WO2023032961A1 - ガラス部材、入力装置、ペン入力装置、モバイル機器、及びガラス部材の製造方法 - Google Patents

ガラス部材、入力装置、ペン入力装置、モバイル機器、及びガラス部材の製造方法 Download PDF

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WO2023032961A1
WO2023032961A1 PCT/JP2022/032545 JP2022032545W WO2023032961A1 WO 2023032961 A1 WO2023032961 A1 WO 2023032961A1 JP 2022032545 W JP2022032545 W JP 2022032545W WO 2023032961 A1 WO2023032961 A1 WO 2023032961A1
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WO
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glass member
glass
fine unevenness
pen
load
Prior art date
Application number
PCT/JP2022/032545
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English (en)
French (fr)
Inventor
沢泉 木下
直樹 藤田
Original Assignee
日本電気硝子株式会社
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Publication date
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C1/00—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
    • B24C1/06—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for producing matt surfaces, e.g. on plastic materials, on glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C19/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means

Definitions

  • the present invention relates to a glass member, an input device, a pen input device, a mobile device, and a method for manufacturing the glass member.
  • input devices such as touch panels
  • a transparent glass substrate made of a glass member is arranged as a cover member on the front side (front side) of a display device such as a liquid crystal display.
  • a display device such as a liquid crystal display.
  • various input operations can be performed.
  • minute unevenness is provided in advance for the purpose of improving tactile sensation such as writing comfort with an input pen and touch comfort with a fingertip.
  • the arithmetic mean roughness Ra is 0.19 ⁇ m or more and 0.45 ⁇ m or less, and the average period Sm is 30 ⁇ m or more and 80 ⁇ m
  • a glass substrate for a pen input device is disclosed, which has the following concave-convex shape on its surface.
  • An object is to provide an apparatus, a mobile device, and a method for manufacturing the glass member.
  • the glass member according to the present invention has fine unevenness on at least a part of the surface, and the load area ratio of the surface of the fine unevenness within a square area of 5 ⁇ m on each side is 10% to 99%. %, the coefficient of determination R2 of the regression line obtained by simple regression analysis by the least squares method is 0.600 or more and 0.960 or less.
  • the glass member according to the present invention has fine unevenness on at least a part of the surface, and the load area ratio of the surface of the fine unevenness within a square area of 5 ⁇ m on each side is 1%.
  • the load curve for the maximum height h ( ha - hb), which is the difference between the height ha when the load area ratio is 99% and the height hb when the load area ratio is 99%, and the load area ratio is 10% to 99 %, the ratio (d / h) of the root mean square error d with the regression line obtained by performing simple regression analysis by the least squares method is 0.045 or more and 0.165 or less.
  • the glass member of the present invention when the tip of the input pen or the fingertip is brought into contact with and moved with respect to the surface of the glass member, the presence of the concave portion (valley portion) is suppressed.
  • the contact area By moderately reducing the contact area, excessive adhesion at the time of contact can be suppressed, so these pen tips or fingertips are moderately slippery. A feeling of catching is felt, and tactile sensations such as writing comfort with an input pen and touch comfort with a fingertip can be improved.
  • the glass member according to the present invention has fine unevenness on at least a part of the surface, and in the load curve of the surface of the fine unevenness within a square area with one side of 5 ⁇ m, the core portion of the fine unevenness and the protrusion of the fine unevenness
  • the load area ratio indicating the boundary with the peak is 10%
  • the load area ratio indicating the boundary between the core portion and the protrusion trough in the fine unevenness is 80%
  • a ratio (Vvv/Vmp) of the volume Vvv of the space of the projecting valley is 2.4 or more and 15 or less.
  • the effect of reducing the contact area with the tip of the input pen or the fingertip due to the concave portion (trough) can be sufficiently expected, and the surface of the glass member can be reduced.
  • the pen tip or fingertip of the input pen touches and moves the pen tip or fingertip becomes moderately slippery, and the existence of the convex part (mountain part) gives a moderate feeling of being caught.
  • tactile sensations such as writing comfort with an input pen and touch comfort with a fingertip can be improved.
  • the arithmetic mean height Sa of the elements of the roughness curve in the fine unevenness is 1 nm or more and 100 nm or less.
  • an input device is characterized by comprising a glass substrate made of any one of the glass members described above, a display device for displaying an image, and a detection circuit for detecting an input position.
  • a pen input device is characterized by comprising: the above input device; and an input pen that performs an input operation on the input device by moving the input device while being in contact with the surface of the glass substrate.
  • a mobile device according to the present invention is characterized by comprising a rear cover member made of any one of the glass members described above.
  • a method for manufacturing a glass member according to the present invention is a method for manufacturing any one of the glass members described above, and is characterized by subjecting the surface of the glass member to wet blasting or sandblasting. .
  • the glass member having the fine unevenness formed on the surface thereof, compared with a smooth flat surface without the fine unevenness It is possible to manufacture a glass member having excellent tactile sensations such as writing comfort with an input pen and touch comfort with a fingertip.
  • the following effects are obtained. That is, according to the glass member, the input device, the pen input device, and the mobile device having the glass member, and the method for manufacturing the glass member, according to the present invention, tactile sensations such as writing comfort with an input pen and tactile sensation with a fingertip can be achieved. , can be excellent.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional side view showing the configuration of a pen input device according to an embodiment of the present invention
  • FIG. It is a figure for demonstrating the relationship between the profile curve of fine grooving
  • the coefficient of determination R2 of the regression line is 0.600 or more and 0.960 or less in the relationship between the load curve of the surface and the regression line obtained by performing simple regression analysis on the load curve by the method of least squares.
  • (a) is a diagram schematically showing the contour curve of the fine unevenness in this case
  • (b) is the load curve and the regression line of the surface in this case is a diagram showing the relationship of
  • (a) is a diagram schematically showing the contour curve of the fine unevenness in this case
  • (b) is a diagram showing the relationship between the load curve and the regression line in this case is.
  • FIG. 4 is a schematic diagram showing a mobile device that is another embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a diagrammatic representation of FIG. 1 to 9.
  • the pen input device 1 includes an input device 2 having a glass substrate 21 made of the glass member according to the present invention, and moving the surface of the glass substrate 21 (more specifically, the main surface 21a) while being in contact with each other.
  • An input pen 3 for performing an input operation on the input device 2 is provided.
  • the input device 2 is mainly composed of a glass substrate 21 provided as a cover member, a display element 22 that is an example of a display device, and an example of a detection circuit that is an example of a detection circuit that is operated by the input pen 3 or the fingertip 4. and a digitizer circuit 23 for detecting input information (more specifically, the input position of the input pen 3 or fingertip 4).
  • the glass substrate 21, the display element 22, and the digitizer circuit 23 are laminated with each other. is placed.
  • the "front side” of the display element 22 means the side on which an image is displayed
  • the “back side” of the display element 22 means the side opposite to the side on which the image is displayed. means.
  • the "front side” of the display element 22 is the upper side of the paper surface in FIG. 1
  • the "back side” of the display element 22 is the lower side of the paper surface in FIG.
  • the tip 3a of the input pen 3 and the fingertip 4 are brought into contact with the surface of the glass substrate 21 (main surface 21a on the opposite side of the glass substrate 21 from the display element 22 side).
  • the positions (input positions) of the pen tip 3a and the finger tip 4 are detected by the digitizer circuit 23, and the input operation of characters, figures, etc. can be executed.
  • An example of such a pen input device 1 is a tablet terminal.
  • the above tablet terminal broadly means an input display device that has both a display function and an input function, and includes devices such as liquid crystal pen tablets, tablet PCs, mobile PCs, smartphones, and game machines.
  • the glass substrate 21 is a plate-like transparent glass having fine irregularities (hereinafter referred to as “fine irregularities 10” as appropriate) formed on at least one surface (in the present embodiment, the main surface 21a described above). It is made up of members. Further, the glass substrate 21 is arranged so that the main surface 21a on which the fine unevenness 10 is formed is the surface on the side with which the input pen 3 or the fingertip 4 comes into contact.
  • examples of materials for the glass substrate 21 include quartz glass, soda lime glass, alkali-free glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, and chalcogenide glass. Further, when the glass substrate 21 is composed of a glass member made of alkali-containing aluminosilicate glass, the glass substrate 21 may have a chemically strengthened layer on the main surface 21a.
  • a functional film that imparts a specific function can be provided on the main surface 21a of the glass substrate 21 .
  • an antireflection film for reducing the reflectance of the side with which the input pen 3 and the fingertip 4 come into contact, and/or an antifouling film for preventing the adhesion of fingerprints and imparting water repellency and oil repellency are formed.
  • the antireflection film for example, a low refractive index film having a lower refractive index than the glass substrate 21, or a low refractive index film having a relatively low refractive index and a high refractive index film having a relatively high refractive index are alternately used.
  • a laminated dielectric multilayer film is used.
  • the antireflection film can be formed by a sputtering method, a CVD method, or the like.
  • the antifouling film preferably contains an organic silicon compound or a fluorine-containing polymer containing silicon in the main chain.
  • an antireflection film is formed on the main surface 21a of the glass substrate 21, and an antifouling film is formed on the antireflection film. It is preferable to form a membrane. Further, when the functional film is formed on the main surface 21a of the glass substrate 21, the fine irregularities 10 on the main surface 21a of the glass substrate 21 are adjusted so that the irregularities on the surface of the functional film fall within a predetermined surface roughness range described later. is formed. Details of the glass substrate 21 will be described later.
  • the digitizer circuit 23 has a detection sensor that detects an input operation with the input pen 3 or fingertip 4 .
  • the input pen 3 is an input instrument having a shape similar to a writing instrument such as a pencil or a ballpoint pen, and has a pen tip 3a, which is an example of a friction element that contacts the glass substrate 21, and the pen tip 3a is made of an elastomer. , a synthetic resin material such as polyacetal resin, or a conductive fiber or felt.
  • the pen tip 3 a is made of the member described above, it is easy to get caught on the minute unevenness 10 provided on the main surface 21 a of the glass substrate 21 . Therefore, when the pen point 3a of the input pen 3 is brought into contact with the main surface 21a of the glass substrate 21 on which the fine irregularities 10 are formed and moved, a particularly excellent writing feeling can be realized.
  • the glass substrate 21 is an example of the glass member according to the present invention, and is formed in a rectangular plate shape as shown in FIG. 1, for example.
  • the shape of the glass substrate 21 is not limited to the shape of the present embodiment. may be of
  • the glass substrate 21 has the fine unevenness 10 formed on one surface (main surface 21a in the present embodiment).
  • the fine unevenness 10 is mainly provided to the main surface 21a of the glass substrate 21 for the purpose of appropriately adjusting the frictional force generated between the tip 3a of the input pen 3 and the fingertip 4. . Therefore, the fine unevenness 10 is formed on at least a part of the main surface 21a, which requires improvement in tactile sensation such as writing comfort with the input pen 3 and touch comfort with the fingertip 4, depending on the final usage state of the glass substrate 21. It suffices if it is formed in a region, and in this embodiment, it is formed over the entire main surface 21a.
  • the shape of the fine unevenness 10 is defined by a surface load curve T (see FIG. 2) representing the ratio of surface unevenness, and various three-dimensional surface roughness parameters (projection valleys) defined by ISO 25178. It is set using the volume Vvv of the space in the ridge, the volume Vmp of the protruding peak, and the arithmetic mean height Sa).
  • the load curve T of the surface is a curve representing the ratio of the convex portions (mountain portions) and the concave portions (valley portions) of the uneven shape of the surface with respect to the height direction. It is a cumulative distribution function representing the area ratio occupied.
  • the surface load curve T is represented by the vertical axis representing the height of the uneven shape and the horizontal axis representing the load area ratio of the convex portion (peak portion).
  • the profile curve 10a representing the shape of the unevenness 10 for example, the top end portion 10a1 of the convex portion (mountain portion) is set to have a load area ratio of 0%, and the bottom end portion 10a2 of the concave portion (trough portion) is set to have a load area ratio of 100%.
  • the load area ratio described above represents the ratio of the area occupied by a region in which convex portions (mountain portions) having a certain height or more exist.
  • the fine unevenness 10 has a protruding peak portion that occupies a region having a height h1 or more when the load area ratio is t1 (%), and a load area ratio of t1 (%). It is composed of protruding valleys occupying an area equal to or less than height h2 (>h1) when t2 (%) is high, and cores occupying a region between these protruding peaks and protruding valleys.
  • the shape of the fine unevenness 10 in the present embodiment is the surface load curve T (surface load curve shown in FIG. In Ta), the coefficient of determination of the regression line L (regression line La shown in FIG. 3(b)) obtained by performing simple regression analysis by the least squares method on the range of the load area ratio from 10% to 99% R2 is set to be 0.600 or more and 0.960 or less.
  • the coefficient of determination R 2 is expressed by the following formula (Equation 1), and the sum of squares of the residuals d i between the load curve T and the regression line L is obtained by dividing the height h i and the height h It is obtained by subtracting from 1 the value obtained by dividing by the sum of squares of the difference between i and the average height H.
  • the average height H is the average value of the height hi ((h 1 +h 2 +...hi)/i) in the range of the load area ratio from 10% to 99%.
  • the concave portion (trough portion) of the contour curve 10 a is deeply and sharply cut, and the convex portion (mountain portion) has a relatively smooth rounded shape.
  • the load curve T of the surface of the fine unevenness 10 (the load curve Tc of the surface shown in FIG.
  • the load curve Tc of the surface in the range of the load area ratio of 10% to 99% excluding the protruding peak portion The shape of , as shown in FIG. 6(b), is a curve that largely deviates from the regression line L (regression line Lc shown in FIG. 6(b)).
  • the surface load in the range of the load area ratio from 10% to 99%, excluding the protruding peaks As the shape of the curve T approximates the regression line L, the shape of the contour curve 10a tends to have a concavo-convex shape with sharp convex portions (mountain portions) or a triangular wave-like concavo-convex shape. Concerning the shape of the contour curve 10a, the more it deviates from the straight line L, the deeper and sharper the concave portions (troughs) tend to be, and the convex portions (peaks) tend to be relatively smooth and rounded.
  • the above-mentioned regression line which is an index of the linearity of the load curve T (Ta) of the surface in the range of the load area ratio from 10% to 99%
  • R 2 of L (La) By setting the coefficient of determination R 2 of L (La) within a predetermined range, fine unevenness having an appropriate uneven shape in which the convex portion (mountain portion) is not too sharp and deep concave portion (valley portion) is provided 10 is applied to the main surface 21 a of the glass substrate 21 .
  • the glass substrate 21 is mainly
  • the shape of the fine unevenness 10 provided on the surface 21 a is an uneven shape in which a convex portion (mountain portion) with a sharp tip is present.
  • the tip 3a or the fingertip 4 see FIG. 1 is touched or moved, the feeling of being caught becomes too strong, and tactile sensations such as writing comfort with the input pen 3 and tactile sensation with the fingertip 4 deteriorate.
  • the protrusions (mountain portions) of the fine unevenness 10 have relatively smooth tip portions, the tip 3a of the input pen 3 and the fingertip 4 are brought into contact with the main surface 21a of the glass substrate 21. And I can not feel the feeling of being caught when I move it. Therefore, tactile sensations such as writing comfort with the input pen 3 and tactile sensation with the fingertip 4 deteriorate.
  • the coefficient of determination R2 of the regression line L(La) is set to 0.600 or more and 0.960 or less (0.600 ⁇ R 2 ⁇ 0.960), by controlling the shape of the fine unevenness 10 provided on the main surface 21a of the glass substrate 21 by such a simple method, the fine unevenness 10 has an appropriate gap. It is formed in an uneven shape consisting of recesses (troughs) that are cut by slicing and projections (peaks) that are moderately pointed.
  • the concave portion (valley portion) is Since the contact area is moderately reduced due to the presence of the pen tip 3a or the fingertip 4, the pen tip 3a or the fingertip 4 is moderately slippery, and the presence of the protrusions (mountains) gives a moderate feeling of being caught on the glass.
  • the frictional force between the main surface 21a of the substrate 21 and the pen tip 3a of the input pen 3 and the fingertip 4 can be appropriately adjusted to improve tactile sensations such as writing comfort with the input pen 3 and touch comfort with the fingertip 4.
  • the upper limit of the coefficient of determination R2 of the regression line L(La) is 0.960, preferably 0.950, more preferably 0.940.
  • the lower limit of the coefficient of determination R2 of the regression line L(La) is 0.600, preferably 0.630, more preferably 0.650.
  • the shape of the fine unevenness 10 in this embodiment is such that, in the load curve T (Ta) of the surface described above, the load area ratio is within the range of 1% to 99% for the maximum height h,
  • the ratio (d/h) of the root-mean-square error d between the load curve T (Ta) and the regression line L (La) is set to be 0.045 or more and 0.165 or less.
  • the regression line L (La) is obtained by performing simple regression analysis using the least squares method on the range of the load area ratio of 10% to 99% in the surface load curve T (Ta). is the regression line.
  • the root-mean-square error d is the amount of deviation between the load curve T of the surface and the regression line L (the range of the load area ratio from 10% to 99%), which is shown by the following formula (Equation 2): How much the load curve T of the inner surface deviates from the regression line L), but the roughness of the fine unevenness 10 (difference in height between the convex portion (peak portion) and the concave portion (trough portion)) increases, the root-mean-square error d also increases. Therefore, it is difficult to simply compare the fine unevennesses 10 having different surface roughnesses.
  • the ratio (d/h) of the maximum height h within the range of the load area ratio from 1% to 99% in the load curve T (Ta) of the surface is used to calculate the load area
  • the ratio (d/h) is an index of the linearity of the surface load curve T in the range of the load area ratio from 10% to 99%.
  • the fine unevenness 10 provided on the main surface 21a of the glass substrate 21 has an uneven shape in which deep and sharply cut recesses (troughs) exist, and the recesses (troughs) occupy the entire fine unevenness 10. is relatively small, the effect of reducing the contact area with the tip 3a of the input pen 3 or the fingertip 4 (see FIG. 1) cannot be expected so much, and the main surface 21a of the glass substrate 21 is , the input pen 3 or the fingertip 4 becomes less slippery.
  • the recesses (troughs) in the fine unevenness 10 have a relatively smooth shape at the tip, the tip 3a of the input pen 3 and the fingertip 4 are brought into contact with the main surface 21a of the glass substrate 21. I don't really feel the feeling of being caught when I move it. As a result, tactile sensations such as writing comfort with an input pen and tactile sensation with a fingertip deteriorate.
  • the surface load curve T tends to deviate from the regression line L to a relatively large extent. Therefore, the shape of the fine unevenness 10 provided on the main surface 21a of the glass substrate 21 is an uneven shape in which convex portions (mountains) with sharply pointed ends are present. As a result, when the tip 3a of the input pen 3 and the fingertip 4 are brought into contact with each other and moved, the feeling of hooking becomes too strong, and tactile sensations such as writing comfort with the input pen 3 and touch comfort with the fingertip 4 deteriorate.
  • the The fine irregularities 10 provided on the main surface 21a of the glass substrate 21 are formed by concave portions (valley portions) cut with appropriate gaps and convex portions (mountain portions) with moderately pointed tips. It is supposed to be composed of
  • the concave portion (valley portion) is Excessive adhesion at the time of contact can be suppressed by moderately reducing the contact area due to the presence of the protrusions (mountains). Therefore, it is possible to improve tactile sensations such as writing comfort with the input pen 3 and tactile sensation with the fingertip 4.
  • the upper limit of the ratio (d/h) is 0.165, 0.160 is preferable, and 0.150 is more preferable.
  • the lower limit of the ratio (d/h) is 0.045, preferably 0.050, more preferably 0.055.
  • the ratio (Vvv/Vmp) of the volume Vvv of is set to be 2.4 or more and 15 or less.
  • both the volume Vmp of the protruding peak and the volume Vvv of the space of the protruding valley are parameters defined by ISO25178, and are derived based on the load curve T of the surface.
  • the volume Vmp of the projecting peak represents the actual volume of the protrusion (peak) when the load area ratio of the surface load curve T is t1 (%).
  • the volume Vmp of the protruding peak portion is the actual volume of the convex portion (peak portion) when the load area ratio t1 is 10%. That is, the load area ratio t1 indicating the boundary between the core portion and the projecting peak portion in the fine unevenness 10 is set to 10%. It should be noted that, as the value of the volume Vmp increases, the uneven shape of the fine unevenness 10 tends to have more sharply pointed convex portions (mountain portions).
  • the volume Vvv of the space of the projecting trough represents the volume of the void of the recess (trough) when the load area ratio of the surface load curve T is t2 (%).
  • the volume Vvv of the space of the projecting trough is the volume of the void of the recess (trough) when the load area ratio t2 is 80%. That is, the load area ratio t2 indicating the boundary between the core portion and the projecting valley portion in the fine unevenness 10 is set to 80%. It should be noted that, as the value of the volume Vvv increases, the uneven shape of the fine unevenness 10 tends to have more deep and sharp recesses (valleys).
  • Vvv/Vmp is a ratio of parameters consisting of these volume Vmp and volume Vvv
  • the pen tip 3a and the finger tip 4 (see FIG. 1) of the input pen 3 are affected by the feeling of hooking. It is an index that expresses the balance between steeply pointed convex portions (mountain portions) that contribute to the contact area and deep and sharp concave portions (valley portions) that contribute to the reduction of the contact area.
  • the (ratio Vvv/Vvp) is set to 2.4 or more and 15 or less (2.4 ⁇ (Vvv/Vvp) ⁇ 15).
  • the ratio of the convex portions (peak portions) and the ratio of the concave portions (valley portions) are configured to be appropriately distributed to each other.
  • the effect of reducing the contact area with the tip 3a of the input pen 3 or the fingertip 4 due to the concave portion (trough) can be sufficiently expected, and the main surface of the glass substrate 21
  • the pen tip 3a or the fingertip 4 of the input pen 3 is brought into contact with and moved with respect to 21a, the pen tip 3a or the fingertip 4 becomes moderately slippery. Therefore, it is possible to improve tactile sensations such as writing comfort with the input pen 3 and tactile sensation with the fingertip 4.
  • the upper limit of the ratio (Vvv/Vmp) is 15, 14 is preferable, and 13 is more preferable.
  • the lower limit of the ratio (Vvv/Vmp) is 2.4, preferably 2.5, more preferably 2.6.
  • the arithmetic mean height Sa of the elements of the roughness curve is set to be 1 nm or more and 100 nm or less.
  • the frictional force between the fine unevenness 10 provided on the main surface 21a of the glass substrate 21 and the pen tip 3a of the input pen 3 and the fingertip 4 is It becomes too large, and tactile sensations such as writing comfort with the input pen 3 and tactile sensation with the fingertip 4 deteriorate.
  • the arithmetic mean height Sa exceeds 100 nm (Sa > 100 nm)
  • the uneven shape of the fine unevenness 10 provided on the main surface 21a of the glass substrate 21 tends to cause light scattering.
  • the transparency of the main surface 21a may be impaired, resulting in poor visibility.
  • the haze of the glass substrate 21 tends to deteriorate.
  • the arithmetic mean height Sa is set to 1 nm or more and 100 nm or less (1 nm ⁇ Sa ⁇ 100 nm), and the fine unevenness 10 provided on the main surface 21 a of the glass substrate 21 , the frictional force between the pen tip 3a of the input pen 3 and the fingertip 4 is moderately adjusted, so that the fine unevenness 10 provided on the main surface 21a of the glass substrate 21, the pen tip 3a of the input pen 3, or
  • the effect of reducing the contact area with the fingertip 4 and the moderate feeling of hooking due to the uneven shape can more reliably improve the tactile sensation such as the writing comfort with the input pen 3 and the touch comfort with the fingertip 4.
  • the upper limit of the arithmetic mean height Sa is 100 nm, preferably 80 nm, more preferably 60 nm.
  • the lower limit of the arithmetic mean height Sa is 1 nm, preferably 2 nm, more preferably 3 nm.
  • the surface load curve T (Ta) and various three-dimensional surface roughness parameters according to ISO 25178 are calculated as described above.
  • the concave-convex shape of the fine concave-convex pattern 10 to be set using is not limited to this embodiment.
  • the regression line L ( The coefficient of determination R2 of La) should be set to 0.600 or more and 0.960 or less.
  • the ratio (d/h) to the maximum height h within the range should be set to 0.045 or more and 0.165 or less.
  • the ratio of the volume Vvv of the space of the protruding valley to the volume Vmp of the protruding peak (Vvv/Vmp) may be set to 2.4 or more and 15 or less.
  • the coefficient of determination R2 of the regression line L (La), which is obtained by performing simple regression analysis by the least squares method on the load curve T (Ta) of the surface having a load area ratio of 10% to 99%, is When 0.600 or more and 0.960 or less, other parameters, that is, the root mean square error d with the above regression line L (La) in the range of the load area ratio from 10% to 99%, and the load area ratio 1 % to 99% of the maximum height h (d/h) and the ratio (Vvv/Vmp) of the volume Vvv of the space of the protruded valley and the volume Vmp of the protruded peak It may be out of range.
  • the fine unevenness 10 formed on at least part of the surface (main surface 21a) of the glass substrate 21 is formed by subjecting the main surface 21a to wet blasting, sandblasting, or the like.
  • compressed air is used to uniformly agitate abrasive grains made of solid particles such as alumina and a liquid such as water to form a slurry, which is sprayed onto the workpiece made of the glass substrate 21.
  • This is a process for forming a fine uneven shape on the work by jetting it from a nozzle at high speed.
  • the workpiece glass substrate 21
  • the wet blasting treatment By subjecting the workpiece (glass substrate 21) to the wet blasting treatment in this way, it is possible to easily form an irregular shape of an appropriate size on the main surface 21a of the glass substrate 21.
  • the frictional force when the tip 3a of the input pen 3 and the fingertip 4 are in contact can be moderately adjusted without impairing the transparency of the glass substrate 21, and the tactile sensation such as writing comfort and touch can be surely improved. .
  • compressed air is used to spray abrasive grains made of solid particles such as alumina directly onto a work made of a glass substrate 21 from a spray nozzle at a high speed, thereby forming fine irregularities on the work. is the process of forming
  • the method for manufacturing the glass substrate 21 in the present embodiment at least part of the surface (main surface 21a) of the glass substrate 21 is subjected to wet blasting or sandblasting to obtain the above-described predetermined It is characterized by forming fine unevenness 10 that satisfies the conditions.
  • the glass substrate 21 on which the fine unevenness 10 is formed on the main surface 21a is compared with a smooth plane without the fine unevenness 10, and the writing with the input pen 3 is It is possible to manufacture the glass substrate 21 which is excellent in tactile sensation such as comfort and tactile sensation with the fingertip 4 .
  • chemical etching treatment sol-gel method, nanoimprinting method, etc. can be used as treatment methods other than the above-described wet blasting treatment and sandblasting treatment.
  • the chemical etching process the main surface 21a of the glass substrate 21 is chemically etched with hydrogen fluoride (HF) gas, acids such as hydrofluoric acid, hydrochloric acid, and sulfuric acid, and alkaline aqueous solutions such as sodium hydroxide. processing.
  • HF hydrogen fluoride
  • the glass substrate 21 in the present embodiment can be used as the back cover member 101 constituting the exterior of the mobile device 100, mainly focusing on the point that the touch feeling with the fingertip 4 is improved.
  • the mobile device 100 includes the rear cover member 101 made of the glass substrate 21 described above.
  • examples of the mobile device 100 having the back cover member 101 include a mobile phone, a smart phone, a PDA (Personal Data Assistance), a PND (Portable Navigation Device), a notebook computer, a tablet PC, etc., which are communication terminals. .
  • the glass member on which fine unevenness is formed according to the present invention will be described in detail using examples and comparative examples.
  • the structure of the glass member according to the present invention is not limited to the examples shown below.
  • samples 1 to 11 were produced as examples of glass members according to the present invention.
  • Samples 12 to 15 were prepared as comparative examples for these examples.
  • Samples 1 to 11 of the examples were made of rectangular plate-shaped aluminosilicate glass (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., product name: T2X-1) with a thickness of 0.5 mm. Materials of Samples 12 to 15, which are comparative examples, will be described later.
  • the glass members of Samples 1 to 7 of Examples were subjected to a wet blasting treatment to form fine unevenness on one main surface.
  • abrasive abrasive grains made of alumina (Al 2 O 3 ) and water are uniformly stirred to prepare a slurry, and a predetermined abrasive is applied to the entire one main surface of each glass member.
  • the nozzle was moved at a scanning speed of , and wet blasting was performed by spraying the prepared slurry from the nozzle using air at a predetermined processing pressure.
  • Polygonal abrasive grains with an average grain size of 1.2 ⁇ m were used for the glass members of Samples 1 to 3, and polygonal abrasive grains with an average grain size of 3.0 ⁇ m were used for the glass members of Samples 4 and 5.
  • Abrasive grains were used, and for the glass members of Samples 6 and 7, polygonal abrasive grains with an average grain size of 6.9 ⁇ m were used.
  • the above average particle diameter is the abrasive particle diameter measured with the median diameter as D50 .
  • the processing pressure of the air in the nozzle was set to 0.22 MPa for the glass members of Samples 1 and 2, 0.13 MPa for the glass member of Sample 3, and 0.13 MPa for the glass members of Samples 4 and 6. was set to 0.15 MPa, and the glass members of Samples 5 and 7 were set to 0.25 MPa.
  • the distance between the glass member and the ejection port of the nozzle was adjusted to 4.0 mm for the glass members of samples 1 to 7.
  • the scanning speed for moving the nozzle was set to 1 mm/s for the glass member of sample 1, 40 mm/s for the glass members of samples 2 and 3, and 40 mm/s for the glass members of samples 4 and 6. was set to 20 mm/s, and the glass members of Samples 5 and 7 were set to 10 mm/s.
  • the glass members of Samples 8 to 11 of Examples were sandblasted to form fine irregularities on one main surface. Specifically, as an abrasive, abrasive grains made of alumina (Al 2 O 3 ) are scanned over the entire one main surface of each glass member while moving the nozzle at a predetermined scanning speed, Sandblasting was performed by spraying abrasive grains from the nozzle using air at a predetermined processing pressure.
  • abrasive grains made of alumina Al 2 O 3
  • Polygonal abrasive grains with an average grain size of 1.2 ⁇ m are used for the glass member of sample 8
  • polygonal abrasive grains with an average grain size of 2.0 ⁇ m are used for the glass member of sample 9.
  • Polygonal abrasive grains with an average grain size of 3.0 ⁇ m are used for the glass member of sample 10
  • polygonal abrasive grains with an average grain size of 4.0 ⁇ m are used for the glass member of sample 11.
  • I decided to The above average particle diameter is the abrasive particle diameter measured with the median diameter as D50 .
  • the processing pressure of the air in the nozzle was set to 0.40 MPa for the glass members of Samples 8 to 11.
  • the distance between the glass member and the ejection port of the nozzle was adjusted to 4.0 mm for the glass members of Samples 8 to 11.
  • the scanning speed in the movement of the nozzle was set to 15 mm/s for the glass members of Samples 8 to 11.
  • the glass member of Sample 12 which is a comparative example, a rectangular plate-shaped aluminosilicate glass (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., product name: T2X-1) with a thickness of 0.5 mm was used. No surface treatment. That is, the glass member of Sample 12 was left untreated without using an abrasive.
  • the glass member of Sample 13 which is a comparative example, alkali-free glass (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., product name: OA-10G) having a rectangular plate shape with a thickness of 0.5 mm is used, and hydrofluoric acid is used.
  • a wet etching treatment (HF etching) was performed to form fine unevenness on one main surface.
  • one main surface of the glass member was immersed in a hydrofluoric acid solution adjusted to a concentration of 5 wt % at a liquid temperature of 30° C. and allowed to stand for 2000 seconds to form fine unevenness.
  • an alkali-free glass manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., product name: OA-10G
  • OA-10G a sol-gel method
  • silica coating fine unevenness was formed on one main surface. Specifically, a liquid containing a silica component was applied by spraying, and the applied liquid containing a silica component was dried to form fine irregularities made of a silica coating film on the main surface.
  • the glass member of Sample 15 which is a comparative example, a rectangular plate-shaped aluminosilicate glass (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., product name: T2X-1) with a thickness of 0.5 mm was used, and wet blasting was performed. By applying, fine unevenness was formed on one main surface. Specifically, polygonal alumina abrasive grains with an average particle diameter of 6.9 ⁇ m were used, the slurry concentration was 1.0 wt %, the air processing pressure was 0.10 MPa, and the distance between the glass member and the nozzle port was 20. The processing was performed by setting the scanning speed in moving the nozzle to 0 mm and 40 mm/s.
  • the parameters of the surface roughness measured were the arithmetic mean height Sa of the formed micro-roughnesses, the volume Vvv of the space of the protruding valleys, and the volume Vmp of the protruding peaks, and these measurements were performed using an atomic force microscope ( AFM). Also, based on the above measured values, the ratio (Vvv/Vmp) between the volume Vvv of the space of the projecting trough and the volume Vmp of the projecting peak was derived.
  • the load curve T of the surface is the interval from the maximum peak height to the maximum valley depth (that is, as described above, in FIG. ) was divided into 512 at equal intervals, and the load area ratio at each height was plotted.
  • the regression line L by the least squares method, the coefficient of determination R 2 , the root mean square error d, and the maximum height h within the range of 1% to 99% of the load area ratio are the load curve of the surface based on the above plot. Derived from T.
  • the atomic force microscope (AFM) used for the measurement was Bruker's atomic force microscope Dimension Icon (SPM unit) and Nano Scope V (controller unit), and the measurement was carried out based on ISO 25178.
  • SPM unit Bruker's atomic force microscope Dimension Icon
  • Nano Scope V controller unit
  • the measurement was carried out based on ISO 25178.
  • a tapping mode was used, and the scan rate was 1 Hz and the number of acquired data was 512 ⁇ 512 for a measurement area of 5 ⁇ 5 ⁇ m.
  • Tables 3 and 4 describe the measurement results of surface roughness and haze, and the evaluation results of writing comfort and touch comfort for the glass members of Samples 1 to 15 shown above.
  • the writing comfort of the main surface on which the fine unevenness was formed was "x" regardless of whether pen X or pen Y was used. It gave bad results. Further, in the glass members of Samples 12, 13, and 15, which are comparative examples, the tactile sensation with a fingertip was also "x", which was an unsatisfactory result.
  • the glass member of sample 14 having one main surface coated with silica was evaluated as "good” in terms of touch feeling with a fingertip, which was a good result.
  • the range of the load area ratio from 10% to 99% in the surface load curve T was obtained by simple regression analysis using the least squares method.
  • the ratio (d/h) of the root-mean-square error d of the regression line L and the maximum height h within the range of the load area ratio from 1% to 99% is within the range of 0.063 to 0.144. was value.
  • the ratio (d/h) was 0. The value was in the range of 0.038 to 0.042, and the above ratio (d/h) was 0.166 in the glass member of sample 15 subjected to wet blasting.
  • the load area ratio indicating the boundary between the core portion and the protruding peak portion in the load curve T of the surface was set to 10%, and the core portion and the protruding valley portion
  • the ratio (Vvv/Vmp) between the volume Vmp of the protruding peak and the volume Vvv of the space of the protruding valley is in the range of 2.65 to 14.70 when the load area ratio indicating the boundary of the was a value within
  • the ratio (Vvv/Vmp) was 0.
  • the ratio (Vvv/Vmp) was 16.00 in the sample 15 glass member subjected to wet blasting.
  • the uneven shape of the fine unevenness meets the predetermined conditions described above, that is, at least the coefficient of determination R 2 of the regression line L is a numerical value within the range of 0.600 to 0.960. That the ratio (d/h) is a numerical value within the range of 0.045 to 0.165, and that the ratio (Vvv/Vmp) is a numerical value within the range of 2.4 to 15 If any one of these conditions is satisfied, the glass member having the fine unevenness exhibits excellent performance in terms of writing comfort and tactile sensation.

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Abstract

入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感が優れたガラス部材、当該ガラス部材を備える入力装置、ペン入力装置、及びモバイル機器、並びに当該ガラス部材の製造方法を提供する。　主面（表面）２１ａの少なくとも一部に微小凹凸１０を有し、当該微小凹凸１０における、一辺が５μｍの正方形の領域内の面の負荷曲線Ｔ（Ｔａ）において、負荷面積率が１０％から９９％までの範囲を、最小二乗法による単回帰分析を行うことによって得られる、回帰直線Ｌ（Ｌａ）の決定係数Ｒ２が、０．６００以上０．９６０以下である。　

Description

ガラス部材、入力装置、ペン入力装置、モバイル機器、及びガラス部材の製造方法
　本発明は、ガラス部材、当該ガラス部材を備える入力装置、ペン入力装置、及びモバイル機器、並びに当該ガラス部材の製造方法の技術に関する。
　従来より、例えばタッチパネル等のような、入力ペンや指先によって文字及び図形等の入力操作を行うことができる入力装置が知られている。
　このような入力装置においては、液晶ディスプレイ等によるディスプレイ装置の前面側（正面側）に、ガラス部材からなる透明なガラス基板がカバー部材として配置されており、当該ガラス基板の表面（主面）に対して、入力ペンや指先を接触及び移動させることで、様々な入力操作を行うことができる構成となっている。
　ここで、上記カバー部材の表面においては、例えば、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感の向上を目的とする、微小な凹凸が予め付与されている。
　また、近年においては、このような触感に対して、より質の高いものを求める要望が、増々高くなっている。
　そこで、上記触感（書き心地）をさらに向上させるための技術として、例えば、特許文献１においては、算術平均粗さＲａが０．１９μｍ以上０．４５μｍ以下であり、且つ平均周期Ｓｍが３０μｍ以上８０μｍ以下である凹凸形状を表面に有する、ペン入力装置用のガラス基板が開示されている。
特開２０１６―９３９３号公報
　　しかしながら、前記特許文献１におけるガラス基板においては、比較的硬い材質であるポリアセタール製のスタイラス芯に対しては、良好な書き心地を得易いものの、比較的柔らかい低弾性材料であるエラストマー製のスタイラス芯や指先に対しては、むしろ凹凸が大き過ぎて引掛りが強くなり、書き心地や触り心地が悪くなる虞がある。
　本発明は、以上に示した現状の問題点に鑑みてなされたものであり、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感が優れたガラス部材、当該ガラス部材を備える入力装置、ペン入力装置、及びモバイル機器、並びに当該ガラス部材の製造方法を提供することを課題とする。
　本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。
　即ち、本発明に係るガラス部材は、表面の少なくとも一部に微小凹凸を有し、当該微小凹凸における、一辺が５μｍの正方形の領域内の面の負荷曲線において、負荷面積率が１０％から９９％までの範囲を、最小二乗法による単回帰分析を行うことによって得られる、回帰直線の決定係数Ｒ２が、０．６００以上０．９６０以下であることを特徴とする。
　このような構成を有することにより、本発明に係るガラス部材によれば、ガラス部材の表面に対して、入力ペンのペン先や指先を接触及び移動させた際、微小凹凸における凹部（谷部）の存在によって接触面積が適度に低減されることで、これらのペン先または指先は適度に滑り易くなり、また微小凹凸における凸部（山部）の存在によって適度な引掛り感を感じることとなり、ガラス部材の表面と、入力ペンのペン先や指先との摩擦力を適度に調整し、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感を向上させることができる。
　また、本発明に係るガラス部材は、表面の少なくとも一部に微小凹凸を有し、当該微小凹凸における、一辺が５μｍの正方形の領域内の面の負荷曲線において、負荷面積率が１％であるときの高さｈａと、負荷面積率が９９％であるときの高さｈｂとの差である最大高さｈ（＝ｈａ－ｈｂ）に対する、前記負荷曲線と、負荷面積率が１０％から９９％までの範囲を、最小二乗法による単回帰分析を行うことによって得られる回帰直線との二乗平均平方根誤差ｄの比（ｄ／ｈ）は、０．０４５以上０．１６５以下であることを特徴とする。
　このような構成を有することにより、本発明に係るガラス部材によれば、ガラス部材の表面に対して、入力ペンのペン先や指先を接触及び移動させた際、上記凹部（谷部）の存在によって接触面積が適度に低減されることで、接触時の過度な凝着を抑制できることから、これらのペン先または指先は適度に滑り易くなり、また上記凸部（山部）の存在によって適度な引掛り感を感じることとなり、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感を向上させることができる。
　また、本発明に係るガラス部材は、表面の少なくとも一部に微小凹凸を有し、当該微小凹凸における、一辺が５μｍの正方形の領域内の面の負荷曲線において、前記微小凹凸におけるコア部と突出山部との境界を示す負荷面積率を１０％とし、前記微小凹凸におけるコア部と突出谷部との境界を示す負荷面積率を８０％としたときの、前記突出山部の体積Ｖｍｐに対する、前記突出谷部の空間の容積Ｖｖｖの比（Ｖｖｖ／Ｖｍｐ）は、２．４以上１５以下であることを特徴とする。
　このような構成を有することにより、本発明に係るガラス部材によれば、凹部（谷部）による入力ペンのペン先、または指先との接触面積の低減効果が十分に期待でき、ガラス部材の表面に対して、入力ペンのペン先や指先を接触及び移動させた際、これらのペン先または指先は適度に滑り易くなり、また、凸部（山部）の存在によって適度な引掛り感を感じることとなり、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感を向上させることができる。
　また、本発明に係るガラス部材は、前記微小凹凸において、粗さ曲線の要素の算術平均高さＳａが、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。
　このような構成を有することにより、本発明に係るガラス部材によれば、ガラス部材の表面に設けられる微小凹凸と、入力ペンのペン先、または指先との接触面積の低減効果や、凹凸形状による適度な引掛り感によって、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感を、より確実に向上させることができる。
　また、微小凹凸の凹凸形状による光の散乱を、最小限に抑えることが可能であり、当該微小凹凸が形成された、ガラス部材の表面における視認性を、より確実に確保することができる。
　また、本発明に係る入力装置は、上述した何れかのガラス部材からなるガラス基板と、映像を表示するディスプレイ装置と、入力位置を検出する検出回路とを備えることを特徴とする。
　このような構成を有することにより、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感に優れた入力装置を実現することができる。
　また、本発明に係るペン入力装置は、上記の入力装置と、前記ガラス基板の表面に接触しながら移動させることにより、前記入力装置に対する入力操作を行う入力ペンとを備えることを特徴とする。
　このような構成を有することにより、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感に優れたペン入力装置を実現することができる。
　また、本発明に係るモバイル機器は、上述した何れかのガラス部材からなる背面カバー部材を備えることを特徴とする。
　このような構成を有することにより、指先による触り心地などの触感に優れたモバイル機器を実現することができる。
　また、本発明に係るガラス部材の製造方法は、上述した何れかのガラス部材を製造する製造方法であって、前記ガラス部材の表面に対してウェットブラスト処理またはサンドブラスト処理を施すことを特徴とする。
　このような構成を有することにより、本発明に係るガラス部材の製造方法によれば、表面に微小凹凸が形成されたガラス部材であって、当該微小凹凸を有しない平滑な平面と比較して、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感に優れたガラス部材を製造することができる。
　本発明の効果として、以下に示すような効果を奏する。
　即ち、本発明に係るガラス部材、当該ガラス部材を備える入力装置、ペン入力装置、及びモバイル機器、並びに当該ガラス部材の製造方法によれば、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感を、優れたものとすることができる。
本発明の一実施形態に係るペン入力装置の構成を示した概略断面側面図である。 微小凹凸の輪郭曲線と面の負荷曲線との関係を説明するための図である。 面の負荷曲線と、当該負荷曲線を最小二乗法による単回帰分析を行うことによって得られた回帰直線との関係において、当該回帰直線の決定係数Ｒ２が０．６００以上０．９６０以下である場合を説明するための図であって、（ａ）はこの場合の微小凹凸の輪郭曲線を模式的に示した図であり、（ｂ）はこの場合の上記の面の負荷曲線と回帰直線との関係を示した線図である。 面の負荷曲線と、当該負荷曲線を最小二乗法による単回帰分析を行うことによって得られた回帰直線との関係において、当該回帰直線の決定係数Ｒ２が０．９６を超える場合を説明するための図であって、（ａ）はこの場合の微小凹凸の輪郭曲線を模式的に示した図であり、（ｂ）はこの場合の上記の負荷曲線と回帰直線との関係を示した線図である。 面の負荷曲線と、当該負荷曲線を最小二乗法による単回帰分析を行うことによって得られた回帰直線との関係において、当該回帰直線の決定係数Ｒ２が０．９６を超える場合の別例を説明するための図であって、（ａ）はこの場合の微小凹凸の輪郭曲線を模式的に示した図であり、（ｂ）はこの場合の上記の負荷曲線と回帰直線との関係を示した線図である。 面の負荷曲線と、当該負荷曲線を最小二乗法による単回帰分析を行うことによって得られた回帰直線との関係において、当該回帰直線の決定係数Ｒ２が０．６００未満である場合を説明するための図であって、（ａ）はこの場合の微小凹凸の輪郭曲線を模式的に示した図であり、（ｂ）はこの場合の上記の負荷曲線と回帰直線との関係を示した線図である。 面の負荷曲線における負荷面積率が１％から９９％までの範囲内の最大高さｈに対する、当該負荷曲線と上記回帰直線との二乗平均平方根誤差ｄの比（ｄ／ｈ）について説明するための図である。 微小な凹凸の面粗さを表すパラメータである算術平均高さＳａを説明するための図である。 本発明の別実施形態であるモバイル機器を示した模式図である。
　次に、本発明の一実施形態について、図１乃至図９を用いて説明する。
　［ペン入力装置１の全体構成］
　先ず、本実施形態によって具現化されるペン入力装置１の全体構成について、図１を用いて説明する。
　ペン入力装置１は、本発明に係るガラス部材からなるガラス基板２１を有した入力装置２と、ガラス基板２１の表面（より具体的には、主面２１ａ）に接触しながら移動させることにより、当該入力装置２に対する入力操作を行う入力ペン３とを備える。
　入力装置２は、主に、カバー部材として設けられるガラス基板２１と、ディスプレイ装置の一例であって、映像を表示するディスプレイ素子２２と、検出回路の一例であって、入力ペン３や指先４によって入力される情報（より具体的には、入力ペン３や指先４の入力位置）を検出するデジタイザ回路２３とを備える。
　ガラス基板２１、ディスプレイ素子２２、及びデジタイザ回路２３は、互いに積層された構成からなり、ディスプレイ素子２２の正面側にはガラス基板２１が配置され、また、ディスプレイ素子２２の背面側にはデジタイザ回路２３が配置される。
　なお、上記の記載において、ディスプレイ素子２２の「正面側」とは、映像が表示される側を意味し、ディスプレイ素子２２の「背面側」とは、映像が表示される側との反対側を意味する。
　本実施形態においては、例えば、ディスプレイ素子２２の「正面側」は、図１中における紙面上方側となり、ディスプレイ素子２２の「背面側」は、図１中における紙面下方側となる。
　そして、ペン入力装置１は、ガラス基板２１の表面（ガラス基板２１に対してディスプレイ素子２２側とは反対側の主面２１ａ）に対して、入力ペン３のペン先３ａや指先４を接触させた状態で移動させることにより、これらペン先３ａや指先４の位置（入力位置）がデジタイザ回路２３によって検知され、文字及び図形などの入力操作を実行可能な構成となっている。
　このようなペン入力装置１の例示としては、例えばタブレット端末が挙げられる。
　なお、上記タブレット端末は、表示機能及び入力機能の双方を備えた入力表示装置を広く意味し、液晶ペンタブレット、タブレットＰＣ、モバイルＰＣ、スマートフォン、及びゲーム機などの機器を含むものである。
　ガラス基板２１は、少なくとも一方の表面（本実施形態においては、上記の主面２１ａ）に微小な凹凸（以下、適宜「微小凹凸１０」と記載する）が形成された、板状の透明なガラス部材により形成されている。
　また、ガラス基板２１は、微小凹凸１０が形成された主面２１ａが、入力ペン３または指先４が接触する側の面となるように配置されている。
　ここで、ガラス基板２１の材質としては、石英ガラス、ソーダ石灰ガラス、無アルカリガラス、アルミノシリケートガラス、硼珪酸ガラス、及び、カルコゲナイドガラス等が挙げられる。
　また、アルカリ含有アルミノシリケートガラスからなるガラス部材によって、ガラス基板２１が構成される場合、当該ガラス基板２１は、主面２１ａに化学強化層を有していても良い。
　また、ガラス基板２１の主面２１ａには、特定の機能を付与する機能膜を設けることができる。
　例えば、入力ペン３や指先４が接触する側の反射率を低下させるための反射防止膜、及び／または指紋の付着を防止し、撥水性、撥油性を付与するための防汚膜を形成してもよい。
　反射防止膜としては、例えばガラス基板２１よりも屈折率が低い低屈折率膜、または相対的に屈折率が低い低屈折率膜と、相対的に屈折率が高い高屈折率膜とが交互に積層された誘電体多層膜が用いられる。
　また、反射防止膜は、スパッタリング法、またはＣＶＤ法などにより形成することができる。
　一方、防汚膜としては、有機ケイ素化合物や主鎖中にケイ素を含む含フッ素重合体などを含むことが好ましい。
　なお、ガラス基板２１の表面側の主面２１ａに反射防止膜と防汚膜とを有する場合には、ガラス基板２１の主面２１ａ上に反射防止膜を形成し、反射防止膜上に防汚膜を形成すると好ましい。
　また、ガラス基板２１の主面２１ａに機能膜を形成する場合、機能膜の表面の凹凸が、後述する所定の表面粗さの範囲となるように、ガラス基板２１の主面２１ａの微小凹凸１０が形成される。
　なお、ガラス基板２１の詳細については後述する。
　デジタイザ回路２３は、入力ペン３または指先４による入力操作を検出する、検出センサを備えている。
　ここで、入力ペン３は、鉛筆やボールペンなどの筆記具に似た形状の入力器具であり、ガラス基板２１と接触する摩擦子の一例であるペン先３ａを有し、当該ペン先３ａが、エラストマー、ポリアセタール樹脂などの合成樹脂材、または導電性繊維やフェルトなどで構成されている。
　入力ペン３において、上記の部材からなるペン先３ａであれば、ガラス基板２１の主面２１ａに設けられる微小凹凸１０に対しても引掛り易い。
　従って、入力ペン３のペン先３ａを、微小凹凸１０が形成されたガラス基板２１の主面２１ａに接触させて移動させた場合、特に優れた書き心地を実現することができる。
　［ガラス基板２１の構成］
　次に、ガラス基板２１の構成について、図１乃至図８を用いて詳細に説明する。
　前述したように、ガラス基板２１は、本発明に係るガラス部材の一例であって、例えば図１に示すように、矩形平板状に形成される。
　なお、ガラス基板２１の形状については、本実施形態に限定されるものではなく、例えば、円形或いは多角形の輪郭からなる平板状や、平板状のものを全体的に湾曲させた形状など、何れのものであってもよい。
　ガラス基板２１は、一方の表面（本実施形態においては、主面２１ａ）において、微小凹凸１０が形成されている。
　ここで、微小凹凸１０は、主に、入力ペン３のペン先３ａや指先４との間に発生する摩擦力を適度に調整することを目的として、ガラス基板２１の主面２１ａに付与される。
　従って、微小凹凸１０は、最終的なガラス基板２１の使用状態に応じて、入力ペン３による書き心地や指先４による触り心地などの触感の向上が必要となる、主面２１ａの少なくとも一部の領域に形成されていればよく、本実施形態においては、主面２１ａの全面に形成されている。
　微小凹凸１０の形状は、以下に示すように、面の凹凸の割合を表す、面の負荷曲線Ｔ（図２を参照）と、ＩＳＯ２５１７８によって規定される各種の三次元表面粗さパラメータ（突出谷部の空間の容積Ｖｖｖ、突出山部の体積Ｖｍｐ、及び算術平均高さＳａ）とを用いて設定されている。
　ここで、面の負荷曲線Ｔは、高さ方向に対する面の凹凸形状の凸部（山部）と凹部（谷部）との比を表した曲線であって、当該凸部（山部）の占める面積比率を表した累積分布関数である。
　具体的には、図２に示すように、面の負荷曲線Ｔは、凹凸形状の高さを示す縦軸と、凸部（山部）の負荷面積率を示す横軸とによって表され、微小凹凸１０の形状を表す輪郭曲線１０ａにおいて、例えば、凸部（山部）の最上端部１０ａ１を負荷面積率０％に設定し、且つ凹部（谷部）の最下端部１０ａ２を負荷面積率１００％に設定した場合、略Ｓ字状の曲線として表現される。
　なお、上記の負荷面積率は、ある高さ以上の凸部（山部）が存在する領域が占める、面積の割合を表す。
　そして、微小凹凸１０は、面の負荷曲線Ｔにおいて、負荷面積率がｔ１（％）であるときの高さｈ１以上の領域を占める突出山部と、負荷面積率がｔ１（％）に比べて高いｔ２（％）であるときの高さｈ２（＞ｈ１）以下の領域を占める突出谷部と、これらの突出山部及び突出谷部の間の領域を占めるコア部とにより構成される。
　［決定係数Ｒ２の設定条件］
　図３に示すように、本実施形態における微小凹凸１０の形状は、当該微小凹凸１０における、一辺が５μｍの正方形の領域内の面の負荷曲線Ｔ（図３（ｂ）に示す面の負荷曲線Ｔａ）において、負荷面積率が１０％から９９％までの範囲を、最小二乗法による単回帰分析を行うことによって得られる、回帰直線Ｌ（図３（ｂ）に示す回帰直線Ｌａ）の決定係数Ｒ２が、０．６００以上０．９６０以下となるように設定されている。
　ここで、決定係数Ｒ２は、以下の数式（数１）によって示され、上記の負荷曲線Ｔと回帰直線Ｌとの残差ｄｉの二乗和を、高さｈｉと、当該高さｈｉの平均高さＨとの差の二乗和で割った値を、１から減算することにより求められる。
　なお、上記の平均高さＨは、負荷面積率が１０％から９９％までの範囲における高さｈｉの平均値（（ｈ１+ｈ２+・・・ｈｉ）/ｉ）である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
　そして、図４（ａ）に示すように、微小凹凸１０において、輪郭曲線１０ａの凸部（山部）が鋭く切り立った形状からなる場合、当該微小凹凸１０の面の負荷曲線Ｔ（図４（ｂ）に示す面の負荷曲線Ｔｂ１）は、高さの低い位置で負荷面積率が急激に増加するとともに、例えば突出山部とコア部との境界となる負荷面積率ｔ１を１０％としたときの（ｔ１＝１０％）、当該突出山部を除く、負荷面積率が１０％から９９％の範囲における面の負荷曲線Ｔｂ１の形状は、図４（ｂ）に示すように、上記回帰直線Ｌ（図４（ｂ）に示す回帰直線Ｌｂ１）と近似する。
　また、図５（ａ）に示すように、微小凹凸１０において、輪郭曲線１０ａの凸部（山部）及び凹部（谷部）が略規則的に繰り返す三角波状となっている場合も同様に、当該微小凹凸１０の面の負荷曲線Ｔ（図５（ｂ）に示す面の負荷曲線Ｔｂ２）は、高さの減少に伴い略一定の割合にて負荷面積率が増加することから、例えば突出山部とコア部との境界となる負荷面積率ｔ１を１０％とした場合（ｔ１＝１０％）、当該突出山部を除く、負荷面積率が１０％から９９％の範囲における面の負荷曲線Ｔｂ２の形状は、図４（ｂ）に示すように、上記回帰直線Ｌ（図５（ｂ）に示す回帰直線Ｌｂ２）と近似する。
　一方、図６（ａ）に示すように、微小凹凸１０において、輪郭曲線１０ａの凹部（谷部）が深くシャープに切り込まれ、凸部（山部）が比較的平滑な丸みを有した形状からなる場合、当該微小凹凸１０の面の負荷曲線Ｔ（図６（ｂ）に示す面の負荷曲線Ｔｃ）は、高さの高い位置で負荷面積率が急激に増加するとともに、例えば突出山部とコア部との境界となる負荷面積率ｔ１を１０％としたときの（ｔ１＝１０％）、当該突出山部を除く、負荷面積率が１０％から９９％の範囲における面の負荷曲線Ｔｃの形状は、図６（ｂ）に示すように、上記回帰直線Ｌ（図６（ｂ）に示す回帰直線Ｌｃ）に対して大きく外れた曲線となる。
　このように、微小凹凸１０の輪郭曲線１０ａにおける、面の負荷曲線Ｔと上記回帰直線Ｌとの関係においては、突出山部を除く、負荷面積率が１０％から９９％の範囲における面の負荷曲線Ｔの形状が、上記回帰直線Ｌと近似するほど、輪郭曲線１０ａの形状については、凸部（山部）が尖った凹凸形状、或いは三角波状の凹凸形状となる傾向にある一方、上記回帰直線Ｌから外れるほど、輪郭曲線１０ａの形状については、凹部（谷部）が深くシャープに切り込まれ、凸部（山部）が比較的平滑な丸みを有した凹凸形状となる傾向にある。
　そして、本実施形態においては、このような見解を踏まえたうえで、負荷面積率が１０％から９９％までの範囲における面の負荷曲線Ｔ（Ｔａ）の直線性の指標となる、上記回帰直線Ｌ（Ｌａ）の決定係数Ｒ２を所定の範囲に設定することにより、凸部（山部）が尖り過ぎず、且つ深い凹部（谷部）が設けられた、適切な凹凸形状からなる微小凹凸１０を、ガラス基板２１の主面２１ａに付与することとしている。
　具体的には、図４及び図５に示すように、上記回帰直線Ｌ（Ｌｂ１及びＬｂ２）の決定係数Ｒ２が０．９６を超える場合（Ｒ２＞０．９６）、ガラス基板２１の主面２１ａに設けられる微小凹凸１０の形状は、突端部が険しく尖った凸部（山部）が存在する凹凸形状となることから、ガラス基板２１の主面２１ａに対して、入力ペン３のペン先３ａや指先４（図１を参照）を接触及び移動させた際に感じる引掛り感が強くなり過ぎ、入力ペン３による書き心地や指先４による触り心地などの触感が悪くなる。
　一方、図６に示すように、上記回帰直線Ｌ（Ｌｃ）の決定係数Ｒ２が０．６００に満たない場合（Ｒ２＜０．６００）、ガラス基板２１の主面２１ａに設けられる微小凹凸１０は、深くシャープに切り込まれた凹部（谷部）が存在する凹凸形状となり、微小凹凸１０全体に占める当該凹部（谷部）の領域の割合が比較的少ないことから、入力ペン３のペン先３ａ、または指先４との接触面積の低減効果があまり期待できず、当該ガラス基板２１の主面２１ａに対して、入力ペン３または指先４は滑り難くなる。
　また、上記微小凹凸１０における凸部（山部）は、突端部が比較的平滑な形状となるため、ガラス基板２１の主面２１ａに対して、入力ペン３のペン先３ａや指先４を接触及び移動させた際の引掛り感をあまり感じられない。
　よって、入力ペン３による書き心地や指先４による触り心地などの触感が悪くなる。
　このようなことから、図３に示すように、本実施形態においては、上記回帰直線Ｌ（Ｌａ）の決定係数Ｒ２が０．６００以上０．９６０以下に設定されており（０．６００≦Ｒ２≦０．９６０）、このような簡便な手法によって、当該ガラス基板２１の主面２１ａに設けられる微小凹凸１０の形状を制御することにより、当該微小凹凸１０は、適度な隙間を有して切り込まれた凹部（谷部）と、突端部が適度に尖った凸部（山部）とからなる凹凸形状に形成されている。
　その結果、本実施形態におけるガラス基板２１によれば、ガラス基板２１の主面２１ａに対して、入力ペン３のペン先３ａや指先４を接触及び移動させた際、上記凹部（谷部）の存在によって接触面積が適度に低減されることで、これらのペン先３ａまたは指先４は適度に滑り易くなり、また上記凸部（山部）の存在によって適度な引掛り感を感じることとなり、ガラス基板２１の主面２１ａと、入力ペン３のペン先３ａや指先４との摩擦力を適度に調整し、入力ペン３による書き心地や指先４による触り心地などの触感を向上させることができる。
　なお、上記回帰直線Ｌ（Ｌａ）の決定係数Ｒ２における上限値については、０．９６０としているが、０．９５０が好ましく、０．９４０がより好ましい。
　また、上記回帰直線Ｌ（Ｌａ）の決定係数Ｒ２における下限値については、０．６００としているが、０．６３０が好ましく、０．６５０がより好ましい。
　［比（ｄ／ｈ）の設定条件］
　図７に示すように、本実施形態における微小凹凸１０の形状は、上述した面の負荷曲線Ｔ（Ｔａ）において、負荷面積率が１％から９９％までの範囲内の最大高さｈに対する、当該負荷曲線Ｔ（Ｔａ）と上記回帰直線Ｌ（Ｌａ）との二乗平均平方根誤差ｄの比（ｄ／ｈ）が、０．０４５以上０．１６５以下となるように設定されている。
　なお、最大高さｈは、面の負荷曲線Ｔ（Ｔａ）における負荷面積率が１％であるときの高さｈａと、負荷面積率が９９％であるときの高さｈｂとの差（ｈ＝ｈａ－ｈｂ）である。
　また、回帰直線Ｌ（Ｌａ）は、上述したように、面の負荷曲線Ｔ（Ｔａ）における負荷面積率が１０％から９９％までの範囲を、最小二乗法による単回帰分析を行うことによって得られる、回帰直線である。
　ここで、上記の二乗平均平方根誤差ｄは、以下の数式（数２）によって示される、面の負荷曲線Ｔと上記回帰直線Ｌとのずれ量（負荷面積率が１０％から９９％までの範囲内における面の負荷曲線Ｔが、上記回帰直線Ｌからどれだけ外れているか）を示すが、微小凹凸１０の粗さ（凸部（山部）と凹部（谷部）との高さの差）が大きくなるに従い、二乗平均平方根誤差ｄも大きくなることから、単純に、異なる表面粗さを有する微小凹凸１０間で比較することは困難である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
　そこで、本実施形態においては、面の負荷曲線Ｔ（Ｔａ）における、負荷面積率が１％から９９％までの範囲内の最大高さｈとの比（ｄ／ｈ）を用いて、負荷面積率が１０％から９９％までの範囲における面の負荷曲線Ｔと、上記回帰直線Ｌとのずれ量を示す指標とすることにより、異なる表面粗さを有する微小凹凸１０間であっても、当該ずれ量について容易に比較可能としている。
　なお、上記比（ｄ／ｈ）は、負荷面積率が１０％から９９％の範囲における面の負荷曲線Ｔの直線性の指標となる。
　上記比（ｄ／ｈ）が０．０４５に満たない場合（（ｄ／ｈ）＜０．０４５）、面の負荷曲線Ｔは、上記回帰直線Ｌに極めて近づく傾向となる。
　よって、ガラス基板２１の主面２１ａに設けられる微小凹凸１０は、深くシャープに切り込まれた凹部（谷部）が存在する凹凸形状となり、微小凹凸１０全体に占める当該凹部（谷部）の領域の割合が比較的少ないことから、入力ペン３のペン先３ａ、または指先４（図１を参照）との接触面積の低減効果があまり期待できず、当該ガラス基板２１の主面２１ａに対して、入力ペン３または指先４は滑り難くなる。
　或いは、上記微小凹凸１０における凹部（谷部）は、突端部が比較的平滑な形状となるため、ガラス基板２１の主面２１ａに対して、入力ペン３のペン先３ａや指先４を接触及び移動させた際の引掛り感をあまり感じられない。
　よって、入力ペンによる書き心地や指先による触り心地などの触感が悪くなる。
　一方、上記比（ｄ／ｈ）が０．１６５を超える場合（（ｄ／ｈ）＞０．１６５）、面の負荷曲線Ｔは、上記回帰直線Ｌから比較的大きく外れる傾向となる。
　よって、ガラス基板２１の主面２１ａに設けられる微小凹凸１０の形状は、突端部が険しく尖った凸部（山部）が存在する凹凸形状となることから、ガラス基板２１の主面２１ａに対して、入力ペン３のペン先３ａや指先４を接触及び移動させた際に感じる引掛り感が強くなり過ぎ、入力ペン３による書き心地や指先４による触り心地などの触感が悪くなる。
　このようなことから、本実施形態においては、上記比（ｄ／ｈ）を０．０４５以上０．１６５以下に設定することにより（０．０４５≦（ｄ／ｈ）≦０．１６５）、当該ガラス基板２１の主面２１ａに設けられる微小凹凸１０が、適度な隙間を有して切り込まれた凹部（谷部）と、突端部が適度に尖った凸部（山部）とによって、確実に構成されることとしている。
　その結果、本実施形態におけるガラス基板２１によれば、ガラス基板２１の主面２１ａに対して、入力ペン３のペン先３ａや指先４を接触及び移動させた際、上記凹部（谷部）の存在によって接触面積が適度に低減されることで、接触時の過度な凝着を抑制できることから、これらのペン先３ａまたは指先４は適度に滑り易くなり、また上記凸部（山部）の存在によって適度な引掛り感を感じることとなり、入力ペン３による書き心地や指先４による触り心地などの触感を向上させることができる。
　なお、上記比（ｄ／ｈ）の上限値については、０．１６５としているが、０．１６０が好ましく、０．１５０がより好ましい。
　また、上記比（ｄ／ｈ）の下限値については、０．０４５としているが、０．０５０が好ましく、０．０５５がより好ましい。
　［比（Ｖｖｖ／Ｖｍｐ）の設定条件］
　本実施形態における微小凹凸１０の形状は、上述した面の負荷曲線Ｔ（Ｔａ）において、微小凹凸１０におけるコア部と突出山部との境界を示す負荷面積率を１０％とし（ｔ１＝１０％）、且つ微小凹凸１０におけるコア部と突出谷部との境界を示す負荷面積率を８０％としたときの（ｔ２＝８０％）、当該突出山部の体積Ｖｍｐに対する、当該突出谷部の空間の容積Ｖｖｖの比（Ｖｖｖ／Ｖｍｐ）が、２．４以上１５以下となるように設定されている。
　ここで、上記突出山部の体積Ｖｍｐ、及び上記突出谷部の空間の容積Ｖｖｖは、何れもＩＳＯ２５１７８によって規定されるパラメータであって、面の負荷曲線Ｔに基づき導かれるものである。
　具体的には、図２に示すように、突出山部の体積Ｖｍｐは、面の負荷曲線Ｔの負荷面積率がｔ１（％）における、凸部（山部）の実態的な体積を表す。
　本実施形態においては、突出山部の体積Ｖｍｐとして、負荷面積率ｔ１が１０％における、凸部（山部）の実態的な体積を求めることとしている。つまり、微小凹凸１０におけるコア部と突出山部との境界を示す負荷面積率ｔ１は、１０％に設定されている。
　なお、上記体積Ｖｍｐの値が大きくなるほど、微小凹凸１０の凹凸形状は、険しく尖った凸部（山部）が多くなる傾向にある。
　また、突出谷部の空間の容積Ｖｖｖは、面の負荷曲線Ｔの負荷面積率がｔ２（％）における、凹部（谷部）の空隙の容積を表す。
　本実施形態においては、突出谷部の空間の容積Ｖｖｖとして、負荷面積率ｔ２が８０％における、凹部（谷部）の空隙の容積を求めることとしている。つまり、微小凹凸１０におけるコア部と突出谷部との境界を示す負荷面積率ｔ２は、８０％に設定されている。
　なお、上記容積Ｖｖｖの値が大きくなるほど、微小凹凸１０の凹凸形状は、深くシャープな凹部（谷部）が多くなる傾向にある。
　そして、上記比（Ｖｖｖ／Ｖｍｐ）は、これらの体積Ｖｍｐ及び容積Ｖｖｖからなるパラメータの比であるため、入力ペン３のペン先３ａや指先４（図１を参照）に対して、引掛り感に寄与することとなる険しく尖った凸部（山部）と、接触面積の減少に寄与することとなる深くシャープな凹部（谷部）とにおける、両者のバランスを表す指標となる。
　上記比（Ｖｖｖ／Ｖｍｐ）が２．４に満たない場合（（Ｖｖｖ／Ｖｖｐ）＜２．４）、ガラス基板２１の主面２１ａに設けられる微小凹凸１０において、凹部（谷部）が占める割合が比較的少ないことから、入力ペン３のペン先３ａ、または指先４との接触面積の低減効果があまり期待できず、当該ガラス基板２１の主面２１ａに対して、これらのペン先３ａまたは指先４は滑り難く凝着し易くなり、入力ペン３による書き心地や指先４による触り心地などの触感が悪くなる。
　一方、上記比（Ｖｖｖ／Ｖｍｐ）が１５を超える（（Ｖｖｖ／Ｖｖｐ）＞１５）場合、ガラス基板２１の主面２１ａに設けられる微小凹凸１０において、凸部（山部）が占める割合が比較的少ないことから、ガラス基板２１の主面２１ａに対して、入力ペン３のペン先３ａや指先４を接触及び移動させた際の引掛り感をあまり感じられず、入力ペン３による書き心地や指先４による触り心地などの触感が悪くなる。
　このようなことから、本実施形態においては、上記（比Ｖｖｖ／Ｖｖｐ）が２．４以上１５以下に設定されており（２．４≦（Ｖｖｖ／Ｖｖｐ）≦１５）、ガラス基板２１の主面２１ａに設けられる微小凹凸１０において、凸部（山部）が占める割合と、凹部（谷部）が占める割合とが互いに適切な配分となるように構成されている。
　その結果、本実施形態におけるガラス基板２１によれば、凹部（谷部）による入力ペン３のペン先３ａ、または指先４との接触面積の低減効果が十分に期待でき、ガラス基板２１の主面２１ａに対して、入力ペン３のペン先３ａや指先４を接触及び移動させた際、これらのペン先３ａまたは指先４は適度に滑り易くなり、また、凸部（山部）の存在によって適度な引掛り感を感じることとなり、入力ペン３による書き心地や指先４による触り心地などの触感を向上させることができる。
　なお、上記比（Ｖｖｖ／Ｖｍｐ）の上限値については、１５としているが、１４が好ましく、１３がより好ましい。
　また、上記比（Ｖｖｖ／Ｖｍｐ）の下限値については、２．４としているが、２．５が好ましく、２．６がより好ましい。
　［算術平均高さＳａの設定条件］
　本実施形態における微小凹凸１０において、粗さ曲線の要素の算術平均高さＳａは、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下となるように設定されている。
　ここで、上記算術平均高さＳａは、ＩＳＯ２５１７８によって規定されるパラメータであって、線である輪郭曲線１０ａの要素を面に拡張したパラメータである。
　具体的には、図８に示すように、算術平均高さＳａは、ガラス基板２１の主面２１ａにおける平均面Ｚに対して、微小凹凸１０を構成する凹凸形状の各点の離間距離（例えば、凸部（山部）Ｘａの頂点までの高さＸｈ、及び凹部（谷部）Ｙａの頂点までの深さＹｈ）の絶対値の平均を表す（Ｓａ＝（（Ｘｈ１＋Ｘｈ２＋・・・＋Ｘｈｎ）+（Ｙｈ１＋Ｙｈ２＋・・・＋Ｙｈｎ））／２ｎ）。
　上記算術平均高さＳａが１ｎｍに満たない場合（Ｓａ＜１ｎｍ）、ガラス基板２１の主面２１ａに設けられる微小凹凸１０と、入力ペン３のペン先３ａや指先４との間の摩擦力が大きくなり過ぎ、入力ペン３による書き心地や指先４による触り心地などの触感が悪くなる。
　一方、上記算術平均高さＳａが１００ｎｍを超える場合（Ｓａ＞１００ｎｍ）、ガラス基板２１の主面２１ａに設けられる微小凹凸１０の凹凸形状によって、光の散乱が生じ易くなり、当該ガラス基板２１の主面２１ａにおける透明性が損なわれ、視認性が悪くなる虞がある。
　また、ガラス基板２１のヘイズが悪化する傾向がある。
　このようなことから、本実施形態においては、上記算術平均高さＳａが１ｎｍ以上１００ｎｍ以下に設定されており（１ｎｍ≦Ｓａ≦１００ｎｍ）、ガラス基板２１の主面２１ａに設けられる微小凹凸１０と、入力ペン３のペン先３ａや指先４との間の摩擦力が適度に調整されることで、ガラス基板２１の主面２１ａに設けられる微小凹凸１０と、入力ペン３のペン先３ａ、または指先４との接触面積の低減効果や、凹凸形状による適度な引掛り感によって、入力ペン３による書き心地や指先４による触り心地などの触感を、より確実に向上させることができる。
　また、微小凹凸１０の凹凸形状による光の散乱を、最小限に抑えることが可能であり、当該微小凹凸１０が形成された、ガラス基板２１の主面２１ａにおける視認性を、より確実に確保することができる。
　なお、上記算術平均高さＳａの上限値については、１００ｎｍとしているが、８０ｎｍが好ましく、６０ｎｍがより好ましい。
　また、上記算術平均高さＳａの下限値については、１ｎｍとしているが、２ｎｍが好ましく、３ｎｍがより好ましい。
　以上のような、面の負荷曲線Ｔ（Ｔａ）、及びＩＳＯ２５１７８による各種の三次元表面粗さパラメータ（突出谷部の空間の容積Ｖｖｖ、突出山部の体積Ｖｍｐ、及び算術平均高さＳａ）を用いて設定される、微小凹凸１０の凹凸形状については、本実施形態に限定されるものではない。
　即ち、微小凹凸１０の凹凸形状については、負荷面積率が１０％から９９％までの面の負荷曲線Ｔ（Ｔａ）を、最小二乗法による単回帰分析を行うことによって得られる、回帰直線Ｌ（Ｌａ）の決定係数Ｒ２が、０．６００以上０．９６０以下に設定されていればよい。
　また、負荷面積率が１０％から９９％までの範囲における面の負荷曲線Ｔ（Ｔａ）と上記回帰直線Ｌ（Ｌａ）との二乗平均平方根誤差ｄと、負荷面積率１％から９９％までの範囲内の最大高さｈとの比（ｄ／ｈ）が、０．０４５以上０．１６５以下に設定されていればよい。
　さらに、突出谷部の空間の容積Ｖｖｖと突出山部の体積Ｖｍｐの比（Ｖｖｖ／Ｖｍｐ）の比が、２．４以上１５以下に設定されていればよい。
　これらは各々の特徴のみで微小凹凸１０の凹凸形状を特定し、各々のパラメータを必ずしも同時に満たす必要はない。
　例えば、負荷面積率が１０％から９９％までの面の負荷曲線Ｔ（Ｔａ）を、最小二乗法による単回帰分析を行うことによって得られる、回帰直線Ｌ（Ｌａ）の決定係数Ｒ２が、０．６００以上０．９６０以下のとき、他のパラメータ、即ち、負荷面積率が１０％から９９％までの範囲の上記回帰直線Ｌ（Ｌａ）との二乗平均平方根誤差ｄと、負荷面積率１％から９９％までの範囲内の最大高さｈとの比（ｄ／ｈ）や、突出谷部の空間の容積Ｖｖｖと突出山部の体積Ｖｍｐの比（Ｖｖｖ／Ｖｍｐ）が、上記設定の範囲外となっていてもよい。
　［ガラス基板２１の製造方法］
　次に、ガラス基板２１の製造方法について、図１を用いて説明する。
　ガラス基板２１の表面（主面２１ａ）の少なくとも一部に形成される微小凹凸１０は、当該主面２１ａに対して、ウェットブラスト処理またはサンドブラスト処理などを施すことにより形成される。
　ウェットブラスト処理は、圧縮エアを用いて、アルミナなどの固体粒子からなる砥粒と、水などの液体とを均一に攪拌してスラリーとしたものを、ガラス基板２１からなるワークに対して、噴射ノズルから高速で噴射することにより、当該ワークに微小凹凸形状を形成する処理である。
　ウェットブラスト処理においては、高速に噴射されたスラリーがワークに衝突した際に、スラリー内の砥粒がワークの表面を削ったり、叩いたり、こすったりすることにより、当該ワークの表面に、微小凹凸形状が形成されることとなる。
　この場合、ワークに噴射された砥粒や、砥粒により削られたワークの破片は、当該ワークに噴射された液体によって洗い流されるため、ワークに残留する粒子が少なくなる。
　また、ウェットブラスト処理においては、スラリーをワークに噴射した場合、液体が砥粒をワークまで運ぶため、乾式サンドブラスト処理に比べて、より微細な砥粒を使用することができるとともに、砥粒がワークに衝突する際の衝撃が小さくなり、精密な加工を行うことが可能である。
　このように、ワーク（ガラス基板２１）に対してウェットブラスト処理を施すことで、ガラス基板２１の主面２１ａに対して、適度な大きさの凹凸形状を容易に形成することが可能であり、ガラス基板２１の透明度を損なうことなく、入力ペン３のペン先３ａや指先４が接触した際の摩擦力を適度に調整し、書き心地や触り心地などの触感を、確実に向上させることができる。
　サンドブラスト処理は、圧縮エアを用いて、アルミナなどの固体粒子からなる砥粒を、ガラス基板２１からなるワークに対して直接的に、噴射ノズルから高速で噴射することにより、当該ワークに微小凹凸形状を形成する処理である。
　ワーク（ガラス基板２１）に対してサンドブラスト処理を施すことによっても、上述したウェットブラスト処理と同様に、ガラス基板２１の主面２１ａに対して、適度な大きさの凹凸形状を容易に形成することが可能であり、ガラス基板２１の透明度を損なうことなく、入力ペン３のペン先３ａや指先４が接触した際の摩擦力を適度に調整し、書き心地や触り心地などの触感を、確実に向上させることができる。
　このように、本実施形態におけるガラス基板２１の製造方法は、ガラス基板２１の表面（主面２１ａ）の少なくとも一部に対して、ウェットブラスト処理、またはサンドブラスト処理を施すことにより、前述した所定の条件を満たす微小凹凸１０を形成することを特徴とする。
　このような構成からなる製造方法によれば、主面２１ａに微小凹凸１０が形成されたガラス基板２１であって、当該微小凹凸１０を有しない平滑な平面と比較して、入力ペン３による書き心地や指先４による触り心地などの触感に優れたガラス基板２１を製造することができる。
　なお、ガラス基板２１の主面２１ａにおける、微小凹凸１０の形成においては、上述したウェットブラスト処理、及びサンドブラスト処理以外の処理方法として、化学エッチング処理、ゾルゲル法、及びナノインプリント法などを用いることも可能である。
　ここで、上記化学エッチング処理は、ガラス基板２１の主面２１ａを、フッ化水素（ＨＦ）ガスや、フッ酸、塩酸、硫酸等の酸や、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液などによって化学エッチングする処理である。
　［別実施形態］
　ところで、図９において、本実施形態におけるガラス基板２１については、主に指先４による触り心地が向上する点に着目し、モバイル機器１００の外装を構成する背面カバー部材１０１として用いることが可能である。
　即ち、本発明の別実施形態として、モバイル機器１００は、前述したガラス基板２１からなる背面カバー部材１０１を備える。
　ここで、背面カバー部材１０１を有するモバイル機器１００としては、例えば、通信端末である携帯電話、スマートフォン、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ　Ｄａｔａ　Ａｓｓｉｓｔａｎｃｅ）、ＰＮＤ（Ｐｏｒｔａｂｌｅ　Ｎａｖｉｇａｔｉｏｎ　Ｄｅｖｉｃｅ）、ノートパソコン、及びタブレットＰＣなどが挙げられる。
　そして、このような構成を有することにより、指先４による触り心地などの触感に優れたモバイル機器１００を実現することができる。
　次に、本発明に係る微小凹凸が形成されたガラス部材について、実施例及び比較例を用いて詳細に説明する。
　なお、本発明に係るガラス部材の構成は、以下に示す実施例に限定されるものではない。
　［試料の作製］
　先ず、本発明に係るガラス部材の実施例として、試料１～１１を各々作製した。
　また、これらの実施例に対する比較例として、試料１２～１５を各々作製した。
　実施例である試料１～１１の材質については、厚さが０．５ｍｍの矩形板状からなるアルミノシリケートガラス（日本電気硝子社製、製品名：Ｔ２Ｘ－１）を用いることとした。
　なお、比較例である試料１２～１５の材質については、後述する。
　実施例である試料１～７のガラス部材については、ウェットブラスト処理を施すことにより、一方の主面に微小凹凸を形成した。
　具体的には、研磨剤として、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）からなる砥粒と、水とを均一に攪拌してスラリーを調製し、各ガラス部材の一方の主面の全体に対して、所定の走査速度にてノズルを移動させながら走査させ、所定の処理圧力のエアを用いて、当該ノズルから調製したスラリーを噴射するウェットブラストを施した。
　ここで、試料１～３のガラス部材については、平均粒径１．２μｍの多角形状の砥粒を用いることとし、試料４、５のガラス部材については、平均粒径３．０μｍの多角形状の砥粒を用いることとし、試料６、７のガラス部材については、平均粒径６．９μｍの多角形状の砥粒を用いることとした。
　なお、上記の平均粒径は、メジアン径をＤ５０として測定される研材粒子径である。
　また、スラリーの濃度において、試料１～７のガラス部材については、砥粒の濃度が６．０ｗｔ％のスラリーを用いることとした。
　そして、ノズルにおける上記エアの処理圧力において、試料１、２のガラス部材については、０．２２ＭＰａに設定し、試料３のガラス部材については、０．１３ＭＰａに設定し、試料４、６のガラス部材については、０．１５ＭＰａに設定し、試料５、７のガラス部材については、０．２５ＭＰａに設定することとした。
　また、ガラス部材とノズルの噴射口までの距離（ノズル距離）において、試料１～７のガラス部材については、４．０ｍｍとなるように調整した。
　さらに、ノズルの移動における上記走査速度において、試料１のガラス部材については、１ｍｍ／ｓに設定し、試料２、３のガラス部材については、４０ｍｍ／ｓに設定し、試料４、６のガラス部材については、２０ｍｍ／ｓに設定し、試料５、７のガラス部材に対しては、１０ｍｍ／ｓに設定することとした。
　実施例である試料８～１１のガラス部材については、サンドブラスト処理を施すことにより、一方の主面に微小凹凸を形成した。
　具体的には、研磨剤として、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）からなる砥粒を、各ガラス部材の一方の主面の全体に対して、所定の走査速度にてノズルを移動させながら走査させ、所定の処理圧力のエアを用いて、当該ノズルから砥粒を噴射するサンドブラストを施した。
　ここで、試料８のガラス部材については、平均粒径１．２μｍの多角形状の砥粒を用いることとし、試料９のガラス部材については、平均粒径２．０μｍの多角形状の砥粒を用いることとし、試料１０のガラス部材については、平均粒径３．０μｍの多角形状の砥粒を用いることとし、試料１１のガラス部材については、平均粒径４．０μｍの多角形状の砥粒を用いることとした。
　なお、上記の平均粒径は、メジアン径をＤ５０として測定される研材粒子径である。
　また、ノズルにおける上記エアの処理圧力においては、試料８～１１のガラス部材について、０．４０ＭＰａに設定することとした。
　また、ガラス部材とノズルの噴射口までの距離（ノズル距離）においては、試料８～１１のガラス部材について、４．０ｍｍとなるように調整した。
　さらに、ノズルの移動における上記走査速度においては、試料８～１１のガラス部材について、１５ｍｍ／ｓに設定することとした。
　一方、比較例である試料１２のガラス部材については、厚さが０．５ｍｍの矩形板状からなるアルミノシリケートガラス（日本電気硝子社製、製品名：Ｔ２Ｘ－１）を用いるとともに、一方の主面に処理を施していない。
　つまり、試料１２のガラス部材は、研磨剤を用いることなく未処理とした。
　また、比較例である試料１３のガラス部材については、厚さが０．５ｍｍの矩形板状からなる無アルカリガラス（日本電気硝子社製、製品名：ＯＡ－１０Ｇ）を用いるとともに、フッ酸によるウェットエッチング処理（ＨＦエッチング）を施すことにより、一方の主面に微小凹凸を形成した。
　具体的には、５ｗｔ％濃度に調整した液温３０℃のフッ酸溶液中に、ガラス部材の一方の主面を浸漬させ、２０００秒間放置することにより、微小凹凸を形成した。
　また、比較例である試料１４のガラス部材については、厚さが０．５ｍｍの矩形板状からなる無アルカリガラス（日本電気硝子社製、製品名：ＯＡ－１０Ｇ）を用いるとともに、ゾルゲル法によってシリカコーティングを施すことにより、一方の主面に微小凹凸を形成した。
　具体的には、シリカ成分を含む液体を噴射することにより塗布し、塗布したシリカ成分を含む液体を乾燥させることにより、当該主面にシリカコーティング膜からなる微小凹凸を形成した。
　さらに、比較例である試料１５のガラス部材については、厚さが０．５ｍｍの矩形板状からなるアルミノシリケートガラス（日本電気硝子社製、製品名：Ｔ２Ｘ－１）を用いるとともに、ウェットブラスト処理を施すことにより、一方の主面に微小凹凸を形成した。
　具体的には、平均粒径６．９μｍの多角形状のアルミナ砥粒を用いて、スラリーの濃度を１．０ｗｔ％、エアの処理圧力を０．１０ＭＰａ、ガラス部材とノズル口の距離を２０．０ｍｍ、ノズルの移動における走査速度を４０ｍｍ／ｓに設定し、処理を施した。
　以上に示した、試料１～１５のガラス部材についての研磨剤の条件、並びにウェットブラスト処理、またはサンドブラスト処理を施す際の処理圧力、ノズル距離、及び走査速度の条件について、表１及び表２によって記載する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　［表面粗さの測定］
　次に、試料１～１５のガラス部材における、主面の表面粗さを測定した。
　表面粗さの測定は、試料１～７、１５については、ウェットブラスト処理を施した主面に対して行い、試料８～１１については、サンドブラスト処理を施した主面に対して行い、試料１２については、一方の主面に対して行い、試料１３については、フッ酸によるウェットエッチング処理を施した主面に対して行い、試料１４についてはシリカコーティング膜が設けられた主面に対して行った。
　測定した表面粗さのパラメータは、形成された微小凹凸における算術平均高さＳａ、突出谷部の空間の容積Ｖｖｖ、及び突出山部の体積Ｖｍｐであり、これらの測定は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて行った。
　また、上記測定値に基づき、突出谷部の空間の容積Ｖｖｖと、突出山部の体積Ｖｍｐとの比（Ｖｖｖ／Ｖｍｐ）を導出した。
　ここで、面の負荷曲線Ｔは、最大山高さから最大谷深さまでの間隔（即ち、前述したように、図２において、凸部（山部）の最上端部１０ａ１と、凹部（谷部）の最下端部１０ａ２との間隔）を等間隔にて５１２分割し、それぞれの高さでの負荷面積率をプロットした。
　また、最小二乗法による回帰直線Ｌ、決定係数Ｒ２、二乗平均平方根誤差ｄ、及び負荷面積率が１％から９９％までの範囲内の最大高さｈは、上記プロットに基づく面の負荷曲線Ｔより導出した。
　なお、測定に用いた原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）は、Ｂｒｕｋｅｒ社製の原子間力顕微鏡Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ　Ｉｃｏｎ（ＳＰＭ　ｕｎｉｔ）、Ｎａｎｏ　Ｓｃｏｐｅ　Ｖ（Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ　ｕｎｉｔ）であり、ＩＳＯ　２５１７８に基づき測定を実施した。
　また、測定条件としては、タッピングモードを使用し、測定エリア５×５μｍの領域に対して、スキャンレートが１Ｈｚ、取得データ数が５１２×５１２となるように実施した。
　［ヘイズの測定］
　次に、試料１～１４のガラス部材におけるヘイズを測定した。
　ヘイズの測定は、島津製作所社製の紫外可視近赤外分析光度計（ＵＶ－３１００ＰＣ）を用いて、ＪＩＳＫ７３６１－１：１９９７に基づき実施した。
　［書き心地の評価］
　次に、試料１～１５のガラス部材に対する書き心地を確認するために、下記の方法により評価を行った。
　評価方法としては、先ず始めに、ワコム社製の替え芯（製品名「ＡＣＫ－２０００４：エラストマー芯」）を付けた、ワコム社製のプロペン（製品名「ＫＰ―５０３Ｅ」）からなるペンＸと、Ａｐｐｌｅ社製のＡｐｐｌｅ　Ｐｅｎｃｉｌ　２からなるペンＹとによる２種類のペンを用意し、微小凹凸が形成された主面上にて、これらのペンＸ及びペンＹを用いて、各々「あ」の文字を書き、紙とボールペンとの書き心地と比較して、書き心地が良好な場合には「○」とし、書き心地が悪い場合には「×」とする評価を行った。
　［触り心地の評価］
　次に、試料１～１５のガラス部材に対する、指先の触り心地を確認するために、下記の方法により評価を行った。
　評価方法としては、微小凹凸が形成された主面を指先で数回なぞり、適度に滑り易く感じる場合には「○」とし、やや滑り易く感じる場合には「△」とし、指先に引掛り感を感じる場合には「×」とする評価を行った。
　以上に示した、試料１～１５のガラス部材についての表面粗さ、及びヘイズの測定結果、並びに書き心地、及び触り心地の評価結果を、表３及び表４によって記載する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　［考察］
　先ず、表４に示すように、実施例である試料１～１１のガラス部材においては、ペンＸ及びペンＹの何れを用いた場合であっても、微小凹凸が形成された主面の書き心地が「○」であり、良好な結果となった。
　また、実施例である試料１、２、４～１１のガラス部材、及び実施例である試料３のガラス部材においては、指先による触り心地が、それぞれ「○」、及び「△」であり、何れの場合においても略良好な結果となった。
　一方、比較例である試料１２～１５のガラス部材においては、ペンＸ及びペンＹの何れを用いた場合であっても、微小凹凸が形成された主面の書き心地が「×」であり、不良な結果となった。
　また、比較例である試料１２、１３、１５のガラス部材においては、指先による触り心地も「×」であり、不良な結果となった。
　なお、一方の主面にシリカコーティングが施された試料１４のガラス部材においては、指先による触り心地については「○」であり、良好な結果となった。
　これらの結果を踏まえ、試料１～１５のガラス部材についての、表面粗さの測定結果を考察する。
　表３に示すように、実施例である試料１～１１のガラス部材においては、面の負荷曲線Ｔにおける、負荷面積率が１０％から９９％までの範囲を最小二乗法による単回帰分析を行うことによって得られた回帰直線Ｌの決定係数Ｒ２が、０．６８３～０．９３９の範囲内の値であった。
　一方、比較例である未処理の試料１２、フッ酸によるウェットエッチング処理が施された試料１３、及びシリカコーティングが施された試料１４のガラス部材においては、上記回帰直線Ｌの決定係数Ｒ２が、０．９６３～０．９７６の範囲内の値であり、ウェットブラストが施された試料１５のガラス部材においては、上記回帰直線Ｌの決定係数Ｒ２が、０．５２１であった。
　また、実施例である試料１～１１のガラス部材においては、面の負荷曲線Ｔにおける、負荷面積率が１０％から９９％までの範囲を最小二乗法による単回帰分析を行うことによって得られた回帰直線Ｌの二乗平均平方根誤差ｄと、負荷面積率が１％から９９％までの範囲内における最大高さｈとの比（ｄ／ｈ）が、０．０６３～０．１４４の範囲内の値であった。
　一方、比較例である未処理の試料１２、フッ酸によるウェットエッチング処理が施された試料１３、及びシリカコーティングが施された試料１４のガラス部材においては、上記比（ｄ／ｈ）が、０．０３８～０．０４２の範囲内の値であり、ウェットブラストが施された試料１５のガラス部材においては、上記比（ｄ／ｈ）が、０．１６６であった。
　さらに、実施例である試料１～１１のガラス部材においては、面の負荷曲線Ｔにおける、コア部と突出山部との境界を示す負荷面積率を１０％とし、且つコア部と突出谷部との境界を示す負荷面積率を８０％としたときの、突出山部の体積Ｖｍｐと、突出谷部の空間の容積Ｖｖｖとの割合（Ｖｖｖ／Ｖｍｐ）が、２．６５～１４．７０の範囲内の値であった。
　一方、比較例である未処理の試料１２、フッ酸によるウェットエッチング処理が施された試料１３、及びシリカコーティングが施された試料１４のガラス部材においては、上記比（Ｖｖｖ／Ｖｍｐ）が、０．８７～２．３０の範囲内の値であり、ウェットブラストが施された試料１５のガラス部材においては、上記比（Ｖｖｖ／Ｖｍｐ）が、１６．００であった。
　以上の結果から明らかなように、微小凹凸の凹凸形状が、前述した所定の条件、即ち、少なくとも上記回帰直線Ｌの決定係数Ｒ２が、０．６００～０．９６０の範囲内の数値であること、上記比（ｄ／ｈ）が、０．０４５～０．１６５の範囲内の数値であること、上記比（Ｖｖｖ／Ｖｍｐ）が、２．４～１５の範囲内の数値であることの何れかを満たす場合、当該微小凹凸を有するガラス部材は、書き心地、及び触り心地について、優れた性能を発揮する。
　以上、本願の実施の形態について説明を行ったが、本願はこうした実施の形態に何等限定されるものではなく、あくまで例示であって、本願の要旨を逸脱しない範囲内において、さらに種々なる形態で実施し得ることは勿論のことであり、本願の範囲は、特許請求の範囲の記載によって示され、さらに特許請求の範囲に記載の均等の意味、及び範囲内のすべての変更を含む。
　１　　ペン入力装置
　２　　入力装置
　３　　入力ペン
　１０　　微小凹凸
　２１　　ガラス基板（ガラス部材）
　２１ａ　　主面（表面）
　２２　　ディスプレイ素子（ディスプレイ装置）
　２３　　デジタイザ回路（検出回路）
　１００　　モバイル機器
　１０１　　背面カバー部材
　Ｌ　　回帰直線
　Ｔ　　面の負荷曲線
　

Claims (8)

  1. 　表面の少なくとも一部に微小凹凸を有し、
    　当該微小凹凸における、一辺が５μｍの正方形の領域内の面の負荷曲線において、
    　負荷面積率が１０％から９９％までの範囲を、最小二乗法による単回帰分析を行うことによって得られる、回帰直線の決定係数Ｒ２が、０．６００以上０．９６０以下である、
    　ことを特徴とするガラス部材。
  2. 　表面の少なくとも一部に微小凹凸を有し、
    　当該微小凹凸における、一辺が５μｍの正方形の領域内の面の負荷曲線において、
    　負荷面積率が１％であるときの高さｈａと、負荷面積率が９９％であるときの高さｈｂとの差である最大高さｈ（＝ｈａ－ｈｂ）に対する、
    　前記負荷曲線と、負荷面積率が１０％から９９％までの範囲を、最小二乗法による単回帰分析を行うことによって得られる回帰直線との二乗平均平方根誤差ｄの比（ｄ／ｈ）は、０．０４５以上０．１６５以下である、
    　ことを特徴とするガラス部材。
  3. 　表面の少なくとも一部に微小凹凸を有し、
    　当該微小凹凸における、一辺が５μｍの正方形の領域内の面の負荷曲線において、
    　前記微小凹凸におけるコア部と突出山部との境界を示す負荷面積率を１０％とし、前記微小凹凸におけるコア部と突出谷部との境界を示す負荷面積率を８０％としたときの、前記突出山部の体積Ｖｍｐに対する、前記突出谷部の空間の容積Ｖｖｖの比（Ｖｖｖ／Ｖｍｐ）は、２．４以上１５以下である、
    　ことを特徴とするガラス部材。
  4. 　前記微小凹凸において、
    　粗さ曲線の要素の算術平均高さＳａは、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下である、
    　ことを特徴とする、請求項１～請求項３の何れか一項に記載のガラス部材。
  5. 　請求項１～請求項４の何れか一項に記載のガラス部材からなるガラス基板と、
    　映像を表示するディスプレイ装置と、
    　入力位置を検出する検出回路とを備える、
    　ことを特徴とする入力装置。
  6. 　請求項５に記載の入力装置と、
    　前記ガラス基板の表面に接触しながら移動させることにより、前記入力装置に対する入力操作を行う入力ペンとを備える、
    　ことを特徴とするペン入力装置。
  7. 　請求項１～請求項４の何れか一項に記載のガラス部材からなる背面カバー部材を備える、
    　ことを特徴とするモバイル機器。
  8. 　請求項１～請求項４の何れか一項に記載のガラス部材を製造する製造方法であって、
    　前記ガラス部材の表面に対してウェットブラスト処理またはサンドブラスト処理を施す、
    　ことを特徴とするガラス部材の製造方法。
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