherweise in seiner nominalen Arbeitsposition. In dieser sieht/sehen die Substratkamera(s) 10 die Substratmarkierung(en) 23 nicht, weil der Bondkopf 3 diese verdeckt. Die Lage der Stand-by Position ist so gewählt, dass der Bondkopf 3 die Substratmarkierung(en) 23 nicht verdeckt.
I) mit der/den Substratkamera(s) 10 Aufnehmen eines ersten Bildes, wobei das Blickfeld der Substratkamera 10 bzw. jedes der Blickfelder der Substratkameras 10 wenigstens eine auf dem Substrat 2 angeordnete Substratmarkierung 23 enthält.
J) mit dem zweiten Antriebssystem 8 Bewegen des Bondkopfs 3 in die nominale Arbeitsposition, in der das Blickfeld der Substratkamera 10 bzw. jedes der Blickfelder der Substratkameras 10 wenigstens eine Referenzmarkierung 13 enthält.
K) mit der/den Substratkamera(s) 10 Aufnehmen eines zweiten Bildes.
L) anhand des ersten und zweiten Bildes bzw. der ersten und zweiten Bilder, die mit der/den Substratkamera(s) 10 aufgenommen wurden, Bestimmen eines zweiten Korrekturvektors, der eine Abweichung der Ist-Position des Substratplatzes von seiner auf die Referenzmarkierung bzw. die Referenzmarkierungen 13 bezogenen Soll-Position beschreibt.
[0034] Der zweite Korrekturvektor umfasst drei Komponenten Ax2, Ay2 und Δφ2, wobei Ax2 die Verschiebung der Referenzmarkierung(en) 13 in einer ersten, als x2-Richtung bezeichneten Richtung und Ay2 die Verschiebung der Referenzmarkierung(en) 13 in einer zweiten, als y2-Richtung bezeichneten Richtung und Δφ2 die Verdrehung der Referenzmarkierung(en) 13 in Bezug auf den Substratplatz bezeichnen. Die Komponenten Ax2 und Ay2 sind gegeben in Pixelkoordinaten der Substratkamera(s) 10, die Komponente Δφ2 ist ein Winkel.
M) aus dem zweiten Korrekturvektor Berechnen einer zweiten Korrekturbewegung.
[0035] Die zweite Korrekturbewegung umfasst drei Korrekturwerte Au2, Av2 und Δθ2. Die Korrekturwerte Au2 und Av2 werden aus den Komponenten Ax2, Ay2 undArp2 berechnet. Der Korrekturwert Δθ2 wird aus der Winkelfehler Δφ2 berechnet. Die Korrekturwerte Au2, Av2 und Δθ2 sind allesamt gegeben in Maschinenkoordinaten der entsprechenden Antriebe. Die Korrekturwerte Au2 und Av2 geben an, um welche Distanzen das zweite Antriebssystem 8 den Bondkopf 3 (bei der in der Fig. 1 dargestellten Vorrichtung) bzw. das dritte Antriebssystem 16 das Substrat 2 (bei der in der Fig. 2 dargestellten Vorrichtung) in der als u-Richtung bezeichneten Richtung und in der als v-Richtung bezeichneten Richtung bewegen muss, und der Korrekturwert Δθ2 gibt an, um welchen Winkel der am Bondkopf 3 angebrachte Antrieb 14 den Bauelementgreifer 11 oder der Rotationsantrieb 15 das Substrat 2 drehen muss, um die erfasste Abweichung der Referenzmarkierung(en) 13 des Bondkopfs 3 von ihrer auf die Substratmarkierungen 23 des Substrats 2 bezogenen Soll-Position zu eliminieren.
N) Ausführen der ersten und der zweiten Korrekturbewegung.
[0036] Die Verschiebungen um die Korrekturwerte Aui, Av-i, Au2 und Av2 werden bei der Vorrichtung gemäss Fig. 1 durch das zweite Antriebssystem 8 und bei der Vorrichtung gemäss Fig. 2 durch das dritte Antriebssystem 16 ausgeführt. Die Drehung um die Korrekturwerte Δθ-ι und Δθ2 wird durch den Antrieb 14 oder den Rotationsantrieb 15 durchgeführt.
CH 713 732 A2
O) Absenken des Trägers 7 und/oder des Bondkopfs 3 und/oder des Bauelementgreifers 11 und Platzieren des Bauelements 1a auf dem Substratplatz.
[0037] Wenn das Montageverfahren mit einer Vorrichtung gemäss Fig. 1 durchgeführt wird, kann das Verfahren fakultativ auch die Schritte P bis T umfassen, die nach dem Schritt N einmal oder mehrmals durchgeführt werden:
P) Aufnehmen eines Bildes mit der Substratkamera 10 bzw. den Substratkameras 10.
Q) anhand des Bildes der Substratkamera 10 bzw. der Bilder der Substratkameras 10 Bestimmen der IstPosition(en) der Referenzmarkierung(en) 13.
R) mit dem ersten Korrekturvektor Berechnen einer/von korrigierten Ist-Position(en) der Referenzmarkierung 13 bzw. der Referenzmarkierungen 13.
[0038] Die im Schritt E berechnete und im Schritt N ausgeführte erste Korrekturbewegung für den Bondkopf 3 und den Bauelementgreifer 11 verschiebt auch die Lage der Referenzmarkierung(en) 13. Diese Verschiebung der Referenzmarkierung(en) 13 wird im Schritt R herausgerechnet, da die erste Korrekturbewegung nichts mit der Ausrichtung in Bezug auf den Substratplatz zu tun hat.
S) Bestimmen eines weiteren Korrekturvektors, der die Abweichung der korrigierten Ist-Position(en) der Referenzmarkierung(en) 13 von ihrer auf die Substratmarkierung(en) 23 bezogenen Soll-Position beschreibt.
T) aus dem weiteren Korrekturvektor Berechnen einer weiteren Korrekturbewegung für den Bondkopf 3 und den Bauelementgreifer 11.
[0039] Die weitere Korrekturbewegung für den Bondkopf 3 und den Bauelementgreifer 11 umfasst Komponenten Auw, Avw, die in Maschinenkoordinaten des zweiten Antriebssystems 8 gegeben sind, und eine Komponente A0w, die eine Winkeländerung in Maschinenkoordinaten des Antriebs 14 oder des Rotationsantriebs 15 ist.
U) mit dem zweiten Antriebssystem 8 Ausführen der weiteren Korrekturbewegung für den Bondkopf 3 und mit dem Antrieb 14 oder dem Rotationsantrieb 15 Ausführen der weiteren Korrekturbewegung für den Bauelementgreifer 11.
bis jede Komponente des weiteren Korrekturvektors kleiner als ein der Komponente zugeordneter Grenzwert ist.
[0040] Die fakultativen Schritte P bis U dienen dazu, zu überprüfen, ob der Bondkopf 3 nach dem Ausführen der Korrekturbewegungen im Schritt N tatsächlich eine innerhalb der geforderten Genauigkeit liegende Position erreicht hat, und falls dies nicht der Fall ist, iterativ weitere Korrekturschritte durchzuführen, bis dies der Fall ist. Dabei muss die erfasste Abweichung für jede Komponente innerhalb der geforderten Genauigkeit liegen.
[0041] Der Schritt O des erfindungsgemässen Verfahrens kann - insbesondere bei einer Vorrichtung gemäss Fig. 1 - mit einer Überwachung ergänzt werden, bei der die Position der Referenzmarkierung(en) 13 mittels der Substratkamera(s) 10 während des Absenkens des Trägers 7 oder des Bondkopfs 3 oder des Bauelementgreifers 11 laufend erfasst und mittels des zweiten Antriebssystems 8 und des Antriebs 14 oder des Rotationsantriebs 15 stabilisiert wird, um eine Veränderung der Position der Referenzmarkierung(en) 13 und damit des Bauelements 1a zu vermeiden. Der Schritt O kann also ersetzt werden durch den folgenden Schritt 01 :
01) Absenken des Trägers 7 und/oder des Bondkopfs 3 und/oder des Bauelementgreifers 11 und Platzieren des Bauelements 1a auf dem Substratplatz, wobei die Position der Referenzmarkierung(en) 13 mittels der Substratkamera 10 bzw. den Substratkameras 10 während des Absenkens laufend erfasst und mittels des zweiten Antriebssystems 8 und, fakultativ, auch mittels des Antriebs 14 oder des Rotationsantriebs 15 stabilisiert wird.
[0042] Die Substratkamera bzw. Substratkameras 10 (einschliesslich der Bildauswertung) und das zweite Antriebssystem 8, gegebenenfalls zusammen mit dem Antrieb 14 oder dem Rotationsantrieb 15, bilden also eine geregelte Bewegungsachse.
[0043] Die Fig. 3 bis 5 zeigen Momentaufnahmen während des erfindungsgemässen Montageverfahrens. Die Illustration erfolgt anhand einer Montagevorrichtung, die eine einzige Bauelementkamera 9 und zwei Substratkameras 10 aufweist, wobei die beiden Substratkameras 10 wie erwähnt am Träger 7 befestigt sind.
[0044] Die Fig. 3 zeigt einen Ausschnitt der Montagevorrichtung nach dem Schritt B. Die Fig. 4 zeigt einen Ausschnitt der Montagevorrichtung während des Schrittes I, wenn sich der Bondkopf 3 in der Stand-by Position befindet, und die beiden Substratkameras 10 das erste Bild aufnehmen. Die Fig. 5 zeigt einen Ausschnitt der Montagevorrichtung etwas später
CH 713 732 A2 während des Schrittes K, wenn sich der Bondkopf 3 in einer Position befindet, in der jedes der Blickfelder der beiden Substratkameras 10 wenigstens eine Referenzmarkierung 13 enthält. Die Position der Substratkameras 10 relativ zum Substrat 2 hat sich bei der Fahrt des Bondkopfs 3 von dem in der Fig. 4 gezeigten Zustand in den in der Fig. 5 gezeigten Zustand nicht verändert. Die Fig. 3 und 5 illustrieren auch den Strahlengang 20 von den Referenzmarkierungen 13 zu den Bildsensoren 17 der Substratkameras 10, während die Fig. 4 den Strahlengang 21 von den Substratmarkierungen 23 zu den Bildsensoren 17 der Substratkameras 10 illustriert.
[0045] Die Platzierung der Substratmarkierungen 23 auf den Substraten 2 ist den Anwendern der erfindungsgemässen Montagevorrichtung überlassen. Ein Montageautomat mit einer einzigen Substratkamera 10 erfordert eine andere gegenseitige Anordnung der Referenzmarkierung(en) 13 am Bondkopf 3 bzw. am Bauelementgreifer 11 und der Substratmarkierungen 23 auf dem Substrat 2. Da die Bauelemente 1 meistens rechteckförmig sind, sind die Bauelementmarkierungen 22, die Referenzmarkierung(en) 13 und die Substratmarkierungen 23 oftmals in zwei einander diagonal gegenüberliegenden Ecken des Rechtecks oder in zwei benachbarten Ecken des Rechtecks angeordnet, da so die höchste Genauigkeit erzielbar ist.
[0046] Bei dem in den Fig. 3 und 4 dargestellten Ausführungsbeispiel erfolgt die Bewegung des Bondkopfs 3 von seiner nominalen Arbeitsposition in die Stand-by Position in einer in der Zeichenebene liegenden Richtung. Sie kann aber auch in einer zur Zeichenebene senkrecht liegenden Richtung erfolgen.
[0047] Der Begriff «Bauelementkamera» ist funktional zu verstehen, d.h. ein optisches Umlenksystem kann zusammen mit der Substratkamera eine Bauelementkamera bilden, wie dies in der veröffentlichten und durch Bezug in diese Anmeldung aufgenommenen Patentanmeldung CH 711 570 A1 beschrieben ist. In einem solchen Fall bilden eine (einzige) Kamera und ein erstes optisches Umlenksystem zusammen ein erstes Bilderfassungssystem, das es ermöglicht, ein Bild des Substratplatzes aufzunehmen, auf dem das Bauelement zu montieren ist, und die Kamera, das erste optische Umlenksystem und ein zweites optisches Umlenksystem bilden zusammen ein zweites Bilderfassungssystem, das es ermöglicht, ein Bild der Unterseite des vom Bondkopf gehaltenen Bauelements aufzunehmen. Das erste Bilderfassungssystem entspricht also der Substratkamera und das zweite Bildungserfassungssystem entspricht der Bauelementkamera. Das erste optische Umlenksystem kann unter Umständen auch entfallen.

Claims (9)

Patentansprüche
1. Vorrichtung zum Montieren von Bauelementen (1; la) auf einem Substrat (2), umfassend einen Bondkopf (3) mit einem Bauelementgreifer (11), wenigstens eine Referenzmarkierung (13), die am Bondkopf (3) oder am Bauelementgreifer (11) angebracht ist, eine Zuführeinheit (4) zum Bereitstellen eines Bauelements (1), eine Vorrichtung (5) zum Bereitstellen eines Substrats (2), ein erstes Antriebssystem (6) zum Bewegen eines Trägers (7), ein zweites Antriebssystem (8), das an dem Träger (7) befestigt ist, zum Bewegen des Bondkopfs (3) in einer oder mehreren verschiedenen Richtungen, einen am Bondkopf (3) befestigten Antrieb (14) zum Drehen des Bauelementgreifers (11) um eine Achse (12) oder einen Rotationsantrieb (15) zum Drehen des Substrats (2) um eine Achse, wenigstens eine Substratkamera (10), und wenigstens eine Bauelementkamera (9) oder wenigstens ein optisches Umlenksystem, das zusammen mit der wenigstens einen Substratkamera (10) wenigstens eine Bauelementkamera bildet, wobei die Substratkamera (10) bzw. die Substratkameras (10) an dem Träger (7) befestigt ist/sind, der Träger (7) und/oder der Bondkopf (3) und/oder der Bauelementgreifer (11) heb- und senkbar ist, der Träger (7) mittels des ersten Antriebssystems (6) zu der Zuführeinheit (4) bewegbar ist, entweder der Träger (7) mittels des ersten Antriebssystems (6) zu der/den Bauelementkamera(s) (9) bewegbar ist oder die Bauelementkamera(s) (9) am Träger (7) befestigt und relativ zum Bondkopf (3) schwenkbar ist/sind, so dass die Referenzmarkierung(en) (13) und ein von dem Bauelementgreifer (11) gehaltenes Bauelement (la) in dem Blickfeld der Bauelementkamera (9) bzw. den Blickfeldern der Bauelementkameras (9) sind, so dass die Ist-Position des Bauelements (1a) in Bezug auf die Referenzmarkierung(en) (13) erfassbar ist, der Träger (7) mittels des ersten Antriebssystems (6) über einen Substratplatz des Substrats (2) bewegbar und der Bondkopf (3) mittels des zweiten Antriebssystems (8) in eine Stand-by Position bewegbar ist, in der das Blickfeld der Substratkamera (10) bzw. jedes der Blickfelder der Substratkameras (10) wenigstens eine auf dem Substrat (2) angeordnete Substratmarkierung (23) enthält, und der Bondkopf (3) mittels des zweiten Antriebssystems (8) in eine nominale Arbeitsposition bewegbar, in der das Blickfeld der Substratkamera (10) die Referenzmarkierung (13) bzw. jedes der Blickfelder der Substratkameras (10) wenigstens eine Referenzmarkierung (13) enthält, und wobei der Träger (7) und/oder der Bondkopf (3) und/oder der Bauelementgreifer (11) soweit absenkbar ist, dass sowohl die Referenzmarkierung(en) (13) als auch die wenigstens eine Substratmarkierung (23) im Schärfentiefebereich der Substratkamera(s) (10) sind.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, bei der das zweite Antriebssystem (8) ausgebildet ist, den Bondkopf (3) einerseits zwischen der nominalen Arbeitsposition und der Stand-by Position hin und herzu bewegen und andererseits Korrekturbewegungen des Bondkopfs (3) zu ermöglichen.
CH 713 732 A2
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, bei der die Substratkamera bzw. Substratkameras (10) und das zweite Antriebssystem (8) und der Antrieb (14) oder der Rotationsantrieb (15) eine geregelte Bewegungsachse bilden.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, bei der das zweite Antriebssystem (8) ausgebildet ist, den Bondkopf (3) zwischen der nominalen Arbeitsposition und der Stand-by Position hin und herzu bewegen, und die ein drittes Antriebssystem (16) aufweist, das Korrekturbewegungen des Substrats (2) ermöglicht.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei der die Bauelementkamera (9) bzw. die Bauelementkameras (9) an dem Träger (7) befestigt und relativ zum Bondkopf (3) bewegbar ist/sind.
6. Verfahren zum Montieren von Bauelementen (1 ; 1 a) auf einem Substrat (2) mittels einer Montageeinrichtung, die ein erstes Antriebssystem (6) für einen Träger (7) und ein zweites Antriebssystem (8) für einen Bondkopf (3) mit einem Bauelementgreifer (11), wenigstens eine Substratkamera (10) wenigstens eine Bauelementkamera (9) oder wenigstens ein optisches Umlenksystem, das zusammen mit der wenigstens einen Substratkamera (10) die wenigstens eine Bauelementkamera bildet, und einen am Bondkopf (3) befestigten Antrieb (14) zum Drehen des Bauelementgreifers (11) um eine Achse (12) oder einen Rotationsantrieb (15) zum Drehen des Substrats (2) um eine Achse enthält, wobei das zweite Antriebssystem (8) und die Substratkamera(s) (10) am Träger (7) befestigt sind und der Bondkopf (3) oder der Bauelementgreifer (11) wenigstens eine Referenzmarkierung (13) enthält, wobei das Verfahren folgende Schritte umfasst:
A) mit dem Bauelementgreifer (11) Aufnehmen eines Bauelements (1) von der Zuführeinheit (4),
B) mit dem ersten Antriebssystem (6) den Träger (7) zu der Bauelementkamera (9) bzw. den Bauelementkameras (9) bewegen, so dass die Referenzmarkierung bzw. die Referenzmarkierungen (13) und das Bauelement (la) in dem Blickfeld der Bauelementkamera (9) bzw. in den Blickfeldern der Bauelementkameras (9) sind,
C) mit der Bauelementkamera (9) bzw. den Bauelementkameras (9) Aufnehmen eines Bildes oder mehrerer Bilder,
D) anhand des im vorhergehenden Schritt aufgenommenen Bildes bzw. der im vorhergehenden Schritt aufgenommenen Bilder Bestimmen eines ersten Korrekturvektors, der eine Abweichung der Ist-Position des Bauelements (la) von seiner auf die Referenzmarkierung bzw. die Referenzmarkierungen (13) bezogenen Soll-Position beschreibt,
E) aus dem ersten Korrekturvektor Berechnen einer ersten Korrekturbewegung,
F) mit dem ersten Antriebssystem (6) Bewegen des Trägers (7) zu einer Position oberhalb eines Substratplatzes des Substrats (2),
G) Absenken des Trägers (7) auf eine Höhe über dem Substrat (2), in der sich eine Unterseite des vom Bauelementgreifer (11) gehaltenen Bauelements (1a) in einer vorbestimmten Distanz D oberhalb des Substratplatzes befindet, wobei die Distanz D so bemessen ist, dass sowohl die Referenzmarkierung(en) (13) als auch wenigstens eine auf dem Substrat (2) angeordnete Substratmarkierung (23) im Schärfentiefebereich der Substratkamera(s) (10) liegen,
H) mit dem zweiten Antriebssystem (8) Bewegen des Bondkopfs (3) in eine Stand-by Position,
I) mit der/den Substratkamera(s) (10) Aufnehmen eines ersten Bildes, wobei das Blickfeld der Substratkamera (10) bzw. jedes der Blickfelder der Substratkameras (10) wenigstens eine auf dem Substrat (2) angeordnete Substratmarkierung (23) enthält,
J) mit dem zweiten Antriebssystem (8) Bewegen des Bondkopfs (3) in eine nominale Arbeitsposition, in der das Blickfeld der Substratkamera (10) bzw. jedes der Blickfelder der Substratkameras (10) wenigstens eine Referenzmarkierung (13) enthält,
K) mit der/den Substratkamera(s) (10) Aufnehmen eines zweiten Bildes,
L) anhand des ersten und zweiten Bildes bzw. der ersten und zweiten Bilder, die mit der/den Substratkamera(s) (10) aufgenommen wurden, Bestimmen eines zweiten Korrekturvektors, der eine Abweichung der Ist-Position des Substratplatzes von seiner auf die Referenzmarkierung bzw. die Referenzmarkierungen (13) bezogenen Soll-Position beschreibt,
M) aus dem zweiten Korrekturvektor Berechnen einer zweiten Korrekturbewegung,
N) Ausführen der ersten und der zweiten Korrekturbewegung mittels des zweiten Antriebssystems oder eines dritten Antriebssystems (16), das Korrekturbewegungen des Substrats (2) ermöglicht, und mittels des Antriebs (14) zum Drehen des Bauelementgreifers (11) oder des Rotationsantriebs (15) zum Drehen des Substrats (2), und
O) Absenken des Trägers (7) und/oder des Bondkopfs (3) und/oder des Bauelementgreifers (11) und Platzieren des Bauelements (1a) auf dem Substratplatz.
7. Verfahren nach Anspruch 6, bei dem nach dem Schritt N einmal oder mehrmals folgende Schritte durchgeführt werden:
P) Aufnehmen eines Bildes mit der Substratkamera (10) bzw. den Substratkameras (10),
Q) anhand des Bildes der Substratkamera (10) bzw. der Bilder der Substratkameras (10) Bestimmen der IstPosition(en) der Referenzmarkierung(en) (13),
R) mit dem ersten Korrekturvektor Berechnen einer korrigierten Ist-Position der Referenzmarkierung bzw. der Referenzmarkierungen (13),
S) Bestimmen eines weiteren Korrekturvektors, der eine Abweichung der korrigierten Ist-Position der Referenzmarkierung bzw. der Referenzmarkierungen (13) von ihren auf die Substratmarkierung bzw. Substratmarkierungen (23) bezogenen Soll-Position beschreibt,
CH 713 732 A2
T) aus dem weiteren Korrekturvektor Berechnen einer weiteren Korrekturbewegung für den Bondkopf (3) und den Bauelementgreifer (11), und
U) mit dem zweiten Antriebssystem (8) Ausführen der weiteren Korrekturbewegung für den Bondkopf (3) und mit einem am Bondkopf (3) angebrachten Antrieb (14) für die Drehung des Bauelementgreifers (11) um eine Achse (12) oder einem Rotationsantrieb (15) für die Drehung des Substrats (2) um eine Achse Ausführen der weiteren Korrekturbewegung für den Bauelementgreifer (11), bis jede Komponente des weiteren Korrekturvektors kleiner als ein der Komponente zugeordneter Grenzwert ist.
8. Verfahren nach Anspruch 6, bei dem im Schritt O während des Absenkens die Position der Referenzmarkierung(en) (13) mittels der Substratkamera bzw. den Substratkameras (10) laufend erfasst und mittels des zweiten Antriebssystems (8) stabilisiert wird.
9. Verfahren nach Anspruch 6, bei dem im Schritt O während des Absenkens die Position der Referenzmarkierung(en) (13) mittels der Substratkamera bzw. den Substratkameras (10) laufend erfasst und mittels des zweiten Antriebssystems (8) und eines am Bondkopf (3) angebrachten Antriebs (14) für die Drehung des Bauelementgreifers (11) um eine Achse (12) oder eines Rotationsantriebs (15) für die Drehung des Substrats (2) um eine Achse stabilisiert wird.
CH 713 732 A2
CH00427/18A 2017-04-28 2018-04-03 Vorrichtung und Verfahren zum Montieren von Bauelementen auf einem Substrat. CH713732A2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH5752017 2017-04-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CH713732A2 true CH713732A2 (de) 2018-10-31

Family

ID=63797247

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CH00427/18A CH713732A2 (de) 2017-04-28 2018-04-03 Vorrichtung und Verfahren zum Montieren von Bauelementen auf einem Substrat.

Country Status (10)

Country Link
US (3) US10973158B2 (de)
JP (1) JP7164314B2 (de)
KR (1) KR102560942B1 (de)
CN (2) CN117672911A (de)
CH (1) CH713732A2 (de)
DE (1) DE102018109512B4 (de)
HK (1) HK1256985A1 (de)
MY (1) MY190081A (de)
SG (1) SG10201802976SA (de)
TW (1) TWI755526B (de)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7164314B2 (ja) 2017-04-28 2022-11-01 ベシ スウィッツァーランド エージー 部品を基板上に搭載する装置及び方法
US10861819B1 (en) 2019-07-05 2020-12-08 Asm Technology Singapore Pte Ltd High-precision bond head positioning method and apparatus
CN110364446B (zh) * 2019-07-22 2021-04-09 深圳市得润光学有限公司 一种塑封光电耦合器的制造装置
US11776930B2 (en) * 2019-12-16 2023-10-03 Asmpt Singapore Pte. Ltd. Die bond head apparatus with die holder motion table
CN112885763A (zh) * 2021-02-04 2021-06-01 深圳市汇川技术股份有限公司 晶体管定位装置、功率器件及电机控制装置
TWI807304B (zh) * 2021-04-15 2023-07-01 高科晶捷自動化股份有限公司 部件取放貼合系統及其方法
CN113833946B (zh) * 2021-09-15 2023-06-13 深圳市三石数字技术科技有限公司 一种长距离跟踪移动的监控摄像头
JP2023106662A (ja) * 2022-01-21 2023-08-02 東レエンジニアリング株式会社 実装装置および実装方法
CN114566445B (zh) * 2022-01-22 2023-09-08 苏州艾科瑞思智能装备股份有限公司 一种面向晶圆三维集成的高精度微组装设备
CN114582780B (zh) * 2022-03-01 2022-12-23 江苏京创先进电子科技有限公司 太鼓晶圆去环方法及太鼓晶圆去环装置
TWI802343B (zh) * 2022-03-28 2023-05-11 盟立自動化股份有限公司 對位設備及對位方法
CN116613097A (zh) * 2023-04-24 2023-08-18 禾洛半导体(徐州)有限公司 基于校正相机设定定位相机与吸嘴偏移量的校准***和方法
CN116190295B (zh) * 2023-04-28 2023-07-11 季华实验室 半导体元器件转移装置及转移方法

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6140799A (ja) * 1984-08-02 1986-02-27 Daikin Ind Ltd 環状−(1→2)−β−D−グルカンの製法
US5059559A (en) 1987-11-02 1991-10-22 Hitachi, Ltd. Method of aligning and bonding tab inner leads
JP3071584B2 (ja) * 1992-10-23 2000-07-31 松下電工株式会社 部品実装方法
JP3129134B2 (ja) 1995-02-23 2001-01-29 松下電器産業株式会社 チップの実装方法
JP4167790B2 (ja) * 2000-03-10 2008-10-22 東レエンジニアリング株式会社 チップ実装装置
US20030106210A1 (en) 2000-05-22 2003-06-12 Yoshiyuki Arai Chip-mounting device and method of alignment
JP2002198398A (ja) * 2000-12-27 2002-07-12 Shibuya Kogyo Co Ltd ボンディング装置
JP4046030B2 (ja) 2002-08-30 2008-02-13 株式会社村田製作所 部品装着方法および部品装着装置
JP4322092B2 (ja) 2002-11-13 2009-08-26 富士機械製造株式会社 電子部品実装装置における校正方法および装置
CN100485862C (zh) * 2003-10-09 2009-05-06 株式会社尼康 曝光装置和曝光方法以及器件制造方法
EP1676475A1 (de) * 2003-10-24 2006-07-05 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Anbringvorrichtung für elektronische komponenten und anbringverfahren für elektronische komponenten
JP2007173801A (ja) 2005-12-22 2007-07-05 Unaxis Internatl Trading Ltd フリップチップを基板に取り付ける方法
JP4840862B2 (ja) 2006-08-29 2011-12-21 東レエンジニアリング株式会社 実装装置のチップ供給方法、及びその実装装置
JP4824641B2 (ja) * 2007-07-06 2011-11-30 ヤマハ発動機株式会社 部品移載装置
WO2009047214A2 (en) 2007-10-09 2009-04-16 Oerlikon Assembly Equipment Ag, Steinhausen Method for picking up semiconductor chips from a wafer table and mounting the removed semiconductor chips on a substrate
NL1036568A1 (nl) * 2008-03-18 2009-09-21 Asml Netherlands Bv Actuator system, lithographic apparatus, and device manufacturing method.
KR101305265B1 (ko) * 2008-07-23 2013-09-06 가부시키가이샤 다이후쿠 물품 반송 설비에 있어서의 학습 장치 및 학습 방법
JP4788759B2 (ja) * 2008-11-20 2011-10-05 パナソニック株式会社 部品実装装置
TWI398931B (zh) 2009-07-03 2013-06-11 Wecon Automation Corp 驅動裝置及固晶機
KR20110020431A (ko) * 2009-08-24 2011-03-03 삼성테크윈 주식회사 부품실장기의 인식장치
JP2012248728A (ja) 2011-05-30 2012-12-13 Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd ダイボンダ及びボンディング方法
JP5787397B2 (ja) 2011-07-06 2015-09-30 富士機械製造株式会社 電子部品実装装置および電子部品実装方法
CH705802B1 (de) * 2011-11-25 2016-04-15 Esec Ag Einrichtung für die Montage von Halbleiterchips.
JP5914868B2 (ja) * 2013-05-22 2016-05-11 パナソニックIpマネジメント株式会社 部品の実装装置
US9332230B2 (en) 2013-07-25 2016-05-03 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Electronic component mounting apparatus and electronic component mounting method
JP6355097B2 (ja) * 2013-10-03 2018-07-11 Jukiオートメーションシステムズ株式会社 実装システム、キャリブレーション方法及びプログラム
WO2015052755A1 (ja) 2013-10-07 2015-04-16 富士機械製造株式会社 実装装置
JP2015195261A (ja) 2014-03-31 2015-11-05 ファスフォードテクノロジ株式会社 ダイボンダ及び半導体製造方法
JP2016009850A (ja) * 2014-06-26 2016-01-18 東レエンジニアリング株式会社 実装装置および実装方法
KR102238649B1 (ko) * 2014-09-16 2021-04-09 삼성전자주식회사 반도체 칩 본딩 장치
JP6510838B2 (ja) 2015-03-11 2019-05-08 ファスフォードテクノロジ株式会社 ボンディング装置及びボンディング方法
JP6510837B2 (ja) * 2015-03-11 2019-05-08 ファスフォードテクノロジ株式会社 ボンディング装置及びボンディング方法
CH711536B1 (de) * 2015-08-31 2019-02-15 Besi Switzerland Ag Verfahren für die Montage von mit Bumps versehenen Halbleiterchips auf Substratplätzen eines Substrats.
DE102016113328B4 (de) 2015-08-31 2018-07-19 Besi Switzerland Ag Verfahren für die Montage von mit Bumps versehenen Halbleiterchips auf Substratplätzen eines Substrats
CH711570B1 (de) 2015-09-28 2019-02-15 Besi Switzerland Ag Vorrichtung für die Montage von Bauelementen auf einem Substrat.
JP7164314B2 (ja) 2017-04-28 2022-11-01 ベシ スウィッツァーランド エージー 部品を基板上に搭載する装置及び方法

Also Published As

Publication number Publication date
US11924974B2 (en) 2024-03-05
TW201843756A (zh) 2018-12-16
HK1256985A1 (zh) 2019-10-11
KR102560942B1 (ko) 2023-07-27
US10973158B2 (en) 2021-04-06
SG10201802976SA (en) 2018-11-29
JP7164314B2 (ja) 2022-11-01
MY190081A (en) 2022-03-25
CN108807224A (zh) 2018-11-13
KR20180121395A (ko) 2018-11-07
CN117672911A (zh) 2024-03-08
JP2018190958A (ja) 2018-11-29
DE102018109512B4 (de) 2020-10-29
US11696429B2 (en) 2023-07-04
TWI755526B (zh) 2022-02-21
US20230284426A1 (en) 2023-09-07
US20210195816A1 (en) 2021-06-24
DE102018109512A1 (de) 2018-10-31
US20180317353A1 (en) 2018-11-01
CN108807224B (zh) 2023-12-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102018109512B4 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Montieren von Bauelementen auf einem Substrat
DE112008002467B4 (de) Verfahren für die Entnahme von Halbleiterchips von einem Wafertisch und die Montage der Halbleiterchips auf einem Substrat
DE602005000512T2 (de) Verfahren und vorrichtung zum montieren von bauelementen
DE112009000667B4 (de) Abgabevorrichtung und Verfahren zur Abgabe von Material auf ein Substrat
DE69533910T2 (de) Messfühlersystem und Messverfahren
DE69223770T2 (de) Sensorsystem für hochgenaue ausrichtung von komponenten
DE69631260T2 (de) Abtastbelichtungsapparat, Belichtungsverfahren unter Verwendung desselben und Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung
DE3507778A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur eichung eines mikroskopischen bearbeitungssystems mit hilfe einer justierplatte
DE60312573T2 (de) Verfahren zur Lokalisierung und zur Setzung von Markierungspunkte eines Halbleiterbauteils auf einem Substrat
DE102004043282B4 (de) Verfahren für die Justierung des Bondkopfs eines Die-Bonders
DE10133448A1 (de) Ausrichtungsverfahren und -vorrichtung zum Ausrichten eines Schneidmessers
DE112011103582T5 (de) Bestückungsvorrichtung für elektronische Bauteile und Betriebsdurchführungsverfahren zum Bestücken von elektronischen Bauteilen
DE102016113328B4 (de) Verfahren für die Montage von mit Bumps versehenen Halbleiterchips auf Substratplätzen eines Substrats
DE2942388A1 (de) Halbleiterplaettchen-positioniervorrichtung
DE112015006636T5 (de) Bauteilmontagevorrichtung und Verfahren zur Bauteilmontage
DE10296416T5 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Registrierungssteuerung in der Produktion durch Belichten
DE4221080A1 (de) Struktur und verfahren zum direkten eichen von justierungsmess-systemen fuer konkrete halbleiterwafer-prozesstopographie
DE112015006596T5 (de) Komponentenbefestigungsvorrichtung
WO2002102127A1 (de) Vorrichtung zur montage von bauelementen auf einem substrat
DE112017008107T5 (de) Bauteilmontagevorrichtung
DE102019111580A1 (de) Verfahren zur Kalibrierung einer Vorrichtung für die Montage von Bauelementen
DE112017008134T5 (de) Bauteilmontagevorrichtung, Verfahren zur Erfassung eines Bilds, und Verfahren zurBestimmung einer Montagesequenz
EP1802192A1 (de) Verfahren für die Montage eines Flipchips auf einem Substrat
CH693229A5 (de) Einrichtung und Verfahren zur Montage vonHalbleiterchips auf einem Substrat.
WO2014174020A1 (de) Platziervorrichtung und platzierverfahren zum lagegenauen ausrichten und / oder bestücken eines substrates mit einem bauelement

Legal Events

Date Code Title Description
AZW Rejection (application)