BR112012024695A2 - método de produção de placa de impressão litográfica - Google Patents

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Abstract

MÉTODO DE PRODUÇÃO DE PLACA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA. A invenção está relacionada a um método de produção de um precursor da placa de impressão litográfica capaz de se submeter a exposição por radiação UV, através de um fotolito e desenvolvimento da impressão, apresentando boas propriedades de durabilidade e continuidade, com pouca formação de resíduos durante a impressão, e com uma boa propriedade de adesão durante a aplicação de vácuo ao fotolito. Método de produção de uma placa de impressão litográfica compreendendo (1) preparação de um precursor da placa de impressão litográfica que apresenta uma camada de registro de imagem capaz de formar uma imagem com um laser semicondutor, emitindo um raio infravermelho com comprimento de onda de 760 a 1.200 nm, que compreende um suporte e uma camada de registro de imagem contendo um corante de cianina, um sal de difenil iodônio, que pode apresentar um substituinte no grupo fenila, um composto radical polimerizável, e um polímero de partículas finas com cadeia de polioxialquileno em sua cadeia lateral nessa ordem, (2) colocação do fotolito no precursor da placa de impressão litográfica e reduzir a pressão de forma que o fotolito seja firmemente aderido ao precursor, (3) condução de exposição UV, e (4) condução da impressão.

Description

“MÉTODO DE PRODUÇÃO DE PLACA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA” Campo técnico A presente invenção está relacionada a um método de produção de placa de im- 1 pressão litográfica. Mais particularmente, está relacionada a um método onde o precursor da placade impressão litográfica é submetido à exposição UV através de um fotolito e ao de- " senvolvimento da impressão. Antecedentes da invenção Em geral, uma placa de impressão litográfica é composta de uma área lipofílica de imagem que retém a tinta e uma área hidrofílica que aceita água corrente no processo de impressão. À impressão litográfica é um método de impressão que utiliza as naturezas da água e da tinta óleo de não se misturarem, compreendendo uma área lipofílica da placa de impressão litográfica que corresponde a uma área receptiva da tinta, e uma área hidrofílica que receberá a água (área na qual a tinta não é aderida), dessa forma produzindo uma dife- rença na aderência da tinta na superfície da placa de impressão litográfica, depositando a tinta somente na área da imagem, e então transferindo a tinta para o material de impressão, ' por exemplo, papel.
Para produzir a placa de impressão litográfica, um precursor da placa de impressão ' litográfica (placa PS), compreendendo um suporte provido de uma camada hidrofílica, reves- í tido com uma camada de resina fotossensível lipofílica (camada de registro da imagem), é utilizado. Especificamente, a placa PS é exposta através de uma máscara, por exemplo, um : fotolito, e então submetida ao processamento do desenvolvimento, por exemplo, com um agente alcalino para remover a camada de registro correspondente à área sem imagem, dissolvendo enquanto libera a camada de registro de imagem correspondente à área de imagem, obtendo dessa forma a placa de impressão litográfica.
Atualmente, devido aos recentes progressos no campo técnico, a placa de impres- são litográfica pode ser obtida através de uma tecnologia CTP (computer-to-plate). Especifi- camente, um precursor da placa de impressão litográfica é submetido à exposição a laser ou diodo de laser sem utilizar um fotolito e obtendo uma placa de impressão litográfica.
Com a evolução descrita acima, a questão do precursor da placa de impressão lito- gráfica foi transferida para os melhoramentos, por exemplo, a propriedade de formação da imagem correspondente à tecnologia CTP, propriedade de impressão ou física. Com o cres- cente questionamento sobre o meio ambiente, outra questão é o aspecto ambiental do des- carte líquido que acompanha o tratamento úmido, aumentando a importância do processa- mento do desenvolvimento.
Em resposta ao problema ambiental, tem sido procurada a simplificação do desen- volvimento ou da produção da placa ou não processamento. Como um método simples de . produção da placa, é utilizado um método denominado “desenvolvimento da impressão”.
Especificamente, de acordo com o método, após exposição de um precursor da placa de impressão litográfica, ele é montada como se estivesse em uma máquina de impressão sem o desenvolvimento convencional, e a remoção da camada de registro de imagem é feita em . um estágio inicial do processo de impressão. Na simplificação da operação de produção da placa conforme descrito acima, um ' sistema utilizando um precursor da placa de impressão litográfica capaz de ser manuseado em uma sala com exposição a luz, ou sob uma luz amarela, e com uma fonte de luz para facilitar o trabalho. Logo, como uma fonte luminosa, um semicondutor laser emitindo um raío infravermelho, com comprimento de onda de 760 a 1.200 é utilizado. Um laser UV também é utilizado.
Embora novas tecnologias sejam descobertas, conforme acima, um método de pro- dução da placa onde é submetida à exposição UV através de uma máscara, por exemplo, um fotolito, e então prosseguindo o desenvolvimento, por exemplo, com um agente alcalino, ainda permanece no mercado. Logo, existe uma necessidade no mercado de um precursor da placade impressão litográfica que seja capaz de se submeter a uma exposição com um ' laser semicondutor emitindo um raio infravermelho, com um comprimento de onda de 760 a
1.200 nm, mas também a uma exposição UV através de uma máscara, por exemplo, um ' fotolito e desenvolvimento da impressão. 1 Um precursor da placa de impressão, que é adequado para exposição com um la- sersemicondutor de raios infravermelhos, e é capaz de se submeter ao desenvolvimento da ' impressão, por exemplo, um precursor da placa de impressão litográfica fornecido em um suporte hidrofílico, uma camada de registro de imagem (camada termossensível) contendo um corante de absorção de infravermelho, um iniciador da polimerização, um composto po- limerizável e uma microcápsula que apresenta um composto polimerizável encapsulado, ou uma partícula de polímero que apresenta um grupo polimerizável são descritos nos docu- mentos 1 e 2 da Patente. Entretanto, o precursor da placa de impressão litográfica apresen- ta durabilidade da impressão insuficiente apesar da exposição com um laser semicondutor que emite raios infravermelhos, e também apresenta propriedade de desenvolvimento da impressão inadequada. Além disso, não forma uma imagem pela exposição UV através de uma máscara, por exemplo, um fotolito.
Por outro lado, sabe-se que embora os precursores da placa de impressão litográfi- ca sejam submetidos à exposição UV através de uma máscara, por exemplo, um fotolito, e sejam capazes de se submeter ao desenvolvimento da impressão, eles não formam uma imagem pela exposição com um laser semicondutor que emite raios infravermelhos, e a du- —rabilidadeda impressão é insuficiente (Documentos 3 a 5 da Patente).
Além disso, no caso da exposição UV através de uma máscara, por exemplo, um fotolito, quando o ar está presente entre a placa PS e o fotolito, a durabilidade da impressão é prejudicada devido a influência do oxigênio, logo, é necessário a utilização de vácuo (re- dução da pressão).
Acredita-se que para aumentar a propriedade de adesão de um precursor da placa 7 de impressão litográfica a um fotolito no vácuo, uma camada plana construída de projeções independentes é fornecida de preferência na camada de registro de imagem.
' Como um método de formação de uma camada plana, por exemplo, um método de pulverização de água contendo um polímero e secagem é conhecido (documento 6 da Pa- tente). Um método de adição de partículas polimérica finas, por exemplo, polietileno em uma camada de registro de imagem, ou uma camada superior da camada de registro de imagem também é conhecido (documento 7 da Patente).
Entretanto, o primeiro método apresenta um problema, a medida que a camada de registro de imagem no precursor da placa de impressão litográfica do tipo de desenvolvi- mento com impressão é relativamente hidrofílica em comparação com o precursor da placa de impressão litográfica do tipo de desenvolvimento alcalino, a solução penetra na camada de registro de imagem. O segundo método apresenta problemas na impressão, tais como : depósito de partículas finas no cilindro de água corrente, no cilindro de tinta ou semelhante após a impressão, sendo transferido para o material impresso.
: Como um precursor da placa de impressão litográfica que resolve estes problemas, ' um precursor contendo um polimero que apresenta um polioxialquileno em sua cadeia late- ral euma camada de registro de imagem é conhecido, contudo não apresenta durabilidade , de impressão suficiente tanto na exposição UV como por raios infravermelhos (documento 8 da Patente).
Documentos anteriores : Documentos da patente Documento 1 da Patente: JP-A-2001-277740 Documento 2 da Patente: JP-A-2001-277742 Documento 3 da Patente: JP-A-2000-39711 Documento 4 da Patente: JP-A-4 -166934 Documento 5 da Patente: JP-T-10-500915 Documento 6 da Patente: JP-A-58-182636 Documento 7 da Patente: JP-B-61-8421 Documento 6 da Patente: Publicação de Patente U,S. No. 2003/0064318 Descrição da invenção Problemas a serem resolvidos A presente invenção tem o objetivo de oferecer um método de produção de uma placa, que compreende a exposição UV de um precursor de uma placa de impressão litográ- . fica, que exibe alta durabilidade de impressão, utilizando um laser semicondutor que emite raios infravermelhos através de um fotolito, onde as propriedades de durabilidade e desen- volvimento da impressão são boas, ocorrendo pouca formação de resíduos, e com boa ade- são a um fotolito a vácuo. 7 Forma de resolver os problemas Como resultado de intensas pesquisas, os inventores descobriram que um precur- T sor da placa de impressão litográfica onde um corante de cianina é utilizado como um coran- te de absorção de raios infravermelhos, e um sal de difenil iodônio ou trifenil iodônio é utili- zado como um iniciador da polimerização, e partículas finas poliméricas apresentando uma cadeia de polioxialquileno são introduzidas em uma camada de registro de imagem, permi- tindo que a placa formada apresente alta durabilidade de impressão através de qualquer exposição com um laser semicondutor emitindo um raio infravermelho e exposição UV atra- vés de um fotolito, e exibindo uma boa propriedade de desenvolvimento de impressão para completar a presente invenção.
Especificamente, a presente invenção inclui o seguinte:
1. Um método de produção de uma placa de impressão litográfica compreendendo Ú (1) preparação de um precursor da placa de impressão litográfica que apresenta uma cama- da de registro de imagem capaz de formar uma imagem com um laser semicondutor, emi- ' tindo um raio infravermelho com comprimento de onda de 760 a 1.200 nm, que compreende 7 um suporte e uma camada de registro de imagem contendo um corante de cianina, um sal dedifeniliodônio ou trifenil iodônio, que pode apresentar um substituinte no grupo fenila, um Í composto radical polimerizável, e um polímero de partículas finas com cadeia de polioxial- quileno em sua cadeia lateral nessa ordem, (2) colocação do fotolito no precursor da placa de impressão litográfica e reduzir a pressão de forma que o fotolito seja firmemente aderido ao precursor, (3) condução da exposição UV, e (4) montagem do precursor da placa de im- pressão litográfica exposto em um cilindro de impressão e remoção da água e tinta da área de não imagem da camada de registro de imagem.
2. Método de produção de uma placa de impressão litográfica, conforme menciona- do no item 1 acima, onde uma camada de bloqueio de oxigênio é fornecida na camada de registro de imagem.
3. Método de produção de uma placa de impressão litográfica, conforme menciona- do no item 2 acima, onde a camada de bloqueio de oxigênio contém uma resina hidrossolú- vel, e no mínimo uma camada selecionada de um polímero de partículas finas que apresen- ta uma cadeia de polioxialquileno em sua cadeia lateral, partículas inorgânicas finas, esféri- cas e uma partícula inorgânica fina estratiforme.
4. Método de produção de uma placa de impressão litográfica, conforme menciona- do em qualquer um dos itens de 1 a 3 acima, onde as partículas polimérica finas o polímero . de partículas finas que apresenta uma cadeia de polioxialquileno em sua cadeia lateral é um microgel.
5. Método de produção de uma placa de impressão litográfica, conforme menciona- do no item 3 acima, onde a partícula inorgânica fina esférica é uma partícula fina de sílica, " 6. Método de produção de uma placa de impressão litográfica, conforme menciona- donoitem3 acima, onde partícula inorgânica fina estratiforme é a mica. 7 7. Método de impressão de uma placa de impressão litográfica compreendendo (1) preparação de um precursor da placa de impressão litográfica que compreende um suporte e uma camada de registro de imagem capaz de formar uma imagem com um laser semi- condutor, emitindo um raio infravermelho com comprimento de onda de 760 a 1.200 nm, contendo um corante de cianina, um sal de difenil iodônio ou trifenil iodônio, que pode apre- sentar um substituinte no grupo fenila, um composto radical polimerizável, e um polímero de partículas finas com cadeia de polioxialquileno em sua cadeia lateral nessa ordem, (2) colo- cação do fotolito no precursor da placa de impressão litográfica e reduzir a pressão de forma que o fotolito seja fimemente aderido ao precursor, (3) condução da exposição UV, e (4) montagem do precursor da placa de impressão litográfica exposto em um cilindro de im- ' pressão e remoção da área de não imagem da camada de registro de imagem com no mi- nimo água corrente e tinta, e (5) condução para impressão, ' Vantagem da invenção 7 De acordo com a presente invenção, é descrito um método de produção da placa compreendendo a exposição através de um fotolito e condução para impressão, com propri- : edades de durabilidade e desenvolvimento boas, ocorrendo pouca formação de resíduos e apresentando uma boa propriedade de adesão do fotolito a vácuo.
Forma de realizar a invenção Precursor da placa de impressão litográfica O precursor da placa de impressão litográfica para uso na invenção compreende um suporte e uma camada de registro de imagem nessa ordem, e também compreende uma camada de bloqueio de oxigênio, se desejado. Pode compreender também uma cama- da interna entre o suporte e a camada de registro de imagem em alguns casos.
Camada de registro de imagem Os componentes constituintes da camada de registro de imagem serão descritos detalhadamente abaixo.
A camada de registro de imagem, de acordo com a invenção, é uma camada capaz de ser submetida à impressão, utilizando a formação da imagem por polimerização através de radicais livres, e contém um corante de cianina, um sal de difenil iodônio ou sal de trifenil iodônio, pode apresentar um substituinte do grupo fenila, um composto de radical polimeri- Zável, e polímero de partículas finas que apresenta uma cadeia de polioxialquileno em sua cadeia lateral.
Cada componente que é incorporado na camada de registro de imagem é descrito a seguir.
Polímero de partículas finas que apresentam cadeia de polioxialquileno em sua ca- ' deia lateral O polímero de partículas finas que apresenta uma cadeia de polioxialquileno em MN sua cadeia lateral, inclui, por exemplo, um látex obtido por polimerização através de radicais livres e um microgel obtido por polimerização interfacial.
O polímero de partículas finas que apresenta uma cadeia de polioxialquileno em sua cadeia lateral, de acordo com a invenção, (a partir de agora, denominado como com- —postode polímero específico), apresenta tamanho médio da partícula de preferência na fai- xa de 50 a 2.000 nm, com maior preferência na faixa de 60 a 1.000 nm, e ainda com maior preferência na faixa de 70 a 300 m.
O conteúdo do composto de polímero específico, de acordo com a invenção, está de preferência na faixa de 10 a 90% em peso, com maior preferência na faixa de 20 a 80% em peso, e ainda com maior preferência na faixa de 15 a 70% em peso, baseado no conte- B údo sólido total da camada de registro de imagem.
Na faixa descrita acima, boas proprieda- des de durabilidade, desenvolvimento da impressão e adesão a podem ser obtidas. " O grupo oxialquileno que é uma unidade de repetição da cadeia de polioxialquileno Í descrita acima, é de preferência um grupo oxialquileno apresentando de 2 a 6 átomos de carbono, e com maior preferência um grupo de oxietileno ou um oxipropileno.
Uma cadeia " de polioxialquileno pode conter tanto um grupo de oxietileno como um grupo de oxipropile- no, Dentre estes grupos, o de oxietileno é o de preferência.
Um número de repetições do grupo de oxialquileno na cadeia de óxido de polialqui- leno está de preferência na faixa de 10 a 120, com maior preferência na faixa de 20 a 70, e aindacom maior preferência na faixa de 20 a 50. Na faixa de 10 a 120 repetições do grupo oxialquileno, boas propriedades de im- pressão e de durabilidade são obtidas.
O microgel apresenta maior preferência do que o látex obtido por polimerização através de radicais, do ponto de vista da propriedade de desenvolvimento da impressão.
Microgel obtido por polimerização interfacial O microgel, de acordo com a invenção, pode ser produzido pela dissolução de um composto de isocianato polifuncional, que apresenta dois ou mais grupos de isocianato em um solvente hidrossolúvel, emulsificando e dispersando a solução resultante em uma solu- ção aquosa contendo um derivado de poliéter, que apresenta um grupo amino terminal ou — hidroxila representado pela fórmula (1) demonstrada abaixo, e então removendo o solvente das partículas oleosas na dispersão da emulsão.
De forma alternada, pode ser produzido pela dissolução de no mínimo um tipo de isocianato, um composto de isocianato que é um produto da reação de um composto de isocianato altamente funcional ou difuncional, com um derivado de poliéter que apresenta um grupo amino terminal ou grupo hidroxila representado pela fórmula (1) demonstrada ” abaixo em um solvente hidrossolúvel, emulsificando e dispersando a solução resultante em uma solução aquosa, e entãoremovendo o solvente das partículas oleosas na dispersão da 7 emulsão.
No microgel, uma poliuréia ou uréia/poliuretano obtido através de uma reação de polimerização entre o composto de isocianato e o derivado de poliéter, que apresenta um grupo amino terminal ou grupo hidroxila representando pela fórmula (1) demonstrada abaixo, constituiomaterial de formação. Fórmula (1) RO Á1—-o +bIa—y n m Na fórmula (1), X representa um grupo de ligação, A representa uma ligação sim- i ples, um grupo arileno ou um grupo alquileno, L representa um grupo alquileno apresentan- . 15 dode2a6 átomos de carbono, R representa um grupo orgânico que não apresenta hidro- gênio ativo, Y representa -OH ou -NH>, m representa 0 ou 1, e n indica um número de mo- Ú les médio de adição do grupo poliéter e representa um número de 10 a 120. Métodos conhecidos podem ser aplicados na reação. Especificamente, uma solu- ' ção da fase oleosa preparada pela dissolução de um composto de isocianato polifuncional, 20 apresentando dois ou mais grupos funcionais de isocianato, que são solúveis em um solven- te hidrossolúvel (que pode conter um produto de reação entre (1) um composto de isociana- to difuncional ou polifuncional e (2) um derivado de poliéter que apresenta um grupo amino terminal ou grupo hidroxila representado pela fórmula (1) demonstrada acima) e em uma solução aquosa (que pode conter um derivado de poliéter que apresenta um grupo amino 25 terminal ou grupo hidroxila representado pela fórmula (1) demonstrada acima), são prepara- dos, misturados e agitados vigorosamente, e misturados utilizando um equipamento de emulsificação e dispersão, por exemplo, um homogeneizador, a 12.000 rpm, durante 10 a minutos para emulsificar e dispersar gotas de óleo na fase aquosa. Então, a dispersão da emulsão resultante é aquecida e agitada para evaporar o solvente, com a obtenção da dis- persão aquosa desejada da partícula de microge!.
O tamanho médio da partícula do microgel está de preferência na faixa de 50 a
2.000 nm, com maior preferência na faixa de 60 a 1.000 nm, e particularmente de preferên- cia na faixa de 70 a 300 nm.
Isocianato polifuncional : O isocianato polifuncional apresentando dois ou mais grupos isocianato será des-
erito.
Exemplos específicos do composto, incluem, por exemplo, como um composto di- funcional que apresenta dois grupos isocianato em sua molécula, diisocianato de m-fenileno, ' diisocianato de p-fenileno, diisocianato de 2,6-tolileno, diisocianato de 2,4-tolileno, naftaleno- 1,4-diisocianato, diisocianato de 4,4' — difenilmetano, diisocianato de 3,3 — dimetoxibifenila, 7 4,4' — diisocianato de 3,3' — dimetildifenilmetano, diisocianato de 1,4 — xilileno, diisocianato de 1,3- xilileno, 1,3 — diisocianato de 4-cloroxilileno, 1,3-diisocianto de 2-metilxilileno, diisoci- anato de 4,4' — difenilpropano, diisocianato de 4,4' — difenilexafluoropropano, diisocianato de trimetileno, diisocianato de hexametileno, diisocianato de 1,2-propileno, diisocianato de 1,2- butileno, diisocianato de 1,2- cicloexileno, diisocianato de 1,3- cicloexileno, diisocianato de 1,4- cicloexileno, diisocianato de 4,4' — dicicloexilmetano, 1,4 — bis(isocianatometil) cicloexa- no, 1,3-bis(isocianatometil) cicloexano, diisocianato de isoforona e diisocianato de lisina.
De acordo com à invenção, um composto de isocianato trifuncional ou polifuncional também é utilizado. Exemplos do composto que pode ser utilizado inclui um trímero (biureto ouisocianurato) do composto de isocianato difuncional descrito acima, utilizando o compos- ' to difuncional como um material bruto principal, um composto polifuncional como um aduto do composto de isocianato difuncional com um poliól, por exemplo, o trimetilolpropano, um Í condensado de formalina do isocianato de benzeno, um polímero de um composto de isoci- : anato apresentando um grupo polimerizável, por exemplo, isocianato de metacriloiloxietila e trisocianato de lisina. Particularmente, um trímero (biureto ou isocianurato) de diisocianato ] de xileno ou seu produto de hidrogenação, diisocianato de hexametileno ou diisocianato de tolileno ou seu produto de hidrogenação, utilizando o composto de isocianato como o mate- rial bruto principal e adutos polifuncionais dos compostos de isocianato descritos acima com trimetiloilpropano são os compostos de preferência. Esses compostos são descritos em — Polyurethane Jushi Handbook (Polyurethane Resin Hanbook), editado por Keiji lwata, publi- cado por The Nikkan Kogyo Shimbun, Ltd. (1987).
Entre os compostos, diisocianato de 2,4-tolileno, diisocianato de 2,6-tolileno, diiso- cianato de 1,4-xilileno, diisocianato de 1,3-xilleno e um aduto de trimetiloilpropano com diisocianato de 1,4-xilileno ou diisocianato de 1,3-xilileno são os de preferência, e particu- larmente, diisocianato de 1,4-xilileno, diisocianato de 1,3-xilleno, e um aduto de trimetilol- propano com diisocianato de 1,4-xilileno, ou diisocianato de 1,3-xileno são os de preferên- cia.
Derivado de poliéter apresentando um grupo amino ou grupo hidroxila representado pela fórmula (1) A seguir, o derivado de poliéter que apresenta um grupo amino terminal ou hidroxila representado pela fórmula (1) será descrito.
Fórmula (1):
R— Oo Á1—Ao Hbda—y : n m Na fórmula (1), X representa um grupo de ligação, A representa uma ligação sim- Í ples, um grupo arileno ou um grupo alquileno, L representa um grupo alquileno que apresen- ta de 2 a 6 átomos de carbono, R representa um grupo orgânico que não contém hidrogênio ativo, Y representa -OH ou -NH,, m representa O ou 1, e n indica um número de moles mé- dio de adição do grupo poliéter e representa um número de 10 a 120.
R é de preferência um grupo alquila com 1 a 3 átomos de carbono, de preferência um grupo metila, L é de preferência um grupo etileno ou um grupo propileno, e tanto um grupo etileno como um grupo propileno podem estar presentes em uma molécula. n é de preferência de 20 a 70, e com maior preferência de 20 a 50. X é de preferência um átomo de oxigênio, e A é de preferência uma ligação simples.
O peso molecular médio ponderado (mw) do derivado de poliéter é de preferência : de 300 a 100.000, e com maior preferência de 500 a 10.000. Através do controle do peso molecular médio em uma faixa de 300 a 100.000, o derivado de poliéter funciona como um ' 15 —colóidede proteção para garantir a estabilidade da dispersão do microgel, e para obter uma Í hidrofilia suficiente da superfície. Látex obtido através da polimerização por adição de radicais ' O polímero que apresenta uma cadeia de polioxialquileno em sua cadeia lateral pa- ra uso no precursor da placa de impressão litográfica, de acordo com a invenção, é de pre- ferênciauma resina obtída por polimerização radical de um grupo etilenicamente insaturado, por exemplo, uma resina metacrílica, uma resina vínílica, uma resina de estireno, uma resina de acrilonitrila ou uma resina de polivinil acetal.
A porção de óxido de polialquileno é de preferência uma cadeia lateral do composto polimérico específico, na forma da estrutura representada pela fórmula (1) demonstrada abaixo. Com maior preferência, está localizada na cadeia lateral de uma resina acrílica, na forma da estrutura representada pela fórmula (1) demonstrada abaixo.
Fórmula (1): GO TeHeHRIo— Ra L y Na fórmula (1), y representa um número inteiro de 10 a 120, de preferência de 20 a
70, e com maior preferência de 20 a 50. R, representa um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila, de preferência um átomo de hidrogênio ou um grupo metila e ainda com maior prefe- rência um átomo de hidrogênio. ' Ra representa um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila que apresenta de 1 a 6 átomos de carbono. O grupo alquila que apresenta de 1 a 6 átomos de carbono inclui um 7 grupo metila, um grupo etila, um grupo n-propila, um grupo isopropila, um grupo n-butila, um grupo sec-butila, um grupo isobutila, um grupo terc-butila, um grupo n-pentila, um grupo iso- pentila, um grupo neopentila, um grupo n-hexila, um grupo isoexila, um grupo 1,1- dimetilbutila, um grupo 2,2-dimetilbutila, um grupo ciclopentila e um grupo cicloexila. R, é de preferência um átomo de hidrogênio ou um grupo metila. Especificamente, o látex obtido através da polimerização por adição de radicais pa- ra uso na invenção é de preferência um polímero de partículas finas de um copolímero (a partir deste momento também denominado como um copolímero etilenicamente insaturado), que contém uma unidade de repetição de uma estrutura que apresenta um grupo polialqui- Jlenoem uma cadeia lateral de um metacrilato representada pela fórmula (3) demonstrada : abaixo, obtida através da polimerização radical de um grupo etilenicamente insaturado. Fórmula (3)
DD o Ferver or y Na fórmula (3), Ra representa um átomo de hidrogênio ou um grupo metila, e R1, R2 eyapresentam respectivamente, os mesmos significados de R,, R2 e y na fórmula (1). Especificamente, o látex obtido pela polimerização radical é de preferência um po- límero com partículas finas de um copolimero etilenicamente insaturado, que apresenta uma unidade de repetição com uma estrutura representada por qualquer uma das fórmulas (3-1) a (3-4) demonstradas abaixo.
EP (S=1) E (3-2) - o o-ferserzo |-oers o 'o-FencH.ol-om ; ' AX (3-3) Sd (8-4) o-teren.o]-ocrs Êo Fenenolon ; Na fórmula acima, y representa um número inteiro de 10 a 120, de preferência de 20 a 70, e com maior preferência de 20 a 50. Copolimerização de monômero de copolimero etilenicamente insaturado O monômero copolimerizável para uso na invenção não está particularmente limíta- do, e compostos conhecidos, que apresentam uma ligação dupla carbono-carbono, podem ser empregados. " Outros monômeros para uso no copolímero incluem, monômeros conhecidos, tais como, por exemplo, um acrilato, um metracrilato, uma acrilamida, uma metacrilamida, um ' 10 éster vinílico, um estireno ou metacrilonitrila.
Exemplos específicos de acrilato incluem acri- . lato de metila, acrilato de etila, acrilato de (n- ou iso-) propila, acrilato de (n-, iso-, sec- ou terc-) butila, acrilato de amila, acrilato de 2-etilexila, acrilato de dodecila, acrilato de cloroeti- 1 la, acrilato de 2-hidroxietila, acrilato de 2-hidroxipropila, acrilato de S-hidroxipentila, acrilato de cicloexila, acrilato de alila, monoacrilato de trimetilolpropano, monoacrilato de pentaeritri- tol, acrilato de benzila, acrilato de metoxibenzila, acrilato de clorobenzila, acrilato de hidroxi- benzila, acrilato de hidroxifenetila, acrilato de diidroxifenetila, acrilato de furfurila, acrilato de tetraidrofurfurila, acrilato de fenila, acrilato de hidroxifenila, acrilato de clorofenila, acrilato de sulfamoilfenila e acrilato de 2-(hidroxifenilcarboniloxi) de etila.
Exemplos específicos de metacrilato incluem metacrilato de metila, metacrilato de etila, metacrilato de (n- ou iso-) propila, metacrilato de (n-, iso-, sec-, ou terc-) butila, metacri- lato de amila, metacrilato de 2-etilexila, metacrilato de dodecila, metacrilato de cloroetila, metacrilato de 2-hidroxietila, metacrilato de 2-hidroxipropila, metacrilato de 5-hidroxipentila, metacrilato de cicloexila, metacrilato de alila, monometacrilato de trimetilolpropano, mono- metacrilato de pentaeritritol, metacrilato de glicidila, metacrilato de benzila, metacrilato de —metoxibenzila, metacrilato de clorobenzila, metacrilato de hidroxibenzila, metacrilato de hi- droxifenetila, metacrilato de diidroxifenetila, metacrilato de furfurila, metacrilato de tetraídro- furfurila, metacrilato de fenila, metacrilato de hidroxifenila, metacrilato de clorofenila, metacri- lato de sulfamoilfenila, e metacrilato de 2-(hidroxifenilcarboniloxi) de etila.
Exemplos específicos de acrilamida incluem acrilamida, N-metilacrilamida, N- etilacrilamida, N-propilacrilamida, N-butilacrilamida, N-benzilacrilamida, N-
hidroxietilacrilamida, = N-fenilacrilamida, = N-tolilacrilamida, = N-(hidroxifenil)acrilamida, N- sulfamoilfenil)acrilamida, — N(fenilsulfonil)acrilamida, — N(tolilsulifonil)acrilamida, — N,N- dimetilacrilamida, N-metil-N-fenilacrilamida e N-hidroxietil-N-metilacrilamida. Exemplos — específicos de metacrilamida incluem metacrilamida N- metimetacrilamida, N-etilmetacrilamida, N-propilmetacrilamida, N-butilmetacrilamida, N- í benzilmetacrilamida, N-hidroxietilmetacrilamida, N-fenilmetacrilamida, N-tolilmetacrilamida, N(hidroxifenil)metacrilamida, N-sulfamoilfenil)metacrilamida, N(fenilsuifonil)]metacrilamida, N(tolilsulfonil)metacrilamida, N,N-dimetilmetacrilamida, N-metil-N-fenilmetacrilamida e N- hidroxietil-N-metilmetacrilamida.
Exemplos específicos de éster vinílico incluem acetato de vinila, butirato de vinila e benzoato de vinila. Exemplos específicos de estireno incluem estireno, metilestireno, dimeti- lestireno, trimetilestireno, etilestireno, propilestireno, cicloexilestireno, clorometilestireno, trifluorometilestireno, etoximetilestireno, acetoximetilestireno, metoxiestireno, dimetoxiestire- no, cloroestireno, dicloroestireno, bromoestireno, iodoestireno e carboxiestireno.
Dentre outros monômeros, um acrilato apresentando até 20 átomos de carbono, um ' metacrilato, uma acrilamida, uma metacrilamida, um éster vinílico, um estireno e metacriloni- trila são os particularmente empregados. Í É de preferência, que de acordo com a propriedade de adesão a vácuo de um foto- ' lito, que um monômero que forma um homopolimero apresentando uma Tg de 80ºC ou mai- or seja copolimerizado como o monômero insaturado etilenicamente copolimerizável. No ' caso onde a metacrilonitrila está contida no polímero, a acrilonitrila é a de preferência, com o conteúdo de preferencialmente 50% em peso ou mais, com maior preferência 60% em peso ou mais, e ainda com maior preferência 70% em peso ou mais e particularmente de prefe- rência 80% em peso ou mais.
Grupo de radicais polimerizáveis O composto polimérico específico de preferência apresenta um radical polimerizá- vel para aumentar a aceitação da tinta na área de imagem. Acredita-se que quando o radical polimerizável está presente no momento da interação, que ocorre na exposição UV por um longo tempo entre a cadeia de polioxialquileno presente como uma cadeia lateral do políme- rode partículasfinaeo composto polimerizável, que está na fase de propagação na polime- rização do radical, ele reage com um grupo etilenicamente insaturado no polímero de parti- culas finas existente para fixar a alteração microestrutural, onde a aceitação da tinta é me- lhorada.
Para realizar a propriedade de ligação cruzada do polímero, um grupo funcional de ligação cruzada, por exemplo, com uma ligação etilenicamente insaturada, é introduzido na cadeia principal ou lateral do polímero. O grupo funcional de ligação cruzada pode ser intro- duzido por copolimerização.
Exemplos de polímeros que apresentam uma ligação etilenicamente insaturada na sua cadeia principal incluem poli-1,4-butadieno e poli-1,4-isopreno.
Exemplos de polímeros que apresentam uma ligação etilenicamente insaturada na 7 cadeia lateral incluem um polímero de um éster ou amida de ácido acrílico ou metacrílico queéum polimero onde o éster ou resíduo de amida (R em -COOR ou -CONHR) apresen- 7 ta uma ligação etilenicamente insaturada.
Exemplos do resíduo (R descrito acima), apresentando uma ligação etilenicamente insaturada, — incluem - (CH)CR'=CRR, —H(CHO)CH;CR'=CR?ºRº, - (CHCHO).CHORI=CR2R, — (CH).NH-CO-O-CH.CR'=CR2ARº, (CH). -O-CO-CR'=CRºRº e(CHCH;O);X (onde R' a Rº representam um átomo de hidrogênio, um átomo de halogê- nio ou um grupo alquila que apresenta de 1 a 20 átomos de carbono, um grupo arila, um grupo alcóxi ou arilóxi, ou R' e R?2 e Rº podem ser combinados entre si para formar um anel. n representa um número inteiro de 1 a 10. X representa um resíduo de diciclopentadienila).
Exemplos específicos do resíduo de éster inciuem -CH.CH=CH, (descrito em JP-B- 7-21633), CHCH,0-CH;CH=CH, — CH;C(CH;)=CH, — CH;CH=CH-C;Hs, — CH;CHr Ú OCOCH=CH=Cs;Hs, CHXCH-NHCOO-CH;CH=CH, e CH.CH20-X (onde X representa um resíduo de diciclopentadienila). Exemplos específicos de resíduo de amida incluem : CH.CH=CH2, CH;CH2O0-Y (onde Y representa um resíduo de cicloexeno) e CH;CH;-OCO- " CcH=CH,.
O composto polimérico específico apresentando uma propriedade de ligação cruza- , da é curado, por exemplo, pela adição de um radical livre (um radical de inicialização da polimerização ou de desenvolvimento de um composto polimerizável no processo de polime- rização) ao grupo funcional de ligação cruzada do polímero, e submetendo à polimerização por adição entre os polímeros diretamente ou através da cadeia de polimerização do com- posto polimerizável para formar uma ligação cruzada entre as moléculas poliméricas.
O conteúdo do grupo de ligação cruzada (conteúdo da ligação dupla insaturada do radical polimerizável determinado por titulação do iodo) no composto polimérico específico é de preferência de 0,1 a 10,0 mmol, com maior preferência de 1,0 a 7,0 mmol, e ainda com maior preferência de 2,0 a 5,5 mmol, baseado em 1g do composto polimérico. Na faixa des- critaacima, uma boa sensibilidade e uma boa estabilidade de conservação podem ser obti- das.
Estrutura específica do polímero Estruturas específicas do composto polimérico estão descritas abaixo, mas a inven- ção não deve ser elaborada limitada a estas estruturas. Os itens (a), (b-1), (b-2), (c-1), (c-2) e(c3)indicam uma estrutura da unidade de repetição utilizada na tabela 1.
R
PD Í d CN CN 0 NOOHCHOTCHCH-O+-R,
Z y (6-1) (62) (a) CH; di . Y NON o CHa A Cc3 (el) (C) (3) Tabela 1: Proporção de unidades de repetição em compostos poliméricos específicos de 1 a 26 [EN | a (8-1) ] (6-2) | (0-1) | (02) | (03) | y z [| wR]R] Bem | Ses e %em | %em | %em peso | peso | peso | peso | peso | peso [1 | 2 | o |-cHn& | -cn&m| 10 | 70 | o | 2 | o | o | | 2 | 4 | o |-cn6|-cH] 10 | 70] o 2] o | o | 3a [10 | o |-cn6|-ch]| 10 | 70 | o [2 | o | o| 14 | 40 | o |-oH|-enm] 10 | 7 / o [2 | o | o | | 5 | so | o |-cH|-cH]) 10 | 70 o [22 | o | o | | 6 [120] o |-oH|-cH]| 10 | 70 |] o 2 / o | o) | 7 | 20| o |-cH | -cH] 10 | 7 | o [22 | o | o) | 8 | o | 10 [-CH | -CH| 10 | 70 | o 20 o | o) [o | o | 40 |-cH|-cH] 10 | 70] o | 2 (o | q [10 | o | 129 |-CH&6|-cH&6| 10 [70 | o | 2 | o | o) [1 | o | 200 |-cHw&|-cnm| 10 | 70 / o [2 | o | o] [12 | 10 | 10 |-cH6 | -oH| 10 | 70 |] o | 20 | o | o | [13 | 40 | 40 |-CH | -CH| 10 | 70 | o / 2 | o | o) 14 | 10 | o |-cH6]|-cK&| 10 | 70 | o 20 / o | o |
[15] 4 |] o |-cH&6[|-ch] 10 | 70 [| o [22 [o | o) | 16 12] o |-cH&6 /-c| 10 | 70] o | 22 | o | o | [17 | 10 | o [-cH|-om] 10 | 70 / o | 2 | o | o | | 18 | 40] o |-cH | -cH| 10 [70 | o |j20 [| o | o | - 19 | 120 | o [-cHn | -cmh] 10 | 70 [o | 2 | o | o | 20 | 40 | o |-CHh6|-Ch|] 5 | 75 | o | 20 | o | o | [21 [40 | o [CH |-cH] 20 | 7% o 10 o 0 ' | 22 | 40] o |-cHn6 | -cnm| 3 | 70 / o o Ao [23 | 40 | o [-cH&6|-enm| 10 | o | 70 | 2 | o | o) | 24 | 40 | o |-CH|-CH| 10 | 70] o o (2 o) [26 | do | o [-CH |-cH| 10 | 70 o | 10 o (7107)
[26] 4 | o |-cH&|-oh4| 10 | 70 o | o | 10 | 10 | Corante de cianina O corante de cianina que absorve um raio infravermelho apresenta uma função de conversão do raio infravermelho absorvido para aquecimento e de ser estimulado pelo raio infravermelho para realizar a transferência de elétrons e/ou energia para um composto poli- merizável por adição descrito abaixo. O corante de cianina para uso na invenção é um co- rante que apresenta uma absorção máxima em comprimento de onda na faixa de 760 a
1.200 nm. Como exemplo, um corante de cianina representado pela fórmula (a) é demonstra- * do abaixo. 21 Fórmula (a): 1 x : . 1 RR Rº Rê 2 ” a N, Z Netos x 1 Ar L 7 ——— AE “, ; Tu N 1 N oe P. | + : R = Rº Za e Na fórmula (a), X* representa um átomo de hidrogênio, um átomo de halogênio, - N(RINRI), -X2-L* ou um grupo demonstrado abaixo. Rº e R"º, que podem ser iguais ou dife- rentes, cada um representa um grupo arila com 6 a 10 átomos de carbono, que pode apre- sentar um substituinte, um grupo alquila com 1 a 8 átomos de carbono ou um átomo de hi- drogênio, ou Rº e R'* podem ser combinados entre si para formar um anel. Entre eles, um grupo fenita é o de preferência (-NPh>). Xº representa um átomo de oxigênio ou de enxofre, L' representa um grupo hidrocarboneto com 1 a 12 átomos de carbono, um grupo heteroari- la ou um grupo de hidrocarboneto com 1 a 12 átomos de carbono e contendo um heteroá- tomo.O heteroátomo utilizado indica N, S, O, um átomo de halogênio ou Se. No grupo de- monstrado abaixo , Xa' apresenta o mesmo significado de Za' definido abaixo, e Rº repre- senta um átomo de hidrogênio ou um substituinte selecionado de um grupo alquila, um gru- " po arila, um grupo amino substituído ou não e um átomo de halogênio.
AN 2 . TZ Rê : x R' e R? representam um grupo de hidrocarbonetos apresentando de 1 a 12 átomos de carbono cada um.
Com relação à estabilidade de conservação de uma solução de reves- timento para camada de registro de imagem, é de preferência que R' e R? representem um grupo de hidrocarboneto apresentando um ou mais átomos de carbono.
R' e Rº também podem ser combinados entre si para formar um anel e quando formam o anel, é de prefe- rência formar um anel com 5 ou 6 membros.
Ar' e AP, que podem ser iguais ou diferentes, representam um grupo arila que pode apresentar um substituinte.
Exemplos de preferência do grupo arila incluem um anel benzê- nicoeumanelde naftaleno.
Exemplos de preferência dos substituintes também incluem um Ú grupo de hidrocarbonetos apresentando até 12 átomos de carbono, um átomo de halogênio, um grupo alcóxi com até 12 átomos de carbono, e um grupo sulfo.
Yº e Y?, que podem ser iguais ou diferentes, cada um representa um átomo de enxofre ou um grupo dialquilmetileno Í com até 12 átomos de carbono.
Rº e Ré, que podem ser iguais ou diferentes, cada um re- presenta um grupo de hidrocarbonetos apresentando até 20 átomos de carbono, podendo B apresentar um substituinte.
Exemplos de substituintes de preferência incluem um grupo alcóxi, apresentando até 12 átomos de carbono, um grupo carboxila, um grupo oxicarbonila e um grupo sulfo.
Ró, Rºà, R' e Rº, que podem ser iguais ou diferentes, cada um representa um átomo de hidrogênio ou um grupo de hidrocarboneto com até 12 átomos de carbono.
Comrelação à disponibilidade dos materiais brutos, o átomo de hidrogênio é de preferência.
Za' representa um contra-ânion.
Entretanto, Za' não é necessário quando o corante cianina representado pela fórmula (a) apresenta um substituinte aniônico na sua estrutura, e a neu- tralização da carga não é necessária.
Com relação à disponibilidade da conservação de uma solução de revestimento para a camada de registro de imagem, os exemplos de prefe- rência e Za incluem um íon haleto, um fon precilorato, um íon tetrafluoroborato, um íon he- xafluorofosfato e um íon sulfonato, e exemplos de preferência incluem um íon perclorato, um ion hexafluorofosfato e um íon arilsulfonato.
Na fórmula (a), de preferência, X' representa -NPh2, R' e R? são combinados entre si para formar um anel com 5 membros, Ar' e Ar representam o mesmo anel benzênico ou —naftaleno, podendo apresentar um substituinte, cujos exemplos incluem um grupo metila, um átomo de cloro, um grupo metóxi e um grupo sulfo.
Y* e Y? representam o mesmo grupo de ' hidrocarboneto com até 5 átomos de carbono, podendo apresentar um substituinte, onde exemplos de substituintes de preferência incluem um grupo alcóxi, apresentando até 3 áto- mos de carbono e um grupo carboxila, Exemplos específicos de corante de cianina representados pela fórmula (a), que * podem ser preferencialmente utilizados na invenção, podem incluir compostos descritos nos parágrafos 0017 a 0019 da JP-A-2001-13369, os descritos nos parágrafos 0012 a 0037 da É JP-A-2002-40638, os descritos nos parágrafos 0034 a 0041 da JP-A-2002-278057 e os pa- rágrafos 0080 a 0086 da JP-A-2008-195018, e os compostos descritos nos parágrafos 0035 a 0043 da JP-A-2007-90850. Especificamente, os corantes de cianina apresentando uma estrutura descrita são exemplificados. rosPO o os o e. Dto
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O,0 O DO GE AO Ao Adao. , Fãs, ' $ o ? e" ao ã OO Oo o,O x a, O OE BA a AQERAAO. AA : ( PRO ras au "” FED, DO e e DO o " $ Ee O E PA = O POA ” Poa o. do o o av ro Ny Edi Ao UA? ' DIAS 2 : E y : O Pr Fo Toi 4 ano Y 1 as mm os SF MS o dt bio S Kit o É. py mo 3 ER » e E ox o “ o o a sn sm O conteúdo do corante de cianina na camada de registro de imagem, de acordo com a invenção, é de preferência de 0,1 a 10,0% em peso, com maior preferência de 0,5 a 5,0% em peso, baseado no conteúdo sólido total da camada de registro de imagem. Sal de difenil iodônio ou trifenil sulfônio O sal de difenil iodônio ou trifenil sulfônio para uso na invenção é um composto que inicia ou acelera a polimerização de um composto polimerizável por adição de radicais (D). O sal de difenil iodônio inclui, por exemplo, sais de iodônio descritos na Patente Eu- ropéia 104.143, Pedido de Publicação da Patente U.S. No. 2008/0311520, JP-A-2-150848, JP-A-2008-195018 e J.V. Crivello et al., Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977). O sal de trifenil sulfônico inclui, por exemplo, sais de sulfônio descritos nas Patentes Européias 370.693, 233.567, 297.442, Patentes U.S. 4.933.377, 4.760.013, 4.734.444 e
2.833.827, e Patentes Germânicas 2.904.626, 3.604.580 e 3.604.581. Exemplos específicos do composto são descritos abaixo, mas a invenção não deve ser elaborada limitada a estes compostos.
O sal de difenil iodônio pode apresentar um substituinte no grupo fenila, e em parti- . cular, um sal de difenil iodônio substituído com um grupo doador de elétrons, por exemplo, um grupo alquila ou um grupo alcóxi é o de preferência, é um sal de difenil iodônio assimé- Í trico é o de maior preferência.
Exemplos específicos incluem hexafluorofosfato de difenil iodônio, hexafluorofosfato de 4-metoxifenil — 4 — (2 — metilpropil) fenil iodônio, hexafluorofosíato de 4 — (2 — metipropil) — fenil — p — tolil iodônio, hexafluorofosfato de 4 — hexiloxifenil — 2,4,6 — trimetoxifenil iodônio, tetrafluoroborato de 4 — hexiloxifenil — 2,4 — dietoxifenil iodônio, 1 — perfluorobutanosulfonato de 4 — octiloxifenil — 2,4,6 — trimetoxifenil iodônio, hexafiuorofosfato de 4 — octiloxifenil — 2,4,6 — trimetoxifenil iodônio e tetrafenilborato de bis (4 — terc — butilfenil) iodônio.
O sal de trifenil sulfônio pode apresentar um substituinte no grupo fenila, e em parti- cular, um trifenil sulfônio apresentando um átomo de halogênio no grupo fenila é de prefe- rência Exemplos do sal de trifenil sulfônio incluem hexafluorofosfato de trifenil sulfônio, benzoilformato de trifenil sulfônio, benzoilformato de bis (4 — clorofenil) fenil sulfônio, tetra- : fluoroborato de bis (4-clorofenil) — 4 — metilfenil sulfônio, 3,5 — bis (metoxicarbonil) benzeno- ' sulfonato de tris (4 — clorofenil) sulfônio e hexafluorofosfato de tris (4 — clorofenil) sulfônio.
O sal de difenil iodônio ou de trifenil sulfônio pode ser adicionado de preferência em Ú uma quantidade de 0,1 a 50% em peso, com maior preferência de 0,5 a 30% em peso, par- ticularmente de preferência de 0,8 a 20% em peso, baseado no conteúdo sólido total que constitui a camada de registro de imagem.
Na faixa descrita acima, são obtidas boa sensibi- lidade e boa resistência a manchas na área de não imagem na impressão.
Composto polimerizável com adição de radicais O composto polimerizável com adição de radicais para uso na camada de registro de imagem, de acordo com a invenção, apresenta no mínimo uma ligação dupla etilenica- mente insaturada e é selecionado de compostos que apresentam no mínimo um, de prefe- rência dois ou mais, ligações etilenicamente insaturadas.
O composto polimerizável com adição de radicais apresenta uma forma química, por exemplo, um monômero, um pré- polímero, especificamente um dímero, um trímero ou um oligômero, ou uma mistura destes.
Exemplos de monômeros incluem ácidos carboxílicos insaturados (por exemplo, ácido acríli- co, ácido metacrílico, ácido itacônico, ácido crotônico, ácido isocrotônico ou ácido maléico) e seus ésteres ou amidas.
De preferência, os ésteres de um ácido carboxílico insaturado com umálcoolpoliídricoe amidas de um ácido carboxílico insaturado com um composto de ami- na polivalente são utilizados.
Um produto da reação de adição de um éster de ácido carboxí- lico insaturado ou amida apresentando um substituinte nucleofílico, por exemplo, um grupo hidroxila, um grupo amino ou um grupo mercapto, com um isocianato monofuncional ou poli- funcional ou composto epóxi, ou um produto da reação de condensação da desidratação do éster do ácido carboxílico insaturado ou amida com um ácido carboxílico monofuncional ou ' polifuncional é também utilizado. Além disso, um produto de reação da adição de um éster de ácido carboxílico insaturado ou amida que apresenta um substituinte eletrofílico, por " exemplo, um grupo isocianato ou um grupo epóxi, com um álcool monofuncional ou polifun- cional, amina ou tiol, ou um produto da reação de substituição de um éster de ácido carboxi- lico insaturado ou amida que apresenta um substituinte liberável, por exemplo, um átomo de halogênio ou um grupo tosiloxi com um álcool monofuncional ou polifuncional, amina ou tiol também é utilizado. Além disso, compostos onde o ácido carboxílico insaturado descrito acima é substituído por um ácido fosfônico insaturado, estireno, éter vinílico ou semelhante podem também ser utilizados, Esses compostos são descritos como referências incluindo JP-T-2006-508380, JP-A-2002-287344, JP-A-2008-256850, JP-A-2001-342222, JP-A-9- 179296, JP-A-9-179297, JP-A-9-179298, JP-A-2004-294935, JP-A-2006-243493, JP-A- 2002-275129,JP-A-2003-64130, JP-A-2003-280187 e JP-A-10-333321.
Exemplos específicos do monômero, que é um éster de um composto de um álcool poliídrico com um ácido carboxílico insaturado, incluem, como um éster de ácido acrílico, por ' exemplo, diacrilato de etileno glicol, diacrilato de 1,3-butanodiol, diacritato de tetrametileno ' glicol, diacrilato de propileno glicol, triacrilato de trimetilolpropano, diacrilato de hexanodiol, diacrilato de tetraetileno glicol, tetraacrilato de pentaeritritol, triacrilato de sorbitol, triacrilato ' modificado por óxido de etileno (EO) do ácido isocianúrico e oligôêmero de acrilato de poliés- ter. Como um éster do ácido metacrílico, por exemplo, dimetacrilato de tetrametileno glicol, dimetacrilato de neopentil glicol, trimetacrilato de trimetiloipropano, dimetacrilato de etileno glicol, trimetacrilato de pentaeritritol, bis [D — 3 — metacriloxi — 2 — hidroxipropoxi) fenil) dime- timetanoebis(p-— (metacriloxietoxi) fenil] dimetilmetano são exemplificados. Exemplos es- pecíficos do monômero, que é uma amida de um composto de amina polivalente com um ácido carboxílico insaturado, incluem bisacrilamida de metileno, bismetacrilamida de metile- no, bisacrilamida de 1,6-hexametileno, bismetacrilamida de 1,6-hexametileno, trisacrilamida de dietilenotriamina, bisacrilamida de xiliteno e bismetacrilamida de xilileno.
Compostos polimerizáveis por adição tipo uretano produzidos utilizando uma rea- ção de adição entre um grupo isocianato e um grupo hidroxila são também utilizados de pre- ferência, e seus exemplos específicos incluem compostos de viniluretano que apresentam dois ou mais grupos vinila polimerizáveis por molécula obtida pela adição de um monômero de vinila contendo um grupo hidroxila representado pela fórmula (A) demonstrada abaixo paraum composto de poliisocianato, que apresenta dois ou mais grupos isocianato por mo- lécula, descritos em JP-B-48-41708.
CH,=C (R*) COOCH,CH (R) OH (A)
(onde Rº e Rº representam H ou CH;) Acrilatos de uretano, conforme descritos em JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2- 16765, JP-A-2003-344997 e JP-A-2006-65210, compostos de uretano apresentando uma " estrutura de óxido de etileno descrita em JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, JP-B-62-39417, JP-B-62-39418, JP-A-2000-250211 e JP-A-2007-94138, e compostos de uretano apresen- ' tando um grupo hidrofílico descrito nas Patentes U.S. 7.153.632, JP-T-8-505958, JP-A- 2007-293221 e JP-A-2007-293223 são os utilizados de preferência.
Dos compostos descritos acima, um acrilato modificado pelo óxido de etileno do ácido isocianúrico, por exemplo, isocianurato de tris (acriloiloxíetila) ou isocianurato de bis (acriloiloxietil) hidroxietila é particularmente de preferência, porque é excelente no equilíbrio entre a hidrofilia relacionada à propriedade de desenvolvimento da impressão e a habilidade da polimerização em relação à durabilidade da impressão.
Detalhes do método de utilização do composto polimerizável, por exemplo, a sua estrutura, o uso individual ou combinado, ou a quantidade adicionada, podem ser adequa- damente determinados, de acordo com as características do precursor da placa de impres- Ú são litográfica. O composto polimerizável é utilizado de preferência em uma faixa de 5 a 75% em peso, com maior preferência em uma faixa de 5 a 70% em peso, e ainda com maior ' preferência em uma faixa de 10 a 60% em peso, baseado no conteúdo sólido total da cama- Í da de registro de imagem. Polímero de ligação Na camada de registro de imagem, de acordo com a invenção, um polímero de |i- gação pode ser utilizado com o objetivo de melhorar a resistência do filme da camada de registro de imagem. O polímero de ligação, que pode ser utilizado na invenção, pode ser selecionado dos conhecidos na área, sem limitações, sendo os polímeros que apresentam uma propriedade de formação de filme os de preferência. Entre eles, uma resina acrílica, uma resina de polivinil acetal ou uma resina de poliuretano é a de preferência.
Da mesma forma que o polímero de ligação de acordo com a invenção, um políme- ro que apresente um grupo funcional de ligação cruzada, em sua cadeia principal ou lateral, de preferência na lateral, para melhorar a resistência do filme da área de imagem, conforme descrito em JP-A-2008-195018, é exemplificado. Com relação ao grupo funcional de ligação cruzada, a ligação cruzada é formada entre as moléculas poliméricas para facilitar a cura.
Como grupo funcional de ligação cruzada, um grupo etilenicamente insaturado, por exemplo, um grupo metacrila, um grupo vinila ou um grupo alila, ou um grupo epóxi é o de preferência. O grupo funcional de ligação cruzada pode ser introduzido no polímero por uma reação polimérica ou copolimerização. Por exemplo, uma reação entre um polímero acrílico ou poliuretano, que apresenta um grupo carboxila em sua cadeia lateral, e metacrilato de 7 glicidila, ou uma reação entre um polímero que apresenta um grupo epóxi e um ácido carbo-
xílico contendo um grupo etilenicamente insaturado, por exemplo, ácido metacrílico pode ser utilizada.
O conteúdo do grupo de ligação cruzada no polímero de ligação é de preferência de 7 0,1 a 10,0 mmol, com maior preferência de 1,0 a 7,0 mmol, e ainda com maior preferência de20a5,5mmol, baseado em 1 g do polímero de ligação.
" É também de preferência que o polímero de ligação para uso na invenção contenha um grupo hidrofílico. O grupo hidrofílico contribui para melhorar a propriedade de desenvol- vimento de impressão na camada de registro de imagem. Particularmente, a coexistência do grupo de ligação cruzada e do grupo hidrofílico torna possível manter a compatibilidade en- trea propriedade de durabilidade e desenvolvimento da impressão.
O grupo hidrofílico inclui, por exemplo, um grupo hidroxila, um grupo carboxila, uma estrutura de óxido de etileno, um grupo amino, um grupo amônio, um grupo amido, um gru- po sulfo e um grupo do ácido fosfórico. Entre eles, uma estrutura de óxido de alquileno con- tendo de 1 a 9 unidades de óxido de alquileno, apresentando 2 ou 3 carbonos é a de prefe- rência. Particularmente, uma estrutura de óxido de polietileno contendo de 2 a 8 unidades Ú de óxido de etileno é a de preferência. Para introduzir um grupo hidrofílico no polímero de ligação, um monômero que apresenta o grupo hidrofílico é copolimerizado.
' Para controlar a absorção da tinta, um grupo lipofílico, por exemplo, um grupo alqui- Í la, um grupo arila, um grupo aralquila ou um grupo alquenila pode ser introduzido no políme- rode ligação, de acordo com a invenção. Especificamente, um monômero contendo um Ú grupo lipofílico, por exemplo, um metacrilato de alquila é copolimerizado.
Exemplos específicos (1) a (11) do polímero de ligação para uso na invenção são descritos abaixo, mas a invenção não deve ser elaborada limitada a estes. A proporção das unidades de repetição está indicada como uma proporção molar.
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(6) Ho ho Oh o ConH — co£ O lMe coro . oH & NNh h ho : cos — cof ole corpo oH no th do, ro K come — cof LM: ES 9?
OH (1) /º o H fx A AAA H H 7 40tO H . Aro, ojos o . E - o
AA O peso molecular médio ponderado (mw) do polímero de ligação, de acordo com à invenção, é de preferência 2.000 ou maior, com maior preferência 5.000 ou maior e ainda com maior preferência de 10.000 a 300.000. De acordo com a invenção, um polímero hidrofílico, por exemplo, um ácido poliacri- lico ou um álcool! polivinílico, descrito em JP-A-2008-195018 pode ser utilizado, se desejado. Um polímero de ligação lipofílico também é utilizado juntamente com um polímero de ligação hidrofílico. O conteúdo do polímero de ligação é de 5 a 90% em peso, de preferência de 5 a 80% em peso, com maior preferência de 10 a 70% em peso, baseado no conteúdo de sólido total da camada de registro de imagem. OQutros componentes A camada de registro de imagem, de acordo com a invenção, pode conter também outros componentes, se desejado. Composto hidrofílico de baixo peso molecular A camada de registro de imagem, de acordo com a invenção, pode conter um com- posto hidrofílico com baixo peso molecular para melhorar a propriedade de desenvolvimento Ú da impressão sem prejudicar a sua durabilidade.
O composto hidrofílico de baixo peso molecular inclui um composto orgânico hi- drossolúvel, por exemplo, um glicol, tal como, etileno glicol, dietileno glicol, trietileno glicol, propileno glicol, dipropileno glicol ou tripropileno glicol, ou um éster ou derivado, um com- 7 posto de poliidróxi, por exemplo, glicerina, pentaerítritol ou isocianurato de tris (2- hidroxietila), uma amina orgânica, por exemplo, trietanol amina, dietanol amina, monoetanol : amina, ou um sal destes, um ácido sulfônico orgânico, por exemplo, um ácido alquil sulfôni- co, ácido tolueno sulfônico ou ácido benzeno sulfônico, ou um sal destes, um ácido suifâmi- co orgânico, por exemplo, um ácido alquil sulfâmico, ou um sal destes, um ácido sulfúrico orgânico, por exemplo, um ácido alquil sulfúrico ou um alquil éter do ácido sulfúrico, ou um sal destes, um ácido fosfônico orgânico, por exemplo, um ácido fenil fosfônico, ou um sal dests, um ácido carboxílico orgânico, por exemplo, ácido tartárico, ácido oxálico, ácido cítri- co, ácido málico, ácido lático, ácido glucônico ou um aminoácido, ou um sal destes e uma betaína.
De acordo com a invenção, é de preferência que no mínimo um composto selecio- —nadode um poliól, um sulfato orgânico, um sulfonato orgânico e uma betaína sejam incorpo- rados.
Exemplos específicos do sulfonato orgânico incluem um alquilsulfonato, por exem- ] plo, n-butilsulfonato de sódio, n-hexilsulfonato de sódio, 2-etilexilsulfonato de sódio, cicloexi- ' Isulfonato de sódio ou n-octilsulfonato de sódio; um alquilsulfonato contendo uma cadeia de óxidode etileno, por exemplo, 5,8,11 — trioxapentadecano — 1 — sulfonato de sódio, 5,8,11 — : trioxaeptadecano — 1 — sulfonato de sódio, 13 — etil — 5,8,11 — trioxaeptadecano — 1 — sulfo- nato de sódio ou 5,8,11,14 — tetraoxatetradecosano — 1 — sulfonato de sódio; e um arilsulfo- nato, por exemplo, benzenosulfonato de sódio, p-toluenosulfonato de sódio, p- hidroxibenzenosulfonato de sódio, p-estirenosulfonato de sódio, dimetil — 5 — sulfonato de —sódiodo ácido isoftálico, 1 — naftilsulfonato de sódio, 4 — hidroxinaftilsulfonato de sódio, 1,5 — naftildisulfonato dissódico ou 1,3,6 — naftiltrisuifonato trissódico.
O sal pode ser também um sal de potássio ou de lítio.
O sulfato orgânico inclui um sulfato de alquila, alquenila, alquínila, arila ou monoéter heterocíclico de óxido de etileno.
O número de unidades de óxido de etileno é de preferência deilad Osalde preferência é um sal de sódio, um sal de potássio ou um sal de lítio.
Como a betaína, um composto, onde o número de átomos de carbono incluído em um substituinte de hidrocarboneto no átomo de nitrogênio é de 1 a 5, é o de preferência.
Exemplos específicos incluem acetato de trimetilamônio, acetato de dimetilpropilamônio, 3 — hidroxi — 4 — trimetilamoniobutirato, 4 — (1 — piridínio) butirato, 1 — hidroxietil — 1 — imidazolio- acetato, metanosulfonato de trimetilamônio, metanosulfonato de dimetilpropilamônio, 3 — trimetilamônio — 1 — propanosulfonato e 3 — (1 — piridínio) — 1 — propanosulfonato. " Uma vez que o composto hidrofílico de baixo peso molecular apresenta uma pe-
quena porção hidrofóbica e quase nenhuma função de superfície ativa, degradações na su- perfície hidrofóbica e na resistência ao filme na área de imagem devido a penetração de água corrente na área de exposição (área de imagem) da camada de registro de imagem ' são evitadas, e, portanto, a absorção da tinta e durabilidade da impressão da camada de registrodeimagem são preferencialmente mantidas. 7 A quantidade do composto hidrofílico de baixo peso molecular adicionada à camada de registro de imagem é de preferência de 0,5 a 20% em peso, com maior preferência de 1 a 10% em peso, e ainda com maior preferência de 2 a 10% em peso, baseada no conteúdo do sólido total da camada de registro de imagem.
Na faixa descrita acima, são obtidas boas propriedades de desenvolvimento e boa durabilidade da impressão.
Os compostos hidrofílicos de baixo peso molecular podem ser utilizados individual- mente ou como uma mistura de dois ou mais destes.
Agente óleo sensibilizante Para melhorar a absorção da tinta, um agente sensibilizante, por exemplo, um composto de fosfônio, um composto de baixo peso molecular contendo um nitrogênio ou um Ú polímero contendo um grupo amônio pode ser utilizado na camada de registro de imagem.
Particularmente, no caso onde um composto inorgânico estratiforme é incorporado na ca- mada de bloqueio de oxigênio, o agente sensibilizante atua como um agente de revestimen- Í to do composto inorgânico facilitando a absorção da tinta durante a impressão.
Exemplos de compostos de fosfônio de preferência descritos em JP-A-2006-297907 ' e JP-A-2007-50660 são exemplificados.
Exemplos específicos de compostos de fosfônio incluem iodeto de tetrabutilfosfônio, brometo de butiltrifenitfosfônio, brometo de tetrafenilfos- fônio, di(hexafluorofosfato) de 1,4 — bis (trifenilutanofosfônio) butano, sulfato de 1,7 — bis (trifenilfosfônio) heptano, (trifenilfosfônio), 2,7 — disulfonato de 1,9 — bis(trifenilfosfônio) no- nanonaftaleno e di(hexafluorofosfato) de 1,9 — bis(trifenilfosfônio) nonano.
Como um composto de baixo peso molecular contendo nitrogênio, um sal de amina e um sal de amônio quaternário são exemplificados, Um sal de imidazolínio, um sal de ben- zimidazolínio, um sal de piridínio e um sal de quinolínio também são exemplificados.
Com relação aos compostos de baixo peso molecular contendo nitrogênio, o sal de amônio qua- ternárioe o sal de piridínio são os de preferência utilizados.
Exemplos específicos do com- posto de baixo peso molecular contendo nitrogênio incluem hexafluorofosfato de tetrameti- lamônio, hexafluorofosfato de tetrabutilamônio, p-toluenosulfonato de dodeciltrimetilamônio, hexafluorofosfato de benziltrietilamônio, hexafluorofosfato de benzildimetiloctilamônio e he- xafluorofosfato de benzildimetildodecilamônio.
O polímero contendo o grupo amônio pode ser qualquer polímero contendo um grupo amônio em sua estrutura, e é preferencialmente um polímero com 5 a 80% mol de " metacrilato que apresenta um grupo amônio em sua cadeia lateral como um componente de copolimerização.
Com relação ao polímero que contém um sal de amônia, seu valor reduzido da vis- cosidade específica (unidade: CST/g/mL), determinado de acordo com o método de medi- 7 ção descrito abaixo, é preferencialmente de 5 a 120, com maior preferência de 10 a 110, e paniculamente de preferência de 15 a 100. ' Método de medição da viscosidade específica reduzida Em um frasco de medição de 20 mL, foi pesada uma quantidade de 3,33 g de uma solução de polimero 30% em peso (1 g de conteúdo sólido), e o frasco de medição foi pre- enchido até a linha de medição com N-metil pirrolidona.
A solução resultante foi colocada em um viscômetro Ubbelohde (constante do viscômetro: 0,010 cSt/s) e um período para processamento da solução, à temperatura de 30ºC, foi medido.
A viscosidade foi determina- da de uma forma convencional de acordo com seguinte fórmula: Viscosidade cinética = constante do viscômetro x período para o líquido passar através de um capilar (s) Exemplos específicos de polímeros contendo um grupo amônio são fornecidos : abaixo: (1) copolímero de etil metacrilato de p-toluenosulfonato de 2 — (trimetilamônio) / me- tacrilato de 3,6 - dioxaeptila (proporção molar: 10/90) ' (2) copolímero de etil metacrilato de hexafluorofosfato de 2 — (trimetilamônio) / me- tacrilato de 3,6 dioxaeptila (proporção molar: 20/80) ' (3) copolimero de etil metacrilato de p-toluenosulfonato de 2 — (etildimetilamônio) / metacrilato de hexila (proporção molar: 30/70) (4) copolímero de etil metacrilato de hexafluorofosfato de 2 — (trimetilamônio) / me- tacrilato de 2 — etilexila (proporção molar: 20/80) (5) copolímero de etil metacrilato de metilsulfato de 2 — (trimetilamônio) / metacrilato de 3,6 - dioxaeptila (proporção molar: 40/60) (6) copolímero de etil metacrilato de hexafluorofosfato de 2 — (butildimetilamônio) / metacrilato de 3,6 — dioxaeptila (proporção molar: 20/80) (7) copolimero de etil acrilato de hexafluorofosfato de 2 — (butildimetilamônio) / me- tacrilatode3,6- dioxaeptila (proporção molar: 20/80) (8) copolímero de etil metacrilato de 13 — etil — 5,8,11 — trioxa — 1 - heptadecanosul- fonato de 2 — (butildimetilamônio) / metacrilato de 3,6 — dioxaeptila (proporção molar: 20/80) (9) copolímero de etil metacrilato de hexafluorofosfato de 2 — (butildimetilamônio) / metacrilato de 3,6 — dioxaeptila/ metacrilato de 2 — hidróxi — 3- metacriloliloxipropila (propor- çãomolar 15/80/5) O conteúdo do agente óleo sensibilizante é de preferência de 0,01 a 30,0% em pe- S so, com maior preferência de 0,1 a 15,0% em peso, e ainda com maior preferência de 1 a
10% em peso, baseado no conteúdo total sólido da camada de registro de imagem. Outros componentes Outros componentes, por exemplo, um surfactante, um corante, um agente de im- , pressão, um inibidor da polimerização, um derivado de ácido graxo, um plastificante, uma partícula inorgânica fina, um composto inorgânico estratiformes, um cossensibilizante ou um 1 agente de transferência de cadeia podem também ser adicionados à camada de registro de imagem. Especificamente, os compostos e as quantidades adicionadas descritas, por exemplo, nos parágrafos Nos. 0114 a 0159 de JP-A-2008-284817, parágrafos Nos. 0023 a 0027 de JP-A-2006-91479 e parágrafo no. 0060 do Pedido de Patente U.S. No. 2008/0311520 são os de preferência utilizados.
Formação da camada de registro de imagem A camada de registro de imagem, de acordo com a invenção, é formada pela dis- persão ou dissolução dos componentes necessários descritos acima em um solvente co- nhecido para preparar uma solução de revestimento e revestindo a solução em um suporte porum método conhecido, por exemplo, revestimento e e secagem conforme descrito nos ' parágrafos nos. 0142 a 0143 de JP-A-2008-195018. A quantidade do revestimento (conteú- do do sólido) da camada de registro de imagem formada no suporte após o revestimento e ' secagem pode variar de acordo com o objetivo da invenção, mas geralmente é de preferên- " cia de 0,3 a 3,0 g/m?. Na faixa descrita acima, as propriedades de boa sensibilidade e bom revestimento da camada de registro da imagem podem ser obtidas. ' Camada de bloqueio de oxigênio O precursor da placa de impressão litográfica para uso na invenção apresenta de preferência uma camada de bloqueio de oxigênio. A camada contém uma resina hidrossolú- vel e no mínimo uma selecionada de polímero de partículas finas que apresenta uma cadeia de polioxialquileno em sua cadeia lateral, uma partícula fina esférica inorgânica e uma partí- cula fina inorgânica estratiforme. Na incorporação da partícula fina na camada de bloqueio de oxigênio, a propriedade de adesão a vácuo de um fotolito é melhorada em comparação com o caso onde a partícula fina é incorporada na camada de registro de imagem. No caso de adição de uma partícula fina, é necessário incorporar uma resina hidrossolúvel para ligar as partículasfinas.
Resina hidrossolúve! A resina hidrossolúvel para ligação das partículas finas não é limitada a medida que pode dispersar as partículas finas e formar uma camada uniforme aderida à camada de re- gistro de imagem, e pode ser apropriadamente selecionada para uso. Especificamente, por exemplo, um álcool! polivinílico, um álcool! polivinílico modificado, pirrolidona polivinílica, imi- dazol polivinílico, ácido poliacrílico, poliacrilamida, um produto parcialmente saponificado de 7 acetato de polivinila, um copolímero de álcool vinílico-etileno, um derivado de celulose hi-
drossolúvel, gelatina, um derivado de amido, ou goma arábica é exemplificado. A resina hi- drossolúvel pode ser utilizada como uma combinação de duas ou mais, se desejado. Das resinas, álcool polivinílico, um álcool polivinílico modificado, pirrolidona polivinílica, gelatina 7 ou goma arábica é a de maior preferência porque é capaz de ser revestida utilizando água comoum solvente, e ser facilmente removida com água corrente na impressão.
' O álcool polivinílico para uso na camada de bloqueio de oxigênio, de acordo com a invenção, pode ser parcialmente substituído com um éster, um éter ou um acetal a medida que contém uma quantidade substancial de unidades de álcool vinílico não substituído ne- cessárias para manter a solubilidade da água. O álcool polivinílico também pode conter par- cialmente outros componentes da copolimerização. Exemplos específicos do álcool polivini- lico incluem os 71 a 100% em mol hidrolisados e apresentando um nível de polimerização na faixa de 300 a 2.400. Especificamente, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA- 217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- ] 420, PVA-613 e L-8, produzido pela Kuraray Co., são exemplificados. Assim como o copoli- mero descrito acima, cloroacetato ou propionato de acetato de polivinila, polivinila formal e ' polivinil acetal e seus copolímeros, cada um hidrolisado de 88 a 100% em mo! são exempli- ' ficados.
Um álcool polivinílico conhecido pode também ser utilizado. Por exemplo, alcoóis ' polivinílicos de vários níveis de polimerização apresentando uma variedade de locais hidrofí- licos modificados, por exemplo, um local modificado por ânion, por exemplo, um grupo car- boxila ou um grupo suilfo, um local modificado por um cátion, por exemplo, um grupo amino ou um grupo amônio, um local silanot-modificado ou tiol-modificado e alcoóis polivinílicos de váriosníveisde polimerização, apresentando na cadeia polimérica terminal, vários tipos de locais modificados, por exemplo, o local ânion-modificado citado acima, o local cátion- modificado, o local silanol-modificado ou tiol modificado, um local alcóxi-modificado, um local sulfeto-modificado, um local modificado por um éster de álcool vinílico com vários tipos de ácidos orgânicos, um local modificado por um éster do local ânion-modificado descrito acima comum álcoolou um local epóxi-modificado são exemplificados. Do ponto de vista da pro- priedade de desenvolvimento da impressão, um álcool polivinílico apresentando um local ânion-modificado é o de preferência, e o álcool polivinílico modificado com um ânion do gru- po sulfo é o particularmente de preferência.
Um álcool polivinílico modificado, disponível comercialmente pode ser utilizado na presente invenção. Exemplos do produto disponível comercialmente incluem KURARAY POVAL KM-118, KL-118, KL-318, KL-506 e KM-618 (produzidos por Kuraray Co., Ltd.), GOSENAL T e GOSERAN L-3266 (produzidos pela Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,
Ltd.). Dois ou mais tipos de alcoóis polivinílicos modificados podem ser utilizados combina- dos.
Partículas finas . Fornecendo a camada de bloqueio de oxigênio contendo partículas finas na cama- daderegistro de imagem, a durabilidade da impressão é melhorada assim como a proprie- Í dade de adesão a vácuo. A partícula fina é no mínimo selecionada de polímero de partículas finas que apresenta uma cadeia de polioxialquileno em sua cadeia lateral, uma partícula fina esférica inorgânica e uma partícula fina estratiforme inorgânica. No caso do polímero de partículas finas, que apresenta uma cadeia de polioxialquileno em sua cadeia lateral é de preferência para evitar o depósito de resíduos no desenvolvimento da impressão.
O conteúdo do componente da partícula final total contido na camada de bloqueio de oxigênio é de preferência de 0,1 a 80% em peso, com maior preferência de 1 a 50% em peso, e ainda com maior preferência de 5 a 30% em peso. O conteúdo da partícula fina na camada de bloqueio de oxigênio é de preferência de 5/1 para 1/100 em termos da proporção em peso em relação à quantidade da resina hidrossolúvel utilizada na camada de bloqueio " de oxigênio. Quando uma pluralidade de partículas finas é utilizada em combinação, é de preferência que a quantidade total das partículas finas atinja a proporção em peso descrita acima. ? Polímero de partículas finas que apresenta cadeia de polioxialguileno em sua ca- deialateral : O polímero de partículas finas que apresenta uma cadeia de polioxialquileno em sua cadeia lateral para uso na camada de bloqueio de oxigênio é a mesma das partículas utilizadas na camada de registro de imagem descrita acima.
Partículas finas esféricas inorgânicas A partícula fina esférica inorgânica inclui, por exemplo, um metal e um composto metálico, por exemplo, um óxido, um composto óxido, um hidróxido, um carbonato, um sul- fato, um silicato, um fosfato, um níitrito, um carboneto, um sulfeto, ou um composto com dois ou mais destes. Exemplos específicos incluem vidro, óxido de Zinco, sílica, alumina, óxido de zircônio, óxido de estanho, titanato de potássio, titanato de estrôncio, borato de alumínio, óxidode magnésio, borato de magnésio, hidróxido de alumínio, hidróxido de magnésio, hi- dróxido de cálcio, hidróxido de titânio, sulfato de magnésio básico, carbonato de cálcio, car- bonato de magnésio, sulfato de cálcio, sulfato de magnésio, silicato de cálcio, silicato de magnésio, fosfato de cálcio, nitreto de silício, nitreto de titânio, nitreto de alumínio, carboneto de silício, carboneto de titânio, sulfeto de zinco e compostos com dois ou mais destes.
Exemplos de preferência incluem vidro, sílica, alumina, titanato de potássio, titanato de es- trôncio, borato de alumínio, óxido de magnésio, carbonato de cálcio, carbonato de magné- — sio, sulfato de cálcio, silicato de magnésio, fosfato de cálcio e sulfato de cálcio,
Como excipientes, muitos produtos disponíveis comercialmente podem ser utiliza- dos. Por exemplo, excipiente de sílica inclui, por exemplo, SNOWTEX 50 (tamanho da partí- cula: 0,025 um), SNOWTEX 0-40 (tamanho da partícula; 0,025 um), SNOWTEX CM (tama- f nho da partícula: 0,025 um), SNOWTEX 20 L (tamanho da partícula: 0,045 um), SNOWTEX XL (tamanho da partícula: 0,05 um), SNOWTEX YL (tamanho da partícula: 0,65 pm), 7 SNOWTEX ZL (tamanho da partícula: 0,85 um), MP 1040 (tamanho da partícula: 0,1 um), MP 2040 (tamanho da partícula: 0,2 um), MP 3040 (tamanho da partícula: 0,3 um), MP 1040 (tamanho da partícula: 0,1 um) e MP 4540 (tamanho da partícula [sílica]: 0,45 um), produzi- das pela Nissan Chemical Industries, Ltd., e SYLYSIA 310 (tamanho da partícula: 1,4 um), SYLYSIA 320 (tamanho da partícula: 1,6 um), SYLYSIA 350 (tamanho da partícula: 1,8 um), SYLYSIA 370 (tamanho da partícula: 3,0 um), SYLYSIA 530 (tamanho da partícula: 1,9 um), SYLYSIA 550 (tamanho da partícula: 2,7 um), SYLYSIA 250 (tamanho da partícula: 2,7 um), SYLYSIA 430 (tamanho da partícula: 2,5 um) produzidas pela Silysia Chemical Ltd.
Na partícula fina esférica inorgânica, é de preferência que o componente inorgânico seja sílica (SIOs), do ponto de vista da estabilidade da dispersão em uma solução de reves- ' timento, custo e do alto coeficiente de fricção.
Com relação ao tamanho da partícula fina esférica inorgânica, um tamanho médio : de partícula está de preferência na faixa de 50 a 2.000 nm, com maior preferência na faixa Í de 60 a 1.000 nm, e ainda com maior preferência na faixa de 70 a 300 nm. Quando o tama- nho médio da partícula é 50 nm ou maior, a propriedade de adesão a vácuo é melhorada. ' Quando o tamanho médio da partícula é 2.000 nm ou menor, uma vez que a propriedade de bloqueio de oxigênio é suficiente, a sensibilidade de formação da imagem não é reduzida, e uma vez que a área de contato das partículas finas esféricas inorgânicas é suficiente, o efei- to de aumento do coeficiente de fricção é obtido para não causar deslocamento.
O tamanho médio da partícula descrita acima foi medido de acordo com um método de sedimentação por centrifugação, utilizando um dispositivo de medição da distribuição do tamanho da partícula (BI-DCP, produzido pela Brookhaven Instruments Corp.).
Composto estratiforme inorgânico De acordo com a invenção, a camada de bloqueio de oxigênio pode conter um composto estratiforme inorgânico juntamente com a resina hidrossolúvel. O composto estra- tiforme inorgânico é uma partícula que apresenta uma forma tabular fina, e inclui, por exem- plo, mica, uma mica natural representada pela seguinte fórmula: A (B, C)>5 Da )io (OH, F, O): (onde A representa K, Na e Ca, B e C representam cada um Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg e V, e D representa Si ou Al), ou mica sintética, talco representado pela seguinte fórmula: — 3MgO4SiHO, taeniolita, montmorilonita, saponita, hectorita e fosfato de zircônio.
Com relação às micas, exemplos de mica natural incluem muscovita, paragonita, 7 flogopita, biotita e lepidolita. Exemplos de mica sintética incluem mica não, por exemplo,
fluorflogopita KMgs(AISIZO1o)F2 ou mica tetrasilícica de potássio KMg 2 s(SisOro)F2, e mica expansível, por exemplo, mica tetrasilícica de sódio NaMg 2,s(Si4O109)F2, taeniolita de sódio ou lítio (Na, Li) Mg2Li(Si4O1o9)F2, hectorita de Na ou Li com base de montmorilonita (Na, ' Li): a Mg2sLiva(SiO 109)F2. Esmectita sintética também é útil, Na invenção, dentre os compostos estratiformes inorgânicos, a mica é o de prefe- ' rência e a mica expansível com base de flúor é um composto particularmente útil.
Especifi- camente, a mica sintética expansível e um mineral de argila expansível, por exemplo, mon- tmorilonita, saponita, hectorita ou bentonita apresentam uma estrutura laminar que compre- ende uma camada reticulada com unidades cristalográficas, com espessura de aproxima- damente10a15 angstroms, e a substituição de átomos metálicos é considerável! em com- paração com os minerais da argila.
Como resultado, a camada reticulada na ausência de cargas positivas, permitir que um cátion, por exemplo, Li”, Na+, Ca? ou Mg? seja adsorvido entre as camadas do reticulado.
Particularmente, no caso onde o cátion entre as camadas é o Li* ou Na', e uma vez que o raio iônico é pequeno, a ligação entre o reticulado é fraca, permitindo uma ampla expansão com a água.
Quando uma ação é aplicada nesta condição, ' os reticulados dos cristais estratiformes são facilmente quebrados para formar uma solução estável na água.
A bentonita e a mica sintética expansível apresentam esta forte tendência e ' são úteis na invenção, em particular, a mica sintética expansível é a de preferência utilizada.
Í Com relação a forma do composto estratiforme inorgânico para uso na invenção, do ponto de vista de controle da difusão, a espessura é preferencialmente menor e a medida ' que a maciez da superfície revestida e a transmissão da radiação actínica não são prejudi- cadas, o tamanho do plano é preferencialmente maior.
Logo, uma proporção do aspecto é de preferência 20 ou mais, com maior preferência 100 ou mais, e ainda com maior preferên- cia 200 ou mais.
A proporção do aspecto é a proporção do maior eixo da espessura da par- tícula, e pode ser determinado, por exemplo, a partir do desenho da projeção da partícula através de uma microfotografia.
Quanto maior a proporção do aspecto, maior o efeito obtido.
Com relação ao diâmetro da partícula do composto estratiforme inorgânico para uso na invenção, o eixo médio maior é de 0,3 a 20 um, de preferência de 0,5 a 10 um, e particu- larmente de preferência de 1 a 5 um.
Uma espessura média da partícula é de 0,1 um ou menor, de preferência 0,05 um ou menor, e particularmente de preferência de 0,01 um ou menor.
Por exemplo, com relação à mica sintética expansível, que é o composto representa- tivo do composto estratiforme inorgânico, a espessura é de aproximadamente 1 a 50 nm, e o tamanho do plano é de aproximadamente 1 a 20 um.
Quando tal partícula do composto estratiforme inorgânico apresentando uma ampla proporção de aspecto é incorporada na camada de bloqueio de oxigênio, a resistência da camada revestida aumenta e a penetração do oxigênio ou umidade pode ser eficazmente 7 inibida, e, portanto, é evitada a deterioração da camada de bloqueio de oxigênio, por exem-
plo, por deformação, e mesmo quando o precursor da placa de impressão litográfica é man- tido por um longo período de tempo sob condição de alta umidade, a deterioração da propri- edade de formação de imagem no precursor da placa de impressão litográfica é evitada, º mantendo uma excelente estabilidade de conservação.
Camada interna í No precursor da placa de impressão litográfica, de acordo com a invenção, é de preferência fornecer uma camada interna entre a camada de registro de imagem e o supor- te.
A camada interna fortalece a adesão entre o suporte e a camada de registro de imagem na área exposta e facilita a remoção da camada de registro de imagem do suporte na área não exposta, desta forma contribuindo para a melhora da propriedade de desenvolvimento sem prejudicar a durabilidade da impressão.
No caso de exposição a laser infravermelho, a Medida que a camada interna atua como uma camada isolante, uma redução na sensibili- dade devido a difusão do calor gerada com a exposição no suporte é evitada.
Exemplos de compostos para uso na camada interna, tais como, um agente de |i- —gação de silano, que apresenta um grupo de reação de ligação dupla, etilênico, polimerizá- : vel por adição, descrito em JP-A-10-282679, e um composto de fósforo que apresenta um grupo de reação de ligação dupla, etilênico, descrito em JP-A-2-304441 são os de preferên- ' cia.
Uma resina polimérica que apresenta um grupo de adsorção capaz de adsorver em uma Í superfície do suporte, um grupo hidrofílico e um grupo de ligação cruzada, conforme descrito emJP-A-2005-125749 e JP-A-2006-188038 são os de preferência exemplificados.
A resina ' polimérica é de preferência um copolímero de um monômero que apresenta um grupo de adsorção, um monômero que apresenta um grupo hidrofílico e um monômero que apresenta um grupo de ligação cruzada.
Mais especificamente, uma resina polimérica, que é um copo- límero de monômeros que apresentam um grupo de adsorção, por exemplo, um grupo hi- droxifenólico, um grupo carboxila, -POsH3, -OPOsH3 -CONHSO;z, -SONHSO; e — COCH.COCH3, um monômero apresentando um grupo sulfo hidrofílico e um monômero apresentando um grupo de ligação cruzada polimerizável, por exemplo, um grupo metacrila ou um grupo alila.
A resina polimérica pode conter um grupo de ligação cruzada introduzido por uma formação de sal entre um substituinte polar da resina polimérica e um composto contendo um substituinte, que apresenta uma carga diferente do substituinte polar da resina polimérica, e uma ligação etilenicamente insaturada, e pode ser também copolimerizada com um monômero diferente dos citados acima, de preferência um monômero hidrofílico.
O conteúdo da ligação dupla insaturada na resina polimérica na camada interna é de preferência de 0,1 a 10,0 mmol, com maior preferência de 2,0 a 5,5 mmol, baseado em 1 gdaresina polimérica.
O peso molecular médio ponderado da resina polimérica para a camada interna é de preferência 5.000 ou mais, com maior preferência de 10.000 a 300.000.
A camada interna, de acordo com a invenção, pode conter um agente quelante, uma amina secundária ou terciária, um inibidor da polimerização ou um composto contendo um grupo amino, ou um grupo funcional que é capaz de inibir a polimerização, e um grupo 7 capaz de interagir com a superfície do suporte de alumínio (por exemplo, 1,4 —diazobiciclo [2,22] octano (DABCO), 2,3,5,6 — tetraidroxi-p-quinona, cloranil, ácido sulfoftálico, ácido : hidroxietiletilenodiaminotriacético, ácido diidroxietiletilenodiaminodiacético ou ácido hidroxie- tiliminodiacético), além dos compostos para a camada interna descrita acima, para evitar a ocorrência de manchas devido ao lapso de tempo.
A camada interna é revestida de acordo com um método conhecido.
A quantidade derevestimento (conteúdo sólido) da camada interna é de preferência de 0,1 a 100 ma/m?, e com maior preferência de 1a 30 mg/m?. Suporte O suporte conhecido é utilizado como precursor da placa de impressão litográfica, de acordo com à invenção.
Particularmente, uma placa de alumínio submetida a um trata- mento de espessamento e de anodização, de acordo com um método conhecido, é a de ' preferência.
Um tratamento de dilatação ou um tratamento de selagem de microporos do filme ] anodizado descrito em JP-A-2001-253181 e JP-A-2001-322365 ou um tratamento de hidrofi- ' lização da superfície, por exemplo, com um silicato de metal alcalino, conforme descrito nas Patentes U.S.
Nos. 2.714.066, 3.181.461, 3.280.734 e 3.902.734 ou com ácido polivinil fos- Ú fônico, conforme descrito nas Patentes U.S.
Nos. 3.276.868, 4.153.461 e 4.689.272, pode ser adequadamente selecionado e aplicado à placa de alumínio, se desejado.
O suporte preferencialmente apresenta uma espessura média da linha central de 0,10 a 1,2 um.
O suporte pode apresentar uma camada inferior contendo um composto de políme- ro orgânico, descrito em JP-A-5-45885, ou um composto alcóxi de silício, descrito em JP-A- 6-35174, fornecido na sua superfície inferior, se desejado, Exposição UV/material de base transparente/redução de pressão Para raíos ultravioleta, uma máquina de exposição de mesa para uma placa PS convencional, onde a exposição da imagem é conduzida através de um fotolito, é utilizada de preferência.
Neste momento, o vácuo é conduzido de acordo com um equipamento pa- drão da máquina de exposição.
Especificamente, um precursor da placa de impressão lito- gráfica é colocado em uma mesa de exposição e um fotolito é colocado sobre o precursor da placa de impressão.
Uma base transparente, por exemplo, um vidro ou um filme transpa- rente é colocado no fotolito, o vácuo é aplicado, e a exposição UV é realizada, por exemplo, com uma lâmpada de halogênio ou uma lâmpada de mercúrio.
O nível do vácuo é de prefe- - rência 100 mmHg ou menor, e particularmente de preferência 30 mmHg ou menor.
Isso ocorre porque o oxigênio no ar causa a inibição da polimerização no caso da camada de registro de imagem, onde uma imagem é formada através da polimerização por adição de radicais.
Com a utilização de uma camada de bloqueio de oxigênio, a inibição da polimeriza- 1 ção devido ao oxigênio é evitada, obtendo alta durabilidade da impressão.
Método de produção da placa/Método de impressão da placa de impressão litográ- 7 fica A produção do precursor da placa de impressão litográfica, de acordo com a inven- ção, é realizada através do método de desenvolvimento baseado na impressão.
O método incluí uma etapa onde o precursor da placa de impressão litográfica é exposto à imagem e uma etapa de impressão onde no mínimo uma tinta oleosa e um componente aquoso são fornecidos ao precursor da placa de impressão litográfica sem qualquer processamento para realizar a impressão, e é caracterizado pelo fato da área não exposta do precursor da placa de impressão litográfica ser removida no curso da etapa de impressão.
A exposição da ima- gem pode ser realizada com um laser semicondutor infravermelho de alto rendimento com exposição UV através de uma lâmpada de mercúrio de alta pressão ou uma lâmpada de ' haleto metálico após a colocação do fotolito e aplicação do vácuo.
Após a exposição, o pre- cursor da placa litográfica de impressão é montado como se estivesse em um equipamento ' de impressão sem se submeter à etapa de processamento.
Então, a impressão é realizada ' utilizando a máquina de impressão com a aplicação de uma tinta oleosa e um componente aquoso, e em um estágio inicial, o desenvolvimento do processo de impressão é realizado. : Especificamente, a camada de registro de imagem na área não exposta é removida e a su- perfície hidrofílica do suporte é revelada para formar a área sem formação de imagem.
Com relação à tinta oleosa e ao componente aquoso, tinta de impressão e água corrente podem ser empregados para impressão litográfica, respectivamente.
Exemplo A presente invenção será descrita em detalhes com referência aos seguintes exemplos, mas a invenção não deve ser elaborada limitada a estes.
Com relação ao com- posto polimérico, a menos que específicado ao contrário, um peso molecular do composto significa um peso molecular médio ponderado (mW) e a proporção de unidades de repetição éindicadacomo'% em mol.
Exemplo 1 Preparação do precursor da placa de impressão litográfica (1) (1) Preparação do suporte Uma placa de alumínio (material: JIS A 1050) apresentando uma espessura de 0,3 mm foisubmetidaa um tratamento desengordurante, à temperatura de 50ºC, por 30 s, utili zando uma solução de aluminato de sódio aquosa 10% em peso, para remover óleo da su —— —— perfície dos cilindros, e da superfície granulada utilizando três escovas com cerdas de nylon apresentando um diâmetro de 0,3 mm e uma suspensão aquosa (gravidade específica: 1,1 glem3) de pedra-pomes com tamanho médio de 25 um, seguido pela lavagem com água. À placa foi submetida à gravação pela imersão em uma solução aquosa de hidróxido de sódio º 25% em peso, à temperatura de 45ºC por 9 s, lavada com água, então imersa em uma solu- ção de ácido nítrico 20% em peso, à temperatura de 60ºC por 20 s e lavada com água. À " quantidade gravada da superfície foi de cerca de 3 gm? Então, utilizando uma corrente alternada de 60 Hz, um tratamento eletroquímico de espessamento foi realizado na placa. A solução eletrolítica utilizada foi uma solução aquosa de ácido nítrico 1% em peso (contendo 0,5% em peso do íon alumínio), e a temperatura da solução eletrolítica foi de 50ºC. O tratamento eletroquímico de espessamento foi realizado utilizando uma corrente alternada que apresenta uma onda de forma trapezoidal, cujo tempo TP necessário para o valor da corrente atingir o pico a partir de zero foi de 0,8 mseg, e a proporção foi de 1:1, utilizando um eletrodo de carbono como um contra eletrodo. Um ferrite foi utilizado como um anodo auxiliar. A densidade corrente foi de 30 A/dm? em termos do —valorde pico da corrente elétrica, e o percentual de 5% do fluxo da fonte elétrica foi dividido ' para o anodo auxiliar. A quantidade de energia na eletrólise do ácido nítrico foi de 175 Ccldm? quando a placa de alumínio funcionou como um anodo. A placa foi então lavada com água ' por pulverização. * ' A placa foi submetida também a um tratamento de espessamento eletroquímico da mesma forma que a descrita para a eletrólise do ácido nítrico acima, utilizando uma solução Ú eletrolítica, uma solução aquosa de ácido clorídrico 0,5% em peso (contendo 0,5% em peso do íon alumínio), à temperatura de 50ºC e com 50 C/dm? de energia em termos da quanti- dade de eletricidade quando a placa de alumínio funcionou como um anodo. A placa foi en- tão lavada com água por pulverização.
A placa foi então submetida a um tratamento de anodização utilizando uma solução eletrolítica, uma solução aquosa de ácido sulfúrico 15% em peso (contendo 0,5% em peso de íon alumínio), com uma densidade corrente de 15 A/dm? para formar um filme anodizado de 2,5 g/m?, lavado com água e seco para preparar o suporte (1).
Logo, para garantir a hidrofilia da área sem imagem, o suporte (1) foi submetido ao tratamento com silicato utilizando uma solução aquosa de silicato de sódio No.3, 2,5% em peso, à temperatura de 60ºC por 10 segundos, e então foi lavado com água para obter o suporte (2). A quantidade de adesão do Si foi de 10 mg/m?. A espessura média da linha cen- tral (Ra) do suporte foi medida utilizando uma agulha com um diâmetro de 2 um e obtido o valor de 0,51 um.
(2) Formação da camada inferior Uma solução de revestimento (1) para a camada inferior demonstrada abaixo foi re- 7 vestida no suporte (2) descrito acima para apresentar uma quantidade de revestimento seco de 20 ma/m?, para preparar um suporte com uma camada inferior para uso nos experimen- tos descritos a seguir.
Solução de revestimento (1) para camada inferior º Composto (1) para camada inferior apresentando a estrutura de- 0,189 monstrada abaixo H Ácido hidroxietiliminodiacético 0,109 Metanol 55,24 g Água 6,159 CH, Hs tH-O5 Ater -cHi; Acre Forti, &oo ConNH CONH õoo CHICHAO)-POsH. +, To, . (CH;CHOo] (CHCHAO)-POsH, O.H iN (eras % < (Mw: 100.000) Composto (1) para camada inferior : (3) Formação da camada de registro de imagem A solução de revestimento para a camada de registro de imagem, apresentando a composição demonstrada abaixo, foi revestida na camada interna, formada conforme acima, í 10 poruma barra e seca em um forno à temperatura de 100ºC por 60 segundos para formar uma camada de registro de imagem com uma quantidade de revestimento seco de 1,0 gm?. B A solução de revestimento para camada de registro de imagem foi preparada pela mistura de uma solução de pré-revestimento para camada de registro de imagem demons- trada abaixo com uma dispersão aquosa de polímero de partículas finas demonstrada abai- xoantesdo revestimento, seguido por agitação.
Solução de pré-revestimento para camada de registro de imagem . Polimero de ligação (1) apresentando a estrutura demonstrada abaixo 0,240g Corante de cianina (composto (A-7)) 0,030 g Iniciador da polimerização por adição de radicais (1) apresentando a estru- 0,162g tura abaixo Composto polimerizável (isocianurato de Tris(acriloiloxietil) (NK ESTER A- 0,929 9300, produzido por Shin-Nakamura Chemical Co.
Ltd.) Composto hidrofítico com base peso molecular (isocianurato de (tris(2- 0,0629g hidroxietil)) Composto hidrofílico com baixo peso molecular (1) apresentando a estru- 0,050 9 tura demonstrada abaixo Agente óleo-sensibilizante (composto de fosfônio (1) com a estrutura de- 0,055 9 mMonstrada abaixo) Agente óleo-sensibilizante (sal de benzil dimetil octil amônio PFs) 0,018g Agente óleo-sensibilizante (polímero contendo um radical amônio apresen- 0,035 g tando a estrutura demonstrada abaixo (viscosidade específica reduzida: 44 cStigmL) Surfactante com base de flúor (1) apresentando a estrutura demonstrada 0,008 g abaixo 2 - butanona 1,0919 : 1-metoxi — 2 - propanol 8,609 g Dispersão aquosa de polímero de partículas finas Após ajustar a concentração do conteúdo sólido para 11,3% em peso pela adição de água ao Microgel (1) descrito abaixo, a quantidade de 5,06 g da dispersão aquosa foi adicionada à solução de pré-revestimento para camada de registro de imagem descrita aci- ma, para preparação de uma solução de revestimento para a camada de registro de ima- ' gem.
As estruturas do polímero de ligação (1), do iniciador da polimerização por adição Í de radicais (1), do composto fosfônio (1), do composto hidrofílico de baixo peso molecular (1), do polímero com grupo amônio e do surfactante com base de flúor (1) são demonstra- das abaixo, M Me, Me é ao IEA ofoMe O AL I-me o oro ta OH Me (MW: 70.000) Polímero de ligação (1) Me ; Me : ir o aus : PFg Polímero contendo grupo amônio DAT NAQOA VI 8SO0N a Composto hidrofílico de baixo peso molecular (1) + + = DA A Sa Of ão kh O;8 7 SOs Ds Composto de fosfônio (1)
Aererla- COOCHACgF 13 : A en er) CAOCIH4)11 -(OTaHgs)22 -(OCaHad11-OH
O (Mw: 13.000) Surfactante com base de flúor (1) H;CO + == en tery-o IEO-ocn 7 — / : PF H3;CO - 5 Iniciador da polimerização por adição de radicais (1) Preparação do microgel (1) apresentando cadeia de polioxialguileno em sua cadeia . lateral Um componente de fase oleosa foi preparado dissolvendo 4,46 g de isocianato poli- funcional apresentando a estrutura demonstrada abaixo (produzido pela Mitsui Chemicals Polyurethane, Inc., 75% em peso de solução de acetato de etila), 0,86 g de um aduto obtido pela adição de trimetilolpropano (6 mol) e diisocianato de xileno (18 mol) e adição de metil polioxietileno (1 mol) (número de unidades de repetição de oxietileno: 90) (produzido pela Mitsui Chemicals Polyurethane, Inc., 50% em peso da solução de acetato de etila), 1,72 g de tetraacrilato de pentaeritritol (SR399E, produzido por Sartomer Co.) e 0,05 g de PIONIN-A-
15. 41C (produzido pela Takemoto Oil & Fat Co., Ltd., 70% em peso de solução de metanol) em 4,46 g de acetato de etila, O componente da fase oleosa e 17,30 g de água como um com- ponente da fase aquosa foram misturados e emulsificados utilizando um homogeneizador a
10.000 rpm por 15 minutos. A emulsão resultante foi agitada à temperatura de 40ºC por 4 horas. O líquido do microgel obtido foi diluído utilizando água para atingir a concentração do conteúdo sólido de 21,8% em peso. O tamanho médio da partícula do microgel foi de 0,25 um. Isocianato polifuncional
À CENA SN NO ureo : onto Exemplos 2 a 10 e exemplos comparativos 1 a 3 Os precursores da placa de impressão litográfica (2) a (13) foram preparados subs- tituindo o corante cianina (A-7) e o iniciador da polimerização por adição de radicais (1), uti- lizadosnoexemplo 2, pelos demonstrados na tabela 2, respectivamente.
Tabela 2
ELOA A A E A AB . FP A A
LAB . LE A A . Ps A
RL ÇA - Corante de cianina A: Composto de sal de 2 — [2 — [2 — feniltio — 3 — [(1,3 — diidro — 1,3,3 — trimetil — 2H — indol — 2 — ilideno) etilideno] — 1 — ciclo hexeno — 1 — il] etenil] — 1,3,3 — trimetil — 3H — indólio Iniciador da polimerização (2): Hexafluorofosfato de tris (4 — clorofenil) sulfônio Iniciador da polimerização (3): Clorodifenil iodônio Iniciador da polimerização (4): Hexafluorofosfato de trifenilsulfônio Iniciador da polimerização (A): 2-(4- metoxifenil — 4,6 — bis (triclorometil) — 2 — triazina Exposição do precursor da placa de impressão litográfica (1)Exposição UX No precursor da placa de impressão litográfica (1,080 mm x 800 mm) obtido foi co- locado um fotolito (900 mm x 600 mm) e após a redução da pressão de condução com vá- cuo de 25 mm Hg por 30 segundos, a exposição foi realizada por 30 segundos com Luz PS.
(2) Exposição com laser semicondutor infravermelho O precursor da placa de impressão litográfica obtido foi exposto por LUXEL
PLATESETTER T-6000!!l, equipado com um laser semicondutor infravermelho (produzido pela FUJIFILM Corp.) sob condições de um número de rotações de um cilindro externo de
1.000 rpm, rendimento do laser de 70% e resolução de 2.400 dpi. A imagem exposta apre- ' sentava uma imagem sólida e um gráfico com 50% de pontos em uma tela FM com pontos dez20pWm í Avaliação do precursor da placa de impressão litográfica (1) Propriedade de desenvolvimento da impressão e formação de resíduos O precursor da placa de impressão litográfica exposto foi montado sem se subme- ter ao processamento em um cilindro de uma máquina de impressão (LITHRONE 26, produ- zida pela Komori Corp.). Utilizando água corrente (ECOLITY-2 (produzida pela FUJIFILM Corp. /água corrente = 2/98 (proporção do volume e FUSION-G (N) Black Ink (produzido por DIC Corp.), a água corrente e a tinta foram fornecidas de acordo com o método padrão de impressão automática da LITHRONE 26 para a impressão de 100 folhas de papel TOKUBISHI (76,5 kg), com uma velocidade de impressão de 10.000 folhas/hora. Um número de papéis impressos necessários até a finalização do desenvolvimento : da impressão da área não exposta da camada de registro de imagem na máquina de im- pressão para atingir um estado onde a tinta não seja transferida para o papel de impressão ' na área de não imagem foi medido para avaliar a propriedade de desenvolvimento da im- 7 pressão. Essa operação foi repetida 20 vezes utilizando o precursor da placa de impressão ' litográfica e a adesão de resíduos em um material impresso obtido na 20º vez foi examina- do. Os resultados obtidos estão demonstrados na tabela 3. Durabilidade da impressão Após a realização da avaliação da propriedade de desenvolvimento da impressão descrita acima, a impressão foi continuada. Com o aumento do número de papéis impres- sos, a camada de registro de imagem foi gradualmente sendo gasta causando uma redução na densidade da tinta no material impresso. O número de papéis impressos, onde um valor obtido pela medição da proporção da área de 50% marcada da tela FM no material impresso utilizando um densitômetro Gretag reduziu cerca de 5% do valor medido com 100% de im- pressão, foi determinado para avaliar a durabilidade da impressão. Os resultados obtidos estão apresentados na tabela 3. Tempo de adesão com aplicação de vácuo O precursor da placa de impressão litográfica de 1.080 mm x 800 mm foi colocado em uma mesa de uma máquina de exposição à luz PS, um fotolito de 900 mm x 600 mm foi colocado no precursor da placa de impressão litográfica, e foram cobertos com uma placa de vidro e submetidos a um vácuo de 25 mmHg. Neste momento, o tempo de adesão foi determinado. O tempo de adesão com aplicação de vácuo foi determinado medindo o tempo necessário para remoção do ar remanescente entre o precursor da placa e o fotolito.
Os resultados obtidos estão demonstrados na tabela 3.Tabela 3 Precursor | Nºdefolhasdo | Durabilidade | Durabilidade da | Tempo de | Adesão da placa de | desenvolvimento | daimpressão | impressãocom | adesão | deresi- ' impressão da impressão comexposi- | exposiçãode | comapilt | duos litográfica ção UV raios infraver- | cação de melhos vácuo Exemplo 1 [) 5,0 x 10º 4,0 x 10º folhas 25 Ausente folhas Exemplo 2 [63] 10 4,5x10 3,5 x 10º folhas folhas 6 170 4,0 x 10 3,0 x 10º folhas 25 folhas Exemplo 4 (Es) 10 4,0 x10 3,0 x 10º folhas folhas Exemplo 5 6) 3,0 x 10º folhas 25 Ausente folhas Exemplo 6 6) 4,5 x10 3,0 x 10º folhas E ad folhas folhas folhas 7 folhas folhas » Exemplo 170 o 1,0 x 10º folhas 25 Ausente comparativo 1 : Exemplo (10) 10 15 x10" 1,0 x 10º folhas Ausente comparativo folhas 2 - Exemplo (13) 12 15x10 0,5 x 10º folhas Ausente comparativo folhas 3 No caso onde o iniciador da polimerização combinado com o corante de cianina é o sal de difenil iodônio ou trifenil sulfônio, a alta durabilidade da impressão é obtida com a ex- posição UV e com laser infravermelho.
Exemplos 11 a 22 e exemplos comparativos 4 a 10 (1)Formação da camada de registro de imagem Com relação aos precursores da placa de impressão litográfica (14) a (17) e (26) a (28), a camada de registro de imagem foi formada da mesma forma que no exemplo 1, ex- ceto pela substituição do mícrogel (1) na dispersão aquosa do polímero de partículas finas com microgel ou o polímero de partículas finas descrito abaixo, conforme demonstrado na tabela 4. A dispersão aquosa do polímero de partículas finas foi utilizada para ajustar a con- centração para 11,3% em peso.
Preparação do microgel (2) apresentando cadeia de polioxialquileno em sua cadeia laterale ligação etilenicamente insaturada Um componente de fase oleosa foi preparado dissolvendo 4,46 g de isocianato poli- funcional apresentando a estrutura demonstrada acima (produzido pela Mitsui Chemicals Polyurethane, Inc., 75% em peso de solução de acetato de etila), 0,86 g de um aduto obtido pela adição de trimetilolpropano (6 mol) e diisocianato de xileno (18 mol) e adição de metil polioxietileno (1 mol) (número de unidades de repetição de oxietileno: 90) (produzido pela Mitsui Chemicals Polyurethane, Inc., 50% em peso da solução de acetato de etila), 0,5 g de ' isocianato de 2-metacriloliloxietila (HARENZ MOI, produzido por Showa Denko K.K.) e 0,05 gdePIONIN-A-41C (produzido pela Takemoto Oil & Fat Co., Ltd., 70% em peso de solução 7 de metanol) em 4,46 g de acetato de etila, O componente da fase oleosa e 17,30 g de água como um componente da fase aquosa foram misturados e emulsificados utilizando um ho- mogeneizador a 10.000 rpm por 15 minutos.
A emulsão resultante foi agitada à temperatura de 40ºC por 4 horas.
O líquido do microgel obtido foi diluído utilizando água para atingir a concentração do conteúdo sólido de 21,8% em peso.
O tamanho médio da partícula do mi- crogel foi de 0,25 um.
Preparação do microge! (3) não apresentando cadeia de polioxialquileno em sua cadeia lateral Um componente de fase oleosa foi preparado dissolvendo 10 g de aduto de trimeti- lol propano e diisocianato de xileno (TAKENATE-D-110N, produzido pela Mitsui Chemicals Ú Polyurethane, Inc.), e 0,1 g de PIONIN-A-41C (produzido pela Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) em 17 g de acetato de etila.
Como um componente da fase oleosa, uma quantidade de 40 g ! de uma solução aquosa de álcool polivinílico 4% em peso (KURARAY POVAL PVA-205), 7 produzido pela Kuraray Co., Ltd.) foi preparada.
O componente da fase oleosa e o compo- nente da fase aquosa foram misturados e emulsificados utilizando um homogeneizador a : 12.000 rpm por 10 minutos.
A emulsão resultante foi adicionada a 25 g de água destilada e agitada à temperatura ambiente, por 30 minutos, e então à temperatura de 50ºC por 3 ho- ras.
O líquido do microgel obtido foi diluído utilizando água destilada para atingir a concen- tração do conteúdo sólido de15% em peso para prepara o microgel (3). O tamanho médio da partícula do microgel foi medido por um método de dispersão de luz de laser e conside- rado como 0,2 um.
Produção de polímeros de partículas finas (1) (apresentando cadeia de polioxialqui- leno em sua cadeia lateral e contendo acrilonitrila) Um agítador, um termômetro, um funil, um tubo de entrada de nitrogênio e um con- densador de refluxo foram ligados a um frasco de 1.000 mL com 4 gargalos, e durante a desoxigenação pela introdução do gás nitrogênio, 10 g de metacrilato de éter metílico de polietileno glicol (PEGMA, número de unidades de repetição médio de etileno glicol: 50), 200 g de água destilada e 200 g de n-propanol foram carregados e aquecidos até que a tempe- ratura interna atingisse 70ºC.
Então, a mistura de 10 g de estireno (St), 80 g de acrilonitrila (AN)e08g de 22 -— azobisisobutironitrila preparada anteriormente foi adicionada lenta- mente ao frasco durante um período de uma hora.
Após o final da adição, a mistura deixada aa em repouso por 5 horas.
Então, a quantidade de 0,4 g de 2,2' — azobisisobutironitrila foi adi-
cionada e a temperatura interna foi aumentada para 80ºC. Depois, a quantidade de 0,5 g de 2,2' — azobisiobutironitrila foi adicionada durante um período de 6 h. Após 20 h de reação, a polimerização atingiu 98% ou mais para obtenção da dispersão aquosa (1) de polímero de ' partículas finas de PEGMA/St/NA (proporção em peso de 10/10/80). A distribuição do tama- —nhoda partícula do polímero apresentou o valor máximo de 150 nm.
: A distribuição do tamanho da partícula foi determinada através de uma microfoto- grafia eletrônica do polímero de partículas finas, medindo os tamanhos de 5.000 partículas finas no total, dividindo uma faixa do maior valor da partícula medido a partir de O em uma escala logarítmica em 50 partes para obter a frequência da ocorrência de cada tamanho da partícula por marcação. Com relação à partícula esférica, um tamanho da partícula que apresenta uma área equivalente à área da partícula esférica na fotografia foi definido como o tamanho da partícula. Produção do polímero de partículas finas (2) (apresentando cadeia de polioxialqui- leno em sua cadeia lateral e não contendo acrilonitrila Um agitador, um termômetro, um funil, um tubo de entrada de nitrogênio e um con- ' densador de refluxo foram ligados a um frasco de 1.000 mL com 4 gargalos, e durante a . desoxigenação pela introdução do gás nitrogênio, 10 g de metacrilato de éter metílico de polietileno glico! (PEGMA, número de unidades de repetição médio de etileno glicol: 50), 200 ' g de água destilada e 200 g de n-propanol foram carregados e aquecidos até que a tempe- ratura interna atingisse 70ºC, Então, a mistura de 90 g de metacrilato metílico (MMA) e 0,8 g ' de 2,2' — azobisisobutironitrila preparada anteriormente foi adicionada lentamente ao frasco durante um período de uma hora. Após o final da adição, a mistura deixada em repouso por 5 horas. Então, a quantidade de 0,4 g de 2,2' — azobisisobutironitrila foi adicionada e a tem- peratura interna foi aumentada para 80ºC. Depois, a quantidade de 0,5 g de 2,2' — azobisi- obutironitrila foi adicionada durante um período de 6 h. Após 20 h de reação, a polimeriza- ção atingiu 98% ou mais para obtenção da dispersão aquosa (2) de polímero de partículas finas de PEGMA/MMA (proporção em peso de 10/20). A distribuição do tamanho da partícu- la do polímero apresentou o valor máximo de 150 nm.
Produção do polímero de partículas finas (3) (apresentando cadeia de polioxialqui- lenoem sua cadeia lateral e apresentando grupo etilenicamente insaturado Um agitador, um termômetro, um funil, um tubo de entrada de nitrogênio e um con- densador de refluxo foram ligados a um frasco de 1.000 mL com 4 gargalos, e durante a desoxigenação pela introdução do gás nitrogênio, 10 g de metacrilato de éter metílico de polietileno glicol (PEGMA, número de unidades de repetição médio de etileno glico!: 50), 10 gdemetacrilato alílico (AlilMA), 200 g de água destilada e 200 q de n-propanol foram carre- gados e aquecidos até que a temperatura interna atingisse 70ºC, Então, a mistura de 10 q de estireno (St), 70 g de acrilonitrila (AN) e 0,8 g de 2,2' — azobisisobutironitrila preparada anteriormente foi adicionada lentamente ao frasco durante um período de uma hora. Após o final da adição, a mistura deixada em repouso por 5 horas. Então, a quantidade de 0,4 g de 2,2' — azobisisobutironitrila foi adicionada e a temperatura interna foi aumentada para 80ºC. 7 Depois, a quantidade de 0,5 9 de 2,2' — azobisiobutironitrila foi adicionada durante um perío- dode6h.Após20h de reação, a polimerização atingiu 98% ou mais para obtenção da dis- 7 persão aquosa (3) de polimero de partículas finas de PEGMA/AililMA/NA/St (proporção em peso de 10/10/70/10). A distribuição do tamanho da partícula do polímero apresentou o valor máximo de 150 nm.
Produção de polímero de partículas finas (4) (não apresentando cadeia de polioxi- —alguileno em sua cadeia lateral) A um sistema de reação, 15,0 g de metacrilato metílico e 100 mL de uma solução aquosa de fenol polioxietileno (concentração: 9,8 x 10º mol/L) foram adicionados, e durante agitação a 250 rpm, o interior do sistema foi purgado com gás nitrogênio. A solução resul- tante foi ajustada para a temperatura de 25ºC e 10 mL de uma solução aquosa de sal de amônio (IV) cérico (concentração: 0,984 x 10º mol/L) foram adicionados. Neste momento, : uma solução aquosa de nitrato de amônio (concentração: 58,8 x 10º mol/L) doi adicionada para ajustar o pH de 1,3 para 1,4. Posteriormente, a solução foi agitada por 8 h. A solução ' obtida apresentou concentração do conteúdo sólido de 13,0% em peso e um tamanho de 7 partícula médio de 0,2 um. (2) Formação da camada de bloqueio de oxigênio ' Com relação aos precursores da placa de litográfica (18) e (22), uma camada de oxigênio foi formada pela utilização de uma solução de revestimento para a camada de blo- queio de oxigênio, preparada conforme abaixo.
Com relação aos precursores da placa de impressão litográfica (19) a (21), (23) a (25) e(29)a(32), uma camada de bloqueio de oxigênio foi formada por uma solução de revestimento preparada pela adição da dispersão aquosa de partículas finas demonstradas na tabela 4 na solução de revestimento para a camada de bloqueio de oxigênio para formar Oo precursor da placa de impressão litográfica (18). A dispersão aquosa do polímero de partí- culas finas foi utilizada pelo ajuste da concentração das partículas finas em 3,2% em peso.
Uma solução de revestimento para a camada de bloqueio de oxigênio apresentan- do a composição demonstrada abaixo foi revestida na camada de registro de imagem des- crita acima através de um cilindro e seca em um forno, à temperatura de 120C por 60 se- gundos, para formar uma camada de bloqueio de oxigênio apresentando uma quantidade de revestimento seco de 0,15 g/m?, sendo cada precursor da placa de impressão litográfica preparado dessa forma.
Solução de revestimento para camada de bloqueio de oxigênio (não contendo par- = tículas finas Solução aquosa 6% em peso de álcool polivinílico (CKS 50, áci-
do sulfônico modificado, nível de saponificação: 99% mol ou 0,55 9 mais, nível de polimerização: 300, produzido pela Nippon Synthe- tic Chemical Industry Co., Ltd.) Solução aquosa 6% em peso de álcoo! polivinílico (PVA-405, nível de saponificação: 81,5% mol, nível de polimerização: 500, 0,380 g 7 produzido pela Kuraray Co., Ltd.) Solução aquosa 1% em peso de surfactante (EMALEX 710, pro- 0,86 g duzido pela Nihon Emulsion Co., Ltd.) . Água com troca iônica 609 Solução de revestimento para camada de bloqueio de oxigênio (contendo partículas finas) Solução aquosa 6% em peso de álcool polivinílico (CKS 50, áci- do sulfônico modificado, nível de saponificação: 99% mol ou 0,559 mais, nível de polimerização: 300, produzido pela Nippon Synthe- tic Chemical Industry Co., Ltd.) Solução aquosa 6% em peso de álcool! polivinílico (PVA-405, nível de saponificação: 81,5% mol, nívei de polimerização: 500, 0,30g produzido pela Kuraray Co., Ltd.) Solução aquosa 1% em peso de surfactante (EMALEX 710, pro- 0,86g duzido pela Nihon Emuision Co., Ltd.) Água com troca iônica 609 Dispersão aquosa de partículas finas (ajuste da concentração 159 para 3,2% em peso ' (Preparação da dispersão (1) do composto estratiforme inorgânico) ' Uma quantidade de 6,4 g de mica sintética (SOMASIF ME-100, produzida pela CO- ' 5 OP Chemical Co., Ltd.) foi adicionada a 193,6 g de água com troca iônica, e a mistura foi » dissolvida utilizando um homogeneizador até que o tamanho da partícula média (de acordo com o método de difusão a laser) atingisse 3m.
A proporção do aspecto da partícula inorgâ- 7 nica obtida foi de 100 ou maior. (Preparação da dispersão (1) de partículas finas inorgânicas esféricas) Uma quantidade de 6,4 g de mica sintética com tamanho de partícula médio de 450 nm (SNOWTEX MP 4540M, produzida pela Nissan Chemical Industries, Ltd., concentração do conteúdo sólido: 40% em peso) foi adicionada a 393,6 g de água com troca iônica, e a mistura foi dissolvida.
Tabela 4: Partículas finas na camada de registro de imagem e na camada de blo- —queiode oxigênio | Finúóme | — camada de toquei de oegêmio — | Precursor da placa | tro de imagem Camada de bloqueio de oxigênio deimpressão —| Tipo de partículas | Presençaouau- | Tipo de partículas litográfica finas sência de camada finas een O ieroger (O een E Acrogel a ca fina (1 ca fina (2) | eme [mo eee o ca fina (3) ea een 5 a aticrogel (1) | —Preseçça | -
RE oa A TE] 1 ca fina esférica (1 - ca fina (1 cafina(1 ca fina (1 . Exemplo 21 (24) Partícula poliméri- Presença Composto inorgã- ca fina (1) nico estratiforme 1 ca fina (1 ca fina esférica (1 e a = tivo 4 tm es o tivo 5 ss a re tivo 6 ca fina (4) tivo 7 tivo 8 ca fina (1 Exemplo compara- (81) Presença Composto inorgã- tivo 9 nico estratiforme 1 o a soa] . tivo 10 ca fina esférica (1 (3) Avaliação do precursor da placa de impressão litográfica . Aexposição | Precursor | Nºdefolhasdo | Durabilidade | Durabilidade da | Tempo de | Adesão foi realizada | da placade | desenvolvimento | daimpressão | impressão com | adesão | deresi - damesma | impressão | daimpressão comexposi- | exposiçãode | comapli- | duos forma que no | litográfica ção UV raios infraver- | cação de exemplo 1 e melhos vácuo (s) . a avaliação do precursor da placa de impressão litográfica foi realizada, Os resultados obtidos estão apresentados na tabela 5. folhas Fe e ES ee E e) folhas e e ES ess es] folhas FE E ES es es folhas folhas TT ES eee e folhas folhas folhas. folhas a a ES eres | o ee folhas FFP ES Fr e =) folhas folhas folhas Exemplo 126) o 2,5 x 10º folhas >60 Ausente . comparativo 4 Exemplo (27) 25 3,5 x 10 3,0 x 10º folhas 35 Presente comparativo folhas ' 5 Exemplo (28) 38x10" | 3.0x10º folhas Presente comparativo folhas 6 Exemplo 129) 3,5 x10 3,0 x 10º folhas Ausente comparativo folhas 7 Exemplo (30) 35 x10 3,0 x 10º folhas Ausente comparativo folhas 8 Exemplo 187) 38x 10 3.0 x 10º folhas Ausente comparativo folhas 9 Exemplo 62) 35 x10 3,0 x 10º folhas o Ausente comparativo folhas Aplicabilidade industrial 1 A invenção está relacionada a um método de produção de uma placa que compre- ende a exposição através de um fotolito e condução da impressão, apresentando boas pro- ' priedades de durabilidade e desenvolvimento da impressão, com pouca formação de resí- 7 5 duos durante a impressão, e com uma boa propriedade de adesão durante a aplicação de vácuo ao fotolito.
7 Embora a invenção tenha sido descrita em detalhes e com referência as suas mo- dalidades específicas, está claro para os versados na técnica que é possível realizar várias alterações e modificações sem se afastar do espírito e escopo da invenção.
10 Esse pedido é baseado no pedido de patente japonesa, depositado em 30 de mar- ço de 2010 (Pedido de Patente Japonesa No. 2010-79921) e no pedido de patente japonesa depositado em 2 de fevereiro de 2011 (Pedido de Patente Japonesa No. 2011-21229), cujos conteúdos são incorporados na presente invenção como referência.

Claims (7)

REIVINDICAÇÕES
1. Método de produção de uma placa de impressão litográfica CARACTERIZADO pelo fato de compreender (1) preparação de um precursor da placa de impressão litográfica ] que apresenta uma camada de registro de imagem capaz de formar uma imagem com um : 5 laser semicondutor, emitindo um raio infravermelho com comprimento de onda de 760 a " 1.200 nm, que compreende um suporte e uma camada de registro de imagem contendo um corante de cianina, um sal de difenil iodônio ou trifenil iodônio, que pode apresentar um substituinte no grupo fenila, um composto radical polimerizável, e um polímero de partículas finas com cadeia de polioxialquileno em sua cadeia lateral nessa ordem, (2) colocação do fotolito no precursor da placa de impressão litográfica e reduzir a pressão de forma que o fotolito seja firmemente aderido ao precursor, (3) condução da exposição UV, e (4) monta- gem do precursor da placa de impressão litográfica exposto em um cilindro de impressão e remoção da água e tinta da área de não imagem da camada de registro de imagem.
2. Método de produção de uma placa de impressão litográfica, de acordo com a rei- —vindicação1, CARACTERIZADO pelo fato de uma camada de bloqueio de oxigênio ser for- : necida na camada de registro de imagem. .
3. Método de produção de uma placa de impressão litográfica, de acordo com a rei- vindicação 2, CARACTERIZADO pelo fato da camada de bloqueio de oxigênio conter uma í resina hidrossolúvel, e no mínimo uma camada selecionada de um polímero de partículas : 20 finasque apresenta uma cadeia de polioxialquileno em sua cadeia lateral, partículas inorgã- 7 nicas finas, esféricas e uma partícula inorgânica fina estratiforme.
4. Método de produção de uma placa de impressão litográfica, de acordo com as reivindicações de 1 a 3, CARACTERIZADO pelo fato do polímero de partículas finas que apresenta uma cadeia de polioxialquileno em sua cadeia lateral ser um microgel.
5. Método de produção de uma placa de impressão litográfica, de acordo com a rei- vindicação 3, CARACTERIZADO pelo fato da partícula inorgânica fina esférica ser uma par- tícula fina de sílica.
6. Método de produção de uma placa de impressão litográfica, de acordo com a rei- vindicação 3, CARACTERIZADO pelo fato da partícula inorgânica fina estratiforme ser a mica
7. Método de impressão de uma placa de impressão litográfica CARACTERIZADO pelo fato de compreender (1) preparação de um precursor da placa de impressão litográfica que compreende um suporte e uma camada de registro de imagem capaz de formar uma imagem com um laser semicondutor, emitindo um raio infravermelho com comprimento de —ondade 760 a1.200 nm, contendo um corante de cianina, um sal de difenil iodônio ou trife- nil iodônio, que pode apresentar um substituinte no grupo fenila, um composto radical polik —— merizável, e um polímero de partículas finas com cadeia de polioxialquileno em sua cadeia lateral nessa ordem, (2) colocação do fotolito no precursor da placa de impressão litográfica e:reduzir a pressão de forma que o fotolito seja firmemente aderido ao precursor, (3) condu- ção da exposição UV, e (4) montagem do precursor da placa de impressão litográfica expos- . tó em um cilíndro de impressão e remoção da área de não imagem da camada de registro . 5 deimagem com no mínimo água corrente e tinta, e (5) condução para impressão. ' ' | . ' . 1 ' 1
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