AT202445B - - Google Patents
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Description
<Desc/Clms Page number 1> Verfahren zur direkten Herstellung von positiven photographischen Bildern EMI1.1 <Desc/Clms Page number 2> Da man nur sehr geringe Mengen Bromsilberemulsion benötigt, ist es möglich, eine in der üblichen Weise mit Gelatine als Bindemittel hergestellte Bromsilberemulsion mit einem in Wasser löslichen oder ablösbaren Beschichtungsmittel zu verdünnen und dann diese Mischung auf die Chlorsilberemulsions- EMI2.1 sionsschichten kann man daher die Zusammensetzung des Bindemittels weitgehend variieren. Als Bindemittel kann man alle Stoffe verwenden, die bisher für die Herstellung von lichtempfindlichen Schichten benutzt wurden. Beispielsweise werden genannt : Gelatine, Kunststoffe, z. B. Polyvinylalkohol, hydrophile Cellulosederivate,' !. B. Tylose, Stärkeäther u. dgl. Da die Schichten nach dem vorliegenden Verfahren nur sehr kurze Zeit entwickelt werden und der Entwickler beträchtliche Mengen Salze enthält, die die Quellung vieler Bindemittel, wie z. B. auch Polyvinylalkohol stark hemmen, so lösen sich die Überzugsschichten zumeist erst im Wasser von der Chlorsilbergelatineschicht ab. Bisweilen erweist es sich als sehr vorteilhaft, der Chlorsilberemulsion kleineMengenBromsilberemu'.- sion zuzufügen und den grösseren Teil der Bromsilberemulsion als zweite Schicht aufzugiessen. Gegebenenfalls kann man auch der Bromsilberemulsion kleine Mengen Chlorsilberemulsion zusetzen. Zur Durchführung des Verfahrens ist es nicht unbedingt notwendig, die beiden Schichten übereinander zu giessen, sondern man kann die Chlorsilberschicht und die Bromsilberschicht auch auf verschiedene Träger vergiessen und die beiden schichten erst bei der Verarbeitung in Kontakt bringen. Auch hiebei sind verschiedene Ausführungsformen des Verfahrens möglich. Z. B. kann man beide Schichten während der Entwicklung in Kontakt halten oder man kann beide Schichten erst kurz mit einem bromionenfreien Entwickler benetzen und c1ann miteinander in Berührung bringen. Die belichteten Stellen der Bromsilberemulsionsschicht, die bei der Entwicklung ein Negativ ergeben, bilden dabei Bromionen, die. in die Chlorsilberschicht herüberdiffundieren und in der Chlorsilberemulsionsschicht die Entwicklung verhindern, während an den bromionenfreien Stellen die Chlorsilberschicht rasch zu Silber reduziert wird. Das Silber bildet sich also an den Stellen der Chlorsilberschicht, die mit belichteten Stellen der Bromsilberschicht inKontakt sind. Es entsteht also in derChlorsilberschicht jeweils ein dem Bild in der Bromsilberschicht entgegengesetztes Bild. Nach'der Entwicklung müssen die Schichten wie üblich fixiert werden. Weiterhin kann ü1an die Bromsilberschicht gegebenenfalls nur ganz kurz anentwickeln oder man kann fast ausentwickelte Schichten verwenden, bevor man sie mit der Chlorsilberschicht zusammenbringt. Ein besonderer Vorteil des Verfahrens unter Verwendung von getrennten Schichten besteht darin, dass man etwas grössere Mengen Bromsilberemulsion verwenden kann. EMI2.2 Chlorsilber enthält. Man erhält dann eine Schicht, die ziemlich stark gehärtet ist. Ferner stellt man eine Bromsilberemulsion her, deren Empfindlichkeit wesentlich höher liegt als die der Chlorsilberemulsion EMI2.3 Man belichtet entsprechend der Empfindlichkeit der Bromsilberemulsion und entwickelt in folgendem Entwickler 30 Sekunden : 1000 cm3 Wasser 1, 5 g p-Methylaminophenol R g Hydrochinon 100 g Natriumsulfit sicc. 40 g Soda. Hiebei spielen sich folgende Prozesse ab : Das belichtete Bromsilber wird zu Silber reduziert, es bilden sich hiebei Bromionen, die auch in die darunter liegende Chlorsilberschicht wandern. Inzwischen hat sich das Chlorsilber der unteren Schicht <Desc/Clms Page number 3> wenigstens zum Teil in der alkalischen Sulfitlösung gelöst. Diese Silberlösung ist in Gegenwart der redu- zierend wirkenden Entwicklersubstanzen sehr unbeständig, insbesondere da die Schicht kolloides Silber enthält, das die Reduktion beschleunigt. Bromionen verhindern aber bereits in einer äusserst geringen Konzentration die Reduktion der gelösten Silbersalze. An den Stellen, in die durch Belichtung und Entwicklung des Bromsilbers der oberen Schicht Bromionen eingewandert sind, findet also keine Reduktion der gelösten Silbersalze statt, sondern nur an den Stellen, an denen das Bromsilber nicht belichtet wurde. Man erhält dann als Endresultat in der oberen Schicht ein ganz schwaches Negativ, in der unteren Schicht ein stark gedecktes Positiv des Aufnahmege- EMI3.1 nute lang in einem Fixierbad üblicher Zusammensetzung behandelt. Legt man das Bild nun in Wasser, so quillt der Stärkeäther sehr stark auf und schwimmt von der unteren Schicht ab. Mit dem Stärkeäther verschwindet das schwache Negativ und zurück bleibt auf der Papierunterlage ein stark gedecktes Positiv des Aufnahmegegenstandes.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH : Verfahren zur direkten Herstellung von positiven photo. graphischen Bildern mit Hilfe von Silbersalzemulsionen, wobei Emulsionen, die aus Silbersalzen verschiedener Lichtempfindlichkeit bestehen, nach einer auf die höher empfindlichen Emulsionen abgestimmten Belichtung mit einer photographischen Entwicklersubstanzen enthaltenden Lösung entwickelt werden, in der die unempfindlichere Komponente der Silbersalze stärker löslich ist als die empfindlichere, und in der Salze, die Anionen des höher empfindlichen Teiles der Silbersalze enthalten, praktisch nicht vorhanden sind, dadurch gekennzeichnet, dass man die Silbersalzemulsionenverschiedener Lichtempfindlichkeit auf einem gemeinsamen Träger in übereinanderliegenden trennbaren Schichten oder aber auf verschiedenen Trägern getrennt voneinander anordnet,die Schichten nach der Entwicklung im endgültigen Bild jedenfalls voneinander trennt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE202445T | 1953-09-16 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
AT202445B true AT202445B (de) | 1959-03-10 |
Family
ID=29556626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
AT466554A AT202445B (de) | 1953-09-16 | 1954-08-20 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
AT (1) | AT202445B (de) |
-
1954
- 1954-08-20 AT AT466554A patent/AT202445B/de active
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