CH700386A2 - Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung. - Google Patents
Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung. Download PDFInfo
- Publication number
- CH700386A2 CH700386A2 CH01985/09A CH19852009A CH700386A2 CH 700386 A2 CH700386 A2 CH 700386A2 CH 01985/09 A CH01985/09 A CH 01985/09A CH 19852009 A CH19852009 A CH 19852009A CH 700386 A2 CH700386 A2 CH 700386A2
- Authority
- CH
- Switzerland
- Prior art keywords
- glass
- glass according
- dental
- sep
- radiopaque
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 183
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 title description 6
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 26
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 23
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 23
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 17
- 239000005548 dental material Substances 0.000 claims description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 claims description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 9
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 claims description 7
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N oxo(oxolanthaniooxy)lanthanum Chemical compound O=[La]O[La]=O KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 6
- KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N Cs2O Inorganic materials [O-2].[Cs+].[Cs+] KOPBYBDAPCDYFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N Panavia opaque Chemical compound C1=CC(OCC(O)COC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCC(O)COC(=O)C(C)=C)C=C1 AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- AKUNKIJLSDQFLS-UHFFFAOYSA-M dicesium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Cs+].[Cs+] AKUNKIJLSDQFLS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 claims description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MHCLJIVVJQQNKQ-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CCOC(N)=O.CC(=C)C(O)=O MHCLJIVVJQQNKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 abstract description 4
- 238000007792 addition Methods 0.000 abstract description 3
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 9
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 4
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910009520 YbF3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003479 dental cement Substances 0.000 description 3
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 230000036541 health Effects 0.000 description 3
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 3
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 3
- GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N Arsenious Acid Chemical compound O1[As]2O[As]1O2 GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 208000002925 dental caries Diseases 0.000 description 2
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 2
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 2
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Chemical compound O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus decaoxide Chemical compound O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 229910000497 Amalgam Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000764064 Mycobacterium phage Glass Species 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006853 SnOz Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002083 X-ray spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000001055 chewing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000006103 coloring component Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000011350 dental composite resin Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N gadolinium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Gd+3].[Gd+3] CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006066 glass batch Substances 0.000 description 1
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 1
- 239000003178 glass ionomer cement Substances 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N lead oxide Chemical compound [O-2].[Pb+2] HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011858 nanopowder Substances 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000013086 organic photovoltaic Methods 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- NOTVAPJNGZMVSD-UHFFFAOYSA-N potassium monoxide Inorganic materials [K]O[K] NOTVAPJNGZMVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 229910001953 rubidium(I) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HYXGAEYDKFCVMU-UHFFFAOYSA-N scandium(III) oxide Inorganic materials O=[Sc]O[Sc]=O HYXGAEYDKFCVMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 1
- 238000002444 silanisation Methods 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000005382 thermal cycling Methods 0.000 description 1
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000009974 thixotropic effect Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 150000003754 zirconium Chemical class 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000500 β-quartz Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/70—Preparations for dentistry comprising inorganic additives
- A61K6/71—Fillers
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/802—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising ceramics
- A61K6/818—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising ceramics comprising zirconium oxide
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/802—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising ceramics
- A61K6/822—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising ceramics comprising rare earth metal oxides
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/831—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising non-metallic elements or compounds thereof, e.g. carbon
- A61K6/836—Glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/0007—Compositions for glass with special properties for biologically-compatible glass
- C03C4/0021—Compositions for glass with special properties for biologically-compatible glass for dental use
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/08—Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths
- C03C4/087—Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths for X-rays absorbing glass
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plastic & Reconstructive Surgery (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft ein zirkonhaltiges BaO- und PbO-freies röntgenopakes Glas mit einem Brechungsindex n d von 1,57 bis 1,61 und einer hohen Röntgenopazität mit einer Aluminiumgleichwertdicke von mindestens 400%. Das Glas basiert auf dem System SiO 2 - Al 2 O 3 - La 2 O 3 - ZrO 2 - Cs 2 O mit Zusätzen von Li 2 O, Na 2 O, ZnO und/oder Ta 2 O 5 . Das Glas kann insbesondere als Dentalglas oder als optisches Glas eingesetzt werden.
Description
[0001] Die Erfindung betrifft ein barium- und bleifreies, röntgenopakes Glas und dessen Verwendung. [0002] Im Dentalbereich werden für die Zahnrestauration zunehmend Kunststoff-Dentalmassen eingesetzt. Diese Kunststoff-Dentalmassen bestehen üblicherweise aus einer Matrix aus organischen Harzen und verschiedenen anorganischen Füllstoffen. Die anorganischen Füllstoffe bestehen überwiegend aus Pulvern von Gläsern, (Glas-) Keramiken, Quarz oder anderen kristallinen Stoffen (z.B. YbF3), Sol-Gel-Materialien oder Aerosilen und werden der Kunststoffmasse als Füllmaterial zugegeben. [0003] Durch die Verwendung von Kunststoff-Dentalmassen sollen mögliche schädliche Nebenwirkungen von Amalgam vermieden sowie ein verbesserter ästhetischer Eindruck erzielt werden. Abhängig von der Auswahl der Kunststoff-Dentalmassen können sie für unterschiedliche Zahnrestaurationsmassnahmen verwendet werden, beispielsweise für Zahnfüllungen und auch für Befestigungen wie Kronen, Brücken und Inlays, Onlays etc. [0004] Das Füllmaterial als solches soll beim Aushärten den durch die Polymerisation der Harz-Matrix bedingten Schrumpf minimieren. Liegt beispielsweise eine starke Adhäsion zwischen Zahnwand und Füllung vor, kann ein zu grosser Polymerisationsschrumpf zu einem Bruch der Zahnwand führen. Ist die Adhäsion hierfür nicht ausreichend, kann ein zu grosser Polymerisationsschrumpf die Bildung von Randspalten zwischen Zahnwand und Füllung bewirken, welche Sekundärkaries fördern können. Darüber hinaus werden an die Füllstoffe bestimmte physikalische und chemische Anforderungen gestellt: [0005] Das Füllmaterial muss zu möglichst feinen Pulvern zu verarbeiten sein. Je feiner das Pulver ist, desto homogener ist das Erscheinungsbild der Füllung. Gleichzeitig verbessert sich die Polierbarkeit der Füllung, was über die Verminderung der Angriffsfläche zu einer verbesserten Abrasionsfestigkeit und dadurch zu einer längeren Haltbarkeit der Füllung führt. Damit die Pulver gut zu verarbeiten sind, ist es darüber hinaus wünschenswert, wenn die Pulver nicht agglomerieren. Dieser unerwünschte Effekt tritt insbesondere bei Füllmaterialien auf, die mit Hilfe von Sol-Gel-Verfahren hergestellt wurden. [0006] Weiterhin ist es vorteilhaft, wenn der Füllstoff mit einem funktionalisierten Silan beschichtet wird, da dadurch die Formulierbarkeit der Dentalmasse erleichtert wird und die mechanischen Eigenschaften verbessert werden. Dabei werden vornehmlich die Oberflächen der Füllstoffpartikel zumindest teilweise mit dem funktionalisierten Silan belegt. [0007] Darüber hinaus sollen die Kunststoff-Dentalmasse in ihrer Gesamtheit und damit auch der Füllstoff hinsichtlich ihrer Brechzahl und Farbe möglichst gut an das natürliche Zahnmaterial angepasst sein, damit sie möglichst wenig von dem umliegenden gesunden Zahnmaterial unterschieden werden kann. Für dieses ästhetische Kriterium spielt ebenfalls eine möglichst kleine Korngrösse des pulverisierten Füllstoffs eine Rolle. [0008] Weiterhin wichtig ist, dass die thermische Ausdehnung der Kunststoff-Dentalmasse im Verwendungsbereich, d.h. üblicherweise zwischen -30 [deg.]C und +70 [deg.]C, derjenigen des natürlichen Zahnmaterials angepasst ist, um eine ausreichende Temperatur-Wechselbeständigkeit der Zahnrestaurationsmassnahme zu gewährleisten. Auch durch eine zu hohe thermische Wechselbelastung können Spalte zwischen den Kunststoff-Dentalmassen und dem umliegenden Zahnmaterial entstehen, die wiederum bevorzugte Angriffspunkte für Sekundärkaries darstellen können. In der Regel werden Füllstoffe mit einem möglichst geringen thermischen Ausdehnungskoeffizienten verwendet, um die grosse thermische Ausdehnung der Harz-Matrix zu kompensieren. [0009] Eine gute chemische Beständigkeit der Füllstoffe gegenüber Säuren, Laugen und Wasser sowie eine gute mechanische Stabilität bei Belastungen wie z.B. aufgrund der Kaubewegung kann darüber hinaus zu einer langen Lebensdauer der Zahnrestaurationsmassnahmen beitragen. [0010] Für die Behandlung von Patienten ist es ferner unbedingt erforderlich, dass Zahnrestaurationsmassnahmen im Röntgenbild sichtbar sind. Da die Harz-Matrix selbst im Röntgenbild in der Regel unsichtbar ist, müssen die Füllstoffe für die notwendige Röntgenabsorption sorgen. Ein solcher Füllstoff, der Röntgenstrahlung ausreichend absorbiert, wird röntgenopak genannt. Für die Röntgenopazität sind in der Regel Bestandteile des Füllstoffes, beispielsweise bestimmte Komponenten eines Glases, oder Zusatzstoffe verantwortlich. Solche Zusatzstoffe nennt man auch Röntgenopaker. Ein gebräuchlicher Röntgenopaker ist YbF3, welches in kristalliner, gemahlener Form dem Füllstoff zugesetzt werden kann. [0011] Die Röntgenopazität von Dentalgläsern oder -materialien wird nach DIN ISO 4049 relativ zur Röntgenabsorption von Aluminium als Aluminiumgleichwertdicke (ALGWD) angegeben. Die ALGWD ist die Dicke einer Aluminium-Probe, die die gleiche Absorption bewirkt wie eine 2 mm dicke Probe des zu prüfenden Materials. Eine ALGWD von 200% bedeutet also, dass ein Glasplättchen mit planparallelen Oberflächen von 2 mm Dicke dieselbe Röntgenabschwächung bewirkt wie ein Aluminiumplättchen von 4 mm Dicke. Analog bedeutet eine ALGWD von 150%, dass ein Glasplättchen mit planparallelen Oberflächen von 2 mm Dicke dieselbe Röntgenabschwächung bewirkt wie ein Aluminiumplättchen von 3 mm Dicke. [0012] Weil die Kunststoff-Dentalmasse in der Anwendung üblicherweise aus Kartuschen in Kavitäten eingefüllt und dort modelliert wird, soll sie häufig im nicht ausgehärteten Zustand thixotrop sein. Das heisst, dass ihre Viskosität beim Ausüben von Druck abnimmt, während sie ohne Druckeinwirkung formstabil ist. [0013] Bei den Kunstsoff-Dentalmassen sind weiterhin Dentalzemente und Komposite zu unterscheiden. Bei Dentalzementen, auch Glasionomerzemente genannt, führt die chemische Reaktion der Füllstoffe mit der Harz-Matrix zum Aushärten der Dentalmasse, weshalb durch die Reaktivität der Füllstoffe die Aushärtungseigenschaften der Dentalmasse und damit deren Bearbeitbarkeit beeinflusst wird. Es handelt sich hierbei oftmals um einen Abbindevorgang, dem ein radikalisches oberflächiges Aushärten, beispielsweise unter der Einwirkung von UV-Licht, vorausgeht. Komposite, auch Füllungskomposite genannt, enthalten dahingegen weitergehende chemisch weitestgehend inerte Füllstoffe, da ihre Aushärteverhalten durch Bestandteile der Harz-Matrix selbst bestimmt werden und eine chemische Reaktion der Füllstoffe hierfür oftmals störend ist. [0014] Weil Gläser aufgrund ihrer unterschiedlichen Zusammensetzungen eine Werkstoffklasse mit vielfältigen Eigenschaften repräsentieren, werden sie häufig als Füllstoffe für Kunststoff-Dentalmassen eingesetzt. Andere Anwendungen als Dentalwerkstoff, entweder in reiner Form oder als Komponente eines Materialgemisches, sind ebenso möglich, beispielsweise für Inlays, Onlays, Verblendmaterial für Kronen und Brücken, Material für künstliche Zähne oder sonstiges Material für prothetische, konservierende und/oder präventive Zahnbehandlung. Solche Gläser in der Anwendung als Dentalwerkstoff werden allgemein Dentalgläser genannt. [0015] Wünschenswert sind neben den oben beschriebenen Eigenschaften des Dentalglases auch die Freiheit von als gesundheitsschädlich eingestuftem Barium und/oder Bariumoxid (BaO) und dem ebenfalls von Blei und/oder Bleioxid (PbO). [0016] Ferner ist es ebenfalls wünschenswert, dass die Dentalgläser als Komponente Zirkonoxid (ZrO2) enthalten. ZrO2ist in den technischen Anwendungsgebieten der Zahntechnik und der Optik ein verbreiteter Werkstoff. ZrO2ist sehr gut biologisch verträglich und zeichnet sich durch Unempfindlichkeit gegenüber Temperaturschwankungen aus. Es für alle Zahnversorgungen in Form von Kronen, Brücken, Inlays, Geschiebearbeiten und Implantate eingesetzt. [0017] Dentalgläser stellen somit besonders hochwertige Gläser dar. Solche Gläser können ebenfalls in optischen Anwendungen eingesetzt werden, insbesondere, wenn die Anwendung von der Röntgenopazität des Glases profitiert. Da die Röntgenopazität bedeutet, dass das Glas elektromagnetische Strahlung im Bereich des Röntgenspektrums absorbiert, sind entsprechende Gläser gleichzeitig Filter für Röntgenstrahlung. Empfindliche elektronische Bauteile können durch Röntgenstrahlung geschädigt werden. Bei elektronischen Bildsensoren kann der Durchgang eines Röntgenquants beispielsweise den entsprechenden Bereich des Sensors beschädigen oder zu einem unerwünschten Sensorsignal führen, welches beispielsweise als Bildstörung und/oder Störpixel wahrnehmbar ist. Daher ist es für bestimmte Anwendungen erforderlich oder zumindest vorteilhaft, die elektronischen Bauteile vor der Röntgenstrahlung zu schützen, indem diese durch entsprechende Gläser aus dem Spektrum der einfallenden Strahlung herausgefiltert werden. [0018] Zahlreiche Dentalgläser und andere optische Gläser sind aus dem Stand der Technik bekannt. [0019] Die Schrift DE10 063 939 beschreibt ein Dentalglas, d.h. für selbsthärtende Massen - Dentalzemente eingesetzt wird. Das Glas reagiert mit Säuren und setzt Ionen frei, die zum Aufbau eines Netzwerks und somit zum Aushärten dienen. Diese Eigenschaft ist für Komposite, die über UV-Licht ausgehärtet werden, nicht gewünscht. Ausserdem beträgt die Summe aus Y2O3, La2O3 und anderen Lanthanoiden 30 bis 70 Gew.-%, was einen höheren Brechwert als 1,61 liefert. Diese Summe ist mit einem Anteil von 13 bis <20 Gew.-% La2O3 im erfindungsgemässen Glas deutlich unterschritten. [0020] EP1547572 beschreibt ein Glasfüllmaterial für Epoxysyteme sowie dessen Herstellung. Die gewünschten Partikel weisen eine Teilchengrösse von 0,1 um bis zu 20 um auf und bestehend aus einer inneren und äusseren Zone besteht, die sich in ihrer Alkalikonzentration unterscheiden und bei denen die Alkaliionen der inneren Schicht während der Nutzungsdauer nicht in die äussere Schicht migrieren. Die Verarmung der äusseren Schicht findet in einem weiteren Schritt nach dem Mahlen des geschmolzenen Glases statt und geschieht durch Zugabe einer organischen oder anorganischen Säure, die anschliessend wieder ausgewaschen wird. Das so hergestellte Glaspulver weist erfindungsgemäss einen Brechungsindex (nd) von 1,49 bis 1,55 auf. [0021] Damit die Alkaliionen ausgelaugt werden können, muss das erschmolzene Glas über eine geringe chemische Beständigkeit verfügen. Dies ist entspricht nicht den Anforderungen bzw. Eigenschaften der vorliegenden Erfindung, die sich durch ausgezeichnete chemische Beständigkeit auszeichnet. [0022] WO2007 077 680 beschreibt Strahlenschutzgläser mit hohen Anteilen Lanthaniden von mindestens 20 Mol%, wodurch die Brechungsindizes (nd) sämtlicher so erhaltener Gläser jenseits des Einsatzbereiches von ästhetischen Kompositmaterialien liegen, deren maximal e Brechungsindizes bei etwa (nd) 1,60 liegen. [0023] US2007 0 042 894 beschreibt ein Substrat für Flachbildschirme, bestehend aus (60 - 80 Mol%) SiO2, (5 - 25 Mol%) Al2O3 und (2-5 Mol%) Elementen aus der Gruppe der Seltenerdoxide. Zusätzlich kann das Glas bis zu 15 Mol% netzwerkwandelnde Elemente aus der folgenden Gruppe enthalten: MgO, SrO, BaO, CaO, B2O3; Ta2O5; TiO2, ZrO2, HfO2, SnOz, P2O5, ZnO, SbO,. As2O3, bzw. SnO bis 20 Mol%. Das beschriebene Glas zeichnet sich durch besonders hohe Schmelztemperaturen aus, um hohe Prozesstemperaturen von mindestens 650[deg.]C realisieren zu können. [0024] Das beschriebene Substratglas enthält keine Elemente aus der Gruppe der Alkalien (Li20, Na20, K20, Rb20, Cs20), wie sie in der vorliegenden Erfindung notwendig sind um die Schmelztemperatur so niedrig wie möglich zu halten um eine kostengünstige Fertigung darzustellen. [0025] Die US6 816 319 offenbart eine relativ weite Zusammensetzung einer planaren Linse, die aus einem Flachglassubstrat bestehet, in das eine, den Brechungsindex erhöhende, Komponente eindiffundiert und dadurch zu einem Gradienten des Brechungsindexes innerhalb der Linse führt. Eine solche Eigenschaft ist in der vorliegenden Eigenschaft in keinster Weise wünschenswert, da dadurch einen inhomogenen Brechungsindex die optische Anmutung der fertigen Restauration stark negativ beeinflusst würde. [0026] US6 677 046 beschreibt eine Glaskeramik mit weiter Zusammenfassung als Substrat für LCD Displays. Jedoch enthält das erhaltene Material zwanghaft eine beta-Quarz Phase, die durch eine nachgeschaltete thermische Behandlung erreicht wird. Die vorliegende Erfindung soll möglichst homogen und daher frei von jeglichen kristallinen Anteilen sein, da durch die Unterschiede im Brechungsindex der kristallinen Phase und der Restglasphase, die Herstellung einer hochästhetischen Füllung nicht möglich ist [0027] US6 716 779 beschreibt ein Glassubstrat für Interferenzfilter mit einem relativ hohen thermischen Ausdehnungskoeffizienten. Auf Grund diesem angepassten thermischen Ausdehnungskoeffizienten wurde AI2O3 auf maximal 12 Mol% beschränkt. AI2O3 bewirkt vor allem in einem B2O3-freien Gläsern, was die meisten Beispiele in US6 716 779 sind, eine Erniedrigung des Ausdehnungskoeffizienten. Das erfindungsgemässe Glas enthält jedoch mehr als 12 Mol% Al2O3, um vor allem die chemischen Resistenz zu gewährleisten. [0028] Aluminiumborosilikatglas für Substrate in der Informationsspeichertechnologie ist Gegenstand der Schrift JP2000 159 540. Das beanspruchte Glas enthält jedoch im Gegensatz zum erfindungsgemässem Glas zwingend B2O3, das die chemische Beständigkeit des Glases unakzeptabel verschlechtert und deshalb nicht für Dentalgläser in Frage kommt. [0029] GB2 232 988 betrifft ein alkalibeständiges Glasfasermaterial, das mindestens 8 Mol% ZrO2 enthält. Durch diesen hohen Anteil ergibt sich eine schlechte Schmelzbarkeit, sowie eine Neigung zur Ausbildung eines Tyndall-Effektes. [0030] Den in dem Stand der Technik genannten Gläsern ist gemeinsam, dass sie entweder einen hohen Brechwert nd aufweisen, wenig witterungsbeständig und/oder nicht röntgenopak sind und darüber hinaus oftmals schwierig oder teuer herzustellen sind oder umwelt- und/oder gesundheitsschädliche Komponenten enthalten. [0031] Aufgabe der Erfindung ist es, ein barium- und bleifreies röntgenopakes relativ niedrigbrechendes Glas mit der Brechzahl ndvon 1,57 bis 1,61 bereit zu stellen. Das Glas soll als Dentalglas und als optisches Glas geeignet sein. Es soll dabei preiswert herzustellen sein und dennoch hochwertig und körperverträglich sowie zum passiven und aktiven Zahnschutz geeignet sein und hinsichtlich der Verarbeitbarkeit, des Abbindeverhaltens von umgebenden Kunststoffmatrizen sowie der Langzeitstabilität und der Festigkeit vorzügliche Eigenschaften aufweisen. Ferner ist es eine weitere Aufgabe der Erfindung, dass das erfindungsgemässe Glas extrem witterungsbeständig sein muss. [0032] Das erfindungsgemässe Glas soll in seiner Grundmatrix ferner frei von farbgebenden Komponenten wie z.B. Fe2O3, AgO, CuO etc. sein, um einen optimalen Farbort und damit Anpassung an die Zahnfarbe und/oder bei optischen Anwendungen das durchtretende Spektrum der elektromagnetischen Strahlung zu ermöglichen. [0033] Die Aufgabe wird gelöst durch das Glas gemäss der unabhängigen Ansprüche. Bevorzugte Ausführungsformen und Anwendungen ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen. [0034] Das erfindungsgemässe Glas weist einen Brechungsindex ndvon 1,57 bis 1,61 auf. Es ist damit sehr gut an die zur Verfügung stehendem Dentalkunststoffe und/oder Epoxidharze in diesem Brechungsindexbereich angepasst, wodurch es die an ein Dentalglas-Kunststoff-Komposit gestellten ästhetischen Anforderungen nach einem natürlichen Aussehen hervorragend genügt. [0035] Das erfindungsgemässe Glas erreicht die Eigenschaften barium- und/oder bleihaltiger Dentalgläser bzgl. der geforderten Röntgenabsorption ohne Einsatz von Barium und/oder Blei oder anderer gesundheitlich bedenklicher oder entsprechend eingestuften Substanzen. Die Röntgenabsorption und somit die Röntgenopazität wird hauptsächlich durch den Gehalt von CSO2und/oder La2O3 erreicht, welche entweder einzeln oder in Kombination zu mehr als 10 Gew.-% in dem erfindungsgemässen Glas enthalten sind. Sowohl CsO2als auch La2O3 gelten als gesundheitlich unbedenklich. [0036] Das erfindungsgemässe Glas weist eine Aluminiumgleichwertdicke (ALGWD) von mindestens 400% auf. Dies bedeutet, dass ein Glasplättchen aus dem erfindungsgemässen Glas mit planparallelen Oberflächen und einer Dicke von 2 mm dieselbe Röntgenschwächung bewirkt wie ein Aluminiumplättchen von 8 mm Dicke. [0037] Als Basis beinhaltet das erfindungsgemässe Glas SiO2mit einem Anteil von 43 bis weniger als 53 Gew.-% als glasbildende Komponente. Höhere Gehalte an SiO2 können zu unvorteilhaft hohen Schmelztemperaturen führen, während ausserdem die Röntgenopazität nicht erreicht werden kann. [0038] Eine bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemässen Glases sieht einen Gehalt von 44 bis weniger als 52 Gew.-% und besonders bevorzugt von 44 bis 51 Gew.-% SiO2 vor. Die Untergrenze von 51 Gew.-% vermindert die Neigung zur Entglasung. [0039] Das erfindungsgemässe Glas beinhaltet ferner zwingend ZrO2mit einem Anteil von mehr als 3 bis höchstens 10 Gew.-%. Durch diesen Zirkongehalt werden die mechanischen Eigenschaften und hier besonders die Zug- und Druckfestigkeit verbessert, sowie die Sprödigkeit des Glases herabgesetzt. Ausserdem leistet die Komponente einen Anteil an der Röntgenopazität des Glases. [0040] Bevorzugt ist ein ZrO2-Gehalt von 3 bis 9 Gew.-%, besonders bevorzugt 4 bis 8 Gew.-%. [0041] Ausserdem haben die Erfinder erkannt, dass ein Verhältnis der Gehalte von SiO2 zu ZrO2 von grösser oder zumindest gleich 7 eingehalten werden sollte, da ZrO2in Silikatgläsern schwer löslich ist und es somit leicht zu einer Entmischung kommen kann. Die entmischten Bereiche wirken als Streuzentren für durchtretendes Licht analog dem Tyndall-Effekt. Bei Dentalgläsern stören diese Streuzentren den ästhetischen Eindruck, weshalb entmischte Gläser in der Dentalanwendung nicht akzeptiert werden, und in einem optischen Glas beeinflussen die Streuzentren die Transmission im allgemeinen auf negative Weise, so dass entmischte Gläser in den meisten optischen Anwendungen ebenfalls unerwünscht sind. [0042] In dem erfindungsgemässen Glas ist ebenfalls zwingend Al2O3im Bereich von 15 bis weniger als 21 Gew.-% enthalten. Al2O3 ermöglicht u.a. eine gute chemische Resistenz. Allerdings sollte ein Al2O3-Gehalt von etwa 21 Gew.-% nicht überschritten werden, um die Viskosität des Glases vor allem im Heissverarbeitungsbereich nicht so weit zu erhöhen, dass das Glas schwer zu schmelzen ist. Ausserdem sind höhere Anteile als 21 Gew.-% nachteilig für das Aufschmelzen des ZrO2-enthaltenen Glases. [0043] Bevorzugt beinhaltet ein erfindungsgemässes Glas daher Al2O3von 16 bis 20 Gew.-% und besonders bevorzugt 17 bis 20 Gew.-%. [0044] Das Glas kann 0 bis 6 Gew.-% ZnO und 0 bis 5 Gew.-% Ta2O5enthalten. ZnO setzt den thermischen Ausdehnungskoeffizienten herab und beeinflusst die chemischen Beständigkeit gegenüber Wasser und Säuren positiv. ZnO wird deshalb bevorzugt 1 bis 5 Gew.-% und besonders bevorzugt 2 bis 4 Gew.-% im erfindungsgemässen Glas eingesetzt. Ta2O5dient zur Brechwertoptimierung und unterstützt ausserdem die Röntgenopazität. Bevorzugt beinhaltet ein erfindungsgemässes Glas daher Ta2O5 von 1 bis 4 Gew.-% und besonders bevorzugt 1,5 bis 3,5 Gew.-%. [0045] Um das Aufschmelzen des Glases zu erleichtern, sind in dem Erfindungsgemässen Glas in Summe mindestens 3,5 Gew.-% bis höchstens 9 Gew.-% Alkalioxide enthalten. [0046] Alkalioxide können allerdings die chemische Beständigkeit eines Glases vermindern. Bevorzugt beträgt der Gesamtgehalt von Alkalioxiden von 3,5 bis 8 Gew.-% und besonders bevorzugt von 4 bis 8 Gew.-%. [0047] Im Einzelnen beträgt der Gehalt der Alkalioxide erfindungsgemäss 0 bis 6 Gew.-% Li2O, 0 bis 2 Gew.-% Na2O, 0 bis 2 Gew.-% K2O und 0,5 bis 7 Gew.-% Cs2O. [0048] K2O kann im besonderen Masse zum besseren Schmelzen eines SiO2- und ZrO2-haltigen Glases beitragen. Bevorzugt beinhaltet das ein erfindungsgemässes Glas 0 bis 1,5 Gew.-% und besonders bevorzugt 0 bis 1 Gew.-% K2O. [0049] Der Gehalt von Li2O beträgt bevorzugt von 1 bis 5 Gew.-%, besonders bevorzugt von 2 bis 5 Gew.-%. [0050] Bevorzugt ist das erfindungsgemässe Glas ebenso frei von CeO2. [0051] CS2O trägt ebenfalls zur Verbesserung der Schmelzbarkeit bei, dient aber gleichzeitig zur Erhöhung der Röntgenopazität und Einstellung des Brechwertes. Bevorzugt ist CS2O von 1 bis 6 Gew.-% und besonders bevorzugt 2 bis 5 Gew.-% in einem erfindungsgemässen Glas enthalten. [0052] La2O3 selbst kann in dem erfindungsgemässen Glas von 13 bis <20 Gew.-% enthalten sein. Wie beschrieben sorgt es, ggfls. zusammen mit Cs2O und/oder ZrO2, für die Röntgenopazität des Glases. [0053] Bevorzugt beträgt der Gehalt von La2O3von 13,5 bis <20 Gew.-%, besonders bevorzugt 14 bis 19 Gew.-%. [0054] Um eine hohe Röntgenopazität und entsprechend besonders grosse Werte der Aluminiumgleichwertdicke zu erreichen sehen es bevorzugte Ausführungsformen des erfindungsgemässen Glases vor, dass Cs2O und/oder La2O3in Summe von 14 bis 25 Gew.-%, bevorzugt von 15 bis 24 Gew.-% und besonders bevorzugt von 16 bis 24 Gew.-% in dem Glas enthalten sind. [0055] WO3 und/oder Nb2O5 und/oder HfO2 und/oder Ta2O5 und/oder Gd2O3 und/oder Sc2O3und/oder Y2O3 und/ oder SnO2können einzeln oder in beliebigen Kombinationen zu jeweils 0 bis 3 Gew.-% zusätzlich enthalten sein. [0056] Erfindungsgemäss ist ebenfalls vorgesehen, dass zusätzlich SnO2optional von 0 bis 2 Gew.-% in dem Glas enthalten sein kann. [0057] Wie beschrieben ist das erfindungsgemässe Glas frei von den umweltschädlichen oder als gesundheitsschädlich geltenden Barium und/oder Blei und BaO und/oder PbO. Auf die Zugabe anderer umweltschädlichen und/oder als gesundheitsschädlich geltenden Substanzen wird bevorzugt verzichtet. Insbesondere ist in einem bevorzugten Erfindungsgemässen Glas ebenfalls kein SrO enthalten, weil dieses in gesundheitsrelevanten Anwendungen ebenfalls nicht akzeptiert wird. [0058] Gemäss einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist das erfindungsgemässe Glas auch vorzugsweise frei von anderen, in den Ansprüchen und/oder dieser Beschreibung nicht genannten Komponenten, d.h. gemäss einer derartigen Ausführungsform besteht das Glas im Wesentlichen aus den genannten Komponenten. Der Ausdruck "im Wesentlichen bestehen aus" bedeutet dabei, dass andere Komponenten höchstens als Verunreinigungen vorliegen, jedoch der Glaszusammensetzung nicht als einzelne Komponente beabsichtigt zugegeben werden. [0059] Allerdings sieht es die Erfindung auch vor, das erfindungsgemässe Glas als Basis weiterer Gläser zu verwenden, bei denen dem beschriebenen erfindungsgemässen Glas bis zu 5 Gew.-% weiterer Komponenten zugegeben werden können. In einem solchen Fall besteht das Glas zu mindestens 95 Gew.-% aus dem beschriebenen erfindungsgemässen Glas. [0060] Die erfindungsgemässen Glaser zeichnen sich allesamt durch eine sehr gute chemische Beständigkeit aus, was zu einer grossen Reaktionsträgheit im Zusammenspiel mit der Harzmatrix und damit mit einer sehr guten Langlebigkeit der gesamten Dentalmasse zu führt. [0061] Es ist selbstverständlich auch möglich, die Farberscheinung des Glases durch die Zugabe von dazu gebräuchlichen Oxiden anzupassen. Zur von Gläsern Färbung geeignete Oxide sind dem Fachmann bekannt, beispielsweise seien CuO und CoO genannt, die für diese Zwecke bevorzugt von 0 bis 0,1 Gew.-% zugesetzt werden können. [0062] Die Erfindung umfasst darüber hinaus Glaspulver aus den erfindungsgemässen Gläsern. Die Glaspulver werden durch bekannte Verfahren erzeugt, wie beispielsweise in der DE 4 100 604 C1 beschrieben. Das erfindungsgemässe Glaspulver weist bevorzugt eine mittlere Korngrösse bis zu 40 [micro]m auf, besonders bevorzug von bis zu 20 [micro]m. Bevorzugt sind insbesondere mittlere Korngrössen von 0,4 bis 4 [micro]m, aber auch Nanopulver mit mittleren Korngrössen von 50 bis 400 nm. Andere Korngrössen sind von der Erfindung ebenfalls umfasst. Das vorgenannte Glaspulver kann als Ausgangsmaterial für die Verwendung der erfindungsgemässen Gläser als Füllstoffe und/oder Dentalgläsern im Allgemeinen dienen. [0063] In einer bevorzugten Ausführungsform wird die Oberfläche des Glaspulvers mit den gebräuchlichen Methoden silanisiert. Durch die Silanisierung kann erreicht werden, dass die Bindung der anorganischen Füllstoffe an die Kunststoffmatrix der Kunststoff-Dentalmasse verbessert wird. [0064] Von der Erfindung umfasst sind ebenfalls optische Elemente, welche das erfindungsgemässe Glas enthalten. Als optische Elemente werden alle Gegenstände und insbesondere Bauteile verstanden, welche für optische Anwendungen eingesetzt werden können. Dies können Bauteile sein, durch die Licht hindurchtritt. Beispiele solcher Bauteile sind Abdeckgläser und/oder Linsenelemente, aber auch Träger anderer Bauteile, wie beispielsweise Spiegel und Glasfasern. [0065] Abdeckgläser werden bevorzugt zum Schutz von elektronischen Bauteilen eingesetzt. Diese umfassen selbstverständlich ebenso optoelektronische Bauteile. Die Abdeckgläser liegen üblicherweise in Form von Glasplatten mit planparallelen Oberflächen vor und werden bevorzugt oberhalb des elektronischen Bauelements angebracht, so dass dieses vor Umwelteinflüssen geschützt ist, aber elektromagnetische Strahlung wie beispielsweise Licht durch das Abdeckglas hindurchtreten und mit dem elektronischen Bauteil in Wechselwirkung treten kann. Beispiel solcher Abdeckgläser sind innerhalb von Optokappen, zum Schutz von elektronischen Bildsensoren, Abdeckwafer im Wafer Level Packaging, Abdeckgläser von Photovoltaischen Zellen und Schutzgläser für organische Elektroniken. Dem Fachmann sind weitere Anwendungen von Abdeckgläsern hinlänglich bekannt. Ebenso möglich ist es, dass optische Funktionen in dem Abdeckglas integriert werden, beispielsweise wenn es zumindest in Bereichen mit optischen Strukturen versehen ist, die bevorzugt die Form von Linsen aufweisen können. Mit Mikrolinsen versehene Abdeckgläser werden üblicherweise für als Abdeckgläser von Bildsensoren von Digitalkameras eingesetzt, wobei die Mikrolinsen üblicherweise schräg auf den Bildsensor auftreffendes Licht auf die einzelnen Sensorelemente (Pixel) fokussieren. [0066] Das erfindungsgemässe Glas kann wie beschrieben bevorzugt als Dentalglas eingesetzt werden. Bevorzugt findet es Anwendung als Füllstoff in Kompositen für die Zahnrestauration, besonders bevorzugt für auf Epoxydharz basierende Füllstoffe, die weitgehend chemisch inerte Füllstoffe erfordern. Ebenfalls im Sinne der Erfindung ist die Verwendung des erfindungsgemässen Glases als Röntgenopaker in Dentalmassen. Das Glas ist geeignet, teure kristalline Röntgen-opaker wie beispielsweise YbF3 zu ersetzen. [0067] Entsprechend wird das erfindungsgemässe Glas bevorzugt verwendet zur Herstellung eines Dentalkunststoff enthaltenden Dentalglas-Kunststoff-Komposits, wobei der Dentalkunststoff bevorzugt ein UV-härtbares Harz auf Acrylat-, Methacrylat-, 2,2-Bis-[4-(3-Methacryloxy-2-hydroxypropoxy)-phenyl]-propan-(Bis-GMA-), Urethan-Methacrylat-, Alcandioldimethacrylat- oder Cyanacrylatbasis ist. [0068] Aufgrund seiner optischen Eigenschaften kann das erfindungsgemässe Glas ebenfalls für optische Anwendungen verwendet werden. Da es weitgehend chemisch inert ist, eignet es sich für Anwendungen als Substratglas in der Photovoltaik, sowohl für die Abdeckung von Photovoltaikzellen auf Siliziumbasis, von organischen Photovoltaikzellen und als Trägermaterial von Dünnschicht-Photovoltaikmodulen. Die Röntgenabsorption des erfindungsgemässen Glases hat unter anderem besondere Vorteile bei dem Einsatz von Photovoltaikmodulen in Raumfahrtanwendungen, da diese ausserhalb der Erdatmosphäre besonders intensiver Röntgenstrahlung ausgesetzt sein können. [0069] Das erfindungsgemässe Glas eignet sich ferner für den Einsatz als Substratglas für biochemische Anwendungen, insbesondere für molekulare Screeningverfahren. [0070] Aufgrund seiner hohen Temperaturbeständigkeit eignet sich das erfindungsgemässe Glas auch als Lampenglas, insbesondere für den Einsatz in Halogenlampen. Entsteht durch die Mechanismen der Lichterzeugung in der Lampe Röntgenstrahlung, ist es ein besonderer Vorteil des erfindungsgemässen Glases, dass es diese von der Umgebung fernhalten kann. [0071] Darüber hinaus ist es von der Erfindung umfasst, das erfindungsgemässe Glas durch physikalische Verfahren zu Verdampfen und das verdampfte Glas auf Bauteilen niederzuschlagen. Solche physikalischen Dampfabscheideverfahren, auch Physical Vapor Deposition oder kurz PVD-Verfahren genannt, sind dem Fachmann bekannt und beispielsweise in der DE 10222 964 B4 beschrieben. Das erfindungsgemässe Glas dient dabei als zu verdampfendes Target in solchen Prozessen. Die mit dem erfindungsgemässen Glas bedampften Bauteile können sowohl von der chemischen Beständigkeit des Glases als auch von dessen Röntgenabsorption profitieren. [0072] Es ist ebenfalls möglich, das erfindungsgemässe Glas als Ausgangsmaterial für Glasfasern zu verwenden. Der Begriff Glasfaser umfasst dabei alle Arten von Glasfasern, insbesondere Fasern, die nur aus einem Kern bestehen, und sogenannten Kern-Mantelfasern, die einen Kern und mindestens einen den Kern entlang der Aussenumfangsfläche vorzugsweise vollständig umgebenden Mantel aufweisen. Das erfindungsgemässe Glas kann dabei als Kernglas und/oder als Mantelglas eingesetzt werden. Innerhalb des Zusammensetzungsbereichs des erfindungsgemässen Glases kann der Brechungsindex nd des Glases so eingestellt werden, dass ein erfindungsgemässes Kernglas einen höheren Brechungsindex als ein erfindungsgemässes Mantelglas aufweist, so dass eine sogenannten Stufenindexfaser erhalten wird, bei der die Lichtleitung sehr effizient durch Totalreflektion an der Grenzfläche von Kern und Mantel erfolgt. [0073] Aufgrund seiner guten chemischen Beständigkeit bietet sich als Anwendungsgebiet aber insbesondere auch die Verwendung der erfindungsgemässen Glasfasern als Verstärkungen in Verbundwerkstoffen und/oder als Betonverstärkungen und/oder als Lichtleitfasern eingebettet in Beton an. [0074] Tabelle 1 umfasst 4 Ausführungsbeispiele im bevorzugten Zusammensetzungsbereich. Alle Angaben bzgl. der Zusammensetzung sind in Gew.-% aufgeführt. [0075] Die in den Beispielen beschriebenen Gläser wurden folgendermassen hergestellt: [0076] Die Rohstoffe für die Oxide werden ohne Läutermittel abgewogen und anschliessend gut gemischt. Das Glasgemenge wird bei etwa 1580[deg.]C in einem diskontinuierlichen Schmelzaggregat eingeschmolzen, danach geläutert und homogenisiert. Bei einer Gusstemperatur von etwa 1600[deg.]C kann das Glas als Ribbons oder anderen gewünschten Abmessungen gegossen und verarbeitet werden. In einem grossvolumigen, kontinuierlichen Aggregat können die Temperaturen um mindestens etwa 100 K abgesenkt werden. [0077] Zur Weiterverarbeitung wurden die erkalteten Glasribbons mit Hilfe des aus der DE 4 100 604 C1 bekannten Verfahrens zu einem Glaspulver mit einer mittleren Korngrösse von höchstens 10 [micro]m zermahlen. Die Glaseigenschaften wurden anhand von Glasposten bestimmt, die nicht zu Pulvern zermahlen wurden. Sämtliche Gläser weisen eine hervorragende chemische Beständigkeit gegenüber Säuren, Laugen und Wasser auf; sie sind ferner weitestgehend chemisch inert. [0078] In Tabelle 1 sind ferner die Brechnungsindices nd, die linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten [alpha](20-300[deg.]C) von 20 bis 300 [deg.]C und [alpha](-30-70[deg.]C) von -30 bis 70 [deg.]C aufgeführt. Letzterer ist von besonderem Interesse für die Anwendung des erfindungsgemässen Glases als Dentalglas, weil der Temperaturbereich von -30 bis 70 [deg.]C in der Anwendung auftreten kann. [0079] Ferner aufgeführt sind die Aluminiumgleichwertdicke (kurz: ALGWD) und die chemischen Beständigkeiten der Varianten des erfindungsgemässen Glases. Dabei steht SR für die Säurebeständigkeitsklasse nach IS08424, AR für die Alkalibeständigkeitsklasse nach ISO10629 und HGB für die Wasserbeständigkeitsklasse nach DIN IS0719. [0080] Alle in Tabelle 1 aufgeführten Gläser weisen thermische Ausdehnungskoeffizienten [alpha] im Bereich von 20 bis 300[deg.]C von weniger als 6.10<-><6>/K auf. [0081] Gegenüber BaO und SrO-haltigen Gläsern weisen in Tabelle 1 dargestellten Gläser eine mindestens ebenso gute Röntgenopazität auf. In den dargestellten Beispielen werden Werte der ALGWD von 597% bis 801% erreicht. Die stärkste Röntgenabsorption und grössten Wert für die ALGWD zeigt Beispiel Nr. 3. In diesem beträgt die Summe aus La2O3 und CS2O 26,23 Gew.-% und ist damit am höchsten. [0082] Allen Beispielen Nr. 1 bis Nr. 4 ist gemeinsam, dass ihre chemische Beständigkeit in der besten SR-, AR- und HGB-Klasse 1 bzw. 1,0 einzuordnen ist und so für die genannten Anwendungen hervorragend geeignet sind. [0083] Die Beispiele belegen auch, dass die Brechungsindices nddes erfindungsgemässen Glassystems in einem angemessenen Bereich um 1,6 an den Anwendungszweck gepasst werden können, ohne dass die hervorragende chemische Beständigkeit darunter leidet. Dadurch ist es in vorteilhafter Weise insbesondere als Füllstoffe in Dentalmassen, aber auch für andere Anwendungen, welche hohe Anforderungen u.a. an die Reinheit sowie die chemische und die Temperaturbeständigkeit stellen, verwendet werden. Es kann kostengünstig grosstechnisch hergestellt werden. [0084] Gegenüber dem Stand der Technik hat das erfindungsgemässe Glas darüber hinaus den Vorteil, dass es die Anpassbarkeit der Brechungsindices und Ausdehnungskoeffizienten sowie eine gleichbleibend sehr gute chemische Stabilität mit einer effizienten Röntgenabsorption verbindet. [0085] Das erfindungsgemässe Glas ist darüber hinaus verhältnismässig einfach zu schmelzen und daher kosteneffizient zu produzieren. Tabelle 1 [0086] Zusammensetzungen des röntgenopaken Glases in Gew.-% <tb>Beispiel Nr.<sep>1<sep>2<sep>3<sep>4 <tb>SiO2<sep>49,78<sep>46,71<sep>45,96<sep>45,38 <tb>Al2O3<sep>19,08<sep>18,18<sep>17,89<sep>17,67 <tb>Li2O<sep>4,09<sep>3,22<sep>2,75<sep>3,43 <tb>Na2O<sep><sep><sep>1,50<sep> <tb>K2O<sep><sep>0,81<sep><sep> <tb>Cs2O<sep>1,82<sep>1,21<sep>3,41<sep>3,37 <tb>ZnO<sep>3,37<sep>3,51<sep>2,96<sep>2,97 <tb>La2O3<sep>14,3<sep>17,63<sep>16,56<sep>19,86 <tb>ZrO2<sep>4,99<sep>6,27<sep>6,02<sep>4,48 <tb>Ta2O5<sep>2,57<sep>2,45<sep>2,94<sep>2,90 <tb>nd<sep>1,57938<sep>1,59508<sep>1,5926<sep>1,5962 <tb>[alpha] (20-300[deg.]C)[10<-><6>/K]<sep>5,26<sep>5,24<sep>5,5<sep>5,57 <tb>[alpha](-30, 70[deg.]C)[10<-><6>/K]<sep>4,25<sep>4,21<sep>4,49<sep>4,53 <tb>ALGWD [%]<sep>597<sep>712<sep>762<sep>801 <tb>SR [Klasse]<sep>1.0<sep>1.0<sep>1.0<sep>1.0 <tb>AR [KLasse]<sep>1.0<sep>1.0<sep>1.0<sep>1.0 <tb>HGB [Klasse]<sep>1<sep>1<sep>1<sep>1
Claims (25)
1. Röntgenopakes Glas mit einem Brechungsindex nd von 1,57 bis 1,61 und einer Aluminiumgleichwertdicke von mindestens 400%, das frei von BaO und/oder PbO ist, beinhaltend (in Gew.-% auf Oxidbasis)
<EMI ID=2.1>
2. Röntgenopakes Glas nach Anspruch 1, beinhaltend (in Gew.-% auf Oxidbasis)
<EMI ID=3.1>
<EMI ID=4.1>
3. Röntgenopakes Glas nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, beinhaltend (in Gew.-% auf Oxidbasis)
<EMI ID=5.1>
4. Röntgenopakes Glas nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Summe der Anteile von Cs2O und/oder La2O3 (in Gew.-% auf Oxidbasis) 14 - 25 beträgt, bevorzugt 15-24 und besonders bevorzugt 16-24.
5. Röntgenopakes Glas nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei für Verhältnis der Gehalte von SiO2und ZrO2 gilt: SiO2/ZrO2> 7.
6. Röntgenopakes Glas nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, beinhaltend zusätzlich (in Gew.-% auf Oxidbasis)
<EMI ID=6.1>
7. Röntgenopakes Glas nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, das frei von SrO ist.
8. Glas, bestehend zu mindestens 95 % (in Gew.-% auf Oxidbasis) aus dem röntgenopaken Glas nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche.
9. Glaspulver, beinhaltend das röntgenopake Glas nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7.
10. Glaspulver nach Anspruch 9, wobei die Oberflächen der enthaltenen Pulverkörner aus einem röntgenopaken Glas nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7 silanisiert sind.
11. Dentalglas-Kunststoff-Komposit, enthaltend als Dentalglas das Glaspulver nach mindestens einem der Ansprüche 9 bis 10.
12. Optisches Element, beinhaltend das röntgenopake Glas nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8.
13. Verwendung eines Glases nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8 als Dentalglas.
14. Verwendung eines Glases nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8 als Füllstoff in Kompositen für die Zahnrestauration.
15. Verwendung eines Glases nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8 zur Herstellung eines Dentalkunststoff enthaltenden Dentalglas-Kunststoff-Komposits, wobei der Dentalkunststoff bevorzugt ein UV-härtbares Harz auf Acrylat-, Methacrylat-, 2,2-Bis-[4-(3-Methacryloxy-2-hydroxypropoxy)-phenyl]-propan-(Bis-GMA-), Urethan-Methacrylat-, Alcandioldimethacrylat- oder Cyanacrylatbasis ist.
16. Verwendung eines Glases nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8 als Röntgenopaker in Kunststoff-Dentalmassen.
17. Verwendung eines Glases nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8 in optischen Anwendungen.
18. Verwendung eines Glases nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8 als Abdeckglas von elektronischen Komponenten, insbesondere Sensoren.
19. Verwendung eines Glases nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8 in der Displaytechnik.
20. Verwendung eines Glases nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8 als Substratglas in der Photovoltaik.
21. Verwendung eines Glases nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8 als Substrat- und oder Abdeckglas von OLEDs.
22. Verwendung eines Glases nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8 als Lampenglas
23. Verwendung eines Glases nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8 als Substratglas für biochemische Anwendungen.
24. Verwendung eines Glases nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8 als Targetmaterial in PVD-Prozessen.
25. Verwendung eines Glases nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8 als Kern- und/oder Mantelglas einer Glasfaser.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102009008953A DE102009008953B4 (de) | 2009-02-13 | 2009-02-13 | Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CH700386A2 true CH700386A2 (de) | 2010-08-13 |
CH700386B1 CH700386B1 (de) | 2014-02-28 |
Family
ID=41717152
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CH01985/09A CH700386B1 (de) | 2009-02-13 | 2009-12-23 | Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung. |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8268739B2 (de) |
JP (1) | JP4861486B2 (de) |
KR (1) | KR101079941B1 (de) |
CN (1) | CN101805121B (de) |
AU (1) | AU2010200124B2 (de) |
BR (1) | BRPI1000971A2 (de) |
CH (1) | CH700386B1 (de) |
DE (1) | DE102009008953B4 (de) |
GB (1) | GB2467824B (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013053863A3 (de) * | 2011-10-14 | 2013-08-01 | Ivoclar Vivadent Ag | Lithiumsilikat-glaskeramik und -glas mit einwertigem metalloxid |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009008951B4 (de) * | 2009-02-13 | 2011-01-20 | Schott Ag | Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung |
JP5727719B2 (ja) * | 2009-10-30 | 2015-06-03 | 株式会社オハラ | 光学ガラス及び光ファイバ用コア材 |
DE102010007796B3 (de) | 2010-02-12 | 2011-04-14 | Schott Ag | Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung |
DE102011084501B3 (de) * | 2011-10-14 | 2013-03-21 | Schott Ag | Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung |
CN106698930A (zh) * | 2016-12-14 | 2017-05-24 | 池州市小康人家科技有限公司 | 一种太阳能热水器用钢化玻璃以及制备方法 |
KR20210096138A (ko) | 2018-11-26 | 2021-08-04 | 오웬스 코닝 인텔렉츄얼 캐피탈 엘엘씨 | 비탄성률이 향상된 고성능 섬유 유리 조성물 |
DK3887329T3 (da) | 2018-11-26 | 2024-04-29 | Owens Corning Intellectual Capital Llc | Højydelsesglasfibersammensætning med forbedret elasticitetskoefficient |
CN111403067A (zh) * | 2018-12-13 | 2020-07-10 | 苏州嘉乐威企业发展有限公司 | 一种辐射防护组合物、辐射防护材料和辐射防护制品 |
CN110907370A (zh) * | 2019-12-04 | 2020-03-24 | 桂林理工大学 | 一种普适性的超灵敏化学与生物比色传感方法 |
EP4378904A1 (de) * | 2021-07-29 | 2024-06-05 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Röntgenopakes glas, glasfüller und harzzusammensetzung |
Family Cites Families (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3529946A (en) | 1969-08-18 | 1970-09-22 | Owens Illinois Inc | Method of strengthening a glass article by ion exchange |
AT339523B (de) * | 1973-09-21 | 1977-10-25 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Glaskeramik fur zahnfullmassen |
JPS605538B2 (ja) * | 1979-11-27 | 1985-02-12 | 日本板硝子株式会社 | セシウム含有光学ガラス |
JPS60221338A (ja) * | 1984-04-12 | 1985-11-06 | Ohara Inc | 光学ガラス |
DE3524605A1 (de) | 1985-01-22 | 1987-01-15 | Schott Glaswerke | Lichtwellenleiter, hergestellt aus speziellen hoch-aluminiumhaltigen substratglaesern durch ionenaustausch gegen cs+-ionen |
DE3501898A1 (de) | 1985-01-22 | 1986-07-24 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz | Lichtwellenleiter, hergestellt aus speziellen substratglaesern durch einen ionenaustausch gegen cs(pfeil hoch)+(pfeil hoch)-ionen |
JPS6212633A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-21 | Hoya Corp | 屈折率分布型透明体の製造に適したガラス組成物 |
JPH02243543A (ja) * | 1989-03-15 | 1990-09-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス繊維、その製造法およびその用途 |
DE4029230C2 (de) | 1990-09-14 | 1995-03-23 | Ivoclar Ag | Polymerisierbarer Dentalwerkstoff |
US5132254A (en) | 1990-12-17 | 1992-07-21 | Corning Incorporated | Coated fibers for ceramic matrix composites |
DE4100604C1 (de) | 1991-01-11 | 1992-02-27 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz, De | |
EP0579406B1 (de) | 1992-07-01 | 1997-12-29 | Proceram | Bleifreie, durchsichtige, glaskeramische Zusammensetzungen und daraus hergestellte Gegenstände |
US5827790A (en) | 1993-02-13 | 1998-10-27 | Proceram | Unleaded transparent vitreous glass composition and articles |
DE4323143C1 (de) | 1993-07-10 | 1994-12-01 | Schott Glaswerke | Verwendung eines Glases als bariumfreies Dentalglas mit guter Röntgenabsorption |
DE4443173C2 (de) * | 1994-12-05 | 1997-04-10 | Schott Glaswerke | Bariumfreies Dentalglas mit guter Röntgenabsorption |
DE19725552A1 (de) | 1997-06-12 | 1998-12-24 | Ivoclar Ag | Alkali-Silicat-Glas |
DE19849388C2 (de) * | 1998-10-27 | 2001-05-17 | Schott Glas | Bariumfreies röntgenopakes Dentalglas sowie dessen Verwendung |
JP4174883B2 (ja) | 1998-11-19 | 2008-11-05 | 旭硝子株式会社 | 情報記録媒体基板 |
US6375729B1 (en) * | 1999-03-19 | 2002-04-23 | Jeneric/Pentron, Inc. | Machinable glass-ceramics |
DE10063939B4 (de) | 2000-12-20 | 2005-01-27 | 3M Espe Ag | Dentalzement enthaltend ein reaktionsträges Dentalglas und Verfahren zu dessen Herstellung |
JP2002243543A (ja) | 2001-02-19 | 2002-08-28 | Keyence Corp | 光電センサ |
CN100462318C (zh) | 2001-03-27 | 2009-02-18 | Hoya株式会社 | 玻璃陶瓷及其基片、液晶嵌镶板用对置基片和防尘基片 |
US6716779B2 (en) | 2001-08-14 | 2004-04-06 | Optoelectronics International, Inc. | Substrate glass for optical interference filters with minimal wave length shift |
DE10139904A1 (de) * | 2001-08-15 | 2003-02-27 | Univ Schiller Jena | Optische Telluritgläser für Lichtwellenleiterverstärker und Oszillatoren sowie Verfahren zu ihrer Herstellung |
TW200303995A (en) | 2002-02-22 | 2003-09-16 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Planar lens and its producing method |
DE10222964B4 (de) | 2002-04-15 | 2004-07-08 | Schott Glas | Verfahren zur Gehäusebildung bei elektronischen Bauteilen sowie so hermetisch verkapselte elektronische Bauteile |
DE10392962T5 (de) * | 2002-07-24 | 2005-08-18 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Glas zur Laser-Behandlung |
DE10238607B4 (de) | 2002-08-16 | 2006-04-27 | Schott Ag | Verfahren zur Formung von Glas oder Glaskeramik und dessen Verwendung |
EP1547572B1 (de) | 2003-12-22 | 2007-08-15 | 3M Espe AG | Glasfüllmaterial und Verfahren zur Herstellung |
EP1721874B1 (de) | 2004-02-20 | 2013-11-27 | Isuzu Glass Co., Ltd. | Verfahren zur herstellung eines optischen elements vom brechungsindexverteilungstyp |
DE102004011218B4 (de) * | 2004-03-04 | 2006-01-19 | Schott Ag | Röntgenopakes Glas, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
DE102004026432A1 (de) | 2004-05-29 | 2005-12-22 | Schott Ag | Glaszusammensetzungen als antimikrobieller Zusatz für Dentalmaterialien und deren Verwendung |
DE102004026433A1 (de) | 2004-05-29 | 2005-12-22 | Schott Ag | Nanoglaspulver und deren Verwendung |
JP4853817B2 (ja) | 2004-07-15 | 2012-01-11 | 日本電気硝子株式会社 | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 |
WO2006075785A2 (en) * | 2005-01-17 | 2006-07-20 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass |
DE102005019958B4 (de) | 2005-04-29 | 2010-02-18 | Schott Ag | Blitzlicht-Leuchtquelle mit Hüllenglas |
DE102005023702B4 (de) | 2005-05-23 | 2012-01-26 | Schott Ag | Hydrolysebeständiges Glas, ein Verfahren zu seiner Herstellung sowie dessen Verwendung |
JP5638755B2 (ja) | 2005-08-17 | 2014-12-10 | コーニング インコーポレイテッド | 高歪点ガラス |
US7951733B2 (en) * | 2005-11-15 | 2011-05-31 | Isuzu Glass Co., Ltd. | Blue-violet light blocking glass |
JPWO2007077680A1 (ja) | 2005-12-28 | 2009-06-04 | 株式会社オハラ | ガラス組成物 |
DE102006012116A1 (de) | 2006-03-14 | 2007-09-20 | Schott Ag | Glaserfaserkabel |
GB2436298A (en) | 2006-03-23 | 2007-09-26 | Sean Priddle | Number matching game |
JP4590386B2 (ja) * | 2006-10-23 | 2010-12-01 | 株式会社オハラ | 光学ガラス |
JP5274855B2 (ja) * | 2007-02-19 | 2013-08-28 | 日本板硝子株式会社 | 屈折率分布型レンズ用母材ガラス組成物、屈折率分布型レンズとその製造方法ならびに光学製品および光学機器 |
JP2008247626A (ja) | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Isuzu Seiko Glass Kk | 紫外線吸収能を有する屈折率分布型光学素子の製造方法 |
-
2009
- 2009-02-13 DE DE102009008953A patent/DE102009008953B4/de active Active
- 2009-12-18 GB GB0922104A patent/GB2467824B/en active Active
- 2009-12-23 CH CH01985/09A patent/CH700386B1/de unknown
-
2010
- 2010-01-12 AU AU2010200124A patent/AU2010200124B2/en active Active
- 2010-01-28 US US12/695,419 patent/US8268739B2/en active Active
- 2010-02-03 CN CN2010101134359A patent/CN101805121B/zh active Active
- 2010-02-09 KR KR1020100011990A patent/KR101079941B1/ko active IP Right Grant
- 2010-02-11 BR BRPI1000971-0A patent/BRPI1000971A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2010-02-15 JP JP2010030600A patent/JP4861486B2/ja active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013053863A3 (de) * | 2011-10-14 | 2013-08-01 | Ivoclar Vivadent Ag | Lithiumsilikat-glaskeramik und -glas mit einwertigem metalloxid |
US9101439B2 (en) | 2011-10-14 | 2015-08-11 | Ivoclar Vivadent, Ag | Lithium silicate glass ceramic and lithium silicate glass comprising a monovalent metal oxide |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BRPI1000971A2 (pt) | 2011-03-22 |
CH700386B1 (de) | 2014-02-28 |
GB2467824A (en) | 2010-08-18 |
KR20100092890A (ko) | 2010-08-23 |
US20100210755A1 (en) | 2010-08-19 |
CN101805121A (zh) | 2010-08-18 |
GB2467824B (en) | 2011-01-05 |
GB0922104D0 (en) | 2010-02-03 |
KR101079941B1 (ko) | 2011-11-04 |
AU2010200124B2 (en) | 2011-01-20 |
DE102009008953B4 (de) | 2010-12-30 |
JP4861486B2 (ja) | 2012-01-25 |
JP2010189263A (ja) | 2010-09-02 |
CN101805121B (zh) | 2013-06-05 |
US8268739B2 (en) | 2012-09-18 |
DE102009008953A1 (de) | 2010-10-07 |
AU2010200124A1 (en) | 2010-09-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102010007796B3 (de) | Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung | |
DE102009008951B4 (de) | Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung | |
DE102009008953B4 (de) | Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung | |
DE102009008954B4 (de) | Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung | |
DE102011084501B3 (de) | Röntgenopakes bariumfreies Glas und dessen Verwendung | |
JP2010189263A5 (de) | ||
JP2010189262A5 (de) | ||
US20140106168A1 (en) | X-ray-opaque barium-free glass and uses thereof, especially in polymer-based dental compositions | |
KR102246214B1 (ko) | 방사선불투과성 유리 및 이의 용도 | |
DE102018010246B4 (de) | Röntgenopakes Glas und dessen Verwendung | |
DE102018102301B4 (de) | Röntgenopakes Glas und dessen Verwendung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PFA | Name/firm changed |
Owner name: SCHOTT AG Free format text: SCHOTT AG#HATTENBERGSTRASSE 10#55122 MAINZ (DE) -TRANSFER TO- SCHOTT AG#HATTENBERGSTRASSE 10#55122 MAINZ (DE) |
|
PCAR | Change of the address of the representative |
Free format text: NEW ADDRESS: GARTENSTRASSE 28 A, 5400 BADEN (CH) |