WO2024034669A1

WO2024034669A1 - シラン化合物

Info

Publication number: WO2024034669A1
Application number: PCT/JP2023/029317
Authority: WO
Inventors: 真也高野; 大貴久保田; 希望中野; 真奈美片岡; 史彦山口; 孝史野村; 真理木村; 元志松井; 一樹森本
Original assignee: ダイキン工業株式会社
Priority date: 2022-08-10
Filing date: 2023-08-10
Publication date: 2024-02-15
Also published as: JP2024025757A

Abstract

本発明は、下記式（１）［式中：Ｒ^１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、Ｘ^１は、炭素数１１以上のアルキレン基を含む２価の有機基であり、Ｒ^Ｓｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。］で表される化合物を提供する。

Description

シラン化合物

　本開示は、シラン化合物に関する。

　ある種のシラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水撥油性を提供し得ることが知られている（特許文献１）。

特開２０１９－４４１７９号公報

　本開示は、摩擦耐久性と指紋拭き取り性の両方をバランスよく備えた表面処理層を形成することができる化合物を提供することを目的とする。

　本開示は、下記の態様を含む。
［１］　下記式（１）：
［式中：
　Ｒ^１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
　Ｘ^１は、炭素数１１以上のアルキレン基を含む２価の有機基であり、
　Ｒ^Ｓｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。］
で表される化合物。
［２］　Ｒ^１は、Ｒ^３－（ＳｉＲ^４ _２Ｏ）_ｎ－ＳｉＲ^４ _２－であり、
　Ｒ^３は、Ｃ_１－１２アルキル基であり、
　Ｒ^４は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキル基であり、
　ｎは、０～１５００である、
上記［１］に記載の化合物。
［３］　Ｒ^３は、メチル基である、上記［２］に記載の化合物。
［４］　Ｒ^１は、Ｒ^３－（ＳｉＲ^４ _２Ｏ）_ｎ－ＳｉＲ^４ _２－であり、
　Ｒ^３は、下記Ａ基またはＢ基：

［式中：
　Ｒ^５１は、それぞれ独立して、－（Ｒ^６１－ＳｉＲ^５３ _２）_ｍａ－Ｒ^５３で表される基であり、
　　Ｒ^６１は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　　Ｒ^５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ^５１’であり、
　　　Ｒ^５１’は、Ｒ^５１と同意義であり、
　　ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
　ただし、Ｒ^５１中、Ｒ^５１’の数は２０以下であり、
　Ｒ^５２は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
　ｎａは、１～３の整数であり、
　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
　ｎｂは、１～５の整数であり、
　ｚは、０又は１である。］
で表される基であり、
　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキル基であり、
　ｎは、０～１５００である、
上記［１］に記載の化合物。
［５］　Ｒ^４は、メチル基である、上記［２］～［４］のいずれか１項に記載の化合物。
［６］　ｎは、１又は２である、上記［２］～［５］のいずれか１項に記載の化合物。
［７］　Ｒ^１は、－ＳｉＲ^５ _３であり、
　Ｒ^５は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキル基、又は－ＳｉＲ^６ _３であり、
　Ｒ^６は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキル基である、
上記［１］～［６］のいずれか１項に記載の化合物。
［８］　Ｒ^１は、下記Ａ基またはＢ基：

［式中：
　Ｒ^５１は、それぞれ独立して、－（Ｒ^６１－ＳｉＲ^５３ _２）_ｍａ－Ｒ^５３で表される基であり、
　　Ｒ^６１は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　　Ｒ^５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ^５１’であり、
　　　Ｒ^５１’は、Ｒ^５１と同意義であり、
　　ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
　ただし、Ｒ^１中、Ｒ^１’の数は２０以下であり、
　Ｒ^５２は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
　ｎａは、１～３の整数であり、
　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
　ｎｂは、１～５の整数であり、
　ｚは、０又は１である。］
で表される基である、上記［１］～［７］のいずれか１項に記載の化合物。
［９］　Ｘ^１は、さらに、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ^２－、－ＣＯＮＲ^２－、－ＯＣＯＮＲ^２－、－ＮＲ^２－ＣＯ－ＮＲ^２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｘ－ＣＯＮＲ^２－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｘ－ＣＯ－を含む２価の有機基であり、
　Ｒ^２は、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｘは、１～２０の整数である、
上記［１］～［８］のいずれか１項に記載の化合物。
［１０］　Ｘ^１は、下記式：
　　　－Ｘ^２１－Ｘ^１０－Ｘ^１１－Ｘ^１２－
［式中：
　Ｘ^２１は、－Ｏ－、Ｒ^６１ _ｂ１Ｒ^６２ _３－ｂ１Ｃ－、Ｒ^６３ _ｂ２Ｒ^６４ _３－ｂ２Ｓｉ－、又はＲ^６５ _２Ｎ－であり、
　　Ｒ^６１は、２価の有機基であり、
　　Ｒ^６２は、水素原子、又は１価の有機基であり、
　　Ｒ^６３は、２価の有機基であり、
　　Ｒ^６４は、水素原子、又は１価の有機基であり、
　　Ｒ^６５は、２価の有機基であり、
　　ｂ１は、２又は３であり、
　　ｂ２は、２又は３であり、
　Ｘ^１０は、炭素数１１以上のアルキレン基であり、
　Ｘ^１１は、単結合、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ^２－、－ＣＯＮＲ^２－、－ＯＣＯＮＲ^２－、－ＮＲ^２－ＣＯ－ＮＲ^２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｘ－ＣＯＮＲ^２－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｘ－ＣＯ－であり、
　Ｒ^２は、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｘは、１～２０の整数であり、
　Ｘ^１２は、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基である。］
で表される基である、
上記［１］～［９］のいずれか１項に記載の化合物。
［１１］　Ｘ^１中のアルキレン基の炭素原子の数は、Ｒ^１中のＳｉ原子の数よりも多い、上記［１］～［１０］のいずれか１項に記載の化合物。
［１２］　Ｘ^１中のアルキレン基の炭素原子の数は、Ｒ^１中のＳｉ原子の数の２．５倍以上である、上記［１］～［１１］のいずれか１項に記載の化合物。
［１３］　Ｘ^１中のアルキレン基の炭素原子の数は、Ｒ^１中の主鎖の原子の数よりも多い、上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載の化合物。
［１４］　Ｘ^１中のアルキレン基の炭素原子の数は、Ｒ^１中の主鎖の原子の数の２．０倍以上である、上記［１］～［１３］のいずれか１項に記載の化合物。
［１５］　Ｒ^Ｓｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、又は（Ｓ４）：
［式中：
　Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ１は、１～３の整数であり；
　Ｒ^ａ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
　Ｚ^１は、それぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^２１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
　Ｒ^２２は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^１’は、それぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^２１’は、それぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
　Ｒ^２２’は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３’は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^１”は、それぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^２２”は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３”は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｑ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｂ１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^ｃ１は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｋ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｄ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
　Ｚ^２は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^３１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
　Ｒ^３２は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｐ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^２’は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^３２’は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３’は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｑ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^３は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^３４は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^３５は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｅ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^ｆ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｋ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり；
　Ｚ^４は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　ただし、式（Ｓ２）、（Ｓ３）、及び（Ｓ４）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。］
で表される基である、上記［１］～［１４］のいずれか１項に記載の化合物。
［１６］　下記式（１ａ）：
［式中：
　Ｒ^１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
　Ｘ^２は、炭素数１１以上のアルキレン基であり、
　Ｒ^ｉは、－ＣＯＯＲ^７、－ＣＯＮＲ^８ _２、又は－ＣＯＮＲ^７－ＣＲ^８ _３であり、
　Ｒ^７は、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、
　Ｒ^８は、末端に二重結合を有するＣ_２－６アルケニル基である。］
で表される化合物。
［１７］　上記［１］～［１５］のいずれか１項に記載の化合物を含む、表面処理剤。
［１８］　さらに上記［１］～［１５］のいずれか１項に記載の化合物の縮合体を含む、上記［１７］に記載の表面処理剤。
［１９］　さらに、Ｒ^８１ＯＲ^８２、Ｒ^８３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８、Ｒ^８４Ｒ^８５Ｒ^８６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^８７Ｒ^８８）_ｍ８－Ｒ^８９、及び（ＯＳｉＲ^８７Ｒ^８８）_ｍ９
［式中
　Ｒ^８１～Ｒ^８９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０個の一価の有機基であり、
　ｍ８は、１～６の整数であり、
　ｍ９は、４～８の整数であり、
　ｎ８は、０～６の整数である。］
で表される化合物から選択される溶媒を含む、上記［１７］又は［１８］に記載の表面処理剤。
［２０］　前記溶媒は、Ｒ^８４Ｒ^８５Ｒ^８６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^８７Ｒ^８８）_ｍ８－Ｒ^８９である、上記［１９］に記載の表面処理剤。
［２１］　前記溶媒は、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、又はデカメチルシクロペンタシロキサンである、上記［１９］又は［２０］に記載の表面処理剤。
［２２］　真空蒸着用である、上記［１７］～［２１］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［２３］　湿潤被覆用である、上記［１７］～［２１］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［２４］　上記［１７］～［２１］のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
［２５］　基材と、該基材上に、上記［１］～［１５］のいずれか１項に記載の化合物から形成された層とを含む物品。
［２６］　前記基材と前記層との間に酸化ケイ素を含む中間層を含む、上記［２５］に記載の物品。
［２７］　前記中間層は、アルカリ金属原子を含む、上記［２６］に記載の物品。
［２８］　前記アルカリ金属原子の少なくとも一部がナトリウム原子である、上記［２７］に記載の物品。
［２９］　光学部材である、上記［２５］～［２８］のいずれか１項に記載の物品。
［３０］　ディスプレイである、上記［２５］～［２８］のいずれか１項に記載の物品。

　本開示によれば、摩擦耐久性と指紋拭き取り性の両方をバランスよく備えた表面処理層を形成することができる化合物を提供できる。

　本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基又はその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端又は分子鎖中に、１つ又はそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、例えば、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。３価以上の有機基も同様に、有機基から所定の数の水素原子を脱離させた基を意味する。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素及び水素を含む基であって、炭化水素から水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、Ｃ_１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれであってもよく、飽和又は不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ又はそれ以上の環構造を含んでいてもよい。炭化水素基は、１つ又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個又はそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員環のヘテロシクリル基、５～１０員環の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基及び５～１０員環のヘテロアリール基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。

　本明細書において用いられる場合、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換の炭素数１～４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。

　本開示のシラン化合物は、下記式（１）：
［式中：
　Ｒ^１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
　Ｘ^１は、炭素数１１以上のアルキレン基を含む２価の有機基であり、
　Ｒ^Ｓｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。］
で表される化合物である。

　Ｒ^１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基である。

　水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基は、水酸基又は加水分解性基が直接結合したＳｉ原子を含んでいてもよい。

　一の態様において、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基は、水酸基又は加水分解性基が直接結合したＳｉ原子を含まない。

　別の態様において、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基は、水酸基又は加水分解性基が直接結合したＳｉ原子を１つ以上含む。

　一の態様において、Ｒ^１は、下記の基：
　　　Ｒ^３－（ＳｉＲ^４ _２Ｏ）_ｎ－ＳｉＲ^４ _２－
［式中：
　Ｒ^３は、Ｃ_１－１２アルキル基、下記Ａ基又はＢ基：

［式中：
　Ｒ^５１は、それぞれ独立して、－（Ｒ^６１－ＳｉＲ^５３ _２）_ｍａ－Ｒ^５３で表される基であり、
　　Ｒ^６１は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　　Ｒ^５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ^５１’であり、
　　　Ｒ^５１’は、Ｒ^５１と同意義であり、
　　ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
　ただし、Ｒ^５１中、Ｒ^５１’の数は２０以下であり、
　Ｒ^５２は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
　ｎａは、１～３の整数であり、
　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
　ｎｂは、１～５の整数であり、
　ｚは、０又は１である。］
で表される基であり、
　Ｒ^４は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキル基であり、
　ｎは、０～１５００である。］
で表される基である。

　別の態様において、Ｒ^１は、Ａ基またはＢ基：

［式中：
　Ｒ^５１は、それぞれ独立して、－（Ｒ^６１－ＳｉＲ^５３ _２）_ｍａ－Ｒ^５３で表される基であり、
　　Ｒ^６１は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　　Ｒ^５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ^５１’であり、
　　　Ｒ^５１’は、Ｒ^５１と同意義であり、
　　ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
　ただし、Ｒ^１中、Ｒ^１’の数は２０以下であり、
　Ｒ^５２は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
　ｎａは、１～３の整数であり、
　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
　ｎｂは、１～５の整数であり、
　ｚは、０又は１である。］
で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^３は、Ｃ_１－１２アルキル基である。

　Ｒ^３におけるＣ_１－１２アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、上記Ｃ_１－１２アルキル基は、直鎖である。別の態様において、上記Ｃ_１－１２アルキル基は、分枝鎖である。上記Ｃ_１－１２アルキル基は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはＣ_１－３アルキル基、さらに好ましくはメチル基又はエチル基、特に好ましくはメチル基である。

　一の態様において、Ｒ^３は、Ａ基又はＢ基である。

　Ｒ^５１は、それぞれ独立して、－（Ｒ^６１－ＳｉＲ^５３ _２）_ｍａ－Ｒ^５３で表される基である。

　Ｒ^６１は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ_１－６アルキレン基である。

　Ｒ^６１におけるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。上記Ｃ_１－６アルキレン基は、好ましくはＣ_１－４アルキレン基、より好ましくはＣ_２－４アルキレン基であり得る。

　一の態様において、Ｒ^６１は、Ｏである。

　一の態様において、一部のＲ^６１はＯであり、他のＲ^６１はＣ_１－６アルキレン基である。

　Ｒ^５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ^５１’である。

　Ｒ^５３における上記炭化水素基は、好ましくはアルキル基またはアリール基であり得る。

　上記アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。上記アルキル基は、好ましくは炭素数１～６のアルキル基、より好ましくは炭素数１～４のアルキル基である。上記アルキル基は、特に好ましくはメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉｓｏ－プロピル基、又はｔｅｒｔ－ブチル基である。

　上記アリール基は、単環式であっても多環式であってもよい。上記アリールは、好ましくは炭素数６～２０のアリール基、より好ましくは炭素数６～１０のアリール基である。上記アリール基は、特に好ましくはフェニル基である。

　Ｒ^５３は、好ましくはアルキル基、より好ましくは炭素数１～４のアルキル基である。

　Ｒ^５１’は、Ｒ^５１と同意義である。即ち、Ｒ^５１’は、－（ＯＳｉＲ^５３ _２）_ｍａ－Ｒ^５３である。ただし、Ｒ^５１中、Ｒ^５１’の数は２０以下、好ましくは１０以下、より好ましくは６以下、さらに好ましくは３以下である。

　一の態様において、Ｒ^５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ^５１’である。

　好ましい態様において、Ｒ^５３は、それぞれ独立して、それぞれ独立して、炭化水素基である。

　一の態様において、Ｒ^３は－（Ｒ^４’－ＳｉＲ^３’ _２）_ｍａ’－Ｒ^３’
［式中：
　Ｒ^３’は、それぞれ独立して、炭化水素基または－（Ｒ^４－ＳｉＲ^３ _２）_ｍａ－Ｒ^３であり、
　少なくとも１つのＲ^３’は、－（Ｒ^４－ＳｉＲ^３ _２）_ｍａ－Ｒ^３であり、
　　Ｒ^３は、それぞれ独立して、または炭化水素基であり、
　　Ｒ^４は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　　ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
　Ｒ^４’は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　ｍａ’は、それぞれ独立して、１～５の整数である。］
である。

　別の態様において、一の態様において、Ｒ^５３は－（Ｒ^６１’－ＳｉＲ^５３’ _２）_ｍａ’－Ｒ^５３’
［式中：
　Ｒ^５３’は、それぞれ独立して、炭化水素基または－（Ｒ^６１”－ＳｉＲ^５３” _２）_ｍａ”－Ｒ^３”であり、
　少なくとも１つのＲ^５３’は、－（Ｒ^６１”－ＳｉＲ^５３” _２）_ｍａ”－Ｒ^５３”であり、
　　Ｒ^５３”は、それぞれ独立して、炭化水素基または－（Ｒ^６１－ＳｉＲ^５３ _２）_ｍａ－Ｒ^５３であり、
　　少なくとも１つのＲ^５３”は、－（Ｒ^６１－ＳｉＲ^５２ _２）_ｍａ－Ｒ^５３であり、
　　　Ｒ^５３は、それぞれ独立して、または炭化水素基であり、
　　　Ｒ^６１は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　　　ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
　　Ｒ^６１”は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　　ｍａ”は、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
　Ｒ^６１’は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　ｍａ’は、それぞれ独立して、１～５の整数である。］
である。

　ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数、好ましくは１又は２である。

　Ｒ^５２は、それぞれ独立して、炭化水素基である。

　Ｒ^５２における上記炭化水素基は、好ましくはアルキル基またはアリール基であり得る。

　Ｒ^５２は、好ましくはアルキル基、より好ましくは炭素数１～４のアルキル基である。

　ｎａは、１～３の整数である。一の態様において、ｎａは、２である。別の態様において、ｎａは、３である。なお、Ｒ^５１’が存在する場合、ｎａは、（Ｒ^６１－ＳｉＲ^５３ _２）_ｍａ毎に独立して選択される。

　ｚは、０又は１である。一の態様において、ｚは０である。別の態様においてｚは１である。

　好ましい態様において、Ａ基において、
　Ｒ^５１は、それぞれ独立して、－（Ｒ^６１－ＳｉＲ^５３ _２）_ｍａ－Ｒ^５３で表される基であり、
　　Ｒ^６１は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　　Ｒ^５３は、それぞれ独立して、炭化水素基、好ましくは炭素数１～４のアルキル基であり、
　　ｍａは、１または２であり、
　Ｒ^５２は、それぞれ独立して、炭化水素基、好ましくは炭素数１～４のアルキル基であり、
　ｎａは、１または２である。

　Ａ基の例としては、限定するものではないが、下記の基が挙げられる。

　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、炭化水素基である。

　Ｒ^５４における上記炭化水素基は、好ましくはアルキル基またはアリール基であり得る。

　Ｒ^５４は、好ましくはアルキル基、より好ましくは炭素数１～４のアルキル基である。

　ｎｂは、１～５の整数、好ましくは２または３である。

　好ましい態様において、Ｂ基において、
　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、炭化水素基、好ましくは炭素数１～４のアルキル基であり、
　ｎｂは、２または３である。

　Ｂ基の例としては、限定するものではないが、下記の基が挙げられる。

　Ｒ^４におけるＣ_１－１２アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、上記Ｃ_１－１２アルキル基は、直鎖である。別の態様において、上記Ｃ_１－１２アルキル基は、分枝鎖である。上記Ｃ_１－１２アルキル基は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはＣ_１－３アルキル基、さらに好ましくはメチル基又はエチル基、特に好ましくはメチル基である。

　ｎは、０～１５００、好ましくは０～１５００、より好ましくは０～５００、さらに好ましくは０～１０であってもよい。一の態様において、ｎは、好ましくは１～１５００、より好ましくは１～５００、さらに好ましくは１～１０であってもよい。ｎは、さらにより好ましくは０、１又は２である。

　一の態様において、ｎは、１０～５００、より好ましくは１０～１００である。

　好ましい態様において、Ｒ^３はメチルであり、Ｒ^４はメチルであり、ｎは１又は２である。

　一の態様において、Ｒ^１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含み、かつ、シロキサン結合を含まない１価の有機基であり得る。

　一の態様において、Ｒ^１は、下記式：
　　　－ＳｉＲ^５ _３
［式中：
　Ｒ^５は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキル基、又は－ＳｉＲ^６ _３であり、
　Ｒ^６は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキル基である。］
で表される基である。

　Ｒ^５におけるＣ_１－６アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、上記Ｃ_１－６アルキル基は、直鎖である。別の態様において、上記Ｃ_１－６アルキル基は、分枝鎖である。上記Ｃ_１－６アルキル基は、好ましくはＣ_１－４アルキル基である。

　Ｒ^６におけるＣ_１－１２アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、上記Ｃ_１－１２アルキル基は、直鎖である。別の態様において、上記Ｃ_１－１２アルキル基は、分枝鎖である。上記Ｃ_１－１２アルキル基は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはＣ_１－３アルキル基、さらに好ましくはメチル基又はエチル基、特に好ましくはメチル基である。

　上記ＳｉＲ^５ _３は、好ましくは、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_３、－Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_３、－Ｓｉ（ＣＨ（ＣＨ_３）_２）_３、－Ｓｉ（ＣＨ_３）（ＣＨ_３）（Ｃ（ＣＨ_３）_３））、－Ｓｉ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_３、又は－Ｓｉ（Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_３であり得る。

　Ｘ^１は、炭素数１１以上のアルキレン基を含む２価の有機基である。

　Ｘ^１は、炭素数１１以上のアルキレン基に加え、さらに－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ^２－、－ＣＯＮＲ^２－、－ＯＣＯＮＲ^２－、－ＮＲ^２－ＣＯ－ＮＲ^２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｘ－ＣＯＮＲ^２－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｘ－ＣＯ－を含む２価の有機基であり、Ｒ^２は、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、ｘは、１～２０の整数である。

　一の態様において、Ｘ^１は、好ましくは下記式：
　　　－Ｘ^２１－Ｘ^１０－Ｘ^１１－Ｘ^１２－
［式中：
　Ｘ^２１は、－Ｏ－、Ｒ^６１ _ｂ１Ｒ^６２ _３－ｂ１Ｃ－、Ｒ^６３ _ｂ２Ｒ^６４ _３－ｂ２Ｓｉ－、又はＲ^６５ _２Ｎ－であり、
　　Ｒ^６１は、２価の有機基であり、
　　Ｒ^６２は、水素原子、又は１価の有機基であり、
　　Ｒ^６３は、２価の有機基であり、
　　Ｒ^６４は、水素原子、又は１価の有機基であり、
　　Ｒ^６５は、２価の有機基であり、
　　ｂ１は、２又は３であり、
　　ｂ２は、２又は３であり、
　Ｘ^１０は、炭素数１１以上のアルキレン基であり、
　Ｘ^１１は、単結合、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ^２－、－ＣＯＮＲ^２－、－ＯＣＯＮＲ^２－、－ＮＲ^２－ＣＯ－ＮＲ^２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｘ－ＣＯＮＲ^２－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｘ－ＣＯ－であり、
　Ｒ^２は、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｘは、１～２０の整数であり、
　Ｘ^１２は、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基である。］
で表される基である。

　一の態様において、Ｘ^１は、好ましくは下記式：
　　　－Ｘ^１０－Ｘ^１１－Ｘ^１２－
［式中：
　Ｘ^１０は、炭素数１１以上のアルキレン基であり、
　Ｘ^１１は、単結合、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ^２－、－ＣＯＮＲ^２－、－ＯＣＯＮＲ^２－、－ＮＲ^２－ＣＯ－ＮＲ^２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｘ－ＣＯＮＲ^２－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｘ－ＣＯ－であり、
　Ｒ^２は、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｘは、１～２０の整数であり、
　Ｘ^１２は、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基である。］
で表される基である。

　Ｘ^２１は、Ｒ^６１ _ｂ１Ｒ^６２ _３－ｂ１Ｃ－、Ｒ^６３ _ｂ２Ｒ^６４ _３－ｂ２Ｓｉ－、又はＲ^６５ _２Ｎ－である。

　Ｒ^６１は、２価の有機基である。

　Ｒ^６１は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｆ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｆ２－（式中、ｆ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｆ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｆ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｆ４－（式中、ｆ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｆ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｒ^６１は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｆ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｆ４－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｆ４－である。

　別の好ましい態様において、Ｒ^６１は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｒ^６１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｒ^６１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　Ｒ^６２は、水素原子、又は１価の有機基である。

　一の態様において、Ｒ^６２は、水素原子である。

　別の態様において、Ｒ^６２は、１価の有機基である。

　Ｒ^６２において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　ｂ１は、２又は３である。一の態様において、ｂ１は２である。別の態様において、ｂ１は３である。

　Ｒ^６３は、２価の有機基である。

　Ｒ^６３は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｇ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｇ２－（式中、ｇ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｇ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｇ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｇ４－（式中、ｇ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｇ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｒ^６３は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｇ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｇ４－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｇ４－である。

　別の好ましい態様において、Ｒ^６３は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｒ^６３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｒ^６３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　Ｒ^６４は、水素原子、又は１価の有機基である。

　一の態様において、Ｒ^６４は、水素原子である。

　別の態様において、Ｒ^６４は、１価の有機基である。

　Ｒ^６４において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　ｂ２は、２又は３である。一の態様において、ｂ２は２である。別の態様において、ｂ２は３である。

　Ｒ^６５は、２価の有機基である。

　Ｒ^６５は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｈ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｈ２－（式中、ｈ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｈ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｈ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｈ４－（式中、ｈ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｈ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分岐鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｒ^６５は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｈ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｈ４－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｈ４－である。

　別の好ましい態様において、Ｒ^６５は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｒ^６５は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｒ^６５は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　一の態様において、Ｘ^２１は、Ｒ^６１ _ｂ１Ｒ^６２ _３－ｂ１Ｃ－である。

　一の態様において、Ｘ^２１は、Ｒ^６３ _ｂ２Ｒ^６４ _３－ｂ２Ｓｉ－である。

　一の態様において、Ｘ^２１は、Ｒ^６５ _２Ｎ－である。

　一の態様において、Ｘ^２１は、－Ｏ－である。

　Ｘ^１及びＸ^１０におけるアルキレン基の炭素数は、好ましくは１２以上、より好ましくは１６以上、さらに好ましくは１８以上、さらにより好ましくは２２以上であり得る。Ｘ^１及びＸ^１０におけるアルキレン基の炭素数は、好ましくは６０以下、より好ましくは４０以下、さらに好ましくは３０以下、さらにより好ましくは２４以下であり得る。Ｘ^１及びＸ^１０におけるアルキレン基の炭素数は、好ましくは１１～６０、より好ましくは１２～４０、さらに好ましくは１８～３０であり得る。

　Ｘ^１及びＸ^１０におけるアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。上記アルキレン基は、好ましくは直鎖である。

　Ｘ^１１は、好ましくは－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ^２－、－ＣＯＮＲ^２－、－ＯＣＯＮＲ^２－、－ＮＲ^２－ＣＯ－ＮＲ^２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｘ－ＣＯＮＲ^２－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｘ－ＣＯ－であり、より好ましくは－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ^２－、又は－ＯＣＯＮＲ^２－、さらに好ましくは－ＣＯＮＲ^２－である。Ｒ^２は、好ましくは水素原子であり、ｘは、１～２０の整数である。

　一の態様において、Ｘ^１２は、単結合である。

　別の態様において、Ｘ^１２は、又はＣ_１－６アルキレン基である。

　Ｘ^１２における又はＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、上記Ｃ_１－６アルキレン基は、直鎖である。別の態様において、上記Ｃ_１－６アルキレン基は、分枝鎖である。上記Ｃ_１－６アルキレン基は、好ましくはＣ_１－４アルキレン基、より好ましくはＣ_１－３アルキレン基である。

　一の態様において、Ｘ^１中のアルキレン基の炭素原子の数は、Ｒ^１中のＳｉ原子の数よりも多い。Ｘ^１中のアルキレン基の炭素原子の数を、Ｒ^１中のＳｉ原子の数よりも多くすることにより、得られる表面処理層の摩擦耐久性をより高くすることができる。

　好ましい態様において、Ｘ^１中のアルキレン基の炭素原子の数は、Ｒ^１中のＳｉ原子の数の２．５倍以上、好ましくは３．０倍以上、さらに好ましくは３．５倍以上であり得る。また、Ｘ^１中のアルキレン基の炭素原子の数は、Ｒ^１中のＳｉ原子の数の、好ましくは５０倍以下、例えば３０倍以下、２０倍以下、又は１０倍以下であってもよい。

　一の態様において、Ｘ^１中のアルキレン基の炭素原子の数は、Ｒ^１中の主鎖の原子の数よりも多い。Ｘ^１中のアルキレン基の炭素原子の数を、Ｒ^１中の主鎖の原子の数よりも多くすることにより、得られる表面処理層の摩擦耐久性をより高くすることができる。

　好ましい態様において、Ｘ^１中のアルキレン基の炭素原子の数は、Ｒ^１中の主鎖の原子の数の２．０倍以上、好ましくは２．５倍以上、より好ましくは３．０倍以上、さらに好ましくは４．０倍以上であり得る。また、Ｘ^１中のアルキレン基の炭素原子の数は、Ｒ^１中の主鎖の原子の数の、好ましくは３０倍以下、例えば２０倍以下、１０倍以下、６．０倍以下であってもよい。

　ここに、Ｒ^１中の主鎖とは、Ｘ^１に結合するＲ^１中のＳｉ原子から最も原子（ただし、水素原子は除く）の数が多くなる原子鎖を意味する。例えば、Ｒ^１中の主鎖の原子の数は、Ｓｉ（ＣＨ_３）_３ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２－の場合は４個であり、Ｒ^１中の主鎖の原子の数は、Ｓｉ（ＣＨ_３）_３ＯＳｉ（ＣＨ_３）_３ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２－の場合は６個であり、Ｓｉ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_３）_３－の場合は３個である。

　Ｒ^Ｓｉは、水酸基、又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。

　Ｒ^Ｓｉは、好ましくは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、又は（Ｓ４）：
［式中：
　Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ１は、１～３の整数であり；
　Ｒ^ａ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
　Ｚ^１は、それぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^２１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
　Ｒ^２２は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^１’は、それぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^２１’は、それぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
　Ｒ^２２’は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３’は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^１”は、それぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^２２”は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３”は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｑ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｂ１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^ｃ１は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｋ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｄ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
　Ｚ^２は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^３１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
　Ｒ^３２は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｐ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^２’は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^３２’は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３’は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｑ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^３は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^３４は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^３５は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｅ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^ｆ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｋ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり；
　Ｚ^４は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　ただし、式（Ｓ２）、（Ｓ３）、及び（Ｓ４）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。］
で表される基である

　Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^１１は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^１１は、好ましくは、それぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、又は－ＮＣＯ（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　Ｒ^１２は、それぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^１２において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記式中、ｎ１は、１～３の整数、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

　Ｒ^ａ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１である。

　Ｚ^１は、それぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｚ^１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ２）において、（Ｓｉ－Ｚ^１－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

　Ｚ^１は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－である。

　別の好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　Ｒ^２１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’である。

　Ｚ^１’は、それぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１’として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^１’は、２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｚ^１’が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ２）において、（Ｓｉ－Ｚ^１’－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

　Ｚ^１’は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２’－（式中、ｚ１’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－（式中、ｚ３’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－である。

　別の好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｒ^２１’は、それぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”である。

　上記Ｚ^１”は、それぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１”として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^１”は、２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｚ^１”が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ２）において、（Ｓｉ－Ｚ^１”－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

　Ｚ^１”は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２”－（式中、ｚ１”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－（式中、ｚ３”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－である。Ｚ^１”がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｒ^２２”は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　上記Ｒ^２２”は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

　上記Ｒ^２２”は、好ましくは、それぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、又は－ＮＣＯ（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　Ｒ^２３”は、それぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^２３”において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　ｑ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ１”とｒ１”の合計は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位において、３である。

　ｑ１”は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　Ｒ^２２’は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^２２’は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^２２’は、好ましくは、それぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、又は－ＮＣＯ（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　Ｒ^２３’は、それぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^２３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　ｐ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ’、ｑ１’及びｒ１’の合計は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位において、３である。

　一の態様において、ｐ１’は、０である。

　一の態様において、ｐ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１’は、３である。

　一の態様において、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

　一の態様において、ｐ１’は０であり、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

　Ｒ^２２は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^２２は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^２２は、好ましくは、それぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、又は－ＮＣＯ（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　上記Ｒ^２３は、それぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^２３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記ｐ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ１、ｑ１とｒ１の合計は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位において、３である。

　一の態様において、ｐ１は、０である。

　一の態様において、ｐ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１は、３である。

　一の態様において、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

　一の態様において、ｐ１は０であり、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

　式中、Ｒ^ｂ１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^ｂ１は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^ｂ１は、好ましくは、それぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、又は－ＮＣＯ（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　式中、Ｒ^ｃ１は、それぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^ｃ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　ｋ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ１は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ１、ｌ１とｍ１の合計は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位において、３である。

　一の態様において、ｋ１は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。好ましい態様において、ｋ１は、３である。

　式（Ｓ２）において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

　好ましい態様において、式（Ｓ２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

　好ましい態様において、式（Ｓ２）で表される基は、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１（式中、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１は、０～２の整数である。）、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’（式中、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１’は、０～２の整数である。）、又は－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”（式中、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１”は、０～２の整数である。）のいずれか１つを有する。Ｚ^１、Ｚ^１’、Ｚ^１”、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２２’、Ｒ^２３’、Ｒ^２２”、及びＲ^２３”は、上記と同意義である。

　好ましい態様において、式（Ｓ２）において、Ｒ^２１’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１’において、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ２）において、Ｒ^２１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１において、ｐ１’は、０であり、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ２）において、Ｒ^ａ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｐ１は、０であり、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ２）において、ｋ１は２又は３、好ましくは３であり、ｐ１は０であり、ｑ１は２又は３、好ましくは３である。

　Ｒ^ｄ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２である。

　Ｚ^２は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^２は、２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^２は、シロキサン結合を含まない。

　Ｚ^２は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６－（式中、ｚ５は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－（式中、ｚ７は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^２は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－である。Ｚ^２がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^２は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　Ｒ^３１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’である。

　Ｚ^２’は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２’として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^２’は、シロキサン結合を含まない。

　Ｚ^２’は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６’－（式中、ｚ５’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－（式中、ｚ７’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^２’は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－である。Ｚ^２’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^２’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　Ｒ^３２’は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。

　Ｚ^３は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^３として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）に結合する。

　一の態様において、Ｚ^３は酸素原子である。

　一の態様において、Ｚ^３は２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^３は、シロキサン結合を含まない。

　Ｚ^３は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^３は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　Ｒ^３４は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^３４は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^３４は、好ましくは、それぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　Ｒ^３５は、それぞれ独立して、１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^３５において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、式（Ｓ３）の末端部分においては、ｎ２が１～３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位が少なくとも２つ存在する。換言すれば、式（Ｓ３）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

　ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　Ｒ^３３’は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^３３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又は－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

　一の態様において、Ｒ^３３’は、水酸基である。

　別の態様において、Ｒ^３３’は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

　上記ｑ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ２’とｒ２’の合計は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位において、３である。

　ｑ２’は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　Ｒ^３２は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

　Ｒ^３３は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^３３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又は－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

　一の態様において、Ｒ^３３は、水酸基である。

　別の態様において、Ｒ^３３は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

　ｐ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ２は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ２、ｑ２及びｒ２の合計は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位において、３である。

　一の態様において、ｐ２は、０である。

　一の態様において、ｐ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ２は、３である。

　一の態様において、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

　一の態様において、ｐ２は０であり、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

　Ｒ^ｅ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

　Ｒ^ｆ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^ｆ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又は－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

　一の態様において、Ｒ^ｆ１は、水酸基である。

　別の態様において、Ｒ^ｆ１は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

　ｋ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ２は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は、（ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２）単位において、３である。

　一の態様において、ｎ２が１～３、好ましくは２又は３、より好ましくは３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位は、式（Ｓ３）の各末端部分において、２個以上、例えば２～２７個、好ましくは２～９個、より好ましくは２～６個、さらに好ましくは２～３個、特に好ましくは３個存在する。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^３２’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２’において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^３２が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^ｅ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、ｋ２は０であり、ｌ２は２又は３、好ましくは３であり、ｎ２は、２又は３、好ましくは３である。

　Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２である。ここに、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^ａ１、Ｒ^ｂ２、Ｒ^ｃ１、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｅ１、Ｒ^ｆ１、ｎ１、ｋ１、ｌ１、ｍ１、ｋ２、ｌ２、及びｍ２は、上記と同意義である。

　好ましい態様において、Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１である。

　上記Ｚ^４は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^４として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）に結合する。

　一の態様において、Ｚ^４は酸素原子である。

　一の態様において、Ｚ^４は２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^４は、シロキサン結合を含まない。

　Ｚ^４は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^４は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^４は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^４は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^４は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　一の態様において、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、及び（Ｓ４）は、シロキサン結合を含まない。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）、（Ｓ３）、又は（Ｓ４）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）で表される基である。好ましい態様において、ｎ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）で表される基である。好ましい態様において、式（Ｓ２）は、－ＳｉＲ^ａ１ _２Ｒ^ｃ１、又は－ＳｉＲ^ａ１ _３であり、Ｒ^ａ１は、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり、Ｚ^１は、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｑ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）で表される基である。好ましい態様において、式（Ｓ３）は、－ＣＲ^ｅ１ _２Ｒ^ｆ１、又は－ＣＲ^ｅ１ _３であり、Ｒ^ｅ１は、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、Ｚ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｎ２は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ４）で表される基である。好ましい態様において、Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり、Ｚ^４は、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｎ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　式（１）で表される化合物は、例えば、下記の方法により製造することができる。
　まず、不飽和カルボン酸、又は不飽和カルボン酸エステル、例えば、式：
　　　ＣＨ_２＝ＣＨ－Ｒ^７１－ＣＯＯＲ^７２
［式中、
　Ｒ^７１は、炭素数９以上のアルキレン基であり、
　Ｒ^７２は、水素原子、又はＣ_１－6アルキル基である。］
で表される化合物と、シラン化合物、例えば、式：
　　　Ｒ^３－（ＳｉＲ^４ _２Ｏ）_ｎ－ＳｉＲ^４ _２－Ｈ
［式中：
　Ｒ^３は、Ｃ_１－１２アルキル基であり、
　Ｒ^４は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキル基であり、
　ｎは、０～１５００である。］
で表される化合物と反応させ、式：
　　　Ｒ^３－（ＳｉＲ^４ _２Ｏ）_ｎ－ＳｉＲ^４ _２－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｒ^７１－ＣＯＯＲ^７２
で表される化合物を得る。次いで、得られた化合物と、末端に炭素－炭素二重結合を有するアミン誘導体、例えば、式：
　　　ＮＨ_２－Ｒ^７３
［式中、
　Ｒ^７３は、－Ｒ^７４－ＣＨ＝ＣＨ_２、又は－Ｒ^７５（－Ｒ^７４－ＣＨ＝ＣＨ_２）_３であり、
　Ｒ^７４は、単結合又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　Ｒ^７５は、－Ｒ^７６－Ｃであり、
　Ｒ^７６は、単結合又はＣ_１－６アルキレン基である。］
で表される化合物とを反応させ、
　　　Ｒ^３－（ＳｉＲ^４ _２Ｏ）_ｎ－ＳｉＲ^４ _２－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｒ^７１－ＣＯＮＨ_２－Ｒ^７４－ＣＨ＝ＣＨ_２、又は
　　　Ｒ^３－（ＳｉＲ^４ _２Ｏ）_ｎ－ＳｉＲ^４ _２－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｒ^７１－ＣＯＮＨ_２－Ｒ^７５（－Ｒ^７４－ＣＨ＝ＣＨ_２）_３
で表される化合物を得る。最後に、上記で得られた化合物と、例えば、式：　　　ＨＳｉ（Ｒ^７７）_３
［式中、Ｒ^７７は、加水分解性基である。］
で表される化合物とを反応させることにより、式（１）で表される化合物を得ることができる。

　次に、本発明の表面処理剤について説明する。

　本開示の表面処理剤は、式（１）で表される少なくとも１種の化合物を含有する。

　一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（１）で表される少なくとも１種の化合物それ自体である。

　一の態様において、上記の式（１）で表される化合物の含有量は、表面処理剤全体に対して、好ましくは０．１～５０．０質量％、より好ましくは１．０～３０．０質量％、さらに好ましくは５．０～２５．０質量％、特に好ましくは１０．０～２０．０質量％であり得る。

　別の態様において、上記の式（１）で表される化合物の含有量は、表面処理剤全体に対して、好ましくは０．００１～３０質量％、より好ましくは０．０１～１０質量％、さらに好ましくは０．０５～５質量％、特に好ましくは０．０５～２質量％であり得る。

　一の態様において、本開示の表面処理剤は、本開示の化合物、及び本開示の化合物の少なくとも一部が縮合した縮合体の少なくとも１つを含有し得る。

　上記の態様において、上記縮合体の含有量は、上記シラン化合物と上記縮合体の合計に対して、好ましくは４０質量％以下、より好ましくは３０質量％以下であり得る。ここで、上記縮合体の含有量は、例えば、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）におけるピーク位置と面積の存在比から求めることができる。

　本開示の表面処理剤は、溶媒、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、アミン化合物、アルコール類、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等を含み得る。

　一の態様において、本開示の表面処理剤は、Ｒ^９０－ＯＨで表される化合物を含む。
　Ｒ^９０は１価の有機基であり、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又はＣ_３－２０アルキレン基であり、これらの基は１以上の置換基により置換されていてもよい。置換基としては、例えば、水酸基、－ＯＲ^９１（ここで、Ｒ^９１はＣ_１－１０アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基、例えばメチル基）を挙げることができる。

　一の態様において、本開示の表面処理剤は、Ｒ^８１ＯＲ^８２、Ｒ^８３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８、Ｒ^８４Ｒ^８５Ｒ^８６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^８７Ｒ^８８）_ｍ８－Ｒ^８９、及び（ＯＳｉＲ^８７Ｒ^８８）_ｍ９
［式中
　Ｒ^８１～Ｒ^８９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０個の一価の有機基であり、
　ｍ８は、１～６の整数であり、
　ｍ９は、３～８の整数であり、
　ｎ８は、０～６の整数である。］
で表される化合物から選択される溶媒を含み得る。

　上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、さらに環状構造を含んでいてもよい。

　一の態様において、上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、酸素原子、窒素原子、又はハロゲン原子を含んでいてもよい。

　別の態様において、上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、ハロゲン原子を含まない。

　好ましい態様において、上記炭素数１～１０個の一価の有機基は、ハロゲンにより置換されていてもよい炭化水素基、好ましくはハロゲンにより置換されていない炭化水素基である。

　一の態様において、上記炭化水素基は、直鎖である。

　別の態様において、上記炭化水素基は、分枝鎖である。

　別の態様において、上記炭化水素基は、環状構造を含む。

　一の態様において、上記溶媒は、Ｒ^８１ＯＲ^８２である。

　Ｒ^８１及びＲ^８２は、それぞれ独立して、好ましくは炭素数１～８の炭化水素基、より好ましくはＣ_１－６のアルキル基、又はＣ_５－８のシクロアルキル基であり得る。

　一の態様において、上記溶媒は、Ｒ^８３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８である。

　Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８は、ｎ８価のベンゼン環である。即ち、Ｒ^８３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８は、ｎ８個のＲ^８３により置換されたベンゼンである。

　Ｒ^８３は、それぞれ独立して、ハロゲン、又はハロゲンにより置換されていてもよいＣ_１－６のアルキル基であり得る。

　ｎ８は、好ましくは１～３の整数である。

　一の態様において、上記溶媒は、Ｒ^８４Ｒ^８５Ｒ^８６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^８７Ｒ^８８）_ｍ８－Ｒ^８９である。

　一の態様において、上記溶媒は、（ＯＳｉＲ^８７Ｒ^８８）_ｍ９である。（ＯＳｉＲ^８７Ｒ^８８）_ｍ９は、複数のＯＳｉＲ^８７Ｒ^８８単位が環状に結合することにより形成される環状シロキサンである。

　Ｒ^８４～Ｒ^８９は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ_１－６のアルキル基、好ましくはＣ_１－６のアルキル基、より好ましくはＣ_１－３のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　ｍ８は、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～５の整数であり、さらに好ましくは1～２である。

　ｍ９は、好ましくは３～６の整数、より好ましくは３～５の整数である。

　一の態様において、上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｈ（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等の含フッ素炭化水素類；ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨ等の含フッ素アルコール類；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分岐状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））、ハイドロフルオロオレフィン類；ＣＦ_３ＣＨ＝ＣＨＣｌ（例えば、セントラル硝子株式会社製のＣＥＬＥＦＩＮ（登録商標）１２３３Ｚ）、ＣＨＦ_２ＣＦ＝ＣＨＣｌ（例えば、旭硝子株式会社製のＡＭＯＬＥＡ（登録商標）ＡＳ－３００）、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類；ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン等のシロキサン類；ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。なかでも、脂肪族炭化水素類、エステル類、グリコールエーテル類、アルコール類、エーテルアルコール類、シロキサン類が好ましい。例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサンが好ましい。さらに、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、２－エトキシエタノール、１，２－ジエトキシエタン、２－メトキシエタノール、テトラエチレングリコ－ルジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、メトキシシクロペンタンが特に好ましい。

　シリコーンオイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３ａ）：
　Ｒ^１ａ－（ＳｉＲ^３ａ _２－Ｏ）_ａ１－ＳｉＲ^３ａ _２－Ｒ^１ａ　　　・・・（３ａ）
［式中：
　Ｒ^１ａは、それぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基であり、
　Ｒ^３ａは、それぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基であり、
　ａ１は、２～３０００である。］
で表される化合物が挙げられる。

　上記Ｒ^３ａは、それぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基である。かかる炭化水素基は、置換されていてもよい。

　Ｒ^３ａは、それぞれ独立して、好ましくは非置換炭化水素基、又はハロゲン原子により置換されている炭化水素基である。かかるハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。

　Ｒ^３ａは、それぞれ独立して、好ましくはハロゲン原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキル基又はアリール基、より好ましくはＣ_１－６アルキル基又はアリール基である。

　上記Ｃ_１－６アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖
である。Ｃ_１－６アルキル基は、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

　上記アリール基は、好ましくはフェニル基である。

　一の態様において、Ｒ^３ａは、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

　別の態様において、Ｒ^３ａは、フェニル基である。

　別の態様において、Ｒ^３ａは、メチル基又はフェニル基、好ましくはメチル基である。

　上記Ｒ^１ａは、それぞれ独立して、水素原子又は炭化水素基であり、上記Ｒ^３ａと同意義である。

　Ｒ^１ａは、それぞれ独立して、好ましくはハロゲン原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキル基又はアリール基、より好ましくはＣ_１－６アルキル基又はアリール基である。

　一の態様において、Ｒ^１ａは、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

　別の態様において、Ｒ^１ａは、フェニル基である。

　別の態様において、Ｒ^１ａは、メチル基又はフェニル基、好ましくはメチル基である。

　上記ａ１は、２～１５００である。ａ１は、好ましくは５以上、より好ましくは１０以上、さらに好ましくは１５以上、例えば３０以上、又は５０以上であり得る。ａ１は、好ましくは１０００以下、より好ましくは５００以下、さらに好ましくは２００以下、さらにより好ましくは１５０以下、例えば１００以下、又は８０以下であり得る。

　ａ１は、好ましくは５～１０００、より好ましくは１０～５００、さらに好ましくは１５～２００、さらにより好ましくは１５～１５０であり得る。

　別のシリコーンオイルとしては、下記（３ｂ）：
　Ｒ^１ａ－Ｒ^Ｓ２－Ｒ^３ａ　　　・・・（３ｂ）
［式中：
　Ｒ^１ａは、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
　Ｒ^３ａは、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
　Ｒ^Ｓ２は、－Ｒ^ＳＯ－ＳｉＲ^５ _２－であり、
　Ｒ^ＳＯは、それぞれ独立して、下記式：

（式中：
　Ｒ^３は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキレン基、－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、又は－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－であり、
　Ｒ^４は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキレン基、－Ｒ^６－Ｏ－Ｒ^６－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、－Ｒ^８－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^８－、又は－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－Ｒ^７－Ｒ^９－Ｒ^６－Ｒ^９－であり、
　Ｒ^６は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
　Ｒ^７は、それぞれ独立して、置換されていてもよい、フェニレン基、又はナフチレン基であり、
　Ｒ^８は、それぞれ独立して、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　Ｒ^９は、それぞれ独立して、単結合、又は酸素原子であり、
　Ｒ^５は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
　ｘは、０～２００の整数であり、
　ｙは、０～２００の整数であり、
　ｚは、０～２００の整数であり、
　ｘ＋ｙ＋ｚは、１以上であり、
　ｘ、ｙ、又はｚを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基である。］
で表される化合物が挙げられる。

　上記シリコーンオイルは、５００～１００００００、好ましくは１０００～１０００００の平均分子量を有していてよい。シリコーンオイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。

　上記シリコーンオイルとしては、例えば－（ＳｉＲ^３ａ _２－Ｏ）_ａ１―のａ１が３０以下の直鎖状又は環状のシリコーンオイルを用い得ることができる。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイル及び変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

　上記シリコーンオイルは、本開示の表面処理剤に対して、例えば０～５０質量％、好ましくは０．００１～３０質量％、より好ましくは０．１～５質量％含まれ得る。

　本開示の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示の化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは０～１００質量部、より好ましくは０～５０質量部、更に好ましくは０～１０質量部で含まれ得る。

　シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

　上記アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコールが挙げられる。これらのアルコール類を表面処理剤に添加することにより、表面処理剤の安定性を向上さる。

　上記触媒としては、酸（例えば酢酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｈｆ、Ｖ等）、分子構造内に非共有電子対を有する含硫黄化合物、または含窒素化合物（例えばスルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物）等が挙げられる。

　上記脂肪族アミン化合物としては、例えば、ジエチルアミン、トリエチルアミン等を挙げることができる。上記芳香族アミン化合物としては、例えば、アニリン、ピリジン等を挙げることができる。

　好ましい態様において、上記遷移金属は、Ｍ－Ｒ（式中、Ｍは、遷移金属原子であり、Ｒは加水分解性基である。）で表される遷移金属化合物として含まれる。遷移金属化合物を、遷移金属と加水分解性基とが結合した化合物とすることにより、より効率的に遷移金属原子を表面処理層に含ませることができ、表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性をさらに向上させることができる。

　上記加水分解性基とは、上記化合物に関する加水分解性基と同様に、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、遷移金属原子から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲ^ｍ、－ＯＣＯＲ^ｍ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｍ _２、－ＮＲ^ｍ _２、－ＮＨＲ^ｍ、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｍは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）などが挙げられる。

　好ましい態様において、上記加水分解性基とは、－ＯＲ^ｍであり、好ましくはメトキシまたはエトキシである。加水分解性基としてアルコキシ基を用いることにより、より効率的に遷移金属原子を表面処理層に含ませることができ、表面処理層の摩擦耐久性および耐薬品性をさらに向上させることができる。

　一の態様において、上記加水分解性基は、上記した化合物に含まれる加水分解性基と同じであってもよい。化合物と遷移金属化合物における加水分解性基を同じ基とすることにより、かかる加水分解性基が相互に交換された場合であっても、その影響を小さくすることができる。

　別の態様において、上記加水分解性基は、上記した化合物に含まれる加水分解性基と異なっていてもよい。化合物と遷移金属化合物における加水分解性基を異なるものとすることにより、加水分解の反応性を制御することができる。

　一の態様において、上記加水分解性基と、上記化合物に含まれる加水分解性基は、表面処理剤中において、相互に入れ替わっていてもよい。

　好ましい態様において、上記遷移金属化合物は、Ｔａ（ＯＲ^ｍ）_５（式中、Ｒ^ｍは置換または非置換のＣ_１－４アルキル基である。）であり、好ましくはＴａ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_５、又はＳｉ（ＯＲ^ｍ）_１－ｍ１Ｒ^ｍ’ _ｍ１（式中、Ｒ^ｍは置換または非置換のＣ_１－４アルキル基であり、Ｒ^ｍ’は、Ｃ_１－４アルキル基であり、ｍ１は、０又は１である。）、好ましくはテトラエトキシシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、又はジメチルジメトキシシランであり得る。

　上記触媒は、表面処理剤全体に対して、例えば、０．０００２質量％以上含まれ得る。上記触媒は、表面処理剤全体に対して、０．０２質量％以上含まれることが好ましく、０．０４質量％以上含まれることがより好ましい。上記触媒は、表面処理剤全体に対して、例えば、１０質量％以下含まれてもよく、特に１質量％以下含まれる。本開示の表面処理剤は、上記触媒が、上記のような濃度含むことによって、より耐久性の良好な表面処理層の形成に寄与し得る。

　上記触媒の含有量は、本開示の化合物に対して０～１０質量％が好ましく、０～５質量％がより好ましく、０～１質量％が特に好ましい。

　触媒は、本開示の化合物の加水分解及び脱水縮合を促進し、本開示の表面処理剤により形成される層の形成を促進する。

　他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

　本開示の表面処理剤は、上記した成分に加え、不純物として、例えばＰｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、１，３－ジビニルテトラメチルジシロキサン、トリフェニルホスフィン、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、シランの縮合物などを微量含み得る。

　一の態様において、本開示の表面処理剤は、乾燥被覆法、好ましくは真空蒸着用である。

　一の態様において、本開示の表面処理剤は、湿潤被覆法、好ましくは浸漬コーティング用である。

　本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

　以下、本開示の物品について説明する。

　本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。

　本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然又は合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、衛生用品、任意の適切な材料で構成され得る。

　例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラス又は透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（又は膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層及び多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｔａ_３Ｏ_５，Ｎｂ_２Ｏ_５、ＨｆＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、又はこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２及び／又はＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、及び液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

　上記基材の形状は、特に限定されず、例えば、板状、フィルム、その他の形態であってよい。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

　一の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜又は熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入又は増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

　別の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

　好ましい態様において、上記基材はガラスである。かかるガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、及び化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。

　一の態様において、本開示の物品は、ガラスと表面処理層との間に、酸化ケイ素を含む中間層を含んでいてもよい。かかる中間層を設けることにより、ガラスと表面処理層との密着性が向上し、耐久性が向上する。

　好ましい態様において、上記中間層は、酸化ケイ素に加え、アルカリ金属を含んでいてもよい。

　上記アルカリ金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。上記アルカリ金属は、好ましくはナトリウムである。

　中間層の厚さは、特に限定されないが、１～２００ｎｍが好ましく、１～２０ｎｍが特に好ましい。中間層の厚さを上記範囲の下限値以上とすることにより、中間層による接着性の向上効果がより大きくなる。

　中間層におけるアルカリ金属原子濃度は各種表面分析装置、たとえばＴＯＦ－ＳＩＭＳ、ＸＰＳ、ＸＲＦなどで測定できる。

　中間層全体の全原子に占めるアルカリ金属原子の割合は、イオンスパッタリングによるＸＰＳ深さ方向分析で得ることができ、ＸＰＳによる測定とＸＰＳ装置に内蔵されたイオン銃を用いたイオンスパッタリングによる表面のエッチングとを交互に繰り返すことによって行われる。

　中間層において、表面処理層と接する面からの深さが１ｎｍ以下の領域におけるアルカリ金属の濃度の平均値は、イオンスパッタリングによるＴＯＦ－ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量分析法）深さ方向分析により、アルカリ金属原子の濃度の深さ方向プロファイルを得た後、該プロファイルにおけるアルカリ金属原子濃度の平均値を算出することによって求められる。イオンスパッタリングによるＴＯＦ－ＳＩＭＳ深さ方向分析は、ＴＯＦ－ＳＩＭＳによる測定とＴＯＦ－ＳＩＭＳ装置に内蔵されたイオン銃を用いたイオンスパッタリングによる表面のエッチングとを交互に繰り返すことによって行われる。

　本開示の物品は、上記基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成することにより製造することができる。

　本開示の表面処理剤の層形成は、上記表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法及び乾燥被覆法を使用できる。

　湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、ワイプコーティング、スキージーコート法、ダイコート、インクジェット、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法及び類似の方法が挙げられる。

　乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビーム及び類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。

　更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

　湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性及び溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｈ（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等の含フッ素炭化水素類；ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨ等の含フッ素アルコール類；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分岐状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））、ハイドロフルオロオレフィン類；ＣＦ_３ＣＨ＝ＣＨＣｌ（例えば、セントラル硝子株式会社製のＣＥＬＥＦＩＮ（登録商標）１２３３Ｚ）、ＣＨＦ_２ＣＦ＝ＣＨＣｌ（例えば、旭硝子株式会社製のＡＭＯＬＥＡ（登録商標）ＡＳ－３００）、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類；ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン等のシロキサン類；ジメチルスルホキシドなど。これらの溶媒は、単独で、又は、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、脂肪族炭化水素類、エステル類、グリコールエーテル類、アルコール類、エーテルアルコール類、シロキサン類が好ましい。例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサンが特に好ましい。さらに、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、２－エトキシエタノール、１，２－ジエトキシエタン、２－メトキシエタノール、テトラエチレングリコ－ルジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、メトキシシクロペンタンが特に好ましい。

　乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、又は、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

　表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解及び脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

　触媒には、任意の適切な酸又は塩基、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｂ等）、分子構造内に非共有電子対を有する含硫黄化合物、または含窒素化合物（例えばスルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物）等を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ジエチルアミン等の有機アミン類などを使用できる。遷移金属、脂肪族アミン化合物、及び芳香族アミン化合物は、上記と同様のものが挙げられる。

　本開示の物品に含まれる表面処理層は、高い摩耗耐久性と指紋拭き取り性の双方を有する。また、上記表面処理層は、高い摩耗耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（又は潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、耐薬品性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

　従って、本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。

　光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；ＦｉｅｌｄＥｍｉｓｓｉｏｎＤｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

　本開示の物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

　また、本開示の物品は、医療機器又は医療材料であってもよい。また、本開示によって得られる層を有する物品は、自動車内外装部材であってもよい。外装材の例には、次のものが挙げられる：ウィンドウ、ライトカバー、車外カメラカバー。内装材の例には、次のものが挙げられる：インパネカバー、ナビゲーションシステムタッチパネル、加飾内装材。

　上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、摩耗耐久性及び防汚性の点から好ましい。

　表面処理層の原子組成および構成原子の比率を測定するためのＸ線光電子分光分析法を行う装置としては、ＸＰＳ，アルバック・ファイ社製　ＰＨＩ５０００ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅＩＩを使用することができる。ＸＰＳ分析の測定条件としては、Ｘ線源に単色化ＡｌＫα線を２５Ｗ、光電子検出面積を１４００μｍ×３００μｍ，光電子検出角を２０度～９０度の範囲（例えば２０度、４５度、９０度）、パスエネルギーを２３．５ｅＶなどとし、スパッタリングにはガスクラスターイオンビーム、Ａｒイオンなどを用いることが可能である。上記装置、測定条件により、Ｃ１ｓ、Ｏ１ｓ、Ｓｉ２ｐのピーク面積を観測し、炭素、酸素、ケイ素の原子比を算出することにより表面処理層および中間層の組成を求めることができる。

　また、深さ方向の分析を実施することも可能である。ＸＰＳ分析の測定条件としては、Ｘ線源に単色化ＡｌＫα線を２５Ｗで用い、光電子検出面積を１４００μｍ×３００μｍ，光電子検出角を、２０度～９０度の範囲（例えば２０度、４５度、９０度）、パスエネルギーを２３．５ｅＶなどとし、スパッタイオンにはＡｒイオン、ガスクラスターイオン、Ｃ６０イオンなどを用いることができる。スパッタリングによって１～１００ｎｍエッチングし、それぞれのエッチング後の深さにおいける塗膜中の組成を得ることもできる。

　上記のＸＰＳ分析の光電子検出角を調整することにより、検出深さを適宜調整することができる。例えば、２０度に近い浅い角度とすることにより、検出深さを３ｎｍ程度とすることができ、一方、９０度に近い深い角度にすることにより、検出深さを１０数ｎｍ程度とすることができる。

　上記した酸化ケイ素を含む中間層は、酸化ケイ素前駆体を基材の表面に適用することにより形成することができる。中間層がアルカリ金属を含む場合、上記中間層は、酸化ケイ素前駆体とアルカリ金属源を含む組成物を基材の表面に適用することにより形成することができる。

　上記酸化ケイ素前駆体としては、ケイ酸、ケイ酸の部分縮合物、アルカリ金属ケイ酸塩、ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物、該シラン化合物の部分加水分解縮合物等が挙げられる。ケイ酸やその部分縮合物は脱水縮合させて酸化ケイ素とすることができ、アルカリ金属ケイ酸塩は酸や陽イオン交換樹脂によりケイ酸やその部分縮合物とし、生成したケイ酸やその部分縮合物を脱水縮合させて酸化ケイ素とすることができる。ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物における加水分解性基としては、アルコキシ基、塩素原子等が挙げられる。該シラン化合物の加水分解性基を加水分解させて水酸基とし、生成するシラノール化合物を脱水縮合させて酸化ケイ素とすることができる。ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物としては、テトラアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン等のアルコキシシランやテトラクロロシラン等が挙げられる。

　上記アルカリ金属源としては、アルカリ金属水酸化物、水溶性アルカリ金属塩等が挙げられる。水溶性アルカリ金属塩としては、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ金属塩酸塩、アルカリ金属硝酸塩等が挙げられる。アルカリ金属源としては、アルカリ金属水酸化物およびアルカリ金属炭酸塩が好ましい。

　尚、アルカリ金属ケイ酸塩は酸化ケイ素前駆体かつアルカリ金属源として用いることができる。アルカリ金属ケイ酸塩はケイ酸を経て酸化ケイ素とすることができるが、その際に少量のアルカリ金属が生成する酸化ケイ素中に残留し得る。従って、残留するアルカリ金属の量を調整して、所定量のアルカリ金属原子を含む酸化ケイ素を得ることができる。

　上記中間層の厚さは、特に限定されないが、例えば、１～５０ｎｍ、好ましくは１～３０ｎｍ、より好ましくは２～１５ｎｍ、さらに好ましくは３～１０ｎｍの範囲である。

　以上、本開示の化合物、組成物、及び物品について詳述した。なお、本開示の化合物、組成物、及び物品などは、上記で例示したものに限定されない。

　以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。

（合成例１）
　２２－トリコセン酸を３．０２ｇ、トルエンを２６ｍＬ、メタノールを１７ｍＬ、それぞれ加えた後、トリメチルシリルジアゾメタンを２０ｍＬ滴下し、室温で３時間攪拌した。その後、減圧濃縮することで化合物（１）３．１１ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 1.249－1.649 (m), 2.005-2.061 (m), 2.279-2.316 (t), 1.567-1.622 (m), 3.662 (s), 4.904-5.015 (m), 5.760-5.862 (m)

化合物（１）

（合成例２）
　合成例１で得られた化合物（１）を０．８９７ｇ、トルエンを５．０ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１５８ｇ、それぞれ加えた後、氷浴で冷却し、１，１，１，３，３－ペンタメチルジシロキサンを０．７ｍＬ滴下した。６０℃で７時間攪拌した後、精製を行うことにより、下記の化合物（２）１．１７ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.028-0.120 (m), 0.483-0.522 (t), 1.229-1.258 (m), 1.256-1.285 (m), 1.601-1.638 (m), 2.267-2.322 (t), 3.667 (s)

化合物（２）

（合成例３）
　合成例２で得られた化合物（２）を１．１０ｇ、トルエンを１．０ｍＬ、４－［２，２－ジ（２－プロピレニル）］ペンテニルアミンを１．８３ｇ、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンを０．５６８ｇ、それぞれ加えた後、１２５℃で２４時間攪拌した。その後、塩酸水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水処理し、減圧濃縮することで化合物（３）１．１８ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.010-0.088 (m), 0.491-0.509 (m), 1.249-1.287 (m), 1.570-1.642 (m), 2.021-2.041 (d), 2.139-2.177 (t), 3.186-3.202(d), 5.070-5.116(m), 5.535 (s), 5.812-5.917 (m)

　化合物（３）

（合成例４）
合成例３で得られた化合物（３）を１．１８ｇ、トルエンを１８．２ｍＬ、ピリジンを０．１ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．６ｍL、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを１．８ｍＬ仕込み、室温で終夜撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記の化合物（４）１．６３ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.033-0.137 (m), 0.465-0.613 (m), 1.150-1.423 (m), 1.598-1.633 (m), 2.131-2.169 (t), 3.535-3.618 (m)

　化合物（４）

（表面処理剤１）
　上記で得られた化合物４を２０ｗｔ％のエタノール溶液となるよう希釈し、表面処理剤１を得た。

（合成例５）
　合成例２で得られた化合物（２）を０．８６ｇ、トルエンを１．０ｍＬ、アリルアミンを０．６０ｇ、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンを０．２５２ｇ、それぞれ加えた後、７５℃で６時間攪拌した。その後、塩酸水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水処理し、減圧濃縮することで化合物（５）０．７９１ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.011-0.123 (m), 0.478-0.517 (m), 1.203-1.368 (m), 1.598-1.671 (m), 2.168-2.206 (t), 3.872-3.901 (t), 5.115-5.205(m), 5.479(s), 5.792-5.889 (m)

化合物（５）

（合成例６）
　合成例５で得られた化合物（５）を０．７９ｇ、トルエンを１５．０ｍＬ、ピリジンを０．０５ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．６ｍＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを１．０ｍＬ仕込み、室温で終夜撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記の化合物（６）０．９１２ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.005-0.202 (m), 0.472-0.591 (m), 0.623-0.664 (m), 1.245-1.282 (m), 1.576-1.669 (m), 2.119-2.158 (t), 3.216-3.265 (m), 3.534-3.614 (m)

化合物（６）

（表面処理剤２）
　上記で得られた化合物６を溶媒で希釈せずに、表面処理剤２として用いた。

（合成例７）
　合成例１で得られた化合物（１）を０．４１ｇ、トルエンを１．０ｇ、ピリジンを０．１ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１ｍＬ、それぞれ加えた後、ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｎＳｉ（ＣＨ_３）_２Ｈを８．９５ｇ仕込み、室温で終夜攪拌した。その後、精製を行うことにより、下記のポリジメチルシロキサン基含有化合物（７）８．３６ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.085-0.299 (m), 0.509-0.558 (m), 0.866-0.901 (t), 1.256-1.329 (m), 1.601-1.638 (m), 2.283-2.321 (t), 3.666 (s)

　化合物（７）
（ｎ≒６０）

（合成例８）
　合成例７で得られたポリジメチルシロキサン基含有化合物（７）を３．０１ｇ、トルエンを３．１６ｇ、アリルアミンを０．２４７ｇ、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンを０．０４５２ｇ、それぞれ加えた後、７５℃で２０時間攪拌した。その後、塩酸水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水処理し、減圧濃縮することで化合物（８）２．１８１ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.090-0.295 (m), 0.504-0.553 (m), 0.862-0.898 (t), 1.208-1.324 (m), 1.589-1.673 (m), 2.169-2.208 (t), 3.876-3.904 (m), 5.117-5.214 (m), 5.451 (s), 5.755-5.896 (m)

　（化合物８）

（合成例９）
　合成例８で得られた化合物（８）を２．００ｇ、トルエンを２．００ｇ、ピリジンを０．１ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．２ｍＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを１．５ｍＬ仕込み、室温で終夜撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記の化合物（９）２．０９ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.006-0.295 (m), 0.504-0.556 (m), 0.630-0.670 (m), 0.862-0.896 (m), 1.250-1.347 (m), 1.590-1.672 (m), 2.108-2.164 (t), 3.213-3.281 (m), 3.542-3.621 (m)

（化合物９）

（表面処理剤３）
　上記で得られた化合物９を２０ｗｔ％のヘキサメチルジシロキサン溶液となるよう希釈し、表面処理剤３を得た。

（合成例１０）
　１０－ウンデセン酸メチルを５．０２ｇ、トルエンを７．５ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．３ｍL、ピリジン０．１ｍL、それぞれ加えた後、氷浴で５℃以下まで冷却し、１，１，１，３，３－ペンタメチルジシロキサン２０ｍＬを加えて、６０℃で３時間攪拌した。その後、精製を行うことにより、化合物（１０）８．６２ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.017－0.077 (m), 0.465-0.504 (t), 1.250-1.268 (m), 1.567-1.622 (m), 2.264-2.301 (t), 3.643 (s)

化合物（１０）

（合成例１１）
　合成例１０で得られた化合物（１０）を３．０１ｇ、トルエンを８．７ｍＬ、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンを０．１４０ｇ、アリルアミンを５．５２ｇ、それぞれ加えた後、７５℃で２４時間攪拌した。その後、トルエンで希釈し、塩酸水溶液で洗浄した。続いて硫酸マグネシウムで脱水処理し、減圧濃縮することで化合物（１２）２．７４ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.004-0.036 (m), 0.448-0.487 (m), 1.229-1.258 (m), 1.562-1.636 (m), 2.154-2.193 (t), 3.815-3.847 (m), 5.053-5.162 (m), 5.745-5.841 (m), 6.237 (s)

化合物（１１）

（合成例１２）
　合成例１１で得られた化合物（１１）を２．０７ｇ、トルエンを２．０ｇ、ピリジンを０．１ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．２ｍＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを６．２ｍＬ仕込み、室温で終夜撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記の化合物（１２）２．５３ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.136-0.046 (m), 0.464-0.503 (t), 0.618-0.658 (m), 1.247-1.272 (m), 1.571-1.663 (m), 1.796 (s), 2.117-2.155(t), 3.209-3.258(m), 3.562 (s)

化合物（１２）

（表面処理剤４）
　上記で得られた化合物１２を２０ｗｔ％のヘキサメチルジシロキサン溶液となるよう希釈し、表面処理剤４を得た。

（合成例１４）
　合成例１で得られた化合物（１）を０．５０ｇ、トルエンを１０．０ｍＬ、ピリジンを０．０５ｍＬ、及び１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．３ｍL、それぞれ加えた後、１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサンを１．２ｍＬ滴下した。室温で１７時間攪拌した後、精製を行うことにより、下記の化合物（１４）０．８７ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.033-0.241 (m), 0.438-0.550 (m), 1.191-1.413 (m), 1.607-1.642 (m), 2.242-2.325 (m), 3.669 (s)

化合物（１４）

（合成例１５）
　合成例１４で得られた化合物（１４）を０．８６ｇ、アリルアミンを５．０ｍＬ、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンを０．２０ｇ、それぞれ加えた後、７５℃で３時間攪拌した。その後、塩酸水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水処理し、減圧濃縮することで化合物（１５）０．７２ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.076-0.128 (m), 0.413-0.465 (t), 1.183-1.1.404 (m), 1.604-1.677 (m), 2.173-2.248 (t), 3.841-3.942(m), 5.122-5.210(m), 5.809-5.877 (m)

　化合物（１５）

（合成例１６）
　合成例１５で得られた化合物（１５）を０．７２ｇ、トルエンを６．０ｍＬ、ピリジンを０．０４ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．２６ｍＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを１．４ｍＬ仕込み、室温で終夜撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記の化合物（１６）０．４８ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.054-0.149 (m), 0.425-0.464 (t), 0.628-0.681 (m), 1.181-1.402 (m), 1.544-1.768(m), 2.125-2.164 (t), 3.558-3.646 (m)

　化合物（１６）

（表面処理剤５）
　上記で得られた化合物１６を２０ｗｔ％のエタノール溶液となるよう希釈し、表面処理剤４を得た。

（合成例１７）
　合成例１で得られた化合物（１）を０．９３ｇ、トルエンを１５．０ｍＬ、ピリジンを０．０９ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．６ｍL、それぞれ加えた後、ヘプタメチルシクロテトラシロキサンを１．１ｇ滴下した。室温で６時間攪拌した後、精製を行うことにより、下記の化合物（１７）２．１ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.029-0.219 (m), 0.507-0.546 (t), 1.221-1.407 (m), 1.569-1.640 (m), 2.269-2.322 (m), 3.669 (s)

化合物（１７）

（合成例１８）
　合成例１７で得られた化合物（１７）を１．１０ｇ、アリルアミンを９．０ｍＬ、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンを０．３９ｇ、それぞれ加えた後、７５℃で６時間攪拌した。その後、塩酸水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水処理し、減圧濃縮することで化合物（１８）２．４３ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.025-0.172 (m), 0.447-0.570 (m), 1.108-1.435 (m), 1.604-1.677 (quin), 2.175-2.214 (t), 3.879-3.904(m), 5.121-5.206(m), 5.796-5.893 (m)

　化合物（１８）

（合成例１９）
　合成例１８で得られた化合物（１８）を２．４０ｇ、トルエンを２０ｍＬ、ピリジンを０．１ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．８ｍＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを４．０ｍＬ仕込み、室温で終夜撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記の化合物（１９）２．４ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.024-0.169 (m), 0.504-0.569 (m), 0.631-0.672 (t), 1.183-1.403 (m), 1.586-1.676 (quin), 2.127-2.166 (t), 3.192-3.273 (quin), 3.492-3.612 (m)

　化合物（１９）

（表面処理剤６）
　上記で得られた化合物１９を２０ｗｔ％のエタノール溶液となるよう希釈し、表面処理剤６を得た。

（合成例２０）
　合成例１で得られた化合物（１）１．０ｇ、トルエンを５．５ｍＬ、クロロジメチルシランを０．９ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１４ｍＬ、それぞれ加えた後、４０℃で４時間攪拌した。その後、精製を行うことにより、末端にクロロジメチルシリル基を有する化合物（１０１）１．１２ｇを得た。続いて別のフラスコでパラジウム／炭素（Ｐｄ１０％）（約５５％水湿潤品）を３ｇ、テトラヒドロフラン４４ｍＬ、水９ｍＬ、１，１，１，３，５，５，５‐ヘプタメチルトリシロキサン１０ｍＬを加え、７０℃で２時間攪拌した。その後、精製を行うことにより、末端にシラノール基を有する化合物（１０２）２．２ｇを得た。化合物（１０１）と化合物（１０２）をトルエンに溶解し、室温で終夜攪拌を行い、ピリジンを加えてさらに１時間攪拌させた。その後、分液精製とシリカゲルカラム精製を行うことにより、化合物（２０）０．４０１ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.359－0.477 (m), 0.790-0.830 (m), 1.251-1.439 (m), 1.578-1.632 (t), 2.277-2.315 (t), 3.659 (s)

（化合物２０）

（合成例２１）
　合成例２０で得られた化合物（２０）を０．４０１ｇ、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンを０．０８５ｇ、アリルアミンを１．５５ｇ、それぞれ加えた後、７５℃で４時間攪拌した。その後、ジエチルエーテルで希釈し、塩酸水溶液で洗浄した。続いて硫酸マグネシウムで脱水処理し、減圧濃縮することで化合物（２１）０．３７４ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.057-0.269 (m), 0.512-0.552 (m), 1.150-1.431 (m), 1.599-1.672 (m), 2.173-2.211 (m), 3.889 (s), 5.115-5.125(m), 5.482(bs), 5.792-5.889 (m)

（化合物２１）

（化合物２２）
　合成例２１で得られた化合物（２１）を０．３７４ｇ、トルエンを３．６ｍＬ、アニリンを１３．５μＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を２８μＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを０．１３ｍＬ仕込み、４５℃で４時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記の化合物（２２）０．３８４ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.010-0.209 (m), 0.450-0.560 (m), 0.628-0.668 (m), 1.180-1.367 (m), 1.581-1.674 (m), 2.123-2.162(t), 3.220-3.269(q), 3.561-3.618(m), 5.636 (bs)

（化合物２２）

（表面処理剤７）
　上記で得られた化合物２２を２０ｗｔ％のエタノール溶液となるよう希釈し、表面処理剤７を得た。

（化合物２３）
　フラスコにトリス（トリメチルシリルオキシ）シラン（０．７ｇ）、１８－オクタデセン－１－オール（１．０ｇ）、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン（０．２４ｇ）、トルエン（１０ｍＬ）を加え、マグネチックスターラーで溶液を撹拌しながら、オイルバス（７０℃設定）で２時間加熱した。その後、シリカゲルカラムで反応液をろ過し、ろ液を
濃縮して末端オレフィン化合物（２３）１．２ｇを無色オイルとして得た。

1H-NMR (400 MHz, クロロホルム-D) δ 5.87-5.76 (m, 1H), 5.02-4.91 (m, 2H), 3.64 (t, J = 6.6 Hz, 2H), 2.07-2.01 (m, 2H), 1.55-1.50 (m, 2H), 1.41-1.26 (m, 26H), 0.15-0.07 (m, 18H), 0.03 (s, 3H)

（化合物２３）

（合成例２４）
　フラスコに末端オレフィン化合物（２３）（１．０ｇ）、カールシュテット触媒（０．１３ｇ、白金２％含有のキシレン溶液）、トリメトキシシラン（０．７５ｇ）、ピリジン（２２ｍｇ）、トルエン（１０ｍＬ）を加え、室温で４時間撹拌した後、減圧濃縮し、化合物（２４）１．０９ｇを微黄色オイルとして得た。

1H-NMR (400 MHz, クロロホルム-D) δ 3.74-3.53 (m, 11H), 1.56-1.50 (m, 2H), 1.43-1.25 (m, 30H), 0.67-0.62 (m, 2H), 0.26-0.07 (m, 18H), 0.04 (q, J = 4.4 Hz, 3H)

（化合物２４）

（表面処理剤８）
　上記で得られた化合物２４を２０ｗｔ％のエタノール溶液となるよう希釈し、表面処理剤８を得た。

（合成例２５）
　合成例１４で得られた化合物（１４）を１．８ｇ、２－アリルペント－４－エン－１－アミンを２．０１ｍＬ、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンを０．４３ｇ、それぞれ加えた後、７５℃で３時間攪拌した。その後、塩酸水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水処理し、減圧濃縮することで化合物（２５）１．９２ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.076-0.128 (m), 0.413-0.465 (t), 1.183-1.1.404 (m), 1.604-1.677 (m),1.704-1.769 (m), 1.994-2.093 (m), 2.103-2.285 (m), 3.161-3.328(t), 4.997-5.195(m), 5.397-5.595 (s) , 5.708-5.975 (m)

　化合物（２５）

（合成例２６）
　合成例２５で得られた化合物（２５）を０．４７ｇ、トルエンを３．５ｍＬ、ピリジンを０．０１４ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１ｍＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを０．５２ｍＬ仕込み、室温で３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記の化合物（２６）０．４８ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.054-0.149 (m), 0.425-0.464 (t), 0.628-0.681 (t), 1.181-1.402 (m), 1.544-1.768(m), 2.125-2.164 (t), 3.135-3.203 (t) , 3.558-3.646 (m), 5.449-5.528 (s)

　化合物（２６）

（表面処理剤９）
　上記で得られた化合物２６を２０ｗｔ％のエタノール溶液となるよう希釈し、表面処理剤９を得た。

（合成例２７）
　ガラス製フラスコに、スターラーチップと、１６－ヒドロキシヘキサデカン酸を２．０ｇ、炭酸カリウムを３．６ｇ、ヨウ化メチルを１．５ｇ、ジメチルスルホキシドを１０ｍＬ加え、フラスコを６０℃のオイルバスにつけ、マグネチックスターラーで１８時間撹拌した。その後、フラスコにトルエンと水を加えて撹拌し、フラスコ内の液を分液ろうとに移し、静置して分液し、下層（水層）を除去した。同様に加えて２回、有機層を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮することで、無色オイルとして１６－ヒドロキシヘキサデカン酸メチルを１．９ｇ得た。

1H-NMR (400 MHz, クロロホルム-D) δ 3.66-3.62 (m, 5H), 2.36-2.28 (m, 2H), 1.65-1.53 (m, 4H), 1.33-1.25 (m, 22H)

１６－ヒドロキシヘキサデカン酸メチル

（合成例２８）
　ガラス製フラスコに、スターラーチップと、合成例２７で得られた１６－ヒドロキシヘキサデカン酸メチルを０．９３ｇ、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンを０．４６ｇ、アリルアミンを２．５ｍＬ加え、室温下、マグネチックスターラーで２時間撹拌した。その後、フラスコにクロロホルムと塩酸水溶液を加えて撹拌し、フラスコ内の液を分液ろうとに移し、静置して分液し、上層（水層）を除去した。同様に加えて２回、有機層を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮することで、白色固体としてＮ－アリル－１６－ヒドロキシヘキサデカナミドを０．８８ｇ得た。

1H-NMR (400 MHz, クロロホルム-D) δ 5.89-5.79 (m, 1H), 5.49 (s, 1H), 5.20-5.12 (m, 2H), 3.89 (td, J = 5.7, 1.4 Hz, 2H), 3.64 (dd, J = 12.1, 5.3 Hz, 2H), 2.21-2.17 (m, 2H), 1.65-1.53 (m, 4H), 1.40-1.25 (m, 22H)

Ｎ－アリル－１６－ヒドロキシヘキサデカナミド

（合成例２９）
　ガラス製フラスコに、スターラーチップと、合成例２８で得られたＮ－アリル－１６－ヒドロキシヘキサデカナミドを０．７７ｇ、１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサンを０．５ｇ、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボランを０．１１ｇ、トルエンを１４ｍＬ加え、フラスコを７０℃のオイルバスにつけ、マグネチックスターラーで２時間撹拌した。シリカゲルを５ｇ、フラスコに入れ、室温で撹拌した後にろ過し、ろ液を減圧濃縮することで、白色固体として化合物（２９）を０．８６ｇ得た。

1H-NMR (400 MHz, クロロホルム-D) δ 5.89-5.79 (m, 1H), 5.45 (s, 1H), 5.21-5.12 (m, 2H), 3.89 (tt, J = 5.7, 1.4 Hz, 2H), 3.65 (q, J = 6.9 Hz, 2H), 2.18 (q, J = 7.3 Hz, 2H), 1.67-1.50 (m, 4H), 1.29-1.25 (m, 22H), 0.16-0.09 (m, 18H), 0.03 (s, 3H)

化合物（２９）

（合成例３０）
　ガラス製フラスコに、スターラーチップと、合成例２９で得られた化合物（２９）を０．８６ｇ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１ｍＬ、ピリジンを１４μＬ、トリメトキシシランを０．５０ｍＬ、トルエンを１０ｍＬ加え、室温下、マグネチックスターラーで４時間撹拌した。その後、減圧濃縮を行うことにより、淡黄色オイルとして化合物（３０）を０．９４ｇ得た。

1H-NMR (400 MHz, クロロホルム-D) δ 5.62 (s, 1H), 3.65-3.54 (m, 11H), 3.25 (q, J = 6.7 Hz, 2H), 2.20-2.12 (m, 2H), 1.68-1.50 (m, 6H), 1.27 (d, J = 12.8 Hz, 22H), 0.67-0.63 (m, 2H), 0.15-0.07 (m, 18H), 0.01 (s, 3H)

化合物（３０）

（表面処理剤１０）
　上記で得られた化合物（３０）を２０ｗｔ％のエタノール溶液となるよう希釈し、表面処理剤１０を得た。

（合成例３１）
　１２－アミノラウリン酸メチルＨ_２Ｎ（ＣＨ_２）_１１ＣＯＯＣＨ_３を７．０１ｇ、ジクロロメタンを４０．０ｍｌ、４－ジメチルアミノピリジンを０．７３ｇ、１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩を８．７７ｇ、それぞれ加えて、氷浴下１０－ウンデセン酸を６．２０ｇ加えて室温で終夜攪拌した。その後、精製を行うことにより、下記のアミド基含有メチルエステル化合物（３１）ＣＨ_２＝ＣＨ（ＣＨ_２）_８ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_１１ＣＯＯＣＨ_３１１．３４ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 1.251-1.375 (m), 1.456-1.490 (m), 1.573-1.644 (m), 1.998-2.061 (m) , 2.121-2.158 (t) , 2.275-2.313 (t) , 3.201-3.251 (m), 3.658 (s) , 4.903-5.007 (m), 5.397 (br s), 5.747-5.849 (m)

アミド基含有メチルエステル化合物（３１）

（合成例３２）
　合成例３１で得られたアミド基含有メチルエステル化合物（３１）ＣＨ_２＝ＣＨ（ＣＨ_２）_８ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_１１ＣＯＯＣＨ_３を４．００ｇ、トルエンを４６．０ｍｌ、ピリジンを０．３３ｍｌ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．５２ｍｌ、１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサンを６．８６ｍｌ、それぞれ加え、６０℃下で８時間攪拌した。その後、精製を行うことにより、下記の末端シロキサン化合物（３２）（（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ）_２ＳｉＣＨ_３（ＣＨ_２）_１０ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_１１ＣＯＯＣＨ_３５．０９ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.014-0.013 (m), 0.415-0.453 (t), 1.250-1.271 (m), 1.998-2.061 (m) , 2.121-2.158 (t) , 2.275-2.313 (t) , 3.201-3.251 (m), 3.658 (s) , 4.903-5.007 (m), 5.397 (br s), 5.747-5.849 (m)

末端シロキサン化合物（３２）

（合成例３３）
　合成例３２で得られた末端シロキサン化合物（３２）（（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ）_２ＳｉＣＨ_３（ＣＨ_２）_１０ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_１１ＣＯＯＣＨ_３を１．２７ｇ、１，５，７-トリアザビシクロ［４．４．０］デカ-５-エンを０．３４ｇ、アリルアミンを３．５２ｇ、それぞれ加えて、６５℃に加熱し６時間攪拌した。その後、精製を行うことにより、下記の末端シロキサン化合物（３３）（（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ）_２ＳｉＣＨ_３（ＣＨ_２）_１０ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_１１ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２１．０５ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.072-0.104 (m), 0.418-0.457 (t), 1.255-1.287 (m), 1.459-1.494 (m) , 1.597-1.631 (m) , 2.124-2.206 (m) , 3.204-3.254 (m), 3.871-3.903 (m) , 5.112-5.199 (m), 5.791-5.887 (m)

末端シロキサン化合物（３３）

（合成例３４）
　合成例３３で得られた末端シロキサン化合物（３３）（（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ）_２ＳｉＣＨ_３（ＣＨ_２）_１０ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_１１ＣＯＮＨＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２を１．００ｇ、トルエンを１０．０ｇ、トリアセトキシメチルシランを０．０１ｇ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０８ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシランを０．４０ｍＬ仕込み、６０℃に加熱し３時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１５ｇおよびオルトギ酸トリメチル３．４０ｍｌの混合溶液を加えた後、６５℃に加熱し２時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、下記の末端トリメトキシシリル基含有化合物（３４）（（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ）_２ＳｉＣＨ_３（ＣＨ_２）_１０ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_１１ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３０．６０ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.081-0.154 (m), 0.521-0.668 (m), 1.253 (br s), 1.463-1.495 (m) , 1.581-1.698 (m) , 2.124-2.163 (t) , 3.204-3.251 (m), 3.570 (s)

末端トリメトキシシリル基含有化合物（３４）

（合成例３５）
　１６－ヘプタデセン酸を１．００ｇ、トルエンを１１．２ｍＬ、メタノールを７．５０ｍＬ、それぞれ加えた後、トリメチルシリルジアゾメタンを７．６０ｍＬ滴下し、室温で１時間攪拌した。その後、減圧濃縮することで化合物（３５）１．１５ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 1.252-1.371 (m),1.597-1.615 (m), 2.010-2.061 (m), 2.279-2.316 (t), 3.662 (s), 4.910-5.012 (dd), 5.777-5.846 (m)°

化合物（３５）

（合成例３６）
　合成例３５で得られた化合物（３５）を１．０６ｇ、トルエンを１８．８ｍＬ、ピリジンを０．１２ｍL、１，３－ジビニルー１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．４３ｍＬをそれぞれ加えた後、１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサンを３．０６ｍＬ滴下し、室温で６時間攪拌した。その後、減圧濃縮することで化合物（３６）２．０７ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.001-0.130 (m),0.434-0.472 (m), 1.176-1.288 (m), 1.582-1.640 (m), 2.269-2.323 (m), 3.670(s)

化合物（３６）

（合成例３７）
　合成例３６で得られた化合物（３６）を０．８０ｇ、アリルアミンを５．９６ｍＬ、１，５，７－トリアザビシクロ[４．４．０]デカー５－エンを０．２２ｇをそれぞれ加えた後、７５℃で３時間攪拌した。その後、塩酸水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水処理し、減圧濃縮することで化合物（３７）０．６２ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.012-0.123 (m),0.423-0.461 (m), 1.250-1.289 (m), 1.615-1.660 (m),2.166-2.204 (t), 3.122-2.228(m), 3.876-3.902 (m), 5.108-5.202 (m),5.778-5.886(m)°

化合物（３７）

（合成例３８）
　合成例３７で得られた化合物（３７）を０．５ｇ、トルエンを２．０ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０５４ｍＬ、アニリンを０．０２６ｍＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを０．２４ｍＬ仕込み、４５℃で２時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記の化合物（３８）０．４６ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.064-0.0.231 (m), 0.446 (t), 0.652 (t), 1.109-1.404 (m), 1.529-1.676 (m), 2.148 (t), 3.249 (q), 3.493-3.667 (m), 5.630 (br)

化合物（３８）

（表面処理剤１１）
　上記で得られた化合物（３８）を２０ｗｔ％のエタノール溶液となるよう希釈し、表面処理剤１１を得た。

（合成例３９）
　合成例３６と同様の方法で得られた化合物（３６）を１．００ｇ、２－アリルペント－４－エン－１－アミンを２．４１ｍＬ、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカー５－エンを０．２８ｇをそれぞれ加えた後、７５℃で３時間攪拌した。その後、塩酸水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水処理し、減圧濃縮することで化合物（３９）１．０３ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.012-0.123 (m),0.423-0.561 (m), 1.178-1.279 (m), 1.610-1.629 (m),1.716-1.749 (m),2.042-2.352(m), 3.122-2.228(m), 3.663-3.744 (m), 5.031-5.157 (m),5.734-5.838(m)°

化合物（３９）

（合成例４０）
　合成例３９で得られた化合物（３９）を０．８２ｇ、トルエンを２．０ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０７８ｍＬ、アニリンを０．０３８ｍＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを０．７０ｍＬ仕込み、４５℃で２時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記の化合物（４０）１．０８ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: -0.001-0.166 (m), 0.453 (t), 0.635 (t), 1.190-1.327 (m), 1.398-1.546 (m), 1.627(quin), 2.159(t), 3.189(t), 3.489-3.685 (m), 5.510(t)

化合物（４０）

（表面処理剤１２）
　上記で得られた化合物（４０）を２０ｗｔ％のエタノール溶液となるよう希釈し、表面処理剤１２を得た。

（合成例４１）
　合成例１と同様の方法で得られた化合物（１）を１．０４ｇ、トルエンを１５ｍＬ、ピリジンを０．０８ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．６ｍＬ、それぞれ加えた後、Gelest社製MCR-H07を３．６８ｍＬ滴下した。室温で二日間攪拌した後、精製を行うことにより、下記の化合物（４１）４．１５ｇを得た。なお、繰り返し単位数ｎの平均値は、１０である。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.019-0.115 (m), 0.511 (t), 0.858(t), 1.200-1.325 (m), 1.592 (quin), 2.276-2.293 (m), 3.641(s)

化合物（４１）

（合成例４２）
　合成例４１で得られた化合物（４１）を３．８５ｇ、アリルアミンを１０ｍＬ、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンを０．４０ｇ、それぞれ加えた後、７５℃で３時間攪拌した。その後、塩酸水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水処理し、減圧濃縮することで、化合物（４２）３．０９ｇを得た。なお、繰り返し単位数ｎの平均値は、１０である。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.018-0.113 (m), 0.509 (t), 0.858 (t), 1.165-1.376 (m), 1.613 (quin), 2.162(t), 3.852-3.877(m), 5.093-5.175 (m), 5.412(br), 5.7770-5.864(m)

化合物（４２）

（合成例４３）
　合成例４２で得られた化合物（４２）を３．０９ｇ、トルエンを１０ｍＬ、ピリジンを０．０６５ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．４７ｍＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを２．４ｍＬ仕込み、室温で終夜撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する、下記の化合物（４３）２．９６ｇを得た。なお、繰り返し単位数ｎの平均値は、１０である。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.019-0.086 (m), 0.482-0.541 (m), 0.625 (t), 0.858 (t), 1.259-1.325(m), 1.520-1.649 (m), 2.121 (t), 3.223(q), 3.519-3.590(m), 5.599(br)

化合物（４３）

（表面処理剤１３）
　上記で得られた化合物（４３）を２０ｗｔ％のエタノール溶液となるよう希釈し、表面処理剤１３を得た。

（合成例４４）
　合成例１と同様の方法で得られた化合物（１）を１．０４ｇ、トルエンを１５ｍＬ、ピリジンを０．０８ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．６ｍＬ、それぞれ加えた後、Gelest社製MCR-H11を４．０ｇ滴下した。室温で二日間攪拌した後、精製を行うことにより、下記の化合物（４４）４．３６ｇを得た。なお、繰り返し単位数ｎの平均値は、１３である。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.019-0.115 (m), 0.490-0.530 (m), 0.858 (t), 1.200-1.378 (m), 1.592 (quin), 2.276-2.293 (m), 3.640 (s)

化合物（４４）

（合成例４５）
　合成例４４で得られた化合物（４４）を４．３６ｇ、アリルアミンを１０ｍＬ、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンを０．３７ｇ、それぞれ加えた後、７５℃で３時間攪拌した。その後、塩酸水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水処理し、減圧濃縮することで、化合物（４５）３．５５ｇを得た。なお、繰り返し単位数ｎの平均値は、１３である。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.018-0.131 (m), 0.490-0.528 (t), 0.858 (t), 1.182-1.377 (m), 1.613 (quin), 2.162 (t), 3.852-3.880 (m), 5.093-5.175(m), 5.401 (br), 5.770-5.868 (m)

化合物（４５）

（合成例４６）
　合成例４５で得られた化合物（４５）を３．５５ｇ、トルエンを１５ｍＬ、ピリジンを０．０８ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．６ｍＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを３．０ｍＬ仕込み、室温で終夜撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する、下記の化合物（４６）３．４３ｇを得た。なお、繰り返し単位数ｎの平均値は、１３である。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.019-0.100 (m), 0.491-0.531 (m), 0.626 (t), 0.859 (t), 1.184-1.327(m), 1.578-1.653 (m), 2.122 (t), 3.225 (q), 3.520-3.626 (m), 5.600 (br)

化合物（４６）

（表面処理剤１４）
　上記で得られた化合物（４６）を２０ｗｔ％のエタノール溶液となるよう希釈し、表面処理剤１４を得た。

（合成例４７）
　合成例１と同様の方法で得られた化合物（１）を１．２５ｇ、トルエンを２０．０ｍＬ、ピリジンを０．１ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．６５ｍＬ、それぞれ加えた後、トリス(トリメチルシリルオキシ)シランを１．０１ｇ滴下した。室温で終夜攪拌した後、精製を行うことにより、下記の化合物（４７）１．３６ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.013-0.142 (m), 0.408 (t), 1.137-1.378 (m), 1.591 (quin), 2.275 (t), 3.639 (s)

化合物（４７）

（合成例４８）
　合成例４７で得られた化合物（４７）を０．６４ｇ、アリルアミンを２．８ｍＬ、１，５，７－トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エンを０．１２ｇ、それぞれ加えた後、７５℃で３時間攪拌した。その後、塩酸水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水処理し、減圧濃縮することで化合物（４８）０．６８ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.011-0.217 (m), 0.407 (t), 1.153-1.378 (m), 1.612 (quin),2.163 (t), 3.865(tt), 5.090-5.182(m), 5.409 (br), 5.770-5.866 (m)

化合物（４８）

（合成例４９）
　合成例４８で得られた化合物（４８）を０．５６ｇ、トルエンを１０．０ｍＬ、アニリンを０．０２２ｍＬ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．４６ｍＬ、それぞれ加えた後、トリメトキシシランを０．２ｍＬ仕込み、４５℃で２時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記の化合物（４９）０．５７ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.010-0.141 (m), 0.408 (t), 0.629 (t), 1.150-1.376 (m), 1.519-1.652(m), 2.121 (t), 3.172 (q), 3.516-3.589 (m), 5.607 (br)

化合物（４９）

（表面処理剤１５）
　上記で得られた化合物（４９）を２０ｗｔ％のエタノール溶液となるよう希釈し、表面処理剤１５を得た。

（合成例５０）
　１１－ブロモ－１－ウンデセンＣＨ_２＝ＣＨ（ＣＨ_２）_９Ｂｒを４．００ｇ、トルエンを２３．０ｍｌ、トリアセトキシメチルシランを０．１１ｇ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．７６ｍｌ、１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサンを６．９８ｍｌ、それぞれ加えて、室温で６時間攪拌した。その後、精製を行うことにより、下記の末端シロキサン化合物（５０）（（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ）_２ＳｉＣＨ_３（ＣＨ_２）_１１Ｂｒ７．０２ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.002 (s), 0.050-0.100 (m), 0.427-0.465 (t), 1.266-1.281 (m), 1.404-1.440 (m), 1.816-1.888 (m), 3.387-3.421 (t)

末端シロキサン化合物（５０）

（合成例５１）
　合成例５０で得られた末端シロキサン化合物（５０）（（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ）_２ＳｉＣＨ_３（ＣＨ_２）_１１Ｂｒを２．５０ｇ、テトラヒドロフランを５．５ｍｌ、マグネシウムを０．１４ｇ、ヨウ素を０．０２ｇ、それぞれ加え、６５℃下で２時間攪拌した。続いて氷浴下クロロジメチルシランを０．８９ｍｌ加え、室温で終夜攪拌した。その後、精製を行うことにより、下記の末端シロキサン化合物（５１）（（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ）_２ＳｉＣＨ_３（ＣＨ_２）_１１Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｈ２．１４ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.052 (s), 0.061 (s), 0.077-0.101 (m), 0.428-0.467 (t), 0.551-0.597 (m), 1.261-1.311 (m), 3.817-3.853 (m)

末端シロキサン化合物（５１）

（合成例５２）
　合成例５１で得られた末端シロキサン化合物（５１）（（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ）_２ＳｉＣＨ_３（ＣＨ_２）_１１Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｈを１．５１ｇ、トルエンを７．６ｇ、ピリジンを０．０１ｇ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０８ｍｌ、それぞれ加えた後、トリメトキシ（７－オクテン－１－イル）シランを０．７０ｍＬ仕込み、５０℃に加熱し６時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、下記の末端シロキサン化合物（５２）（（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ）_２ＳｉＣＨ_３（ＣＨ_２）_１１Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_８Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３１．９７ｇを得た。

¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ[ppm]: 0.082 (s), 0.426-0.480 (m), 0.625-0.665 (m), 1.231-1.349 (m), 1.370-1.1.409 (m), 3.566 (s)

末端シロキサン化合物（５２）

（Ｎａ入り中間層形成材料）
　水酸化ナトリウム（富士フィルム和光純薬株式会社製）の２．２ｇを、蒸留水２４ｇに溶解して、８．４質量％の水酸化ナトリウム水溶液を得た。この８．４質量％の水酸化ナトリウム水溶液の２４ｇとＭＳゲル（Ｍ．Ｓ．ＧＥＬＤ－１００－６０Ａ（ＡＧＣエスアイテック社製））の２０ｇとを混合して、水酸化ナトリウム水溶液をＭＳゲル中に吸収させた。水酸化ナトリウム水溶液を吸収したＭＳゲルを２５℃で８時間乾燥した後、錠剤成形機（４ＭＰａで１分）で成形し、１，０００℃で１時間焼成して成形体１（ペレット）を得た。

（表面処理層の形成）
（実施例１、３、５、７、９、１１、１３、１５、１７、１９、２１、２３、及び２５、比較例１）
　上記で調製した表面処理剤１～１４を、化学強化ガラス（コーニング社製、ゴリラガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。具体的には、真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに表面処理剤０．１ｇを充填し、真空蒸着装置内を圧力３．０×１０^－３Ｐａ以下に排気した。その後、７ｎｍの厚さの二酸化ケイ素膜を形成し、続いて抵抗加熱方式によりボートを加熱することで表面処理層を形成した。その後、オーブンで１５０℃、２時間の加熱処理を行うことにより、表面処理層を得た。

（実施例２、４、６、８、１０、１２、１４、１６、１８、２０、２２、２４、２６及び２８）
　上記で調製した表面処理剤１～３、及び５～１４を、化学強化ガラス（コーニング社製、ゴリラガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。具体的には、真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに表面処理剤０．１ｇを充填し、真空蒸着装置内を圧力３．０×１０^－３Ｐａ以下に排気した。その後、成形体１を用いて電子線蒸着方式により蒸着させて、７ｎｍの厚さのＮａを含む二酸化ケイ素膜を形成し、続いて抵抗加熱方式によりボートを加熱することで表面処理層を形成した。その後、オーブンで１５０℃、２時間の加熱処理を行うことにより、表面処理層を得た。

＜評価＞
[耐摩耗性評価]
　（初期評価）
　初期評価（摩擦回数０回）として、表面処理層の形成後、表面上の余剰分を拭き上げたのちに、水の静的接触角を測定した。接触角の測定は、２５℃環境下において、全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いた。具体的には、測定対象の表面処理層を有する基材を水平に静置し、その表面にマイクロシリンジから水を滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより静的接触角を測定した。静的接触角は、基材の表面処理層の異なる５点において測定し、その平均値を算出した値を用いた。

　（耐摩耗性試験後の評価）
　形成された表面処理層に対して、下記の摩擦子を接触させ、その上に５Ｎの荷重を付与し、荷重を加えた状態で摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で往復させた。所定の摩擦回数において、水の静的接触角を測定した。結果は（表１）に示す。

　・摩擦子
　下記に示すシリコーンゴム加工品の表面を、下記に示す組成の人工汗に浸漬したコットンで覆ったものを摩擦子として用いた。
　人工汗の組成：
　　無水リン酸水素二ナトリウム：２ｇ
　　塩化ナトリウム：２０ｇ
　　８５％乳酸：２ｇ
　　ヒスチジン塩酸塩：５ｇ
　　蒸留水：１Ｋｇ
　シリコーンゴム加工品：
　　タイガースポリマー製、シリコーンゴム栓ＳＲ－５１を、直径１ｃｍ、厚さ１ｃｍの円柱状に加工したもの。

　本開示の表面処理剤は、種々多様な用途に好適に利用され得る。

Claims

　下記式（１）：

［式中：
　Ｒ^１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
　Ｘ^１は、炭素数１１以上のアルキレン基を含む２価の有機基であり、
　Ｒ^Ｓｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。］
で表される化合物。
　Ｒ^１は、Ｒ^３－（ＳｉＲ^４ _２Ｏ）_ｎ－ＳｉＲ^４ _２－であり、
　Ｒ^３は、Ｃ_１－１２アルキル基であり、
　Ｒ^４は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキル基であり、
　ｎは、０～１５００である、
請求項１に記載の化合物。
　Ｒ^３は、メチル基である、請求項２に記載の化合物。
　Ｒ^１は、Ｒ^３－（ＳｉＲ^４ _２Ｏ）_ｎ－ＳｉＲ^４ _２－であり、
　Ｒ^３は、下記Ａ基またはＢ基：

［式中：
　Ｒ^５１は、それぞれ独立して、－（Ｒ^６１－ＳｉＲ^５３ _２）_ｍａ－Ｒ^５３で表される基であり、
　　Ｒ^６１は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　　Ｒ^５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ^５１’であり、
　　　Ｒ^５１’は、Ｒ^５１と同意義であり、
　　ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
　ただし、Ｒ^５１中、Ｒ^５１’の数は２０以下であり、
　Ｒ^５２は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
　ｎａは、１～３の整数であり、
　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
　ｎｂは、１～５の整数であり、
　ｚは、０又は１である。］
で表される基であり、
　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１２アルキル基であり、
　ｎは、０～１５００である、
請求項１～３のいずれか１項に記載の化合物。
　Ｒ^４は、メチル基である、請求項２～４のいずれか１項に記載の化合物。
　ｎは、１又は２である、請求項２～５のいずれか１項に記載の化合物。
　Ｒ^１は、－ＳｉＲ^５ _３であり、
　Ｒ^５は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキル基、又は－ＳｉＲ^６ _３であり、
　Ｒ^６は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキル基である、
請求項１～６のいずれか１項に記載の化合物。
　Ｒ^１は、下記Ａ基またはＢ基：

［式中：
　Ｒ^５１は、それぞれ独立して、－（Ｒ^６１－ＳｉＲ^５３ _２）_ｍａ－Ｒ^５３で表される基であり、
　　Ｒ^６１は、それぞれ独立して、酸素原子、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　　Ｒ^５３は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ^５１’であり、
　　　Ｒ^５１’は、Ｒ^５１と同意義であり、
　　ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
　ただし、Ｒ^１中、Ｒ^１’の数は２０以下であり、
　Ｒ^５２は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
　ｎａは、１～３の整数であり、
　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
　ｎｂは、１～５の整数であり、
　ｚは、０又は１である。］
で表される基である、請求項１～７のいずれか１項に記載の化合物。
　Ｘ^１は、さらに、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ^２－、－ＣＯＮＲ^２－、－ＯＣＯＮＲ^２－、－ＮＲ^２－ＣＯ－ＮＲ^２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｘ－ＣＯＮＲ^２－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｘ－ＣＯ－を含む２価の有機基であり、
　Ｒ^２は、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｘは、１～２０の整数である、
請求項１～８のいずれか１項に記載の化合物。
　Ｘ^１は、下記式：
　　　－Ｘ^２１－Ｘ^１０－Ｘ^１１－Ｘ^１２－
［式中：
　Ｘ^２１は、－Ｏ－、Ｒ^６１ _ｂ１Ｒ^６２ _３－ｂ１Ｃ－、Ｒ^６３ _ｂ２Ｒ^６４ _３－ｂ２Ｓｉ－、又はＲ^６５ _２Ｎ－であり、
　　Ｒ^６１は、２価の有機基であり、
　　Ｒ^６２は、水素原子、又は１価の有機基であり、
　　Ｒ^６３は、２価の有機基であり、
　　Ｒ^６４は、水素原子、又は１価の有機基であり、
　　Ｒ^６５は、２価の有機基であり、
　　ｂ１は、２又は３であり、
　　ｂ２は、２又は３であり、
　Ｘ^１０は、炭素数１１以上のアルキレン基であり、
　Ｘ^１１は、単結合、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ^２－、－ＣＯＮＲ^２－、－ＯＣＯＮＲ^２－、－ＮＲ^２－ＣＯ－ＮＲ^２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｘ－ＣＯＮＲ^２－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｘ－ＣＯ－であり、
　Ｒ^２は、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｘは、１～２０の整数であり、
　Ｘ^１２は、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基である。］
で表される基である、
請求項１～９のいずれか１項に記載の化合物。
　Ｘ^１中のアルキレン基の炭素原子の数は、Ｒ^１中のＳｉ原子の数よりも多い、請求項１に記載の化合物。
　Ｘ^１中のアルキレン基の炭素原子の数は、Ｒ^１中のＳｉ原子の数の２．５倍以上である、請求項１～１１のいずれか１項に記載の化合物。
　Ｘ^１中のアルキレン基の炭素原子の数は、Ｒ^１中の主鎖の原子の数よりも多い、請求項１～１２のいずれか１項に記載の化合物。
　Ｘ^１中のアルキレン基の炭素原子の数は、Ｒ^１中の主鎖の原子の数の２．０倍以上である、請求項１～１３のいずれか１項に記載の化合物。
　Ｒ^Ｓｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、又は（Ｓ４）：

［式中：
　Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ１は、１～３の整数であり；
　Ｒ^ａ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
　Ｚ^１は、それぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^２１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
　Ｒ^２２は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^１’は、それぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^２１’は、それぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
　Ｒ^２２’は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３’は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^１”は、それぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^２２”は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３”は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｑ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｂ１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^ｃ１は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｋ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｄ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
　Ｚ^２は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^３１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
　Ｒ^３２は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｐ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^２’は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^３２’は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３’は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｑ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^３は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^３４は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^３５は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｅ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^ｆ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｋ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり；
　Ｚ^４は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　ただし、式（Ｓ２）、（Ｓ３）、及び（Ｓ４）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。］
で表される基である、請求項１～１４のいずれか１項に記載の化合物。
　下記式（１ａ）：

［式中：
　Ｒ^１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
　Ｘ^２は、炭素数１１以上のアルキレン基であり、
　Ｒ^ｉは、－ＣＯＯＲ^７、－ＣＯＮＲ^８ _２、又は－ＣＯＮＲ^７－ＣＲ^８ _３であり、
　Ｒ^７は、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、
　Ｒ^８は、末端に二重結合を有するＣ_２－６アルケニル基である。］
で表される化合物。
　請求項１～１５のいずれか１項に記載の化合物を含む、表面処理剤。
　さらに請求項１～１５のいずれか１項に記載の化合物の縮合体を含む、請求項１７に記載の表面処理剤。
　さらに、Ｒ^８１ＯＲ^８２、Ｒ^８３ _ｎ８Ｃ_６Ｈ_６－ｎ８、Ｒ^８４Ｒ^８５Ｒ^８６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^８７Ｒ^８８）_ｍ８－Ｒ^８９、及び（ＯＳｉＲ^８７Ｒ^８８）_ｍ９
［式中
　Ｒ^８１～Ｒ^８９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０個の一価の有機基であり、
　ｍ８は、１～６の整数であり、
　ｍ９は、４～８の整数であり、
　ｎ８は、０～６の整数である。］
で表される化合物から選択される溶媒を含む、請求項１７又は１８に記載の表面処理剤。
　前記溶媒は、Ｒ^８４Ｒ^８５Ｒ^８６Ｓｉ－（Ｏ－ＳｉＲ^８７Ｒ^８８）_ｍ８－Ｒ^８９である、請求項１９に記載の表面処理剤。
　前記溶媒は、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、又はデカメチルシクロペンタシロキサンである、請求項１９又は２０に記載の表面処理剤。
　真空蒸着用である、請求項１７～２１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　湿潤被覆用である、請求項１７～２１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　請求項１７～２３のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
　基材と、該基材上に、請求項１～１５のいずれか１項に記載の化合物から形成された層とを含む物品。
　前記基材と前記層との間に酸化ケイ素を含む中間層を含む、請求項２５に記載の物品。
　前記中間層は、アルカリ金属原子を含む、請求項２６に記載の物品。
　前記アルカリ金属原子の少なくとも一部がナトリウム原子である、請求項２７に記載の物品。
　光学部材である、請求項２５～２８のいずれか１項に記載の物品。
　ディスプレイである、請求項２５～２９のいずれか１項に記載の物品。