WO2023008249A1 - 現像処理装置及び現像処理方法 - Google Patents

Abstract

現像処理結果の面内均一性を改善し、且つ、現像液のミストを適切に回収することを、目的とする。　基板保持部（２０）に保持された基板に現像液及びリンス液を、それぞれ供給する現像液供給部（３３）及びリンス液供給部（３６）と、前記基板保持部に保持された基板からの現像液及びリンス液を受ける液受け部（１００）と、前記液受け部に接続され、当該液受け部内を排気するための排気管（１２５、１２７）と、前記液受け部の外周を囲うように設けられた吸気部（２００）と、を備えた、レジスト現像処理装置（１）において、前記現像液の供給時又は静止現像時の少なくともいずれか一方の時に、前記リンス液を用いた処理時より低い排気量で前記液受け部内を排気し、前記現像液の供給時または静止現像時の少なくともいずれか一方の時に、前記吸気部は吸気し、前記液受け部の外側に漏れ出た前記現像液のミストを回収するように構成する。

Description

現像処理装置及び現像処理方法

　本開示は、現像処理装置及び現像処理方法に関する。

　特許文献１には、レジストが塗布された基板上に現像液を供給する現像液供給手段と、現像液が供給されたレジストパターンが現像された基板上に、洗浄液を供給する手段と、を具備する現像処理装置が開示されている。

特開２００３－１７８９４２号公報

　本開示にかかる技術は、現像処理結果の面内均一性を改善し、且つ、現像液のミストを適切に回収する。

　本開示の一態様は、基板上のレジスト膜を現像する現像処理装置であって、基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部を回転させる回転機構と、前記基板保持部に保持された基板に現像液を供給する現像液供給部と、前記基板保持部に保持された基板にリンス液を供給するリンス液供給部と、前記基板保持部に保持された基板からの現像液及びリンス液を受ける液受け部と、前記液受け部に接続され、当該液受け部内を排気するための排気管と、前記液受け部の外周を囲うように設けられた吸気部と、を備え、前記吸気部は、前記リンス液を用いた処理時より低い排気量で前記液受け部内を排気する、前記現像液の供給時または静止現像時の少なくともいずれか一方の時に、吸気し、前記液受け部の外側に漏れ出た前記現像液のミストを回収する。

　本開示によれば、現像処理の面内均一性を改善し、且つ、現像液のミストを適切に回収することができる。

第１実施形態にかかる現像処理装置の構成の一例を概略的に示す横断面図である。 第１実施形態にかかる現像処理装置の構成の一例を概略的に示す縦断面図及び断面図である。 吸気部の上面図である。 ウェハ処理中の現像処理装置の状態を示す図である。 ウェハ処理中の現像処理装置の状態を示す図である。 昇降機構と排気機構との接続形態の一例を示している。 第２実施形態にかかる現像処理装置の構成の一例を示すための図である。 第３実施形態にかかる現像処理装置の構成の一例を示すための図である。 第３実施形態にかかる現像処理装置の構成の一例を示すための図である。

　半導体デバイス等の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では、半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という。）等の基板上に所望のレジストパターンを形成するために、種々の処理が行われる。上記種々の処理には、例えば、基板上にレジスト液を供給しレジスト膜を形成するレジスト塗布処理、レジスト膜を露光する露光処理、露光されたレジスト膜に現像液を供給して現像する現像処理等が含まれる。

　上述の現像処理は、現像処理装置を用いて行われる。現像処理装置は、基板を保持する基板保持部と、基板保持部に保持された基板に現像液を供給する現像液供給部と、を有し、基板保持部に保持された基板上に現像液供給部から現像液を供給し、基板表面上に現像液の液膜を形成し、基板上のレジスト膜を現像する。また、現像処理装置は、基板保持部に保持された基板から飛散した現像液等を受ける液受け部を有する。

　ところで、基板への現像液の供給時に、現像液のミストが生じることがある。この現像液のミストは、液受け部の外部に漏れ出し、液受け部を収容する筐体の内壁面に付着し、パーティクルの原因になったり、基板上の現像後のレジスト膜すなわちレジストパターンに付着して悪影響を及ぼしたりする等、種々の問題の要因となる。
　そのため、液受け部内を排気し、現像中等に現像液のミストを回収することが行われている。しかし、現像中に液受け部内を排気すると、基板の外周部近傍に比較的強い気流が発生し、基板の外周部が局所的に冷却されてしまう。ｉ線レジスト等の、現像中の温度感度が高いレジスト液を用いる場合、上述のように基板の外周部が局所的に冷却されていると、基板の外周部と中央部とで現像処理結果が異なってきてしまう。

　そこで、本開示にかかる技術は、現像処理の面内均一性を改善し、且つ、現像液のミストを適切に回収する。

　以下、本実施形態にかかる現像処理装置及び現像処理方法の構成について、図面を参照しながら説明する。なお、本明細書において、実質的に同一の機能構成を有する要素においては、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。

（第１実施形態）
＜現像処理装置＞
　図１及び図２はそれぞれ、第１実施形態にかかる現像処理装置の構成の一例を概略的に示す縦断面図及び横断面図である。図３は、後述の吸気部の上面図である。

　現像処理装置１は、図１及び図２に示すように内部を密閉可能な筐体１０を有している。筐体１０の側面には、基板としてのウェハＷの搬入出口（図示せず）が形成されている。

　筐体１０内には、ウェハＷを水平に保持する基板保持部としてのスピンチャック２０が設けられている。スピンチャック２０は、回転機構としてのチャック駆動部２１に、例えばシャフト２２を介して接続されている。チャック駆動部２１は、スピンチャック２０を鉛直軸周りに回転させることにより、スピンチャック２０に保持されたウェハＷを鉛直軸周りに回転させる。チャック駆動部２１は、スピンチャック２０の回転を駆動する駆動力を発生させる駆動源として、例えばモータやシリンダ等を有する。

　スピンチャック２０に保持されたウェハＷの裏面側となる領域には、現像処理装置１の外部のウェハ搬送機構とスピンチャック２０との間でウェハＷを受け渡すための昇降部材としての昇降ピン２３が、例えば複数（例えば３本）設けられている。昇降ピン２３は、モータやシリンダ等を有するピン駆動部２４により昇降自在になっている。

　また、スピンチャック２０に保持されたウェハＷの裏面側となる領域には、シャフト２２を取り囲むように円形板２５が設けられる。円形板２５には、シャフト２２が挿通される孔２５ａと、昇降ピン２３が挿通される孔２５ｂが形成されている。

　また、筐体１０内には、平面視においてスピンチャック２０を取り囲むようにして、液受け部としてのカップ体１００が設けられている。カップ体１００は、スピンチャック２０に保持されたウェハＷから振り切られたり、落下したりした、現像液やリンス液を受けると共に、これら現像液やリンス液を、現像処理装置１外に排出するために、ガイドする。カップ体１００の詳細については後述する。

　図２に示すようにカップ体１００のＸ方向負側（図２の下側）には、Ｙ方向（図２の左右方向）に沿って延伸するレール３０Ａ、３０Ｂが形成されている。レール３０Ａ、３０Ｂは、例えばカップ体１００のＹ方向負側（図２の左側）の外方からＹ方向正側（図２の右側）の外方まで形成されている。レール３０Ａには、アーム３１が設けられ、レール３０Ｂには、アーム３２が設けられている。

　第１のアーム３１には、現像液供給部としての現像液供給ノズル３３が支持されている。現像液供給ノズル３３は、スピンチャック２０に保持されたウェハＷに現像液を供給する。また、現像液供給ノズル３３は、現像液の吐出口を下面に有する角筒状に形成されている。現像液供給ノズル３３の吐出口は、平面視矩形状に形成されており、吐出口の長手方向の長さは、ウェハＷの直径と略同じである。

　現像液供給ノズル３３は、接液ノズルと称されるものであってもよい。接液ノズルは、現像液を吐出する吐出口と、吐出口から横方向に広がり、ウェハＷの表面に対して略平行な下端面と、を有するノズルである。

　第１のアーム３１は、ノズル駆動部３４により、レール３０Ａ上を移動自在である。これにより、現像液供給ノズル３３は、カップ体１００のＹ方向正側の外方に設置された待機部３５からカップ体１００内のウェハＷの中心部上方まで移動できる。また、ノズル駆動部３４によって、第１のアーム３１は昇降自在であり、現像液供給ノズル３３の高さを調節できる。ノズル駆動部３４は、第１のアーム３１のレール３０Ａに沿った移動及び第１のアーム３１の昇降を駆動する駆動力を発生させる駆動源として、例えばモータやシリンダ等を有する。

　第２のアーム３２には、リンス液供給部としてのリンス液供給ノズル３６が支持されている。リンス液供給ノズル３６は、スピンチャック２０に保持されたウェハＷにリンス液を供給する。また、リンス液供給ノズル３６は、リンス液の吐出口を下面に有する円筒状に形成されている。
　第２のアーム３２は、ノズル駆動部３７によってレール３０Ｂ上を移動自在となっている。これにより、リンス液供給ノズル３６は、カップ体１００のＹ方向負側の外方に設置された待機部３８から、カップ体１００内のウェハＷの中心部上方まで移動できる。また、ノズル駆動部３７によって、第２のアーム３２は昇降自在であり、リンス液供給ノズル３６の高さを調節できる。ノズル駆動部３７は、第２のアーム３２のレール３０Ｂに沿った移動及び第２のアーム３２の昇降を駆動する駆動力を発生させる駆動源として、例えばモータやシリンダ等を有する。

　現像液供給ノズル３３及びリンス液供給ノズル３６はそれぞれ、現像液及びリンス液の供給源に流量制御部（図示せず）を介して接続されている。上記供給源からの現像液及びリンス液はそれぞれ、流量制御部によりその流量が調整され、現像液供給ノズル３３及びリンス液供給ノズル３６に供給され、当該ノズル３３、３６を介して、スピンチャック２０上のウェハＷに吐出される。上記流量制御部は、例えば各種バルブやマスフローコントローラを有する。

　さらに、筐体１０の底壁には、図１に示すように、排気口１１が形成されている。排気口１１には、筐体１０内を排気するための排気管１２が接続されている。排気管１２は、排気ポンプ等を有する排気機構４０へ主排気管４１を介して接続されている。

　カップ体１００は、現像処理装置１の外部のウェハ搬送機構とスピンチャック２０との間でウェハＷを受け渡すときにウェハＷが通過可能に、上部が開放されており、すなわち、上部に開口１００ａを有する。開口１００ａは、カップ体１００の上部における平面視中央に設けられている。

　このカップ体１００は、内カップ１０１と、下カップ１０２と、昇降体としての上カップ１０３及び外カップ１０４と、リング１０５と、を含む。

　内カップ１０１は、平面視において、円形板２５の周囲を取り囲むように円環板状に設けられている。内カップ１０１は、ウェハＷから零れ落ちた現像液等を、外側下方へとガイドするガイド壁１１０と、ガイド壁１１０の外周端から鉛直方向下方へ延びた円筒状の垂直壁１１１と、を有する。

　下カップ１０２は、内カップ１０１の下方に設けられている。下カップ１０２は、底部に位置する円環板状の底壁１２０と、底壁１２０から鉛直方向上方へ延びた円筒状の垂直壁１２１～１２３と、を有する。垂直壁１２１は、底壁１２０の外周端から鉛直方向上方へ延び、垂直壁１２２は、底壁１２０の内周端から鉛直方向上方へ延びている。垂直壁１２３は、底壁１２０における、外周端と内周端との間の位置から、鉛直方向上方へ延びている。

　底壁１２０における垂直壁１２２と垂直壁１２３との間には排液口１２４が形成されている。排液口１２４には、カップ体１００で受けた液体を排出するための排液管１２５が接続されている。また、底壁１２０における垂直壁１２１と垂直壁１２３との間には排気口１２６が形成されている。排気口１２６には、カップ体１００内を排気する（具体的にはウェハＷの周辺の雰囲気を排気する）ための排気管１２７が接続されている。

　排気管１２７は、前述の排気管１２と同様、排気機構４０に主排気管４１を介して接続されている。
　主排気管４１には、排気管１２を介した筐体１０内の排気（以下、「筐体排気」という。）と、排気管１２７を介したカップ体１００内の排気（以下、「カップ排気」という。）と、を切り換えるダンパ４２が設けられている。

　排液口１２４から排出する液体と、排気口１２６から排出する気体とは、垂直壁１２３によって分離することができる。なお、内カップ１０１の垂直壁１１１は、ガイド壁１１０でガイドした液体が排液口１２４から排出されるよう、垂直壁１２３の外側に位置するように形成されている。

　上カップ１０３は、平面視において、内カップ１０１及び下カップ１０２の外周部を上方から、円環板状に覆うように設けられている。上カップ１０３は、平面視において、ウェハＷの直径よりやや大きい円状の開口１３０ａを有する円環板状に形成された環状板壁１３０を有する。環状板壁１３０は、外周に向けて徐々に低くなるように傾斜している。

　また、上カップ１０３は、環状板壁１３０の外周端から鉛直方向下方へ延びる円筒状の垂直壁１３１と、垂直壁１３１の下端から外側へ延びる円環状のリブ１３２とを有する。垂直壁１３１及びリブ１３２は、下カップ１０２の垂直壁１２１と垂直壁１２３との間に位置するように設けられる。上カップ１０３の内周面と、内カップ１０１のガイド壁１１０及び垂直壁１１１の外周面との間の隙間Ｇ１は、排気口１２６すなわち排気管１２７に連通する、カップ体１００内を排気する（具体的にはウェハＷの周辺の雰囲気を排気する）排気流路をなす。
　上述のような上カップ１０３は、昇降可能に構成されている。

　外カップ１０４は、上カップ１０３の外周部を上方から、円環状に覆うように設けられている。外カップ１０４は、平面視において、ウェハＷの直径より大きい円状の開口１４０ａを有する円環状に形成された環状壁１４０を有する。本実施形態において、開口１４０ａは、上カップ１０３の環状板壁１３０の内周部が挿入されている。環状壁１４０の外周部は、外周に向けて徐々に高くなるように傾斜している。また、外カップ１０４は、環状壁１４０の外周端から上方へ延びる円筒状の外周壁１４１を有する。さらに、外カップ１０４は、外周壁１４１の上端から内周下方に向けて延びる円環状の返し部１４２を有する。

　さらにまた、外カップ１０４は、昇降可能に構成されており、環状壁１４０の内周部の下面から下方へ延びる円筒状の垂直壁１４３を有する。垂直壁１４３は、上カップ１０３の垂直壁１３１より外側に位置するように設けられる。また、垂直壁１４３は、外カップ１０４が下降したときに、下カップ１０２内に収まると共に、下カップ１０２の垂直壁１２１より内側且つリング１０５より内側に位置するように、設けられる。

　リング１０５は、下カップ１０２の外周部及び上カップ１０３のリブ１３２の外周部を上方から、円環状に覆うように設けられている。リング１０５は、例えば、下カップ１０２の垂直壁１２１の上端に固定されている。

　上述のようなカップ体１００に対し、当該カップ体１００の外周を囲うように吸気部２００が設けられている。吸気部２００は、図２及び図３に示すように、吸気口２０１を有する。吸気口２０１は、例えば平面視において、カップ体１００と同心の円環状に複数並ぶように、設けられている。また、吸気部２００は、例えば、平面視円環状且つ中空のリング体２０２を有し、リング体２０２の上面に、当該リング体２０２に沿って吸気口２０１が設けられている。各吸気口２０１は、リング体２０２の内部の中空部分に連通している。リング体２０２内を排気機構（図示せず）により排気することにより、吸気部２００による吸気口２０１を介した吸気が可能となる。

　吸気部２００の吸気口２０１の高さは、例えば、カップ体１００の上端の高さ以下、具体的には、外カップ１０４の上端の高さ以下である。
　吸気部２００も、外カップ１０４等と同様、昇降可能に構成されている。一実施形態において、吸気部２００は、上カップ１０３及び外カップ１０４と共に昇降可能に構成されている。

　上カップ１０３、外カップ１０４及び吸気部２００は、共通の昇降機構３００に接続されている。
　昇降機構３００は、外カップ１０４及び吸気部２００を支持する支持部材３０１を有する。上カップ１０３は、例えば外カップ１０４に螺着等により固定されており、これにより、外カップ１０４を介して支持部材３０１に支持されている。さらに、昇降機構３００は、支持部材３０１を昇降させることにより、上カップ１０３、外カップ１０４及び吸気部２００を昇降させる駆動部３０２を有する。駆動部３０２は、支持部材３０１の昇降を駆動する駆動力を発生させる駆動源として、例えばモータやシリンダ等を有する。

　さらに、筐体１０内におけるカップ体１００の上方には、ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）４００が設けられており、カップ体１００に向けて、具体的にはスピンチャック２０に保持されたウェハＷに向けて、清浄なエアを供給する。カップ体１００に供給された清浄なエアは、カップ体１００内を通り、排気管１２７を介して排出される。

　以上の現像処理装置１には、図２に示すように制御部Ｕが設けられている。制御部Ｕは、例えばＣＰＵやメモリ等を備えたコンピュータであり、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、現像処理装置１におけるウェハＷの処理を制御するプログラムが格納されている。なお、上記プログラムは、コンピュータに読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、当該記憶媒体から制御部Ｕにインストールされたものであってもよい。記憶媒体は、一時的なものであっても、非一時的なものであってもよい。プログラムの一部または全ては専用ハードウェア（回路基板）で実現してもよい。

＜ウェハ処理＞
　次に、以上のように構成された、現像処理装置１を用いて行われるウェハ処理の一例について説明する。なお、以下の処理は制御部Ｕの制御の下、行われる。図４及び図５を用いて説明する。図４及び図５は、上記ウェハ処理中の現像処理装置１の状態を示す図であり、要部のみを示している。
　なお、以下の説明において、現像処理装置１に搬入する前のウェハＷの表面にはレジスト膜が形成され、当該レジスト膜に対して、露光処理、その後の加熱処理が完了しているものとする。

（ステップＳ１：ウェハＷの保持）
　まず、ウェハＷが、カップ体１００の開口１００ａを通過し、スピンチャック２０に保持される。
　具体的には、まず、筐体１０の側面に設けられた搬入出口（図示せず）を介して、筐体１０の外部から、ウェハＷを保持したウェハ搬送機構（図示せず）が筐体１０内に挿入される。そして、ウェハＷが、スピンチャック２０の上方に搬送される。次いで、ピン駆動部２４の駆動により、昇降ピン２３が上昇し、スピンチャック２０の上面から予め定められた距離突出し、昇降ピン２３の上にウェハＷが受け渡される。

　なお、昇降ピン２３へのウェハＷの受け渡し前に、上カップ１０３、外カップ１０４及び吸気部２００の一体に移動する集合体（以下、一体移動体という。）は、昇降機構３００の駆動により、第１位置に移動される。第１位置は、図４（Ａ）に示すように、上カップ１０３の上端が、スピンチャック２０上のウェハＷの表面より低くなる位置である。

　次に、ピン駆動部２４の駆動により、昇降ピン２３が下降される。これにより、ウェハＷが下降して、開口１００ａを通過し、スピンチャック２０の上面に受け渡される。そして、ウェハＷがスピンチャック２０に吸着保持される。
　本工程において、ダンパ４２は、筐体排気とカップ排気とのうち筐体排気が行われるよう調整されている。

（ステップＳ２：現像液を用いた処理）
　続いて、スピンチャック２０に保持されたウェハＷに現像液を用いた処理が行われ、具体的には、例えば、現像液の供給（ステップＳ２Ａ）と、静止現像（ステップＳ２Ｂ）が行われる。

（ステップＳ２Ａ：現像液の供給）
　本工程では、スピンチャック２０に保持されたウェハＷに現像液が供給され、ウェハＷ上に現像液膜が形成される。
　具体的には、引き続き、上記一体移動体が第１位置に配置され且つ筐体排気が行われるようダンパ４２が調整された状態で、さらに、吸気部２００による吸気が行われる。この状態で、ノズル駆動部３４の駆動により、図４（Ｂ）に示すように、現像液供給ノズル３３がウェハＷの上方に移動する。そして、現像液供給ノズル３３からウェハＷ上への現像液の供給が開始され、現像液膜が形成される。例えば、現像液膜の形成の際、現像液供給ノズル３３からの現像液の吐出先が、レール３０Ａの延在方向にかかるウェハＷの一端から他端に移動していくように、現像液供給ノズル３３はノズル駆動部３４に駆動される。このとき、ウェハＷは回転しておらず静止している。現像液供給ノズル３３からの現像液の吐出先がウェハＷの上記他端に到達し現像液膜が形成されると、現像液供給ノズル３３からの現像液の供給が停止されると共に、ノズル駆動部３４の駆動により、現像液供給ノズル３３はウェハＷ上から退避される。

　なお、本工程で現像液供給ノズル３３から供給された現像液のうち、ウェハＷ上に残らないものは、内カップ１０１の外周面と上カップ１０３外周面との間を通り、または、上カップ１０３の外周面と外カップ１０４の下部の内周面との間を通り、下カップ１０２に回収される。

　現像液供給ノズル３３からの現像液の供給の際、上記一体移動体が第１位置に配置されている。すなわち、上カップ１０３の上端が、スピンチャック２０上のウェハＷの表面より低い位置に位置する。そのため、現像液の供給時において、現像液供給ノズル３３がウェハＷの表面に近接した状態（例えば現像液供給ノズル３３の吐出口からウェハＷの表面までの距離が３ｍｍ以下の状態）で当該表面に沿って移動する際に、上カップ１０３との間で干渉が生じない。なお、この移動の際に、現像液供給ノズル３３と外カップ１０４との間で干渉が生じないように、外カップ１０４は設計されている。

　また、現像液供給ノズル３３からの現像液の供給の際、筐体排気が行われカップ排気が行われないようダンパ４２が調整されているため、現像液の供給時にウェハＷの周縁部に気流が生じるのを抑制することができる。

　さらに、現像液供給ノズル３３からの現像液の供給の際、前述のように、吸気部２００による吸気が行われる。そのため、現像液供給ノズル３３から吐出された現像液がウェハＷに衝突すること等により生じた現像液のミストＭであって、カップ体１００の上方（具体的には外カップ１０４の上方）を通過しカップ体１００の外部に漏れ出たミストＭを吸気部２００で回収することができる。

（Ｓ２Ｂ：静止現像）
　本工程では、予め定められた時間、ステップＳ２Ａで形成された現像液膜がウェハＷ上に維持され、ウェハＷ上のレジスト膜の静止現像が行われる。
　また、本工程では、筐体排気が行われカップ排気が行われないようダンパ４２が調整された状態が維持される。そのため、静止現像中にウェハＷの周縁部に気流が生じるのを抑制することができる。
　さらに、本工程では、吸気部２００による吸気も維持される。そのため、静止現像中に、カップ体１００の外側に漏れ出たミストＭを吸気部２００で回収することができる。

　本工程の際、図５（Ａ）に示すように、上記一体移動体が第１位置とは別の位置に配置されてもよい。上記別の位置は、上カップ１０３のリブ１３２とリング１０５とが密着する位置であり、より具体的には、上カップ１０３のリブ１３２とリング１０５とが略全周に亘って密着する位置である。これにより、現像液を回収し現像液の蒸気が存在する下カップ１０２内から、すなわち、現像液の気体の雰囲気となっている下カップ１０２内から、上記雰囲気に起因する現像液のミスト等が、下カップ１０２と外カップ１０４との間等からカップ体１００外に漏れ出すのを抑制することができる。

（ステップＳ３：リンス液を用いた処理）
　続いて、スピンチャック２０に保持されたウェハＷにリンス液を用いた処理すなわち洗浄処理が行われる。

　具体的には、上記一体移動体が昇降機構３００の駆動により、第２位置に移動される。第２位置は、図５（Ｂ）に示すように、上カップ１０３の環状板壁１３０の内周端下面が、スピンチャック２０上のウェハＷの表面より高くなる位置である。この条件を満たせば、第２位置は、前述の、上カップ１０３のリブ１３２とリング１０５とが密着する別の位置であってもよい。
　また、吸気部２００による給気が停止されると共に、ダンパ４２が調整され、筐体排気からカップ排気に切り換えられる。
　さらに、ノズル駆動部３７の駆動により、リンス液供給ノズル３６がウェハＷの中心の上方に移動される。

　そして、リンス液供給ノズル３６からウェハＷ上へリンス液が供給され、ウェハＷが洗浄される。例えば、この洗浄の際、チャック駆動部２１の駆動により、１００～５００ｒｐｍで回転するウェハＷに、リンス液供給ノズル３６からウェハＷ上へリンス液を供給し、ウェハＷ上の現像液膜をリンス液で置換する。その後、リンス液の供給を停止した後、チャック駆動部２１の駆動により、ウェハＷの回転数を上昇させて、リンス液をウェハＷ上から振り切って、ウェハＷを乾燥させる。乾燥中に、ノズル駆動部３７の駆動により、リンス液供給ノズル３６はウェハＷ上から退避される。

　洗浄処理の際、上記一体移動体が第２位置に配置されている。すなわち、上カップ１０３の環状板壁１３０の内周端下面が、スピンチャック２０上のウェハＷの表面より高くなる位置に位置する。そのため、洗浄処理時に、スピンチャック２０上のウェハＷから振り切られた現像液やリンス液を、上カップ１０３の環状板壁１３０で受け止め、カップ体１００で回収することができる。

　また、洗浄処理の際、外カップ１０４が設けられていることにより、リンス液供給ノズルからウェハＷに供給されたリンス液がウェハＷで大きく跳ね返され、開口１３０ａを介して上カップ１０３の外側に飛び出した場合に、そのリンス液を外カップ１０４で回収することができる。

　さらに、洗浄処理時にカップ排気が行われることにより、リンス液や現像液のミストを前述の隙間Ｇ１によってカップ体１００内に形成される排気流路Ｒ１を介して吸引し回収することができる。なお、洗浄時のリンス液や現像液のミストは、リンス液供給ノズル３６から供給されたリンス液がウェハＷに衝突したり、ウェハＷから振り切られたリンス液または現像液が上カップ１０３の環状板壁１３０に衝突したりすること等により生じ得る。

（ステップＳ４：ウェハ搬出）
　そして、ウェハＷがステップＳ１と逆の手順により現像処理装置１から搬出される。
　これにより一連の現像処理が終了する。

　なお、以上の例では、ステップＳ２Ａの現像液の供給時及びステップＳ２Ｂの両方で、カップ排気を行わずに筐体排気を行い、カップ体１００の外周を囲うように設けられた吸気部２００により吸気を行っている。これに代えて、ステップＳ２Ａの現像液の供給時及びステップＳ２Ｂのいずれか一方で、カップ排気を行わずに筐体排気を行い、カップ体１００の外周を囲うように設けられた吸気部２００により吸気を行うようにしてもよい。

　以上のように、本実施形態では、ステップＳ２の現像液を用いた処理時にはカップ排気を行わずに、ステップＳ３のリンス液を用いた処理時のみカップ排気を行う。具体的には、ステップＳ２Ａの現像液の供給時及びステップＳ２Ｂの静止現像時の少なくともいずれか一方の時にはカップ排気を行わずに、ステップＳ３のリンス液を用いた処理時のみカップ排気を行う。つまり、ステップＳ２Ａの現像液の供給時及びステップＳ２Ｂの静止現像時の少なくともいずれか一方の時に、リンス液を用いた処理時より低い排気量でカップ体１００内を排気している。そのため、ステップＳ２Ａの現像液の供給時及びステップＳ２Ｂの静止現像時の少なくともいずれか一方の時に、ウェハの外周部近傍に気流が発生するのを抑制することができ、ウェハＷの外周部が局所的に冷却されるのを防ぐことができる。したがって、現像中の温度感度が高いレジスト液を用いた場合等における、現像処理の均一性を改善することができる。
　また、本実施形態では、ステップＳ２Ａの現像液の供給時及びステップＳ２Ｂの静止現像時の少なくともいずれか一方の時に、カップ体１００の外周を囲うように設けられた吸気部２００により吸気を行っている。したがって、カップ体１００内からの排気量が比較的低い結果、カップ体１００の外側に現像液のミストが漏れ出たとしても、その漏れ出たミストを吸気部２００で回収することができる。
　このように、本実施形態によれば、現像処理の面内均一性を改善し、且つ、現像液のミストを適切に回収することができる。

　また、本実施形態では、吸気部２００の吸気口２０１の高さは、カップ体１００の上端の高さ以下である。具体的には、ステップＳ２Ａの現像液の供給時及びステップＳ２Ｂの静止現像時の少なくともいずれか一方の時すなわち吸気時の吸気口２０１の高さは、外カップ１０４の上端の高さ以下である。したがって、以下の（１）、（２）の効果がある。
（１）カップ体１００の上側を通りカップ体１００の外側に漏れ出た現像液のミストが、重力等により、吸気口２０１に回収されずに吸気部２００の下側を通って飛散してしまうことを抑制することができる。
（２）現像液を用いた処理時に、ＦＦＵ４００によりウェハＷの上方に形成される気流が、吸気部２００による吸気により乱れるのを抑制することができる。

　さらに、本実施形態では、カップ体１００の上端を構成する部分すなわち外カップ１０４が昇降可能されており、且つ、吸気部２００が外カップ１０４と共に昇降可能に構成されている。そのため、外カップ１０４の高さによらず、外カップ１０４の上端に対する吸気部２００の高さ（具体的には吸気口２０１の高さ）を一定にすることができる。その結果、現像液のミストの回収性能を安定させることができる。

（第２実施形態）
　図６及び図７は、第２実施形態にかかる現像処理装置の構成の一例を示すための図であり、要部のみを示している。また、図６は、昇降機構３００と後述の排気機構５００との接続形態の一例を示しており、図７は、排気機構５００の排気経路の一例を示している。

　本実施形態にかかる現像処理装置も、第１実施形態にかかる現像処理装置と同様、吸気部２００を有する。ただし、本実施形態では、図６に示すように、吸気部２００が接続されている排気機構５００が、カップ体１００が有する昇降体（具体的には外カップ１０４及び上カップ１０３）の昇降を駆動する駆動力により排気可能に構成されている。排気機構５００は、カップ体１００の昇降体の上昇を駆動する駆動力、または、カップ体１００の昇降体の下降を駆動する駆動力のいずれか一方により排気可能に構成されていてもよい。ただし、本実施形態では、排気機構５００が、カップ体１００の昇降体の上昇を駆動する駆動力、または、カップ体１００の昇降体の下降を駆動する駆動力のいずれの駆動力でも排気可能に構成されている。排気機構５００の具体的な構成は以下の通りである。

　排気機構５００は、上側から順に、天板５０１、隔壁板５０２、底板５０３を有する。
　天板５０１と隔壁板５０２とは、上下方向に伸縮自在なベローズ管等の第１伸縮管５０４により接続されている。天板５０１と隔壁板５０２と第１伸縮管５０４により、第１ポンプ室Ｐ１が区画されている。

　また、隔壁板５０２と底板５０３とは、上下方向に伸縮自在なベローズ管等の第２伸縮管５０５により接続されている。隔壁板５０２と底板５０３と第２伸縮管５０５により、第２ポンプ室Ｐ２が区画されている。

　天板５０１と底板５０３は固定され不動である。それに対し、隔壁板５０２は、吸気部２００等を支持する支持部材３０１に支持されており、駆動部３０２による駆動によって支持部材３０１が昇降することにより、隔壁板５０２も昇降する。隔壁板５０２が昇降することにより第１ポンプ室Ｐ１及び第２ポンプ室Ｐ２の容積が変化する。隔壁板５０２が上昇すれば、第１ポンプ室Ｐ１の容積が小さくなり第２ポンプ室Ｐ２の容積が大きくなっていくのに対し、隔壁板５０２が下降すれば、第１ポンプ室Ｐ１の容積が大きくなり第２ポンプ室Ｐ２の容積が小さくなっていく。

　また、排気機構５００は、図７に示すように、上流側主排気管５１０、第１上流側分岐管５１１及び第２上流側分岐管５１２、下流側主排気管５２０、第１下流側分岐管５２１及び第２下流側分岐管５２２を有する。

　上流側主排気管５１０の上流端は、吸気部２００に連通しており、具体的には、吸気部２００のリング体２０２の内部の中空部分に連通している。上流側主排気管５１０の下流側は、第１上流側分岐管５１１及び第２上流側分岐管５１２に分岐され、それぞれ第１ポンプ室Ｐ１及び第２ポンプ室Ｐ２に接続されている。

　第１下流側分岐管５２１及び第２下流側分岐管５２２の上流端はそれぞれ、第１ポンプ室Ｐ１及び第２ポンプ室Ｐ２に接続されている。第１下流側分岐管５２１及び第２下流側分岐管５２２の下流側は合流して下流側主排気管５２０の上流端に接続されている。

　第１ポンプ室Ｐ１に対しては逆止弁Ｖ１、Ｖ２が設けられ、第２ポンプ室Ｐ２に対しては逆止弁Ｖ３、Ｖ４が設けられている。逆止弁Ｖ１は、第１ポンプ室Ｐ１から吸気部２００に気体が逆流するのを防ぐためのものであり、逆止弁Ｖ２は、第１下流側分岐管５２１から第１ポンプ室Ｐ１に気体が逆流するのを防ぐためのものである。また、逆止弁Ｖ３は、第２ポンプ室Ｐ２から吸気部２００に気体が逆流するのを防ぐためのものであり、逆止弁Ｖ４は、第２下流側分岐管５２２から第２ポンプ室Ｐ２に気体が逆流するのを防ぐためのものである。

　逆止弁Ｖ１は、例えば、第１ポンプ室Ｐ１内に位置する第１上流側分岐管５１１の下流端に設けられ、第１上流側分岐管５１１を介した第１ポンプ室Ｐ１への気体の流入による圧力によって、開状態となり、弁体Ｖ１１に作用する重力により閉状態となる。

　逆止弁Ｖ２は、例えば、第１ポンプ室Ｐ１外に位置する第１下流側分岐管５２１の上流側に設けられ、第１下流側分岐管５２１を介した第１ポンプ室Ｐ１の気体の排出による圧力によって、開状態となり、弁体Ｖ１２に作用する重力により閉状態となる。

　逆止弁Ｖ３は、例えば、第２ポンプ室Ｐ２内に位置する第２上流側分岐管５１２の下流端に設けられ、第２上流側分岐管５１２を介した第２ポンプ室Ｐ２への気体の流入による圧力によって、開状態となり、弁体Ｖ１３に作用する重力により閉状態となる。

　逆止弁Ｖ４は、例えば、第２ポンプ室Ｐ２外に位置する第２下流側分岐管５２２の上流側に設けられ、第２下流側分岐管５２２を介した第２ポンプ室Ｐ２の気体の排出による圧力によって、開状態となり、弁体Ｖ１４に作用する重力により閉状態となる。

　以上の各部で構成される排気機構５００は、外カップ１０４及び吸気部２００を含む一体移動体が上昇するよう駆動部３０２により駆動され、支持部材３０１が上昇すると、隔壁板５０２が上昇する。隔壁板５０２が上昇すると、第１ポンプ室Ｐ１の容積が小さくなっていき、第１ポンプ室Ｐ１内の気体が、第１下流側分岐管５２１及び下流側主排気管５２０を介して排出される。それと共に、第２ポンプ室Ｐ２の容積が大きくなっていき、吸気部２００の吸気口２０１の周囲が排気され、当該周囲の気体が、吸気部２００、上流側主排気管５１０及び第２上流側分岐管５１２を介して、第２ポンプ室Ｐ２内に流入する。

　一方、上記一体移動体が下降するよう駆動部３０２により駆動され、支持部材３０１が下降すると、隔壁板５０２が下降する。隔壁板５０２が下降すると、第２ポンプ室Ｐ２の容積が小さくなっていき、第２ポンプ室Ｐ２内の気体が、第２下流側分岐管５２２及び下流側主排気管５２０を介して排出される。それと共に、第１ポンプ室Ｐ１の容積が大きくなっていき、吸気部２００の吸気口２０１の周囲が排気され、当該周囲の気体が、吸気部２００、上流側主排気管５１０及び第１上流側分岐管５１１を介して、第１ポンプ室Ｐ１内に流入する。

　このように、排気機構５００を、上記上昇を駆動する駆動力、または、上記下降を駆動する駆動力のいずれか一方の駆動力ではなく、両方の駆動力で排気可能に構成することにより、上記一体移動体の上昇時及び下降時の両方で、吸気部２００による吸気を行うことができる。

　排気機構５００を用いる場合、前述のステップＳ２の現像液を用いた処理時に、支持部材３０１が昇降され、具体的には、支持部材３０１が繰り返し昇降される。より具体的には、ステップＳ２Ｂの静止現像時に、支持部材３０１が繰り返し昇降され、この繰り返しの昇降に伴い、排気機構５００による吸気部２００のリング体２０２の中空部の排気が連続して行われ、吸気部２００の吸気が連続して行われる。
　また、ステップＳ２Ａの静止現像時に、支持部材３０１が繰り返し昇降され、この繰り返しの昇降に伴い、排気機構５００による吸気部２００のリング体２０２の中空部の排気が連続して行われ、吸気部２００の吸気が連続して行われるようにしてもよい。この場合、現像液供給ノズル３３とカップ体１００との干渉が生じないよう、上記一体移動体の上昇タイミング、上記一体移動体の繰り返し昇降時の最大高さ等が調整される。

　本実施形態のように、吸気部２００からの吸気に排気機構５００を用いることにより、駆動部の数の増加を防ぐことができ、高コスト化を抑制することができる。

（第３実施形態）
　図８は、第３実施形態にかかる現像処理装置の構成の一例を示すための図であり、要部のみを示している。

　ダンパ４２は、主排気管４１の内周面と接触することによりパーティクルが発生すること等の要因から、主排気管４１がダンパ４２により密閉されていない場合がある。この場合、ダンパ４２を筐体排気がなされるよう調整しても、前述の隙間Ｇ１を排気流路Ｒ１とした排気が、低い排気量ではあるものの、行われてしまう。

　そこで、本実施形態では、図８に示すように、カップ体１００内の排気流路に、当該排気流路を開閉しる開閉部材として、膨縮リング６００を有している。膨縮リング６００は、平面視円環状に形成されている。また、膨縮リング６００は、膨縮自在に構成されている。例えば、膨縮リング６００は、その内部の中空部分に給気されることにより膨張し、その内部の中空分が排気されることにより収縮する。

　ところで、上カップ１０３及び外カップ１０４が下降された状態における以下の隙間Ｇ２、Ｇ３も、カップ体１００内を排気する（具体的にはウェハＷの周辺の雰囲気を排気する）排気流路をなしうる。すなわち、上カップ１０３のガイド壁１１０の下部の外周面と外カップ１０４の下部の内周面との間の隙間Ｇ２と、上カップ１０３の垂直壁１３１の外周面と下カップ１０２の垂直壁１２１の内周面との間の隙間Ｇ３は、排気流路Ｒ２をなしうる。

　排気流路Ｒ１と排気流路Ｒ２とは、下流側が合流して排気口１２６を介して排気管１２７に連通している。また、排気流路Ｒ１の上流端は、排気流路Ｒ２の上流端より、内側であるスピンチャック２０側に位置する。そのため、排気流路Ｒ１を介した排気がウェハＷの周縁部の気流に与える影響は大きいが、排気流路Ｒ２を介した排気がウェハＷの周縁部の気流に与える影響は少ない。そのため、本実施形態では、膨縮リング６００は、排気流路Ｒ１のみに設けられ、排気流路Ｒ２には設けられていない。

　本実施形態では、リンス液を用いた処理の場合、すなわち、カップ排気がなされるようダンパ４２が調整されている場合、上カップ１０３及び外カップ１０４を含む一体移動体は上昇した状態とされ、排気流路Ｒ１のみが形成され、排気流路Ｒ２は形成されない。また、かかる場合、膨縮リング６００は収縮した状態とされ、排気流路Ｒ１が開状態とされる。これにより、リンス液を用いた処理時に生じる現像液やリンス液のミストを、排気流路Ｒ１を介して回収することができる。

　一方、現像液を用いた処理の場合、すなわち、筐体排気がなされるようダンパ４２が調整されている場合、上カップ１０３及び外カップ１０４を含む一体移動体は下降した状態とされ、排気流路Ｒ１及び排気流路Ｒ２の両方が形成される。ただし、膨縮リング６００が膨張した状態とされ、排気流路Ｒ１が閉状態とされる。これにより、現像液を用いた処理時に、ダンパ４２の構造上不可避な排気が、排気流路Ｒ１を介して行われるのを抑制し、ウェハＷの周縁部に強い気流が生じるのを抑制することができる。また、ダンパ４２の構造上不可避な排気が、排気流路Ｒ２を介して行われるため、これにより、現像液のミストの回収を、吸気部２００による吸気だけでなく、排気流路Ｒ２を介した排気によっても行うことができる。

　また、膨縮リング６００は、内カップ１０１または上カップ１０３のいずれかに固定されていてもよい。
　膨縮リング６００が上カップ１０３に固定される場合の固定位置は例えば以下の位置である。すなわち、上カップ１０３が下降した状態で膨縮リング６００が膨張したときに排気流路Ｒ１が閉塞されるが、上カップ１０３が上昇した状態で膨縮リング６００が膨張しても、図９において点線で示すように排気流路Ｒ１が閉塞されない位置である。

　この場合、リンス液を用いた処理時に、上カップ１０３が上昇されたときに、図９において実線で示すように、膨縮リング６００は収縮した状態とされる。これにより、リンス液を用いた処理時における排気流路Ｒ１の断面積が膨縮リング６００により減少するのを抑制することができる。

　なお、膨縮リング６００は、内カップ１０１または上カップ１０３のいずれかと一体に形成されていてもよい。

　今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。例えば、上記実施形態の構成要件は任意に組み合わせることができる。当該任意の組み合せからは、組み合わせにかかるそれぞれの構成要件についての作用及び効果が当然に得られるとともに、本明細書の記載から当業者には明らかな他の作用及び他の効果が得られる。

　また、本明細書に記載された効果は、あくまで説明的または例示的なものであって限定的ではない。つまり、本開示に係る技術は、上記の効果とともに、又は、上記の効果に代えて、本明細書の記載から当業者には明らかな他の効果を奏しうる。

　なお、以下のような構成例も本開示の技術的範囲に属する。
（１）基板上のレジスト膜を現像する現像処理装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部を回転させる回転機構と、
前記基板保持部に保持された基板に現像液を供給する現像液供給部と、
前記基板保持部に保持された基板にリンス液を供給するリンス液供給部と、
前記基板保持部に保持された基板からの現像液及びリンス液を受ける液受け部と、
前記液受け部に接続され、当該液受け部内を排気するための排気管と、
前記液受け部の外周を囲うように設けられた吸気部と、を備え、
前記吸気部は、前記リンス液を用いた処理時より低い排気量で前記液受け部内を排気する、前記現像液の供給時または静止現像時の少なくともいずれか一方の時に、吸気し、前記液受け部の外側に漏れ出た前記現像液のミストを回収する、現像処理装置。
（２）前記吸気部は、吸気口を有し、
給気時の前記吸気口の高さは、前記液受け部の上端の高さ以下である、前記（１）に記載の現像処理装置。
（３）前記液受け部は、昇降可能に構成された昇降体を有する、前記（１）または（２）に記載の現像処理装置。
（４）前記液受け部の前記昇降体は、当該液受け部の上端を構成し、
前記吸気部は、前記昇降体と共に昇降可能に構成されている、前記（３）に記載の現像処理装置。
（５）前記昇降体の昇降を駆動する駆動力により排気可能に構成された排気機構をさらに備え、
前記吸気部は、前記排気機構に接続されている、前記（３）または（４）に記載の現像処理装置。
（６）前記排気機構は、前記昇降体の上昇を駆動する駆動力により排気可能に構成され且つ前記昇降体の下降を駆動する駆動力により排気可能に構成されている、前記（５）に記載の現像処理装置。
（７）前記現像液の供給時または静止現像時の少なくともいずれか一方の時に、前記昇降体の昇降が繰り返し行われ、当該繰り返しの昇降に伴った前記排気機構による排気及び前記吸気部による吸気が行われる、前記（５）または（６）に記載の現像処理装置。
（８）前記液受け部は、前記排気管に連通する排気流路と、当該排気流路を開閉する開閉部材と、を有する、前記（１）～（７）のいずれか１に記載の現像処理装置。
（９）前記排気流路は、下流側が合流して前記排気管に連通する第１排気流路及び第２排気流路を有し、
前記第１排気流路の上流端は、前記第２排気流路の上流端より、前記基板保持部側に位置し、
前記開閉部材は、前記第１排気流路に設けられている、前記（８）に記載の現像処理装置。
（１０）前記液受け部は、昇降可能に構成された昇降体を有し、
前記第１排気流路及び前記第２排気流路は、前記昇降体により区画され、
前記開閉部材は、膨縮自在に構成されると共に前記昇降体に固定され、
前記開閉部材の前記昇降体への固定位置は、前記昇降体が下降した状態で前記開閉部材が膨張したときに前記第１排気流路が閉塞されるが前記昇降体が上昇した状態で前記開閉部材が膨張しても前記第１排気流路が閉塞されない位置であり、
前記リンス液を用いた処理時に、前記昇降体は上昇した状態とされ、前記開閉部材は、収縮した状態とされる、前記（９）に記載の現像処理装置。
（１１）基板上のレジスト膜を現像する現像処理方法であって、
基板を基板保持部に保持させる工程と、
前記基板保持部に保持された基板に、現像液を供給する工程と、
前記基板保持部に保持された基板を静止現像する工程と、
前記基板保持部に保持された基板を、リンス液を用いて処理する工程と、
前記現像液を供給する工程または静止現像する工程の少なくともいずれか一方において、
　前記リンス液を用いて処理する工程より、液受け部内からの排気量が低く、
　前記液受け部の外周を囲うように設けられた吸気部により吸気し、前記液受け部の開口から漏れ出た前記現像液のミストを回収する、現像処理方法。
（１２）前記吸気部による吸気は、前記液受け部の昇降体の昇降を駆動する駆動力により排気可能に構成された排気機構を用いて行われる、前記（１１）に記載の現像処理方法。
（１３）前記現像液を供給する工程または静止現像する工程の少なくともいずれか一方において、前記液受け部が有する排気流路を、当該排気流路を開閉する開閉部材により閉状態とする、前記（１１）または（１２）に記載の現像処理方法。

１　現像処理装置
２０　スピンチャック
２１　チャック駆動部
３３　現像液供給ノズル
３６　リンス液供給ノズル
１００　カップ体
１２７　排気管
２００　吸気部
Ｍ　ミスト
Ｗ　ウェハ

Claims (13)

1. 基板上のレジスト膜を現像する現像処理装置であって、
   基板を保持する基板保持部と、
   前記基板保持部を回転させる回転機構と、
   前記基板保持部に保持された基板に現像液を供給する現像液供給部と、
   前記基板保持部に保持された基板にリンス液を供給するリンス液供給部と、
   前記基板保持部に保持された基板からの現像液及びリンス液を受ける液受け部と、
   前記液受け部に接続され、当該液受け部内を排気するための排気管と、
   前記液受け部の外周を囲うように設けられた吸気部と、を備え、
   前記吸気部は、前記リンス液を用いた処理時より低い排気量で前記液受け部内を排気する、前記現像液の供給時または静止現像時の少なくともいずれか一方の時に、吸気し、前記液受け部の外側に漏れ出た前記現像液のミストを回収する、現像処理装置。
2. 前記吸気部は、吸気口を有し、
   給気時の前記吸気口の高さは、前記液受け部の上端の高さ以下である、請求項１に記載の現像処理装置。
3. 前記液受け部は、昇降可能に構成された昇降体を有する、請求項１に記載の現像処理装置。
4. 前記液受け部の前記昇降体は、当該液受け部の上端を構成し、
   前記吸気部は、前記昇降体と共に昇降可能に構成されている、請求項３に記載の現像処理装置。
5. 前記昇降体の昇降を駆動する駆動力により排気可能に構成された排気機構をさらに備え、
   前記吸気部は、前記排気機構に接続されている、請求項３または４に記載の現像処理装置。
6. 前記排気機構は、前記昇降体の上昇を駆動する駆動力により排気可能に構成され且つ前記昇降体の下降を駆動する駆動力により排気可能に構成されている、請求項５に記載の現像処理装置。
7. 前記現像液の供給時または静止現像時の少なくともいずれか一方の時に、前記昇降体の昇降が繰り返し行われ、当該繰り返しの昇降に伴った前記排気機構による排気及び前記吸気部による吸気が行われる、請求項５に記載の現像処理装置。
8. 前記液受け部は、前記排気管に連通する排気流路と、当該排気流路を開閉する開閉部材と、を有する、請求項１～４のいずれか１項に記載の現像処理装置。
9. 前記排気流路は、下流側が合流して前記排気管に連通する第１排気流路及び第２排気流路を有し、
   前記第１排気流路の上流端は、前記第２排気流路の上流端より、前記基板保持部側に位置し、
   前記開閉部材は、前記第１排気流路に設けられている、請求項８に記載の現像処理装置。
10. 前記液受け部は、昇降可能に構成された昇降体を有し、
    前記第１排気流路及び前記第２排気流路は、前記昇降体により区画され、
    前記開閉部材は、膨縮自在に構成されると共に前記昇降体に固定され、
    前記開閉部材の前記昇降体への固定位置は、前記昇降体が下降した状態で前記開閉部材が膨張したときに前記第１排気流路が閉塞されるが前記昇降体が上昇した状態で前記開閉部材が膨張しても前記第１排気流路が閉塞されない位置であり、
    前記リンス液を用いた処理時に、前記昇降体は上昇した状態とされ、前記開閉部材は、収縮した状態とされる、請求項９に記載の現像処理装置。
11. 基板上のレジスト膜を現像する現像処理方法であって、
    基板を基板保持部に保持させる工程と、
    前記基板保持部に保持された基板に、現像液を供給する工程と、
    前記基板保持部に保持された基板を静止現像する工程と、
    前記基板保持部に保持された基板を、リンス液を用いて処理する工程と、
    前記現像液を供給する工程または静止現像する工程の少なくともいずれか一方において、
    　前記リンス液を用いて処理する工程より、液受け部内からの排気量が低く、
    　前記液受け部の外周を囲うように設けられた吸気部により吸気し、前記液受け部の開口から漏れ出た前記現像液のミストを回収する、現像処理方法。
12. 前記吸気部による吸気は、前記液受け部の昇降体の昇降を駆動する駆動力により排気可能に構成された排気機構を用いて行われる、請求項１１に記載の現像処理方法。
13. 前記現像液を供給する工程または静止現像する工程の少なくともいずれか一方において、前記液受け部が有する排気流路を、当該排気流路を開閉する開閉部材により閉状態とする、請求項１１または１２に記載の現像処理方法。

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