WO2022161942A1 - Reflektives optisches element und verfahren zur reparatur und/oder aufbereitung eines reflektiven optischen elements - Google Patents

Reflektives optisches element und verfahren zur reparatur und/oder aufbereitung eines reflektiven optischen elements Download PDF

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reactive
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reflective optical
reflective
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Robert Mueller
Sebastian Strobel
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Carl Zeiss Smt Gmbh
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Definitions

  • the present invention relates to a reflective optical element for the extreme ultraviolet wavelength range, having a substrate and a reflective coating.
  • the present invention relates to a method for repairing and/or processing reflective optical elements for the EUV wavelength range.
  • EUV extreme ultraviolet
  • a reflective optical element for the extreme ultraviolet wavelength range having a substrate and a reflective coating, characterized in that a reactive detachment layer is arranged between the substrate and the reflective coating.
  • the inventors have recognized that, on the one hand, good adhesion of the reflective coating can be achieved during use of the reflective optical element and, on the other hand, the reflective coating can be detached for the purpose of repairing or processing the reflective optical element if a reactive detachment layer is provided between the substrate and the reflective coating , which has different physical properties after a reaction than before and can therefore influence the detachment behavior of the reflective coating.
  • the reflective optical element has at least one additional reactive detachment layer and one additional reflective coating, the at least two reactive detachment layers and the at least two reflective coatings being arranged alternately. This makes it possible to remove the reflective coating, which is exposed to the vacuum, with the underlying reactive detachment layer if necessary, and to have another reflective coating available without recoating. There can be two, three, four or more reflective coatings with reactive release layer.
  • the reflective coating is preferably designed as a multi-layer system that has layers of at least two different materials with different real parts of the refractive index at a wavelength in the extreme ultraviolet wavelength range, which are arranged alternately.
  • Such reflective optical elements are particularly suitable for use with quasi-normal incidence of EUV radiation, but can also be designed for broadband reflection.
  • the reactive detachment layer has at least two substances which, after the introduction of an energy pulse, can react with one another in such a way that the detachment layer has a different volume than before the introduction of the energy pulse.
  • This change in volume induces stresses that promote detachment from the substrate, preferably cause the reactive detachment layer with the reflective coating to detach as completely as possible from the substrate. This can happen, for example, as the reactive release layer with a reflective coating flaking off the substrate.
  • the at least two substances are preferably substances which react exothermically with one another. This has the advantage that it can be sufficient to introduce an energy pulse only locally into the reactive detachment layer as activation energy and the energy generated during the local reaction in the detachment layer can in turn serve as activation energy to trigger the reaction in adjacent regions, so that the In the best case, reaction can spread over the entire surface of the reactive release layer.
  • the reactive detachment layer has a plurality of layers made of the at least two substances, which are arranged alternately.
  • the number of interfaces between the at least two substances can be increased, as a result of which the reaction between the substances can proceed more efficiently via the reactive detachment layer as a whole.
  • the at least two substances are preferably two metals or a metal and a semiconductor. This allows substances to be selected in a targeted manner that, when reacting with one another, lead to a layer with sufficiently large differences in physical parameters, such as different volumes, in order to induce stresses in the reflective optical element that may be sufficient to cause the release layer and the reflective coating to detach to allow.
  • one of the at least two substances is one from the group consisting of titanium, zirconium and niobium and that the other of the at least two substances is one from the group consisting of silicon and carbon, or one of the at least two substances is palladium and the other is at least two substances aluminum.
  • these substance combinations lead to noticeable changes in the volume of the reactive detachment layer, with the reactions also taking place exothermally.
  • the object is achieved by a method for repairing and/or processing reflective optical elements for the EUV wavelength range, with the steps: - Providing a reflective optical element for the extreme-ultraviolet wavelength range, comprising a substrate and a reflective coating, in which a reactive detachment layer is arranged between the substrate and the reflective coating, in particular a reflective optical element as described above;
  • reflective optical elements can also be prepared or repaired in the case of substrates with free-form surfaces if a reactive detachment layer is provided between the substrate and the reflective coating that may need to be replaced.
  • an energy pulse is applied, which serves as activation energy for triggering a reaction within the reactive detachment layer.
  • a change in volume caused by the reaction induces stresses between the release layer and the substrate as well as the release layer and the reflective coating, which lead to the reflective coating and the reactive release layer becoming detached.
  • the remaining reflective optical element is processed insofar as it is available for renewed coating.
  • the pulse of energy is introduced into the reactive release layer as an electric spark, laser beam, electron beam, or ion beam, or a combination thereof.
  • the laser beam, electron beam and ion beam can also be pulsed and can be used to inject energy into the reactive release layer through the reflective coating.
  • Exposed areas of the reactive detachment layer can also be provided in order to introduce an energy pulse into the detachment layer, in particular by means of electric sparks or by applying a voltage to the detachment layer, but also by irradiation.
  • the reactive release layer preferably experiences a volume change of at least ⁇ 5% as a result of the introduction of the energy pulse. As a result, strong stresses can be induced in the reflective optical element, which can lead to the reflective coating and the reactive detachment layer flaking off.
  • a new reflective coating is applied to obtain a repaired reflective optical element.
  • a new reactive detachment layer is advantageously applied in this case, which is applied between the substrate and the new reflective coating, so that the reflective optical element obtained in this way can itself be prepared or repaired again at a given time, as described above.
  • FIG. 1 shows a basic sketch of a first embodiment of the reflective optical element according to the invention
  • FIG. 2 shows a basic sketch of a second embodiment of the reflective optical element according to the invention
  • FIGS. 3a-c schematically show a third embodiment of the reflective optical element according to the invention during the introduction of energy pulses, during and after the detachment of the reflective coating;
  • FIG. 4 shows a basic sketch of a fourth embodiment of the reflective optical element according to the invention.
  • FIG. 5 shows a basic sketch of a fifth embodiment of the reflective optical element according to the invention.
  • FIG. 6 shows a schematic of an exemplary sequence of the process according to the invention
  • FIG. 1 shows a schematic representation of the structure of a reflective optical element 50, which has a reactive detachment layer 60 on a substrate 59 and a reflective coating 54 thereon, which in the present example is designed as a multilayer system comprising layers of at least two different materials with different real parts of refractive index at a wavelength in the extreme ultraviolet wavelength region, which are alternately arranged.
  • layers of a material with a higher real part of the refractive index at the working wavelength (also called spacer 56), at which the lithographic exposure is carried out, for example, and a material with a lower real part of the refractive index at the working wavelength are applied alternately to a substrate 59 Working wavelength (also called absorber 57), where a Absorber-spacer pair forms a stack 55.
  • Working wavelength also called absorber 57
  • reflective optical elements for an EUV lithography device or an optical system are designed in such a way that the respective wavelength of maximum reflectivity essentially corresponds to the working wavelength of the lithography process or other applications of the optical system.
  • the thicknesses of the individual layers 56, 57 as well as the repeating stack 55 can be constant over the entire multi-layer system 54 or also vary laterally over the area or the overall thickness of the multi-layer system 54, depending on which spectral or angle-dependent reflection profile or which maximum reflectivity to be achieved at the working wavelength. If the layer thicknesses are essentially constant over the entire multi-layer system 54, one also speaks of a period 55 instead of a stack 55.
  • the reflection profile can also be influenced in a targeted manner by adding more and less absorbing materials to the basic structure of absorber 57 and spacer 56 to is supplemented in order to increase the possible maximum reflectivity at the respective working wavelength.
  • absorber and/or spacer materials can be exchanged for one another in some stacks, or the stacks can be constructed from more than one absorber and/or spacer material.
  • additional layers can also be provided as diffusion barriers between spacer and absorber layers 56, 57.
  • a material combination that is common, for example, for a working wavelength of 13.4 nm is molybdenum as the absorber material and silicon as the spacer material.
  • a period 55 often has a thickness of approximately 6.7 nm, with the spacer layer 56 usually being thicker than the absorber layer 57.
  • Other common material combinations include silicon-ruthenium or molybdenum-beryllium.
  • a protective layer 53 can be provided on the multi-layer system 54, which can also be designed in multiple layers.
  • Typical substrate materials for reflective optical elements for EUV lithography are silicon, silicon carbide, silicon-infiltrated silicon carbide, quartz glass, titanium-doped quartz glass, glass and glass ceramics.
  • a layer can additionally be provided between reflective coating 54 and substrate 59, which is made of a material that has a high absorption of radiation in the EUV wavelength range, which is used during operation of the reflective optical element 50 to protect the substrate 59 to protect against radiation damage, such as unwanted compaction.
  • the substrate can also be made of copper, aluminum, a copper alloy, an aluminum alloy or a copper-aluminum alloy.
  • the reactive release layer can have at least two layers of different substances in each case. It can preferably have a plurality of layers consisting of at least two Have substances that are arranged alternately.
  • the reactive detachment layer has at least two substances which, after the introduction of an energy pulse, can react with one another in such a way that the detachment layer has a different volume than before the introduction of the energy pulse.
  • the reactive detachment layer 60 has a plurality of layers 61, 66 made of--without restricting the generality--two different substances which are arranged alternately. If a certain amount of energy is introduced into the reactive detachment layer 60, which is sufficient to serve as activation energy, these two substances can react with one another in order to lead in particular to a change in volume.
  • the change in volume is preferably at least ⁇ 5% in order to induce stresses between the reactive release layer 60 and the substrate 59 on the one hand and the reflective coating 54 on the other hand with a high probability, which can lead to the reactive release layer 60 and the reflective coating 54 peeling off. It has proven particularly suitable if the at least two substances are two metals or a metal and a semiconductor.
  • At least one of the selected substances has high absorption or a high effective cross section for the irradiation used to introduce the activation energy in the form of an energy pulse, in order to be able to convert the irradiation energy to a sufficient extent into activation energy and to protect the substrate 59 from damage by to be able to protect this radiation, and/or a high absorption for the EUV radiation used in the operation of the reflective optical element 50 in order to protect the substrate 59 from corresponding radiation damage.
  • An additional layer can also be provided between the reactive detachment layer 60 and the substrate 59 in order to protect the substrate 59 against the activation radiation and possibly additionally against the EUV radiation during operation.
  • FIG. 2 shows a second exemplary embodiment of a reflective optical element 52 for the EUV wavelength range at the start of local irradiation through the reflective coating 54 .
  • a reactive detachment layer 62 is arranged between the substrate 59 and the reflective coating 54, analogously to the example illustrated in FIG.
  • a plurality of layers 68, 69 made of two different substances are provided as the reactive detachment layer 62, analogous to the example from FIG. 1, which are arranged alternately.
  • the two are different substances selected in such a way that they react exothermically with one another under the influence of activation energy, for example by irradiation with electromagnetic radiation, electrons or ions. This forms a reactive release layer 62 in an initially metastable state.
  • the activation energy required for triggering the reaction is irradiated with electrons in the example shown here (symbolized by the wavy arrows) through the reflective coating 54 .
  • the irradiation can be carried out as a single pulse or a series of pulses, which can also impinge locally at different points over the surface of the reflective coating 54 and the reactive release layer 62, respectively. Due to the selection of substances in the reactive release layer 62 which react exothermically with one another, the local introduction of an energy pulse is sufficient to cause a reaction of these substances throughout the entire release layer 62 .
  • the substances in the reactive detachment layer 63 as in the example shown in FIG. good experiences have been made with volume changes of ⁇ 5% or more, which can lead to a complete delamination of the reactive release layer 63 together with the reflective coating 54 from the substrate 59, as shown schematically in FIGS. 3b, c.
  • the at least two substances react exothermically with one another, so that introducing one or more energy pulses laterally into the reactive detachment layer 63 can be sufficient to trigger a reaction in the entire reactive detachment layer 63 .
  • the reactive release layer comprises a plurality of layers of the at least two substances arranged in an alternating manner.
  • the energy pulse(s) can be introduced laterally as radiation pulses (symbolized by wavy arrows) from electrons, ions or electromagnetic radiation, or also by an electric spark, which is laterally introduced directly into the reactive detachment layer 63 .
  • One or more areas of the reactive detachment layer 63 which are not covered by the reflective coating 54 can also be provided for the introduction of one or more electric sparks, so that the reactive detachment layer 63 is exposed there. Exposed surfaces can also be contacted with electrodes to inject an electrical energy pulse into the reactive release layer 63 .
  • Release layer 63 is two metals or a metal and a semiconductor, in order on the one hand to have a stable reactive release layer 63 during storage and normal operation of the reflective optical element and on the other hand to allow a reaction which results in a change in volume.
  • one of the at least two substances is one from the group consisting of titanium, zirconium and niobium and the other of the at least two substances is one from the group consisting of silicon and carbon, or if one of at least two substances is palladium and the other of the at least two substances is aluminum. This allows a volume change of ⁇ 5% or more to be achieved during the reaction, so that the most complete possible detachment of the detachment layer and the reflective coating can be ensured.
  • the course of the reaction in the reactive detachment layer can be influenced not only by the choice of suitable substances and their stoichiometry, but also by the structure of the reactive detachment layer, for example via the number of individual layers and their thicknesses.
  • the release layer is made up of at least two periods with layers of different materials, with the layer material sequence remaining constant from period to period, it is advantageous if the corresponding layer thickness ratios are also kept constant within, in order not to overbalance the stoichiometry change. This ensures that the course of the reaction is as complete as possible.
  • material combinations with more than two materials can also be used.
  • FIG. 4 shows a fourth exemplary embodiment of a reflective optical element proposed here, in which the between reflective Coating 54 and substrate 59 arranged release layer is structured, insofar as the release layer has partial areas 64a, 64b, of which at least one, preferably both, are designed as a reactive release layer.
  • the release layer has partial areas 64a, 64b, of which at least one, preferably both, are designed as a reactive release layer.
  • three, four, five, six or more sub-areas can be provided.
  • the sub-areas have different substance combinations.
  • one of the partial areas can exhibit a volume expansion and another a volume contraction in order to introduce layer stresses over the entire area of the detachment layer.
  • the design of the individual sub-areas can also be optimized in such a way that any layer or coating residues that may still be present after the reaction has taken place can be easily removed, for example wet-chemically.
  • FIG. 5 shows a fifth exemplary embodiment of a reflective optical element proposed here, which has at least one further reactive release layer and one further reflective coating, the at least two reactive release layers and the at least two reflective coatings being arranged alternately.
  • exactly two reflective coatings 54, 54' and two reactive detachment layers 65, 65' are arranged alternately on a substrate 59 in the example shown here.
  • FIG. 6 schematically shows an exemplary sequence of a method proposed here for repairing and/or preparing reflective optical elements for the EUV wavelength range.
  • a first step 601 “Providing a mirror with a reactive detachment layer”, a reflective optical element designed as a mirror for an EUV lithography device for the extreme ultraviolet wavelength range is provided in the example discussed here, in which a reactive detachment layer is arranged between the substrate and the reflective coating .
  • a reactive detachment layer is arranged between the substrate and the reflective coating .
  • a reaction is induced within the reactive release layer in step 603 "introduce an energy pulse into the reactive release layer".
  • step 605 volume change of the reactive release layer.
  • stresses are introduced in the EUV mirror between the substrate on the one hand and the reactive detachment layer or reflective coating on the other. These stresses can cause the reactive release liner and reflective coating to flake off, which corresponds to step 607 "Remove the reactive release layer and the reflective coating”.
  • the reactive detachment layer is dimensioned in such a way that the induced voltages are so great that the substrate is exposed virtually without residue. This can be achieved, inter alia, by particularly thick reactive detachment layers with a plurality of individual layers.
  • any residues present can be removed in a known manner, for example wet-chemically or by reactive etching or mechanically by polishing.
  • a mirror analogous to the example shown in FIG. 5 there would thus be a prepared and repaired mirror in which the reflective coating closer to the substrate (reference number 54′ in FIG. 5) is exposed and which is ready for use again.
  • the mirror has been processed to the extent that it can be repaired to a mirror ready for use again for an EUV lithography device with step 609 “application of a new reflective coating”.
  • the reflective optical elements for EUV radiation discussed here can also be masks for EUV lithography or EUV mirrors that are used in optical systems with which wafers, EUV mirrors or EUV masks are examined .

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Abstract

Zum Ermöglichen der Wiederverwertung von Substraten wird ein reflektives optisches Element (52) für den extrem-ultravioletten Wellenlängenbereich vorgeschlagen, aufweisend ein Substrat (59) und eine reflektierende Beschichtung (54), bei dem zwischen dem Substrat und der reflektierenden Beschichtung eine reaktive Ablöseschicht (62) angeordnet ist. Zu dessen Reparatur und/oder Aufbereitung wird vorgeschlagen, folgende Schritte auszuführen: - Bereitstellen eines reflektiven optischen Elements für den extrem-ultravioletten Wellenlängenbereich, aufweisend ein Substrat und eine reflektierende Beschichtung, bei dem zwischen dem Substrat und der reflektierenden Beschichtung eine reaktive Ablöseschicht angeordnet ist; - Einbringen eines Energieimpulses in die reaktive Ablöseschicht, um eine Reaktion in der reaktiven Ablöseschicht in Gang zu setzten, so dass sich in der reaktiven Ablöseschicht eine Volumenänderung ergibt; - Ablösen der reflektierenden Beschichtung und der reaktiven Ablöseschicht.

Description

Reflektives optisches Element und Verfahren zur Reparatur und/oder Aufbereitung eines reflektiven optischen Elements
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein reflektives optisches Element für den extremultravioletten Wellenlängenbereich, aufweisend ein Substrat und eine reflektierende Beschichtung. Außerdem bezieht sich die vorliegende Erfindung auf ein Verfahren zur Reparatur und/oder Aufbereitung von reflektiven optischen Elementen für den EUV- Wellenlängenbereich. die vorliegende Anmeldung nimmt die Priorität der deutschen Patentanmeldung 102021 200 748.1 vom 28. Januar 2021 in Anspruch, auf die vollumfänglich Bezug genommen wird.
Um bei der Produktion von Halbleiterbauelementen mit lithographischen Methoden immer feinere Strukturen erzeugen zu können, wird mit immer kurzwelligerem Licht gearbeitet. Arbeitet man im extremen ultravioletten (EUV) Wellenlängenbereich, etwa insbesondere bei Wellenlängen zwischen ca. 5 nm und 30 nm, lässt sich nicht mehr mit linsenartigen Elementen in Transmission arbeiten, sondern es werden Beleuchtungs- und Projektionsobjektive oder auch Masken aus reflektiven optischen Elementen eingesetzt, die auf einem Substrat eine Beschichtung mit einer reflektierenden Beschichtung aufweisen.
Oftmals ergibt sich die Notwendigkeit, die reflektierende Beschichtung von dem Substrat des reflektiven optischen Elementes wieder zu entfernen und das Substrat aus Kostengründen möglichst noch einmal beschichten zu können. Dies kann beispielsweise vorkommen, wenn eine Qualitätsprüfung ergeben hat, dass die vorliegende Beschichtung nicht den Spezifikationen genügt oder durch Schichtalterungen beim Endkunden eine erneute Beschichtung notwendig wird.
Wünschenswert ist eine möglichst rückstandsfreie Entfernung der ursprünglichen Beschichtung. Dazu gibt es verschiedene Vorgehensweisen: Man kann die ursprüngliche Beschichtung durch Polieren entfernen. Dies bringt allerdings einen sehr hohen Zeit- und Kostenaufwand mit sich. Das Rückführen des Substrats auf seinen unbeschichteten Zustand kann Wochen bis Monate dauern. Außerdem sind insbesondere asphärische Substrate bzw. Substrate, deren Oberfläche als Freiform gestaltet sind, nicht immer derart rückpolierbar, dass sie erneut für das gleiche reflektive optische Element verwendet werden können.
Aus der DE 102012 200454 A1 ist bekannt, zwischen Substrat und reflektierender Beschichtung eine Ablöseschicht vorzusehen, die eine derart geringe Haftung aufweist, dass sich die reflektierende Beschichtung bei mechanischem Entfernen mittels beispielsweise eines Klebebandes quasi rückstandsfrei entfernen lässt. Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein reflektives optisches Element für den extrem ultravioletten Wellenlängenbereich und ein Verfahren zu dessen Reparatur bzw. Aufbereitung bereit zu stellen, dass es erlaubt, die optische Beschichtung auch bei reflektiven optischen Elementen mit komplexerer Oberflächenform mit möglichst wenig Aufwand vom Substrat derart zu entfernen, dass das Substrat wieder verwendet werden kann.
Diese Aufgabe wird in einem ersten Aspekt gelöst durch ein reflektives optisches Element für den extrem-ultravioletten Wellenlängenbereich, aufweisend ein Substrat und eine reflektierende Beschichtung, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem Substrat und der reflektierenden Beschichtung eine reaktive Ablöseschicht angeordnet ist.
Die Erfinder haben erkannt, dass einerseits eine gute Haftung der reflektierenden Beschichtung während der Nutzung des reflektiven optischen Elements erreicht werden kann und andererseits ein Ablösen der reflektierenden Beschichtung zwecks Reparatur oder Aufbereitung des reflektiven optischen Elements, wenn man eine reaktive Ablöseschicht zwischen Substrat und reflektierender Beschichtung vorsieht, die nach einer erfolgten Reaktion andere physikalische Eigenschaft aufweist als davor und dadurch Einfluss auf das Ablöseverhalten der reflektierenden Beschichtung genommen werden kann.
Vorteilhafterweise weist das reflektive optische Element mindestens eine weitere reaktive Ablöseschicht und eine weitere reflektierende Beschichtung auf, wobei die mindestens zwei reaktiven Ablöseschichten und die mindestens zwei reflektierenden Beschichtungen alternierend angeordnet sind. Dies erlaubt es, die zum Vakuum offen liegende reflektierende Beschichtung mit darunter liegender reaktiver Ablöseschicht im Bedarfsfall zu entfernen und ohne neues Beschichten eine weitere reflektierende Beschichtung zur Verfügung zu haben. Es können zwei, drei, vier oder mehr reflektierenden Beschichtungen mit reaktiver Ablöseschicht vorgesehen sein.
Bevorzugt die reflektierende Beschichtung als Viellagensystem ausgebildet, das Lagen aus mindestens zwei verschiedenen Materialien mit unterschiedlichem Realteil des Brechungsindex bei einer Wellenlänge im extrem ultravioletten Wellenlängenbereich aufweist, die alternierend angeordnet sind. Derartige reflektive optische Element sind insbesondere für den Einsatz bei quasi-normalem Einfall der EUV-Strahlung geeignet, lassen sich aber auch für breitbandigere Reflexion auslegen.
In einer bevorzugten Ausführungsform weist die reaktive Ablöseschicht mindestens zwei Substanzen auf, die nach Einbringen eines Energieimpulses miteinander derart reagieren können, dass die Ablöseschicht ein anderes Volumen aufweist, als vor dem Einbringen des Energieimpulses. Durch diese Volumenänderung werden Spannungen induziert, die ein Ablösen vom Substrat fördern, bevorzugt ein möglichst vollständiges Ablösen der reaktiven Ablöseschicht mit reflektierender Beschichtung vom Substrat verursachen. Die kann etwa als Abplatzen der reaktiven Ablöseschicht mit reflektierender Beschichtung vom Substrat geschehen.
Bevorzugt handelt es sich bei den mindestens zwei Substanzen um Substanzen, die exotherm miteinander reagieren. Dies hat den Vorteil, dass es ausreichen kann, einen Energieimpuls lediglich lokal in die reaktive Ablöseschicht als Aktivierungsenergie einzubringen und die bei der lokal stattfindenden Reaktion in der Ablöseschicht entstehende Energie wiederum als Aktivierungsenergie zum Auslösen der Reaktion in angrenzenden Regionen dienen kann, so dass sich die Reaktion im besten Fall über die gesamte Fläche der reaktiven Ablöseschicht ausbreiten kann.
Vorteilhafterweise weist die reaktive Ablöseschicht eine Mehrzahl von Lagen aus den mindestens zwei Substanzen auf, die alternierend angeordnet sind. Dadurch kann die Anzahl der Grenzflächen zwischen den mindestens zwei Substanzen erhöht werden, wodurch die Reaktion zwischen den Substanzen über die reaktive Ablöseschicht als Ganzes effizienter ablaufen kann.
Bevorzugt handelt sich bei den mindestens zwei Substanzen um zwei Metalle oder um ein Metall und einen Halbleiter. Dies erlaubt, gezielt Substanzen auszuwählen, die bei der Reaktion miteinander zu einer Schicht mit hinreichend großen Unterschieden bei physikalischen Parametern wie etwa unterschiedlichen Volumina führen, um Spannungen im reflektiven optischen Element zu induzieren, die ausreichen können, um ein Ablösen von Ablöseschicht und reflektierender Beschichtung zu erlauben.
Besonders bevorzugt ist eine der mindestens zwei Substanzen eine aus der Gruppe bestehend aus Titan, Zirkonium und Niob ist und dass die andere der mindestens zwei Substanzen eine aus der Gruppe bestehend aus Silizium und Kohlenstoff, oder ist eine der mindestens zwei Substanzen Palladium und die andere der mindestens zwei Substanzen Aluminium. Diese Substanzkombinationen führen bei Reaktion zu merklichen Änderungen des Volumens der reaktiven Ablöseschicht, wobei die Reaktionen außerdem exotherm ablaufen.
In einem weiteren Aspekt wird die Aufgabe gelöst durch ein Verfahren zur Reparatur und/oder Aufbereitung von reflektiven optischen Elementen für den EUV-Wellenlängenbereich, mit den Schritten: - Bereitstellen eines reflektiven optischen Elements für den extrem-ultravioletten Wellenlängenbereich, aufweisend ein Substrat und eine reflektierende Beschichtung, bei dem zwischen dem Substrat und der reflektierenden Beschichtung einer reaktive Ablöseschicht angeordnet ist, insbesondere eines reflektiven optischen Elements wie zuvor beschrieben;
- Einbringen eines Energieimpulses in die reaktive Ablöseschicht, um eine Reaktion in der reaktiven Ablöseschicht in Gang zu setzten, so dass sich in der reaktiven Ablöseschicht eine Volumenänderung ergibt;
- Ablösen der reflektierenden Beschichtung und der reaktiven Ablöseschicht.
Es hat sich herausgestellt, dass ein Aufbereiten bzw. Reparieren von reflektiven optischen Elementen auch bei Substraten mit Freiformflächen ermöglicht wird, wenn zwischen Substrat und ggf. zu ersetzender reflektierender Beschichtung eine reaktive Ablöseschicht vorgesehen wird, die, wenn das Aufbereiten oder Reparieren durchgeführt werden soll, mit einem Energieimpuls beaufschlagt wird, der als Aktivierungsenergie für das Auslösen einer Reaktion innerhalb der reaktiven Ablöseschicht dient. Über eine durch die Reaktion verursachten Volumenänderung werden Spannungen zwischen Ablöseschicht und Substrat sowie Ablöseschicht und reflektierender Beschichtung induziert, die zu einem Ablösen der reflektierenden Beschichtung und der reaktiven Ablöseschicht führen. Nach dem Ablösen ist das restliche reflektive optische Element insofern aufbereitet, als dass es für eine erneute Beschichtung zur Verfügung steht.
Vorzugsweise wird der Energieimpuls als elektrischer Funke, Laserstrahl, Elektronenstrahl oder lonenstrahl oder eine Kombination davon in die reaktive Ablöseschicht eingebracht. Der Laserstrahl, Elektronenstrahl und lonenstrahl können auch gepulst sein und können genutzt werden, um durch die reflektierende Beschichtung hindurch Energie in die reaktive Ablöseschicht einzubringen. Es können auch offenliegende Flächen der reaktiven Ablöseschicht vorgesehen werden, um insbesondere mittels elektrischem Funken bzw. durch Anlegen einer Spannung an die Ablöseschicht, aber auch durch Bestrahlung einen Energieimpuls in die Ablöseschicht einzubringen.
Bevorzugt erfährt die reaktive Ablöseschicht infolge des Einbringens des Energieimpulses eine Volumenänderung von mindestens ±5%. Dadurch können starke Spannungen im reflektiven optischen Element induziert werden, die zu einem Abplatzen der reflektierenden Beschichtung und der reaktiven Ablöseschicht führen können.
In einer bevorzugten Ausführungsform wird nach dem Ablösen der reflektierenden Beschichtung und der reaktiven Ablöseschicht eine neue reflektierende Beschichtung aufgebracht, um ein repariertes reflektives optisches Element zu erhalten. Vorteilhafterweise wird dabei eine neue reaktive Ablöseschicht aufgebracht, die zwischen dem Substrat und der neuen reflektierenden Beschichtung aufgebracht wird, damit das so erhaltene reflektive optische Element seinerseits zu gegebener Zeit erneut wie zuvor beschrieben aufbereitet bzw. repariert werden kann.
Die vorliegende Erfindung soll unter Bezugnahme auf bevorzugte Ausführungsbeispiele näher erläutert werden. Dazu zeigen
Figur 1 eine Prinzipskizze einer ersten Ausführungsform des erfindungsgemäßen reflektiven optischen Elements;
Figur 2 eine Prinzipskizze einer zweiten Ausführungsform des erfindungsgemäßen reflektiven optischen Elements;
Figuren 3a-c schematisch eine dritte Ausführungsform des erfindungsgemäßen reflektiven optischen Elements während des Einbringens von Energieimpulsen, während und nach dem Ablösen der reflektierenden Beschichtung;
Figur 4 eine Prinzipskizze einer vierten Ausführungsform des erfindungsgemäßen reflektiven optischen Elements;
Figur 5 eine Prinzipskizze einer fünften Ausführungsform des erfindungsgemäßen reflektiven optischen Elements; und
Figur 6 schematisch einen beispielhaften Ablauf des erfindungsgemäßen
Verfahrens zur Reparatur und/oder Aufbereitung von reflektiven optischen Elementen
In Figur 1 ist schematisch der Aufbau eines reflektiven optischen Elements 50 dargestellt, das auf einem Substrat 59 eine reaktive Ablöseschicht 60 und darauf eine reflektierende Beschichtung 54 aufweist, die im vorliegenden Beispiel als Viellagensystem ausgebildet ist, das Lagen aus mindestens zwei verschiedenen Materialien mit unterschiedlichem Realteil des Brechungsindex bei einer Wellenlänge im extrem ultravioletten Wellenlängenbereich aufweist, die alternierend angeordnet sind. In diesem Beispiel handelt es sich um auf ein Substrat 59 alternierend aufgebrachte Lagen eines Materials mit höherem Realteil des Brechungsindex bei der Arbeitswellenlänge (auch Spacer 56 genannt), bei der beispielsweise die lithographische Belichtung durchgeführt wird, und eines Materials mit niedrigerem Realteil des Brechungsindex bei der Arbeitswellenlänge (auch Absorber 57 genannt), wobei ein Absorber-Spacer-Paar einen Stapel 55 bildet. Dadurch wird in gewisser Weise ein Kristall simuliert, dessen Netzebenen, an denen Bragg-Reflexion stattfindet, den Absorberlagen entsprechen. Üblicherweise werden reflektive optische Elemente für eine EUV- Lithographievorrichtung oder ein optisches System derart ausgelegt, dass die jeweilige Wellenlänge maximaler Reflektivität mit der Arbeitswellenlänge des Lithographieprozesses oder sonstigen Anwendungen des optischen Systems im Wesentlichen übereinstimmt.
Die Dicken der einzelnen Lagen 56, 57 wie auch der sich wiederholenden Stapel 55 können über das gesamte Viellagensystem 54 konstant sein oder auch lateral über die Fläche oder die Gesamtdicke des Viellagensystems 54 variieren, je nach dem welches spektrale oder winkelabhängige Reflexionsprofil bzw. welche maximale Reflektivität bei der Arbeitswellenlänge erreicht werden soll. Wenn die Lagendicken über das gesamte Viellagensystem 54 im wesentlichen konstant sind, spricht man auch von einer Periode 55 anstelle von einem Stapel 55. Das Reflexionsprofil kann auch gezielt beeinflusst werden, indem die Grundstruktur aus Absorber 57 und Spacer 56 um weitere mehr und weniger absorbierende Materialien zu ergänzt wird, um die mögliche maximale Reflektivität bei der jeweiligen Arbeitswellenlänge zu erhöhen. Dazu können in manchen Stapeln Absorber- und/ oder Spacer-Materialien gegeneinander ausgetauscht werden oder die Stapel aus mehr als einem Absorber- und/oder Spacermaterial aufgebaut werden. Ferner können auch zusätzliche Lagen als Diffusionsbarrieren zwischen Spacer- und Absorberlagen 56, 57 vorgesehen werden. Eine beispielsweise für eine Arbeitswellenlänge von 13,4 nm übliche Materialkombination ist Molybdän als Absorber- und Silizium als Spacermaterial. Dabei hat ein Periode 55 oft eine Dicke von ca. 6,7 nm, wobei die Spacerlage 56 meist dicker ist als die Absorberlage 57. Weitere übliche Materialkombinationen sind u.a. Silizium-Ruthenium oder Molybdän-Beryllium. Außerdem kann auf dem Viellagensystem 54 eine Schutzschicht 53 vorgesehen sein, die auch mehrlagig ausgelegt sein kann.
Typische Substratmaterialien für reflektive optische Elemente für die EUV-Lithographie sind Silizium, Siliziumkarbid, siliziuminfiltriertes Siliziumkarbid, Quarzglas, titandotiertes Quarzglas, Glas und Glaskeramik. Insbesondere bei derartigen Substratmaterialien kann zusätzlich eine Schicht zwischen reflektierender Beschichtung 54 und Substrat 59 vorgesehen sein, die aus einem Material ist, das eine hohe Absorption für Strahlung im EUV- Wellenlängenbereich aufweist, die im Betrieb des reflektiven optischen Elements 50 eingesetzt wird, um das Substrat 59 vor Strahlenschäden, beispielsweise eine ungewollte Kompaktierung zu schützen. Ferner kann das Substrat auch aus Kupfer, Aluminium, einer Kupferlegierung, einer Aluminiumlegierung oder einer Kupfer-Aluminium-Legierung sein.
Die reaktive Ablöseschicht kann mindestens zwei Lagen jeweils unterschiedlicher Substanzen aufweisen. Bevorzugt kann sie eine Mehrzahl von Lagen aus mindestens zwei Substanzen aufweisen, die alternierend angeordnet sind. Insbesondere weist die reaktive Ablöseschicht mindestens zwei Substanzen auf, die nach Einbringen eines Energieimpulses miteinander derart reagieren können, dass die Ablöseschicht ein anderes Volumen aufweist, als vor dem Einbringen des Energieimpulses.
Im in Figur 1 dargestellten Beispiel weist die reaktive Ablöseschicht 60 eine Mehrzahl von Lagen 61 , 66 aus - ohne Beschränkung der Allgemeinheit - zwei unterschiedlichen Substanzen auf, die alternierend angeordnet sind. Bringt man in die reaktive Ablöseschicht 60 einen gewissen Energiebetrag ein, der ausreicht, um als Aktivierungsenergie zu dienen, können diese beiden Substanzen miteinander reagieren, um insbesondere zu einer Volumenänderung zu führen. Bevorzugt beträgt die Volumenänderung mindestens ±5%, um mit hoher Wahrscheinlichkeit Spannungen zwischen reaktiver Ablöseschicht 60 und einerseits Substrat 59 bzw. andererseits reflektierender Beschichtung 54 zu induzieren, die zu einem Abblättern der reaktiven Ablöseschicht 60 und der reflektierenden Beschichtung 54 führen können. Als besonders geeignet hat es sich erwiesen, wenn es sich bei den mindestens zwei Substanzen um zwei Metalle oder um ein Metall und einen Halbleiter handelt.
Je mehr Lagen 61 , 66 vorgesehen sind, desto mehr Grenzflächen sind vorhanden, an denen eine Reaktion stattfinden kann. Vorteilhafterweise weist mindestens eine der gewählten Substanzen eine hohe Absorption bzw. einen hohen Wirkungsquerschnitt für die zum Einbringen der Aktivierungsenergie in Form eines Energieimpulses verwendeten Bestrahlung auf, um einerseits die Bestrahlungsenergie in hinreichendem Ausmaß in Aktivierungsenergie umwandeln zu können und um andererseits das Substrat 59 vor Schädigung durch diese Bestrahlung schützen zu können, und/oder eine hohe Absorption für die im Betrieb des reflektiven optischen Elements 50 verwendeten EUV-Strahlung auf, um das Substrat 59 vor entsprechenden Strahlungsschäden zu schützen. Zum Schutz des Substrats 59 vor der Aktivierungsbestrahlung und ggf. zusätzlich gegen die EUV-Strahlung im Betrieb kann auch eine zusätzliche Schicht zwischen reaktiver Ablöseschicht 60 und Substrat 59 vorgesehen sein.
In Figur 2 ist ein zweites Ausführungsbeispiel eines reflektiven optischen Elements 52 für den EUV-Wellenlängenbereich zu Beginn einer lokalen Bestrahlung durch die reflektierende Beschichtung 54 hindurch. Bei dem reflektiven optischen Element 52 ist analog zu dem in Figur 1 dargestellten Beispiel zwischen dem Substrat 59 und der reflektiven Beschichtung 54 eine reaktive Ablöseschicht 62 angeordnet. Als reaktive Ablöseschicht 62 ist im hier dargestellten Beispiel analog zum Beispiel aus Figur 1 eine Mehrzahl von Lagen 68, 69 aus zwei unterschiedlichen Substanzen vorgesehen, die alternierend angeordnet sind. Im Unterschied zum in Figur 1 illustrierten Beispiel sind die zwei unterschiedlichen Substanzen dahingehend ausgewählt, dass sie unter Einfluss von Aktivierungsenergie etwa durch Bestrahlung mit elektromagnetischer Strahlung, Elektronen oder Ionen exotherm miteinander reagieren. Dadurch wird eine reaktive Ablöseschicht 62 in einem zunächst metastabilen Zustand gebildet.
Um die für das Auslösen der Reaktion notwendige Aktivierungsenergie in die reaktive Ablöseschicht 62 einzubringen, wird sie im hier dargestellten Beispiel mit Elektronen bestrahlt (durch die gewellten Pfeile symbolisiert) und zwar durch die reflektierende Beschichtung 54 hindurch. Dies ist ebenso mittels Bestrahlung mit Ionen oder elektromagnetischer Strahlung möglich. Die Bestrahlung kann als einzelner Puls oder eine Abfolge von Pulsen durchgeführt werden, die auch lokal an unterschiedlichen Stellen über die Fläche der reflektierenden Beschichtung 54 bzw. der reaktiven Ablöseschicht 62 auftreffen können. Aufgrund der Wahl von Substanzen in der reaktiven Ablöseschicht 62, die exotherm miteinander reagieren, ist das lokal begrenzte Einbringen eines Energieimpulses ausreichend, um eine Reaktion dieser Substanzen über die gesamte Ablöseschicht 62 hervorzurufen.
In dem in den Figuren 3a-c dargestellten Ausführungsbeispiel wurden die Substanzen in der reaktiven Ablöseschicht 63 wie in dem in Figur 2 dargestellten Beispiel dahingehend ausgewählt, dass sie nach Einbringen eines Energieimpulses miteinander derart reagieren, dass die reaktive Ablöseschicht 63 anschließend ein anderes Volumen aufweist, wobei gute Erfahrungen mit Volumenänderungen von ±5% oder mehr gemacht wurden, die zu eine vollständigen Abblättern der reaktiven Ablöseschicht 63 samt reflektierender Beschichtung 54 vom Substrat 59 führen können, wie in den Figuren 3b, c schematisch dargestellt. Außerdem reagieren die mindestens zwei Substanzen exotherm miteinander, so dass ein Einbringen eines oder mehrerer Energieimpulse seitlich in die reaktive Ablöseschicht 63 ausreichen kann, um eine Reaktion in der gesamten reaktiven Ablöseschicht 63 auszulösen. Wie in den zuvor diskutierten Beispielen weist die reaktive Ablöseschicht eine Mehrzahl von Lagen aus den mindestens zwei Substanzen auf, die alternierend angeordnet sind. Der oder die Energieimpulse können seitlich als Strahlungspulse (durch gewellte Pfeile symbolisiert) von Elektronen, Ionen oder elektromagnetischer Strahlung eingebracht werden oder auch durch einen elektrischen Funken, der seitlich unmittelbar in die reaktive Ablöseschicht 63 eingebracht werden. Man kann für das Einbringen eines oder mehrere elektrischer Funken auch eine oder mehrere Flächen der reaktiven Ablöseschicht 63 vorsehen, die nicht von der reflektierenden Beschichtung 54 bedeckt sind, so dass die reaktive Ablöseschicht 63 dort freiliegt. Freiliegende Flächen können auch mit Elektroden kontaktiert werden, um einen elektrischen Energieimpuls in die reaktive Ablöseschicht 63 einzubringen.
Unabhängig von der Art des Einbringens eines oder mehrere Energieimpulse hat es sich als vorteilhaft erwiesen, dass es sich bei den mindestens zwei Substanzen der reaktiven Ablöseschicht 63 um zwei Metalle oder um ein Metall und einen Halbleiter handelt, um einerseits eine bei Lagerung und normalem Betrieb des reflektiven optischen Elements eine stabile reaktive Ablöseschicht 63 zu haben und andererseits eine Reaktion zu erlauben, die eine Volumenänderung zur Folge hat.
Als besonders geeignet hat es sich insbesondere herausgestellt, wenn eine der mindestens zwei Substanzen eine aus der Gruppe bestehend aus Titan, Zirkonium und Niob ist und die andere der mindestens zwei Substanzen eine aus der Gruppe bestehend aus Silizium und Kohlenstoff ist, oder, wenn eine der mindestens zwei Substanzen Palladium und die andere der mindestens zwei Substanzen Aluminium ist. Dies erlaubt es bei Reaktion eine Volumenänderung von ±5% oder mehr zu erreichen, so daß ein möglichst vollständiges Ablösen der Ablöseschicht und der reflektierenden Beschichtung gewährleistet werden kann.
In der folgenden Aufstellung sind exemplarisch mögliche Materialkombinationen nicht abschließend aufgelistet:
Ausaanassubstanzen Reaktionsorodukt Volumenänderuna Reaktionswärme
Ti + C TiC -23,4% -93 kJ/Mol
5 Ti + 3 Si TisSiß -16,2% -72 kJ/Mol
5 Zr + 3 Si Zr5Si3 -15,12% -72 kJ/Mol
5 Nb + 3 Si Nb5Si3 -15,15% -57 kJ/Mol
Pd + AI PdAI -7,85% -92 kJ/Mol
Zr + Al ZrAI +2,5% -45 kJ/Mol
Ti + AI TiAl +3,61% -36 kJ/Mol
Insgesamt lässt sich der Ablauf der Reaktion in der reaktiven Ablöseschicht nicht nur durch die Wahl geeigneter Substanzen und deren Stöchiometrie, sondern auch durch den Aufbau der reaktiven Ablöseschicht beeinflussen, beispielsweise über die Anzahl der einzelnen Lagen und deren Dicken. Insbesondere für den Fall, dass die Ablöseschicht aus mindestens zwei Perioden mit Lagen aus unterschiedlichen Materialien aufgebaut ist, wobei die Lagenmaterialabfolge von Periode zu Periode konstant bleibt, ist es von Vorteil, wenn innerhalb auch die entsprechenden Lagendickenverhältnisse konstant gehalten werden, um die Stöchiometrie nicht zu ändern. Dadurch kann ein möglichst vollständiger Reaktionsablauf gewährleistet werden. Ferner können auch Materialkombinationen mit mehr als zwei Materialien eingesetzt werden.
In Figur 4 ist eine vierte beispielhafte Ausführungsform eines hier vorgeschlagenen reflektiven optischen Elements dargestellt, bei dem die zwischen reflektierender Beschichtung 54 und Substrat 59 angeordneten Ablöseschicht strukturiert ausgeführt ist, insofern die Ablöseschicht Teilflächen 64a, 64b aufweist, von denen mindestens eine, bevorzugt beide als reaktive Ablöseschicht ausgebildet sind. In weiteren Abwandlungen können drei, vier, fünf, sechs und mehr Teilflächen vorgesehen sein. Dabei weisen die Teilflächen unterschiedlichen Substanzkombinationen auf. So kann etwa eine der Teilflächen nach Reaktion eine Volumenexpansion aufweisen und eine andere eine Volumenkontraktion, um Schichtspannungen über die gesamte Fläche der Ablöseschicht einzubringen. Ferner können die einzelnen Teilflächen in ihrer Auslegung auch dahingehend optimiert werden, dass ggf. nach dem Ablauf der Reaktion noch vorhandene Schicht- bzw. Beschichtungsreste beispielsweise nasschemisch gut entfernt werden können.
In Figur 5 ist eine fünfte beispielhafte Ausführungsform eines hier vorgeschlagenen reflektiven optischen Element dargestellt, das mindestens eine weitere reaktive Ablöseschicht und eine weitere reflektierende Beschichtung aufweist, wobei die mindestens zwei reaktiven Ablöseschichten und die mindestens zwei reflektierenden Beschichtungen alternierend angeordnet sind. Der besseren Übersicht halber sind im hier dargestellten Beispiel genau zwei reflektierende Beschichtungen 54, 54’ und zwei reaktive Ablöseschichten 65, 65’ alternierend auf einem Substrat 59 angeordnet. In weiteren Abwandlungen kann es sich auch um drei, vier, fünf, sechs und mehr reflektierende Beschichtungen und/oder reaktive Ablöseschichten handeln. Dies erlaubt es, die zum Vakuum offen liegende reflektierende Beschichtung mit darunter liegender reaktiver Ablöseschicht im Bedarfsfall zu entfernen und ohne neues Beschichten eine weitere reflektierende Beschichtung zur Verfügung zu haben.
In Figur 6 ist schematisch ein beispielhafter Ablauf eines hier vorgeschlagenen Verfahrens zur Reparatur und/oder Aufbereitung von reflektiven optischen Elementen für den EUV- Wellenlängenbereich. In einem ersten Schritt 601 „Bereitstellen eines Spiegels mit reaktiver Ablöseschicht“ wird im hier diskutierten Beispiel ein als Spiegel für eine EUV- Lithographievorrichtung ausgestaltetes reflektives optisches Element für den extremultravioletten Wellenlängenbereich bereitgestellt, bei dem zwischen dem Substrat und der reflektierenden Beschichtung einer reaktive Ablöseschicht angeordnet ist. Zu möglichen Ausgestaltungen insbesondere der reaktiven Ablöseschicht wird auf das zuvor Ausgeführte verwiesen. Zu Aufbereitungszwecken, wenn die reflektierende Beschichtung nicht mehr den Anforderungen für eine normalen Betrieb in einer EUV-Lithographievorrichtung genügt, wird in Schritt 603 „Einbringen eines Energiepulses in die reaktive Ablöseschicht“ eine Reaktion innerhalb der reaktiven Ablöseschicht induziert. Die in der Ablöseschicht ablaufende Reaktion hat Schritt 605 „Volumenänderung der reaktiven Ablöseschicht“ zur Folge. Dadurch werden in dem EUV-Spiegel Spannungen zwischen Substrat einerseits und reaktiver Ablöseschicht bzw. reflektierender Beschichtung andererseits eingebracht. Diese Spannungen können zu einem Abplatzen der reaktiven Ablöseschicht und der reflektierenden Beschichtung führen, was Schritt 607 „Ablösen der reaktiven Ablöseschicht und der reflektierenden Beschichtung “ entspricht. Im besten Fall ist die reaktive Ablöseschicht derart dimensioniert, dass die induzierten Spannungen so groß sind, dass das Substrat quasi rückstandslos freigelegt wird. Dies kann u.a. durch besonders dicke reaktive Ablöseschichten mit einer Mehrzahl von Einzellagen erreicht werden. Eventuell vorliegende Rückstände können auf bekannte Weise, etwa nasschemisch oder durch reaktives Ätzen oder mechanisch durch Polieren entfernt werden. Bei einem Spiegel analog zum in Figur 5 dargestellten Beispiel läge somit ein aufbereiteter und reparierter Spiegel vor, bei dem die substratnähere reflektierende Beschichtung (in Figur 5 Bezugszeichen 54’) freiliegt und der wieder einsatzbereit ist. Bei einem Spiegel analog zum in den Figuren 3a-c dargestellten Beispiel liegt ein insofern aufbereiteter Spiegel vor, dass mit Schritt 609 „Aufbringen einer neuen reflektierenden Beschichtung“ dieser zu einem wieder einsatzbereiten Spiegel für eine EUV- Lithographievorrichtung repariert werden kann.
Bei den hier diskutierten reflektiven optischen Elementen für EUV-Strahlung kann es sich u.a. auch um Masken für die EUV-Lithographie handeln oder um EUV-Spiegel, die in optischen Systemen eingesetzt werden, mit denen Wafer, EUV-Spiegel oder EUV-Masken untersucht werden.

Claims

Patentansprüche
1. Reflektives optisches Element für den extrem-ultravioletten Wellenlängenbereich, aufweisend ein Substrat und eine reflektierende Beschichtung, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem Substrat (59) und der reflektierenden Beschichtung (54, 54’) eine reaktive Ablöseschicht (60, 62, 63, 64a, 64b, 65, 65’) angeordnet ist.
2. Reflektives optisches Element nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass es mindestens eine weitere reaktive Ablöseschicht (65’) und eine weitere reflektierende Beschichtung (54’) aufweist, wobei die mindestens zwei reaktiven Ablöseschichten (65, 65’) und die mindestens zwei reflektierenden Beschichtungen (54, 54’) alternierend angeordnet sind.
3. Reflektives optisches Element nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die reflektierende Beschichtung (54) als Viellagensystem ausgebildet ist, das Lagen (56, 57) aus mindestens zwei verschiedenen Materialien mit unterschiedlichem Realteil des Brechungsindex bei einer Wellenlänge im extrem ultravioletten Wellenlängenbereich aufweist, die alternierend angeordnet sind.
4. Reflektives optisches Element nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die reaktive Ablöseschicht (60, 62, 63, 64a, 64b, 65, 65’) mindestens zwei Substanzen aufweist, die nach Einbringen eines Energieimpulses miteinander derart reagieren können, dass die reaktive Ablöseschicht (60, 62, 63, 64a, 64b, 65, 65’) ein anderes Volumen aufweist, als vor dem Einbringen des Energieimpulses.
5. Reflektives optisches Element nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass es sich bei den mindestens zwei Substanzen um Substanzen handelt, die exotherm miteinander reagieren.
6. Reflektives optisches Element nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass die reaktive Ablöseschicht (60, 62, 63, 64a, 64b, 65, 65’) eine Mehrzahl von Lagen (61 , 66, 68, 69) aus den mindestens zwei Substanzen aufweist, die alternierend angeordnet sind.
7. Reflektives optisches Element nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass es sich bei den mindestens zwei Substanzen um zwei Metalle oder um ein Metall und einen Halbleiter handelt.
8. Reflektives optisches Element nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass eine der mindestens zwei Substanzen eine aus der Gruppe bestehend aus Titan, Zirkonium und Niob ist und dass die andere der mindestens zwei Substanzen eine aus der Gruppe bestehend aus Silizium und Kohlenstoff ist.
9. Reflektives optisches Element nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass eine der mindestens zwei Substanzen Palladium und dass die andere der mindestens zwei Substanzen Aluminium ist.
10. Verfahren zur Reparatur und/oder Aufbereitung von reflektiven optischen Elementen für den EUV-Wellenlängenbereich, mit den Schritten:
- Bereitstellen eines reflektiven optischen Elements für den extrem-ultravioletten Wellenlängenbereich, aufweisend ein Substrat und eine reflektierende Beschichtung, bei dem zwischen dem Substrat und der reflektierenden Beschichtung einer reaktive Ablöseschicht angeordnet ist, insbesondere eines reflektiven optischen Elements gemäß einem der Ansprüche 1 bis 9;
- Einbringen eines Energieimpulses in die reaktive Ablöseschicht, um eine Reaktion in der reaktiven Ablöseschicht in Gang zu setzten, so dass sich in der reaktiven Ablöseschicht eine Volumenänderung ergibt;
- Ablösen der reflektierenden Beschichtung und der reaktiven Ablöseschicht.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass der Energieimpuls als elektrischer Funke, Laserstrahl, Elektronenstrahl oder lonenstrahl oder eine Kombination davon in die reaktive Ablöseschicht eingebracht wird.
12. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11 , dadurch gekennzeichnet, dass die reaktive Ablöseschicht infolge des Einbringens des Energieimpulses eine Volumenänderung von mindestens ±5% erfährt.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Ablösen der reflektierenden Beschichtung und der reaktiven Ablöseschicht eine neue reflektierende Beschichtung aufgebracht wird.
14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass eine neue reaktive Ablöseschicht aufgebracht wird, die zwischen dem Substrat und der neuen reflektierenden Beschichtung aufgebracht wird.
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