BR112017025241B1 - Método e formulação para inibir a corrosão de uma superfície de metal em contato com um sistema aquoso - Google Patents

Método e formulação para inibir a corrosão de uma superfície de metal em contato com um sistema aquoso Download PDF

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Abstract

MÉTODO E FORMULAÇÃO PARA INIBIR A CORROSÃO DE UMA SUPERFÍCIE DE METAL EM CONTATO COM UM SISTEMA AQUOSO. São revelados métodos de uso de compostos que contêm nitrogênio como inibidores de corrosão. O presente método é usado para inibir corrosão de uma superfície de metal em contato com um sistema aquoso com o uso de imidazóis 2-substituídos e benzimidazóis 2-substituídos, e fornece proteção melhorada contra corrosão de metais no sistema aquoso. O método compreende o uso de inibidores de corrosão que são, em geral, resistentes ao ataque de halogênio e fornecem boa resistência à corrosão na presença de biocidas à base de halogênio de oxidação. Formulações que compreendem imidazóis 2-substituídos e benzimidazóis 2-substituídos também são reveladas.

Description

REFERÊNCIA CRUZADA A PEDIDO RELACIONADO
[001] Este pedido de patente reivindica o benefício do Pedido de Patente Provisório no U.S. 62/167.697, depositado em 28 de maio de 2015, que é incorporado em sua totalidade a título de referência.
CAMPO DA INVENÇÃO
[002] A invenção refere-se a métodos de uso de compostos heterocíclicos como inibidores de corrosão para superfícies de metal em ambientes aquosos.
ANTECEDENTES DA INVENÇÃO
[003] Componentes de cobre e liga de cobre são comumente usados em sistemas industriais devido à alta condutividade térmica e propriedades antimicrobianas do cobre. O cobre e as ligas de cobre (por exemplo, bronze e latão) são relativamente resistentes à corrosão como um resultado de camadas de película protetora que revestem naturalmente a superfície de cobre, que incluem uma camada de película de óxido cuproso interna e uma camada de película de óxido cúprico externa. Sob condições anaeróbicas, essas camadas protetoras, em geral, reduzem a taxa de corrosão adicional da superfície de metal. No entanto, sob certas condições, o cobre e as ligas de cobre são suscetíveis à corrosão. Na presença de oxigênio e sob condições ácidas, a oxidação de cobre e a dissolução do íon de cobre (II) em água podem ocorrer.
[004] Inibidores de corrosão de cobre são comumente adicionados a sistemas de água industriais para impedir e reduzir a dissolução de cobre de superfícies do sistema. Em particular, o uso de compostos que contêm nitrogênio, como azóis, é bem conhecido por inibir a corrosão de cobre e ligas de cobre. Acredita-se, em geral, que os elétrons de pares isolados de nitrogênio se coordenam com o metal, o que resulta na formação de uma camada de película orgânica fina que protege a superfície de cobre contra elementos presentes no sistema aquoso. Compostos que contêm nitrogênio, tais como azóis, também são conhecidos por precipitarem cobre (II) a partir da solução aquosa, o que dificulta a corrosão que pode ocorrer devido às reações galvânicas entre cobre e outros metais.
[005] Halogênios de oxidação são comumente usados como biocidas em sistemas industriais para controlar o crescimento de limo e microbiológico na água. A película protetora fornecida por muitos azóis sofre erosão na presença de halogênios de oxidação, como cloro, hipoclorito e hipobromito, o que reduz a eficácia do inibidor de corrosão. Ademais, uma diminuição em precipitação de cobre (II) ocorre frequentemente na presença de halogênios de oxidação devido ao ataque de halogênio do inibidor de corrosão na solução. Dessa forma, na presença de halogênios de oxidação, uma injeção em excesso ou contínua de inibidor de corrosão é frequentemente necessária para manter a película protetora orgânica.
[006] Seria desejável fornecer um método de uso de um inibidor de corrosão que forneça proteção de cobre na ausência e na presença de agentes de halogênio de oxidação.
BREVE SUMÁRIO DA INVENÇÃO
[007] Em uma modalidade, a invenção fornece um método para inibir a corrosão de uma superfície de metal em contato com um sistema aquoso. O método compreende adicionar ao sistema aquoso um composto de fórmula (I),
Figure img0001
em que cada X é igual ou diferente e é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, alquila halossubstituída, amino, aminoalquila, ciano, alcóxi, hidroxila, tiol, alquiltio, carbonila, nitro, fosforila, fosfonila e sulfonila; Y é selecionado a partir do grupo que consiste em hidroxila, halogênio, oxo, alcóxi, tiol, alquiltio, amino, hidrogênio e aminoalquila; Z é selecionado a partir do grupo que consiste em carbono e nitrogênio; R1 é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, deutério, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, hidroxila e carbonila; R2 e R3 são selecionados a partir do grupo que consiste em hidrogênio, halogênio, hidroxila, arila, fenila, heteroarila, benzila, alquil- heteroarila, carbonila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, C3-C8 cicloalquila e C1-C16 alquila; e m é 1, 2, 3 ou 4; ou um sal do mesmo.
[008] Em outra modalidade, a invenção fornece um método para inibir a corrosão de uma superfície de metal em contato com um sistema aquoso que compreende um composto de halogênio de oxidação. O método compreende adicionar ao sistema aquoso um composto de fórmula (II),
Figure img0002
em que cada um dentre X e Y é igual ou diferente e é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, alquila halossubstituída, amino, aminoalquila, ciano, alcóxi, hidroxila, tiol, alquiltio, carbonila, nitro, fosforila, fosfonila e sulfonila; R é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, deutério, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, hidroxila e carbonila; m é 1, 2, 3 ou 4; e n é 1, 2, 3 ou 4; ou um sal do mesmo.
[009] Em outra modalidade, a invenção fornece uma formulação para inibição de corrosão de uma superfície de metal em contato com um sistema aquoso. A formulação compreende um composto de fórmula (I) ou (II), um ácido fosfórico e um oligômero fosfinossuccínico.
BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS
[0010] A Figura 1 é um gráfico de linhas que ilustra a taxa de corrosão de cobre com o uso de (1H-benzo[d]imidazol-2-il)(fenil)metanol como um inibidor de corrosão na ausência e na presença de lixívia.
[0011] A Figura 2 é um gráfico de linhas que ilustra a taxa de corrosão de cobre com o uso de (5-metil-1H-benzo[d]imidazol-2- il)(fenil)metanol como um inibidor de corrosão na ausência e na presença de lixívia.
[0012] A Figura 3 é um gráfico de linhas que ilustra a taxa de corrosão de cobre com o uso de 2-(2-piridil)benzimidazol como um inibidor de corrosão na ausência e na presença de lixívia.
[0013] A Figura 4 é um gráfico de linhas que ilustra a taxa de corrosão de cobre com o uso de 5-metil-2-(2-piridil)benzimidazol como um inibidor de corrosão na ausência e na presença de lixívia.
[0014] A Figura 5 é um gráfico de linhas que ilustra a taxa de corrosão de cobre com o uso de 2-(3-piridil)benzimidazol como um inibidor de corrosão na ausência e na presença de lixívia.
[0015] A Figura 6 é um gráfico de linhas que ilustra a taxa de corrosão de cobre com o uso de 2-(4-piridil)benzimidazol como um inibidor de corrosão na ausência e na presença de lixívia.
[0016] A Figura 7 é um gráfico de linhas que ilustra a taxa de corrosão de cobre com o uso de benzimidazol como um inibidor de corrosão na ausência e na presença de lixívia.
[0017] A Figura 8 é um gráfico de linhas que ilustra a taxa de corrosão de cobre com o uso de 2-fenilbenzimidazol como um inibidor de corrosão na ausência e na presença de lixívia.
DESCRIÇÃO DETALHADA DA INVENÇÃO
[0018] As definições a seguir são fornecidas para determinar como os termos usados neste pedido e, em particular, como as reivindicações devem ser interpretadas. A organização das definições é apenas para conveniência e não se destina a limitar qualquer uma das definições a qualquer categoria particular.
[0019] “Alcóxi” se refere a uma porção química da fórmula RO-, em que R é alquila, alquenila ou alquinila; “Alquila” se refere a um substituinte alquila de cadeia linear ou ramificada. Exemplos de tais substituintes incluem metila, etila, propila, isopropila, n-butila, sec-butila, isobutila, terc-butila, pentila, isoamila, hexila e similares; “Alquil-heteroarila” se refere a um grupo alquila unido a um grupo heteroarila; “Alquenila” se refere a um hidrocarboneto linear ou ramificado que tem, preferencialmente, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15 ou 16 carbonos, e que tem uma ou mais ligações duplas de carbono- carbono. Os grupos alquenila incluem, porém, sem limitação, etenila, 1- propenila, 2-propenil(alila), iso-propenila, 2-metil-1-propenila, 1-butenila e 2- butenila. Os grupos alquenila podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais substituintes adequados; “Alquiltio” se refere a uma porção química da fórmula RS-, em que R é alquila, arila, alquenila ou alquinila; “Alquinila” se refere a um hidrocarboneto linear ou ramificado que tem, preferencialmente, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15 ou 16 carbonos, e que tem uma ou mais ligações triplas de carbono-carbono. Os grupos alquinila incluem, porém, sem limitação, etinila, propinila e butinila. Os grupos alquinila podem ser não substituídos ou substituídos por um ou mais substituintes adequados; “Amino” se refere à porção química H2N-; “Aminoalquila” se refere a um substituinte de nitrogênio fixado a um ou mais grupos de carbono, tais como alquila ou arila. Por exemplo, o grupo aminoalquila pode ser RHN- (secundário) ou R2N- (terciário), em que R é alquila ou arila; “Sistema aquoso” se refere a qualquer sistema que contenha componentes de metal que estejam em contato com a água em uma base periódica ou contínua; “Arila” se refere a um substituinte carbocíclico aromático não substituído ou substituído, como comumente compreendido na técnica, e o termo “C6-C10 arila” inclui fenila e naftila. É compreendido que o termo arila se aplica a substituintes cíclicos que são planos e compreendem 4n+2n elétrons, de acordo com a Regra de Hückel; “Carbonila” se refere a um substituinte que compreende um carbono duplamente ligado a um oxigênio. Exemplos de tais substituintes incluem aldeídos, cetonas, ácidos carboxílicos, ésteres, amidas e carbamatos; “Cicloalquila” se refere a um substituinte de alquila cíclica que contém, por exemplo, cerca de 3 a cerca de 8 átomos de carbono, preferencialmente, de cerca de 4 a cerca de 7 átomos de carbono e, mais preferencialmente, de cerca de 4 a cerca de 6 átomos de carbono. Exemplos de tais substituintes incluem ciclopropila, ciclobutila, ciclopentila, ciclo- hexila, ciclo-heptila, ciclo-octila e similares. Os grupos alquila cíclicos podem ser não substituídos ou adicionalmente substituídos por grupos alquila, tais como grupos metila, grupos etila e similares; “Halogênio” ou “halo” se refere a F, Cl, Br e I; “Alquila halossubstituída” se refere a um grupo alquila conforme descrito acima substituído por um ou mais halogênios, por exemplo, clorometila, trifluorometila, 2,2,2-tricloroetila e similares; “Heteroarila” se refere a um sistema anelar de 5 ou 6 membros monocíclico ou bicíclico, em que o grupo heteroarila é insaturado e satisfaz a regra de Hückel. Exemplos não limitantes de grupos heteroarila incluem furanila, tiofenila, pirrolola, pirazolila, imidazolila, 1,2,3-triazolila, 1,2,4- triazolila, isoxazolila, oxazolila, isotiazolila, tiazolila, 1,3,4-oxadiazol-2-ila, 1,2,4-oxadiazol-2-ila, 5-metil-1,3,4-oxadiazol, 3-metil-1,2,4-oxadiazol, piridinila, pirimidinila, pirazinila, triazinila, benzofuranila, benzotiofenila, indolila, quinolinila, isoquinolinila, benzimidazolila, benzoxazolinila, benzotiazolinila, quinazolinila e similares; “Sistema de água industrial” significa qualquer sistema que circula água como seu ingrediente primário. Exemplos não limitantes de “sistemas de água industriais” incluem sistemas de resfriamento, sistemas de caldeira, sistemas de aquecimento, sistemas de membrana, processo de produção de papel ou qualquer outro sistema que circule água como definido abaixo; “Aço macio” se refere a aços de carbono e de baixa liga; “Oxo” se refere a um átomo de oxigênio duplamente ligado a um átomo de carbono; “Halogênio de oxidação” se refere a um agente de oxidação que compreende pelo menos um halogênio. Exemplos de halogênios de oxidação incluem, porém, sem limitação, lixívia à base de cloro, cloro, bromo, iodo, hipoclorito, hipobromito, ácido de iodo/hipoiodoso, ácido hipobromoso, hidantoínas halogenadas, dióxido de cloro, versões estabilizadas de ácidos hipocloroso e hipobromoso e compostos ou grupos químicos com capacidade para liberar cloro, bromo ou iodo; “Água” significa qualquer substância que tenha água como um ingrediente primário. Água pode incluir água pura, água de torneira, água doce, água reciclada, salmoura, vapor e/ou qualquer solução aquosa ou mescla aquosa.
[0020] Por conveniência de referência no presente documento, as estruturas dos compostos de fórmula (I) são numeradas como segue:
Figure img0003
[0021] Por conveniência de referência no presente documento, a estrutura dos compostos da fórmula (II) é numerada como segue:
Figure img0004
[0022] As linhas pontilhadas denotam que os compostos de fórmulas (I) e (II) podem ser um composto à base de imidazol 2-substituído ou um composto à base de benzimidazol 2-substituído.
[0023] Sempre que uma faixa do número de átomos em uma estrutura for indicada (por exemplo, uma C1-C16 alquila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, etc.), é contemplado especificamente que qualquer subfaixa ou número individual de átomos de carbono que esteja dentro da faixa indicada também pode ser usado. Desse modo, por exemplo, a enumeração de um faixa de 1 a 16 átomos de carbono (por exemplo, C1-C16), 1 a 6 átomos de carbono (por exemplo, C1-C6), 1 a 4 átomos de carbono (por exemplo, C1-C4), 1 a 3 átomos de carbono (por exemplo, C1-C3) ou 2 a 16 átomos de carbono (por exemplo, C2-C16) como usado em relação a qualquer grupo químico (por exemplo, alquila) referenciado no presente documento abrange e descreve especificamente 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15 e/ou 16 átomos de carbono, conforme apropriado, bem como qualquer subfaixa dos mesmos (por exemplo, 1 a 2 átomos de carbono, 1 a 3 átomos de carbono, 1 a 4 átomos de carbono, 1 a 5 átomos de carbono, 1 a 6 átomos de carbono, 1 a 7 átomos de carbono, 1 a 8 átomos de carbono, 1 a 9 átomos de carbono, 1 a 10 átomos de carbono, 1 a 11 átomos de carbono, 1 a 12 átomos de carbono, 1 a 13 átomos de carbono, 1 a 14 átomos de carbono, 1 a 15 átomos de carbono, 1 a 16 átomos de carbono, 2 a 3 átomos de carbono, 2 a 4 átomos de carbono, 2 a 5 átomos de carbono, 2 a 6 átomos de carbono, 2 a 7 átomos de carbono, 2 a 8 átomos de carbono, 2 a 9 átomos de carbono, 2 a 10 átomos de carbono, 2 a 11 átomos de carbono, 2 a 12 átomos de carbono, 2 a 13 átomos de carbono, 2 a 14 átomos de carbono, 2 a 15 átomos de carbono, 2 a 16 átomos de carbono, 3 a 4 átomos de carbono, 3 a 5 átomos de carbono, 3 a 6 átomos de carbono, 3 a 7 átomos de carbono, 3 a 8 átomos de carbono, 3 a 9 átomos de carbono, 3 a 10 átomos de carbono, 3 a 11 átomos de carbono, 3 a 12 átomos de carbono, 3 a 13 átomos de carbono, 3 a 14 átomos de carbono, 3 a 15 átomos de carbono, 3 a 16 átomos de carbono, 4 a 5 átomos de carbono, 4 a 6 átomos de carbono, 4 a 7 átomos de carbono, 4 a 8 átomos de carbono, 4 a 9 átomos de carbono, 4 a 10 átomos de carbono, 4 a 11 átomos de carbono, 4 a 12 átomos de carbono, 4 a 13 átomos de carbono, 4 a 14 átomos de carbono, 4 a 15 átomos de carbono e/ou 4 a 16 átomos de carbono, etc., conforme apropriado).
[0024] A invenção fornece métodos de uso de compostos heterocíclicos e formulações que compreendem compostos heterocíclicos que são particularmente úteis para inibir a corrosão de componentes metálicos em sistemas de água industriais. Os requerentes constataram surpreendente e inesperadamente que um método que compreende adicionar a um sistema aquoso um imidazol ou um benzimidazol com capacidade para sofrer quelação com um metal fornece excelente resistência à corrosão ao metal. Em particular, os requerentes constataram que adicionar imidazóis ou benzimidazóis substituídos por uma 2-piridila ou um álcool benzílico a um sistema aquoso em contato com uma superfície de metal leva a excelente inibição de corrosão para metais, tais como cobre. Além disso, embora benzotriazóis e benzimidazóis sejam, em geral, instáveis na presença de compostos de halogênio de oxidação, os requerentes constataram que imidazóis e benzimidazóis com capacidade para sofrer 1,2-quelação com um metal transmitem proteção exemplar de metal na presença de compostos de halogênio de oxidação. Em particular, 2-(2-piridil)benzimidazóis e 1H- benzo[d]imidazol-2-il)(fenil)metanóis fornecem maior proteção contra corrosão do que benzimidazol, 2-fenilbenzimidazol e tolitriazol na presença de compostos de halogênio de oxidação. Embora sem querer ser limitado por qualquer teoria particular, acredita-se que os métodos da presente invenção fornecem uma película protetora que é essencialmente impenetrável por compostos de halogênio de oxidação comuns devido à quelação bidentada do inibidor de corrosão com a superfície de metal. Desse modo, em certas modalidades, os métodos da presente invenção fornecem proteção contra corrosão de metal em sistemas aquosos que empregam compostos de halogênio de oxidação como biocidas.
[0025] Em uma modalidade, a invenção fornece um método para a inibição de corrosão de uma superfície de metal em contato com um sistema aquoso. O método compreende adicionar ao sistema aquoso um composto de fórmula (I),
Figure img0005
em que cada X é igual ou diferente e é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2- C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, alquila halossubstituída, amino, aminoalquila, ciano, alcóxi, hidroxila, tiol, alquiltio, carbonila, nitro, fosforila, fosfonila e sulfonila; Y é selecionado a partir do grupo que consiste em hidroxila, halogênio, oxo, alcóxi, tiol, alquiltio, amino, hidrogênio e aminoalquila; Z é selecionado a partir do grupo que consiste em C e nitrogênio; R1 é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, deutério, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, hidroxila e carbonila; R2 e R3 são selecionados a partir do grupo que consiste em hidrogênio, halogênio, hidroxila, arila, fenila, heteroarila, benzila, alquilheteroarila, carbonila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, C3-C8 cicloalquila e C1-C16 alquila; e m é 1, 2, 3 ou 4; ou um sal do mesmo.
[0026] O substituinte ou substituintes X, conforme mostrado, podem ocupar qualquer posição disponível no anel de imidazol ou benzimidazol. Desse modo, em certas modalidades, o substituinte ou substituintes X podem estar localizados na posição-4, posição-5, posição-6 e/ou posição-7 do benzimidazol. Em certas modalidades preferenciais, o substituinte X está na posição-5. O substituinte ou substituintes X, conforme mostrado, podem ocupar qualquer posição disponível no anel de imidazol. Desse modo, em certas modalidades, o substituinte ou substituintes X podem estar localizados na posição-4 e/ou posição-5 do imidazol.
[0027] Conforme revelado acima, m pode ser 1, 2, 3 ou 4. Caso m seja 2, 3 ou 4, os substituintes X podem ocupar qualquer posição aberta e podem ser posicionados orto-, meta- ou para- entre si.
[0028] Em certas modalidades, o composto de fórmula (I) é um imidazol.
[0029] Em certas modalidades, o composto de fórmula (I) é um benzimidazol.
[0030] Em certas modalidades preferenciais, X é rico em elétrons ou um grupo C1-C16 alquila.
[0031] Em certas modalidades preferenciais, X é hidrogênio.
[0032] Em certas modalidades preferenciais, X é C1-C16 alquila.
[0033] Em certas modalidades preferenciais, X é metila.
[0034] Em certas modalidades preferenciais, Y é hidroxila.
[0035] Em certas modalidades preferenciais, R1 é hidrogênio.
[0036] Em certas modalidades preferenciais, R2 é arila ou heteroarila.
[0037] Em certas modalidades preferenciais, R2 é fenila.
[0038] Em certas modalidades preferenciais, Y não está presente quando Z é nitrogênio.
[0039] Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula (I) é
Figure img0006
[0040]
Figure img0007
m certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula
[0041] Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula (I) é
Figure img0008
[0042] é Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula
Figure img0009
em que Me é metila.
[0043] Em certas modalidades, o composto de fórmula (I) é
Figure img0010
[0044] Em certas modalidades, o composto de fórmula (I) é
Figure img0011
em que cada X é igual ou diferente e m e n são 1, 2, 3 ou 4.
[0045] (I) é Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula
Figure img0012
em que Cl é cloro.
[0046] (I) é Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula
Figure img0013
em que Cl é cloro.
[0047] Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula
Figure img0014
em que Cl é cloro.
[0048] Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula
Figure img0015
3, em que Br é bromo.
[0049] Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula
Figure img0016
em que Br é bromo.
[0050] Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula
Figure img0017
em que X é cloro ou bromo.
[0051] Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula (I) é
Figure img0018
[0052] Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula (I) é
Figure img0019
[0053] Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula (I) é
Figure img0020
[0054] Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula (I) é
Figure img0021
[0055] Em certas modalidades, o composto de fórmula (I) é
Figure img0022
[0056] Em certas modalidades, o composto de fórmula (I) é
Figure img0023
em que Me é metila.
[0057] Em certas modalidades, o composto de fórmula (I) é um sal de cloreto, sal de brometo, sal de iodeto, sal de sulfato, sal de fluoreto, sal de perclorato, sal de acetato, sal de trifluoroacetato, sal de fosfato, sal de nitrato, sal de carbonato, sal de bicarbonato, sal de formato, sal de clorato, sal bromado, sal de clorito, sal de tiossulfato, sal de oxalato, sal de cianeto, sal de cianato, sal de tetrafluoroborato e similares. Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula (I) é sal de cloridrato ou de sulfato.
[0058] Em certas modalidades preferenciais, R1 é hidrogênio. Embora sem querer ser limitado por qualquer teoria particular, postula-se que quando R1 é hidrogênio, a ligação de hidrogênio pode ocorrer entre as moléculas quando adicionado a um sistema aquoso em contato com uma superfície de metal, resultando, desse modo, em resistibilidade melhorada da película protetora de inibidor de corrosão na superfície de metal. Além disso, compostos de fórmula (I) em que R1 é hidrogênio, em geral, têm solubilidade em água aumentada.
[0059] Em certas modalidades preferenciais, X é um grupo rico em elétrons ou um grupo alquila. Embora sem querer ser limitado por qualquer teoria particular, é postulado que, quando X é mais rico em elétrons, os átomos de nitrogênio no anel de imidazol podem ter densidade de elétrons aumentada. Acredita-se que átomos de nitrogênio que têm uma densidade de elétrons maior terão coordenação mais forte com a superfície de metal do sistema aquoso, o que resulta em uma película protetora mais forte. No entanto, em certas modalidades, X é deficiente em elétrons.
[0060] Os compostos de fórmula (I) podem ser um enantiômero único (isto é, (R)-isômero ou (S)-isômero), um racemato ou uma mistura de enantiômeros em qualquer razão.
[0061] Os compostos de fórmula (I) podem ser preparados por qualquer método químico sintético adequado. Um método de preparação é uma síntese de uma etapa com o uso de materiais comercialmente disponíveis. Em temperatura elevada, uma 1,2-fenilenodiamina sofre uma reação de condensação com um ácido carboxílico apropriado na presença de um ácido. Por exemplo, ácido mandélico reage com 4-metil-o-fenilenodiamina na presença de ácido clorídrico para formar (5-metil-1H-benzo[d]imidazol-2- il)(fenil)metanol. Qualquer ácido de Lewis ou Bronsted adequado pode ser usado na síntese incluindo, porém, sem limitação, ácido clorídrico, ácido polifosfórico, reagente de Eaton, ácido sulfúrico, ácido p-toluenossulfônico e ácido tríflico. Em certas modalidades preferenciais, ácido clorídrico é usado.
[0062] Em outra modalidade, a invenção fornece um método para inibir a corrosão de uma superfície de metal em contato com um sistema aquoso que compreende um composto de halogênio de oxidação, sendo que o método compreende adicionar ao sistema aquoso um composto de fórmula (II),
Figure img0024
em que cada um dentre X e Y é igual ou diferente e é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, alquila halossubstituída, amino, aminoalquila, ciano, alcóxi, hidroxila, tiol, alquiltio, carbonila, nitro, fosforila, fosfonila e sulfonila; R é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, deutério, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, hidroxila e carbonila; m é 1, 2, 3 ou 4; e n é 1, 2, 3 ou 4; ou um sal do mesmo.
[0063] O substituinte ou substituintes X, conforme mostrado, podem ocupar qualquer posição disponível no anel de benzimidazol. Desse modo, em certas modalidades, o substituinte ou substituintes X podem estar localizados na posição-4, posição-5, posição-6 e/ou posição-7 do benzimidazol. Em certas modalidades preferenciais, o substituinte X está na posição-5. O substituinte ou substituintes X, conforme mostrado, podem ocupar qualquer posição disponível no anel de imidazol. Desse modo, em certas modalidades, o substituinte ou substituintes X podem estar localizados na posição-4 e/ou posição-5 do imidazol.
[0064] O substituinte ou substituintes Y, conforme mostrado, podem ocupar qualquer posição disponível no anel de piridila. Desse modo, em certas modalidades, o substituinte ou substituintes Y podem estar localizados na posição-2', posição-3', posição-4', posição-5' e/ou posição-6’ do anel de piridila.
[0065] Conforme revelado acima, m pode ser 1, 2, 3 ou 4. Caso m seja 2, 3 ou 4, os substituintes X podem ocupar qualquer posição aberta e podem ser posicionados orto-, meta-, ou para- a entre si.
[0066] Conforme revelado acima, n pode ser 1, 2, 3 ou 4. Caso n seja 2, 3 ou 4, os substituintes Y podem ocupar qualquer posição aberta e podem ser posicionados orto-, meta- ou para- entre si.
[0067] Em certas modalidades preferenciais, X e Y são um grupo rico em elétrons ou C1-C16 alquila escolhido individualmente.
[0068] Em certas modalidades preferenciais, R é hidrogênio.
[0069] Em certas modalidades preferenciais, X é C1-C16 alquila e Y é hidrogênio.
[0070] Em certas modalidades preferenciais, X e Y são hidrogênio.
[0071] Em certas modalidades preferenciais, X é metila, Y é hidrogênio, m é 1 e n é 1.
[0072] Em certas modalidades preferenciais, o imidazol ou benzimidazol está localizado na posição-2' do anel de piridila.
[0073] (II) é Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula
Figure img0025
em que Xm é o mesmo que revelado acima.
[0074] (II) é Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula
Figure img0026
[0075] Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula
Figure img0027
[0076] Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula
Figure img0028
em que Me é metila.
[0077] Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula
Figure img0029
[0078] Em certas modalidades preferenciais, o composto de fórmula
Figure img0030
[0079] Em certas modalidades, um composto de fórmula (II) é um sal de cloreto, sal de brometo, sal de iodeto, sal de sulfato, sal de fluoreto, sal de perclorato, sal de acetato, sal de trifluoroacetato, sal de fosfato, sal de nitrato, sal de carbonato, sal de bicarbonato, sal de formato, sal de clorato, sal bromado, sal de clorito, sal de tiossulfato, sal de oxalato, sal de cianeto, sal de cianato, sal de tetrafluoroborato e similares. Em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (II) é um sal de cloridrato ou sulfato.
[0080] Em certas modalidades preferenciais, R é hidrogênio. Embora sem querer ser limitado por qualquer teoria particular, é postulado que, quando R é hidrogênio, a ligação de hidrogênio pode ocorrer entre moléculas quando adicionado a um sistema aquoso em contato com uma superfície de metal, resultando, desse modo, em resistibilidade melhorada da película protetora de inibidor de corrosão na superfície de metal. Além disso, os compostos de fórmula (II) em que R é hidrogênio, em geral, têm solubilidade em água aumentada.
[0081] Em certas modalidades preferenciais, X e/ou Y é um grupo rico em elétrons ou um grupo alquila. Embora sem querer ser limitado por qualquer teoria particular, é postulado que, quando X ou Y é mais rico em elétrons, os átomos de nitrogênio no anel de imidazol podem ter densidade de elétrons aumentada. Acredita-se que átomos de nitrogênio que têm uma densidade de elétrons maior terão coordenação mais forte com a superfície de metal do sistema aquoso, o que resulta em uma película protetora mais forte. No entanto, em certas modalidades, X e/ou Y é deficiente em elétrons.
[0082] Os compostos de fórmula (II) podem ser preparados por qualquer método químico sintético adequado. Um método de preparação é uma síntese de uma etapa com o uso de materiais comercialmente disponíveis. Em temperatura elevada, uma 1,2-fenilenodiamina sofre uma reação de condensação com um ácido piridil carboxílico (por exemplo, ácido picolínico) na presença de um ácido. Por exemplo, ácido 2-picolínico reage com o- fenilenodiamina na presença de ácido polifosfórico para formar 2-(2- piridil)benzimidazol. Qualquer ácido de Lewis ou Bronsted adequado pode ser usado na síntese incluindo, porém, sem limitação, ácido polifosfórico, Reagente de Eaton, ácido clorídrico, ácido sulfúrico, ácido p- toluenossulfônico e ácido tríflico. Em certas modalidades preferenciais, ácido polifosfórico é usado.
[0083] Conforme revelado acima, em certas modalidades preferenciais, o imidazol ou benzimidazol está localizado na posição-2' do anel de piridila. Os requerentes constataram que um método que compreende adicionar 2-(2-piridil)benzimidazóis a um sistema aquoso em contato com um metal fornece resistência à corrosão melhorada na presença de compostos de halogênio de oxidação. Embora 2-(2-piridil)benzimidazol, 2-(3- piridil)benzimidazol e 2-(4-piridil)benzimidazol forneçam excelente resistência à corrosão, foi constatado surpreendente e inesperadamente que o 2-(2-piridil)benzimidazol mantém uma resistência à corrosão comparável na ausência e na presença de um composto de halogênio de oxidação. Embora sem querer ser limitado por qualquer teoria particular, é postulado que 2-(2- piridil)benzimidazóis têm capacidade para formar um complexo de 1,2- quelação estável com a superfície de metal. Os compostos 3-piridila e 4- piridilbenzimidazol não têm capacidade para formar um complexo de 1,2- quelação, o que resulta em uma película orgânica que tem estabilidade inferior na presença de compostos de halogênio de oxidação.
[0084] Os compostos de fórmulas (I) e (II) podem fornecer proteção contra corrosão para qualquer metal ou liga de metal, incluindo, porém, sem limitação, cobre, ferro, prata, aço (por exemplo, aço galvanizado) e alumínio. Em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema aquoso em contato com uma superfície de metal que compreende cobre para inibir corrosão de metal. Em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema aquoso em contato com uma superfície de metal que compreende uma liga de cobre para inibir a corrosão de metal. Em certas modalidades, o cobre se complexa com um ou mais heteroátomos em um composto de fórmula (I) ou (II). Em certas modalidades, o cobre se complexa com um ou mais heteroátomos em um composto de fórmula (I) ou (II). O cobre tem uma gama ampla de aplicações, que inclui uso como tubulação e tubagem de cobre em encanamentos e equipamento industrial. O cobre e as ligas de cobre são bem conhecidos por seu uso em sistemas de água de resfriamento e água de caldeira.
[0085] Os compostos de fórmulas (I) e (II) podem ser usados para proteger qualquer liga de cobre, incluindo bronze e latão. O bronze comumente compreende cobre e estanho, mas pode compreender outros elementos incluindo alumínio, manganês, silício, arsênico e fósforo. O latão compreende cobre e zinco e é comumente usado em tubulação em sistemas de caldeira de água. Em certas modalidades, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema aquoso em contato com uma superfície de metal que compreende bronze para inibir a corrosão de metal. Em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema aquoso em contato com uma superfície de metal que compreende latão (por exemplo, latão admiralty) para inibir corrosão de metal.* Em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema aquoso em contato com uma superfície de metal que compreende uma liga de cobre-níquel para inibir a corrosão de metal.
[0086] Em certas modalidades, um composto de fórmula (I) ou (II) inibe a corrosão de aço macio. Em certas modalidades, um composto de fórmula (I) ou (II) inibe a corrosão de ligas de metal, incluindo, porém, sem limitação, aço galvanizado, aço inoxidável, ferro fundido, níquel e combinações dos mesmos. Embora sem querer ser limitado por qualquer teoria particular, é postulado que os compostos de fórmulas (I) e (II) inativem o Cu (II) na solução, impedindo a ocorrência de células galvânicas na superfície do aço. Desse modo, em certas modalidades, um composto de fórmula (I) ou (II) inibe corrosão alveolar de aço macio.
[0087] A taxa de corrosão fornecida por compostos de fórmulas (I) e (II) não é limitada. Em certas modalidades, um composto de fórmula (I) ou (II) fornece uma taxa de corrosão de metal que é aceitável de acordo com padrões de indústria, por exemplo, cerca de 0,2 mpy ou menos. Em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) fornece uma taxa de corrosão de metal de cerca de 0,1 mpy ou menor. Dessa forma, em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) fornece uma taxa de corrosão de metal de cerca de 0,1 mpy ou menor, cerca de 0,05 mpy ou menor, cerca de 0,04 mpy ou menor, cerca de 0,03 mpy ou menor, cerca de 0,02 mpy ou menor, cerca de 0,01 mpy ou menor, cerca de 0,005 mpy ou menor ou cerca de 0,002 mpy ou menor.
[0088] Embora os compostos de fórmulas (I) e (II) possam ser adicionados a um sistema aquoso em qualquer taxa de dosagem, os compostos de fórmulas (I) e (II) são, em geral, adicionados a um sistema aquoso em uma taxa de dosagem de cerca de 0,01 ppm a cerca de 500 ppm. Em certas modalidades, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema aquoso em uma taxa de dosagem de cerca de 0,01 ppm a cerca de 100 ppm. Dessa forma, em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema aquoso em uma taxa de dosagem de cerca de 0,01 ppm a cerca de 100 ppm, de cerca de 0,01 ppm a cerca de 75 ppm, de cerca de 0,01 ppm a cerca de 50 ppm, de cerca de 0,01 ppm a cerca de 25 ppm, de cerca de 0,01 ppm a cerca de 10 ppm, de cerca de 0,01 ppm a cerca de 5 ppm, de cerca de 0,1 ppm a cerca de 100 ppm, de cerca de 0,1 ppm a cerca de 75 ppm, de cerca de 0,1 ppm a cerca de 50 ppm, de cerca de 0,1 ppm a cerca de 25 ppm, de cerca de 0,1 ppm a cerca de 10 ppm, de cerca de 0,1 ppm a cerca de 5 ppm, de cerca de 1 ppm a cerca de 100 ppm, de cerca de 1 ppm a cerca de 75 ppm, de cerca de 1 ppm a cerca de 50 ppm, de cerca de 1 ppm a cerca de 25 ppm, de cerca de 1 ppm a cerca de 10 ppm, de cerca de 5 ppm a cerca de 100 ppm, de cerca de 10 ppm a cerca de 100 ppm, de cerca de 25 ppm a cerca de 100 ppm, de cerca de 50 ppm a cerca de 100 ppm ou de cerca de 80 ppm a cerca de 100 ppm.
[0089] Os compostos de fórmulas (I) e (II) podem ser usados para inibir a corrosão de metal em um sistema aquoso que tem qualquer pH. Em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema aquoso que tem um pH a partir de cerca de 6 a cerca de 12. Desse modo, em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema aquoso que tem um pH de cerca de 6 a cerca de 12, de cerca de 6 a cerca de 11, de cerca de 6 a cerca de 10, de cerca de 6 a cerca de 9, de cerca de 6 a cerca de 8, de cerca de 7 a cerca de 12, de cerca de 8 a cerca de 12, de cerca de 9 a cerca de 12, de cerca de 7 a cerca de 10 ou de cerca de 8 a cerca de 10.
[0090] Uma vantagem dos presentes métodos é que os compostos de fórmulas (I) e (II), em geral, fornecem proteção contra corrosão para superfícies de metal na presença de halogênios de oxidação. Em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema aquoso em contato com uma superfície de metal e fornece proteção contra corrosão para superfície de metal na presença de qualquer composto de halogênio de oxidação. Em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) inibe a corrosão de metal na presença de compostos de halogênio de oxidação que incluem, porém sem limitação, lixívia à base de hipoclorito, cloro, bromo, hipoclorito, hipobromito, dióxido de cloro, ácido de iodo/hipoiodoso, ácido hipobromoso, hidantoínas halogenadas, versões estabilizadas de ácidos hipoclorosos ou hipobromosos ou combinações dos mesmos. Embora sem querer ser limitado por qualquer teoria particular, postula-se que o número relativamente grande de heteroátomos dos compostos de fórmulas (I) e (II) fornece um número maior de sítios para ligação a superfícies de metal e íons de metal, que pode fornecer inibição de corrosão melhorada quando comparado a muitos inibidores de corrosão existentes. Além disso, é postulado que os compostos de fórmulas (I) e (II) formam películas estáveis devido ao fato de que os compostos podem formar um complexo de 1,2-quelação com metal.
[0091] Em certas modalidades, um composto de fórmula (I) ou (II) fornece taxas de corrosão mais baixas para cobre na presença de compostos de halogênio de oxidação do que inibidores de corrosão usados comumente, tais como tolitriazol e benzimidazol. Em certas modalidades, um composto de fórmula (I) ou (II) fornece uma taxa de corrosão de metal na presença de um composto de halogênio de oxidação de cerca de 0,2 mpy ou menor. Em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) fornece uma taxa de corrosão de metal na presença de um composto de halogênio de oxidação de cerca de 0,1 mpy ou menor. Dessa forma, em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) fornece uma taxa de corrosão de metal na presença de um composto de halogênio de oxidação de cerca de 0,1 mpy ou menor, cerca de 0,05 mpy ou menor, cerca de 0,04 mpy ou menor, cerca de 0,03 mpy ou menor, cerca de 0,02 mpy ou menor, cerca de 0,01 mpy ou menor, cerca de 0,005 mpy ou menor ou cerca de 0,002 mpy ou menor.
[0092] Em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) inibe a corrosão de cobre na presença de compostos de halogênio de oxidação incluindo, porém, sem limitação, lixívia de hipoclorito, cloro, bromo, hipobromito, hipoclorito, dióxido de cloro, ácido de iodo/hipoiodoso, ácido hipobromoso, hidantoínas halogenadas, versões estabilizadas de ácidos hipocloroso e hipobromoso ou combinações dos mesmos. Em certas modalidades preferenciais, a taxa de corrosão de metal fornecida por um composto de fórmula (I) ou (II) é essencialmente a mesma na ausência ou presença de um composto de halogênio de oxidação.
[0093] Em certas modalidades, um composto de fórmula (I) ou (II) inibe a corrosão de metal quando adicionado a um sistema aquoso que compreende um biocida de oxidação que não contém halogênio, incluindo, porém, sem limitação, peróxidos (por exemplo, peróxido de hidrogênio), persulfatos, permanganatos e ácidos peracéticos.
[0094] Outra vantagem dos presentes métodos é que uma quantidade menor de composto de halogênio de oxidação é exigida para manter níveis microbianos baixos devido ao fato de que os compostos de fórmulas (I) e (II), em geral, não reagem com o composto de halogênio de oxidação. Além disso, azóis halogenados que resultam da reação entre um azol e um agente de oxidação são conhecidos como ambientalmente indesejáveis devido à sua toxicidade. Dessa forma, outra vantagem dos presentes métodos é que os compostos de fórmulas (I) e (II) são resistentes ou essencialmente resistentes ao ataque de halogênio, e não levam à liberação de azóis halogenados no ambiente.
[0095] Em certas modalidades preferenciais, o sistema aquoso é um sistema de água de resfriamento. O sistema de água de resfriamento pode ser um sistema de água de resfriamento de circuito fechado ou um sistema de água de resfriamento de circuito aberto. Em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema de água de resfriamento de circuito fechado a uma taxa de dosagem de cerca de 0,01 ppm a cerca de 200 ppm. Em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema de água de resfriamento de circuito aberto a uma taxa de dosagem de cerca de 0,01 ppm a cerca de 20 ppm.
[0096] Os compostos de fórmulas (I) e (II) são colocados em contato com uma superfície de metal por qualquer método adequado. Em certas modalidades, uma solução de um composto de fórmula (I) ou (II) é colocada em contato com uma superfície de metal por imersão, pulverização ou outras técnicas de revestimento. Em certas modalidades preferenciais, uma solução de um composto de fórmula (I) ou (II) é introduzida na água do sistema aquoso por qualquer método convencional e é alimentada no sistema aquoso em base tanto periódica como contínua.
[0097] Em certas modalidades, se um composto de fórmula (I) ou (II) for relativamente insolúvel em água, o composto pode se tornar solúvel formando-se um sal orgânico ou inorgânico do composto. Desse modo, em certas modalidades, um composto de fórmula (I) ou (II) é um sal solúvel em água. Em certas modalidades, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado como uma solução em um cossolvente miscível em água que inclui, porém sem limitação, acetona, metanol, etanol, propanol, ácido fórmico, formamida, propilenoglicol ou etilenoglicol. Em certas modalidades, um cossolvente é usado para alcançar solubilidade máxima de um composto de fórmula (I) ou (II) no sistema aquoso. Em certas modalidades, polietilenoglicol de peso molecular baixo, polipropilenoglicol, um tensoativo ou uma combinação dos mesmos são usados para aumentar a solubilidade de um composto de fórmula (I) ou (II). Em certas modalidades, um composto de fórmula (I) ou (II) está presente em um solvente inorgânico ou orgânico em uma quantidade de cerca de 0,1 a 50 gramas de composto por 100 ml de solução.
[0098] Em outra modalidade, a invenção fornece uma formulação para a inibição de corrosão de uma superfície de metal em contato com um sistema aquoso. A formulação compreende um composto de fórmula (I) ou (II), um ácido fosfórico e um oligômero fosfinossuccínico. Em certas modalidades preferenciais, o ácido fosfórico é ácido ortofosfórico (isto é, ácido fosfórico). Em certas modalidades, o oligômero fosfinossuccínico é selecionado a partir dos oligômeros fosfinossuccínico conforme revelado na Patente no U.S. 6.572.789, que é incorporada ao presente documento a título de referência.
[0099] Em certas modalidades preferenciais, a formulação compreende um composto de fórmula (I) em que cada X é igual ou diferente, e é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, alquila halossubstituída, amino, aminoalquila, ciano, alcóxi, hidroxila, tiol, alquiltio, carbonila, nitro, fosforila, fosfonila e sulfonila; Y é selecionado a partir do grupo que consiste em hidroxila, alcóxi, tiol, alquiltio, amino e aminoalquila; R1 é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, deutério, C1-C16 alquila, arila, C2C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil- heteroarila, halogênio, hidroxila e carbonila; R2 é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, arila, heteroarila, benzila, alquil- heteroarila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, C3-C8 cicloalquila e C1-C16 alquila; e m é 1, 2, 3 ou 4; ou um sal do mesmo.
[00100] Em certas modalidades preferenciais, a formulação compreende um composto de fórmula (II) em que cada um dentre X e Y é igual ou diferente, e é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, alquila halossubstituída, amino, aminoalquila, ciano, alcóxi, hidroxila, tiol, alquiltio, carbonila, nitro, fosforila, fosfonila e sulfonila; R é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, deutério, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil- heteroarila, halogênio, hidroxila e carbonila; m é 1, 2, 3 ou 4; e n é 1, 2, 3 ou 4; ou um sal do mesmo.
[00101] Em certas modalidades, a formulação compreende, adicionalmente, um composto orgânico fluorescente. Em certas modalidades preferenciais, o composto orgânico fluorescente é selecionado a partir do grupo que consiste em Rodamina, um derivado de Rodamina, um corante de acridina, fluoresceína, um derivado de fluoresceína e combinações dos mesmos. Em certas modalidades, a formulação compreende adicionalmente um polímero marcado fluorescente.
[00102] Em certas modalidades, a formulação tem um pH de cerca de 2 a cerca de 5. Dessa forma, em certas modalidades, a formulação tem um pH de cerca de 2 a cerca de 5, de cerca de 2 a cerca de 4, de cerca de 2 a cerca de 3 ou de cerca de 3 a cerca de 5. Em certas modalidades, a formulação tem um pH de cerca de 11 a cerca de 14. Dessa forma, em certas modalidades, a formulação tem um pH de cerca de 11 a cerca de 14, de cerca de 11 a cerca de 13, de cerca de 12 a cerca de 14 ou de cerca de 13 a cerca de 14.
[00103] As pessoas versadas na técnica avaliarão que um composto de fórmula (I) ou (II) pode ser adicionado a um sistema aquoso isoladamente ou em combinação com outros inibidores de corrosão ou produtos químicos de tratamento. Múltiplos inibidores de corrosão podem ser dosados como uma formulação de inibidor de corrosão combinada ou cada inibidor de corrosão pode ser adicionado separadamente, incluindo dois ou mais compostos da fórmula (I) e/ou fórmula (II). Além disso, um composto de fórmula (I) ou (II) pode ser adicionado a um sistema aquoso em combinação com uma variedade de inibidores de corrosão adicionais que incluem, porém sem limitação, triazóis, benzotriazóis (por exemplo, benzotriazol ou toliltriazol), benzimidazóis, ortofosfato, polifosfatos, fosfonatos, molibdatos, silicatos, oximas e nitritos. Os compostos de fórmulas (I) e (II) também podem ser adicionados a um sistema aquoso em combinação com uma variedade de aditivos adicionais, tais como polímeros de tratamento, agentes antimicrobianos, agentes anti-incrustação, corantes, cargas, tamponantes, tensoativos, modificadores de viscosidade, agentes quelantes, dispersantes, desodorantes, agentes de mascaramento, absorvedores de oxigênio e corantes indicadores.
[00104] Os compostos de fórmulas (I) e (II) podem ser adicionados a um sistema aquoso em qualquer forma. Em certas modalidades, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema aquoso como um sólido seco. Em certas modalidades, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema aquoso como uma solução em um cossolvente miscível com água. Em certas modalidades preferenciais, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema aquoso como uma solução aquosa.
[00105] Em certas modalidades, um composto de fórmula (I) é adicionado a um sistema de lavanderia ou a um sistema de máquinas de lavar louça.
[00106] Em certas modalidades, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema aquoso que recircula água. Em certas modalidades, um composto de fórmula (I) ou (II) é adicionado a um sistema aquoso que tem água estagnada.
[00107] Os exemplos a seguir ilustram adicionalmente a invenção, mas, obviamente, não devem ser interpretados como limitante, de forma alguma, de seu escopo. EXEMPLO 1
[00108] Esse Exemplo ilustra um método de síntese de compostos de fórmula (I) e (II) de acordo com uma modalidade da presente invenção.
[00109] Métodos de Química Geral. As reações foram realizadas sob pressão positiva de nitrogênio com vidraria seca em forno. Ácido JJJ- mandélico, 4-metil-o-fenilenodiamina, ácido 2-picolínico, ácido clorídrico e ácido polifosfórico foram adquiridos a partir de Sigma-Aldrich (St. Louis, MO).
[00110] Síntese de (5-metil-1H-benzo[d]imidazol-2-il)(fenil)metanol. Um balão de fundo redondo que compreende 4-metil-o-fenilenodiamina (1,00 mmol, 122,2 g) e ácido DL-mandélico (1,00 mol, 152,2 g) foi carregado com 200 ml de ácido clorídrico aquoso (5 N). A mistura de reação foi refluxada a 100 °C por 6 horas. Após a conclusão, a mistura de reação foi diluída com água fria e arrefecida bruscamente com NaOH (solução aquosa a 10%) até ocorrer a precipitação. O precipitado foi filtrado e lavado com água fria, produzindo o composto titular como um sólido rosa (202 g, 85%).
Figure img0031
[00111] Síntese de 5-metil-2-(2-piridil)benzimidazol. Um balão de fundo redondo foi carregado com 4-metil-o-fenilenodiamina (2,0 mmol, 2,40 g), ácido 2-picolínico (1,98 mmol, 2,44 g) e ácido polifosfórico (19,3 g). A mistura de reação foi aquecida a 160 °C por 5 horas. Após a conclusão, a mistura de reação foi derramada em água fria e neutralizada com uma solução de H4OH aquosa. A mistura foi agitada de um dia para o outro. O precipitado foi filtrado e lavado com água fria, produzindo o composto titular como um sólido marrom (2,82 g, 68%).
Figure img0032
EXEMPLO 2
[00112] Esse Exemplo ilustra a taxa de corrosão de cobre com o uso de um método de uma modalidade da presente invenção.
[00113] A taxa de corrosão de cobre na presença de (1H- benzo[d]imidazol-2-il)(fenil)metanol, (5-metil-1H-benzo[d]imidazol-2- il)(fenil)metanol, 2-(2-piridil)benzimidazol, 5-metil-2-(2- piridil)benzimidazol, 2-(3-piridil)benzimidazol e 2-(4-piridil) benzimidazol foi determinada com o uso de medições de resistência de polarização linear. Além disso, a taxa de corrosão de cobre na presença de inibidores de corrosão de benzimidazol, 2-fenilbenzimidazol e tolitriazol conhecidos foi determinada com o uso de medições de resistência de polarização linear. Os compostos de fórmulas (I) e (II) foram preparados como revelado no Exemplo 1. O benzimidazol, 2-fenilbenzimidazol e tolitriazol foram adquiridos a partir de Sigma-Aldrich (St. Louis, MO). Para cada experimento, cupons de cobre cilíndricos pré-polidos com a utilização de papel SIC 600 e encaixados em um rotador Pine foram imersos em uma solução de inibidor de corrosão. A solução de ensaio compreendeu 470 ppm de cálcio, 230 ppm de magnésio, 590 ppm de cloreto, 260 ppm de sulfato e 100 ppm de alcalinidade, como CaCO3. O pH da água de ensaio foi mantido a 7,0 com a utilização de dióxido de carbono, e a temperatura da água foi mantida a 45 °C no decorrer do experimento.
[00114] As amostras de cobre foram imersas em 1 litro de células eletroquímicas que compreendem uma solução de 5 ppm de inibidor, e a Rp (resistência de polarização) foi registrada por um período de 20 a 24 horas. A análise foi conduzida com a utilização das seguintes condições de ensaio: E inicial: -0,02 V; E Final: +0,02 V; Taxa de Varredura: 0,5 mV/s; Período de amostra: 1 segundo; Tempo de repetição: 15 minutos; Área de amostra: 5 cm2; Densidade: 8,92 g/cm3; Peso de Eq. de Cobre: 63,54 g; e Atraso inicial: 30 segundos.
[00115] Em seguida, as amostras de cobre foram expostas a uma solução de lixívia a 25%. Após o FRC alcançar 1 ppm, as amostras de cobre foram analisadas. Durante toda a análise, a solução de lixívia foi mantida em 1 ppm FRC. A Rp, na ausência e presença de lixívia, foi coletada e analisada, e a taxa de corrosão média foi calculada e registrada na Tabela 1. As taxas de corrosão foram calculadas em mils por ano (mpy). As Figuras 1 a 8 exibem plotagens de dados para os compostos 1 a 8.
[00116] Conforme mostrado na Tabela 1 e nas Figuras 1 a 6, os compostos de fórmulas (I) e (II) (por exemplo, compostos 1 a 6) diminuíram significativamente a taxa de corrosão de cobre. Além disso, a taxa de corrosão de cobre na presença de compostos 1 e 2 é inferior àquela na presença de benzimidazol e tolitriazol comumente usado. A taxa de corrosão de cobre na presença dos piridilabenzimidazóis (por exemplo, compostos 3 a 6) foi inferior à de benzimidazol e comparável à de tolitriazol comumente usado.
[00117] Mediante a adição de lixívia, a taxa de corrosão de cobre aumentou apenas levemente na presença de (1H-benzo[d]imidazol-2- il)(fenil)metanol e (5-metil-1H-benzo[d]imidazol-2-il)(fenil)metanol. A taxa de corrosão de cobre na presença de 2-(2-piridil)benzimidazol permaneceu praticamente constante na presença de lixívia (0,018 mpy versus 0,030 mpy). Foi constatado surpreendente e inesperadamente que a proximidade do nitrogênio piridila ao anel de benzimidazol afetou a taxa de corrosão. Por exemplo, foi observado que anéis de piridal substituídos nas posições 3- e 4- produziram taxas de corrosão de cobre mais altas do que 2-(2- piridil)benzimidazóis na presença de lixívia (compostos 5 e 6 versus compostos 3 e 4). Os dados sugerem que o nitrogênio 2-piridila pode transmitir maior estabilidade de película devido à 1,2-quelação com a superfície de metal. Em geral, os compostos 1 a 6 fornecem maior proteção contra corrosão para o cobre do que o benzimidazol. Os compostos 1 a 3 fornecem maior proteção contra corrosão para o cobre do que tolitriazol comumente usado na presença de lixívia.
[00118] Esse Exemplo ilustra que um método da presente invenção pode reduzir significativamente a taxa de corrosão de cobre. Além disso, esse Exemplo ilustra que um método da presente invenção pode fornece maior resistência à corrosão na presença de um composto de halogênio de oxidação do que inibidores de corrosão comumente usados, tal como o tolitriazol.
Figure img0033
[00119] Todas as referências, incluindo as publicações, os Pedidos de Patente e as Patentes mencionados no presente documento, são incorporadas aqui a título de referência na mesma medida como se cada referência estivesse individual e especificamente indicada como incorporada a título de referência e fosse apresentada em sua totalidade no presente documento.
[00120] O uso dos termos "um" e "uma" e "o" e "a” e "pelo menos um" e referentes similares no contexto da descrição da invenção (especialmente no contexto das reivindicações a seguir) deve ser interpretado para cobrir tanto o singular quanto o plural, a menos que indicado de outro modo no presente documento ou claramente contradito pelo contexto. O uso do termo "pelo menos um" seguido por uma lista de um ou mais itens (por exemplo, “pelo menos um dentre A e B”) deve ser interpretado com o significado de um item selecionado a partir dos itens listados (A ou B) ou qualquer combinação de dois ou mais dentre os itens listados (A e B), a menos que indicado de outro modo no presente documento ou claramente contradito pelo contexto. Os termos “que compreende”, “que tem”, “que inclui” e “que contém” devem ser interpretados como termos indeterminados (isto é, que significam “que inclui, porém, sem limitação,”) a menos que observado de outra forma. A enumeração de faixas de valores no presente documento é meramente destinada a servir como um método de abreviação de referência individual a cada valor separado que esteja dentro da faixa, a menos que indicado de outra forma no presente documento, e cada valor separado é incorporado ao relatório descritivo como se o mesmo fosse enumerado individualmente no presente documento. Todos os métodos descritos no presente documento podem ser realizados em qualquer ordem adequada a menos que indicado de outra forma no presente documento ou contradito claramente de outra forma pelo contexto. O uso de qualquer e todos os exemplos, ou linguagem exemplificativa (por exemplo, “tal como”), fornecidos no presente documento é destinado meramente a esclarecer melhor a invenção e não representa uma limitação no escopo da invenção a menos que reivindicado de outra forma. Nenhuma linguagem no relatório descritivo deve ser interpretada como indicativa de qualquer elemento não reivindicado como essencial à prática da invenção.
[00121] As modalidades preferenciais desta invenção são descritas no presente documento, incluindo o melhor modo conhecido para os inventores para executar a invenção. Variações dessas modalidades preferenciais podem se tornar evidentes para as pessoas de habilidade comum na técnica mediante a leitura da descrição acima. Os inventores preveem que técnicos qualificados empreguem tais variações conforme apropriado, e os inventores pretendem que a invenção seja praticada de forma diferente da descrita especificamente no presente documento. Consequentemente, esta invenção inclui todas as modificações e equivalentes da matéria enumerada nas reivindicações anexas à mesma, conforme permitido pela lei vigente. Além disso, qualquer combinação dos elementos descritos acima em todas as suas possíveis variações é abrangida pela invenção a menos que indicado de outra forma no presente documento ou contradito claramente de outra forma pelo contexto.

Claims (20)

1. Método para inibir a corrosão de uma superfície de metal em contato com um sistema aquoso, sendo que o método é caracterizado pelo fato de que compreende adicionar ao sistema aquoso um composto de fórmula (I),
Figure img0034
em que cada X é igual ou diferente e é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, alquila halossubstituída, amino, aminoalquila, ciano, alcóxi, hidroxila, tiol, alquiltio, carbonila, nitro, fosforila, fosfonila e sulfonila; Y é selecionado a partir do grupo que consiste em hidroxila, halogênio, oxo, alcóxi, tiol, alquiltio, amino, hidrogênio e aminoalquila; Z é selecionado a partir do grupo que consiste em carbono e nitrogênio, em que Y não está presente quando Z é nitrogênio; R1 é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, deutério, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, hidroxila e carbonila; R2 e R3 são selecionados a partir do grupo que consiste em hidrogênio, halogênio, hidroxila, arila, fenila, heteroarila, benzila, alquil- heteroarila, carbonila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, C3-C8 cicloalquila e C1-C16 alquila; e m é 1, 2, 3 ou 4; ou um sal do mesmo; e o sistema aquoso compreende um composto de halogênio de oxidação e possui um pH de cerca de 6 a cerca de 12.
2. Método de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que Z é carbono.
3. Método de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que o composto de fórmula (I) é
Figure img0035
4. Método de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que o composto de fórmula (I) é
Figure img0036
H OH 0^0 Me , em que Me é metila.
5. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado pelo fato de que a superfície de metal compreende cobre ou uma liga de cobre.
6. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 5, caracterizado pelo fato de que o sistema aquoso é um sistema de água de resfriamento.
7. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado pelo fato de que o metal tem uma taxa de corrosão menor do que cerca de 0,1 mpy.
8. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 7, caracterizado pelo fato de que o sistema aquoso possui um pH de cerca de 7 a cerca de 12.
9. Método para inibir a corrosão de uma superfície de metal em contato com um sistema aquoso que compreende um composto de halogênio de oxidação, sendo que o método é caracterizado pelo fato de que compreende adicionar ao sistema aquoso um composto de fórmula (II),
Figure img0037
em que cada um dentre X e Y é igual ou diferente e é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, alquila halossubstituída, amino, aminoalquila, ciano, alcóxi, hidroxila, tiol, alquiltio, carbonila, nitro, fosforila, fosfonila e sulfonila; R é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, deutério, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, hidroxila e carbonila; m é 1, 2, 3 ou 4; e n é 1, 2, 3 ou 4; ou um sal do mesmo; e o sistema aquoso possui um pH de cerca de 6 a cerca de 12.
10. Método de acordo com a reivindicação 9, caracterizado pelo fato de que o composto de fórmula (II) é
Figure img0038
11. Método de acordo com a reivindicação 9, caracterizado pelo fato de que o composto de fórmula (II) é
Figure img0039
12. Método de acordo com a reivindicação 9, caracterizado pelo fato de que o composto de fórmula (II) é
Figure img0040
13. Método de acordo com a reivindicação 9, caracterizado pelo fato de que o composto de fórmula (II) é
Figure img0041
14. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 9 a 13, caracterizado pelo fato de que a superfície de metal compreende cobre ou uma liga de cobre.
15. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 9 a 14, caracterizado pelo fato de que o sistema aquoso é um sistema de água de resfriamento.
16. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 9 a 15, caracterizado pelo fato de que o composto de fórmula (II) é adicionado ao sistema aquoso em uma dosagem de cerca de 0,01 ppm a cerca de 100 ppm.
17. Método de acordo com a reivindicação 9, caracterizado pelo fato de que o metal tem uma taxa de corrosão de cerca de 0,1 mpy ou menos.
18. Formulação para inibir a corrosão de uma superfície de metal em contato com um sistema aquoso que compreende um composto de halogênio de oxidação e possui um pH de cerca de 6 a cerca de 12, sendo que a formulação é caracterizada pelo fato de que compreende um composto de fórmula (I) ou (II), um ácido fosfórico e um oligômero fosfinossuccínico; em que a fórmula (I) é
Figure img0042
em que cada X é igual ou diferente e é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, alquila halossubstituída, amino, aminoalquila, ciano, alcóxi, hidroxila, tiol, alquiltio, carbonila, nitro, fosforila, fosfonila e sulfonila; Y é selecionado a partir do grupo que consiste em hidroxila, halogênio, oxo, alcóxi, tiol, alquiltio, amino, hidrogênio e aminoalquila; Z é selecionado a partir do grupo que consiste em carbono e nitrogênio, em que Y não está presente quando Z é nitrogênio; R1 é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, deutério, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, hidroxila e carbonila; R2 e R3 são selecionados a partir do grupo que consiste em hidrogênio, halogênio, hidroxila, arila, fenila, heteroarila, benzila, alquil- heteroarila, carbonila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, C3-C8 cicloalquila e C1-C16 alquila; e m é 1, 2, 3 ou 4; ou um sal do mesmo; e a fórmula (II) é
Figure img0043
em que cada um dentre X e Y é igual ou diferente e é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, alquila halossubstituída, amino, aminoalquila, ciano, alcóxi, hidroxila, tiol, alquiltio, carbonila, nitro, fosforila, fosfonila e sulfonila; R é selecionado a partir do grupo que consiste em hidrogênio, deutério, C1-C16 alquila, arila, C2-C16 alquenila, C2-C16 alquinila, heteroarila, C3-C8 cicloalquila, benzila, alquil-heteroarila, halogênio, hidroxila e carbonila; m é 1, 2, 3 ou 4; e n é 1, 2, 3 ou 4; ou um sal do mesmo.
19. Formulação de acordo com a reivindicação 18, caracterizada pelo fato de que compreende adicionalmente um composto orgânico fluorescente.
20. Formulação de acordo com a reivindicação 19, caracterizada pelo fato de que o composto orgânico fluorescente é selecionado a partir do grupo que consiste em Rodamina, um derivado de Rodamina, um corante de acridina, fluoresceína, um derivado de fluoresceína e combinações dos mesmos.
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10836916B2 (en) * 2015-11-20 2020-11-17 Hexion Inc. Chemical products for surface protection
CA3030982A1 (en) 2016-07-19 2018-01-25 Ecolab Usa Inc. Control of industrial water treatment via digital imaging
IL264327B (en) 2016-07-19 2022-09-01 Ecolab Usa Inc Control of industrial water treatment using digital imaging
US11149202B1 (en) 2016-12-13 2021-10-19 Ecolab Usa Inc. Tetracarboxylic acid combinations for corrosion inhibition
KR102653426B1 (ko) * 2017-11-13 2024-03-29 에코랍 유에스에이 인코퍼레이티드 2-치환된 벤즈이미다졸의 대규모 생산을 위한 신규한 단일반응기 균질 방법
JP7337807B2 (ja) * 2018-01-03 2023-09-04 エコラボ ユーエスエー インコーポレイティド 水中での金属腐食を低減するためのプロセスおよび方法
EP3735398B1 (en) * 2018-01-03 2022-02-16 Ecolab Usa Inc. Benzotriazole derivatives as corrosion inhibitors
CA3091433A1 (en) * 2018-03-01 2019-09-06 Ecolab Usa Inc. Method of measuring benzimidazole-based compounds in water
US11981817B2 (en) 2019-02-28 2024-05-14 Ecolab Usa Inc. Hydrogen sulfide scavengers for asphalt
US10844282B2 (en) * 2019-03-11 2020-11-24 King Fahd University Of Petroleum And Minerals Corrosion inhibiting formulations and uses thereof
EP4110890A1 (en) 2020-02-28 2023-01-04 Basf Se Automatic dishwashing composition comprising at least one imidazole-based compound
EP4127268A1 (en) * 2020-03-27 2023-02-08 Ecolab Usa Inc. Galvanized metal corrosion inhibitor compositions and methods of use
CA3225125A1 (en) * 2021-08-02 2023-02-09 Pradeep CHERUKU One-pot homogeneous process for the large scale manufacture of 2-substituted benzimidazoles
US20230416128A1 (en) 2022-06-23 2023-12-28 Ecolab Usa Inc. Method of Inhibiting Corrosion of a Metal in an Industrial Water System

Family Cites Families (68)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3408307A (en) 1966-02-10 1968-10-29 Nalco Chemical Co Inhibiting corrosion of copper with tetrazoles
GB1207855A (en) 1967-10-09 1970-10-07 Agfa Gevaert Nv Photographic antifoggants
GB1250142A (pt) * 1970-01-12 1971-10-20
JPS4921022B1 (pt) 1970-10-13 1974-05-29
CA1083335A (en) * 1976-05-10 1980-08-12 Chemed Corporation Composition and method of inhibiting corrosion
CH623600A5 (pt) 1976-07-16 1981-06-15 Ciba Geigy Ag
JPS542235A (en) 1977-06-08 1979-01-09 Nitto Chem Ind Co Ltd Corrosion inhibitor
US4246030A (en) * 1978-12-08 1981-01-20 The Mogul Corporation Corrosion inhibiting compositions and the process for using same
US4306986A (en) 1980-11-03 1981-12-22 Olin Corporation Selected poly(oxyalkylated) pyrazoles and their use as corrosion inhibitors
US4395294A (en) 1981-08-17 1983-07-26 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Copper corrosion inhibitor
JPS59196804A (ja) 1983-04-25 1984-11-08 Kurita Water Ind Ltd 用水系の障害防止剤
US4649025A (en) 1985-09-16 1987-03-10 W. R. Grace & Co. Anti-corrosion composition
DE3540376A1 (de) 1985-11-14 1987-05-21 Bayer Ag Verfahren zur inhibierung der wasserstoffinduzierten korrosion von metallischen werkstoffen
US4683035A (en) 1986-02-03 1987-07-28 Nalco Chemical Company Method for in situ corrosion detection using electrochemically active compounds
JPS63194799A (ja) * 1987-02-05 1988-08-11 Hakutou Kagaku Kk 多目的多機能水処理剤
US5382367A (en) * 1987-08-07 1995-01-17 Zinkan Enterprises Co. Method of treating cooling water systems
US5082611A (en) 1988-07-15 1992-01-21 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for spinning and drawing monofilaments with high tenacity and high tensile uniformity
WO1990010732A1 (en) 1989-03-09 1990-09-20 Ici Australia Operations Proprietary Limited Benzotriazole based corrosion inhibiting compositions
US5746947A (en) 1990-06-20 1998-05-05 Calgon Corporation Alkylbenzotriazole compositions and the use thereof as copper and copper alloy corrosion inhibitors
US5156769A (en) 1990-06-20 1992-10-20 Calgon Corporation Phenyl mercaptotetrazole/tolyltriazole corrosion inhibiting compositions
US5128065A (en) 1990-10-03 1992-07-07 Betz Laboratories, Inc. Method for the inhibition of corrosion of copper-bearing metallurgies
TW217426B (pt) 1992-01-08 1993-12-11 Mekku Kk
JPH0763713B2 (ja) * 1992-03-30 1995-07-12 伯東株式会社 水系処理方法
EP0634460A2 (en) 1993-07-13 1995-01-18 ALBRIGHT & WILSON UK LIMITED Anticorrosive pigments
US5468410A (en) 1993-10-14 1995-11-21 Angevaare; Petrus A. Purine class compounds in detergent compositions
US5455220A (en) 1993-12-03 1995-10-03 Caudill Seed Company, Inc. Concentrated plant growth promoter composition comprising N-6-benzyladenine, an alcohol, and a metal hydroxide
US5744424A (en) 1993-12-03 1998-04-28 Caudill Seed Company, Inc. Plant growth promoter composition comprising N-6-benzyladenine, an alcohol, and a metal hydroxide
ATE178953T1 (de) 1994-12-23 1999-04-15 Cookson Group Plc Verfahren zur korrosionshemmung von kupfer- und kupferlegierungen
MY129257A (en) 1995-03-21 2007-03-30 Betz Laboratories Methods of inhibiting corrosion using halo-benzotriazoles
WO1997039610A1 (en) 1996-04-18 1997-10-23 International Business Machines Corporation Organic-metallic composite coating for copper surface protection
US6203719B1 (en) 1997-01-10 2001-03-20 Ashland Inc. Extended engine coolant lifetime through polymeric polycarboxylate secondary silicate stabilization
US5874026A (en) 1997-12-01 1999-02-23 Calgon Corporation Method of forming corrosion inhibiting films with hydrogenated benzotriazole derivatives
ATE402168T1 (de) 1997-12-31 2008-08-15 Univ Rutgers Heterocyclische topoisomerase toxine
US6379587B1 (en) 1999-05-03 2002-04-30 Betzdearborn Inc. Inhibition of corrosion in aqueous systems
US6585933B1 (en) * 1999-05-03 2003-07-01 Betzdearborn, Inc. Method and composition for inhibiting corrosion in aqueous systems
US6103144A (en) 1999-04-12 2000-08-15 Betzdearborn Inc. Halogen resistant copper corrosion inhibitors
CZ20013966A3 (cs) 1999-05-03 2002-05-15 Betzdearborn Inc. Způsob a kompozice k inhibici koroze ve vodných systémech
DE19920936A1 (de) 1999-05-07 2000-11-09 Basf Ag Heterozyklisch substituierte Benzimidazole, deren Herstellung und Anwendung
WO2002000965A1 (fr) 2000-06-28 2002-01-03 Koito, Tatsuya Agent anticorrosion
US6348440B1 (en) 2000-08-02 2002-02-19 Betzdearborn Inc. Method of cleaning a metal surface
JP4647073B2 (ja) 2000-09-29 2011-03-09 四国化成工業株式会社 銅及び銅合金のはんだ付け方法
US6572789B1 (en) * 2001-04-02 2003-06-03 Ondeo Nalco Company Corrosion inhibitors for aqueous systems
JP2002323741A (ja) 2001-04-25 2002-11-08 Konica Corp ハロゲン化銀カラー写真感光材料用の安定液及びハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法
CA2398425A1 (en) 2001-09-04 2003-03-04 Rohm And Haas Company Process for inhibiting metallic corrosion in aqueous systems
CA2398423C (en) 2001-09-04 2009-11-10 Rohm And Haas Company Corrosion inhibiting compositions
WO2005075706A1 (ja) 2004-02-05 2005-08-18 Nippon Mining & Metals Co., Ltd. 金属の表面処理剤
KR20060024478A (ko) 2004-09-13 2006-03-17 주식회사 동진쎄미켐 포토레지스트 박리액 조성물
WO2009013987A1 (ja) 2007-07-26 2009-01-29 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 洗浄防食用組成物および半導体素子または表示素子の製造方法
KR101488265B1 (ko) 2007-09-28 2015-02-02 삼성디스플레이 주식회사 박리 조성물 및 박리 방법
US7972655B2 (en) 2007-11-21 2011-07-05 Enthone Inc. Anti-tarnish coatings
KR101752684B1 (ko) 2008-10-21 2017-07-04 엔테그리스, 아이엔씨. 구리 세척 및 보호 조성물
US8470238B2 (en) 2008-11-20 2013-06-25 Nalco Company Composition and method for controlling copper discharge and erosion of copper alloys in industrial systems
US8361237B2 (en) 2008-12-17 2013-01-29 Air Products And Chemicals, Inc. Wet clean compositions for CoWP and porous dielectrics
US20100163469A1 (en) * 2008-12-26 2010-07-01 Zhaoyang Wan Control system for monitoring localized corrosion in an industrial water system
CA2777565C (en) 2009-10-13 2019-06-18 Ligand Pharmaceuticals Inc. Hematopoietic growth factor mimetic diphenylamine small molecule compounds and their uses
US7828908B1 (en) 2010-03-31 2010-11-09 Ecolab USA, Inc. Acid cleaning and corrosion inhibiting compositions comprising gluconic acid
JP5789916B2 (ja) * 2010-03-31 2015-10-07 栗田工業株式会社 孔食抑制剤及び孔食抑制方法
JP5141792B2 (ja) 2010-06-29 2013-02-13 日立化成工業株式会社 Ｃｍｐ研磨液及び研磨方法
CA2815720C (en) 2010-10-27 2019-01-22 Chemetall Gmbh Aqueous composition for pretreating a metallic surface before further coating or for treating said surface
JP2012201966A (ja) * 2011-03-28 2012-10-22 Kurita Water Ind Ltd 銅系部材の腐食抑制方法及び腐食抑制剤
JP6051632B2 (ja) 2011-07-20 2016-12-27 日立化成株式会社 研磨剤及び基板の研磨方法
GB2496898B (en) 2011-11-25 2020-10-28 Petroliam Nasional Berhad Petronas Corrosion inhibition
WO2013138278A1 (en) 2012-03-12 2013-09-19 Advanced Technology Materials, Inc. Copper cleaning and protection formulations
US20140011722A1 (en) * 2012-07-04 2014-01-09 Andrew Garner Use of cellulose nanocrystals as a corrosion inhibitor
KR101454967B1 (ko) * 2012-08-08 2014-11-03 주식회사 에이스테크놀로지 표면 처리제 및 표면 처리 방법
CN103436888B (zh) 2013-08-23 2015-07-01 南京理工大学 含苯并咪唑高温铜缓蚀剂及其制备方法
CN105793471B (zh) 2013-12-02 2019-11-05 艺康美国股份有限公司 基于四唑的腐蚀抑制剂
CN103641248B (zh) 2013-12-27 2015-01-21 长沙矿冶研究院有限责任公司 一种复合阻垢缓蚀剂及其在循环冷却水***中的应用

Also Published As

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CN107787380B (zh) 2020-10-30
JP7053914B2 (ja) 2022-04-12

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