WO2024014407A1

WO2024014407A1 - 排ガス浄化用触媒組成物、排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化システム

Info

Publication number: WO2024014407A1
Application number: PCT/JP2023/025268
Authority: WO
Inventors: 彰大諌山; 徳也渡邉; 大典岩倉
Original assignee: 三井金属鉱業株式会社
Priority date: 2022-07-13
Filing date: 2023-07-07
Publication date: 2024-01-18
Also published as: WO2024014409A1; JPWO2024014407A1

Abstract

本発明は、Ｐｔを活用しつつ、低温環境下における排ガス浄化性能と、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持する性能とを実現可能な新規技術を提供することを目的とし、Ｐｔ及びＳｒを含む排ガス浄化用触媒組成物であって、Ｓｒの金属換算量が、前記排ガス浄化用触媒組成物の質量を基準として、０．１質量％以上９．０質量％以下である、排ガス浄化用触媒組成物を提供する。

Description

排ガス浄化用触媒組成物、排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化システム

　本発明は、排ガス浄化用触媒組成物、排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化システムに関する。

　自動車、バイク等の内燃機関から排出される排ガス中には、炭化水素（ＨＣ）、一酸化炭素（ＣＯ）、窒素酸化物（ＮＯｘ）等の有害成分が含まれている。これらの有害成分を浄化して無害化する目的で三元触媒が使用されている。三元触媒としては、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の貴金属元素を含む触媒が使用されている。Ｐｔ及びＰｄは主としてＨＣ及びＣＯの酸化浄化に関与し、Ｒｈは主としてＮＯｘの還元浄化に関与する。

　触媒の排ガス浄化性能を改善するために様々な技術が開発されている。例えば、特許文献１には、Ｐｄ及びアルカリ土類金属元素を含む下層と、Ｒｈを含む上層とを備える触媒層を、基材の上流側に設けるとともに、Ｐｔ及びアルカリ土類金属元素を含む下層と、Ｒｈを含む上層とを備える触媒層を、基材の下流側に設ける技術が記載されている。また、特許文献２には、Ｐｄ及びＢａを含む下層と、Ｒｈを含む上層とを備える触媒層を、基材の上流側に設けるとともに、Ｐｔ及びＢａを含む下層と、Ｒｈを含む上層とを備える触媒層を、基材の下流側に設ける技術が記載されている。

特開２０２０－１５７２６３号公報特開２０１６－１８５４９５号公報

　コスト低減の観点から、触媒には、Ｒｈ及びＰｄよりもＰｔの活用が求められる。

　触媒が置かれている環境が内燃機関の始動直後の低温環境である場合、触媒中の触媒活性成分の活性化が不十分であるため、触媒の排ガス浄化性能が不十分である。したがって、触媒には、低温環境下における排ガス浄化性能が求められる。

　触媒にＮＯｘ吸着性能が付与されれば、低温環境下における触媒の排ガス浄化性能が補われる。具体的には、低温環境下において触媒が浄化できなかったＮＯｘが、触媒に吸着され、触媒が置かれている環境が高温環境になるまで触媒に保持され、触媒が置かれている環境が高温環境になった後に（すなわち、触媒中の触媒活性成分が活性化された後に）放出されれば、放出されたＮＯｘは、活性化された触媒活性成分により効果的に浄化されるため、低温環境下における触媒の排ガス浄化性能が補われる。したがって、触媒には、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持する性能が求められる。

　以上のように、触媒には、Ｐｔを活用しつつ、低温環境下における排ガス浄化性能と、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持する性能とを実現することが求められる。

　そこで、本発明は、Ｐｔを活用しつつ、低温環境下における排ガス浄化性能と、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持する性能とを実現可能な新規技術を提供することを目的とする。

　本明細書において、「低温」とは、好ましくは３７０℃以下、より好ましくは３５０℃以下、より一層好ましくは３３０℃以下の温度を意味する。

　本明細書において、「高温」とは、好ましくは５００℃超、より好ましくは５２０℃以上、より一層好ましくは５４０℃以上の温度を意味する。

　本発明者らは、Ｐｔを含む触媒層にＢａ又はＭｇを添加した場合には、低温環境下における排ガス浄化性能と、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持する性能とを実現できないこと、並びに、Ｐｔを含む触媒層にＳｒを添加した場合には、低温環境下における排ガス浄化性能と、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持する性能とを実現できるが、Ｐｔを含む触媒層に添加されるＳｒの量が多すぎると、低温環境下における排ガス浄化性能が却って低下することを見出し、本発明を完成させるに至った。

　本発明は、以下の発明を包含する。
［１］Ｐｔ及びＳｒを含む排ガス浄化用触媒組成物であって、Ｓｒの金属換算量が、前記排ガス浄化用触媒組成物の質量を基準として、０．１質量％以上９．０質量％以下である、排ガス浄化用触媒組成物。
［２］Ｓｒ以外のアルカリ土類金属元素の金属換算量が、前記排ガス浄化用触媒組成物の質量を基準として、４．０質量％以下である、［１］に記載の排ガス浄化用触媒組成物。
［３］Ｓｒが、ＳｒＯ及びＳｒＣＯ_３から選択される１種又は２種の形態で存在している、［１］又は［２］に記載の排ガス浄化用触媒組成物。
［４］前記排ガス浄化用触媒組成物が、Ｌａを含む修飾アルミナを含み、前記修飾アルミナに由来するＬａのＬａ_２Ｏ_３換算量が、前記排ガス浄化用触媒組成物の質量を基準として、０．２０質量％以上５．０質量％以下である、［１］～［３］のいずれかに記載の排ガス浄化用触媒組成物。
［５］基材と、前記基材に設けられた第１触媒層とを備える排ガス浄化用触媒であって、前記第１触媒層が、［１］～［４］のいずれかに記載の排ガス浄化用触媒組成物で構成されている、排ガス浄化用触媒。
［６］前記排ガス浄化用触媒が、前記基材に設けられた第２及び／又は第３触媒層をさらに備え、前記第２触媒層が、前記第１触媒層の上側に設けられており、前記第３触媒層が、前記第１触媒層の上流側に設けられている、［５］に記載の排ガス浄化用触媒。
［７］前記第２及び／又は第３触媒層が、Ｒｈを含む、［６］に記載の排ガス浄化用触媒。
［８］前記第２触媒層におけるアルカリ土類金属元素の金属換算量が、前記第２触媒層の質量を基準として、５．０質量％以下であり、前記第３触媒層におけるアルカリ土類金属元素の金属換算量が、前記第３触媒層の質量を基準として、５．０質量％以下である、［６］又は［７］に記載の排ガス浄化用触媒。
［９］排ガスが流通する排気通路と、前記排気通路内の下流側に設けられた第１排ガス浄化用触媒と、前記排気通路内の上流側に設けられた第２排ガス浄化用触媒と、を備える、排ガス浄化システムであって、
　前記第１排ガス浄化用触媒が、第１基材と、前記第１基材に設けられた触媒層とを備え、
　前記第１基材に設けられた前記触媒層が、［１］～［４］のいずれかに記載の排ガス浄化用触媒組成物で構成されている、排ガス浄化システム。
［１０］前記第２排ガス浄化用触媒が、第２基材と、前記第２基材に設けられた触媒層とを備える、［９］に記載の排ガス浄化システム。
［１１］前記第２基材に設けられた前記触媒層が、Ｒｈを含む、［１０］に記載の排ガス浄化システム。
［１２］前記第２基材に設けられた前記触媒層におけるアルカリ土類金属元素の金属換算量が、前記第２基材に設けられた前記触媒層の質量を基準として、５．０質量％以下である、［１０］又は［１１］に記載の排ガス浄化システム。

　本発明によれば、Ｐｔを活用しつつ、低温環境下における排ガス浄化性能と、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持する性能とを実現可能な新規技術が提供される。

図１は、本発明の第１実施形態に係る排ガス浄化用触媒が内燃機関の排気経路に配置されている状態を示す一部端面図である図２は、図１のＡ－Ａ線端面図である。図３は、図２中の符号Ｒで示す領域の拡大図である。図４は、図１のＢ－Ｂ線端面図である。図５は、本発明の第２実施形態に係る排ガス浄化用触媒の端面図（図４に対応する端面図）である。図６は、本発明の第３実施形態に係る排ガス浄化用触媒の端面図（図４に対応する端面図）である。図７は、本発明の一実施形態に係る排ガス浄化システムの平面図である。図８は、図７のＤ－Ｄ線端面図である。

≪用語の説明≫
　本明細書において、「アルカリ土類金属元素」は、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ及びＲａから選択される元素を意味する。

≪排ガス浄化用触媒組成物≫
　以下、本発明の排ガス浄化用触媒組成物について説明する。なお、本明細書において、「排ガス浄化用触媒組成物」を「触媒組成物」という場合がある。

　本発明の触媒組成物の形態は、例えば、粉末状、成形体状、層状等である。

　本発明の触媒組成物は、Ｐｔを含む。

　Ｐｔは、触媒活性成分として機能し得る形態、例えば、金属Ｐｔ、Ｐｔを含む合金、Ｐｔを含む化合物（例えば、Ｐｔの酸化物）等の、Ｐｔを含む触媒活性成分の形態で本発明の触媒組成物に含まれる。排ガス浄化性能を向上させる観点から、Ｐｔを含む触媒活性成分は、粒子状であることが好ましい。

　排ガス浄化性能とコストとをバランスよく実現する観点から、本発明の触媒組成物におけるＰｔの金属換算量は、本発明の触媒組成物の質量を基準として、好ましくは０．０５０質量％以上５．０質量％以下、より好ましくは０．１０質量％以上３．０質量％以下、より一層好ましくは０．３０質量％以上１．０質量％以下である。

　本明細書において、「触媒組成物の質量」は、触媒組成物に含まれる全ての金属元素のうち、貴金属元素については金属換算の質量を、貴金属元素以外の金属元素については酸化物換算の質量を求め、これらを合計したものを意味する。すなわち、「触媒組成物の質量」は、触媒組成物に含まれる貴金属元素の金属換算の質量と、触媒組成物に含まれる貴金属元素以外の金属元素の酸化物換算の質量とを合計することにより求められた計算質量を意味する。なお、「金属元素」には、Ｓｉ、Ｂ等の半金属元素も包含される。

　本明細書において、「貴金属元素」には、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ａｕ、Ａｇ、Ｒｕ、Ｉｒ及びＯｓが包含される。

　本明細書において、Ａｌの酸化物はＡｌ_２Ｏ_３、Ｓｉの酸化物はＳｉＯ_２、Ｂの酸化物はＢ_２Ｏ_３、Ｚｒの酸化物はＺｒＯ_２、Ｂｅの酸化物はＢｅＯ、Ｍｇの酸化物はＭｇＯ、Ｃａの酸化物はＣａＯ、Ｓｒの酸化物はＳｒＯ、Ｂａの酸化物はＢａＯ、Ｒａの酸化物はＲａＯ、Ｔｉの酸化物はＴｉＯ_２、Ｎｉの酸化物はＮｉＯ、Ｐの酸化物はＰ_２Ｏ_５を意味する。希土類元素の酸化物は、Ｃｅ、Ｐｒ及びＴｂの酸化物を除いてセスキ酸化物（Ｌｎ_２Ｏ_３）を意味し、Ｃｅの酸化物はＣｅＯ_２、Ｐｒの酸化物はＰｒ_６Ｏ_１１、Ｔｂの酸化物はＴｂ_４Ｏ_７を意味する。

　本発明の触媒組成物の製造に使用される原料の組成が判明している場合、本発明の触媒組成物におけるＰｔの金属換算量は、本発明の触媒組成物の製造に使用される原料の組成から求めることができる。

　本発明の触媒組成物の製造に使用される原料の組成が判明していない場合、本発明の触媒組成物におけるＰｔの金属換算量は、走査型電子顕微鏡－エネルギー分散型Ｘ線分析法（ＳＥＭ－ＥＤＸ）等の常法により測定することができる。具体的には、下記の通りである。

　本発明の触媒組成物から得られた試料について、ＳＥＭ－ＥＤＸ等の常法を用いて元素分析を行い、試料全体の構成元素の種類を特定するとともに、所定元素の金属換算量（質量％）を求める。ＳＥＭの１０視野の各々について、所定元素の金属換算量（質量％）を求め、１０視野における所定元素の金属換算量（質量％）の平均値を、本発明の触媒組成物における所定元素の金属換算量（質量％）とする。

　本発明の触媒組成物は、Ｐｔ以外の貴金属元素を含んでいてもよい。Ｐｔ元素以外の貴金属元素としては、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｏｓ等が挙げられる。Ｐｔ以外の貴金属元素は、触媒活性成分として機能し得る形態、例えば、金属、貴金属元素を含む合金、貴金属元素を含む化合物（例えば、貴金属元素の酸化物）等の、Ｐｔ以外の貴金属元素を含む触媒活性成分の形態で本発明の触媒組成物に含まれる。排ガス浄化性能を向上させる観点から、Ｐｔ以外の貴金属元素を含む触媒活性成分は、粒子状であることが好ましい。

　本発明の触媒組成物がＰｔとＰｔ以外の貴金属元素とを含む場合、ＰｔとＰｔ以外の貴金属元素とが合金を形成し、排ガス浄化性能に関与するＰｔの活性点が減少するおそれがある。したがって、本発明の触媒組成物は、Ｐｔ以外の貴金属元素を実質的に含まないことが好ましい。「Ｐｔ以外の貴金属元素を実質的に含まない」とは、本発明の触媒組成物におけるＰｔ以外の貴金属元素の金属換算量が、本発明の触媒組成物の質量を基準として、好ましくは０．０５０質量％以下、より好ましくは０．０１０質量％以下であることを意味する。下限はゼロである。「本発明の触媒組成物におけるＰｔ以外の貴金属元素の金属換算量」は、本発明の触媒組成物がＰｔ以外の１種の貴金属元素を含む場合には、当該１種の貴金属元素の金属換算量を意味し、本発明の触媒組成物がＰｔ以外の２種以上の貴金属元素を含む場合には、当該２種以上の貴金属元素の金属換算量の合計を意味する。本発明の触媒組成物におけるＰｔ以外の貴金属元素の金属換算量は、本発明の触媒組成物におけるＰｔの金属換算量と同様にして測定することができる。

　本発明の触媒組成物は、Ｓｒを含む。

　本発明の触媒組成物がＰｔに加えてＳｒを含むことにより、Ｐｔを活用しつつ、低温環境下における排ガス浄化性能と、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持する性能とを実現することができる。

　これらの効果には、Ｓｒの質量当たりの塩基点の量及びＳｒの塩基点の強度が関与している。質量当たりの塩基点の量はＮＯｘ吸着量に、塩基点の強度はＮＯｘ吸着力に関与している（すなわち、ある元素に関して、当該元素の質量当たりの塩基点の量が多いほど、当該元素のＮＯｘ吸着量が大きく、当該元素の塩基点の強度が大きいほど、当該元素のＮＯｘ吸着力が大きい）。Ｂａ及びＭｇは、質量当たりの塩基点の量及び／又は塩基点の強度が十分でない（ＮＯｘ吸着量及び／又はＮＯｘ吸着力が十分でない）ため、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持することができない。これに対して、Ｓｒは、質量当たりの塩基点の量及びＳｒの塩基点の強度が十分であるため、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持することができる。これにより、低温環境下において浄化されなかったＮＯｘは、Ｓｒに吸着され、触媒活性成分（例えば、本発明の触媒組成物中のＰｔが挙げられるが、これに限定されない）が置かれている環境が高温環境になるまでＳｒに保持され、触媒活性成分が置かれている環境が高温環境になった後に（すなわち、触媒活性成分が活性化された後に）放出される。放出されたＮＯｘは、活性化された触媒活性成分により効果的に浄化される。このように、Ｓｒは、低温環境下における触媒活性成分の排ガス浄化性能を補うことができる。

　本発明の触媒組成物におけるＳｒの金属換算量が少なすぎると、Ｓｒによる効果が十分に発揮されない。一方、本発明の触媒組成物におけるＳｒの金属換算量が多すぎると、低温環境下におけるＰｔの排ガス浄化性能が却って低下する。Ｐｔの排ガス浄化性能の低下には、ＳｒがＰｔの酸化状態を安定化させ、Ｐｔを不活性化させることが関与していると考えられる。したがって、本発明の触媒組成物におけるＳｒの金属換算量は、本発明の触媒組成物の質量を基準として、好ましくは０．１質量％以上９．０質量％以下、より好ましくは０．５質量％以上７．０質量％以下、より一層好ましくは１．０質量％以上５．０質量％以下である。本発明の触媒組成物におけるＳｒの金属換算量は、本発明の触媒組成物におけるＰｔの金属換算量と同様にして測定することができる。

　本発明の触媒組成物は、１種又は２種以上のＳｒ源を含む。Ｓｒ源は、Ｓｒを含む化合物である限り特に限定されない。

　Ｐｔを活用しつつ、低温環境下における排ガス浄化性能と、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持する性能とをより効果的に実現する観点から、Ｓｒ源は、ＳｒＯ、ＳｒＣＯ_３及びＳｒ（ＮＯ_３）_２から選択される１種又は２種以上であることが好ましく、ＳｒＯ及びＳｒＣＯ_３から選択される１種又は２種であることがより好ましい。すなわち、本発明の触媒組成物において、Ｓｒは、ＳｒＯ、ＳｒＣＯ_３及びＳｒ（ＮＯ_３）_２から選択される１種又は２種以上の形態で存在していることが好ましく、ＳｒＯ及びＳｒＣＯ_３から選択される１種又は２種の形態で存在していることがより好ましい。

　本発明の触媒組成物を製造する際、原料として使用され得るＳｒ（ＮＯ_３）_２は、焼成により、ＳｒＯに変換される。

　本発明の触媒組成物は、Ｓｒ以外の１種又は２種以上のアルカリ土類金属元素を含んでいてもよい。Ｓｒ以外のアルカリ土類金属元素は、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ及びＲａから選択される。

　Ｐｔを活用しつつ、低温環境下における排ガス浄化性能と、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持する性能とをより効果的に実現する観点から、本発明の触媒組成物におけるＳｒ以外のアルカリ土類金属元素の金属換算量は、本発明の触媒組成物の質量を基準として、好ましくは４．０質量％以下、より好ましくは２．０質量％以下、より一層好ましくは１．０質量％以下である。下限はゼロである。「本発明の触媒組成物におけるＳｒ以外のアルカリ土類金属元素の金属換算量」は、本発明の触媒組成物がＳｒ以外の１種のアルカリ土類金属元素を含む場合には、当該１種のアルカリ土類金属元素の金属換算量を意味し、本発明の触媒組成物がＳｒ以外の２種以上のアルカリ土類金属元素を含む場合には、当該２種以上のアルカリ土類金属元素の金属換算量の合計を意味する。本発明の触媒組成物におけるＳｒ以外のアルカリ土類金属元素の金属換算量は、本発明の触媒組成物におけるＰｔの金属換算量と同様にして測定することができる。

　Ｓｒ以外のアルカリ土類金属元素の存在形態は特に限定されない。本発明の触媒組成物において、Ｓｒ以外のアルカリ土類金属元素は、例えば、酸化物、炭酸塩、硝酸塩及び硫酸塩から選択される１種又は２種以上の形態で存在し得る。

　本発明の触媒組成物は、１種又は２種以上の担体を含んでいてもよい。本発明の触媒組成物が担体を含む場合、触媒活性成分の少なくとも一部は担体に担持されていることが好ましい。「触媒活性成分の少なくとも一部が担体に担持されている」は、触媒活性成分の少なくとも一部が担体の外表面及び／又は細孔内表面に物理的及び／又は化学的に吸着及び／又は保持されている状態を意味する。触媒活性成分の少なくとも一部が担体に担持されていることは、例えば、ＳＥＭ－ＥＤＸ等を使用して確認することができる。具体的には、触媒組成物をＳＥＭ－ＥＤＸで分析して得られた元素マッピングにおいて、触媒活性成分の少なくとも一部と担体とが同じ領域に存在している場合、触媒活性成分の少なくとも一部が担体に担持されていると判断することができる。

　担体としては、例えば、無機酸化物等が挙げられる。本明細書において、「無機酸化物」は、別段規定される場合を除き、アルカリ土類金属元素の酸化物（すなわち、ＢｅＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＲａＯ）以外の無機酸化物を意味する。

　無機酸化物は、例えば、粒子状である。触媒活性成分を担持させやすい観点から、無機酸化物は、多孔質であることが好ましい。無機酸化物は、酸素貯蔵能（ＯＳＣ：Ｏｘｙｇｅｎ　Ｓｔｏｒａｇｅ　Ｃａｐａｃｉｔｙ）を有していてもよいし、有していなくてもよい。本明細書において、ＯＳＣを有する無機酸化物を「ＯＳＣ材料」という場合がある。担体として使用される無機酸化物は、バインダとして使用される無機酸化物（例えば、アルミナバインダ、ジルコニアバインダ、チタニアバインダ、シリカバインダ等の無機酸化物系バインダ）とは区別される。

　無機酸化物としては、例えば、Ａｌ系酸化物、Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物、希土類元素の酸化物（例えば、Ｙ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２等）、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、ＮｉＯ等が挙げられる。

　本明細書において、Ｃｅ、Ｚｒ及びＡｌを含む酸化物は、ＣｅのＣｅＯ_２換算量がＡｌのＡｌ_２Ｏ_３換算量と同じであるか又はＡｌのＡｌ_２Ｏ_３換算量よりも大きい場合は、Ｃｅ－Ｚｒ系酸化物に該当するものとし、ＣｅのＣｅＯ_２換算量がＡｌのＡｌ_２Ｏ_３換算量よりも小さい場合は、Ａｌ系酸化物に該当するものとする。

　Ａｌ系酸化物は、一般的に、その他の無機酸化物（例えば、Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物）よりも、耐熱性が高い。したがって、本発明の触媒組成物がＡｌ系酸化物を含むことにより、本発明の触媒組成物の耐熱性が向上し、これにより本発明の触媒組成物の排ガス浄化性能が向上する。

　Ａｌ系酸化物は、Ａｌ及びＯを含む。Ａｌ系酸化物としては、例えば、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）、修飾アルミナ等が挙げられる。Ａｌ系酸化物は、バインダとして使用されるアルミナ（本明細書において「アルミナバインダ」という場合がある。）とは区別される。アルミナバインダは、触媒組成物の原料として使用されるアルミナゾルに由来する。修飾アルミナは、Ａｌ及びＯ以外の１種又は２種以上の元素を含む。修飾アルミナとしては、例えば、アルミナの表面をＡｌ及びＯ以外の元素で修飾して得られる酸化物、アルミナ中にＡｌ及びＯ以外の元素を固溶して得られる酸化物等が挙げられる。Ａｌ系酸化物において、Ａｌ及びＯ以外の元素は、Ａｌ及びＯとともに固溶体相を形成していてもよいし、結晶相又は非晶質相である単独相（例えば、Ａｌ及びＯ以外の元素の酸化物相）を形成していてもよいし、固溶体相及び単独相の両方を形成していてもよい。

　耐熱性を向上させる観点から、Ａｌ系酸化物におけるＡｌのＡｌ_２Ｏ_３換算量は、Ａｌ系酸化物の質量を基準として、好ましくは９０質量％以上、より好ましくは９５質量％以上、より一層好ましくは９８質量％以上である。上限は１００質量％である。

　本発明の触媒組成物の製造に使用される原料の組成が判明している場合、Ａｌ系酸化物におけるＡｌのＡｌ_２Ｏ_３換算量は、本発明の触媒組成物の製造に使用される原料の組成から求めることができる。

　本発明の触媒組成物の製造に使用される原料の組成が判明していない場合、Ａｌ系酸化物におけるＡｌのＡｌ_２Ｏ_３換算量は、本発明の触媒組成物から得られた試料をエネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＸ）で分析し、得られた元素マッピングと、指定した粒子のＥＤＸ元素分析とから測定することができる。具体的には、元素マッピングにより定性的にＡｌ系酸化物粒子及びその他の粒子（例えば、Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物粒子）を識別（色分け）し、指定した粒子に対して組成分析（元素分析）することにより、指定した粒子における所定元素の酸化物換算量を測定することができる。

　耐熱性を向上させる観点から、本発明の触媒組成物におけるＡｌ系酸化物の量は、本発明の触媒組成物の質量を基準として、好ましくは１０質量％以上９５質量％以下、より好ましくは２０質量％以上９０質量％以下、より一層好ましくは３０質量％以上８０質量％以下である。

　本発明の触媒組成物の製造に使用される原料の組成が判明している場合、本発明の触媒組成物におけるＡｌ系酸化物の量は、本発明の触媒組成物の製造に使用される原料の組成から求めることができる。

　本発明の触媒組成物の製造に使用される原料の組成が判明していない場合、本発明の触媒組成物におけるＡｌ系酸化物の量は、ＳＥＭ－ＥＤＸ等の常法により測定することができる。具体的には、下記の通りである。

（Ａ）本発明の触媒組成物から得られた試料について、ＳＥＭ－ＥＤＸ等の常法を用いて元素分析を行い、試料全体の構成元素の種類を特定するとともに、所定元素の酸化物換算量（質量％）を求める。
（Ｂ）本発明の触媒組成物から得られた試料について、ＳＥＭ－ＥＤＸ等の常法を用いて元素マッピングを行い、試料に含まれる粒子の種類（例えば、Ａｌ系酸化物粒子、Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物粒子及び場合によりその他の粒子）を特定する。
（Ｃ）各種類の粒子について、任意に選択された複数個（例えば５０個）の粒子をＳＥＭ－ＥＤＸにて元素分析し、粒子の構成元素の種類を特定するとともに、所定元素の酸化物換算量（質量％）を求める。各種類の粒子について、所定元素の酸化物換算量（質量％）の平均値を求め、これを、各種類の粒子における所定元素の酸化物換算量（質量％）とする。
（Ｄ）試料における所定元素の酸化物換算量（質量％）と、各種類の粒子における所定元素の酸化物換算量（質量％）と、試料における各種類の粒子の量（質量％）との関係を表す方程式を作成して解くことにより、試料における各種類の粒子の量（質量％）を算出し、これを、本発明の触媒組成物における各種類の粒子の量（質量％）とする。

　修飾アルミナに含まれるＡｌ及びＯ以外の元素は、例えば、Ｌａ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｂａ、Ｍｇ、Ｐ、Ｎｉ等から選択することができるが、耐熱性を向上させる観点から、Ｌａであることが好ましい。

　耐熱性を向上させる観点から、修飾アルミナにおけるＬａのＬａ_２Ｏ_３換算量は、修飾アルミナの質量を基準として、好ましくは０．１０質量％以上２０質量％以下、より好ましくは０．５０質量％以上１５質量％以下、より一層好ましくは１．０質量％以上１０質量％以下である。修飾アルミナにおけるＬａのＬａ_２Ｏ_３換算量は、Ａｌ系酸化物におけるＡｌのＡｌ_２Ｏ_３換算量と同様にして測定することができる。

　耐熱性を向上させる観点から、本発明の触媒組成物は、Ｌａを含む修飾アルミナを含むことが好ましい。耐熱性を向上させる観点から、修飾アルミナに由来するＬａのＬａ_２Ｏ_３換算量は、本発明の触媒組成物の質量を基準として、好ましくは０．２０質量％以上５．０質量％以下、より好ましくは０．３０質量％以上３．０質量％以下である。修飾アルミナに由来するＬａのＬａ_２Ｏ_３換算量は、本発明の触媒組成物における修飾アルミナの量と、修飾アルミナにおけるＬａのＬａ_２Ｏ_３換算量とから求めることができる。

　Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物は、酸素貯蔵能（すなわち、排ガス中の酸素濃度が高い時には酸素を吸蔵し、排ガス中の酸素濃度が低い時には酸素を放出する能力）を有し、排ガス中の酸素濃度の変動を緩和して触媒活性成分の作動ウインドウを拡大する。したがって、本発明の触媒組成物がＣｅ－Ｚｒ系複合酸化物を含むことにより、本発明の触媒組成物の排ガス浄化能が向上する。特に、本発明の触媒組成物をガソリンエンジンの排ガスを浄化するための三元触媒として使用する場合、本発明の触媒組成物がＣｅ－Ｚｒ系複合酸化物を含むことにより、Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物による酸素濃度の制御と、本発明の触媒組成物中のＳｒによるＮＯｘ濃度の制御とが行われる。これにより、排ガスの雰囲気が、本発明の触媒組成物中のＰｔが触媒活性を発揮するのに好ましいものとなり、Ｐｔの浄化性能がより向上する。なお、ディーゼルエンジンの排ガスを浄化するための触媒には、通常、Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物等の酸素貯蔵能を有する材料は含まれない。ディーゼルエンジンでは、吸入空気過剰の希薄域で燃焼することで排ガス中の酸素濃度が著しく高くなるため、排ガス中の酸素量が、Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物等が貯蔵できる量を大きく超えてしまうためである。

　Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物は、Ｃｅ、Ｚｒ及びＯを含む。Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物において、Ｃｅ、Ｚｒ及びＯは、固溶体相を形成していることが好ましい。Ｃｅ、Ｚｒ及びＯは、固溶体相に加えて、結晶相又は非晶質相である単独相（ＣｅＯ_２相、ＺｒＯ_２相等）を形成していてもよい。Ｃｅ、Ｚｒ及びＯが固溶体を形成していることは、ＳＥＭ－ＥＤＸ等を使用して確認することができる。

　酸素貯蔵能を向上させる観点から、Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物におけるＣｅのＣｅＯ_２換算量は、Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物の質量を基準として、好ましくは５．０質量％以上８０質量％以下、より好ましくは１０質量％以上６０質量％以下、より一層好ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物におけるＣｅのＣｅＯ_２換算量は、Ａｌ系酸化物におけるＡｌのＡｌ_２Ｏ_３換算量と同様にして測定することができる。

　耐熱性を向上させる観点から、Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物におけるＺｒのＺｒＯ_２換算量は、Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物の質量を基準として、好ましくは１０質量％以上９０質量％以下、より好ましくは３０質量％以上８０質量％以下、より一層好ましくは４０質量％以上７０質量％以下である。Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物におけるＺｒのＺｒＯ_２換算量は、Ａｌ系酸化物におけるＡｌのＡｌ_２Ｏ_３換算量と同様にして測定することができる。

　酸素貯蔵能及び耐熱性を向上させる観点から、Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物におけるＣｅのＣｅＯ_２換算量及びＺｒのＺｒＯ_２換算量の合計は、Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物の質量を基準として、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは８０質量％以上、より一層好ましくは９０質量％以上である。上限は１００質量％である。

　Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物は、Ｃｅ及びＺｒ以外の１種又は２種以上の金属元素を含んでいてもよい。Ｃｅ及びＺｒ以外の金属元素としては、例えば、Ｃｅ以外の希土類元素等が挙げられる。Ｃｅ以外の希土類元素としては、例えば、Ｙ、Ｐｒ、Ｓｃ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ等が挙げられる。Ｃｅ及びＺｒ以外の金属元素は、Ｃｅ、Ｚｒ及びＯとともに、固溶体相を形成していてもよいし、結晶相又は非晶質相である単独相を形成していてもよいし、固溶体相及び単独相の両方を形成していてもよい。

　酸素貯蔵能及び耐熱性を向上させる観点から、本発明の触媒組成物におけるＣｅ－Ｚｒ系複合酸化物の量は、本発明の触媒組成物の質量を基準として、好ましくは１０質量％以上９０質量％以下、より好ましくは２０質量％以上７０質量％以下、より一層好ましくは３０質量％以上５０質量％以下である。本発明の触媒組成物におけるＣｅ－Ｚｒ系複合酸化物の量は、本発明の触媒組成物におけるＡｌ系酸化物の量と同様にして測定することができる。

　貴金属分散性、酸素貯蔵能及び耐熱性を向上させる観点から、本発明の触媒組成物におけるＡｌ系酸化物及びＣｅ－Ｚｒ系複合酸化物以外の無機酸化物の量は、本発明の触媒組成物の質量を基準として、好ましくは１．０質量％以上５０質量％以下、より好ましくは２．０質量％以上３０質量％以下、より一層好ましくは５．０質量％以上２０質量％以下である。「本発明の触媒組成物におけるＡｌ系酸化物及びＣｅ－Ｚｒ系複合酸化物以外の無機酸化物の量」は、本発明の触媒組成物がＡｌ系酸化物及びＣｅ－Ｚｒ系複合酸化物以外の１種の無機酸化物を含む場合には、当該１種の無機酸化物の量を意味し、本発明の触媒組成物がＡｌ系酸化物及びＣｅ－Ｚｒ系複合酸化物以外の２種以上の無機酸化物を含む場合には、当該２種以上の無機酸化物の合計量を意味する。本発明の触媒組成物におけるＡｌ系酸化物及びＣｅ－Ｚｒ系複合酸化物以外の無機酸化物の量は、本発明の触媒組成物におけるＡｌ系酸化物の量と同様にして測定することができる。

　Ａ／Ｆ変動を効果的に抑制する観点から、本発明の触媒組成物におけるＣｅのＣｅＯ_２換算量は、本発明の触媒組成物の質量を基準として、好ましくは１質量％以上、より好ましくは１０質量％以上、より一層好ましくは１３質量％以上である。Ｐｔの酸化を抑制する観点から、本発明の触媒組成物におけるＣｅのＣｅＯ_２換算量は、本発明の触媒組成物の質量を基準として、好ましくは５０質量％以下、より好ましくは４０質量％以下、より一層好ましくは３０質量％以下である。これらの上限はそれぞれ、上述の下限のいずれと組み合わせてもよい。「本発明の触媒組成物におけるＣｅのＣｅＯ_２換算量」は、本発明の触媒組成物が１種のＣｅ源を含む場合には、当該１種のＣｅ源に由来するＣｅのＣｅＯ_２換算量を意味し、本発明の触媒組成物が２種以上のＣｅ源を含む場合には、当該２種以上のＣｅ源に由来するＣｅのＣｅＯ_２換算量の合計を意味する。Ｃｅ源は、Ｃｅを含む酸化物である限り特に限定されない。Ｃｅ源としては、例えば、Ｃｅ－Ｚｒ系複合酸化物、セリア（ＣｅＯ_２）、ＣｅとＣｅ以外の希土類元素とを含む酸化物、Ｃｅを含むＡｌ系酸化物等が挙げられる。本発明の触媒組成物の製造に使用される原料の組成が判明している場合、本発明の触媒組成物におけるＣｅのＣｅＯ_２換算量は、本発明の触媒組成物の製造に使用される原料の組成から求めることができる。本発明の触媒組成物の製造に使用される原料の組成が判明していない場合、本発明の触媒組成物におけるＣｅのＣｅＯ_２換算量は、誘導結合プラズマ発光分光分析法（ＩＣＰ）、蛍光Ｘ線分析法（ＸＲＦ）、ＳＥＭ－ＥＤＸ等の常法により測定することができる。

　本発明の触媒組成物は、例えば、Ｐｔの供給源、Ｓｒの供給源及びその他の成分（例えば、無機酸化物、バインダ、溶媒等）を混合した後、乾燥し、焼成することにより製造することができる。焼成物は、必要に応じて粉砕してもよい。粉砕は、例えば、乳鉢、ハンマーミル、ボールミル、ビーズミル、ジェットミル、ローラーミル等を使用して、乾式又は湿式にて行うことができる。Ｐｔの供給源としては、例えば、Ｐｔ塩が挙げられ、Ｐｔ塩としては、例えば、硝酸塩、アンミン錯体塩、酢酸塩、塩化物等が挙げられる。Ｓｒの供給源としては、例えば、Ｓｒ塩が挙げられ、Ｓｒ塩としては、例えば、硝酸塩、酢酸塩、炭酸塩、塩化物等が挙げられる。バインダとしては、例えば、アルミナゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル、シリカゾル、セリアゾル等が挙げられる。溶媒としては、例えば、水、有機溶媒等が挙げられる。乾燥温度は、例えば７０℃以上１５０℃以下であり、乾燥時間は、例えば５分以上１時間以下である。焼成温度は、例えば２００℃以上７００℃以下であり、焼成時間は、例えば０．５時間以上５時間以下である。焼成は、例えば、大気雰囲気下で行うことができる。

≪排ガス浄化用触媒≫
　以下、本発明の排ガス浄化用触媒について説明する。

＜第１実施形態＞
　以下、図１～４に基づいて、本発明の第１実施形態に係る排ガス浄化用触媒１Ａ（本明細書において「触媒１Ａ」という場合がある。）について説明する。

　図１に示すように、触媒１Ａは、内燃機関の排気管Ｐ内の排気通路に配置されている。内燃機関は、例えば、ガソリンエンジン等である。内燃機関から排出された排ガスは、排気管Ｐの一端から他端に向けて排気管Ｐ内の排気通路を流通し、排気管Ｐ内に設けられた触媒１Ａで浄化される。図面において、排ガス流通方向は、符号Ｘで示されている。本明細書において、排ガス流通方向Ｘの上流側を「排ガス流入側」又は「上流側」、排ガス流通方向Ｘの下流側を「排ガス流出側」又は「下流側」という場合がある。

　排気管Ｐ内の排気通路には、触媒１Ａの上流側又は下流側に、その他の排ガス浄化用触媒が配置されていてもよい。その他の排ガス浄化用触媒としては、例えば、後述する排ガス浄化用触媒１Ｂ、排ガス浄化用触媒１Ｃ等が挙げられる。

　図２～４に示すように、触媒１Ａは、基材１０と、基材１０に設けられた第１触媒層２０及び第２触媒層３０とを備える。

　第２触媒層３０は必要に応じて設けられる層であり、本発明には、触媒１Ａから第２触媒層３０が省略された実施形態も包含される。但し、排ガス浄化性能を向上させる観点から、第２触媒層３０が設けられていることが好ましい。

　基材１０を構成する材料は、公知の材料から適宜選択することができる。基材１０を構成する材料としては、例えば、セラミックス材料、金属材料等が挙げられるが、セラミックス材料が好ましい。セラミックス材料としては、例えば、炭化ケイ素、炭化チタン、炭化タンタル、炭化タングステン等の炭化物セラミックス、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化チタン等の窒化物セラミックス、アルミナ、ジルコニア、コージェライト、ムライト、ジルコン、チタン酸アルミニウム、チタン酸マグネシウム等の酸化物セラミックス等が挙げられる。金属材料としては、例えば、ステンレス鋼等の合金等が挙げられる。

　図２～４に示すように、基材１０は、筒状部１１と、筒状部１１内に設けられた隔壁部１２と、隔壁部１２によって仕切られたセル１３とを有する。基材１０は、ハニカム構造体であることが好ましい。

　図２に示すように、筒状部１１は、基材１０の外形を規定し、筒状部１１の軸方向は、基材１０の軸方向と一致する。図２に示すように、筒状部１１の形状は、円筒状であるが、楕円筒状、多角筒状等のその他の形状であってもよい。

　図２及び３に示すように、隔壁部１２は、筒状部１１内に設けられている。図２～４に示すように、隣接するセル１３の間には隔壁部１２が存在し、隣接するセル１３は隔壁部１２によって仕切られている。隔壁部１２は、排ガスが通過可能な多孔質構造を有していてもよい。隔壁部１２の厚みは、例えば２０μｍ以上１５００μｍ以下である。

　図４に示すように、セル１３は、排ガス流通方向Ｘに延在しており、排ガス流入側の端部及び排ガス流出側の端部を有する。

　図４に示すように、セル１３の排ガス流入側の端部及び排ガス流出側の端部はともに開口している。したがって、セル１３の排ガス流入側の端部（開口部）から流入した排ガスは、セル１３の排ガス流出側の端部（開口部）から流出する。このような様式は、フロースルー型と呼ばれる。

　図２及び３に示すように、セル１３の排ガス流入側の端部（開口部）の平面視形状は、四角形であるが、六角形、八角形等のその他の形状であってもよい。セル１３の排ガス流出側の端部（開口部）の平面視形状も同様である。

　基材１０の１平方インチあたりのセル密度は、例えば１００セル以上１２００セル以下である。なお、基材１０の１平方インチあたりのセル密度は、基材１０を排ガス流通方向Ｘと垂直な平面で切断して得られた断面における１平方インチあたりのセル１３の合計個数である。

　基材１０の体積は、例えば０．１Ｌ以上２０Ｌ以下である。基材１０の体積は、基材１０の見かけの体積を意味する。基材１０が円柱状である場合、基材１０の外径を２ｒとし、基材１０の長さをＬ_１０とすると、基材１０の体積は、式：基材１０の体積＝π×ｒ^２×Ｌ_１０で表される。

　図４に示すように、第１触媒層２０は、基材１０の隔壁部１２の表面上に設けられている。なお、隔壁部１２の表面は、排ガス流通方向Ｘに延在する、隔壁部１２の外表面を意味する。第１触媒層２０は、隔壁部１２の表面上に直接設けられていてもよいし、他の層を介して隔壁部１２の表面上に設けられていてもよい。

　図４に示すように、第１触媒層２０は、隔壁部１２の表面からセル１３側に***している部分（以下「***部分」という。）を有する。第１触媒層２０は、***部分のみで構成されていてもよいし、***部分とともに、隔壁部１２の内部に存在する部分（以下「内在部分」という。）を有していてもよい。また、第１触媒層２０は、内在部分のみで構成されていてもよい。「基材１０に設けられた第１触媒層２０」には、第１触媒層２０が***部分のみで構成されている実施形態、第１触媒層２０が内在部分のみで構成されている実施形態、並びに、第１触媒層２０が***部分及び内在部分を有する実施形態のいずれもが包含される。

　図４に示すように、第１触媒層２０は、隔壁部１２の排ガス流入側の端部から隔壁部１２の排ガス流出側の端部まで排ガス流通方向Ｘに沿って延在している。第１触媒層２０は、隔壁部１２の排ガス流出側の端部に至らないように、隔壁部１２の排ガス流入側の端部から排ガス流通方向Ｘに沿って延在していてもよいし、隔壁部１２の排ガス流入側の端部に至らないように、隔壁部１２の排ガス流出側の端部から排ガス流通方向Ｘとは反対の方向に沿って延在していてもよい。

　第１触媒層２０は、本発明の触媒組成物で構成されている。したがって、本発明の触媒組成物に関する上記説明は、第１触媒層２０にも適用される。適用の際、「本発明の触媒組成物」は「第１触媒層２０」に読み替えられる。

　排ガス浄化性能とコストとをバランスよく実現する観点から、基材１０のうち第１触媒層２０が形成されている部分の単位体積当たりの第１触媒層２０の質量（焼成後の質量）は、好ましくは５０ｇ／Ｌ以上２３０ｇ／Ｌ以下、より好ましくは１００ｇ／Ｌ以上１８０ｇ／Ｌ以下、より一層好ましくは１３０ｇ／Ｌ以上１６０ｇ／Ｌ以下である。

　基材１０のうち第１触媒層２０が形成されている部分の単位体積当たりの第１触媒層２０の質量は、式：（第１触媒層２０の質量）／（（基材１０の体積）×（第１触媒層２０の平均長さＬ_２０／基材１０の長さＬ_１０））から算出される。なお、本明細書において、「長さ」は、別段規定される場合を除き、基材１０の軸方向の寸法を意味する。

　「触媒組成物の質量」に関する上記説明は、「第１触媒層２０の質量」にも適用される。適用の際、「触媒組成物」は「第１触媒層２０」に読み替えられる。第１触媒層２０の製造に使用される原料の情報（例えば、組成、量等）が判明している場合、第１触媒層２０の質量は、第１触媒層２０の製造に使用される原料の情報から求めることができる。

　第１触媒層２０の平均長さＬ_２０の測定方法の一例は、以下の通りである。

　触媒１Ａから、基材１０の軸方向に延在し、基材１０の長さＬ_１０と同一の長さを有するサンプルを切り出す。サンプルは、例えば、直径２５．４ｍｍの円柱状である。なお、サンプルの直径の値は必要に応じて変更することができる。サンプルを基材１０の軸方向と垂直な平面によって５ｍｍ間隔で切断し、サンプルの排ガス流入側の端部側から順に、第１切断片、第２切断片、・・・、第ｎ切断片を得る。切断片の長さは５ｍｍである。切断片の組成を、蛍光Ｘ線分析装置（ＸＲＦ）（例えば、エネルギー分散型Ｘ線分析装置（ＥＤＸ）、波長分散型Ｘ線分析装置（ＷＤＸ）等）、誘導結合プラズマ発光分光分析装置（ＩＣＰ－ＡＥＳ）、ＳＥＭ－ＥＤＸ等を使用して分析し、切断片の組成に基づいて、切断片が第１触媒層２０の一部を含むか否かを確認する。

　第１触媒層２０の一部を含むことが明らかである切断片に関しては、必ずしも組成分析を行う必要はない。例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、電子線マイクロアナライザー（ＥＰＭＡ）等を使用して切断面を観察し、切断片が第１触媒層２０の一部を含むか否かを確認することができる。切断面の観察を行う際、切断面の元素マッピングを行ってもよい。

　切断片が第１触媒層２０の一部を含むか否かを確認した後、下記式に基づいて、サンプルに含まれる第１触媒層２０の長さを算出する。
　サンプルに含まれる第１触媒層２０の長さ＝５ｍｍ×（第１触媒層２０の一部を含む切断片の数）

　例えば、第１切断片～第ｋ切断片は第１触媒層２０の一部を含むが、第（ｋ＋１）～第ｎ切断片は第１触媒層２０の一部を含まない場合、サンプルに含まれる第１触媒層２０の長さは、（５×ｋ）ｍｍである。

　サンプルに含まれる第１触媒層２０の長さのより詳細な測定方法の一例は、以下の通りである。
　第ｋ切断片（すなわち、第１触媒層２０の一部を含む切断片のうち、サンプルの最も排ガス流出側から得られた切断片）を基材１０の軸方向で切断して、ＳＥＭ、ＥＰＭＡ等を使用して切断面に存在する第１触媒層２０の一部を観察することにより、第ｋ切断片における第１触媒層２０の一部の長さを測定する。そして、下記式に基づいて、サンプルに含まれる第１触媒層２０の長さを算出する。
　サンプルに含まれる第１触媒層２０の長さ＝（５ｍｍ×（ｋ－１））＋（第ｋ切断片に含まれる第１触媒層２０の一部の長さ）

　触媒１Ａから任意に切り出された８～１６個のサンプルに関して、各サンプルに含まれる第１触媒層２０の長さを測定し、それらの平均値を第１触媒層２０の平均長さＬ_２０とする。

　図４に示すように、第２触媒層３０は、第１触媒層２０の上側に設けられている。「第２触媒層３０が第１触媒層２０の上側に設けられている」という表現は、第１触媒層２０の２つの主面のうち、基材１０の隔壁部１２側の主面とは反対側の主面上に、第２触媒層３０の一部又は全部が存在することを意味する。「第１触媒層２０の主面」は、排ガス流通方向Ｘに延在する第１触媒層２０の外表面を意味する。第２触媒層３０は、第１触媒層２０の主面上に、直接設けられていてもよいし、別の層を介して設けられていてもよい。第２触媒層３０は、第１触媒層２０の主面の一部を覆うように設けられていてもよいし、第１触媒層２０の主面の全体を覆うように設けられていてもよい。「基材１０に設けられた第２触媒層３０」には、第２触媒層３０が第１触媒層２０の主面上に直接設けられている実施形態、及び、第２触媒層３０が第１触媒層２０の主面上に別の層を介して設けられている実施形態のいずれもが包含される。

　排ガス浄化性能とコストとをバランスよく実現する観点から、基材１０のうち第２触媒層３０が形成されている部分の単位体積当たりの第２触媒層３０の質量（焼成後の質量）は、好ましくは２０ｇ／Ｌ以上１５０ｇ／Ｌ以下、より好ましくは５０ｇ／Ｌ以上１２０ｇ／Ｌ以下、より一層好ましくは７０ｇ／Ｌ以上１００ｇ／Ｌ以下である。

　基材１０のうち第２触媒層３０が形成されている部分の単位体積当たりの第２触媒層３０の質量は、式：（第２触媒層３０の質量）／（（基材１０の体積）×（第２触媒層３０の平均長さＬ_３０／基材１０の長さＬ_１０））から算出される。

　「触媒組成物の質量」に関する上記説明は、「第２触媒層３０の質量」にも適用される。適用の際、「触媒組成物」は「第２触媒層３０」に読み替えられる。第２触媒層３０の製造に使用される原料の情報（例えば、組成、量等）が判明している場合、第２触媒層３０の質量は、第２触媒層３０の製造に使用される原料の情報から求めることができる。

　第１触媒層２０の平均長さＬ_２０の測定方法に関する上記説明は、第２触媒層３０にも適用される。適用の際、「第１触媒層２０」は「第２触媒層３０」に、「平均長さＬ_２０」は「平均長さＬ_３０」に読み替えられる。

　ＮＯｘ浄化性能を向上させる観点から、第２触媒層３０は、Ｒｈを含むことが好ましい。Ｒｈは、触媒活性成分として機能し得る形態、例えば、金属Ｒｈ、Ｒｈを含む合金、Ｒｈを含む化合物（例えば、Ｒｈの酸化物）等の、Ｒｈを含む触媒活性成分の形態で第２触媒層３０に含まれる。排ガス浄化性能を向上させる観点から、Ｒｈを含む触媒活性成分は、粒子状であることが好ましい。

　排ガス浄化性能とコストとをバランスよく実現する観点から、第２触媒層３０におけるＲｈの金属換算量は、第２触媒層３０の質量を基準として、好ましくは０．０１０質量％以上１．０質量％以下、より好ましくは０．０５０質量％以上０．５０質量％以下、より一層好ましくは０．１０質量％以上０．３０質量％以下である。第２触媒層３０におけるＲｈの金属換算量は、本発明の触媒組成物におけるＰｔの金属換算量と同様にして測定することができる。

　第２触媒層３０は、Ｒｈ以外の貴金属元素を含んでいてもよい。Ｒｈ以外の貴金属元素としては、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｏｓ等が挙げられる。Ｒｈ以外の貴金属元素は、触媒活性成分として機能し得る形態、例えば、金属、貴金属元素を含む合金、貴金属元素を含む化合物（例えば、貴金属元素の酸化物）等の、Ｒｈ以外の貴金属元素を含む触媒活性成分の形態で第２触媒層３０に含まれる。排ガス浄化性能を向上させる観点から、Ｒｈ以外の貴金属元素を含む触媒活性成分は、粒子状であることが好ましい。

　第２触媒層３０がＲｈとＲｈ以外の貴金属元素とを含む場合、ＲｈとＲｈ以外の貴金属元素とが合金を形成し、排ガス浄化性能に関与するＲｈの活性点が減少するおそれがある。したがって、第２触媒層３０は、Ｒｈ以外の貴金属元素を実質的に含まないことが好ましい。

　本明細書において、「ある触媒層がＲｈ以外の貴金属元素を実質的に含まない」とは、当該触媒層におけるＲｈ以外の貴金属元素の金属換算量が、当該触媒層の質量を基準として、好ましくは０．０５０質量％以下、より好ましくは０．０１０質量％以下であることを意味する。下限はゼロである。また、本明細書において、「ある触媒層におけるＲｈ以外の貴金属元素の金属換算量」は、当該触媒層がＲｈ以外の１種の貴金属元素を含む場合には、当該１種の貴金属元素の金属換算量を意味し、当該触媒層がＲｈ以外の２種以上の貴金属元素を含む場合には、当該２種以上の貴金属元素の金属換算量の合計を意味する。ある触媒層におけるＲｈ以外の貴金属元素の金属換算量は、本発明の触媒組成物におけるＰｔの金属換算量と同様にして測定することができる。

　第２触媒層３０は、１種又は２種以上のアルカリ土類金属元素を含んでいてもよい。アルカリ土類金属元素は、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ及びＲａから選択される。

　Ｒｈの酸化を抑制する観点から、第２触媒層３０におけるアルカリ土類金属元素の金属換算量は、第２触媒層３０の質量を基準として、好ましくは５．０質量％以下、より好ましくは３．０質量％以下、より一層好ましくは１．０質量％以下である。下限はゼロである。

　本明細書において、「ある触媒層におけるアルカリ土類金属元素の金属換算量」は、当該触媒層が１種のアルカリ土類金属元素を含む場合には、当該１種のアルカリ土類金属元素の金属換算量を意味し、当該触媒層が２種以上のアルカリ土類金属元素を含む場合には、当該２種以上のアルカリ土類金属元素の金属換算量の合計を意味する。ある触媒層におけるアルカリ土類金属元素の金属換算量は、本発明の触媒組成物におけるＰｔの金属換算量と同様にして測定することができる。

　第２触媒層３０において、アルカリ土類金属元素の存在形態は特に限定されない。第２触媒層３０において、アルカリ土類金属元素は、例えば、酸化物、炭酸塩、硝酸塩及び硫酸塩から選択される１種又は２種以上の形態で存在し得る。

　第２触媒層３０は、１種又は２種以上の担体を含んでいてもよい。第２触媒層３０が担体を含む場合、触媒活性成分の少なくとも一部は担体に担持されていることが好ましい。担体に関する説明（無機酸化物に関する説明を含む）並びに担持の意義及び確認方法は上記の通りである。

　触媒１Ａでは、第２触媒層３０が第１触媒層２０の上側に設けられている。したがって、セル１３の排ガス流入側の端部（開口部）から流入した排ガスは、第２触媒層３０と接触した後、第１触媒層２０と接触する。第２触媒層３０と接触した排ガスは、第２触媒層３０中の触媒活性成分（例えば、Ｒｈ）により浄化される。触媒１Ａが置かれている環境が内燃機関の始動直後の低温環境である場合、第２触媒層３０中の触媒活性成分（例えば、Ｒｈ）の活性化が不十分であるため、第２触媒層３０の排ガス浄化性能が低い。したがって、低温環境下において、第２触媒層３０は、ＮＯｘを十分に浄化できない場合がある。しかしながら、低温環境下において第２触媒層３０が浄化できなかったＮＯｘは、第１触媒層２０中のＳｒに吸着され、第１触媒層２０が置かれている環境が高温環境になるまで第１触媒層２０中のＳｒに保持され、第１触媒層２０が置かれている環境が高温環境になった後に（すなわち、第１触媒層２０中の触媒活性成分（例えば、Ｐｔ）及び／又は第２触媒層３０中の触媒活性成分（例えば、Ｒｈ）が十分に活性化された後に）放出される。放出されたＮＯｘは、活性化された触媒活性成分（第１触媒層２０中の触媒活性成分（例えば、Ｐｔ）及び／又は第２触媒層３０中の触媒活性成分（例えば、Ｒｈ））により効果的に浄化される。このように、第１触媒層２０中のＳｒは、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持することにより、低温環境下における触媒１Ａの排ガス浄化性能を補うことができる。

　第１触媒層２０中のＳｒの金属換算量が少なすぎると、Ｓｒによる効果が十分に発揮されない。第１触媒層２０中のＳｒの金属換算量が多すぎると、低温環境下における第１触媒層２０中のＰｔの排ガス浄化性能が却って低下する。Ｐｔの排ガス浄化性能の低下には、ＳｒがＰｔの酸化状態を安定化させ、Ｐｔを不活性化させることが関与していると考えられる。第１触媒層２０中のＳｒの金属換算量が、第１触媒層２０の質量を基準として、０．１質量％以上９．０質量％以下である場合、Ｐｔを活用しつつ、低温環境下における排ガス浄化性能と、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持する性能とをより効果的に実現することができる。

　触媒１Ａは、基材１０上に第１触媒層２０を形成した後、第１触媒層２０の上側に第２触媒層３０を形成することにより製造することができる。

　第１触媒層２０は、Ｐｔの供給源（例えば、Ｐｔ塩）、Ｓｒの供給源（例えば、Ｓｒ塩）及びその他の成分（例えば、無機酸化物、バインダ、溶媒等）を混合して第１スラリーを調製し、第１スラリーを基材１０上に塗布し、乾燥し、焼成することにより形成することができる。

　第２触媒層３０は、Ｒｈの供給源（例えば、Ｒｈ塩）及びその他の成分（例えば、無機酸化物、バインダ、溶媒等）を混合して第２スラリーを調製し、第２スラリーを第１触媒層２０上に塗布し、乾燥し、焼成することにより形成することができる。

　Ｐｔ塩、Ｓｒ塩、無機酸化物、バインダ及び溶媒に関する説明は上記の通りである。Ｒｈ塩としては、例えば、硝酸塩、アンミン錯体塩、酢酸塩、塩化物等が挙げられる。乾燥温度は、例えば７０℃以上１５０℃以下であり、乾燥時間は、例えば５分以上１時間以下である。焼成温度は、例えば２００℃以上７００℃以下であり、焼成時間は、例えば０．５時間以上５時間以下である。焼成は、例えば、大気雰囲気下で行うことができる。

＜第２実施形態＞
　以下、図５に基づいて、本発明の第２実施形態に係る排ガス浄化用触媒１Ｂ（本明細書において「触媒１Ｂ」という場合がある。）について説明する。触媒１Ｂにおいて、触媒１Ａと同一の部材は、触媒１Ａと同一の符号で示されている。以下で別段規定される場合を除き、触媒１Ａに関する上記説明は、触媒１Ｂにも適用される。

　図５に示すように、触媒１Ｂは、基材１０と、基材１０に設けられた第１触媒層２０、第２触媒層３０、第３触媒層４０及び第４触媒層５０とを備える。第１実施形態における基材１０、第１触媒層２０及び第２触媒層３０に関する説明は、別段規定される場合を除き、触媒１Ｂにも適用される。

　第２触媒層３０、第３触媒層４０及び第４触媒層５０は必要に応じて設けられる層であり、本発明には、触媒１Ｂから第２触媒層３０、第３触媒層４０及び第４触媒層５０のうち１又は２以上が省略された実施形態（例えば、第２触媒層３０が省略された実施形態、第３触媒層４０が省略された実施形態、第４触媒層５０が省略された実施形態、第２触媒層３０及び第３触媒層４０が省略された実施形態、第２触媒層３０及び第４触媒層５０が省略された実施形態等）も包含される。但し、排ガス浄化性能を向上させる観点から、触媒１Ｂから第２触媒層３０、第３触媒層４０及び第４触媒層５０のうち１又は２以上が省略された実施形態において、第２触媒層３０及び第３触媒層４０のうち、少なくとも一方が設けられていることが好ましく、両方が設けられていることが好ましい。

　図５に示すように、触媒１Ｂは、
　基材１０に、一部のセル１３の排ガス流出側の端部を封止する第１封止部１４、及び、残りのセル１３の排ガス流入側の端部を封止する第２封止部１５が設けられており、これにより、基材１０に、排ガス流入側の端部が開口しており、排ガス流出側の端部が第１封止部１４で閉塞されている流入側セル１３ａ、及び、排ガス流入側の端部が第２封止部１５で閉塞されており、排ガス流出側の端部が開口している流出側セル１３ｂが形成されている点、並びに、
　基材１０の隔壁部１２の流出側セル１３ｂ側に第１触媒層２０及び第２触媒層３０が設けられており、基材１０の隔壁部１２の流入側セル１３ａ側に第３触媒層４０及び第４触媒層５０が設けられている点
で、触媒１Ａと相違する。

　図５に示すように、１個の流入側セル１３ａの周りには、複数（例えば４つ）の流出側セル１３ｂが隣接するように配置されており、流入側セル１３ａと、当該流入側セル１３ａに隣接する流出側セル１３ｂとは、多孔質の隔壁部１２によって仕切られている。

　図５に示すように、第１触媒層２０は、隔壁部１２の排ガス流入側の端部に至らないように、隔壁部１２の排ガス流出側の端部から排ガス流通方向Ｘとは反対の方向に沿って延在している。第１触媒層２０は、隔壁部１２の排ガス流入側の端部に至ってもよい。

　図５に示すように、第１触媒層２０は、隔壁部１２の表面から流出側セル１３ｂ側に***している部分（以下「***部分」という。）を有する。第１触媒層２０は、***部分のみで構成されていてもよいし、***部分とともに、隔壁部１２の内部に存在する部分（以下「内在部分」という。）を有していてもよい。また、第１触媒層２０は、内在部分のみで構成されていてもよい。「基材１０に設けられた第１触媒層２０」には、第１触媒層２０が***部分のみで構成されている実施形態、第１触媒層２０が内在部分のみで構成されている実施形態、並びに、第１触媒層２０が***部分及び内在部分を有する実施形態のいずれもが包含される。

　排ガス浄化性能とコストとをバランスよく実現する観点から、基材１０のうち第１触媒層２０が形成されている部分の単位体積当たりの第１触媒層２０の質量（焼成後の質量）は、好ましくは５ｇ／Ｌ以上６０ｇ／Ｌ以下、より好ましくは１０ｇ／Ｌ以上４０ｇ／Ｌ以下、より一層好ましくは１０ｇ／Ｌ以上３０ｇ／Ｌ以下である。

　基材１０のうち第１触媒層２０が形成されている部分の単位体積当たりの第１触媒層２０の質量は、第１実施形態と同様にして求めることができる。

　第２実施形態における第１触媒層２０の平均長さＬ_２０の測定方法は、第１実施形態と同様であるが、第２実施形態における第１触媒層２０の平均長さＬ_２０の測定方法では、サンプルを基材１０の軸方向と垂直な平面によって５ｍｍ間隔で切断し、サンプルの排ガス流出側の端部側から順に、第１切断片、第２切断片、・・・、第ｎ切断片を得る。

　第１触媒層２０の平均長さＬ_２０は、排ガス浄化性能、ＰＭ捕集性能等を考慮して適宜調整することができる。排ガス浄化性能及びＰＭ捕集性能を向上させる観点から、基材１０の長さＬ_１０に対する第１触媒層２０の平均長さＬ_２０の百分率（Ｌ_２０／Ｌ_１０×１００）は、好ましくは１５％以上９０％以下、より好ましくは２０％以上８０％以下、より一層好ましくは３０％以上８０％以下である。

　図５に示すように、第２触媒層３０は、第１触媒層２０の上側に設けられており、隔壁部１２の排ガス流入側の端部に至らないように、隔壁部１２の排ガス流出側の端部から排ガス流通方向Ｘとは反対の方向に沿って延在している。第２触媒層３０は、隔壁部１２の排ガス流入側の端部に至ってもよい。「第２触媒層３０が第１触媒層２０の上側に設けられている」及び「第１触媒層２０の主面」の意義は上記の通りである。第２触媒層３０は、第１触媒層２０の主面上に、直接設けられていてもよいし、別の層を介して設けられていてもよい。第２触媒層３０は、第１触媒層２０の主面の一部を覆うように設けられていてもよいし、第１触媒層２０の主面の全体を覆うように設けられていてもよい。「基材１０に設けられた第２触媒層３０」には、第２触媒層３０が第１触媒層２０の主面上に直接設けられている実施形態、及び、第２触媒層３０が第１触媒層２０の主面上に別の層を介して設けられている実施形態のいずれもが包含される。

　排ガス浄化性能とコストとをバランスよく実現する観点から、基材１０のうち第２触媒層３０が形成されている部分の単位体積当たりの第２触媒層３０の質量（焼成後の質量）は、好ましくは５ｇ／Ｌ以上６０ｇ／Ｌ以下、より好ましくは１０ｇ／Ｌ以上４０ｇ／Ｌ以下、より一層好ましくは１０ｇ／Ｌ以上３０ｇ／Ｌ以下である。

　基材１０のうち第２触媒層３０が形成されている部分の単位体積当たりの第２触媒層３０の質量は、第１実施形態と同様にして求めることができる。

　第２実施形態における第２触媒層３０の平均長さＬ_３０の測定方法は、第１実施形態と同様であるが、第２実施形態における第２触媒層３０の平均長さＬ_３０の測定方法では、サンプルを基材１０の軸方向と垂直な平面によって５ｍｍ間隔で切断し、サンプルの排ガス流出側の端部側から順に、第１切断片、第２切断片、・・・、第ｎ切断片を得る。

　第２触媒層３０の平均長さＬ_３０は、排ガス浄化性能、ＰＭ捕集性能等を考慮して適宜調整することができる。排ガス浄化性能及びＰＭ捕集性能を向上させる観点から、基材１０の長さＬ_１０に対する第２触媒層３０の平均長さＬ_３０の百分率（Ｌ_３０／Ｌ_１０×１００）は、好ましくは１５％以上９０％以下、より好ましくは２０％以上８０％以下、より一層好ましくは３０％以上８０％以下である。

　図５に示すように、第３触媒層４０は、第４触媒層５０の上側に設けられている。「第３触媒層４０が第４触媒層５０の上側に設けられている」という表現は、第４触媒層５０の２つの主面のうち、基材１０の隔壁部１２側の主面とは反対側の主面上に、第３触媒層４０の一部又は全部が存在することを意味する。「第４触媒層５０の主面」は、排ガス流通方向Ｘに延在する第４触媒層５０の外表面を意味する。第３触媒層４０は、第４触媒層５０の主面上に、直接設けられていてもよいし、別の層を介して設けられていてもよい。第３触媒層４０は、第４触媒層５０の主面の一部を覆うように設けられていてもよいし、第４触媒層５０の主面の全体を覆うように設けられていてもよい。「基材１０に設けられた第３触媒層４０」には、第３触媒層４０が第４触媒層５０の主面上に直接設けられている実施形態、及び、第３触媒層４０が第４触媒層５０の主面上に別の層を介して設けられている実施形態のいずれもが包含される。

　図５に示すように、第３触媒層４０は、隔壁部１２の排ガス流出側の端部に至らないように、隔壁部１２の排ガス流入側の端部から排ガス流通方向Ｘに沿って延在している。第３触媒層４０は、隔壁部１２の排ガス流出側の端部に至ってもよい。

　図５に示すように、第３触媒層４０は、第１触媒層２０の上流側に設けられている。「第３触媒層４０が第１触媒層２０の上流側に設けられている」という表現は、基材１０の隔壁部１２のうち、第１触媒層２０が設けられている領域よりも排ガス流通方向Ｘの上流側の領域に、第３触媒層４０の一部又は全部が存在することを意味する。

　排ガス浄化性能とコストとをバランスよく実現する観点から、基材１０のうち第３触媒層４０が形成されている部分の単位体積当たりの第３触媒層４０の質量（焼成後の質量）は、好ましくは５ｇ／Ｌ以上６０ｇ／Ｌ以下、より好ましくは１０ｇ／Ｌ以上４０ｇ／Ｌ以下、より一層好ましくは１０ｇ／Ｌ以上３０ｇ／Ｌ以下である。

　基材１０のうち第３触媒層４０が形成されている部分の単位体積当たりの第３触媒層４０の質量は、式：（第３触媒層４０の質量）／（（基材１０の体積）×（第３触媒層４０の平均長さＬ_４０／基材１０の長さＬ_１０））から算出される。

　「触媒組成物の質量」に関する上記説明は、「第３触媒層４０の質量」にも適用される。適用の際、「触媒組成物」は「第３触媒層４０」に読み替えられる。第３触媒層４０の製造に使用される原料の情報（例えば、組成、量等）が判明している場合、第３触媒層４０の質量は、第３触媒層４０の製造に使用される原料の情報から求めることができる。

　第１実施形態における第１触媒層２０の平均長さＬ_２０の測定方法に関する上記説明は、第３触媒層４０の平均長さＬ_４０の測定方法にも適用される。適用の際、「第１触媒層２０」は「第３触媒層４０」に、「平均長さＬ_２０」は「平均長さＬ_４０」に読み替えられる。

　第３触媒層４０の平均長さＬ_４０は、排ガス浄化性能、ＰＭ捕集性能等を考慮して適宜調整することができる。排ガス浄化性能及びＰＭ捕集性能を向上させる観点から、基材１０の長さＬ_１０に対する第３触媒層４０の平均長さＬ_４０の百分率（Ｌ_４０／Ｌ_１０×１００）は、好ましくは１５％以上９０％以下、より好ましくは２０％以上８０％以下、より一層好ましくは３０％以上８０％以下である。

　排ガス浄化性能及びＰＭ捕集性能を向上させる観点から、基材１０の長さＬ_１０に対する、第１触媒層２０の平均長さＬ_２０又は第２触媒層３０の平均長さＬ_３０と第３触媒層４０の平均長さＬ_４０との合計の百分率（（（Ｌ_２０又はＬ_３０）＋Ｌ_４０）／Ｌ_１０×１００）は、好ましくは１００％以上１８０％以下、より好ましくは１０５％以上１５０％以下、より一層好ましくは１１０％以上１３０％以下である。

　ＮＯｘ浄化性能を向上させる観点から、第３触媒層４０は、Ｒｈを含むことが好ましい。Ｒｈは、触媒活性成分として機能し得る形態、例えば、金属Ｒｈ、Ｒｈを含む合金、Ｒｈを含む化合物（例えば、Ｒｈの酸化物）等の、Ｒｈを含む触媒活性成分の形態で第３触媒層４０に含まれる。排ガス浄化性能を向上させる観点から、Ｒｈを含む触媒活性成分は、粒子状であることが好ましい。

　排ガス浄化性能とコストとをバランスよく実現する観点から、第３触媒層４０におけるＲｈの金属換算量は、第３触媒層４０の質量を基準として、好ましくは０．０５０質量％以上２．０質量％以下、より好ましくは０．１０質量％以上１．５質量％以下、より一層好ましくは０．２０質量％以上１．０質量％以下である。第３触媒層４０におけるＲｈの金属換算量は、本発明の触媒組成物におけるＰｔの金属換算量と同様にして測定することができる。

　第３触媒層４０は、Ｒｈ以外の貴金属元素を含んでいてもよい。Ｒｈ以外の貴金属元素としては、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｏｓ等が挙げられる。Ｒｈ以外の貴金属元素は、触媒活性成分として機能し得る形態、例えば、金属、貴金属元素を含む合金、貴金属元素を含む化合物（例えば、貴金属元素の酸化物）等の、Ｒｈ以外の貴金属元素を含む触媒活性成分の形態で第３触媒層４０に含まれる。排ガス浄化性能を向上させる観点から、Ｒｈ以外の貴金属元素を含む触媒活性成分は、粒子状であることが好ましい。

　第３触媒層４０がＲｈとＲｈ以外の貴金属元素とを含む場合、ＲｈとＲｈ以外の貴金属元素とが合金を形成し、排ガス浄化性能に関与するＲｈの活性点が減少するおそれがある。したがって、第３触媒層４０は、Ｒｈ以外の貴金属元素を実質的に含まないことが好ましい。「Ｒｈ以外の貴金属元素を実質的に含まない」及び「Ｒｈ以外の貴金属元素の金属換算量」の意義並びにＲｈ以外の貴金属元素の金属換算量の測定方法は上記の通りである。

　第３触媒層４０は、１種又は２種以上のアルカリ土類金属元素を含んでいてもよい。アルカリ土類金属元素は、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ及びＲａから選択される。

　Ｒｈの酸化を抑制する観点から、第３触媒層４０におけるアルカリ土類金属元素の金属換算量は、第３触媒層４０の質量を基準として、好ましくは５．０質量％以下、より好ましくは３．０質量％以下、より一層好ましくは１．０質量％以下である。下限はゼロである。「アルカリ土類金属元素の金属換算量」の意義及びアルカリ土類金属元素の金属換算量の測定方法は上記の通りである。

　第３触媒層４０において、アルカリ土類金属元素の存在形態は特に限定されない。第３触媒層４０において、アルカリ土類金属元素は、例えば、酸化物、炭酸塩、硝酸塩及び硫酸塩から選択される１種又は２種以上の形態で存在し得る。

　第３触媒層４０は、１種又は２種以上の担体を含んでいてもよい。第３触媒層４０が担体を含む場合、触媒活性成分の少なくとも一部は担体に担持されていることが好ましい。担体に関する説明（無機酸化物に関する説明を含む）並びに担持の意義及び確認方法は上記の通りである。

　図５に示すように、第４触媒層５０は、基材１０の隔壁部１２の表面上に設けられている。なお、隔壁部１２の表面は、排ガス流通方向Ｘに延在する、隔壁部１２の外表面を意味する。第４触媒層５０は、隔壁部１２の表面上に直接設けられていてもよいし、他の層を介して隔壁部１２の表面上に設けられていてもよい。

　図５に示すように、第４触媒層５０は、隔壁部１２の表面から流入側セル１３ａ側に***している部分（以下「***部分」という。）を有する。第４触媒層５０は、***部分のみで構成されていてもよいし、***部分とともに、隔壁部１２の内部に存在する部分（以下「内在部分」という。）を有していてもよい。また、第４触媒層５０は、内在部分のみで構成されていてもよい。「基材１０に設けられた第４触媒層５０」には、第４触媒層５０が***部分のみで構成されている実施形態、第４触媒層５０が内在部分のみで構成されている実施形態、並びに、第４触媒層５０が***部分及び内在部分を有する実施形態のいずれもが包含される。

　図５に示すように、第４触媒層５０は、隔壁部１２の排ガス流出側の端部に至らないように、隔壁部１２の排ガス流入側の端部から排ガス流通方向Ｘに沿って延在している。第４触媒層５０は、隔壁部１２の排ガス流出側の端部に至ってもよい。

　図５に示すように、第４触媒層５０は、第１触媒層２０の上流側に設けられている。「第４触媒層５０が第１触媒層２０の上流側に設けられている」という表現は、基材１０の隔壁部１２のうち、第１触媒層２０が設けられている領域よりも排ガス流通方向Ｘの上流側の領域に、第４触媒層５０の一部又は全部が存在することを意味する。

　排ガス浄化性能とコストとをバランスよく実現する観点から、基材１０のうち第４触媒層５０が形成されている部分の単位体積当たりの第４触媒層５０の質量（焼成後の質量）は、好ましくは５ｇ／Ｌ以上６０ｇ／Ｌ以下、より好ましくは１０ｇ／Ｌ以上４０ｇ／Ｌ以下、より一層好ましくは１０ｇ／Ｌ以上３０ｇ／Ｌ以下である。

　基材１０のうち第４触媒層５０が形成されている部分の単位体積当たりの第４触媒層５０の質量は、式：（第４触媒層５０の質量）／（（基材１０の体積）×（第４触媒層５０の平均長さＬ_５０／基材１０の長さＬ_１０））から算出される。

　「触媒組成物の質量」に関する上記説明は、「第４触媒層５０の質量」にも適用される。適用の際、「触媒組成物」は「第４触媒層５０」に読み替えられる。第４触媒層５０の製造に使用される原料の情報（例えば、組成、量等）が判明している場合、第４触媒層５０の質量は、第４触媒層５０の製造に使用される原料の情報から求めることができる。

　第１実施形態における第１触媒層２０の平均長さＬ_２０の測定方法に関する上記説明は、第４触媒層５０の平均長さＬ_５０の測定方法にも適用される。適用の際、「第１触媒層２０」は「第４触媒層５０」に、「平均長さＬ_２０」は「平均長さＬ_５０」に読み替えられる。

　第４触媒層５０の平均長さＬ_５０は、排ガス浄化性能、ＰＭ捕集性能等を考慮して適宜調整することができる。排ガス浄化性能及びＰＭ捕集性能を向上させる観点から、基材１０の長さＬ_１０に対する第４触媒層５０の平均長さＬ_５０の百分率（Ｌ_５０／Ｌ_１０×１００）は、好ましくは１５％以上９０％以下、より好ましくは２０％以上８０％以下、より一層好ましくは３０％以上８０％以下である。

　排ガス浄化性能及びＰＭ捕集性能を向上させる観点から、基材１０の長さＬ_１０に対する、第１触媒層２０の平均長さＬ_２０又は第２触媒層３０の平均長さＬ_３０と第４触媒層５０の平均長さＬ_５０との合計の百分率（（（Ｌ_２０又はＬ_３０）＋Ｌ_５０）／Ｌ_１０×１００）は、好ましくは１００％以上１８０％以下、より好ましくは１０５％以上１５０％以下、より一層好ましくは１１０％以上１３０％以下である。

　排ガス浄化性能を向上させる観点から、第４触媒層５０は、Ｐｄを含むことが好ましい。Ｐｄは、触媒活性成分として機能し得る形態、例えば、金属Ｐｄ、Ｐｄを含む合金、Ｐｄを含む化合物（例えば、Ｐｄの酸化物）等の、Ｐｄを含む触媒活性成分の形態で第４触媒層５０に含まれる。排ガス浄化性能を向上させる観点から、Ｐｄを含む触媒活性成分は、粒子状であることが好ましい。

　排ガス浄化性能とコストとをバランスよく実現する観点から、第４触媒層５０におけるＰｄの金属換算量は、第４触媒層５０の質量を基準として、好ましくは０．５０質量％以上１０質量％以下、より好ましくは１．０質量％以上７．０質量％以下、より一層好ましくは２．０質量％以上５．０質量％以下である。第４触媒層５０におけるＰｄの金属換算量は、本発明の触媒組成物におけるＰｔの金属換算量と同様にして測定することができる。

　第４触媒層５０は、Ｐｄ以外の貴金属元素を含んでいてもよい。Ｐｄ以外の貴金属元素としては、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｏｓ等が挙げられる。Ｐｄ以外の貴金属元素は、触媒活性成分として機能し得る形態、例えば、金属、貴金属元素を含む合金、貴金属元素を含む化合物（例えば、貴金属元素の酸化物）等の、Ｐｄ以外の貴金属元素を含む触媒活性成分の形態で第４触媒層５０に含まれる。排ガス浄化性能を向上させる観点から、Ｐｄ以外の貴金属元素を含む触媒活性成分は、粒子状であることが好ましい。

　第４触媒層５０がＰｄとＰｄ以外の貴金属元素とを含む場合、ＰｄとＰｄ以外の貴金属元素とが合金を形成し、排ガス浄化性能に関与するＰｄの活性点が減少するおそれがある。したがって、第４触媒層５０は、Ｐｄ以外の貴金属元素を実質的に含まないことが好ましい。

　本明細書において、「ある触媒層がＰｄ以外の貴金属元素を実質的に含まない」とは、当該触媒層におけるＰｄ以外の貴金属元素の金属換算量が、当該触媒層の質量を基準として、好ましくは０．０５０質量％以下、より好ましくは０．０１０質量％以下であることを意味する。下限はゼロである。また、本明細書において、「ある触媒層におけるＰｄ以外の貴金属元素の金属換算量」は、当該触媒層がＰｄ以外の１種の貴金属元素を含む場合には、当該１種の貴金属元素の金属換算量を意味し、当該触媒層がＰｄ以外の２種以上の貴金属元素を含む場合には、当該２種以上の貴金属元素の金属換算量の合計を意味する。ある触媒層におけるＰｄ以外の貴金属元素の金属換算量は、本発明の触媒組成物におけるＰｔの金属換算量と同様にして測定することができる。

　第４触媒層５０は、１種又は２種以上のアルカリ土類金属元素を含んでいてもよい。アルカリ土類金属元素は、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ及びＲａから選択される。

　Ｐｄの酸化状態を維持する観点から、第４触媒層５０におけるアルカリ土類金属元素の金属換算量は、第４触媒層５０の質量を基準として、好ましくは１．０質量％以上１０．０質量％以下、より好ましくは２．０質量％以上６．０質量％以下、より一層好ましくは３．０質量％以上４．０質量％以下である。「アルカリ土類金属元素の金属換算量」の意義及びアルカリ土類金属元素の金属換算量の測定方法は上記の通りである。

　第４触媒層５０において、アルカリ土類金属元素の存在形態は特に限定されない。第４触媒層５０において、アルカリ土類金属元素は、例えば、酸化物、炭酸塩、硝酸塩及び硫酸塩から選択される１種又は２種以上の形態で存在し得る。

　第４触媒層５０は、１種又は２種以上の担体を含んでいてもよい。第４触媒層５０が担体を含む場合、触媒活性成分の少なくとも一部は担体に担持されていることが好ましい。担体に関する説明（無機酸化物に関する説明を含む）並びに担持の意義及び確認方法は上記の通りである。

　触媒１Ｂでは、流入側セル１３ａの排ガス流入側の端部（開口部）から流入した排ガスが、多孔質の隔壁部１２を通過して流出側セル１３ｂの排ガス流出側の端部（開口部）から流出する。このような様式は、ウォールフロー型と呼ばれる。

　触媒１Ｂでは、流入側セル１３ａの排ガス流入側の端部（開口部）から流入した排ガスが、多孔質の隔壁部１２を通過する際、排ガス中の粒子状物質（ＰＭ：Ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅ　Ｍａｔｔｅｒ）が、隔壁部１２の細孔に捕集される。したがって、触媒１Ｂは、ガソリンエンジン用のパティキュレートフィルタ（Ｇａｓｏｌｉｎｅ　Ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅ　Ｆｉｌｔｅｒ）又はディーゼルエンジン用のパティキュレートフィルタ（Ｄｉｅｓｅｌ　Ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅ　Ｆｉｌｔｅｒ）として有用である。

　触媒１Ｂでは、第３触媒層４０及び第４触媒層５０が第１触媒層２０及び第２触媒層３０の上流側に設けられている。したがって、流入側セル１３ａの排ガス流入側の端部（開口部）から流入した排ガスは、第３触媒層４０及び第４触媒層５０と接触した後、多孔質の隔壁部１２を通過し、第１触媒層２０及び第２触媒層３０と接触する。第３触媒層４０及び第４触媒層５０と接触した排ガスは、第３触媒層４０中の触媒活性成分（例えば、Ｒｈ）及び第４触媒層５０中の触媒活性成分（例えば、Ｐｄ）により浄化される。触媒１Ｂが置かれている環境が内燃機関の始動直後の低温環境である場合、第３触媒層４０中の触媒活性成分（例えば、Ｒｈ）及び第４触媒層５０中の触媒活性成分（例えば、Ｐｄ）の活性化が不十分であるため、第３触媒層４０及び第４触媒層５０の排ガス浄化性能が低い。したがって、低温環境下において、第３触媒層４０及び第４触媒層５０は、ＮＯｘを十分に浄化できない場合がある。しかしながら、低温環境下において第３触媒層４０及び第４触媒層５０が浄化できなかったＮＯｘは、第１触媒層２０中のＳｒに吸着され、第１触媒層２０及び第２触媒層３０が置かれている環境が高温環境になるまで第１触媒層２０中のＳｒに保持され、第１触媒層２０及び第２触媒層３０が置かれている環境が高温環境になった後に（すなわち、第１触媒層２０中の触媒活性成分（例えば、Ｐｔ）及び／又は第２触媒層３０中の触媒活性成分（例えば、Ｒｈ）が活性化された後に）放出される。放出されたＮＯｘは、活性化された触媒活性成分（第１触媒層２０中の触媒活性成分（例えば、Ｐｔ）及び／又は第２触媒層３０中の触媒活性成分（例えば、Ｒｈ））により効果的に浄化される。このように、第１触媒層２０中のＳｒは、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持することにより、低温環境下における触媒１Ｂの排ガス浄化性能を補うことができる。

　第１触媒層２０中のＳｒの金属換算量が少なすぎると、Ｓｒによる効果が十分に発揮されない。第１触媒層２０中のＳｒの金属換算量が多すぎると、低温環境下における第１触媒層２０中のＰｔの排ガス浄化性能が却って低下する。Ｐｔの排ガス浄化性能の低下には、ＳｒがＰｔの酸化状態を安定化させ、Ｐｔを不活性化させることが関与していると考えられる。第１触媒層２０中のＳｒの金属換算量が、第１触媒層２０の質量を基準として、０．１質量％以上９．０質量％以下である場合、Ｐｔを活用しつつ、低温環境下における排ガス浄化性能と、高温環境下におけるＮＯｘ吸着性能とをより効果的に実現することができる。

　触媒１Ｂは、以下の方法により製造することができる。触媒１Ｂの製造条件等は、触媒１Ａと同様である。

　基材１０の排ガス流出側に、第１触媒層２０を形成するためのスラリーを付着させ、当該スラリーを乾燥させた後、必要に応じて焼成することで、第１触媒層２０を形成することができる。第１触媒層２０の形成後、基材１０の排ガス流出側に、第２触媒層３０を形成するためのスラリーを付着させ、当該スラリーを乾燥させた後、必要に応じて焼成することで、第２触媒層３０を形成することができる。

　基材１０の排ガス流入側に、第４触媒層５０を形成するためのスラリーを付着させ、当該スラリーを乾燥させた後、必要に応じて焼成することで、第４触媒層５０を形成することができる。第４触媒層５０の形成後、基材１０の排ガス流入側に、第３触媒層４０を形成するためのスラリーを付着させ、当該スラリーを乾燥させた後、必要に応じて焼成することで、第３触媒層４０を形成することができる。

　第３触媒層４０を形成するためのスラリーは、Ｒｈの供給源（例えば、Ｒｈ塩）及びその他の成分（例えば、無機酸化物、バインダ、溶媒等）を混合することにより調製することができる。Ｒｈ塩、無機酸化物、バインダ及び溶媒に関する説明は上記の通りである。

　第４触媒層５０を形成するためのスラリーは、Ｐｄの供給源（例えば、Ｐｄ塩）及びその他の成分（例えば、無機酸化物、バインダ、溶媒等）を混合して調製することができる。Ｐｄ塩としては、例えば、硝酸塩、アンミン錯体塩、酢酸塩、塩化物等が挙げられる。無機酸化物、バインダ及び溶媒に関する説明は上記の通りである。

＜第３実施形態＞
　以下、図６に基づいて、本発明の第３実施形態に係る排ガス浄化用触媒１Ｃ（本明細書において「触媒１Ｃ」という場合がある。）について説明する。触媒１Ｃにおいて、触媒１Ａと同一の部材は、触媒１Ａと同一の符号で示されている。以下で別段規定される場合を除き、触媒１Ａに関する上記説明は、触媒１Ｃにも適用される。

　図６に示すように、触媒１Ｃは、基材１０と、基材１０に設けられた第１触媒層２０、第２触媒層３０及び第５触媒層６０とを備える。第１実施形態における基材１０、第１触媒層２０及び第２触媒層３０に関する説明は、別段規定される場合を除き、触媒１Ｃにも適用される。

　第２触媒層３０は必要に応じて設けられる層であり、本発明には、触媒１Ｃから第２触媒層３０が省略された実施形態も包含される。但し、排ガス浄化性能を向上させる観点から、第２触媒層３０が設けられていることが好ましい。

　図６に示すように、触媒１Ｃは、
　第５触媒層６０が第１触媒層２０の上流側に設けられている点、及び、
　第２触媒層３０が第１触媒層２０及び第５触媒層６０の上側に設けられている点
で、触媒１Ａと相違する。

　本実施形態では、図６に示すように、第２触媒層３０の一部が、第１触媒層２０の上側に設けられており、第２触媒層３０の残部が、第５触媒層６０の上側に設けられているが、第２触媒層３０の全部が、第１触媒層２０又は第５触媒層６０の一方の上側に設けられていてもよい。

　図６に示すように、第１触媒層２０は、隔壁部１２の排ガス流入側の端部に至らないように、隔壁部１２の排ガス流出側の端部から排ガス流通方向Ｘとは反対の方向に沿って延在している。

　図６に示すように、第５触媒層６０は、基材１０の隔壁部１２の表面上に設けられている。なお、隔壁部１２の表面は、排ガス流通方向Ｘに延在する、隔壁部１２の外表面を意味する。第５触媒層６０は、隔壁部１２の表面上に直接設けられていてもよいし、他の層を介して隔壁部１２の表面上に設けられていてもよい。

　図６に示すように、第５触媒層６０は、隔壁部１２の排ガス流出側の端部に至らないように、隔壁部１２の排ガス流入側の端部から排ガス流通方向Ｘに沿って延在している。

　図６に示すように、第５触媒層６０は、隔壁部１２の表面からセル１３側に***している部分（以下「***部分」という。）を有する。第５触媒層６０は、***部分のみで構成されていてもよいし、***部分とともに、隔壁部１２の内部に存在する部分（以下「内在部分」という。）を有していてもよい。また、第５触媒層６０は、内在部分のみで構成されていてもよい。「基材１０に設けられた第５触媒層６０」には、第５触媒層６０が***部分のみで構成されている実施形態、第５触媒層６０が内在部分のみで構成されている実施形態、並びに、第５触媒層６０が***部分及び内在部分を有する実施形態のいずれもが包含される。

　図６に示すように、第５触媒層６０は、第１触媒層２０の上流側に設けられている。「第５触媒層６０が第１触媒層２０の上流側に設けられている」という表現は、基材１０の隔壁部１２のうち、第１触媒層２０が設けられている領域よりも排ガス流通方向Ｘの上流側の領域に、第５触媒層６０の一部又は全部が存在することを意味する。

　図６に示すように、第１触媒層２０の排ガス流入側の端部と第５触媒層６０の排ガス流出側の端部とは、境界面Ｓで接している。

　第１触媒層２０の排ガス流入側の端部は、第５触媒層６０の排ガス流出側の端部と重なる部分（すなわち、第５触媒層６０の排ガス流出側の端部の上側に位置して第５触媒層６０の排ガス流出側の端部を覆う部分）を有していてもよい。また、第５触媒層６０の排ガス流出側の端部は、第１触媒層２０の排ガス流入側の端部と重なる部分（すなわち、第１触媒層２０の排ガス流入側の端部の上側に位置して第１触媒層２０の排ガス流入側の端部を覆う部分）を有していてもよい。これらの場合も「第５触媒層６０が第１触媒層２０の上流側に設けられている」に包含される。

　第３実施形態における第１触媒層２０の平均長さＬ_２０の測定方法は、第１実施形態と同様であるが、第３実施形態における第１触媒層２０の平均長さＬ_２０の測定方法では、サンプルを基材１０の軸方向と垂直な平面によって５ｍｍ間隔で切断し、サンプルの排ガス流出側の端部側から順に、第１切断片、第２切断片、・・・、第ｎ切断片を得る。

　排ガス浄化性能とコストとをバランスよく実現する観点から、基材１０のうち第５触媒層６０が形成されている部分の単位体積当たりの第５触媒層６０の質量（焼成後の質量）は、好ましくは２０ｇ／Ｌ以上１５０ｇ／Ｌ以下、より好ましくは５０ｇ／Ｌ以上１２０ｇ／Ｌ以下、より一層好ましくは７０ｇ／Ｌ以上１００ｇ／Ｌ以下である。

　基材１０のうち第５触媒層６０が形成されている部分の単位体積当たりの第５触媒層６０の質量は、式：（第５触媒層６０の質量）／（基材１０の体積×（第５触媒層６０の平均長さＬ_６０／基材１０の長さＬ_１０））から算出される。

　「触媒組成物の質量」に関する上記説明は、「第５触媒層６０の質量」にも適用される。適用の際、「触媒組成物」は「第５触媒層６０」に読み替えられる。第５触媒層６０の製造に使用される原料の情報（例えば、組成、量等）が判明している場合、第５触媒層６０の質量は、第５触媒層６０の製造に使用される原料の情報から求めることができる。

　第１実施形態における第１触媒層２０の平均長さＬ_２０の測定方法に関する上記説明は、第５触媒層６０の平均長さＬ_６０の測定方法にも適用される。適用の際、「第１触媒層２０」は「第５触媒層６０」に、「平均長さＬ_２０」は「平均長さＬ_６０」に読み替えられる。

　排ガス浄化性能を向上させる観点から、第５触媒層６０は、Ｐｄを含むことが好ましい。Ｐｄは、触媒活性成分として機能し得る形態、例えば、金属Ｐｄ、Ｐｄを含む合金、Ｐｄを含む化合物（例えば、Ｐｄの酸化物）等の、Ｐｄを含む触媒活性成分の形態で第５触媒層６０に含まれる。排ガス浄化性能を向上させる観点から、Ｐｄを含む触媒活性成分は、粒子状であることが好ましい。

　排ガス浄化性能とコストとをバランスよく実現する観点から、第５触媒層６０におけるＰｄの金属換算量は、第５触媒層６０の質量を基準として、好ましくは０．５０質量％以上１０質量％以下、より好ましくは１．０質量％以上７．０質量％以下、より一層好ましくは２．０質量％以上５．０質量％以下である。第５触媒層６０におけるＰｄの金属換算量は、本発明の触媒組成物におけるＰｔの金属換算量と同様にして測定することができる。

　第５触媒層６０は、Ｐｄ以外の貴金属元素を含んでいてもよい。Ｐｄ以外の貴金属元素としては、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｏｓ等が挙げられる。Ｐｄ以外の貴金属元素は、触媒活性成分として機能し得る形態、例えば、金属、貴金属元素を含む合金、貴金属元素を含む化合物（例えば、貴金属元素の酸化物）等の、Ｐｄ以外の貴金属元素を含む触媒活性成分の形態で第５触媒層６０に含まれる。排ガス浄化性能を向上させる観点から、Ｐｄ以外の貴金属元素を含む触媒活性成分は、粒子状であることが好ましい。

　第５触媒層６０がＰｄとＰｄ以外の貴金属元素とを含む場合、ＰｄとＰｄ以外の貴金属元素とが合金を形成し、排ガス浄化性能に関与するＰｄの活性点が減少するおそれがある。したがって、第５触媒層６０は、Ｐｄ以外の貴金属元素を実質的に含まないことが好ましい。「Ｐｄ以外の貴金属元素を実質的に含まない」及び「Ｐｄ以外の貴金属元素の金属換算量」の意義並びにＰｄ以外の貴金属元素の金属換算量の測定方法は上記の通りである。

　第５触媒層６０は、１種又は２種以上のアルカリ土類金属元素を含んでいてもよい。アルカリ土類金属元素は、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ及びＲａから選択される。

　Ｐｄの酸化状態を維持する観点から、第５触媒層６０におけるアルカリ土類金属元素の金属換算量は、第５触媒層６０の質量を基準として、好ましくは１．０質量％以上１０．０質量％以下、より好ましくは２．０質量％以上６．０質量％以下、より一層好ましくは３．０質量％以上４．０質量％以下である。「アルカリ土類金属元素の金属換算量」の意義及びアルカリ土類金属元素の金属換算量の測定方法は上記の通りである。

　第５触媒層６０において、アルカリ土類金属元素の存在形態は特に限定されない。第５触媒層６０において、アルカリ土類金属元素は、例えば、酸化物、炭酸塩、硝酸塩及び硫酸塩から選択される１種又は２種以上の形態で存在し得る。

　第５触媒層６０は、１種又は２種以上の担体を含んでいてもよい。第５触媒層６０が担体を含む場合、触媒活性成分の少なくとも一部は担体に担持されていることが好ましい。担体に関する説明（無機酸化物に関する説明を含む）並びに担持の意義及び確認方法は上記の通りである。

　図６に示すように、第２触媒層３０は、第１触媒層２０及び第５触媒層６０の上側に設けられている。「第２触媒層３０が第１触媒層２０の上側に設けられている」及び「第１触媒層２０の主面」の意義は上記の通りである。「第２触媒層３０が第５触媒層６０の上側に設けられている」という表現は、第５触媒層６０の２つの主面のうち、基材１０の隔壁部１２側の主面とは反対側の主面上に、第２触媒層３０の一部又は全部が存在することを意味する。「第５触媒層６０の主面」は、排ガス流通方向Ｘに延在する、第５触媒層６０の外表面を意味する。第２触媒層３０は、第５触媒層６０の主面上に、直接設けられていてもよいし、別の層を介して設けられていてもよい。第２触媒層３０は、第５触媒層６０の主面の一部を覆うように設けられていてもよいし、第５触媒層６０の主面の全体を覆うように設けられていてもよい。

　触媒１Ｃでは、第２触媒層３０が第１触媒層２０及び第５触媒層６０の上側に設けられている。したがって、セル１３の排ガス流入側の端部（開口部）から流入した排ガスは、第２触媒層３０と接触した後、第１触媒層２０及び第５触媒層６０と接触する。第２触媒層３０と接触した排ガスは、第２触媒層３０中の触媒活性成分（例えば、Ｒｈ）により浄化される。触媒１Ｃが置かれている環境が内燃機関の始動直後の低温環境である場合、第２触媒層３０中の触媒活性成分（例えば、Ｒｈ）の活性化が不十分であるため、第２触媒層３０の排ガス浄化性能が低い。したがって、低温環境下において、第２触媒層３０は、ＮＯｘを十分に浄化できない場合がある。しかしながら、低温環境下において第２触媒層３０が浄化できなかったＮＯｘは、第１触媒層２０中のＳｒに吸着され、第１触媒層２０及び第５触媒層６０が置かれている環境が高温環境になるまで第１触媒層２０中のＳｒに保持され、第１触媒層２０及び第５触媒層６０が置かれている環境が高温環境になった後に（すなわち、第１触媒層２０中の触媒活性成分（例えば、Ｐｔ）及び／又は第５触媒層６０中の触媒活性成分（例えば、Ｐｄ）が十分に活性化された後に）放出される。放出されたＮＯｘは、活性化された触媒活性成分（第１触媒層２０中の触媒活性成分（例えば、Ｐｔ）及び／又は第５触媒層６０中の触媒活性成分（例えば、Ｐｄ））により効果的に浄化される。このように、第１触媒層２０中のＳｒは、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持することにより、低温環境下における触媒１Ｃの排ガス浄化性能を補うことができる。

　触媒１Ｃは、以下の方法により製造することができる。触媒１Ｃの製造条件等は、触媒１Ａと同様である。

　基材１０の排ガス流出側に、第１触媒層２０を形成するためのスラリーを付着させ、当該スラリーを乾燥させた後、必要に応じて焼成することで、第１触媒層２０を形成することができる。基材１０の排ガス流入側に、第５触媒層６０を形成するためのスラリーを付着させ、当該スラリーを乾燥させた後、必要に応じて焼成することで、第５触媒層６０を形成することができる。

　基材１０上に第１触媒層２０及び第５触媒層６０を形成した後、第１触媒層２０及び第５触媒層６０の上側に第２触媒層３０を形成することにより、触媒１Ｃを製造することができる。

　第５触媒層６０を形成するためのスラリーは、Ｐｄの供給源（例えば、Ｐｄ塩）及びその他の成分（例えば、無機酸化物、バインダ、溶媒等）を混合して調製することができる。Ｐｄ塩、無機酸化物、バインダ及び溶媒に関する説明は上記の通りである。

≪排ガス浄化システム≫
　以下、本発明の排ガス浄化システムについて説明する。

　以下、図７及び８に基づいて、本発明の一実施形態に係る排ガス浄化システム１００について説明する。

　図７に示すように、排ガス浄化システム１００は、排気管Ｐと、排気管Ｐの排気通路内の下流側に設けられた第１排ガス浄化用触媒１０１（本明細書において「第１触媒１０１」という場合がある。）と、排気管Ｐの排気通路内の上流側に設けられた第２排ガス浄化用触媒１０２（本明細書において「第２触媒１０２」という場合がある。）とを備える。

　排気管Ｐの一端部Ｐ１は内燃機関（例えば、ガソリンエンジン等）に接続されており、内燃機関から排出された排ガスは、排気管Ｐの一端部Ｐ１から他端部Ｐ２に向けて排気管Ｐ内を流通する。すなわち、排気管Ｐは、排ガスが流通する排気通路を形成する。図面において、排ガス流通方向は、符号Ｘで示されている。排気管Ｐ内を流通する排ガスは、排気管Ｐの排気通路内の上流側に設けられた第２触媒１０２で処理され、第２触媒１０２を通過した排ガスは、排気管Ｐの排気通路内の下流側に設けられた第１触媒１０１で処理される。

　第１触媒１０１は、第１基材と、第１基材に設けられた触媒層とを備える。第１基材に設けられた触媒層は、本発明の触媒組成物で構成されている。したがって、本発明の触媒組成物に関する上記説明は、第１基材に設けられた触媒層にも適用される。適用の際、「本発明の触媒組成物」は「第１基材に設けられた触媒層」に読み替えられる。

　第１触媒１０１としては、例えば、触媒１Ａ、触媒１Ａから第２触媒層３０が省略された排ガス浄化用触媒、触媒１Ｂ、触媒１Ｂから第２触媒層３０、第３触媒層４０及び第４触媒層５０のうち１又は２以上が省略された排ガス浄化用触媒（例えば、第２触媒層３０が省略された排ガス浄化用触媒、第３触媒層４０が省略された排ガス浄化用触媒、第４触媒層５０が省略された排ガス浄化用触媒、第２触媒層３０及び第３触媒層４０が省略された排ガス浄化用触媒、第２触媒層３０及び第４触媒層５０が省略された排ガス浄化用触媒等）、触媒１Ｃ、触媒１Ｃから第２触媒層３０が省略された排ガス浄化用触媒等を使用することができる。第１触媒１０１として、これらの排ガス浄化用触媒を使用する場合、基材１０が「第１基材」に相当し、第１触媒層２０が「第１基材に設けられた触媒層」に相当する。排ガス浄化性能を向上させる観点から、触媒１Ｂから第２触媒層３０、第３触媒層４０及び第４触媒層５０のうち１又は２以上が省略された排ガス浄化用触媒には、第２触媒層３０及び第３触媒層４０のうち、少なくとも一方が設けられていることが好ましく、両方が設けられていることが好ましい。

　第２触媒１０２は、第２基材と、第２基材に設けられた触媒層とを備える。

　第２触媒１０２としては、例えば、図８に示す排ガス浄化用触媒１Ｄ（本明細書において「触媒１Ｄ」という場合がある。）又は触媒１Ｄから第４触媒層５０が省略された排ガス浄化用触媒を使用することができる。第２触媒１０２として、触媒１Ｄ又は触媒１Ｄから第４触媒層５０が省略された排ガス浄化用触媒を使用する場合、基材１０が「第２基材」に相当し、第３触媒層４０が「第２基材に設けられた触媒層」に相当する。

　以下、図８に基づいて、触媒１Ｄについて説明する。触媒１Ｄにおいて、触媒１Ａ又は１Ｂと同一の部材は、触媒１Ａ又は１Ｂと同一の符号で示されている。以下で別段規定される場合を除き、触媒１Ａ及び１Ｂに関する上記説明は、触媒１Ｄにも適用される。

　図８に示すように、触媒１Ｄは、基材１０と、基材１０に設けられた第３触媒層４０及び第４触媒層５０とを備える。第１実施形態における基材１０に関する説明、並びに、第２実施形態における第３触媒層４０及び第４触媒層５０に関する説明は、別段規定される場合を除き、触媒１Ｄにも適用される。

　図８に示すように、第３触媒層４０は、第４触媒層５０の上側に設けられている。「第３触媒層４０が第４触媒層５０の上側に設けられている」及び「第４触媒層５０の主面」の意義は上記の通りである。第３触媒層４０は、第４触媒層５０の主面上に、直接設けられていてもよいし、別の層を介して設けられていてもよい。第３触媒層４０は、第４触媒層５０の主面の一部を覆うように設けられていてもよいし、第４触媒層５０の主面の全体を覆うように設けられていてもよい。

　図８に示すように、第３触媒層４０は、隔壁部１２の排ガス流入側の端部から隔壁部１２の排ガス流出側の端部まで排ガス流通方向Ｘに沿って延在している。第３触媒層４０は、隔壁部１２の排ガス流出側の端部に至らないように、隔壁部１２の排ガス流入側の端部から排ガス流通方向Ｘに沿って延在していてもよいし、隔壁部１２の排ガス流入側の端部に至らないように、隔壁部１２の排ガス流出側の端部から排ガス流通方向Ｘとは反対の方向に沿って延在していてもよい。

　図８に示すように、第４触媒層５０は、基材１０の隔壁部１２の表面上に設けられている。なお、隔壁部１２の表面は、排ガス流通方向Ｘに延在する、隔壁部１２の外表面を意味する。第４触媒層５０は、隔壁部１２の表面上に直接設けられていてもよいし、他の層を介して隔壁部１２の表面上に設けられていてもよい。

　図８に示すように、第４触媒層５０は、隔壁部１２の表面からセル１３側に***している部分（以下「***部分」という。）を有する。第４触媒層５０は、***部分のみで構成されていてもよいし、***部分とともに、隔壁部１２の内部に存在する部分（以下「内在部分」という。）を有していてもよい。また、第４触媒層５０は、内在部分のみで構成されていてもよい。

　図８に示すように、第４触媒層５０は、隔壁部１２の排ガス流入側の端部から隔壁部１２の排ガス流出側の端部まで排ガス流通方向Ｘに沿って延在している。第４触媒層５０は、隔壁部１２の排ガス流出側の端部に至らないように、隔壁部１２の排ガス流入側の端部から排ガス流通方向Ｘに沿って延在していてもよいし、隔壁部１２の排ガス流入側の端部に至らないように、隔壁部１２の排ガス流出側の端部から排ガス流通方向Ｘとは反対の方向に沿って延在していてもよい。

　排ガス浄化システム１００では、第２触媒１０２が第１触媒１０１の上流側に位置するので、排気管Ｐ内を流通する排ガスは、第２触媒１０２を通過した後、第１触媒１０１を通過する。排ガスが第２触媒１０２を通過する際、排ガスは第２基材に設けられた触媒層により浄化される。第２触媒１０２が置かれている環境が内燃機関の始動直後の低温環境である場合、第２触媒１０２中の触媒活性成分の活性化が不十分であるため、第２触媒１０２の排ガス浄化性能が低い。したがって、低温環境下において、第２触媒１０２は、ＮＯｘを十分に浄化できない場合がある。しかしながら、低温環境下において第２触媒１０２が浄化できなかったＮＯｘは、第１触媒１０１を通過する際、第１基材に設けられた触媒層中のＳｒに吸着され、第１触媒１０１が置かれている環境が高温環境になるまで該触媒層中のＳｒに保持され、第１触媒１０１が置かれている環境が高温環境になった後に（すなわち、第１基材に設けられた触媒層（例えば、第１触媒層２０、第２触媒層３０等）中の触媒活性成分）が活性化された後に）放出される。放出されたＮＯｘは、活性化された触媒活性成分（第１基材に設けられた触媒層（例えば、第１触媒層２０、第２触媒層３０等）中の触媒活性成分）により効果的に浄化される。このように、第１基材に設けられた触媒層中のＳｒは、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持することにより、低温環境下における排ガス浄化システム１００の排ガス浄化性能を補うことができる。

　第１基材に設けられた触媒層中のＳｒの金属換算量が少なすぎると、Ｓｒによる効果が十分に発揮されない。第１基材に設けられた触媒層中のＳｒの金属換算量が多すぎると、低温環境下における該触媒層中のＰｔの排ガス浄化性能が却って低下する。Ｐｔの排ガス浄化性能の低下には、ＳｒがＰｔの酸化状態を安定化させ、Ｐｔを不活性化させることが関与していると考えられる。第１基材に設けられた触媒層中のＳｒの金属換算量が、該触媒層の質量を基準として、０．１質量％以上９．０質量％以下である場合、Ｐｔを活用しつつ、低温環境下における排ガス浄化性能と、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持する性能とをより効果的に実現することができる。

　以下、実施例及び比較例に基づいて、本発明をさらに詳述する。

〔実施例１〕

（１）下層形成用スラリーの調製
　下記組成のＯＳＣ材料を準備した。
　ＣｅのＣｅＯ_２換算量：４０．０質量％，ＺｒのＺｒＯ_２換算量：５０．０質量％，ＣｅＯ_２以外の希土類の酸化物換算量：１０．０質量％

　調合容器に、硝酸白金水溶液、ＯＳＣ材料、Ｌａ_２Ｏ_３修飾アルミナ（Ｌａ_２Ｏ_３修飾量：１質量％）、硝酸ストロンチウム、アルミナゾル及び水を加え、混合及び撹拌し、下層形成用スラリーを調製した。下層形成用スラリー中の各成分量は、焼成後の下層の質量を基準（１００質量％）として、Ｐｔが金属換算で０．５質量％、ＯＳＣ材料が４０．０質量％、Ｌａ_２Ｏ_３修飾アルミナが４３．６質量％、Ｓｒが金属換算で５．０質量％、アルミナゾルの固形分が１０．０質量％となるように調整した。なお、硝酸ストロンチウム（Ｓｒ（ＮＯ_３）_２）は、焼成により、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）に変換される。

（２）下層の形成
　フロースルー型基材として、厚みが５０～７０μｍの隔壁で区画された軸方向に延びるセルを、軸方向と直交する面において６００セル／インチ^２の密度で有し、体積が１．０Ｌであるフロースルー型基材を準備した。

　下層形成用スラリーにフロースルー型基材を浸漬し、下層形成用スラリーが塗布されたフロースルー型基材を１５０℃で０．５時間乾燥させた後、５００℃で１時間焼成して、下層を形成した。フロースルー型基材のうち下層が形成されている部分の単位体積当たりの下層の質量は、１４０ｇ／Ｌであった。

（３）上層形成用スラリーの調製
　下記組成のＯＳＣ材料を準備した。
　ＣｅのＣｅＯ_２換算量：１５．０質量％，ＺｒのＺｒＯ_２換算量：７５．０質量％，Ｃｅ以外の希土類元素の酸化物換算量：１０．０質量％

　調合容器に、硝酸ロジウム水溶液、ＯＳＣ材料、Ｌａ_２Ｏ_３修飾アルミナ（Ｌａ_２Ｏ_３修飾量：１質量％）、アルミナゾル及び水を加え、混合及び撹拌し、上層形成用スラリーを調製した。上層形成用スラリー中の各成分量は、焼成後の上層の質量を基準（１００質量％）として、Ｒｈが金属換算で０．２質量％、ＯＳＣ材料が５０．０質量％、Ｌａ_２Ｏ_３修飾アルミナが３９．８質量％、アルミナゾルの固形分が１０．０質量％となるように調整した。

（４）上層の形成
　上層形成用スラリーに、下層が形成されたフロースルー型基材を浸漬し、上層形成用スラリーが塗布されたフロースルー型基材を１５０℃で０．５時間乾燥させた後、５００℃で１時間焼成して、下層上に上層を形成した。フロースルー型基材のうち上層が形成されている部分の単位体積当たりの上層の質量は、８０ｇ／Ｌであった。

　以上のようにして、フロースルー型基材に形成された下層と、下層上に形成された上層とを備える排ガス浄化用触媒（以下、単に「触媒」という。）を製造し、製造された触媒を後述の試験例で使用した。

〔実施例２〕
　触媒の製造において、下層形成用スラリー中の各成分量を、焼成後の下層の質量を基準（１００質量％）として、Ｐｔが金属換算で０．５質量％、ＯＳＣ材料が４０．０質量％、Ｌａ_２Ｏ_３修飾アルミナが４８．３質量％、Ｓｒが金属換算で１．０質量％、アルミナゾルの固形分が１０．０質量％となるように調整した点を除き、実施例１と同様にして、触媒を製造した。実施例２の触媒において、フロースルー型基材のうち下層が形成されている部分の単位体積当たりの下層の質量は１４０ｇ／Ｌであった。

〔実施例３〕
　触媒の製造において、下層形成用スラリー中の各成分量を、焼成後の下層の質量を基準（１００質量％）として、Ｐｔが金属換算で０．５質量％、ＯＳＣ材料が４０．０質量％、Ｌａ_２Ｏ_３修飾アルミナが４７．１質量％、Ｓｒが金属換算で２．０質量％、アルミナゾルの固形分が１０．０質量％となるように調整した点を除き、実施例１と同様にして、触媒を製造した。実施例３の触媒において、フロースルー型基材のうち下層が形成されている部分の単位体積当たりの下層の質量は１４０ｇ／Ｌであった。

〔実施例４〕
　触媒の製造において、下層形成用スラリー中の各成分量を、焼成後の下層の質量を基準（１００質量％）として、Ｐｔが金属換算で０．５質量％、ＯＳＣ材料が４０．０質量％、Ｌａ_２Ｏ_３修飾アルミナが４５．４質量％、Ｓｒが金属換算で３．５質量％、アルミナゾルの固形分が１０．０質量％となるように調整した点を除き、実施例１と同様にして、触媒を製造した。実施例４の触媒において、フロースルー型基材のうち下層が形成されている部分の単位体積当たりの下層の質量は１４０ｇ／Ｌであった。

〔実施例５〕
　触媒の製造において、下層形成用スラリー中の各成分量を、焼成後の下層の質量を基準（１００質量％）として、Ｐｔが金属換算で０．５質量％、ＯＳＣ材料が４０．０質量％、Ｌａ_２Ｏ_３修飾アルミナが４１．２質量％、Ｓｒが金属換算で７．０質量％、アルミナゾルの固形分が１０．０質量％となるように調整した点を除き、実施例１と同様にして、触媒を製造した。実施例５の触媒において、フロースルー型基材のうち下層が形成されている部分の単位体積当たりの下層の質量は１４０ｇ／Ｌであった。

〔比較例１〕
　触媒の製造において、硝酸ストロンチウムに代えて硝酸マグネシウムを使用し、下層形成用スラリー中の各成分量を、焼成後の下層の質量を基準（１００質量％）として、Ｐｔが金属換算で０．５質量％、ＯＳＣ材料が４０．０質量％、Ｌａ_２Ｏ_３修飾アルミナが４１．２質量％、Ｍｇが金属換算で５．０質量％、アルミナゾルの固形分が１０．０質量％となるように調整した点を除き、実施例１と同様にして、触媒を製造した。比較例１の触媒において、フロースルー型基材のうち下層が形成されている部分の単位体積当たりの下層の質量は１４０ｇ／Ｌであった。なお、硝酸マグネシウム（Ｍｇ（ＮＯ_３）_２）は、焼成により、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）に変換される。

〔比較例２〕
　触媒の製造において、硝酸ストロンチウムに代えて硝酸バリウムを使用し、下層形成用スラリー中の各成分量を、焼成後の下層の質量を基準（１００質量％）として、Ｐｔが金属換算で０．５質量％、ＯＳＣ材料が４０．０質量％、Ｌａ_２Ｏ_３修飾アルミナが４３．９質量％、Ｂａが金属換算で５．０質量％、アルミナゾルの固形分が１０．０質量％となるように調整した点を除き、実施例１と同様にして、触媒を製造した。比較例２の触媒において、フロースルー型基材のうち下層が形成されている部分の単位体積当たりの下層の質量は１４０ｇ／Ｌであった。なお、硝酸バリウム（Ｂａ（ＮＯ_３）_２）は、焼成により、酸化バリウム（ＢａＯ）に変換される。

〔比較例３〕
　触媒の製造において、下層形成用スラリー中の各成分量を、焼成後の下層の質量を基準（１００質量％）として、Ｐｔが金属換算で０．５質量％、ＯＳＣ材料が４０．０質量％、Ｌａ_２Ｏ_３修飾アルミナが３７．７質量％、Ｓｒが金属換算で１０．０質量％、アルミナゾルの固形分が１０．０質量％となるように調整した点を除き、実施例１と同様にして、触媒を製造した。比較例３の触媒において、フロースルー型基材のうち下層が形成されている部分の単位体積当たりの下層の質量は１４０ｇ／Ｌであった。

〔比較例４〕
　触媒の製造において、硝酸ストロンチウムに代えて硝酸マグネシウムを使用し、下層形成用スラリー中の各成分量を、焼成後の下層の質量を基準（１００質量％）として、Ｐｔが金属換算で０．５質量％、ＯＳＣ材料が４０．０質量％、Ｌａ_２Ｏ_３修飾アルミナが３６．２質量％、Ｍｇが金属換算で８．０質量％、アルミナゾルの固形分が１０．０質量％となるように調整した点を除き、実施例１と同様にして、触媒を製造した。比較例４の触媒において、フロースルー型基材のうち下層が形成されている部分の単位体積当たりの下層の質量は１４０ｇ／Ｌであった。なお、硝酸マグネシウム（Ｍｇ（ＮＯ_３）_２）は、焼成により、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）に変換される。

〔試験例〕
（１）評価用サンプルの準備
　触媒を３０ｍＬにコアリングし、コアリングした触媒に対して、石英製の管状炉を使用して、１０００℃で２０時間、１０体積％Ｈ_２Ｏ雰囲気下、下記ＦＣモードにて熱処理を行った。熱処理後の触媒を評価用サンプルとして使用した。
　ＦＣモード：下記組成のモデルガス（６００ｍＬ／分）と空気（６００ｍＬ／分）とを交互に流した。
　モデルガス流量：Ｃ_３Ｈ_６　１．２ｍＬ／分、Ｏ_２　１４．２ｍＬ／分、Ｎ_２　５８４．６ｍＬ／分（計６００ｍＬ／分）とした。
　１０体積％Ｈ_２Ｏは、水入りタンクより気化させ、水蒸気としてモデルガス又は空気に混入させた。温度により飽和水蒸気圧を調整し、上記体積％の水蒸気量とした。

（２）ＮＯｘ吸着維持温度及びＮＯｘ吸着量（ＮＯｘ濃度積算値）の評価
　ＮＯｘ吸着維持温度の評価は、実施例１及び比較例１～２の評価用サンプルに対して行った。
　ＮＯｘ吸着量（ＮＯｘ濃度積算値）の評価は、実施例２～５及び比較例３～４の評価用サンプルに対して行った。

　評価方法として、昇温脱離法（ＴＰＤ：Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ　Ｐｒｏｇｒａｍｅｄ　Ｄｅｓｏｒｐｔｉｏｎ）を使用した。昇温脱離法は、固体試料にプローブ分子（例えば、ＮＯｘ）を吸着させた後、温度を連続的に上昇させることによって生じる脱離ガスを測定する方法であり、固体塩基触媒の塩基点の量又は強度を調べるための一般的なキャラクタリゼーションとして使用されている。評価方法は、以下の通りである。

　評価用サンプルに、５０℃で１時間、前処理ガス（ＮＯ：１体積％，Ｏ_２：２０体積％，Ｎ_２：残部）を流通させ、評価用サンプルにＮＯに吸着させた。その後、Ｈｅ雰囲気下にて、昇温速度１０℃／分で８００℃まで昇温させ、評価用サンプルから脱離されるＮＯｘ濃度（ｐｐｍ）を０．５秒ごとに検出し、横軸が温度、縦軸がＮＯｘ濃度（ｐｐｍ）であるＮＯｘ濃度プロファイル曲線を得た。

　ＮＯｘ濃度プロファイル曲線について、４００℃以上の領域の濃度の積算値（４００℃以上の領域の曲線下面積）及び５００℃以上の領域の濃度の積算値（５００℃以上の領域の曲線下面積）を、それぞれ、「４００℃以上ＮＯｘ濃度積算値」及び「５００℃以上ＮＯｘ濃度積算値」とした。また、ＮＯｘ濃度プロファイル曲線の４００℃以上での最大値をＸとしたとき、最大値を示した後の昇温過程での検出値が初めてＸの１／１０となる温度を「ＮＯｘ吸着維持温度」とした。結果を表１及び２に示す。なお、表２において、「４００℃以上ＮＯｘ濃度積算値」及び「５００℃以上ＮＯｘ濃度積算値」は、比較例４の値を１としたときの相対値として表されている。

（３）排ガス浄化性能（Ｔ５０）の評価
　Ｔ５０の評価は、実施例２～５及び比較例３～４の評価用サンプルに対して行った。
　評価用サンプルを排気通路に配置し、排気モデルガス（ＣＯ：０．５０体積％，Ｈ_２：０．１７体積％，Ｏ_２：０．５０体積％，ＮＯ：４００ｐｐｍ，Ｃ_３Ｈ_６：１１８０ｐｐｍ，ＣＯ_２：１４体積％，Ｈ_２Ｏ：１０体積％，Ｎ_２：残部）を空間速度１０００００／ｈで流通させながら、２０℃／分の昇温温度で５００℃まで昇温し、窒素酸化物（ＮＯｘ）の浄化率を連続的に測定し、窒素酸化物（ＮＯｘ）の浄化率が５０％に達する温度（ライトオフ温度Ｔ５０）（℃）を求めた。ライトオフ温度Ｔ５０は、昇温時について求めた。結果を表２に示す。

　表１及び２に示すように、触媒における下層がＰｔ及びＳｒ含み、Ｓｒの金属換算量が、下層の質量を基準として、０．１質量％以上９．０質量％以下である、という条件を満たす実施例１～５は、当該条件を満たさない比較例１～４と比較して、低温環境下における排ガス浄化性能が高く、低温時に吸着したＮＯｘを高温時まで保持する性能も高かった。

Ｐ・・・内燃機関の排気管
１Ａ・・・第１実施形態に係る排ガス浄化用触媒
１Ｂ・・・第２実施形態に係る排ガス浄化用触媒
１Ｃ・・・第３実施形態に係る排ガス浄化用触媒
１０・・・基材
１１・・・筒状部
１２・・・隔壁部
１３・・・セル
１４・・・第１封止部
１５・・・第２封止部
２０・・・第１触媒層
３０・・・第２触媒層
４０・・・第３触媒層
５０・・・第４触媒層
６０・・・第５触媒層
１００・・・排ガス浄化システム
１０１・・・第１排ガス浄化用触媒
１０２・・・第２排ガス浄化用触媒

Claims

　Ｐｔ及びＳｒを含む排ガス浄化用触媒組成物であって、
　Ｓｒの金属換算量が、前記排ガス浄化用触媒組成物の質量を基準として、０．１質量％以上９．０質量％以下である、排ガス浄化用触媒組成物。
　Ｓｒ以外のアルカリ土類金属元素の金属換算量が、前記排ガス浄化用触媒組成物の質量を基準として、４．０質量％以下である、請求項１に記載の排ガス浄化用触媒組成物。
　Ｓｒが、ＳｒＯ及びＳｒＣＯ_３から選択される１種又は２種の形態で存在している、請求項１に記載の排ガス浄化用触媒組成物。
　前記排ガス浄化用触媒組成物が、Ｌａを含む修飾アルミナを含み、前記修飾アルミナに由来するＬａのＬａ_２Ｏ_３換算量が、前記排ガス浄化用触媒組成物の質量を基準として、０．２０質量％以上５．０質量％以下である、請求項１に記載の排ガス浄化用触媒組成物。
　基材と、前記基材に設けられた第１触媒層とを備える排ガス浄化用触媒であって、
　前記第１触媒層が、請求項１～４のいずれか一項に記載の排ガス浄化用触媒組成物で構成されている、排ガス浄化用触媒。
　前記排ガス浄化用触媒が、前記基材に設けられた第２及び／又は第３触媒層をさらに備え、
　前記第２触媒層が、前記第１触媒層の上側に設けられており、
　前記第３触媒層が、前記第１触媒層の上流側に設けられている、請求項５に記載の排ガス浄化用触媒。
　前記第２及び／又は第３触媒層が、Ｒｈを含む、請求項６に記載の排ガス浄化用触媒。
　前記第２触媒層におけるアルカリ土類金属元素の金属換算量が、前記第２触媒層の質量を基準として、５．０質量％以下であり、
　前記第３触媒層におけるアルカリ土類金属元素の金属換算量が、前記第３触媒層の質量を基準として、５．０質量％以下である、請求項６に記載の排ガス浄化用触媒。
　排ガスが流通する排気通路と、
　前記排気通路内の下流側に設けられた第１排ガス浄化用触媒と、
　前記排気通路内の上流側に設けられた第２排ガス浄化用触媒と、
を備える、排ガス浄化システムであって、
　前記第１排ガス浄化用触媒が、第１基材と、前記第１基材に設けられた触媒層とを備え、
　前記第１基材に設けられた前記触媒層が、請求項１～４のいずれか一項に記載の排ガス浄化用触媒組成物で構成されている、排ガス浄化システム。
　前記第２排ガス浄化用触媒が、第２基材と、前記第２基材に設けられた触媒層とを備える、請求項９に記載の排ガス浄化システム。
　前記第２基材に設けられた前記触媒層が、Ｒｈを含む、請求項１０に記載の排ガス浄化システム。
　前記第２基材に設けられた前記触媒層におけるアルカリ土類金属元素の金属換算量が、前記第２基材に設けられた前記触媒層の質量を基準として、５．０質量％以下である、請求項１０に記載の排ガス浄化システム。