WO2024111461A1 - 成形用樹脂組成物及び電子部品装置 - Google Patents

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WO2024111461A1
WO2024111461A1 PCT/JP2023/040829 JP2023040829W WO2024111461A1 WO 2024111461 A1 WO2024111461 A1 WO 2024111461A1 JP 2023040829 W JP2023040829 W JP 2023040829W WO 2024111461 A1 WO2024111461 A1 WO 2024111461A1
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WO
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resin composition
molding resin
polymer particles
molding
porous polymer
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Application number
PCT/JP2023/040829
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English (en)
French (fr)
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実佳 田中
勇磨 竹内
雄太 助川
進太郎 岡田
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株式会社レゾナック
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/40Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/10Esters; Ether-esters
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    • C08K7/00Use of ingredients characterised by shape
    • C08K7/22Expanded, porous or hollow particles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • HELECTRICITY
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    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape

Definitions

  • This disclosure relates to a molding resin composition and an electronic component device.
  • Patent Documents 1 and 2 propose high-dielectric resin compositions for use in sealing semiconductor elements in order to reduce the size of semiconductor packages and accommodate high frequencies.
  • a molding resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler can be mentioned.
  • the transmission signal is converted into heat due to dielectric loss, and communication efficiency is likely to decrease.
  • the amount of dielectric loss generated by the heat conversion of radio waves transmitted for communication in a dielectric is expressed as the product of the frequency, the square root of the relative dielectric constant, and the dielectric loss tangent.
  • the transmission signal is more likely to turn into heat in proportion to the frequency.
  • radio waves used for communication have become higher in frequency to accommodate the increase in the number of channels accompanying the diversification of information.
  • a molding resin composition capable of molding a cured product with a low relative dielectric constant is required.
  • the present disclosure has been made in consideration of the above-mentioned conventional circumstances, and aims to provide a molding resin composition capable of molding a cured product having a low relative dielectric constant, and an electronic component device using the same.
  • a molding resin composition comprising an epoxy resin, a curing agent containing an active ester compound, an inorganic filler, and porous polymer particles.
  • the porous polymer particle includes a core portion having a porous shape and a shell portion covering at least a part of the core portion.
  • ⁇ 3> The molding resin composition according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the porous polymer particle includes a core portion having a porous shape, and the core portion includes at least one polymer selected from the group consisting of a (meth)acrylic polymer, an olefin polymer, a styrene polymer, and a urethane polymer.
  • ⁇ 4> The molding resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the content of the porous polymer particles is 5% by volume to 50% by volume based on the total amount of the inorganic filler and the porous polymer particles.
  • ⁇ 5> The molding resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the content of the porous polymer particles is 3 vol% to 40 vol% based on the total amount of the molding resin composition.
  • ⁇ 6> The molding resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein the porous polymer particles have thermosetting properties.
  • ⁇ 7> The molding resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, which is used for a high-frequency device.
  • ⁇ 8> The molding resin composition according to ⁇ 7>, which is used for sealing electronic parts in a high-frequency device.
  • ⁇ 9> The molding resin composition according to ⁇ 7>, which is used for an antenna-in-package.
  • a support member an electronic component disposed on the support member;
  • An electronic component device comprising: ⁇ 11> The electronic component device according to ⁇ 10>, wherein the electronic component includes an antenna.
  • the present disclosure provides a molding resin composition capable of molding a cured product having a low dielectric constant, and an electronic component device using the same.
  • FIG. 1 is a graph showing SS curves of the breaking elongation and flexural strength obtained using the molding resin compositions of each of the Examples and Comparative Examples.
  • FIG. 2 is a graph showing the change in viscoelastic properties determined using a composition containing Filler 5.
  • the term "step” includes not only a step that is independent of other steps, but also a step that cannot be clearly distinguished from other steps as long as the purpose of the step is achieved.
  • the numerical range indicated using “to” includes the numerical values before and after "to” as the minimum and maximum values, respectively.
  • the upper or lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper or lower limit value of another numerical range described in stages.
  • the upper or lower limit value of the numerical range may be replaced with a value shown in the examples.
  • each component may contain multiple types of corresponding substances.
  • the content or amount of each component means the total content or amount of the multiple substances present in the composition, unless otherwise specified.
  • the particles corresponding to each component may include multiple types of particles.
  • the particle size of each component means the value for a mixture of the multiple types of particles present in the composition, unless otherwise specified.
  • the molding resin composition of the present disclosure includes an epoxy resin, a curing agent including an active ester compound, an inorganic filler, and porous polymer particles, and is capable of forming a cured product having a low relative dielectric constant.
  • the components constituting the molding resin composition are described below.
  • the molding resin composition of the present disclosure contains at least an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler, and porous polymer particles, and may contain other components as necessary.
  • the molding resin composition of the present disclosure contains an epoxy resin.
  • the type of the epoxy resin is not particularly limited as long as it has an epoxy group in the molecule.
  • the mass proportion of the epoxy resin in the entire molding resin composition is preferably 0.5% by mass to 30% by mass, more preferably 2% by mass to 20% by mass, and even more preferably 3.5% by mass to 13% by mass, from the viewpoints of strength, flowability, heat resistance, moldability, and the like.
  • the epoxy resin examples include novolac type epoxy resins (phenol novolac type epoxy resins, o-cresol novolac type epoxy resins, etc.) which are obtained by epoxidizing a novolac resin obtained by condensing or co-condensing at least one phenolic compound selected from the group consisting of phenolic compounds such as phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, etc., and naphthol compounds such as ⁇ -naphthol, ⁇ -naphthol, dihydroxynaphthalene, etc., with an aliphatic aldehyde compound such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, etc., under an acidic catalyst; and epoxidized triphenylmethane type phenolic resins which are obtained by condensing or co-condensing the above phenolic compound with an aromatic aldehyde compound such
  • triphenylmethane type epoxy resins which are diglycidyl ethers of bisphenol A, bisphenol F, etc.; biphenyl type epoxy resins which are diglycidyl ethers of alkyl-substituted or unsubstituted biphenols; stilbene type epoxy resins which are diglycidyl ethers of stilbene-based phenolic compounds; epoxy resins which are glycidyl ethers of alcohols such as butanediol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol; glycidyl ester type epoxy resins which are glycidyl esters of polyvalent carboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, and tetrahydrophthalic acid; aniline, diaminodiphenyl glycidylamine-type epoxy resins in which active hydrogen bonded to nitrogen atoms of dicyclopentadiene and phenolic compounds is substituted with glycidyl groups; dicyclopent
  • Terpene-modified epoxy resins which are glycidyl ethers; dicyclopentadiene-modified epoxy resins which are glycidyl ethers of dicyclopentadiene-modified phenolic resins; cyclopentadiene-modified epoxy resins which are glycidyl ethers of cyclopentadiene-modified phenolic resins; polycyclic aromatic ring-modified epoxy resins which are glycidyl ethers of polycyclic aromatic ring-modified phenolic resins; naphthalene-type epoxy resins which are glycidyl ethers of naphthalene ring-containing phenolic resins; halogenated phenol novolac-type epoxy resins; hydroquinone-type epoxy resins; trimethylolpropane-type epoxy resins; linear aliphatic epoxy resins obtained by oxidizing olefin bonds with peracids such as peracetic acid; aralky
  • the epoxy resin may contain at least one of triphenylmethane type epoxy resin, o-cresol novolac type epoxy resin, biphenyl aralkyl type epoxy resin, and biphenyl type epoxy resin, or may contain triphenylmethane type epoxy resin and biphenyl type epoxy resin, or triphenylmethane type epoxy resin and o-cresol novolac type epoxy resin.
  • the epoxy equivalent (molecular weight/number of epoxy groups) of the epoxy resin is not particularly limited. From the viewpoint of the balance of various properties such as moldability, reflow resistance, and electrical reliability, the epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 100 g/eq to 1000 g/eq, and more preferably 150 g/eq to 500 g/eq.
  • the epoxy equivalent of the epoxy resin is a value measured by a method in accordance with JIS K 7236:2009.
  • the softening point or melting point of the epoxy resin is not particularly limited.
  • the softening point or melting point of the epoxy resin is preferably 40° C. to 180° C. from the viewpoints of moldability and reflow resistance, and more preferably 50° C. to 130° C. from the viewpoint of handleability during preparation of the molding resin composition.
  • the melting point or softening point of the epoxy resin is a value measured by differential scanning calorimetry (DSC) or a method in accordance with JIS K 7234:1986 (ring and ball method).
  • the molding resin composition of the present disclosure contains a curing agent that includes an active ester compound.
  • the molding resin composition may contain only one type of curing agent, or may contain two or more types.
  • the curing agent may contain only one type of active ester compound, may contain two or more types of active ester compounds, or may contain an active ester compound and another curing agent (e.g., a phenolic curing agent).
  • a secondary hydroxyl group is generated in the reaction between the epoxy resin and the phenolic curing agent.
  • an active ester compound is used as a curing agent for an epoxy resin, an ester group is generated instead of a secondary hydroxyl group in the reaction between the epoxy resin and the active ester compound.
  • an ester group has a lower polarity than a secondary hydroxyl group
  • a molding resin composition containing an active ester compound as a curing agent can suppress the dielectric tangent and relative dielectric constant of the cured product to be lower than a molding resin composition containing only a curing agent that generates a secondary hydroxyl group as a curing agent.
  • polar groups in a cured product increase the water absorption of the cured product
  • the polar group concentration of the cured product can be reduced by using an active ester compound as a curing agent, and the water absorption of the cured product can be reduced. It is presumed that by reducing the water absorption of the cured product, that is, by reducing the content of H2O , which is a polar molecule, the dielectric tangent and relative dielectric constant of the cured product can be further reduced.
  • the active ester compound refers to a compound that has one or more ester groups in one molecule that react with an epoxy group and has an epoxy resin curing action.
  • the type of active ester compound is not particularly limited as long as it has one or more ester groups in the molecule that react with an epoxy group.
  • Examples of the active ester compound include phenol ester compounds, thiophenol ester compounds, N-hydroxyamine ester compounds, Examples of the active ester compound include esters of heterocyclic hydroxy compounds. These active ester compounds may be used alone or in combination of two or more.
  • active ester compounds include ester compounds obtained from at least one of an aliphatic carboxylic acid and an aromatic carboxylic acid and at least one of an aliphatic hydroxy compound and an aromatic hydroxy compound.
  • Ester compounds that use an aliphatic compound as a polycondensation component tend to have excellent compatibility with epoxy resins due to the presence of an aliphatic chain.
  • Ester compounds that use an aromatic compound as a polycondensation component tend to have excellent heat resistance due to the presence of an aromatic ring.
  • active ester compounds include aromatic esters obtained by condensation reaction between aromatic carboxylic acids and phenolic hydroxyl groups.
  • aromatic esters having a structural unit derived from the aromatic carboxylic acid component, a structural unit derived from the monohydric phenol, and a structural unit derived from the polyhydric phenol are preferred.
  • active ester compounds include the active ester resin described in JP 2012-246367 A, which has a structure obtained by reacting a phenolic resin having a molecular structure in which phenolic compounds are bonded via alicyclic hydrocarbon groups with an aromatic dicarboxylic acid or its halide and an aromatic monohydroxy compound.
  • the active ester resin is preferably a compound represented by the following structural formula (1).
  • R1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group
  • X is an unsubstituted benzene ring, an unsubstituted naphthalene ring, a benzene ring or a naphthalene ring substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a biphenyl group
  • Y is a benzene ring, a naphthalene ring, or a benzene ring or a naphthalene ring substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms
  • k is 0 or 1
  • n represents the average number of repetitions and is 0 to 5.
  • Specific examples of the compound represented by structural formula (1) include the following exemplary compounds (1-1) to (1-10).
  • t-Bu is a tert-butyl group.
  • active ester compounds include the compound represented by the following structural formula (2) and the compound represented by the following structural formula (3), which are described in JP 2014-114352 A.
  • R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms;
  • Z represents an ester-forming structural moiety (z1) selected from the group consisting of an unsubstituted benzoyl group, an unsubstituted naphthoyl group, a benzoyl group or a naphthoyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and an acyl group having 2 to 6 carbon atoms, or a hydrogen atom (z2); and at least one of the Z's is an ester-forming structural moiety (z1).
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms;
  • Z represents an ester-forming structural moiety (z1) selected from the group consisting of an unsubstituted benzoyl group, an unsubstituted naphthoyl group, a benzoyl group or a naphthoyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and an acyl group having 2 to 6 carbon atoms, or a hydrogen atom (z2); and at least one of the Z's is an ester-forming structural moiety (z1).
  • the active ester compound Commercially available products may be used as the active ester compound.
  • Commercially available products of the active ester compound include "EXB9451”, “EXB9460”, “EXB9460S”, and “HPC-8000-65T” (manufactured by DIC Corporation) as active ester compounds containing a dicyclopentadiene-type diphenol structure; "EXB9416-70BK”, “EXB-8", and “EXB-9425” (manufactured by DIC Corporation) as active ester compounds containing an aromatic structure; “DC808” (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) as an active ester compound containing an acetylated product of phenol novolac; and "YLH1026” (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) as an active ester compound containing a benzoylated product of phenol novolac.
  • the ester equivalent (molecular weight/number of ester groups) of the active ester compound is not particularly limited, and from the viewpoint of a balance of various properties such as moldability, reflow resistance, and electrical reliability, it is preferably 150 g/eq to 400 g/eq, more preferably 170 g/eq to 300 g/eq, and even more preferably 200 g/eq to 250 g/eq.
  • the ester equivalent of the active ester compound is a value measured by a method in accordance with JIS K 0070:1992.
  • the curing agent may contain other curing agents other than the active ester compound.
  • other curing agents include phenol curing agents, amine curing agents, acid anhydride curing agents, polymercaptan curing agents, polyaminoamide curing agents, isocyanate curing agents, and blocked isocyanate curing agents.
  • phenol curing agents are preferred.
  • the molding resin composition may contain only one type of other curing agent, or may contain two or more types.
  • the phenolic curing agent include polyhydric phenolic compounds such as resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, and substituted or unsubstituted biphenol; novolak-type phenolic resins obtained by condensing or co-condensing at least one phenolic compound selected from the group consisting of phenolic compounds such as phenol, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, phenylphenol, and aminophenol, and naphthol compounds such as ⁇ -naphthol, ⁇ -naphthol, and dihydroxynaphthalene, with an aldehyde compound such as formaldehyde, acetaldehyde, and propionaldehyde, under an acidic catalyst; and polyphenolic compounds synthesized from the above phenolic compounds and dimethoxyparaxylene, bis(methoxymethyl)bi
  • phenol curing agent examples include aralkyl-type phenolic resins such as phenol aralkyl resins and naphthol aralkyl resins, paraxylylene-modified phenolic resins, metaxylylene-modified phenolic resins, melamine-modified phenolic resins, terpene-modified phenolic resins, dicyclopentadiene-type phenolic resins and dicyclopentadiene-type naphthol resins synthesized by copolymerization of the above-mentioned phenolic compounds and dicyclopentadiene, cyclopentadiene-modified phenolic resins, polycyclic aromatic ring-modified phenolic resins, biphenyl-type phenolic resins, triphenylmethane-type phenolic resins obtained by condensing or co-condensing the above-mentioned phenolic compounds with aromatic aldehyde compounds such as benzaldehy
  • the hydroxyl equivalent of the phenolic curing agent is not particularly limited. From the viewpoint of the balance of various properties such as moldability, reflow resistance, and electrical reliability, the hydroxyl equivalent of the phenolic curing agent is preferably 70 g/eq to 1000 g/eq, and more preferably 80 g/eq to 500 g/eq.
  • the hydroxyl equivalent of the phenol curing agent is a value measured by a method in accordance with JIS K 0070:1992.
  • the equivalent ratio of the epoxy resin to the curing agent i.e., the ratio of the number of functional groups in the curing agent (preferably the number of ester groups or the total number of ester groups and hydroxyl groups) to the number of functional groups in the epoxy resin (preferably the number of epoxy groups) (number of functional groups in the curing agent/number of functional groups in the epoxy resin) is not particularly limited. From the viewpoint of keeping the amount of unreacted components to a minimum, it is preferably 0.5 to 2.0, and more preferably 0.6 to 1.3. From the viewpoints of moldability and reflow resistance, it is even more preferably 0.8 to 1.2.
  • the molar ratio of the ester groups contained in the active ester compound to the phenolic hydroxyl groups contained in the phenolic hardener is preferably 9/1 to 1/9, more preferably 8/2 to 2/8, and even more preferably 3/7 to 7/3.
  • the mass ratio of the active ester compound to the total amount of the active ester compound and the other curing agent is preferably 40% by mass to 90% by mass, more preferably 50% by mass to 80% by mass, and even more preferably 55% by mass to 70% by mass, from the viewpoint of excellent bending strength after curing of the molding resin composition and keeping the dielectric tangent of the cured product low.
  • the softening point or melting point of the active ester compound as the curing agent and the other curing agents such as the phenol curing agent used as necessary are not particularly limited.
  • the softening point or melting point of the curing agent is preferably 40° C. to 180° C. from the viewpoint of moldability and reflow resistance, and more preferably 50° C. to 130° C. from the viewpoint of handleability during production of the molding resin composition.
  • the melting point or softening point of the curing agent is a value measured in the same manner as the melting point or softening point of the epoxy resin.
  • the molding resin composition of the present disclosure includes an inorganic filler.
  • the type of inorganic filler is not particularly limited. Specific examples of inorganic fillers include fused silica, crystalline silica, glass, alumina, aluminum nitride, boron nitride, talc, clay, mica, and titanium compounds such as calcium titanate. Inorganic fillers having a flame retardant effect may be used. Examples of inorganic fillers having a flame retardant effect include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, composite metal hydroxides such as composite hydroxides of magnesium and zinc, and zinc borate.
  • inorganic fillers silica such as fused silica is preferred from the viewpoint of reducing the linear expansion coefficient, and alumina is preferred from the viewpoint of high thermal conductivity. From the viewpoint of further reducing the dielectric tangent, boron nitride is preferred.
  • One type of inorganic filler may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • Inorganic fillers may be in the form of powder, beads formed by spheroidizing powder, fibers, etc.
  • the average particle size of the inorganic filler is not particularly limited.
  • the volume average particle size is preferably 0.2 ⁇ m to 50 ⁇ m, and more preferably 0.5 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • the volume average particle diameter is 0.2 ⁇ m or more, the increase in viscosity of the molding resin composition tends to be further suppressed.
  • the volume average particle diameter is 50 ⁇ m or less, the filling ability into narrow gaps tends to be further improved.
  • the volume average particle diameter of the inorganic filler refers to a value measured as the volume average particle diameter (D50) by a laser diffraction scattering particle size distribution measuring device.
  • the volume average particle diameter of the inorganic filler in the molding resin composition or its cured product can be measured by a known method.
  • the inorganic filler is extracted from the molding resin composition or the cured product using an organic solvent, nitric acid, aqua regia, etc., and thoroughly dispersed using an ultrasonic disperser or the like to prepare a dispersion.
  • the volume average particle diameter of the inorganic filler can be measured from the volume-based particle size distribution measured using a laser diffraction scattering particle size distribution measuring device.
  • the cured product can be embedded in a transparent epoxy resin or the like, polished, and the cross section obtained is observed using a scanning electron microscope to obtain a volume-based particle size distribution, from which the volume average particle diameter of the inorganic filler can be measured.
  • the volume average particle diameter can be measured by continuously observing the two-dimensional cross section of the cured product using an FIB device (focused ion beam SEM) or the like and performing three-dimensional structural analysis.
  • the particle shape of the inorganic filler is preferably spherical rather than angular, and the particle size distribution of the inorganic filler is preferably wide.
  • the content of the entire inorganic filler contained in the molding resin composition is preferably more than 40 volume %, more preferably more than 50 volume %, even more preferably more than 50 volume % to 80 volume % or less, and particularly preferably 55 volume % to 70 volume %.
  • the content (vol %) of the inorganic filler in the molding resin composition can be determined by the following method.
  • a thin sample of the cured product of the molding resin composition is photographed with a scanning electron microscope (SEM).
  • An arbitrary area S is specified in the SEM image, and the total area A of the inorganic filler contained in the area S is calculated.
  • the total area A of the inorganic filler is divided by the area S to convert it into a percentage (%), and this value is the content (volume %) of the inorganic filler in the molding resin composition.
  • the area S is set to be sufficiently large relative to the size of the inorganic filler, for example, a size that contains 100 or more inorganic fillers.
  • the area S may be the total area of a plurality of cut surfaces.
  • the inorganic filler may have a biased presence ratio in the direction of gravity when the molding resin composition is cured.
  • an SEM an image of the entire cured product in the direction of gravity is taken, and the area S that includes the entire cured product in the direction of gravity is specified.
  • the molding resin composition of the present disclosure includes porous polymer particles. By replacing a part of the inorganic filler with the porous polymer particles, the relative dielectric constant can be reduced while maintaining a low dielectric tangent.
  • the porous polymer particles are not particularly limited as long as they are porous particles containing a polymer.
  • the porous polymer particles preferably contain at least one polymer selected from the group consisting of (meth)acrylic polymers, olefin polymers, styrene polymers, and urethane polymers. From the viewpoint that the dimensional change before and after curing of a molded product made of the molding resin composition is likely to be small, the porous polymer particles preferably contain a styrene polymer.
  • the porous polymer particles may have a core portion having a porous shape and a shell portion covering at least a part of the core portion.
  • the core portion having a porous shape has some pores located on the surface, which creates an uneven shape on the surface.
  • the shell portion When the core portion is covered by the shell portion, at least a part of the uneven shape is covered by the shell layer. Therefore, the surface of the porous polymer particles tends to become smoother. As a result, it is presumed that the fluidity of the molding resin composition is further increased.
  • the material of the core layer is not particularly limited, and examples include (meth)acrylic polymers, olefin polymers, styrene polymers, urethane polymers, etc.
  • the material of the shell layer is not particularly limited, but examples include (meth)acrylic resin, styrene resin, etc.
  • the average particle size of the porous polymer particles may be from 1 ⁇ m to 15 ⁇ m, may be from 3 ⁇ m to 12 ⁇ m, or may be from 5 ⁇ m to 10 ⁇ m.
  • the average particle size of the porous polymer particles may be a value measured as a volume average particle size (D50) using a laser diffraction scattering particle size distribution measuring device, or may be the arithmetic average value of particle sizes of 100 porous polymer particles randomly selected by observing cross sections of a composition, a cured product, etc. using a SEM (scanning electron microscope).
  • the porous polymer particles are preferably thermosetting.
  • the porous polymer has thermosetting properties, the porous polymer reacts with itself when heated and expands, so that the dimensional change before and after curing of the molded product made of the molding resin composition is small. As a result, there is a tendency to reduce warping of electronic component devices that include a cured product of the molding resin composition.
  • the porous polymer particles may be hollow particles.
  • the hollow ratio of the porous polymer particles is preferably 30% to 70%, more preferably 40% to 60%, from the viewpoint of a balance between low dielectric constant, kneadability, and fluidity.
  • the hollow ratio of the porous polymer particles is 30% or more, the dielectric constant of the cured product tends to decrease.
  • the hollow ratio of the porous polymer particles is 70% or less, the kneadability and fluidity of the molding resin composition tend to be excellent.
  • the hollow ratio can be measured by the following method. When hollow particles are observed under a transmission electron microscope, solid and hollow portions with different contrasts are observed. The length of each portion toward the center of the hollow particle is measured, and the volume is calculated from this value to determine the hollow ratio.
  • the content of the porous polymer particles is preferably 5% to 50% by volume, more preferably 8% to 40% by volume, and even more preferably 10% to 30% by volume, based on the total amount of the inorganic filler and the porous polymer particles.
  • the content of the porous polymer particles is preferably 3% to 40% by volume, more preferably 5% to 30% by volume, and even more preferably 8% to 20% by volume, based on the total amount of the molding resin composition.
  • the molding resin composition of the present disclosure may or may not independently contain various additives such as a curing accelerator, a coupling agent, an ion exchanger, a release agent, a flame retardant, a colorant, and a stress relaxation agent, as exemplified below.
  • the molding resin composition of the present disclosure may contain various additives known in the art as necessary, in addition to the additives exemplified below.
  • the molding resin composition of the present disclosure may contain a curing accelerator.
  • the type of the curing accelerator is not particularly limited and can be selected according to the type of epoxy resin, the desired properties of the molding resin composition, and the like.
  • the curing accelerator may be used alone or in combination of two or more types. Specific examples of the curing accelerator are described below, but are not limited thereto.
  • the curing accelerator examples include diazabicycloalkenes such as 1,5-diazabicyclo[4.3.0]nonene-5 (DBN) and 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undecene-7 (DBU), cyclic amidine compounds such as 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, and 2-heptadecylimidazole; derivatives of the cyclic amidine compounds; phenol novolac salts of the cyclic amidine compounds or their derivatives; and the above compounds, when combined with maleic anhydride, 1,4-benzoquinone, quinone compounds such as 2,5-toluquinone, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dimethylbenzoquinone, 2,6-dimethylbenzoquinone, 2,3-dimethoxy-5-methyl-1,4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquino
  • the content of the curing accelerator is preferably 0.1 to 8 parts by mass, more preferably 0.3 to 7 parts by mass, and even more preferably 0.5 to 6 parts by mass, per 100 parts by mass of the total amount of the epoxy resin and the curing agent.
  • the curing speed of the molding resin composition of the present disclosure becomes an appropriate numerical value, making it easy to manufacture molded products.
  • the molding resin composition of the present disclosure may contain a coupling agent.
  • the molding resin composition preferably contains a coupling agent.
  • the coupling agent include known coupling agents such as silane-based compounds such as epoxysilane, mercaptosilane, aminosilane, alkylsilane, ureidosilane, vinylsilane, and disilazane, titanium-based compounds, aluminum chelate-based compounds, and aluminum/zirconium-based compounds.
  • the amount of the coupling agent is preferably 0.05 parts by mass to 5 parts by mass, and more preferably 0.1 parts by mass to 2.5 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the inorganic filler.
  • the amount of the coupling agent is 0.05 parts by mass or more relative to 100 parts by mass of the inorganic filler, the adhesiveness tends to be further improved.
  • the amount of the coupling agent is 5 parts by mass or less relative to 100 parts by mass of the inorganic filler, the moldability of the package tends to be further improved.
  • the molding resin composition of the present disclosure may contain an ion exchanger.
  • the molding resin composition preferably contains an ion exchanger from the viewpoint of improving the moisture resistance and high-temperature storage characteristics of an electronic component device including an electronic component to be sealed.
  • the ion exchanger is not particularly limited, and a conventionally known ion exchanger can be used. Specific examples include hydrotalcite compounds and hydrated oxides of at least one element selected from the group consisting of magnesium, aluminum, titanium, zirconium, and bismuth.
  • the ion exchanger may be used alone or in combination of two or more types. Among them, hydrotalcite represented by the following general formula (A) is preferred.
  • the molding resin composition contains an ion exchanger
  • the content of the ion exchanger is preferably 0.1 to 30 parts by mass, and more preferably 1 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the epoxy resin and hardener combined.
  • the molding resin composition of the present disclosure may contain a mold release agent from the viewpoint of obtaining good releasability from the mold during molding.
  • the mold release agent is not particularly limited, and a conventionally known one may be used. Specific examples include carnauba wax, higher fatty acids such as montanic acid and stearic acid, higher fatty acid metal salts, ester waxes such as montanic acid esters, polyolefin waxes such as oxidized polyethylene and non-oxidized polyethylene, etc.
  • the mold release agent may be used alone or in combination of two or more kinds.
  • the amount is preferably 0.01 to 10 parts by mass, and more preferably 0.1 to 5 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin component.
  • the amount of the release agent is 0.01 parts by mass or more per 100 parts by mass of the resin component, sufficient releasability tends to be obtained.
  • the amount of the release agent is 10 parts by mass or less per 100 parts by mass of the resin component, better adhesion tends to be obtained.
  • the molding resin composition of the present disclosure may contain a flame retardant.
  • the flame retardant is not particularly limited, and a conventionally known one may be used. Specific examples include organic or inorganic compounds containing halogen atoms, antimony atoms, nitrogen atoms, or phosphorus atoms, metal hydroxides, etc.
  • the flame retardant may be used alone or in combination of two or more kinds.
  • the amount is not particularly limited as long as it is an amount sufficient to obtain the desired flame retardant effect.
  • the amount of flame retardant is preferably 1 to 30 parts by mass, and more preferably 2 to 20 parts by mass, per 100 parts by mass of the epoxy resin and hardener combined.
  • the molding resin composition of the present disclosure may contain a colorant.
  • the colorant include known colorants such as carbon black, organic dyes, organic pigments, titanium oxide, red lead, and red iron oxide.
  • the content of the colorant can be appropriately selected depending on the purpose, etc.
  • the colorant may be used alone or in combination of two or more kinds.
  • the molding resin composition of the present disclosure may contain a stress relaxation agent.
  • a stress relaxation agent By containing a stress relaxation agent, it is possible to further reduce the warpage deformation of the package and the occurrence of package cracks.
  • the stress relaxation agent include known stress relaxation agents (flexibilizers) that are generally used.
  • thermoplastic elastomers such as silicone-based, styrene-based, olefin-based, urethane-based, polyester-based, polyether-based, polyamide-based, and polybutadiene-based elastomers, indene-styrene-coumarone copolymers, triphenylphosphine oxide, and organic phosphorus compounds such as phosphoric acid esters, rubber particles such as NR (natural rubber), NBR (acrylonitrile-butadiene rubber), acrylic rubber, urethane rubber, and silicone powder, and rubber particles having a core-shell structure such as methyl methacrylate-styrene-butadiene copolymer (MBS), methyl methacrylate-silicone copolymer, and methyl methacrylate-butyl acrylate copolymer.
  • MBS methyl methacrylate-styrene-butadiene copolymer
  • MBS methyl methacrylate-silicon
  • the stress relaxation agent may be used alone or in combination of two or more types.
  • silicone-based stress relaxation agent include those having an epoxy group, those having an amino group, and those modified with polyether. More preferred are silicone compounds such as a silicone compound having an epoxy group and a polyether-based silicone compound.
  • the stress relaxation agent contains at least one of an indene-styrene-coumarone copolymer and triphenylphosphine oxide.
  • the amount thereof is, for example, preferably 1 part by mass to 30 parts by mass, and more preferably 2 parts by mass to 20 parts by mass, per 100 parts by mass of the epoxy resin and the curing agent in total.
  • the stress relaxation agent contains at least one of an indene-styrene-coumarone copolymer and triphenylphosphine oxide
  • the amount thereof is, for example, preferably 1 part by mass to 30 parts by mass, and more preferably 2 parts by mass to 20 parts by mass, per 100 parts by mass of the epoxy resin and the curing agent in total.
  • the content of the silicone-based stress relaxation agent may be, for example, 2 parts by mass or less, or 1 part by mass or less, relative to 100 parts by mass of the epoxy resin and the curing agent in total.
  • the molding resin composition may not contain a silicone-based stress relaxation agent.
  • the lower limit of the content of the silicone-based stress relaxation agent is not particularly limited, and may be 0 parts by mass or 0.1 parts by mass.
  • the content of the silicone-based stress relaxation agent is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, even more preferably 7% by mass or less, particularly preferably 5% by mass or less, and extremely preferably 0.5% by mass or less, relative to the entire molding resin composition.
  • the content of the silicone-based stress relaxation agent may be 0% by mass or 0.1% by mass.
  • the method for preparing the molding resin composition is not particularly limited.
  • a typical method is to thoroughly mix the components in a predetermined amount using a mixer or the like, melt-knead them using a mixing roll, an extruder, or the like, cool them, and pulverize them. More specifically, for example, a method is to stir and mix the predetermined amounts of the above-mentioned components, knead them using a kneader, roll, extruder, or the like that has been heated to 70°C to 140°C in advance, cool them, and pulverize them.
  • the molding resin composition of the present disclosure is preferably solid at room temperature and normal pressure (e.g., 25°C, atmospheric pressure).
  • the shape is not particularly limited, and examples thereof include powder, granules, tablets, etc.
  • the molding resin composition is in tablet form, it is preferable from the viewpoint of handleability that the dimensions and mass are set to be suitable for the molding conditions of the package.
  • the molding resin composition of the present disclosure can be applied to the manufacture of electronic component devices, particularly high-frequency devices, as described below.
  • the molding resin composition of the present disclosure may be used to seal electronic components in high-frequency devices.
  • semiconductor packages (PKGs) used in electronic component devices have become more functional and smaller.
  • AiP radio waves used for communication are becoming higher in frequency to accommodate an increase in the number of channels accompanying the diversification of information, and a low dielectric tangent is required for the sealing material.
  • the molding resin composition of the present disclosure can give a cured product having a low dielectric tangent, and is therefore particularly suitable for use in antenna-in-package (AiP) applications in high-frequency devices in which an antenna disposed on a support member is encapsulated with the molding resin composition.
  • an electronic component device including an antenna such as an antenna-in-package
  • the molding resin composition used in the manufacture of the electronic component device contains alumina particles as an inorganic filler.
  • the electronic component device of the present disclosure includes a support member, an electronic component disposed on the support member, and a cured product of the molding resin composition encapsulating the electronic component.
  • electronic component devices include those (e.g., high frequency devices) obtained by mounting electronic components (active elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, and thyristors, passive elements such as capacitors, resistors, and coils, antennas, etc.) on a support member such as a lead frame, a pre-wired tape carrier, a wiring board, glass, a silicon wafer, or an organic substrate, and then sealing the resulting electronic component region with a molding resin composition.
  • active elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, and thyristors, passive elements such as capacitors, resistors, and coils, antennas, etc.
  • the type of the support member is not particularly limited, and any support member that is generally used in the manufacture of electronic component devices can be used.
  • the electronic component may include an antenna, or may include an antenna and an element other than an antenna.
  • the antenna is not limited as long as it functions as an antenna, and may be an antenna element or a wiring.
  • other electronic components may be arranged on the surface of the support member opposite to the surface on which the electronic components are arranged, as necessary.
  • the other electronic components may be sealed with the molding resin composition described above, may be sealed with another resin composition, or may not be sealed.
  • the manufacturing method of the electronic component device of the present disclosure includes a step of placing an electronic component on a support member, and a step of encapsulating the electronic component with the molding resin composition described above.
  • the method for carrying out each of the above steps is not particularly limited and can be carried out by a general method.
  • the types of the support member and electronic components used in the manufacture of the electronic component device are not particularly limited and support members and electronic components generally used in the manufacture of the electronic component device can be used.
  • Methods for encapsulating electronic components using the above-mentioned molding resin composition include low-pressure transfer molding, injection molding, and compression molding. Of these, low-pressure transfer molding is the most common.
  • Molding resin compositions of Examples and Comparative Examples were prepared by mixing the components shown below in the blending ratios (parts by mass) shown in Table 1. This molding resin composition was a solid at room temperature and normal pressure. In Table 1, "-" means that the component is not included.
  • the filler in Table 1 means the total of the inorganic filler and the porous polymer.
  • Epoxy resin 1 biphenyl type epoxy resin, epoxy equivalent 192 g/eq
  • Epoxy resin 2 triphenylmethane type epoxy resin, epoxy equivalent 169 g/eq
  • Epoxy resin 3 o-cresol novolac type epoxy resin, epoxy equivalent 200 g/eq
  • Hardener active ester compound, DIC Corporation, product name "EXB-8", ester equivalent 213 g/eq
  • Curing accelerator an adduct of tributylphosphine and 1,4-benzoquinone
  • Coupling agent 1 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane
  • Coupling agent 2 N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane
  • Colorant carbon black
  • Filler 1 silica powder, an inorganic filler, with a volume average particle size of 0.5 ⁇ m and a specific gravity of 2.2 g/cm 3
  • Filler 2 Silica powder, an inorganic filler, volume average particle size
  • the volume average particle size of each of the inorganic fillers is a value obtained by the following measurement. Specifically, first, the inorganic filler was added to a dispersion medium (water) in a range of 0.01% by mass to 0.1% by mass, and dispersed in a bath-type ultrasonic cleaner for 5 minutes. 5 ml of the obtained dispersion was poured into a cell, and the particle size distribution was measured at 25° C. using a laser diffraction scattering particle size distribution measuring device (LA920, manufactured by Horiba, Ltd.). The particle size at an integrated value of 50% (volume basis) in the obtained particle size distribution was defined as the volume average particle size.
  • a dispersion medium water
  • LA920 laser diffraction scattering particle size distribution measuring device
  • the molding resin composition was charged into a transfer molding machine and molded under conditions of a mold temperature of 175°C, a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 120 seconds. Post-curing was performed at 175°C for 6 hours to prepare rectangular parallelepiped test pieces measuring 127 mm x 12.7 mm x 4 mm. Using a Tensilon (A&D Co., Ltd.) as an evaluation device, a three-point support bending test in accordance with JIS-K-7171 (2016) was performed at room temperature (25 ° C.), and the flexural modulus E, flexural strength S, and breaking elongation ⁇ of the test piece were calculated using the following formula.
  • the flexural modulus E (GPa), flexural strength S (MPa) and breaking elongation ⁇ (%) are defined by the following formulas.
  • P is the load cell value (N)
  • y is the displacement (mm)
  • the subscript max indicates the maximum value.
  • the flexural modulus E was converted into GPa from the value calculated by the formula described below.
  • Mold shrinkage rate A (%) ((D-d)/D) x 100
  • the molding resin composition was molded using a transfer molding machine under the conditions of a molding temperature of 175°C, a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 120 seconds to obtain a plate-shaped molded product (length 127 mm, width 12.7 mm, thickness 6.4 mm).
  • the molded product was post-cured at 175°C for 5 hours to obtain a plate-shaped cured product.
  • the encapsulating resin composition was charged into a transfer molding machine, molded under the conditions of a mold temperature of 180°C, molding pressure of 6.9 MPa, and curing time of 90 seconds, and post-cured at 175°C for 6 hours to obtain a rod-shaped cured product (length 90 mm, width 0.6 mm, thickness 0.8 mm).
  • the cured product was used as a test piece and the relative dielectric constant (Dk) and dielectric loss tangent (Df) at 10 GHz were measured at a temperature of 25 ⁇ 3°C using a cavity resonator (Kanto Electronics Application Development Co., Ltd.) and a network analyzer (Keysight Technologies, product name "PNA E8364B").
  • the types of the cavity resonators used are as follows: 10GHz ⁇ CP531
  • the cured products of the molding resin compositions of Examples 1 and 2 had a lower relative dielectric constant than the cured product of the molding resin composition of Comparative Example 1 which used the same type of epoxy resin.
  • the cured products of the molding resin compositions of Examples 3 to 6 had a lower dielectric constant than the cured product of the molding resin composition of Comparative Example 2, which used the same type of epoxy resin.
  • the molding shrinkage rate after curing tended to decrease as the amount of filler 5, which was the porous polymer particles, increased.
  • the filler 5 was subjected to viscoelasticity measurement in an unheated (0 h), 5 minutes, 2 hours or 6 hours after heating at 175 ° C.
  • the results are shown in FIG. 2.
  • 1.00E + 0X (X is an integer) in FIG. 2 means 10 X (10 to the power of X).
  • filler 5 is self-reactive when heated (i.e., thermosetting).

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Abstract

エポキシ樹脂と、活性エステル化合物を含む硬化剤と、無機充填材と、多孔質ポリマー粒子と、を含む成形用樹脂組成物。

Description

成形用樹脂組成物及び電子部品装置
 本開示は、成形用樹脂組成物及び電子部品装置に関する。
 近年の電子機器の高機能化、軽薄短小化の要求に伴い電子部品の高密度集積化、さらには高密度実装化が進んできており、これらの電子機器に使用される半導体パッケージは、従来にも増して、益々、小型化が進んでいる。さらに、電子機器の通信に使用される電波の高周波化も進んでいる。
 例えば、特許文献1及び2では、半導体パッケージの小型化、及び高周波への対応の点から、半導体素子の封止に用いる高誘電率樹脂組成物が提案されている。
特開2015-036410号公報 特開2018-141052号公報
 半導体素子等の電子部品を封止する材料としては、例えば、エポキシ樹脂と、硬化剤と、無機充填材とを含む成形用樹脂組成物が挙げられる。上記成形用樹脂組成物として、誘電正接の高い材料を用いると、誘電損失により伝送信号が熱に変換され、通信効率が低下しやすくなる。ここで、通信のために発信された電波が誘電体において熱変換されることで発生する誘電損失の量は、周波数と比誘電率の平方根と誘電正接との積として表される。伝送信号は、周波数に比例して熱に変わりやすくなる。特に近年、情報の多様化に伴うチャンネル数増加等に対応するため、通信に使用される電波が高周波化されている。誘電損失を抑制するためには、比誘電率が低い硬化物を成形可能な成形用樹脂組成物が求められている。
 本開示は、上記従来の事情に鑑みてなされたものであり、低い比誘電率を有する硬化物を成形可能な成形用樹脂組成物、及びこれを用いた電子部品装置を提供することを課題とする。
 前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
 <1> エポキシ樹脂と、活性エステル化合物を含む硬化剤と、無機充填材と、多孔質ポリマー粒子と、を含む成形用樹脂組成物。
 <2> 多孔質ポリマー粒子は、多孔質形状を有するコア部と、前記コア部の少なくとも一部を覆うシェル部とを備える<1>に記載の成形用樹脂組成物。
 <3> 多孔質ポリマー粒子は、多孔質形状を有するコア部を含み、前記コア部は、(メタ)アクリルポリマー、オレフィンポリマー、スチレンポリマー及びウレタンポリマーからなる群より選択される少なくとも1つのポリマーを含む<1>又は<2>に記載の成形用樹脂組成物。
 <4> 前記多孔質ポリマー粒子の含有率は、前記無機充填材及び前記多孔質ポリマー粒子の全量に対して5体積%~50体積%である<1>~<3>のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物。
 <5> 前記多孔質ポリマー粒子の含有率は、前記成形用樹脂組成物全量に対して3体
積%~40体積%である<1>~<4>のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物。
 <6> 前記多孔質ポリマー粒子は、熱硬化性を有する<1>~<5>のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物。
 <7> 高周波デバイスに用いられる<1>~<6>のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物。
 <8> 高周波デバイスにおける電子部品の封止に用いられる<7>に記載の成形用樹脂組成物。
 <9> アンテナ・イン・パッケージに用いられる<7>に記載の成形用樹脂組成物。
 <10> 支持部材と、
 前記支持部材上に配置された電子部品と、
 前記電子部品を封止している<1>~<9>のいずれか1つに記載の成形用樹脂組成物の硬化物と、
 を備える電子部品装置。
 <11> 前記電子部品が、アンテナを含む<10>に記載の電子部品装置。
 本開示によれば、低い比誘電率を有する硬化物を成形可能な成形用樹脂組成物、及びこれを用いた電子部品装置を提供することができる。
図1は、各実施例及び各比較例の成形用樹脂組成物を用いて求めた破断伸び及び曲げ強さのS-Sカーブを示すグラフである。 図2は、充填材5を含む組成物を用いて求めた粘弾性特性の変化を示すグラフである。
 以下、本開示の実施形態について詳細に説明する。但し、本開示は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本開示を制限するものではない。
 本開示において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
 本開示において「~」を用いて示された数値範囲には、「~」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
 本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
 本開示において、各成分には、該当する物質が複数種含まれていてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
 本開示において、各成分に該当する粒子には、複数種の粒子が含まれていてもよい。組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、各成分の粒子径は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
<成形用樹脂組成物>
 本開示の成形用樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、活性エステル化合物を含む硬化剤と、無機充填材と、多孔質ポリマー粒子と、を含む。これにより、本開示の成形用樹脂組成物は、低い比誘電率を有する硬化物を成形可能である。
 以下、成形用樹脂組成物を構成する各成分について説明する。本開示の成形用樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、無機充填材と、多孔質ポリマー粒子とを少なくとも含み、必要に応じてその他の成分を含んでいてもよい。
(エポキシ樹脂)
 本開示の成形用樹脂組成物は、エポキシ樹脂を含む。エポキシ樹脂は、分子中にエポキシ基を有するものであればその種類は特に制限されない。
 成形用樹脂組成物の全体に占めるエポキシ樹脂の質量割合は、強度、流動性、耐熱性、成形性等の観点から0.5質量%~30質量%であることが好ましく、2質量%~20質量%であることがより好ましく、3.5質量%~13質量%であることがさらに好ましい。
 エポキシ樹脂としては、例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール化合物及びα-ナフトール、β-ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のフェノール性化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等の脂肪族アルデヒド化合物と、を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したものであるノボラック型エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等);上記フェノール性化合物と、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等の芳香族アルデヒド化合物と、を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるトリフェニルメタン型フェノール樹脂をエポキシ化したものであるトリフェニルメタン型エポキシ樹脂;上記フェノール化合物及びナフトール化合物と、アルデヒド化合物と、を酸性触媒下で共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したものである共重合型エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールF等のジグリシジルエーテルであるジフェニルメタン型エポキシ樹脂;アルキル置換又は非置換のビフェノールのジグリシジルエーテルであるビフェニル型エポキシ樹脂;スチルベン系フェノール化合物のジグリシジルエーテルであるスチルベン型エポキシ樹脂;ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のアルコール類のグリシジルエーテルであるエポキシ樹脂;フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸等の多価カルボン酸化合物のグリシジルエステルであるグリシジルエステル型エポキシ樹脂;アニリン、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等の窒素原子に結合した活性水素をグリシジル基で置換したものであるグリシジルアミン型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエンとフェノール化合物の共縮合樹脂をエポキシ化したものであるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;分子内のオレフィン結合をエポキシ化したものであるビニルシクロヘキセンジエポキシド、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2-(3,4-エポキシ)シクロヘキシル-5,5-スピロ(3,4-エポキシ)シクロヘキサン-m-ジオキサン等の脂環型エポキシ樹脂;パラキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるパラキシリレン変性エポキシ樹脂;メタキシリレン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるメタキシリレン変性エポキシ樹脂;テルペン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるテルペン変性エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるジシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるシクロペンタジエン変性エポキシ樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂のグリシジルエーテルである多環芳香環変性エポキシ樹脂;ナフタレン環含有フェノール樹脂のグリシジルエーテルであるナフタレン型エポキシ樹脂;ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂;ハイドロキノン型エポキシ樹脂;トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂;オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂;フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂をエポキシ化したものであるアラルキル型エポキシ樹脂;な
どが挙げられる。さらにはアクリル樹脂のエポキシ化物等もエポキシ樹脂として挙げられる。エポキシ樹脂は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 エポキシ樹脂は、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂及びビフェニル型エポキシ樹脂の少なくともいずれか1つを含んでいてもよく、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂及びビフェニル型エポキシ樹脂、又はトリフェニルメタン型エポキシ樹脂及びo-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂を含んでいてもよい。
 エポキシ樹脂のエポキシ当量(分子量/エポキシ基数)は、特に制限されない。成形性、耐リフロー性、電気的信頼性等の各種特性バランスの観点から、エポキシ樹脂のエポキシ当量は、100g/eq~1000g/eqであることが好ましく、150g/eq~500g/eqであることがより好ましい。
 エポキシ樹脂のエポキシ当量は、JIS K 7236:2009に準じた方法で測定される値とする。
 エポキシ樹脂が固体である場合、エポキシ樹脂の軟化点又は融点は特に制限されない。エポキシ樹脂の軟化点又は融点は、成形性と耐リフロー性の観点から40℃~180℃であることが好ましく、成形用樹脂組成物の調製の際の取扱い性の観点から50℃~130℃であることがより好ましい。
 エポキシ樹脂の融点又は軟化点は、示差走査熱量測定(DSC)又はJIS K 7234:1986に準じた方法(環球法)で測定される値とする。
(硬化剤)
 本開示の成形用樹脂組成物は、活性エステル化合物を含む硬化剤を含む。
 成形用樹脂組成物は、硬化剤を1種のみ含んでもよく、2種以上含んでもよい。例えば、硬化剤は、1種のみの活性エステル化合物を含んでいてもよく、2種以上の活性エステル化合物を含んでいてもよく、活性エステル化合物及びその他の硬化剤(例えば、フェノール硬化剤)を含んでいてもよい。
 エポキシ樹脂の硬化剤として例えばフェノール硬化剤が用いられた場合、エポキシ樹脂とフェノール硬化剤との反応においては、2級水酸基が発生する。これに対して、エポキシ樹脂の硬化剤として活性エステル化合物が用いられた場合、エポキシ樹脂と活性エステル化合物との反応においては、2級水酸基のかわりにエステル基が生じる。エステル基は、2級水酸基に比べて極性が低い故、硬化剤として活性エステル化合物を含む成形用樹脂組成物は、硬化剤として2級水酸基を発生させる硬化剤のみを含む成形用樹脂組成物に比べて、硬化物の誘電正接及び比誘電率を低く抑えることができると推察される。
 また、硬化物中の極性基は硬化物の吸水性を高めるところ、硬化剤として活性エステル化合物を用いることによって硬化物の極性基濃度を抑えることができ、硬化物の吸水性を抑制することができる。そして、硬化物の吸水性を抑制すること、つまりは極性分子であるHOの含有量を抑制することにより、硬化物の誘電正接及び比誘電率をさらに低く抑えることができると推察される。
-活性エステル化合物-
 ここで、活性エステル化合物とは、エポキシ基と反応するエステル基を1分子中に1個以上有し、エポキシ樹脂の硬化作用を有する化合物をいう。
 活性エステル化合物は、エポキシ基と反応するエステル基を分子中に1個以上有する化合物であればその種類は特に制限されない。活性エステル化合物としては、フェノールエステル化合物、チオフェノールエステル化合物、N-ヒドロキシアミンエステル化合物、
複素環ヒドロキシ化合物のエステル化物等が挙げられる。これらの活性エステル化合物は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 活性エステル化合物としては、例えば、脂肪族カルボン酸及び芳香族カルボン酸の少なくとも1種と脂肪族ヒドロキシ化合物及び芳香族ヒドロキシ化合物の少なくとも1種とから得られるエステル化合物が挙げられる。脂肪族化合物を重縮合の成分とするエステル化合物は、脂肪族鎖を有することによりエポキシ樹脂との相溶性に優れる傾向にある。芳香族化合物を重縮合の成分とするエステル化合物は、芳香環を有することにより耐熱性に優れる傾向にある。
 活性エステル化合物の具体例としては、芳香族カルボン酸とフェノール性水酸基との縮合反応にて得られる芳香族エステルが挙げられる。中でも、ベンゼン、ナフタレン、ビフェニル、ジフェニルプロパン、ジフェニルメタン、ジフェニルエーテル、ジフェニルスルホン酸等の芳香環の水素原子の2~4個をカルボキシ基で置換した芳香族カルボン酸成分と、前記した芳香環の水素原子の1個を水酸基で置換した1価フェノールと、前記した芳香環の水素原子の2~4個を水酸基で置換した多価フェノールと、の混合物を原材料として、芳香族カルボン酸とフェノール性水酸基との縮合反応にて得られる芳香族エステルが好ましい。すなわち、上記芳香族カルボン酸成分由来の構造単位と上記1価フェノール由来の構造単位と上記多価フェノール由来の構造単位とを有する芳香族エステルが好ましい。
 活性エステル化合物の具体例としては、特開2012-246367号公報に記載されている、脂肪族環状炭化水素基を介してフェノール化合物が結節された分子構造を有するフェノール樹脂と、芳香族ジカルボン酸又はそのハライドと、芳香族モノヒドロキシ化合物と、を反応させて得られる構造を有する活性エステル樹脂が挙げられる。当該活性エステル樹脂としては、下記の構造式(1)で表される化合物が好ましい。
 構造式(1)中、Rは、水素原子、炭素数1~4のアルキル基又はフェニル基であり、Xは非置換のベンゼン環、非置換のナフタレン環、炭素数1~4のアルキル基で置換されたベンゼン環若しくはナフタレン環、又はビフェニル基であり、Yはベンゼン環、ナフタレン環、又は炭素数1~4のアルキル基で置換されたベンゼン環若しくはナフタレン環であり、kは0又は1であり、nは繰り返し数の平均を表し0~5である。
 構造式(1)で表される化合物の具体例としては、例えば、下記の例示化合物(1-1)~(1-10)が挙げられる。構造式中のt-Buは、tert-ブチル基である。
 活性エステル化合物の別の具体例としては、特開2014-114352号公報に記載されている、下記の構造式(2)で表される化合物及び下記の構造式(3)で表される化合物が挙げられる。
 構造式(2)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、又は炭素数1~4のアルコキシ基であり、Zは非置換のベンゾイル基、非置換のナフトイル基、炭素数1~4のアルキル基で置換されたベンゾイル基又はナフトイル基、及び炭素数2~6のアシル基からなる群から選ばれるエステル形成構造部位(z1)、又は水素原子(z2)であり、Zのうち少なくとも1個はエステル形成構造部位(z1)である。
 構造式(3)中、R及びRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、又は炭素数1~4のアルコキシ基であり、Zは非置換のベンゾイル基、非置換のナフ
トイル基、炭素数1~4のアルキル基で置換されたベンゾイル基又はナフトイル基、及び炭素数2~6のアシル基からなる群から選ばれるエステル形成構造部位(z1)、又は水素原子(z2)であり、Zのうち少なくとも1個はエステル形成構造部位(z1)である。
 構造式(2)で表される化合物の具体例としては、例えば、下記の例示化合物(2-1)~(2-6)が挙げられる。
 構造式(3)で表される化合物の具体例としては、例えば、下記の例示化合物(3-1)~(3-6)が挙げられる。
 活性エステル化合物としては、市販品を用いてもよい。活性エステル化合物の市販品としては、ジシクロペンタジエン型ジフェノール構造を含む活性エステル化合物として「EXB9451」、「EXB9460」、「EXB9460S」、「HPC-8000-65T」(DIC株式会社製);芳香族構造を含む活性エステル化合物として「EXB9416-70BK」、「EXB-8」、「EXB-9425」(DIC株式会社製);フェノールノボラックのアセチル化物を含む活性エステル化合物として「DC808」(三菱ケミカル株式会社製);フェノールノボラックのベンゾイル化物を含む活性エステル化合物として「YLH1026」(三菱ケミカル株式会社製);等が挙げられる。
 活性エステル化合物のエステル当量(分子量/エステル基数)は、特に制限されない。成形性、耐リフロー性、電気的信頼性等の各種特性バランスの観点から、150g/eq~400g/eqが好ましく、170g/eq~300g/eqがより好ましく、200g/eq~250g/eqがさらに好ましい。
 活性エステル化合物のエステル当量は、JIS K 0070:1992に準じた方法により測定される値とする。
 硬化剤は、活性エステル化合物以外のその他の硬化剤を含んでいてもよい。その他の硬化剤としては、フェノール硬化剤、アミン硬化剤、酸無水物硬化剤、ポリメルカプタン硬化剤、ポリアミノアミド硬化剤、イソシアネート硬化剤、ブロックイソシアネート硬化剤等が挙げられる。中でも、フェノール硬化剤が好ましい。
 成形用樹脂組成物は、その他の硬化剤を1種のみ含んでもよく、2種以上含んでもよい。
-フェノール硬化剤-
 フェノール硬化剤として具体的には、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、置換又は非置換のビフェノール等の多価フェノール化合物;フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール化合物及びα-ナフトール、β-ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種のフェノール性化合物と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等のアルデヒド化合物と、を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ジメトキシパラキシレン、ビス(メトキシメチル)ビフェニル等と、から合成されるフェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂;パラキシリレン変性フェノール樹脂、メタキシリレン変性フェノール樹脂;メラミン変性フェノール樹脂;テルペン変性フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ジシクロペンタジエンと、から共重合により合成されるジシクロペンタジエン型フェノール樹脂及びジシクロペンタジエン型ナフトール樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂;ビフェニル型フェノール樹脂;上記フェノール性化合物と、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等の芳香族アルデヒド化合物と、を酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるトリフェニルメタン型フェノール樹脂;これら2種以上を共重合して得たフェノール樹脂などが挙げられる。これらのフェノール硬化剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 フェノール硬化剤の水酸基当量は、特に制限されない。成形性、耐リフロー性、電気的信頼性等の各種特性バランスの観点から、フェノール硬化剤の水酸基当量は70g/eq~1000g/eqであることが好ましく、80g/eq~500g/eqであることがより好ましい。
 フェノール硬化剤の水酸基当量は、JIS K 0070:1992に準じた方法により測定される値とする。
 エポキシ樹脂と硬化剤との当量比、すなわちエポキシ樹脂中の官能基数(好ましくはエポキシ基数)に対する硬化剤中の官能基数(好ましくは、エステル基数又はエステル基及び水酸基の合計数)の比(硬化剤中の官能基数/エポキシ樹脂中の官能基数)は、特に制限されない。それぞれの未反応分を少なく抑える観点から、0.5~2.0であることが好ましく、0.6~1.3であることがより好ましい。成形性と耐リフロー性の観点から、0.8~1.2であることがさらに好ましい。
 硬化剤として活性エステル化合物とフェノール硬化剤とが併用される場合、活性エステル化合物に含まれるエステル基と、フェノール硬化剤に含まれるフェノール水酸基とのモル比率(エステル基/フェノール水酸基)は、9/1~1/9であることが好ましく、8/2~2/8であることがより好ましく、3/7~7/3であることがさらに好ましい。
 硬化剤として活性エステル化合物とその他の硬化剤(好ましくはフェノール硬化剤)とが併用される場合、活性エステル化合物及びその他の硬化剤(好ましくはフェノール硬化剤)の合計量に占める活性エステル化合物の質量割合は、成形用樹脂組成物を硬化した後の曲げ強度に優れる観点及び硬化物の誘電正接を低く抑える観点から、40質量%~90質量%であることが好ましく、50質量%~80質量%であることがより好ましく、55質量%~70質量%であることがさらに好ましい。
 硬化剤である活性エステル化合物及び必要に応じて用いられるフェノール硬化剤等のその他の硬化剤の軟化点又は融点は、特に制限されない。硬化剤の軟化点又は融点は、成形性と耐リフロー性の観点から、40℃~180℃であることが好ましく、成形用樹脂組成物の製造時における取扱い性の観点から、50℃~130℃であることがより好ましい。
 硬化剤の融点又は軟化点は、エポキシ樹脂の融点又は軟化点と同様にして測定される値とする。
(無機充填材)
 本開示の成形用樹脂組成物は、無機充填材を含む。無機充填材の種類は、特に制限されない。具体的には、溶融シリカ、結晶シリカ、ガラス、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、タルク、クレー、マイカ、チタン酸カルシウム等のチタン化合物などの無機材料が挙げられる。難燃効果を有する無機充填材を用いてもよい。難燃効果を有する無機充填材としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、マグネシウムと亜鉛の複合水酸化物等の複合金属水酸化物、硼酸亜鉛などが挙げられる。
 無機充填材の中でも、線膨張係数低減の観点から溶融シリカ等のシリカが好ましく、高熱伝導性の観点からアルミナが好ましい。さらなる誘電正接の低下の観点から、窒化ホウ素が好ましい。無機充填材は1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。無機充填材の形態としては粉未、粉末を球形化したビーズ、繊維等が挙げられる。
 無機充填材の平均粒子径は、特に制限されない。例えば、体積平均粒子径が0.2μm~50μmであることが好ましく、0.5μm~30μmであることがより好ましい。
 体積平均粒子径が0.2μm以上であると、成形用樹脂組成物の粘度の上昇がより抑制される傾向がある。体積平均粒子径が50μm以下であると、狭い隙間への充填性がより向上する傾向にある。無機充填材の体積平均粒子径は、レーザー回折散乱法粒度分布測定装置により、体積平均粒子径(D50)として測定された値をいう。
 成形用樹脂組成物又はその硬化物中の無機充填材の体積平均粒子径は、公知の方法によって測定することができる。一例として、有機溶剤、硝酸、王水等を用いて、成形用樹脂組成物又は硬化物から無機充填材を抽出し、超音波分散機等で充分に分散して分散液を調製する。この分散液を用いて、レーザー回折散乱法粒度分布測定装置により測定される体積基準の粒度分布から、無機充填材の体積平均粒子径を測定することができる。あるいは、硬化物を透明なエポキシ樹脂等に埋め込み、研磨して得られる断面を走査型電子顕微鏡にて観察して得られる体積基準の粒度分布から、無機充填材の体積平均粒子径を測定することができる。さらには、FIB装置(集束イオンビームSEM)等を用いて、硬化物の二次元の断面観察を連続的に行い、三次元構造解析を行うことで測定することもできる。
 成形用樹脂組成物の流動性の観点から、無機充填材の粒子形状は角形よりも球状が好ましく、また無機充填材の粒度分布は広範囲に分布したものが好ましい。
 成形用樹脂組成物に含まれる無機充填材全体の含有率は、硬化物の低い比誘電率及び高い破断エネルギーの観点から、成形用樹脂組成物全体に対し、40体積%を超えていることが好ましく、50体積%を超えていることがより好ましく、50体積%を超えて80体
積%以下であることがさらに好ましく、55体積%~70体積%であることが特に好ましい。
 成形用樹脂組成物における無機充填材の含有率(体積%)は、下記の方法により求めることができる。
 成形用樹脂組成物の硬化物の薄片試料を走査型電子顕微鏡(SEM)にて撮像する。SEM画像において任意の面積Sを特定し、面積Sに含まれる無機充填材の総面積Aを求める。無機充填材の総面積Aを面積Sで除算した値を百分率(%)に換算し、この値を成形用樹脂組成物に占める無機充填材の含有率(体積%)とする。
 面積Sは、無機充填材の大きさに対して十分大きい面積とする。例えば、無機充填材が100個以上含まれる大きさとする。面積Sは、複数個の切断面の合計でもよい。
 無機充填材は、成形用樹脂組成物の硬化時の重力方向において存在割合に偏りが生じることがある。その場合、SEMにて撮像する際、硬化物の重力方向全体を撮像し、硬化物の重力方向全体が含まれる面積Sを特定する。
(多孔質ポリマー粒子)
 本開示の成形用樹脂組成物は、多孔質ポリマー粒子を含む。無機充填材の一部を多孔質ポリマー粒子に置き換えることで、低い誘電正接で維持された状態で比誘電率を低くできる。
 多孔質ポリマー粒子は、ポリマーを含む多孔質状の粒子であれば特に限定されない。多孔質ポリマー粒子は、(メタ)アクリルポリマー、オレフィンポリマー、スチレンポリマー及びウレタンポリマーからなる群より選択される少なくとも1つのポリマーを含むことが好ましい。成形用樹脂組成物からなる成形物の硬化前後での寸法変化が小さくなりやすい観点から、多孔質ポリマー粒子は、スチレンポリマーを含むことが好ましい。
 多孔質ポリマー粒子は、多孔質形状を有するコア部と、前記コア部の少なくとも一部を覆うシェル部とを備えていてもよい。多孔質形状を有するコア部は、一部の細孔が表面に位置することでその表面に凹凸形状が生じる。当該コア部がシェル部によって覆われることで、当該凹凸形状の少なくとも一部がシェル層に覆われる。そのため、多孔質ポリマー粒子の表面がより平滑になる傾向にある。その結果、成形用樹脂組成物の流動性がより高まる、と推察される。
 コア層の材質は、特に限定されず、(メタ)アクリルポリマー、オレフィンポリマー、スチレンポリマー、ウレタンポリマー等が挙げられる。
 シェル層の材質は、特に限定されず、(メタ)アクリル樹脂、スチレン樹脂等が挙げられる。
 多孔質ポリマー粒子の平均粒子径は、1μm~15μmであってもよく、3μm~12μmであってもよく、5μm~10μmであってもよい。
 多孔質ポリマー粒子の平均粒子径は、レーザー回折散乱法粒度分布測定装置により、体積平均粒子径(D50)として測定された値であってもよく、SEM(走査型電子顕微鏡)を用いて組成物、硬化物等を断面観察し、無作為に選択した100個の多孔質ポリマー粒子の粒径の算術平均値であってもよい。
 多孔質ポリマー粒子は、熱硬化性を有することが好ましい。多孔質ポリマーが熱硬化性を有することで、加熱により多孔質ポリマーが加熱時に自己反応して膨張するため、成形用樹脂組成物からなる成形物の硬化前後での寸法変化が小さくなる。その結果、成形用樹脂組成物の硬化物を備える電子部品装置の反りを低減できる傾向にある。
 多孔質ポリマー粒子は、中空粒子であってもよい。多孔質ポリマー粒子が中空粒子である場合、多孔質ポリマー粒子の中空率は、低誘電率、混練性及び流動性のバランスの観点から、30%~70%であることが好ましく、40%~60%であることがより好ましい。例えば、多孔質ポリマー粒子の中空率が30%以上であることにより、硬化物の誘電率が低下する傾向にある。多孔質ポリマー粒子の中空率が70%以下であることにより、成形用樹脂組成物の混練性及び流動性に優れる傾向にある。
 前述の中空率は、以下の方法により測定できる。
 透過電子顕微鏡により、中空粒子を観察すると、コントラストの異なる中実部分と中空部分とが観察される。中空粒子の中心方向へのそれぞれの部分の長さを測定し、その値から体積を算出し、中空率を求める。
 多孔質ポリマー粒子の含有率は、硬化物の低い比誘電率及び高い破断エネルギーの観点から、無機充填材及び多孔質ポリマー粒子の全量に対し、5体積%~50体積%であることが好ましく、8体積%~40体積%であることがより好ましく、10体積%~30体積%であることがさらに好ましい。
 多孔質ポリマー粒子の含有率は、硬化物の低い誘電正接及び高い破断エネルギーの観点から、成形用樹脂組成物全量に対し、3体積%~40体積%であることが好ましく、5体積%~30体積%であることがより好ましく、8体積%~20体積%であることがさらに好ましい。
[各種添加剤]
 本開示の成形用樹脂組成物は、上述の成分に加えて、以下に例示する硬化促進剤、カップリング剤、イオン交換体、離型剤、難燃剤、着色剤、応力緩和剤等の各種添加剤をそれぞれ独立に含んでもよく、含んでいなくてもよい。本開示の成形用樹脂組成物は、以下に例示する添加剤以外にも必要に応じて当技術分野で周知の各種添加剤を含んでもよい。
(硬化促進剤)
 本開示の成形用樹脂組成物は、硬化促進剤を含んでもよい。硬化促進剤の種類は特に制限されず、エポキシ樹脂の種類、成形用樹脂組成物の所望の特性等に応じて選択できる。硬化促進剤は1種類を単独で用いても2種類以上を組み合わせて用いてもよい。硬化促進剤の具体例を以下に記載するが、これらに限定されるものではない。
 硬化促進剤としては、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5(DBN)、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7(DBU)等のジアザビシクロアルケン、2-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、2-ヘプタデシルイミダゾール等の環状アミジン化合物;前記環状アミジン化合物の誘導体;前記環状アミジン化合物又はその誘導体のフェノールノボラック塩;これらの化合物に無水マレイン酸、1,4-ベンゾキノン、2,5-トルキノン、1,4-ナフトキノン、2,3-ジメチルベンゾキノン、2,6-ジメチルベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-5-メチル-1,4-ベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-1,4-ベンゾキノン、フェニル-1,4-ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタンなどの、π結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物;DBUのテトラフェニルボレート塩、DBNのテトラフェニルボレート塩、2-エチル-4-メチルイミダゾールのテトラフェニルボレート塩、N-メチルモルホリンのテトラフェニルボレート塩等の環状アミジニウム化合物;ピリジン、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の三級アミン化合物;前記三級アミン化合物の誘導体;酢酸テトラ-n-ブチルアンモニウム、リン酸テトラ-n-ブチルアンモニウム、酢酸テトラエチルアンモニウム、安息香酸テトラ-n-ヘキシルアンモニウム、水酸化テ
トラプロピルアンモニウム等のアンモニウム塩化合物;エチルホスフィン、フェニルホスフィン等の一級ホスフィン、ジメチルホスフィン、ジフェニルホスフィン等の二級ホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジフェニル(p-トリル)ホスフィン、トリス(アルキルフェニル)ホスフィン、トリス(アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(アルキルアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルコキシフェニル)ホスフィン、トリアルキルホスフィン、ジアルキルアリールホスフィン、アルキルジアリールホスフィン、トリナフチルホスフィン、トリス(ベンジル)ホスフィン等の三級ホスフィンなどの、有機ホスフィン;前記有機ホスフィンと有機ボロン類との錯体等のホスフィン化合物;前記有機ホスフィン又は前記ホスフィン化合物と無水マレイン酸、1,4-ベンゾキノン、2,5-トルキノン、1,4-ナフトキノン、2,3-ジメチルベンゾキノン、2,6-ジメチルベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-5-メチル-1,4-ベンゾキノン、2,3-ジメトキシ-1,4-ベンゾキノン、フェニル-1,4-ベンゾキノン、アントラキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタンなどの、π結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物;前記有機ホスフィン又は前記ホスフィン化合物と4-ブロモフェノール、3-ブロモフェノール、2-ブロモフェノール、4-クロロフェノール、3-クロロフェノール、2-クロロフェノール、4-ヨウ化フェノール、3-ヨウ化フェノール、2-ヨウ化フェノール、4-ブロモ-2-メチルフェノール、4-ブロモ-3-メチルフェノール、4-ブロモ-2,6-ジメチルフェノール、4-ブロモ-3,5-ジメチルフェノール、4-ブロモ-2,6-ジ-t-ブチルフェノール、4-クロロ-1-ナフトール、1-ブロモ-2-ナフトール、6-ブロモ-2-ナフトール、4-ブロモ-4’-ヒドロキシビフェニル等のハロゲン化フェノール化合物を反応させた後に、脱ハロゲン化水素の工程を経て得られる、分子内分極を有する化合物;テトラフェニルホスホニウム等のテトラ置換ホスホニウム、テトラフェニルホスホニウムテトラ-p-トリルボレート等のテトラ置換ホスホニウムのテトラフェニルボレート塩、テトラ置換ホスホニウムとフェノール化合物との塩などの、テトラ置換ホスホニウム化合物;ホスホベタイン化合物;ホスホニウム化合物とシラン化合物との付加物などが挙げられる。
 好適な硬化促進剤としては、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィンのキノン化合物付加物等が挙げられる。
 成形用樹脂組成物が硬化促進剤を含む場合、硬化促進剤の含有量は、エポキシ樹脂及び硬化剤の合計量100質量部に対して、0.1質量部~8質量部であることが好ましく、0.3質量部~7質量部であることがより好ましく、0.5質量部~6質量部であることがさらに好ましい。硬化促進剤の含有量を上記数値範囲内とすることにより、本開示の成形用樹脂組成物の硬化速度が適切な数値となり、成形品の製造が容易となる。
(カップリング剤)
 本開示の成形用樹脂組成物は、カップリング剤を含んでもよい。エポキシ樹脂及び硬化剤と無機充填材との接着性を高める観点から、成形用樹脂組成物はカップリング剤を含むことが好ましい。カップリング剤としては、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン、ジシラザン等のシラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート系化合物、アルミニウム/ジルコニウム系化合物などの公知のカップリング剤が挙げられる。
 成形用樹脂組成物がカップリング剤を含む場合、カップリング剤の量は、無機充填材100質量部に対し、0.05質量部~5質量部であることが好ましく、0.1質量部~2.5質量部であることがより好ましい。カップリング剤の量が無機充填材100質量部に対して0.05質量部以上であると、接着性がより向上する傾向にある。カップリング剤
の量が無機充填材100質量部に対して5質量部以下であると、パッケージの成形性がより向上する傾向にある。
(イオン交換体)
 本開示の成形用樹脂組成物は、イオン交換体を含んでもよい。成形用樹脂組成物は、封止される電子部品を備える電子部品装置の耐湿性及び高温放置特性を向上させる観点から、イオン交換体を含むことが好ましい。イオン交換体は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、ハイドロタルサイト化合物、並びにマグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、及びビスマスからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素の含水酸化物等が挙げられる。イオン交換体は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、下記一般式(A)で表されるハイドロタルサイトが好ましい。
  Mg(1-X)Al(OH)(COX/2・mHO ……(A)
  (0<X≦0.5、mは正の数)
 成形用樹脂組成物がイオン交換体を含む場合、その含有量は、ハロゲンイオン等のイオンを捕捉するのに充分な量であれば特に制限はない。例えば、イオン交換体の含有量は、エポキシ樹脂及び硬化剤の合計100質量部に対し、0.1質量部~30質量部であることが好ましく、1質量部~10質量部であることがより好ましい。
(離型剤)
 本開示の成形用樹脂組成物は、成形時における金型との良好な離型性を得る観点から、離型剤を含んでもよい。離型剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、カルナバワックス、モンタン酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス、酸化ポリエチレン、非酸化ポリエチレン等のポリオレフィン系ワックスなどが挙げられる。離型剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 成形用樹脂組成物が離型剤を含む場合、その量は樹脂成分100質量部に対し、0.01質量部~10質量部が好ましく、0.1質量部~5質量部がより好ましい。離型剤の量が樹脂成分100質量部に対して0.01質量部以上であると、離型性が充分に得られる傾向にある。離型剤の量が樹脂成分100質量部に対して10質量部以下であると、より良好な接着性が得られる傾向にある。
(難燃剤)
 本開示の成形用樹脂組成物は、難燃剤を含んでもよい。難燃剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、ハロゲン原子、アンチモン原子、窒素原子又はリン原子を含む有機又は無機の化合物、金属水酸化物等が挙げられる。難燃剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 成形用樹脂組成物が難燃剤を含む場合、その量は、所望の難燃効果を得るのに充分な量であれば特に制限されない。例えば、難燃剤の量は、エポキシ樹脂及び硬化剤の合計100質量部に対し、1質量部~30質量部であることが好ましく、2質量部~20質量部であることがより好ましい。
(着色剤)
 本開示の成形用樹脂組成物は、着色剤を含んでもよい。着色剤としては、カーボンブラック、有機染料、有機顔料、酸化チタン、鉛丹、ベンガラ等の公知の着色剤を挙げることができる。着色剤の含有量は、目的等に応じて適宜選択できる。着色剤は、1種を単独で
用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(応力緩和剤)
 本開示の成形用樹脂組成物は、応力緩和剤を含んでもよい。応力緩和剤を含むことにより、パッケージの反り変形及びパッケージクラックの発生をより低減させることができる。応力緩和剤としては、一般に使用されている公知の応力緩和剤(可とう剤)が挙げられる。具体的には、シリコーン系、スチレン系、オレフィン系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系等の熱可塑性エラストマー、インデン-スチレン-クマロン共重合体等、トリフェニルホスフィンオキシド、リン酸エステル等の有機リン化合物、NR(天然ゴム)、NBR(アクリロニトリル-ブタジエンゴム)、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンパウダー等のゴム粒子、メタクリル酸メチル-スチレン-ブタジエン共重合体(MBS)、メタクリル酸メチル-シリコーン共重合体、メタクリル酸メチル-アクリル酸ブチル共重合体等のコア-シェル構造を有するゴム粒子などが挙げられる。応力緩和剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 シリコーン系応力緩和剤としては、エポキシ基を有するもの、アミノ基を有するもの、これらをポリエーテル変性したもの等が挙げられ、エポキシ基を有するシリコーン化合物、ポリエーテル系シリコーン化合物等のシリコーン化合物がより好ましい。
 誘電正接の観点から、応力緩和剤は、インデン-スチレン-クマロン共重合体及びトリフェニルホスフィンオキサイドの少なくとも一方を含むことが好ましい。
 成形用樹脂組成物が応力緩和剤を含む場合、その量は、例えば、エポキシ樹脂及び硬化剤の合計100質量部に対し、1質量部~30質量部であることが好ましく、2質量部~20質量部であることがより好ましい。
 応力緩和剤がインデン-スチレン-クマロン共重合体及びトリフェニルホスフィンオキサイドの少なくとも一方を含む場合、その量は、例えば、エポキシ樹脂及び硬化剤の合計100質量部に対し、1質量部~30質量部であることが好ましく、2質量部~20質量部であることがより好ましい。
 シリコーン系応力緩和剤の含有量は、例えば、エポキシ樹脂及び硬化剤の合計100質量部に対し、2質量部以下であってもよく、1質量部以下であってもよい。成形用樹脂組成物は、シリコーン系応力緩和剤を含んでいなくてもよい。シリコーン系応力緩和剤の含有量の下限値は特に限定されず、0質量部であってもよく、0.1質量部であってもよい。
 シリコーン系応力緩和剤の含有率は、誘電正接の観点から、成形用樹脂組成物全体に対し、20質量%以下であることが好ましく、10質量%以下であることがより好ましく、7質量%以下であることがさらに好ましく、5質量%以下であることが特に好ましく、0.5質量%以下であることが極めて好ましい。シリコーン系応力緩和剤の含有率の下限値は特に限定されず、0質量%であってもよく、0.1質量%であってもよい。
(成形用樹脂組成物の調製方法)
 成形用樹脂組成物の調製方法は、特に制限されない。一般的な手法としては、所定の配合量の成分をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロール、押出機等によって溶融混練し、冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。より具体的には、例えば、上述した成分の所定量を攪拌及び混合し、予め70℃~140℃に加熱してあるニーダー、ロール、エクストルーダー等で混練し、冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。
 本開示の成形用樹脂組成物は、常温常圧下(例えば、25℃、大気圧下)において固体であることが好ましい。成形用樹脂組成物が固体である場合の形状は特に制限されず、粉
状、粒状、タブレット状等が挙げられる。成形用樹脂組成物がタブレット状である場合の寸法及び質量は、パッケージの成形条件に合うような寸法及び質量となるようにすることが取り扱い性の観点から好ましい。
(成形用樹脂組成物の用途)
 本開示の成形用樹脂組成物は、例えば、後述する電子部品装置、その中でも特に高周波デバイスの製造に適用することができる。本開示の成形用樹脂組成物は、高周波デバイスにおける電子部品の封止に用いてもよい。
 特に、近年、第5世代移動通信システム(5G)の普及に伴い、電子部品装置に使用される半導体パッケージ(PKG)の高機能化及び小型化が進んでいる。そして、PKGの小型化及び高機能化に伴い、アンテナ機能を有するPKGであるアンテナ・イン・パッケージ(AiP、Antenna in Package)の開発も進められている。AiPでは、情報の多様化に伴うチャンネル数の増加等に対応するため、通信に使用される電波が高周波化されるようになっており、封止材料において、低い誘電正接が求められている。
 本開示の成形用樹脂組成物は、前記の通り、誘電正接が低い硬化物が得られる。そのため、高周波デバイスにおいて、支持部材上に配置されたアンテナを成形用樹脂組成物で封止したアンテナ・イン・パッケージ(AiP)用途に特に好適である。
 アンテナ・イン・パッケージ等のアンテナを含む電子部品装置では、電力供給用のアンプをアンテナと反対側に設けた場合に電力供給による発熱が発生する。放熱性向上の観点から、電子部品装置の製造に用いられる成形用樹脂組成物は、無機充填材としてアルミナ粒子を含むことが好ましい。
<電子部品装置>
 本開示の電子部品装置は、支持部材と、前記支持部材上に配置された電子部品と、前記電子部品を封止している前述の成形用樹脂組成物の硬化物と、を備える。
 電子部品装置としては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ、有機基板等の支持部材に、電子部品(半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子、アンテナなど)を搭載して得られた電子部品領域を成形用樹脂組成物で封止したもの(例えば高周波デバイス)が挙げられる。
 上記支持部材の種類は特に制限されず、電子部品装置の製造に一般的に用いられる支持部材を使用できる。
 上記電子部品は、アンテナを含んでもよく、アンテナ及びアンテナ以外の素子を含んでもよい。上記アンテナは、アンテナの役割を果たすものであれば限定されるものではなく、アンテナ素子であってもよく、配線であってもよい。
 また、本開示の電子部品装置では、必要に応じて、支持部材上における上記電子部品が配置された面と反対側の面に、他の電子部品が配置されていてもよい。他の電子部品は、前述の成形用樹脂組成物により封止されていてもよく、他の樹脂組成物により封止されていてもよく、封止されていなくてもよい。
(電子部品装置の製造方法)
 本開示の電子部品装置の製造方法は、電子部品を支持部材上に配置する工程と、前記電子部品を前述の成形用樹脂組成物で封止する工程と、を含む。
 上記各工程を実施する方法は特に制限されず、一般的な手法により行うことができる。また、電子部品装置の製造に使用する支持部材及び電子部品の種類は特に制限されず、電子部品装置の製造に一般的に用いられる支持部材及び電子部品を使用できる。
 前述の成形用樹脂組成物を用いて電子部品を封止する方法としては、低圧トランスファ成形法、インジェクション成形法、圧縮成形法等が挙げられる。これらの中では、低圧トランスファ成形法が一般的である。
 以下、上記実施形態を実施例により具体的に説明するが、上記実施形態の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
<成形用樹脂組成物の調製>
 下記に示す成分を表1に示す配合割合(質量部)で混合し、実施例と比較例の成形用樹脂組成物を調製した。この成形用樹脂組成物は、常温常圧下において固体であった。
 なお、表1中、「-」はその成分を含まないことを意味する。
 また、表1中の充填材は、無機充填材と多孔質ポリマーとの合計を意味する。
・エポキシ樹脂1:ビフェニル型エポキシ樹脂、エポキシ当量192g/eq
・エポキシ樹脂2:トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、エポキシ当量169g/eq
・エポキシ樹脂3:o-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ当量200g/eq
・硬化剤:活性エステル化合物、DIC株式会社、品名「EXB-8」、エステル当量213g/eq
・硬化促進剤:トリブチルホスフィンと1,4-ベンゾキノンとの付加物
・カップリング剤1:3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
・カップリング剤2:N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン
・着色剤:カーボンブラック
・充填材1:無機充填材であるシリカ粉体、体積平均粒径0.5μm、比重2.2g/cm
・充填材2:無機充填材であるシリカ粉体、体積平均粒径4.0μm、比重2.2g/cm
・充填材3:多孔質ポリマー粒子であるポリメタクリル酸メチル粒子、体積平均粒径8μm、最大粒径20μm、球状、熱分解温度265℃、中空率45%、比重0.6g/cm
・充填材4:多孔質ポリマー粒子であるアクリルウレタンポリマー粒子、体積平均粒径6μm、球状、熱分解温度280℃、比重0.6g/cm
・充填材5:多孔質ポリマー粒子であり、シェル層(材質:スチレン樹脂)を有するスチレンポリマー粒子、低吸油性、体積平均粒径7μm、最大粒径20μm、球状、熱分解温度280℃、中空率45%、比重0.6g/cm
・充填材6:多孔質ポリマー粒子であり、シェル層(材質:スチレン樹脂)を有するスチレンポリマー粒子、低吸油性、体積平均粒径7.5μm、最大粒径20μm、球状、熱分解温度290℃、中空率50%、比重0.6g/cm
 なお、上記各無機充填材の体積平均粒径は、以下の測定により得られた値である。
 具体的には、まず、分散媒(水)に、無機充填材を0.01質量%~0.1質量%の範囲で添加し、バス式の超音波洗浄機で5分間分散した。
 得られた分散液5mlをセルに注入し、25℃で、レーザー回折散乱法粒度分布測定装置(株式会社堀場製作所、LA920)にて粒度分布を測定した。
 得られた粒度分布における積算値50%(体積基準)での粒径を体積平均粒径とした。
(スパイラルフロー(SF)の評価)
 EMMI-1-66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、成形用樹脂組成物をトランスファ成形機により、金型温度175℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間12
0秒間の条件で成形して流動距離(cm)を求めた。結果を表1に示す。
(室温曲げ試験)
 成形用樹脂組成物をトランスファ成形機に仕込み、金型温度175℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間120秒の条件で成形し、後硬化を175℃で6時間の条件で行って、127mm×12.7mm×4mmの直方体形状の試験片を作製した。
 評価装置としてテンシロン(A&D社)を用い、JIS-K-7171(2016)に準拠した3点支持型曲げ試験を常温(25℃)において行い、試験片の曲げ弾性率E、曲げ強さS及び破断伸びεを下記式により求めた。
 曲げ弾性率E(GPa)、曲げ強さS(MPa)及び破断伸びε(%)は下記式にて定義される。
 下記式中、Pはロードセルの値(N)、yは変位量(mm)、lはスパン=64mm、wは試験片幅=12.7mm、hは試験片厚さ=4mmである。添字のmaxは最大値を示す。曲げ弾性率Eについては、後述の式にて算出された値をGPaに換算した。
(破断エネルギーの測定)
 成形用樹脂組成物について、前述の曲げ試験を行い、破断伸び(%)及び曲げ強さ(MPa)のS-Sカーブの面積を以下の式により求め、その値を破断エネルギーとした。図1に、各実施例及び各比較例の成形用樹脂組成物を用いて求めた破断伸び及び曲げ強さのS-Sカーブを示す。
 結果を表1に示す。
(成形収縮率測定)
 成形用樹脂組成物を、トランスファ成形機を用い、成形温度175℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間120秒の条件で成形し、板状の成形品(縦127mm、横12.7mm、厚さ6.4mm)を得た。
 予め測定した25℃における金型のキャビティの長さDと、室温(25℃)における成形品の長さdと、から下記式により成形収縮率A(%)(表1中の成形収縮率AM)を求めた。結果を表1に示す。
 成形収縮率A(%)=((D-d)/D)×100
 成形用樹脂組成物を、トランスファ成形機を用い、成形温度175℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間120秒の条件で成形し、板状の成形品(縦127mm、横12.7mm、厚さ6.4mm)を得た。その成形品を175℃で5時間後硬化を行い、板状の硬化物を得た。
 予め測定した25℃における金型のキャビティの長さDと、室温(25℃)における硬化物の長さdと、から下記式により成形収縮率B(%)(表1中の成形収縮率AC)を求めた。結果を表1に示す。
 成形収縮率B(%)=((D-d)/D)×100
(比誘電率及び誘電正接の測定)
 封止用樹脂組成物をトランスファ成形機に仕込み、金型温度180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間90秒の条件で成形し、後硬化を175℃で6時間行い、棒状の硬化物(縦90mm、横0.6mm、厚さ0.8mm)を得た。この硬化物を試験片として、空洞共振器(株式会社関東電子応用開発)及びネットワーク・アナライザー(キーサイトテクノロジー社、品名「PNA E8364B」)を用いて、温度25±3℃下、10GHzでの比誘電率(Dk)及び誘電正接(Df)を測定した。
 なお、使用した空洞共振器の型式は以下の通りである。
10GHz・・・CP531
 表1の評価結果から明らかなように、実施例1及び2の成形用樹脂組成物の硬化物は、同じ種類のエポキシ樹脂を用いた比較例1の成形用樹脂組成物の硬化物よりも低い比誘電率を有していた。
 実施例3~6の成形用樹脂組成物の硬化物は、同じ種類のエポキシ樹脂を用いた比較例2の成形用樹脂組成物の硬化物よりも低い比誘電率を有していた。さらに、実施例4~6では、多孔質ポリマー粒子である充填材5の量が増加するにつれて硬化後の成形収縮率が低下する傾向が確認された。
(加熱による粘弾性特性変化の確認)
 充填材5を、未加熱(0h)、175℃で5分間、2時間又は6時間加熱した後の状態にて粘弾性測定を行った。粘弾性測定については、未加熱(0h)、175℃で5分間、2時間又は6時間加熱した後の状態の試験用サンプルを準備し、回転型レオメーターKinexus lab+(NETZSCH Japan株式会社製)を用いて、振幅法、Strain=0.1%、周波数=1Hz、GAP=0.5mm、測定温度範囲25℃~180℃、昇温速度10℃/minの条件で測定した。結果を図2に示す。図2中の1.00E+0X(Xは整数)は、10(10のX乗)を意味する。
 図2に示すように、組成物を加熱したサンプルは、測定温度にて高い弾性率を有していた。この結果から、充填材5は加熱による自己反応性(つまり、熱硬化性)を有している、と推察される。
 2022年11月25日に出願された日本国特許出願2022-188706号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
 本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims (11)

  1.  エポキシ樹脂と、活性エステル化合物を含む硬化剤と、無機充填材と、多孔質ポリマー粒子と、を含む成形用樹脂組成物。
  2.  多孔質ポリマー粒子は、多孔質形状を有するコア部と、前記コア部の少なくとも一部を覆うシェル部とを備える請求項1に記載の成形用樹脂組成物。
  3.  多孔質ポリマー粒子は、多孔質形状を有するコア部を含み、前記コア部は、(メタ)アクリルポリマー、オレフィンポリマー、スチレンポリマー及びウレタンポリマーからなる群より選択される少なくとも1つのポリマーを含む請求項1に記載の成形用樹脂組成物。
  4.  前記多孔質ポリマー粒子の含有率は、前記無機充填材及び前記多孔質ポリマー粒子の全量に対して5体積%~50体積%である請求項1に記載の成形用樹脂組成物。
  5.  前記多孔質ポリマー粒子の含有率は、前記成形用樹脂組成物全量に対して3体積%~40体積%である請求項1に記載の成形用樹脂組成物。
  6.  前記多孔質ポリマー粒子は、熱硬化性を有する請求項1に記載の成形用樹脂組成物。
  7.  高周波デバイスに用いられる請求項1~請求項6のいずれか1項に記載の成形用樹脂組成物。
  8.  高周波デバイスにおける電子部品の封止に用いられる請求項7に記載の成形用樹脂組成物。
  9.  アンテナ・イン・パッケージに用いられる請求項7に記載の成形用樹脂組成物。
  10.  支持部材と、
     前記支持部材上に配置された電子部品と、
     前記電子部品を封止している請求項1~請求項9のいずれか1項に記載の成形用樹脂組成物の硬化物と、
     を備える電子部品装置。
  11.  前記電子部品が、アンテナを含む請求項10に記載の電子部品装置。
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