WO2022080378A1 - 単層位相差材の製造方法 - Google Patents

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WO2022080378A1
WO2022080378A1 PCT/JP2021/037763 JP2021037763W WO2022080378A1 WO 2022080378 A1 WO2022080378 A1 WO 2022080378A1 JP 2021037763 W JP2021037763 W JP 2021037763W WO 2022080378 A1 WO2022080378 A1 WO 2022080378A1
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carbon atoms
solvent
bond
polymer
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PCT/JP2021/037763
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Inventor
大輝 山極
司 藤枝
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日産化学株式会社
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/30—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing a single-layer retardation material, and more specifically, a material having optical characteristics suitable for applications such as a display device and a recording material, particularly a polarizing plate for a liquid crystal display, a retardation plate, and the like.
  • the present invention relates to a method for producing a single-layer retardation material which can be suitably used for an optical compensation film.
  • the polymerizable liquid crystal compound used here is generally a liquid crystal compound having a polymerizable group and a liquid crystal structural portion (a structural portion having a spacer portion and a mesogen portion), and an acrylic group is widely used as the polymerizable group. ing.
  • Such a polymerizable liquid crystal compound is generally made into a polymer (film) by a method of irradiating with radiation such as ultraviolet rays to polymerize.
  • a method of supporting a specific polymerizable liquid crystal compound having an acrylic group between supports and irradiating with radiation while holding this compound in a liquid crystal state to obtain a polymer (Patent Document 1), or having an acrylic group.
  • a method of adding a photopolymerization initiator to a mixture of two types of polymerizable liquid crystal compounds or a composition obtained by mixing a chiral liquid crystal with the mixture and irradiating the mixture with ultraviolet rays to obtain a polymer is known (Patent Document 2).
  • Patent Documents 3 and 4 an alignment film using a polymerizable liquid crystal compound or a polymer that does not require a liquid crystal alignment film
  • Patent Documents 5 and 6 an alignment film using a polymer containing a photocrosslinking site
  • Patent Documents 5 and 6 an alignment film using a polymer containing a photocrosslinking site
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a single-layer retardation material capable of producing a single-layer retardation material having a high retardation value and birefringence.
  • the present inventors prepare a composition in order to prepare a single-layer retardation material using a composition containing a polymer having a photoreactive moiety that is photodimerized or photoisomerized by ultraviolet rays.
  • a high retardation value and a different refractive index were obtained by irradiating the coating film prepared by using a specific solvent and not completely evaporating the solvent with polarized ultraviolet rays.
  • the present invention has been completed by finding that a single-layer retardation material having a directionality ( ⁇ n) can be obtained.
  • the present invention 1.
  • a polymer having a photoreactive moiety that is photodimerized or photoisomerized by ultraviolet rays in a side chain a solvent having an amide bond, a solvent having a urea bond, a solvent having a sulfoxide bond, a solvent having a cyclic ester structure, and a solvent.
  • a method for producing a single-layer retardation material which comprises an irradiation step, 2.
  • 3. 3. A method for producing a single-layer retardation material having a film thickness of 1 or 2 having a tack property of 0.5 ⁇ m or more. 4.
  • a 1 , A 2 and D independently represent single bonds, -O-, -CH 2- , -COO-, -OCO-, -CONH-, or -NH-CO-, respectively.
  • L represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom of this alkylene group may be independently replaced with a halogen atom.
  • T represents a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom of this alkylene group may be replaced with a halogen atom.
  • a 2 also represents a single bond
  • Y 1 represents a divalent benzene ring and represents P 1 , Q 1 and Q 2 each independently represent a group selected from the group consisting of a single bond, a benzene ring and an alicyclic hydrocarbon ring having 5 to 8 carbon atoms.
  • R is a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom, a carboxy group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 7 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • X 1 and X 2 independently represent a single bond, -O-, -COO- or -OCO-, respectively.
  • n1 and n2 are 0, 1 or 2, respectively, respectively.
  • X 1 When the number of X 1 is 2, X 1 may be the same or different, and when the number of X 2 is 2, X 2 may be the same or different.
  • Q 1 When the number of Q 1 is 2, Q 1 may be the same or different, and when the number of Q 2 is 2, Q 2 may be the same or different.
  • 6. A method for producing a single-layer retardation material of 5, wherein the side chain that does not exhibit photoalignment is any one of the side chains selected from the group consisting of the following formulas (1) to (12).
  • R 11 is -NO 2 , -CN, halogen atom, phenyl group, naphthyl group, biphenylyl group, furanyl group, 1
  • a valent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms is represented, and R 12 is a phenyl group.
  • the hydrogen atom bonded to these may be substituted with -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and R 13 is a hydrogen atom.
  • k1 to k5 are independently integers of 0 to 2, but the total of k1 to k5 is 2 or more, and k6 and k7 are independently integers of 0 to 2, but k6.
  • k7 are greater than or equal to 1, m1, m2, and m3 are independently integers of 1 to 3, n is 0 or 1, and Z 1 and Z 2 are independent, respectively.
  • Single bond, -C ( O)-, -CH 2 O-, or -CF 2- ; the broken line represents the bond.) 7.
  • a 2 , L, T, Y 1 , P 1 , Q 1 , R and the broken line have the same meanings as described above.
  • a 1 , A 2 and D independently represent single bonds, -O-, -CH 2- , -COO-, -OCO-, -CONH-, or -NH-CO-, respectively.
  • L represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom of this alkylene group may be independently replaced with a halogen atom.
  • T represents a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom of this alkylene group may be replaced with a halogen atom.
  • a 2 also represents a single bond
  • Y 1 represents a divalent benzene ring and represents P 1 , Q 1 and Q 2 each independently represent a group selected from the group consisting of a single bond, a benzene ring and an alicyclic hydrocarbon ring having 5 to 8 carbon atoms.
  • R is a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom, a carboxy group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 7 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • X 1 and X 2 independently represent a single bond, -O-, -COO- or -OCO-, respectively.
  • n1 and n2 are 0, 1 or 2, respectively, respectively.
  • a polymer composition for a single-layer retardation material wherein the polymer has a side chain that does not further exhibit photoorientity. 10.
  • the polymer composition for a single-layer retardation material in which the side chain showing no photo-orientation is any one of the side chains selected from the group consisting of the following formulas (1) to (12).
  • R 11 is -NO 2 , -CN, halogen atom, phenyl group, naphthyl group, biphenylyl group, furanyl group, 1
  • a valent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms is represented, and R 12 is a phenyl group.
  • the hydrogen atom bonded to these may be substituted with -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and R 13 is a hydrogen atom.
  • k1 to k5 are independently integers of 0 to 2, but the total of k1 to k5 is 2 or more, and k6 and k7 are independently integers of 0 to 2, but k6.
  • k7 are greater than or equal to 1, m1, m2, and m3 are independently integers of 1 to 3, n is 0 or 1, and Z 1 and Z 2 are independent, respectively.
  • Single bond, -C ( O)-, -CH 2 O-, or -CF 2- ; the broken line represents the bond.) I will provide a.
  • the solvent contained in the polymer composition is from a solvent having an amide bond, a solvent having a urea bond, a solvent having a sulfoxide bond, a solvent having a cyclic ester structure, and a solvent having a cyclic ether structure.
  • a single layer having a high retardation value and double refraction because polarized ultraviolet rays are applied to a coating film having a tack property on the surface, which is prepared by using at least one selected solvent and without completely evaporating the solvent.
  • a retardation material can be obtained.
  • the solute is contained in at least one solvent selected from a solvent having an amide bond, a solvent having a urea bond, a solvent having a sulfoxide bond, a solvent having a cyclic ester structure, and a solvent having a cyclic ether structure. It is presumed that by adopting a peculiar agglomerated state (particularly a state showing rhotropic liquid crystal property) when melted, orientation anisotropy can be induced at the time of coating film, and a film having a high phase difference can be formed.
  • the solvent is presumed that by adopting a peculiar agglomerated state (particularly a state showing rhotropic liquid crystal property) when melted, orientation anisotropy can be induced at the time of coating film, and a film having a high phase difference can be formed.
  • the solvent is presumed that by adopting a peculiar agglomerated state (particularly a state showing rhotropic liquid crystal property) when melted, orientation anisotropy
  • the method for producing a single-layer retardation material of the present invention comprises (I) a polymer having a photoreactive moiety that is photodimerized or photoisomerized by ultraviolet rays in a side chain, a solvent having an amide bond, and a solvent having a urea bond.
  • Step (I) is a step of applying the polymer composition onto the substrate. More specifically, the polymer composition is coated on a substrate (for example, silicon / silicon dioxide coated substrate, silicon nitride substrate, metal (for example, aluminum, molybdenum, chromium, etc.)), a glass substrate, a quartz substrate, and the like. Bar coat, spin coat, flow coat, roll coat, etc. on ITO substrate, etc.) or film (for example, resin film such as triacetyl cellulose (TAC) film, cycloolefin polymer film, polyethylene terephthalate film, acrylic film, etc.). It is a step of applying by a method such as a slit coating, a spin coating following the slit coating, an inkjet method, and a printing method.
  • a substrate for example, silicon / silicon dioxide coated substrate, silicon nitride substrate, metal (for example, aluminum, molybdenum, chromium, etc.)
  • a glass substrate for example
  • the polymer composition used in the present invention is a photosensitive side chain polymer capable of exhibiting liquidity, or a mixed side chain polymer having a liquid crystal side chain polymer and a photosensitive side chain polymer individually.
  • a side-chain type polymer a photosensitive side chain polymer capable of exhibiting liquidity
  • the obtained coating film is also a film having a side-chain type polymer including liquidity and photosensitivity.
  • This coating film is not subjected to a rubbing treatment, but is subjected to an orientation treatment by polarization irradiation.
  • the film is subjected to a step of heating the side chain polymer film to obtain a film to which optical anisotropy is imparted (hereinafter, also referred to as a single-layer retardation material).
  • a single-layer retardation material a film to which optical anisotropy is imparted
  • the slight anisotropy developed by the polarization irradiation becomes the driving force, and the side chain polymer itself is efficiently reoriented by self-assembly.
  • highly efficient orientation processing can be realized as a single-layer retardation material, and a single-layer retardation material with high optical anisotropy can be obtained.
  • the polymer is not particularly limited as long as it is a side chain type polymer having the above properties, but a side chain having any of the photoreactive sites represented by the following formulas (a1) to (a3) (hereinafter referred to as “side chain”). , Also referred to as side chain a), and more preferably having a side chain having any of the photoreactive sites represented by the following formulas (a1-1) to (a3-1). From the viewpoint of solubility in a solvent, the number of benzene rings in the side chain having one photoreactive moiety is preferably 3 or less.
  • a 1 , A 2 and D independently represent a single bond, -O-, -CH 2- , -COO-, -OCO-, -CONH-, or -NH-CO-. .. L represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom of this alkylene group may be independently replaced with a halogen atom.
  • T represents a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom of this alkylene group may be replaced with a halogen atom.
  • a 2 also represents a single bond.
  • Y 1 represents a divalent benzene ring.
  • P 1 , Q 1 and Q 2 each independently represent a group selected from the group consisting of a single bond, a benzene ring and an alicyclic hydrocarbon ring having 5 to 8 carbon atoms.
  • R is a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom, a carboxy group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 7 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. Represents the alkyloxy group of.
  • the hydrogen atom bonded to the benzene ring is independently a cyano group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkylcarbonyl group having 1 to 5 carbon atoms. , Or may be substituted with an alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms.
  • X 1 and X 2 independently represent a single bond, -O-, -COO- or -OCO-, respectively.
  • n1 and n2 are 0, 1 or 2, respectively.
  • X 1 When the number of X 1 is 2, X 1 may be the same or different, and when the number of X 2 is 2, X 2 may be the same or different, and the number of Q 1 When is 2, Q 1s may be the same or different, and when the number of Q 2s is 2 , Q 2s may be the same or different.
  • the alkylene group having 1 to 12 carbon atoms may be linear, branched or cyclic, and specific examples thereof include methylene, ethylene, propane-1,3-diyl, butane-1,4-diyl and pentane. -1,5-diyl, hexane-1,6-diyl, heptane-1,7-diyl, octane-1,8-diyl, nonane-1,9-diyl, decane-1,10-diyl group, etc. Be done.
  • alicyclic hydrocarbon ring having 5 to 8 carbon atoms examples include a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, and a cyclooctane ring.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.
  • the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms may be linear or branched, and specific examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, t-butyl and n-pentyl. Group etc. can be mentioned.
  • alkylcarbonyl group having 1 to 5 carbon atoms include methylcarbonyl (acetyl), ethylcarbonyl, n-propylcarbonyl, n-butylcarbonyl, n-pentylcarbonyl group and the like.
  • Specific examples of the cycloalkyl group having 3 to 7 carbon atoms include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl group and the like.
  • alkyloxy group having 1 to 5 carbon atoms include methoxy, ethoxy, n-propoxy, i-propoxy, n-butoxy, n-pentyloxy group and the like.
  • a polymer having a side chain having a photoreactive site represented by any of the following formulas (a1-1-1) to (a3-1-1) is more preferable.
  • the side chain polymer used in the present invention has a photosensitive side chain bonded to the main chain, and can cause a cross-linking reaction or an isomerization reaction in response to light having a wavelength of 365 nm.
  • the structure of the photosensitive side chain polymer is not particularly limited as long as it satisfies such characteristics, but it is preferable that the side chain structure has a rigid mesogen component. Stable optical anisotropy can be obtained when the side chain polymer is used as a single-layer retardation material.
  • More specific examples of the structure of the photosensitive side chain polymer include radical polymerizable properties such as (meth) acrylate, itaconate, fumarate, maleate, ⁇ -methylene- ⁇ -butyrolactone, styrene, vinyl, maleimide and norbornene.
  • a structure having a main chain composed of at least one selected from the group consisting of radicals and siloxane and a side chain a is preferable.
  • the side chain type polymer may further have a side chain (hereinafter, also referred to as side chain b) that does not exhibit photoalignment.
  • a side chain b any one of the side chains selected from the group consisting of the following formulas (1) to (12) is preferable, but the side chain b is not limited thereto.
  • R 11 is -NO 2 , -CN, halogen atom, phenyl group, naphthyl group, biphenylyl group, furanyl group, 1
  • a valent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms is represented, and R 12 is a phenyl group.
  • the hydrogen atom bonded to these may be substituted with -NO 2 , -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and R 13 is a hydrogen atom.
  • k1 to k5 are independently integers of 0 to 2, but the total of k1 to k5 is 2 or more, and k6 and k7 are independently integers of 0 to 2, but k6.
  • k7 are greater than or equal to 1, m1, m2, and m3 are independently integers of 1 to 3, n is 0 or 1, and Z 1 and Z 2 are independent, respectively.
  • Single bond, -C ( O)-, -CH 2 O-, or -CF 2- ; the broken line represents the bond.
  • the monovalent nitrogen-containing heterocyclic group examples include pyrrolidinyl, piperidinyl, piperazinyl, pyrrolyl, and pyridyl group, and specific examples of the monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms are cyclopentyl. , Cyclohexyl group and the like.
  • the alkyl group and the alkoxy group include the same groups as those exemplified in R5 above.
  • the side chain b preferably represented by any of the formulas (1) to (11).
  • the side chain type polymer used in the present invention can be obtained by polymerizing a monomer having a structure represented by any of the formulas (a1) to (a3) and, if necessary, a monomer giving a side chain b.
  • monomer M1 As the monomer having the structure represented by any of the formulas (a1) to (a3) (hereinafter, also referred to as monomer M1), the compounds represented by the following formulas (M1-1) to (M1-3) are used. Can be mentioned.
  • any compound represented by the following formulas (M1-1-1) to (M1-3-1) is preferable.
  • any compound represented by the following formulas (M1-1-1-1) to (M1-3-1-1) is more preferable.
  • PG is a polymerizable group, and a group selected from the groups represented by the following formulas PG1 to PG8 is preferable. Among them, an acrylic group or a methacrylic group represented by PG1 is preferable from the viewpoint of easy control of the polymerization reaction and the stability of the polymer.
  • M 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and the broken line represents a bond with L.
  • Examples of the compound represented by the above formula (M1-1) include monomers selected from the following formulas A-1-1 to A-1-13.
  • PG represents any polymerizable group selected from the groups represented by the above formulas PG1 to PG8, and s1 represents the number of methylene groups. It is an integer of ⁇ 9.
  • Examples of the compound represented by the above formula (M1-2) include monomers selected from the following formulas A-2-1 to A-2-9.
  • PG represents a polymerizable group selected from the groups represented by the above formulas PG1 to PG8, and s1 and s2 each independently represent the number of methylene groups. It is an integer from 2 to 9.
  • Examples of the compound represented by the above formula (M1-3) include monomers selected from the following formulas A-3-1 to A-3-3.
  • PG represents a polymerizable group selected from the groups represented by the above formulas PG1 to PG8, and s1 represents the number of methylene groups, which is an integer of 2 to 9.
  • Specific examples of the above-mentioned monomer (M1-3) include 4- (6-methacryloxyhexyl-1-oxy) cinnamic acid, 4- (6-acrylicoxyhexyl-1-oxy) cinnamic acid, and 4- (6-(6-methacrylicoxyhexyl-1-oxy) cinnamic acid. Examples thereof include 3-methacryloxypropyl-1-oxy) cinnamic acid and 4- (4- (6-methacryloxyhexyl-1-oxy) benzoyloxy) cinnamic acid.
  • the monomer that gives the side chain b that does not show photo-orientation (hereinafter, also referred to as monomer M2) is a monomer that can form a mesogen group at the side chain site.
  • the mesogen group having a side chain even if it is a group having a mesogen structure by itself such as biphenyl or phenylbenzoate, it is a group having a mesogen structure by hydrogen bonding between side chains such as benzoic acid. May be good.
  • the following structure is preferable as the mesogen group contained in the side chain.
  • the monomer M2 include hydrocarbons, (meth) acrylates, itaconates, fumarate, maleate, ⁇ -methylene- ⁇ -butyrolactone, styrene, vinyl, maleimide, norbornene and other radically polymerizable groups and siloxanes. It is preferable that the structure has a structure consisting of a polymerizable group derived from at least one selected from the group and at least one of the formulas (1) to (12).
  • the monomer M2 preferably has a (meth) acrylate as a polymerizable group, and preferably has a -COOH end in the side chain.
  • Preferred examples of the monomer M2 include those represented by the following formulas (M2-1) to (M2-9).
  • other monomers can be copolymerized as long as the photoreactiveness and / or liquid crystallinity development ability is not impaired.
  • examples of other monomers include industrially available radical polymerization-reactive monomers.
  • Specific examples of other monomers include unsaturated carboxylic acids, acrylic acid ester compounds, methacrylic acid ester compounds, maleimide compounds, acrylonitrile, maleic acid anhydrides, styrene compounds, vinyl compounds and the like.
  • unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid and the like.
  • acrylic acid ester compound examples include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, benzyl acrylate, naphthyl acrylate, anthryl acrylate, anthryl methyl acrylate, phenyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, and tert-.
  • methacrylic acid ester compound examples include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, benzyl methacrylate, naphthyl methacrylate, anthryl methacrylate, anthryl methyl methacrylate, phenyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate and tert-.
  • vinyl compound examples include vinyl ether, methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, propyl vinyl ether and the like.
  • styrene compound examples include styrene, 4-methylstyrene, 4-chlorostyrene, 4-bromostyrene and the like.
  • maleimide compound examples include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide and the like.
  • the contents of the side chain a and the side chain b are not particularly limited, but the side chain a is preferably 5 to 99.9 mol% from the viewpoint of photoreactivity. 10-95 mol% is more preferred. From the viewpoint of photoreactivity, the side chain b is preferably 95 mol% or less.
  • the side chain type polymer used in the present invention may contain other side chains.
  • the content of the other side chains is the rest when the total content of the side chains a and b is less than 100 mol%.
  • the method for producing the side chain polymer is not particularly limited, and a general-purpose method that is industrially handled can be used. Specifically, it can be produced by radical polymerization, cationic polymerization or anionic polymerization using the vinyl group of the above-mentioned monomer M1, the monomer M2 and other monomers as needed. Among these, radical polymerization is particularly preferable from the viewpoint of ease of reaction control and the like.
  • a known compound such as a radical polymerization initiator (radical thermal polymerization initiator, radical photopolymerization initiator) or a reversible addition-cleaving chain transfer (RAFT) polymerization reagent shall be used. Can be done.
  • a radical polymerization initiator radiation thermal polymerization initiator, radical photopolymerization initiator
  • RAFT reversible addition-cleaving chain transfer
  • the radical thermal polymerization initiator is a compound that generates radicals by heating to a temperature higher than the decomposition temperature.
  • examples of such radical thermal polymerization initiators include ketone peroxides (methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, etc.), diacyl peroxides (acetyl peroxide, benzoyl peroxide, etc.), and hydroperoxides (peroxidation).
  • the radical photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that initiates radical polymerization by light irradiation.
  • examples of such radical photopolymerization initiators include benzophenone, Michler's ketone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, xanthone, thioxanthone, isopropylxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-ethylanthraquinone, acetophenone and 2-hydroxy.
  • the radical polymerization method is not particularly limited, and an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method, a dispersion polymerization method, a precipitation polymerization method, a bulk polymerization method, a solution polymerization method and the like can be used.
  • the organic solvent used in the polymerization reaction is not particularly limited as long as the produced polymer can be dissolved. Specific examples thereof include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, N-methyl- ⁇ -caprolactam, dimethylsulfoxide, and tetramethylurea.
  • Ppyridine dimethyl sulfone, hexamethylphosphoramide, ⁇ -butyrolactone, ⁇ -valerolactone, isopropyl alcohol, methoxymethylpentanol, dipentene, ethylamyl ketone, methyl nonyl ketone, methyl ethyl ketone, methyl isoamyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl Cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl carbitol, ethyl carbitol, ethylene glycol, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoacetate, propylene glycol.
  • the solvent may be mixed with the above-mentioned organic solvent and used as long as the produced polymer does not precipitate.
  • oxygen in the organic solvent causes the polymerization reaction to be inhibited, so it is preferable to use an organic solvent that has been degassed to the extent possible.
  • the polymerization temperature at the time of radical polymerization can be selected from any temperature of 30 to 150 ° C, but is preferably in the range of 50 to 100 ° C.
  • the reaction can be carried out at any concentration, but if the concentration is too low, it becomes difficult to obtain a polymer having a high molecular weight, and if the concentration is too high, the viscosity of the reaction solution becomes too high and uniform stirring is difficult. Therefore, the monomer concentration is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass.
  • the initial reaction can be carried out at a high concentration and then an organic solvent can be added.
  • the ratio of the radical polymerization initiator when the ratio of the radical polymerization initiator is large with respect to the monomer, the molecular weight of the obtained polymer is small, and when the ratio is small, the molecular weight of the obtained polymer is large. It is preferably 0.1 to 10 mol% with respect to the monomer to be polymerized. Further, various monomer components, solvents, initiators and the like can be added at the time of polymerization.
  • the polymer produced from the reaction solution obtained by the above reaction can be recovered by pouring the reaction solution into a poor solvent and precipitating it, but this reprecipitation treatment is not essential.
  • the poor solvent used for precipitation include methanol, acetone, hexane, heptane, butyl cellosolve, heptane, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethanol, toluene, benzene, diethyl ether, methyl ethyl ether, water and the like.
  • the polymer put into a poor solvent and precipitated can be collected by filtration and then dried at room temperature or by heating under normal pressure or reduced pressure.
  • impurities in the polymer can be reduced.
  • the poor solvent at this time include alcohols, ketones, hydrocarbons and the like, and it is preferable to use three or more kinds of poor solvents selected from these because the efficiency of purification is further improved.
  • the side chain polymer used in the present invention has a weight average molecular weight measured by a GPC (Gel Permeation Chromatography) method in consideration of the strength of the obtained coating film, workability at the time of forming the coating film, and uniformity of the coating film. It is preferably 2,000 to 2,000,000, more preferably 2,000 to 1,000,000, and even more preferably 5,000 to 200,000.
  • GPC Gel Permeation Chromatography
  • the polymerizable composition used in the present invention comprises a side-chain polymer as described above, a solvent having an amide bond, a solvent having a urea bond, a solvent having a sulfoxide bond, a solvent having a cyclic ester structure, and a cyclic ether structure. It contains at least one solvent selected from the solvents having (hereinafter, these are also collectively referred to as a specific solvent).
  • Specific examples of the solvent having an amide bond include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl- ⁇ -caprolactam, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, and N-ethyl-2.
  • -Pyrrolidone N-vinyl-2-pyrrolidone, 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3-ethoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N, N-dimethylpropanamide, 1,3 -Dimethyl-2-imidazolidinone and the like can be mentioned.
  • Specific examples of the solvent having a sulfoxide bond include dimethyl sulfoxide and the like.
  • Specific examples of the solvent having a urea bond include tetramethylurea and tetraethylurea.
  • Specific examples of the solvent having a cyclic ester structure include ⁇ -butyrolactone and the like.
  • solvent having a cyclic ether structure examples include tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,4-dioxane, morpholine, tetrahydrofurfuryl alcohol, tetrahydrofurfurylamine and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the polymer composition may contain components other than the side chain polymer and the specific solvent.
  • components other than the side chain polymer and the specific solvent include, but are not limited to, organic solvents other than the above solvents, compounds that improve film thickness uniformity and surface smoothness, and compounds that improve the adhesion between the retardation material and the substrate. ..
  • organic solvents include isopropyl alcohol, methoxymethylpentanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl carbitol, ethyl carbitol, ethyl carbitol acetate, and ethylene glycol.
  • organic solvents may be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount used is not particularly limited as long as the desired effect of the present invention is exhibited, but in consideration of obtaining a single-layer retardation material having a high retardation value and birefringence, it is considered. It is preferably 5 to 80% by mass, more preferably 20 to 60% by mass in the total solvent.
  • the solvent used in the polymerizable composition used in the present invention contains a specific solvent as described above, the composition and the content ratio of various solvents are not particularly limited, but the specific solvent may be contained in all the solvents. It is preferably contained in an amount of 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and even more preferably 50% by mass or more.
  • Examples of the compound that improves the film thickness uniformity and the surface smoothness include a fluorine-based surfactant, a silicone-based surfactant, and a nonion-based surfactant. Specific examples of these include Ftop (registered trademark) 301, EF303, EF352 (manufactured by Tochem Products), Megafuck (registered trademark) F171, F173, F560, F563, R-30, R-40 (DIC).
  • the content of these surfactants is preferably 0.01 to 2 parts by mass, more preferably 0.01 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the side chain polymer.
  • the compound that improves the adhesion between the retardation material and the substrate include functional silane-containing compounds, and specific examples thereof include 3-aminopropyltrimethoxysilane and 3-aminopropyltriethoxysilane.
  • a phenoplast-based compound or an epoxy group-containing compound is added to the polymer composition for the purpose of preventing deterioration of the characteristics due to the backlight when the polarizing plate is formed. It may be added.
  • epoxy group-containing compound examples include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1, 6-Hexanediol Diglycidyl Ether, Glycerin Diglycidyl Ether, Dibromoneopentyl Glycol Diglycidyl Ether, 1,3,5,6-Tetraglycidyl-2,4-Hexanediol, N, N, N', N'-Tetra
  • examples thereof include glycidyl-m-xylylene diamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N', N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenyl
  • the content thereof is preferably 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the side chain type polymer contained in the polymer composition, and 1 to 20 parts by mass. Parts by mass are more preferred. If the content is less than 0.1 parts by mass, the effect of improving the adhesion cannot be expected, and if it is more than 30 parts by mass, the orientation of the liquid crystal display may deteriorate.
  • a photosensitizer can also be used as an additive.
  • a colorless sensitizer and a triplet sensitizer are preferable.
  • photosensitizer examples include aromatic nitro compounds, coumarin (7-diethylamino-4-methylcoumarin, 7-hydroxy4-methylcoumarin), ketocoumarin, carbonylbiscmarin, aromatic 2-hydroxyketone, and aromatic 2-hydroxy.
  • Ketones (2-hydroxybenzophenone, mono- or di-p- (dimethylamino) -2-hydroxybenzophenone, etc.), acetophenone, anthraquinone, xanthone, thioxanthone, benzanthron, thiazolin (2-benzoylmethylene-3-methyl- ⁇ - Naftthiazolin, 2- ( ⁇ -naphthoylmethylene) -3-methylbenzothiazolin, 2- ( ⁇ -naphthoylmethylene) -3-methylbenzothiazolin, 2- (4-biphenoylmethylene) -3-methylbenzothiazolin , 2- ( ⁇ -naphthoyl methylene)
  • aromatic 2-hydroxyketone (benzophenone), coumarin, ketokumarin, carbonylbisquemarin, acetophenone, anthraquinone, xanthone, thioxanthone and acetophenone ketal are preferred.
  • the polymer composition includes a dielectric or a conductive substance for the purpose of changing the electrical properties such as the dielectric constant and the conductivity of the retardation material as long as the effect of the present invention is not impaired.
  • a crosslinkable compound may be added for the purpose of increasing the hardness and the density of the film when it is used as a retardation material.
  • the polymer composition is preferably prepared as a coating liquid so as to be suitable for forming a single-layer retardation material. That is, the polymer composition used in the present invention includes a side chain type polymer, the above-mentioned compound for improving film thickness uniformity and surface smoothness, a compound for improving adhesion between a liquid crystal alignment film and a substrate, and the like. It is preferably prepared as a solution dissolved in a solvent constituting the composition containing a specific solvent.
  • the content of the side chain type polymer is preferably 1 to 20% by mass, more preferably 3 to 15% by mass, and even more preferably 3 to 10% by mass in the composition.
  • the polymer composition may contain other polymers as long as the liquid crystal display ability and photosensitive performance are not impaired.
  • other polymers include polymers such as poly (meth) acrylate, polyamic acid, and polyimide, which are not photosensitive side chain polymers capable of exhibiting liquid crystallinity.
  • the content of the other polymer in the total polymer component is preferably 0.5 to 80% by mass, more preferably 1 to 50% by mass.
  • step (II) drying is performed in such a manner that at least one solvent selected from a solvent having an amide bond, a solvent having a urea bond, a solvent having a sulfoxide bond and a solvent having a cyclic ether structure is not completely vaporized.
  • a coating film having a tack property is formed on the surface.
  • a heating means such as a hot plate, a heat circulation type oven, or an IR (infrared) type oven can be used.
  • the heating temperature is preferably 200 ° C.
  • the heating time is determined in consideration of the heating temperature, it cannot be unconditionally specified, but within the above temperature range, 30 minutes or less is preferable, 15 minutes or less is more preferable, and 10 minutes or less is more preferable. More preferably, 5 minutes or less is further preferable.
  • the coating film produced in the step (II) is not a coating film having no surface tackiness in which the solvent has evaporated as in the conventional method, but a coating film having a sticky surface (tackiness). It is one of the features of the present invention that the coating film is used in the next step.
  • the coating film having a tack property on the surface obtained in the step (II) is irradiated with polarized ultraviolet rays.
  • the substrate is irradiated with polarized ultraviolet rays from a certain direction via a polarizing plate.
  • ultraviolet rays ultraviolet rays having a wavelength in the range of 100 to 400 nm can be used.
  • the optimum wavelength is selected via a filter or the like depending on the type of the coating film to be used.
  • ultraviolet rays having a wavelength in the range of 290 to 400 nm can be selected and used so that the photocrosslinking reaction can be selectively induced.
  • the ultraviolet light for example, light emitted from a high-pressure mercury lamp can be used.
  • the irradiation amount of polarized ultraviolet rays depends on the coating film used. That is, the irradiation amount is 1 to 70 of the amount of polarized ultraviolet rays that realizes the maximum value of ⁇ A, which is the difference between the ultraviolet absorptance in the direction parallel to the polarization direction of the polarized ultraviolet rays and the ultraviolet absorptivity in the vertical direction in the coating film. It is preferably in the range of%, and more preferably in the range of 1 to 50%.
  • the production method of the present invention may include a step (IV) of heating the coating film irradiated with polarized ultraviolet rays in the step (III). Orientation control ability can be imparted to the coating film by heating.
  • a heating means a hot plate, a heat circulation type oven, an IR (infrared) type oven or the like can be used.
  • the heating temperature can be determined in consideration of the temperature at which the liquid crystal property of the coating film to be used is developed, and the temperature at which the side chain type polymer contained in the polymerizable composition to be used develops liquid crystal color (hereinafter, liquid crystal expression). It is preferably within the temperature range of). In the case of a thin film surface such as a coating film, the liquid crystal development temperature on the coating film surface is expected to be lower than the liquid crystal development temperature when the side chain polymer is observed in bulk. Therefore, the heating temperature is more preferably within the temperature range of the liquid crystal display temperature on the surface of the coating film.
  • the temperature range of the heating temperature after irradiation with polarized ultraviolet rays has a lower limit of 10 ° C lower than the lower limit of the temperature range of the liquid crystal development temperature of the side chain polymer, and an upper limit of a temperature 10 ° C lower than the upper limit of the liquid crystal temperature range.
  • the temperature in the range is preferable. If the heating temperature is lower than the above temperature range, the effect of amplifying anisotropy due to heat in the coating film tends to be insufficient, and if the heating temperature is too high above the above temperature range, the state of the coating film is in a state. Tends to be close to an isotropic liquid state (isotropic phase), in which case self-assembly can make it difficult to reorient in one direction.
  • the liquid crystal development temperature is equal to or higher than the liquid crystal transition temperature at which the surface of the polymer or the coating film undergoes a phase transition from the solid phase to the liquid crystal phase, and the isotropic phase undergoes a phase transition from the liquid crystal phase to the isotropic phase.
  • the temperature below the phase transition temperature (Tiso).
  • exhibiting liquid crystallinity at 130 ° C. or lower means that the liquid crystal transition temperature at which a phase transition occurs from the solid phase to the liquid crystal phase is 130 ° C. or lower.
  • the thickness of the single-layer retardation material produced by the production method of the present invention can be appropriately selected in consideration of the step of the substrate to be used and the optical and electrical properties, and is preferably 0.5 to 10 ⁇ m, for example.
  • the thickness of the coating film when irradiated with polarized ultraviolet rays is preferably 2.5 ⁇ m or more, particularly 3.0 ⁇ m or more.
  • the single-layer retardation material obtained by the above-described manufacturing method is a material having optical characteristics suitable for applications such as display devices and recording materials, and in particular, optical compensation for polarizing plates and retardation plates for liquid crystal displays. Suitable as a film.
  • M1 is shown below as the monomer having a photoreactive group used in the examples, and M2 is shown below as the monomer having a liquid crystalline group.
  • M1 was synthesized according to the synthetic method described in International Publication No. 2011/0854546.
  • M2 was synthesized according to the synthesis method described in JP-A-9-118717.
  • the side chain derived from M1 exhibits photoreactivity and liquid crystallinity, and the side chain derived from M2 expresses only liquid crystallinity.
  • Polymer solutions T2 to T11 were obtained in the same manner as in Production Example 1 except that various solvents shown in Table 1 were used instead of NMP. This polymer solution was used as a retardation material for forming a retardation film as it was.
  • Example 2 to 9 Substrates S2 to S8 and S11 with a retardation film were prepared in the same manner as in Example 1 except that the polymer solutions T2 to T8 and T11 were used instead of the polymer solution T1.
  • phase difference evaluation The phase difference value at a wavelength of 550 nm was evaluated using AxoScan manufactured by Axometrics. The results are shown in Table 2.

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Abstract

（Ｉ）紫外線で光二量化または光異性化する光反応性部位を側鎖に有する重合体と、アミド結合を有する溶媒、ウレア結合を有する溶媒、スルホキシド結合を有する溶媒、環状エステル構造を有する溶媒および環状エーテル構造を有する溶媒から選ばれる少なくとも１種の溶媒とを含む重合体組成物を基板上に塗布する塗布工程、 （ＩＩ）溶媒を完全には蒸発させない態様で乾燥を行い、表面にタック性を有する塗膜を形成する仮乾燥工程、および （ＩＩＩ）タック性を有する塗膜に、偏光紫外線を照射する照射工程、を含む単層位相差材の製造方法によれば、位相差値および複屈折の高い単層位相差材作製できる。

Description

単層位相差材の製造方法
　本発明は、単層位相差材の製造方法に関し、さらに詳述すると、表示装置や記録材料等の用途に好適な光学特性を有する材料、特に、液晶ディスプレイ用の偏光板および位相差板等の光学補償フィルムに好適に利用できる単層位相差材の製造方法に関する。
　液晶表示装置の表示品位の向上や軽量化等の要求から、偏光板や位相差板等の光学補償フィルムとして、内部の分子配向構造が制御された高分子フィルムの要求が高まっている。この要求に応えるべく、重合性液晶化合物が有する光学異方性を利用したフィルムの開発がなされている。ここで用いられる重合性液晶化合物は、一般に、重合性基と液晶構造部位（スペーサ部とメソゲン部とを有する構造部位）とを有する液晶化合物であり、この重合性基としてアクリル基が広く用いられている。
　このような重合性液晶化合物は、一般的に、紫外線等の放射線を照射して重合する方法で重合体（フィルム）とされる。例えば、アクリル基を有する特定の重合性液晶化合物を支持体間に担持し、この化合物を液晶状態に保持しつつ放射線を照射して重合体を得る方法（特許文献１）や、アクリル基を有する２種類の重合性液晶化合物の混合物またはこの混合物にカイラル液晶を混合した組成物に光重合開始剤を添加し、紫外線を照射して重合体を得る方法（特許文献２）が知られている。
　また、液晶配向膜を必要としない重合性液晶化合物や重合体を用いた配向フィルム（特許文献３、４）、光架橋部位を含む重合体を用いた配向フィルム（特許文献５、６）等、様々な単層塗布型配向フィルムが報告されている。
　このように、これまで種々の配向フィルムが開発されているものの、液晶配向材や単層位相差材の配向特性や位相差特性については、技術の発展に伴い、さらなる改善が求められている。特に、液晶配向膜を必要としない重合性液晶化合物や重合体を用いる場合には、液晶配向膜による配向の補助がなくとも、均一な配向を発現する必要がある。
特開昭６２－７０４０７号公報 特開平９－２０８９５７号公報 欧州特許出願公開第１０９０３２５号明細書 国際公開第２００８／０３１２４３号 特開２００８－１６４９２５号公報 特開平１１－１８９６６５号公報
　本発明は、上記問題に鑑みなされたものであり、位相差値および複屈折の高い単層位相差材の作製を可能とする単層位相差材の製造方法を提供することを目的とする。
　本発明者らは、上記課題を解決すべく、紫外線で光二量化または光異性化する光反応性部位を有する重合体を含む組成物を用いて単層位相差材を作製するにあたって、組成物調製時の溶媒について種々検討を重ねた結果、特定の溶媒を用いるとともに、溶媒を完全には蒸発させないで作製した塗膜に対して、偏光紫外線を照射することで、高い位相差値および屈折率異方性（Δｎ）を有する単層位相差材が得られることを見出し、本発明を完成した。
　すなわち、本発明は、
１．　（Ｉ）紫外線で光二量化または光異性化する光反応性部位を側鎖に有する重合体と、アミド結合を有する溶媒、ウレア結合を有する溶媒、スルホキシド結合を有する溶媒、環状エステル構造を有する溶媒および環状エーテル構造を有する溶媒から選ばれる少なくとも１種の溶媒とを含む重合体組成物を基板上に塗布する塗布工程、
（ＩＩ）前記溶媒を完全には蒸発させない態様で乾燥を行い、表面にタック性を有する塗膜を形成する仮乾燥工程、および
（ＩＩＩ）前記タック性を有する塗膜に、偏光紫外線を照射する照射工程、を含むことを特徴とする単層位相差材の製造方法、
２．　（ＩＶ）前記偏光紫外線を照射した塗膜を加熱する工程を含む１の単層位相差材の製造方法、
３．　前記タック性を有する塗膜の膜厚が、０．５μｍ以上である１または２の単層位相差材の製造方法、
４．　前記重合体が、下記式（ａ１）～（ａ３）で表されるいずれかの光反応性部位を有する側鎖を有する１～３のいずれかの単層位相差材の製造方法、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 （式中、Ａ1、Ａ2およびＤは、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ2－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、または－ＮＨ－ＣＯ－を表し、
　Ｌは、炭素数１～１２のアルキレン基を表し、このアルキレン基の水素原子はそれぞれ独立にハロゲン原子に置き換えられていてもよく、
　Ｔは、単結合または炭素数１～１２のアルキレン基を表し、このアルキレン基の水素原子はハロゲン原子に置き換えられていてもよく、
　Ｔが単結合であるときはＡ2も単結合を表し、
　Ｙ1は、２価のベンゼン環を表し、
　Ｐ1、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、単結合、ベンゼン環および炭素数５～８の脂環式炭化水素環からなる群から選ばれる基を表し、
　Ｒは、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキルカルボニル基、炭素数３～７のシクロアルキル基、または炭素数１～５のアルキルオキシ基を表し、
　Ｙ1、Ｐ1、Ｑ1およびＱ2において、ベンゼン環に結合する水素原子は、それぞれ独立に、シアノ基、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキルカルボニル基、または炭素数１～５のアルキルオキシ基で置換されていてもよく、
　Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－を表し、
　ｎ１およびｎ２は、それぞれ独立に０、１または２であり、
　Ｘ1の数が２となるときは、Ｘ1同士は同一でも異なっていてもよく、Ｘ2の数が２となるときは、Ｘ2同士は同一でも異なっていてもよく、
　Ｑ1の数が２となるときは、Ｑ1同士は同一でも異なっていてもよく、Ｑ2の数が２となるときは、Ｑ2同士は同一でも異なっていてもよく、破線は、結合手を表す。）
５．　前記重合体が、さらに光配向性を示さない側鎖を有する４の単層位相差材の製造方法、
６．　前記光配向性を示さない側鎖が下記式（１）～（１２）からなる群から選ばれるいずれか１種の側鎖である５の単層位相差材の製造方法、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 （式（１）～（１２）中、Ａ3およびＡ4は、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ2－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、または－ＮＨＣ（＝Ｏ）－を表し、Ｒ11は、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価窒素含有複素環基、炭素数５～８の１価脂環式炭化水素基、炭素数１～１２のアルキル基、または炭素数１～１２のアルコキシ基を表し、Ｒ12は、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価窒素含有複素環基、炭素数５～８の１価脂環式炭化水素基、およびこれらを組み合わせて得られる基からなる群から選ばれる基を表し、これらに結合する水素原子が、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、または炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく、Ｒ13は、水素原子、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価窒素含有複素環基、炭素数５～８の１価脂環式炭化水素基、炭素数１～１２のアルキル基、または炭素数１～１２のアルコキシ基を表し、Ｅは、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、または－ＯＣ（＝Ｏ）－を表し、ｄは、１～１２の整数を表し、ｋ１～ｋ５は、それぞれ独立して、０～２の整数であるが、ｋ１～ｋ５の合計は２以上であり、ｋ６およびｋ７は、それぞれ独立して、０～２の整数であるが、ｋ６およびｋ７の合計は１以上であり、ｍ１、ｍ２およびｍ３は、それぞれ独立して、１～３の整数であり、ｎは、０または１であり、Ｚ1およびＺ2は、それぞれ独立して、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＨ2Ｏ－、または－ＣＦ2－を表す。破線は結合手を表す。）
７．　前記光反応性部位を有する側鎖が、下記式（ａ１－１）～（ａ３－１）で表されるいずれかの基である４～６のいずれかの単層位相差材の製造方法、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 （式中、Ａ2、Ｌ、Ｔ、Ｙ1、Ｐ1、Ｑ1、Ｒおよび破線は、前記と同じ意味を表す。）
８．　紫外線で光二量化または光異性化する光反応性部位を側鎖に有する重合体と、アミド結合を有する溶媒、ウレア結合を有する溶媒、スルホキシド結合を有する溶媒、環状エステル構造を有する溶媒および環状エーテル構造を有する溶媒から選ばれる少なくとも１種の溶媒とを含み、
　前記重合体が、下記式（ａ１）～（ａ３）で表されるいずれかの光反応性部位を有する側鎖を有することを特徴とする単層位相差材用重合体組成物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 （式中、Ａ1、Ａ2およびＤは、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ2－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、または－ＮＨ－ＣＯ－を表し、
　Ｌは、炭素数１～１２のアルキレン基を表し、このアルキレン基の水素原子はそれぞれ独立にハロゲン原子に置き換えられていてもよく、
　Ｔは、単結合または炭素数１～１２のアルキレン基を表し、このアルキレン基の水素原子はハロゲン原子に置き換えられていてもよく、
　Ｔが単結合であるときはＡ2も単結合を表し、
　Ｙ1は、２価のベンゼン環を表し、
　Ｐ1、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、単結合、ベンゼン環および炭素数５～８の脂環式炭化水素環からなる群から選ばれる基を表し、
　Ｒは、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキルカルボニル基、炭素数３～７のシクロアルキル基、または炭素数１～５のアルキルオキシ基を表し、
　Ｙ1、Ｐ1、Ｑ1およびＱ2において、ベンゼン環に結合する水素原子は、それぞれ独立に、シアノ基、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキルカルボニル基、または炭素数１～５のアルキルオキシ基で置換されていてもよく、
　Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－を表し、
　ｎ１およびｎ２は、それぞれ独立に０、１または２であり、
　Ｘ1の数が２となるときは、Ｘ1同士は同一でも異なっていてもよく、Ｘ2の数が２となるときは、Ｘ2同士は同一でも異なっていてもよく、
　Ｑ1の数が２となるときは、Ｑ1同士は同一でも異なっていてもよく、Ｑ2の数が２となるときは、Ｑ2同士は同一でも異なっていてもよく、破線は、結合手を表す。）
９．　前記重合体が、さらに光配向性を示さない側鎖を有する８の単層位相差材用重合体組成物、
１０．　前記光配向性を示さない側鎖が、下記式（１）～（１２）からなる群から選ばれるいずれか１種の側鎖である９の単層位相差材用重合体組成物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 （式（１）～（１２）中、Ａ3およびＡ4は、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ2－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、または－ＮＨＣ（＝Ｏ）－を表し、Ｒ11は、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価窒素含有複素環基、炭素数５～８の１価脂環式炭化水素基、炭素数１～１２のアルキル基、または炭素数１～１２のアルコキシ基を表し、Ｒ12は、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価窒素含有複素環基、炭素数５～８の１価脂環式炭化水素基、およびこれらを組み合わせて得られる基からなる群から選ばれる基を表し、これらに結合する水素原子が、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、または炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく、Ｒ13は、水素原子、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価窒素含有複素環基、炭素数５～８の１価脂環式炭化水素基、炭素数１～１２のアルキル基、または炭素数１～１２のアルコキシ基を表し、Ｅは、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、または－ＯＣ（＝Ｏ）－を表し、ｄは、１～１２の整数を表し、ｋ１～ｋ５は、それぞれ独立して、０～２の整数であるが、ｋ１～ｋ５の合計は２以上であり、ｋ６およびｋ７は、それぞれ独立して、０～２の整数であるが、ｋ６およびｋ７の合計は１以上であり、ｍ１、ｍ２およびｍ３は、それぞれ独立して、１～３の整数であり、ｎは、０または１であり、Ｚ1およびＺ2は、それぞれ独立して、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＨ2Ｏ－、または－ＣＦ2－を表す。破線は結合手を表す。）
を提供する。
　本発明の製造方法によれば、重合体組成物に含まれる溶媒としてアミド結合を有する溶媒、ウレア結合を有する溶媒、スルホキシド結合を有する溶媒、環状エステル構造を有する溶媒および環状エーテル構造を有する溶媒から選ばれる少なくとも１種の溶媒を用いるとともに、溶媒を完全には蒸発させないで作製した、表面にタック性のある塗膜に対して偏光紫外線を照射するため、位相差値および複屈折の高い単層位相差材を得ることができる。
　本発明の技術では、溶質が、アミド結合を有する溶媒、ウレア結合を有する溶媒、スルホキシド結合を有する溶媒、環状エステル構造を有する溶媒および環状エーテル構造を有する溶媒から選ばれる少なくとも１種の溶媒中に溶解した際に特異な凝集状態（とりわけリオトロピック液晶性を示すような状態）を採ることにより、塗膜時点で配向異方性を誘起でき、高い位相差を有する膜を成膜できるものと推察される。
　以下、本発明について具体的に説明する。
　本発明の単層位相差材の製造方法は、（Ｉ）紫外線で光二量化または光異性化する光反応性部位を側鎖に有する重合体と、アミド結合を有する溶媒、ウレア結合を有する溶媒、スルホキシド結合を有する溶媒、環状エステル構造を有する溶媒および環状エーテル構造を有する溶媒から選ばれる少なくとも１種の溶媒とを含む重合体組成物を基板上に塗布する塗布工程、（ＩＩ）上記溶媒を完全には蒸発させない態様で乾燥を行い、表面にタック性を有する塗膜を形成する仮乾燥工程、および（ＩＩＩ）タック性を有する塗膜に、偏光紫外線を照射する照射工程、を含むことを特徴とする。
［工程（Ｉ）］
　工程（Ｉ）は、重合体組成物を基板上に塗布する工程である。より具体的には、重合体組成物を基板（例えば、シリコン／二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、金属（例えば、アルミニウム、モリブデン、クロム等）が被覆された基板、ガラス基板、石英基板、ＩＴＯ基板等）やフィルム（例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、アクリルフィルム等の樹脂フィルム）等の上に、バーコート、スピンコート、フローコート、ロールコート、スリットコート、スリットコートに続いたスピンコート、インクジェット法、印刷法等の方法によって塗布する工程である。
　本発明で用いる重合体組成物は、液晶性を発現し得る感光性の側鎖型重合体、もしくは液晶性側鎖重合体と感光性側鎖重合体とを個別に有する混合側鎖型重合体（以下、単に側鎖型重合体ともいう。）を含むものであり、得られる塗膜も、液晶性と感光性とを含む側鎖型重合体を有する膜である。この塗膜にはラビング処理を行うこと無く、偏光照射によって配向処理を行う。そして、偏光照射の後、その側鎖型重合体膜を加熱する工程を経て、光学異方性が付与されたフィルム（以下、単層位相差材ともいう。）となる。このとき、偏光照射によって発現した僅かな異方性がドライビングフォースとなり、側鎖型重合体自体が自己組織化により効率的に再配向する。その結果、単層位相差材として高効率な配向処理が実現し、高い光学異方性が付与された単層位相差材を得ることができる。
　重合体としては、上記の性質を有する側鎖型重合体であれば特に制限はないが、下記式（ａ１）～（ａ３）で表されるいずれかの光反応性部位を有する側鎖（以下、側鎖ａともいう。）を有するものが好ましく、下記式（ａ１－１）～（ａ３－１）で表されるいずれかの光反応性部位を有する側鎖を有するものがより好ましい。
　なお、溶媒への溶解性の観点から、一つの光反応性部位を有する側鎖が有するベンゼン環の数は３つ以内が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 （式中、破線は、結合手を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 （式中、破線は、結合手を表す。）
　上記各式において、Ａ1、Ａ2およびＤは、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ2－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、または－ＮＨ－ＣＯ－を表す。
　Ｌは、炭素数１～１２のアルキレン基を表し、このアルキレン基の水素原子はそれぞれ独立にハロゲン原子に置き換えられていてもよい。
　Ｔは、単結合または炭素数１～１２のアルキレン基を表し、このアルキレン基の水素原子はハロゲン原子に置き換えられていてもよい。なお、Ｔが単結合であるときはＡ2も単結合を表す。
　Ｙ1は、２価のベンゼン環を表す。
　Ｐ1、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、単結合、ベンゼン環および炭素数５～８の脂環式炭化水素環からなる群から選ばれる基を表す。
　Ｒは、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキルカルボニル基、炭素数３～７のシクロアルキル基、または炭素数１～５のアルキルオキシ基を表す。
　Ｙ1、Ｐ1、Ｑ1およびＱ2において、ベンゼン環に結合する水素原子は、それぞれ独立に、シアノ基、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキルカルボニル基、または炭素数１～５のアルキルオキシ基で置換されていてもよい。
　Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－を表す。
　ｎ１およびｎ２は、それぞれ独立に０、１または２である。
　Ｘ1の数が２となるときは、Ｘ1同士は同一でも異なっていてもよく、Ｘ2の数が２となるときは、Ｘ2同士は同一でも異なっていてもよく、Ｑ1の数が２となるときは、Ｑ1同士は同一でも異なっていてもよく、Ｑ2の数が２となるときは、Ｑ2同士は同一でも異なっていてもよい。
　炭素数１～１２のアルキレン基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その具体例としては、メチレン、エチレン、プロパン－１，３－ジイル、ブタン－１，４－ジイル、ペンタン－１，５－ジイル、ヘキサン－１，６－ジイル、ヘプタン－１，７－ジイル、オクタン－１，８－ジイル、ノナン－１，９－ジイル、デカン－１，１０－ジイル基等が挙げられる。
　炭素数５～８の脂環式炭化水素環の具体例としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環が挙げられる。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
　炭素数１～５のアルキル基は、直鎖状、分岐状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉ－プロピル、ｎ－ブチル、ｔ－ブチル、ｎ－ペンチル基等が挙げられる。
　炭素数１～５のアルキルカルボニル基の具体例としては、メチルカルボニル（アセチル）、エチルカルボニル、ｎ－プロピルカルボニル、ｎ－ブチルカルボニル、ｎ－ペンチルカルボニル基等が挙げられる。
　炭素数３～７のシクロアルキル基の具体例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等が挙げられる。
　炭素数１～５のアルキルオキシ基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、ｉ－プロポキシ、ｎ－ブトキシ、ｎ－ペンチルオキシ基等が挙げられる。
　特に、重合体としては、下記式（ａ１－１－１）～（ａ３－１－１）のいずれかで表される光反応性部位を有する側鎖を有するものがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 （式中、Ｌ、Ｑ1、Ａ2、ＴおよびＲは、上記と同じ意味を表す。）
　本発明で用いる側鎖型重合体は、主鎖に感光性を有する側鎖が結合しており、波長３６５ｎｍの光に感応して架橋反応または異性化反応を起こすことができる。感光性の側鎖型重合体の構造は、そのような特性を満足するものであれば特に限定されないが、側鎖構造に剛直なメソゲン成分を有することが好ましい。上記側鎖型重合体を単層位相差材とした際に、安定な光学異方性を得ることができる。
　感光性の側鎖型重合体の構造のより具体的な例としては、（メタ）アクリレート、イタコネート、フマレート、マレエート、α－メチレン－γ－ブチロラクトン、スチレン、ビニル、マレイミド、ノルボルネン等のラジカル重合性基およびシロキサンからなる群から選択される少なくとも１種から構成された主鎖と、側鎖ａとを有する構造が好ましい。
　また、上記側鎖型重合体は、さらに光配向性を示さない側鎖（以下、側鎖ｂともいう。）を有していてもよい。
　このような側鎖ｂとしては、下記式（１）～（１２）からなる群から選ばれるいずれか１種の側鎖が好ましいが、これらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 （破線は、結合手を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 （破線は、結合手を表す。）
（式（１）～（１２）中、Ａ3およびＡ4は、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ2－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、または－ＮＨＣ（＝Ｏ）－を表し、Ｒ11は、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価窒素含有複素環基、炭素数５～８の１価脂環式炭化水素基、炭素数１～１２のアルキル基、または炭素数１～１２のアルコキシ基を表し、Ｒ12は、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価窒素含有複素環基、炭素数５～８の１価脂環式炭化水素基、およびこれらを組み合わせて得られる基からなる群から選ばれる基を表し、これらに結合する水素原子が、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、または炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく、Ｒ13は、水素原子、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価窒素含有複素環基、炭素数５～８の１価脂環式炭化水素基、炭素数１～１２のアルキル基、または炭素数１～１２のアルコキシ基を表し、Ｅは、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、または－ＯＣ（＝Ｏ）－を表し、ｄは、１～１２の整数を表し、ｋ１～ｋ５は、それぞれ独立して、０～２の整数であるが、ｋ１～ｋ５の合計は２以上であり、ｋ６およびｋ７は、それぞれ独立して、０～２の整数であるが、ｋ６およびｋ７の合計は１以上であり、ｍ１、ｍ２およびｍ３は、それぞれ独立して、１～３の整数であり、ｎは、０または１であり、Ｚ1およびＺ2は、それぞれ独立して、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＨ2Ｏ－、または－ＣＦ2－を表す。破線は結合手を表す。）
　上記１価窒素含有複素環基の具体例としては、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ピロリル、ピリジル基等が挙げられ、炭素数５～８の１価脂環式炭化水素基の具体例としては、シクロペンチル、シクロヘキシル基等が挙げられる。
　また、アルキル基、アルコキシ基としては、上記Ｒ5で例示した基と同様のものが挙げられる。
　これらのうちでも、側鎖ｂとしては、式（１）～（１１）のいずれかで表されるものが好ましい。
　本発明で用いる側鎖型重合体は、式（ａ１）～（ａ３）のいずれかで表される構造を有するモノマー、必要に応じて側鎖ｂを与えるモノマーを重合して得ることができる。
　式（ａ１）～（ａ３）のいずれかで表される構造を有するモノマー（以下、モノマーＭ１ともいう。）としては、下記式（Ｍ１－１）～（Ｍ１－３）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 （式中、Ａ1、Ａ2、Ｄ、Ｌ、Ｔ、Ｙ1、Ｐ1、Ｑ1、Ｑ2、Ｒ、Ｘ1、Ｘ2、ｎ１およびｎ２は、上記と同じ意味を表す。）
　モノマーＭ１としては、下記式（Ｍ１－１－１）～（Ｍ１－３－１）で表されるいずれかの化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 （式中、Ａ2、Ｌ、Ｔ、Ｙ1、Ｐ1、Ｑ1、およびＲは、上記と同じ意味を表す。）
　特に、下記式（Ｍ１－１－１－１）～（Ｍ１－３－１－１）で表されるいずれかの化合物がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 （式中、Ｌ、Ｑ1、Ａ2、ＴおよびＲは、上記と同じ意味を表す。）
　上記各式中、ＰＧは、重合性基であり、下記式ＰＧ１～ＰＧ８で表される基から選ばれる基が好ましい。なかでも、重合反応の制御が容易であるという点と重合体の安定性の観点では、ＰＧ１で表されるアクリル基またはメタクリル基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 （式中、Ｍ1は、水素原子またはメチル基を表し、破線は、Ｌとの結合手を表す。）
　上記式（Ｍ１－１）で表される化合物としては、例えば、下記式Ａ－１－１～Ａ－１－１３から選ばれるモノマーが挙げられる。下記式Ａ－１－１～Ａ－１－１３中、ＰＧは、上記式ＰＧ１～ＰＧ８で表される基から選ばれるいずれかの重合性基を表し、ｓ１はメチレン基の数を表し、２～９の整数である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　上記式（Ｍ１－２）で表される化合物としては、例えば、下記式Ａ－２－１～Ａ－２－９から選ばれるモノマーが挙げられる。下記式Ａ－２－１～Ａ－２－９中、ＰＧは上記式ＰＧ１～ＰＧ８で表される基から選ばれる重合性基を表し、ｓ１およびｓ２はそれぞれ独立にメチレン基の数を表し、２～９の整数である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　上記各モノマーは、あるものは市販されており、あるものは、例えば国際公開第２０１４／０７４７８５号等に記載の方法で製造できる。
　上記式（Ｍ１－３）で表される化合物としては、例えば、下記式Ａ－３－１～Ａ－３－３から選ばれるモノマーが挙げられる。下記式中、ＰＧは上記式ＰＧ１～ＰＧ８で表される基から選ばれる重合性基を表し、ｓ１はメチレン基の数を表し、２～９の整数である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
　上記モノマー（Ｍ１－３）の具体例としては、４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）けい皮酸、４－（６－アクリルオキシヘキシル－１－オキシ）けい皮酸、４－（３－メタクリルオキシプロピル－１－オキシ）けい皮酸、４－（４－（６－メタクリルオキシヘキシル－１－オキシ）ベンゾイルオキシ）けい皮酸等が挙げられる。
　光配向性を示さない側鎖ｂを与えるモノマー（以下、モノマーＭ２ともいう。）は、側鎖部位にメソゲン基を形成することができるモノマーである。
　側鎖の有するメソゲン基としては、ビフェニルやフェニルベンゾエート等の単独でメソゲン構造となる基であっても、安息香酸等のように側鎖同士が水素結合することでメソゲン構造となる基であってもよい。側鎖の有するメソゲン基としては、下記の構造が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　モノマーＭ２のより具体的な例としては、炭化水素、（メタ）アクリレート、イタコネート、フマレート、マレエート、α－メチレン－γ－ブチロラクトン、スチレン、ビニル、マレイミド、ノルボルネン等のラジカル重合性基およびシロキサンからなる群から選択される少なくとも１種に由来する重合性基と、式（１）～（１２）の少なくとも１種からなる構造を有する構造であることが好ましい。特に、モノマーＭ２は、重合性基として（メタ）アクリレートを有するものであるものが好ましく、側鎖の末端が－ＣＯＯＨであるものが好ましい。
　モノマーＭ２の好ましい例としては、下記式（Ｍ２－１）～（Ｍ２－９）で表されるものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 （式中、ＰＧおよびｓ１は、上記と同じ意味を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 （式中、ＰＧおよびｓ１は、上記と同じ意味を表す。）
　また、光反応性および／または液晶性の発現能を損なわない範囲で、その他のモノマーを共重合することができる。その他のモノマーとしては、例えば工業的に入手できるラジカル重合反応可能なモノマーが挙げられる。その他のモノマーの具体例としては、不飽和カルボン酸、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、ビニル化合物等が挙げられる。
　不飽和カルボン酸の具体例としてはアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸等が挙げられる。
　アクリル酸エステル化合物の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、２，２，２－トリフルオロエチルアクリレート、ｔｅｒｔ－ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２－メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２－エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、３－メトキシブチルアクリレート、２－メチル－２－アダマンチルアクリレート、２－プロピル－２－アダマンチルアクリレート、８－メチル－８－トリシクロデシルアクリレート、８－エチル－８－トリシクロデシルアクリレート等が挙げられる。
　メタクリル酸エステル化合物の具体例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、２，２，２－トリフルオロエチルメタクリレート、ｔｅｒｔ－ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、２－メトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、２－エトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、３－メトキシブチルメタクリレート、２－メチル－２－アダマンチルメタクリレート、２－プロピル－２－アダマンチルメタクリレート、８－メチル－８－トリシクロデシルメタクリレート、８－エチル－８－トリシクロデシルメタクリレート等が挙げられる。
　ビニル化合物の具体例としては、ビニルエーテル、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル等が挙げられる。
　スチレン化合物の具体例としては、スチレン、４－メチルスチレン、４－クロロスチレン、４－ブロモスチレン等が挙げられる。
　マレイミド化合物の具体例としては、マレイミド、Ｎ－メチルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。
　上記側鎖型重合体において、側鎖ａおよび側鎖ｂの含有量は特に限定されるものではないが、光反応性の観点から、側鎖ａは、５～９９．９モル％が好ましく、１０～９５モル％がより好ましい。光反応性の観点から、側鎖ｂは、９５モル％以下が好ましい。
　本発明で用いる側鎖型重合体は、その他の側鎖を含んでいてもよい。その他の側鎖の含有量は、側鎖ａおよび側鎖ｂの含有量の合計が１００モル％に満たない場合に、その残りの部分である。
　上記側鎖型重合体の製造方法は、特に限定されるものではなく、工業的に扱われている汎用な方法が利用できる。具体的には、上述したモノマーＭ１、必要に応じてモノマーＭ２およびその他のモノマーのビニル基を利用したラジカル重合、カチオン重合またはアニオン重合により製造することができる。これらの中では、反応制御のしやすさ等の観点からラジカル重合が特に好ましい。
　ラジカル重合の重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤（ラジカル熱重合開始剤、ラジカル光重合開始剤）や、可逆的付加－開裂型連鎖移動（ＲＡＦＴ）重合試薬等の公知の化合物を使用することができる。
　ラジカル熱重合開始剤は、分解温度以上に加熱することにより、ラジカルを発生させる化合物である。このようなラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ケトンパーオキサイド類（メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等）、ジアシルパーオキサイド類（アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等）、ハイドロパーオキサイド類（過酸化水素、ｔｅｒｔ－ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等）、ジアルキルパーオキサイド類（ジ－ｔｅｒｔ－ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド等）、パーオキシケタール類（ジブチルパーオキシシクロヘキサン等）、アルキルパーエステル類（パーオキシネオデカン酸－ｔｅｒｔ－ブチルエステル、パーオキシピバリン酸－ｔｅｒｔ－ブチルエステル、パーオキシ２－エチルシクロヘキサン酸－ｔｅｒｔ－アミルエステル等）、過硫酸塩類（過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等）、アゾ系化合物（アゾビスイソブチロニトリル、２，２’－ジ（２－ヒドロキシエチル）アゾビスイソブチロニトリル等）等が挙げられる。ラジカル熱重合開始剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
　ラジカル光重合開始剤は、ラジカル重合を光照射によって開始する化合物であれば特に限定されない。このようなラジカル光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２－エチルアントラキノン、アセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－４’－イソプロピルプロピオフェノン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２－ジエトキシアセトフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン－１、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４’－ジ（ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４’－トリ（ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２－（４’－メトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（３’，４’－ジメトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（２’，４’－ジメトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（２’－メトキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４’－ペンチルオキシスチリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、４－［ｐ－Ｎ，Ｎ－ジ（エトキシカルボニルメチル）］－２，６－ジ（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、１，３－ビス（トリクロロメチル）－５－（２’－クロロフェニル）－ｓ－トリアジン、１，３－ビス（トリクロロメチル）－５－（４’－メトキシフェニル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２－（ｐ－ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール、３，３’－カルボニルビス（７－ジエチルアミノクマリン）、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス（４－エトキシカルボニルフェニル）－１，２’－ビイミダゾール、２，２’－ビス（２，４－ジクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール、２，２’ビス（２，４－ジブロモフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール、２，２’－ビス（２，４，６－トリクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール、３－（２－メチル－２－ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６－ビス（２－メチル－２－モルホリノプロピオニル）－９－ｎ－ドデシルカルバゾール、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（５－２，４－シクロペンタジエン－１－イル）－ビス（２，６－ジフルオロ－３－（１Ｈ－ピロール－１－イル）－フェニル）チタニウム、３，３’，４，４’－テトラ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－テトラ（ｔ－ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’－ジ（メトキシカルボニル）－４，４’－ジ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４’－ジ（メトキシカルボニル）－４，３’－ジ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’－ジ（メトキシカルボニル）－３，３’－ジ（ｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２－（３－メチル－３Ｈ－ベンゾチアゾール－２－イリデン）－１－ナフタレン－２－イル－エタノン、２－（３－メチル－１，３－ベンゾチアゾール－２（３Ｈ）－イリデン）－１－（２－ベンゾイル）エタノン等が挙げられる。ラジカル光重合開始剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
　ラジカル重合法としては、特に限定されるものではなく、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法、沈殿重合法、塊状重合法、溶液重合法等を用いることができる。
　重合反応に用いる有機溶媒としては、生成したポリマーが溶解するものであれば特に限定されない。その具体例としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、Ｎ－メチル－ε－カプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルホスホルアミド、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、ジペンテン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、３－メチル－３－メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、１，４－ジオキサン、ｎ－へキサン、ｎ－ペンタン、ｎ－オクタン、ジエチルエーテル、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸、３－メトキシプロピオン酸、３－メトキシプロピオン酸プロピル、３－メトキシプロピオン酸ブチル、ジグライム、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－エトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド等が挙げられる。これらの有機溶媒は、１種単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
　さらに、生成するポリマーを溶解させない溶媒であっても、生成したポリマーが析出しない範囲で、上述した有機溶媒に混合して使用してもよい。
　なお、ラジカル重合において有機溶媒中の酸素は重合反応を阻害する原因となるので、有機溶媒は可能な程度に脱気されたものを用いることが好ましい。
　ラジカル重合の際の重合温度は、３０～１５０℃の任意の温度を選択することができるが、好ましくは５０～１００℃の範囲である。また、反応は任意の濃度で行うことができるが、濃度が低すぎると高分子量の重合体を得ることが難しくなり、濃度が高すぎると反応液の粘性が高くなり過ぎて均一な撹拌が困難となるので、モノマー濃度は、好ましくは１～５０質量％、より好ましくは５～３０質量％である。反応初期は高濃度で行い、その後、有機溶媒を追加することができる。
　上述したラジカル重合反応においては、ラジカル重合開始剤の比率がモノマーに対して多いと得られる高分子の分子量が小さくなり、少ないと得られる高分子の分子量が大きくなるので、ラジカル開始剤の比率は重合させるモノマーに対して０．１～１０モル％であることが好ましい。また重合時には各種モノマー成分や溶媒、開始剤等を追加することもできる。
　上記反応により得られた反応溶液から生成したポリマーは、反応溶液を貧溶媒に投入して沈殿させて回収することができるが、この再沈殿処理は必須ではない。沈殿に用いる貧溶媒としては、メタノール、アセトン、ヘキサン、ヘプタン、ブチルセロソルブ、ヘプタン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エタノール、トルエン、ベンゼン、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、水等が挙げられる。貧溶媒に投入して沈殿させた重合体は、濾過して回収した後、常圧あるいは減圧下で、常温あるいは加熱して乾燥させることができる。また、回収した重合体を有機溶媒に再溶解させ、再沈殿回収する操作を２～１０回繰り返すと、重合体中の不純物を少なくすることができる。この際の貧溶媒として、例えば、アルコール類、ケトン類、炭化水素等が挙げられ、これらの中から選ばれる３種以上の貧溶媒を用いると、より一層精製の効率が上がるため好ましい。
　本発明で用いる側鎖型重合体は、得られる塗膜の強度、塗膜形成時の作業性および塗膜の均一性を考慮すると、ＧＰＣ（Ｇｅｌ　Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ　Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）法で測定した重量平均分子量は、２，０００～２，０００，０００が好ましく、２，０００～１，０００，０００がより好ましく、５，０００～２００，０００がより一層好ましい。
　本発明で用いる重合性組成物は、上述したような側鎖型重合体と、アミド結合を有する溶媒、ウレア結合を有する溶媒、スルホキシド結合を有する溶媒、環状エステル構造を有する溶媒および環状エーテル構造を有する溶媒（以下、これらを併せて特定溶媒ともいう。）から選ばれる少なくとも１種の溶媒とを含む。
　アミド結合を有する溶媒の具体例としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－ε－カプロラクタム、２－ピロリドン、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、Ｎ－ビニル－２－ピロリドン、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－エトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられる。
　スルホキシド結合を有する溶媒の具体例としては、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
　ウレア結合を有する溶媒の具体例としては、テトラメチル尿素、テトラエチル尿素等が挙げられる。
　環状エステル構造を有する溶媒の具体例としては、γ－ブチロラクトン等が挙げられる。
　環状エーテル構造を有する溶媒の具体例としては、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４－ジオキサン、モルホリン、テトラヒドロフルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアミン等が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
　また、上記重合体組成物は、側鎖型重合体および上記特定溶媒以外の成分を含んでもよい。その例としては、上記溶媒以外のその他の有機溶媒、膜厚均一性や表面平滑性を向上させる化合物、位相差材と基板との密着性を向上させる化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。
　その他の有機溶媒の具体例としては、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、３－メチル－３－メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、１－ヘキサノール、ｎ－へキサン、ｎ－ペンタン、ｎ－オクタン、ジエチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ－プロピル、乳酸ｎ－ブチル、乳酸イソアミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸、３－メトキシプロピオン酸、３－メトキシプロピオン酸プロピル、３－メトキシプロピオン酸ブチル、１－メトキシ－２－プロパノール、１－エトキシ－２－プロパノール、１－ブトキシ－２－プロパノール、１－フェノキシ－２－プロパノール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール－１－モノメチルエーテル－２－アセテート、プロピレングリコール－１－モノエチルエーテル－２－アセテート、ジプロピレングリコール、２－（２－エトキシプロポキシ）プロパノール、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等が挙げられる。
　その他の有機溶媒は、１種単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
　その他の有機溶媒を用いる場合、その使用量は、本発明の所望の効果が発揮される限り特に制限はないが、位相差値および複屈折の高い単層位相差材を得ることを考慮すると、全溶媒中５～８０質量％が好ましく、２０～６０質量％がより好ましい。
　なお、本発明で用いる重合性組成物に用いる溶媒は、上述のとおり特定溶媒を含むものであれば、その組成や各種溶媒の含有割合については特に制限はないが、全溶媒中に特定溶媒が３０質量％以上含まれることが好ましく、４０質量％以上含まれることがより好ましく、５０質量％以上含まれることがより一層好ましい。
　膜厚均一性や表面平滑性を向上させる化合物としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノ二オン系界面活性剤等が挙げられる。これらの具体例としては、エフトップ（登録商標）３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（トーケムプロダクツ社製）、メガファック（登録商標）Ｆ１７１、Ｆ１７３、Ｆ５６０、Ｆ５６３、Ｒ－３０、Ｒ－４０（ＤＩＣ社製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（スリーエム社製）、アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０（ＡＧＣ社製）、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（ＡＧＣセイミケミカル社製）等が挙げられる。これらの界面活性剤の含有量は、側鎖型重合体１００質量部に対し、０．０１～２質量部が好ましく、０．０１～１質量部がより好ましい。
　位相差材と基板との密着性を向上させる化合物の具体例としては、官能性シラン含有化合物等が挙げられ、その具体例としては、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、２－アミノプロピルトリメトキシシラン、２－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－エトキシカルボニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－エトキシカルボニル－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－３－トリエトキシシリルプロピルトリエチレンテトラミン、Ｎ－３－トリメトキシシリルプロピルトリエチレンテトラミン、１０－トリメトキシシリル－１，４，７－トリアザデカン、１０－トリエトキシシリル－１，４，７－トリアザデカン、９－トリメトキシシリル－３，６－ジアザノニルアセテート、９－トリエトキシシリル－３，６－ジアザノニルアセテート、Ｎ－ベンジル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－ベンジル－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
　さらに、基板と位相差材の密着性の向上に加え、偏光板を構成した時のバックライトによる特性の低下等を防ぐ目的で、フェノプラスト系化合物やエポキシ基含有化合物を、重合体組成物に添加してもよい。
　フェノプラスト系添加剤の具体例を以下に示すが、これらに限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
　エポキシ基含有化合物の具体例としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，３，５，６－テトラグリシジル－２，４－ヘキサンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラグリシジル－ｍ－キシリレンジアミン、１，３－ビス（Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラグリシジル－４，４’－ジアミノジフェニルメタン等が挙げられる。
　基板との密着性を向上させる化合物を使用する場合、その含有量は、重合体組成物に含まれる側鎖型重合体１００質量部に対し、０．１～３０質量部が好ましく、１～２０質量部がより好ましい。含有量が０．１質量部未満であると密着性向上の効果は期待できず、３０質量部よりも多くなると液晶の配向性が悪くなる場合がある。
　添加剤として、光増感剤を用いることもできる。光増感剤としては、無色増感剤および三重項増感剤が好ましい。
　光増感剤としては、芳香族ニトロ化合物、クマリン（７－ジエチルアミノ－４－メチルクマリン、７－ヒドロキシ４－メチルクマリン）、ケトクマリン、カルボニルビスクマリン、芳香族２－ヒドロキシケトン、芳香族２－ヒドロキシケトン（２－ヒドロキシベンゾフェノン、モノ－またはジ－ｐ－（ジメチルアミノ）－２－ヒドロキシベンゾフェノン等）、アセトフェノン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、ベンズアントロン、チアゾリン（２－ベンゾイルメチレン－３－メチル－β－ナフトチアゾリン、２－（β－ナフトイルメチレン）－３－メチルベンゾチアゾリン、２－（α－ナフトイルメチレン）－３－メチルベンゾチアゾリン、２－（４－ビフェノイルメチレン）－３－メチルベンゾチアゾリン、２－（β－ナフトイルメチレン）－３－メチル－β－ナフトチアゾリン、２－（４－ビフェノイルメチレン）－３－メチル－β－ナフトチアゾリン、２－（ｐ－フルオロベンゾイルメチレン）－３－メチル－β－ナフトチアゾリン等）、オキサゾリン（２－ベンゾイルメチレン－３－メチル－β－ナフトオキサゾリン、２－（β－ナフトイルメチレン）－３－メチルベンゾオキサゾリン、２－（α－ナフトイルメチレン）－３－メチルベンゾオキサゾリン、２－（４－ビフェノイルメチレン）－３－メチルベンゾオキサゾリン、２－（β－ナフトイルメチレン）－３－メチル－β－ナフトオキサゾリン、２－（４－ビフェノイルメチレン）－３－メチル－β－ナフトオキサゾリン、２－（ｐ－フルオロベンゾイルメチレン）－３－メチル－β－ナフトオキサゾリン等）、ベンゾチアゾール、ニトロアニリン（ｍ－またはｐ－ニトロアニリン、２，４，６－トリニトロアニリン等）、ニトロアセナフテン（５－ニトロアセナフテン等）、２－［（ｍ－ヒドロキシ－ｐ－メトキシ）スチリル］ベンゾチアゾール、ベンゾインアルキルエーテル、Ｎ－アルキル化フタロン、アセトフェノンケタール（２，２－ジメトキシフェニルエタノン等）、ナフタレン（２－ナフタレンメタノール、２－ナフタレンカルボン酸等）、アントラセン（９－アントラセンメタノール、９－アントラセンカルボン酸等）、ベンゾピラン、アゾインドリジン、メロクマリン等が挙げられる。これらのうち、好ましくは、芳香族２－ヒドロキシケトン（ベンゾフェノン）、クマリン、ケトクマリン、カルボニルビスクマリン、アセトフェノン、アントラキノン、キサントン、チオキサントンおよびアセトフェノンケタールである。
　上記重合体組成物には、上述したもののほか、本発明の効果が損なわれない範囲であれば、位相差材の誘電率や導電性等の電気特性を変化させる目的で、誘電体や導電物質、さらには、位相差材にした際の膜の硬度や緻密度を高める目的で、架橋性化合物を添加してもよい。
　上記重合体組成物は、単層位相差材の形成に好適となるように塗布液として調製されることが好ましい。すなわち、本発明に用いられる重合体組成物は、側鎖型重合体および上述した膜厚均一性や表面平滑性を向上させる化合物、液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物等が、特定溶媒を含む組成物を構成する溶媒に溶解した溶液として調製されることが好ましい。
　ここで、側鎖型重合体の含有量は、組成物中１～２０質量％が好ましく、３～１５質量％がより好ましく、３～１０質量％がより一層好ましい。
　なお、上記重合体組成物は、上述した側鎖型重合体以外に、液晶発現能および感光性能を損なわない範囲でその他の重合体が含まれていてもよい。
　その他の重合体としては、例えば、ポリ（メタ）アクリレートやポリアミック酸やポリイミド等の、液晶性を発現し得る感光性の側鎖型重合体ではない重合体等が挙げられる。
　全重合体成分中におけるその他の重合体の含有量は、０．５～８０質量％が好ましく、１～５０質量％がより好ましい。
［工程（ＩＩ）］
　工程（ＩＩ）では、アミド結合を有する溶媒、ウレア結合を有する溶媒、スルホキシド結合を有する溶媒および環状エーテル構造を有する溶媒から選ばれる少なくとも１種の溶媒を完全には蒸発させない態様で乾燥を行い、表面にタック性有する塗膜を形成する。
　加熱手段としては、ホットプレート、熱循環型オーブン、ＩＲ（赤外線）型オーブン等の加熱手段を用いることができる。
　加熱温度は、上記溶媒を完全には蒸発させないという点から、２００℃以下が好ましく、３０～１５０℃がより好ましく、３５～１００℃がより一層好ましく、４０～７０℃がさらに好ましく、４０～６５℃が特に好ましい。
　加熱時間は、加熱温度との兼ね合いで決定されるものであるため、一概には規定できないが、上記温度範囲であれば、３０分以下が好ましく、１５分以下がより好ましく、１０分以下がより一層好ましく、５分以下がさらに好ましい。
　上述したとおり、工程（ＩＩ）で作製した塗膜は、従来法のように、溶媒が蒸発した表面タック性のない塗膜ではなく、表面にベタつき（タック性）を有する塗膜であり、この塗膜を次工程に用いることが本発明の特徴の１つである。
［工程（ＩＩＩ）］
　工程（ＩＩＩ）では、工程（ＩＩ）で得られた表面にタック性のある塗膜に偏光紫外線を照射する。塗膜の膜面に偏光した紫外線を照射する場合、基板に対して一定の方向から偏光板を介して偏光紫外線を照射する。
　上記紫外線としては、波長１００～４００ｎｍの範囲の紫外線を使用することができる。好ましくは、使用する塗膜の種類によりフィルター等を介して最適な波長を選択する。そして、例えば、選択的に光架橋反応を誘起できるように、波長２９０～４００ｎｍの範囲の紫外線を選択して使用することができる。紫外線としては、例えば、高圧水銀灯から放射される光を用いることができる。
　偏光した紫外線の照射量は、使用する塗膜に依存する。すなわち、照射量は、塗膜における、偏光した紫外線の偏光方向と平行な方向の紫外線吸光度と垂直な方向の紫外線吸光度との差であるΔＡの最大値を実現する偏光紫外線の量の１～７０％の範囲内とすることが好ましく、１～５０％の範囲内とすることがより好ましい。
［工程（ＩＶ）］
　本発明の製造方法では、工程（ＩＩＩ）で偏光紫外線を照射された塗膜を加熱する工程（ＩＶ）を備えていてもよい。加熱により、塗膜に配向制御能を付与することができる。
　加熱手段としては、ホットプレート、熱循環型オーブン、ＩＲ（赤外線）型オーブン等のを用いることができる。
　加熱温度は、使用する塗膜の液晶性を発現させる温度を考慮して決めることができ、使用する重合性組成物に含まれる側鎖型重合体が液晶性を発現する温度（以下、液晶発現温度という。）の温度範囲内であることが好ましい。
　塗膜のような薄膜表面の場合、塗膜表面の液晶発現温度は、側鎖型重合体をバルクで観察した場合の液晶発現温度よりも低いことが予想される。このため、加熱温度は、塗膜表面の液晶発現温度の温度範囲内がより好ましい。すなわち、偏光紫外線照射後の加熱温度の温度範囲は、側鎖型重合体の液晶発現温度の温度範囲の下限より１０℃低い温度を下限とし、その液晶温度範囲の上限より１０℃低い温度を上限とする範囲の温度が好ましい。加熱温度が、上記温度範囲よりも低いと、塗膜における熱による異方性の増幅効果が不十分となる傾向があり、また加熱温度が、上記温度範囲よりも高すぎると、塗膜の状態が等方性の液体状態（等方相）に近くなる傾向があり、この場合、自己組織化によって一方向に再配向することが困難になることがある。
　なお、液晶発現温度は、重合体または塗膜表面が固体相から液晶相に相転移が起きる液晶転移温度以上であって、液晶相からアイソトロピック相（等方相）に相転移を起こすアイソトロピック相転移温度（Ｔｉｓｏ）以下の温度をいう。例えば、１３０℃以下で液晶性を発現するとは、固体相から液晶相に相転移が起きる液晶転移温度が１３０℃以下であることを意味する。
　本発明の製造方法で作製される単層位相差材の厚みは、使用する基板の段差や光学的、電気的性質を考慮して適宜選択することができ、例えば、０．５～１０μｍが好適であるが、偏光紫外線照射時の塗膜厚みで２．５μｍ以上、特に３．０μｍ以上の膜厚が好適である。
　以上説明した製法で得られた単層位相差材は、表示装置や記録材料等の用途に好適な光学特性を有する材料であり、特に、液晶ディスプレイ用の偏光板および位相差板等の光学補償フィルムとして好適である。
　以下、合成例、製造例、実施例および比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されない。
　実施例で使用した光反応性基を有するモノマーとしてＭ１を、液晶性基を有するモノマーとしてＭ２を以下に示す。Ｍ１は、国際公開第２０１１／０８４５４６号に記載された合成法に従って合成した。Ｍ２は、特開平９－１１８７１７号公報に記載された合成法に従って合成した。なお、Ｍ１に由来する側鎖は光反応性および液晶性を発現し、Ｍ２に由来する側鎖は液晶性のみを発現する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
　その他、本実施例で用いた試薬の略号を以下に示す。
（有機溶媒）
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＴＨＦＡ：テトラヒドロフルフリルアルコール
ＮＭＰ：Ｎ－メチル－２－ピロリドン
ＮＥＰ：Ｎ－エチル－２－ピロリドン
ＤＭＩ：１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド
ＴＭＵ：テトラメチル尿素
ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド
ＤＭＡｃ：Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド
ＣＰＮ：シクロペンタノン
ＤＥＤＧ：ジエチレングリコールジエチルエーテル
ＢＣ：ブチルセロソルブ
（重合開始剤）
ＡＩＢＮ：２，２’－アゾビスイソブチロニトリル
（界面活性剤）
Ｒ４０：メガファックＲ－４０（ＤＩＣ社製）
（シランカップリング剤）
Ｓ－１：３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（ＬＳ－４６６８、信越化学工業社製）
［１］メタクリレートポリマー粉末の合成
［合成例１］
　Ｍ１（１３．３ｇ，０．０４ｍｏｌ）およびＭ２（１８．４ｇ，０．０６ｍｏｌ）をＴＨＦ（１３１．２ｇ）中に溶解させ、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、ＡＩＢＮ（０．４９ｇ，０．００３ｍｏｌ）を加え、再び脱気を行った。この後、６０℃で８時間反応させ、メタクリレートポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノール（１，０００ｍＬ）に滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、減圧乾燥することで、メタクリレートポリマー粉末Ｐ１を得た。
［２］ポリマー溶液の調製
［製造例１］
　ＮＭＰ（９．０ｇ）にメタクリレートポリマー粉末Ｐ１（３．０ｇ）を加え、室温で１時間撹拌して溶解させた。この溶液に、ＢＣ（３．０ｇ）、Ｒ４０（０．００１５ｇ）およびＳ－１（０．０３ｇ）を加え、撹拌することにより、ポリマー溶液Ｔ１を得た。このポリマー溶液Ｔ１は、そのまま位相差膜を形成するための位相差材とした。
［製造例２～１１］
　溶媒として、ＮＭＰの代わりに表１に記載の各種溶媒を用いた以外は、製造例１と同様の方法で、ポリマー溶液Ｔ２～Ｔ１１を得た。このポリマー溶液は、そのまま位相差膜を形成するための位相差材とした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
［３］単層位相差材の製造
［実施例１］
　ポリマー溶液Ｔ１を孔径０．４５μｍのフィルターで濾過した後、無アルカリガラス基板上にスピンコートし、６０℃のホットプレート上で４分間乾燥し、膜厚２．０μｍの位相差膜を形成した。この位相差膜中には有機溶媒が残存し、表面にタック性を有するものであった。次いで、偏光板を介して波長３６５ｎｍの紫外線を、表２に示されるように、１００、２００、４００、６００、８００、１０００ｍＪ／ｃｍ2で塗膜面に照射した後に、１４０℃の循環式オーブンで２０分間加熱し、位相差膜付きの基板Ｓ１を作製した。
［実施例２～９］
　ポリマー溶液Ｔ１の代わりにポリマー溶液Ｔ２～Ｔ８およびＴ１１を用いた以外は、実施例１と同様にして、位相差膜付きの基板Ｓ２～Ｓ８およびＳ１１を作製した。
［比較例１，２］
　ポリマー溶液Ｔ１の代わりにポリマー溶液Ｔ９、Ｔ１０を用いた以外は、実施例１と同様にして、位相差膜付きの基板Ｓ９およびＳ１０を作製した。
　上記各実施例および比較例で作製した各基板Ｓ１～Ｓ１１について、位相差値およびΔｎ値について、下記手法により評価した。
（１）位相差評価
　Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製のＡｘｏＳｃａｎを用いて波長５５０ｎｍにおける位相差値を評価した。結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
（２）Δｎ値評価
　（１）の値を膜厚で割ることにより、波長５５０ｎｍにおける配向度（Δｎ）を算出した。結果を表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000037

Claims (10)

  1. 　（Ｉ）紫外線で光二量化または光異性化する光反応性部位を側鎖に有する重合体と、アミド結合を有する溶媒、ウレア結合を有する溶媒、スルホキシド結合を有する溶媒、環状エステル構造を有する溶媒および環状エーテル構造を有する溶媒から選ばれる少なくとも１種の溶媒とを含む重合体組成物を基板上に塗布する塗布工程、
    （ＩＩ）前記溶媒を完全には蒸発させない態様で乾燥を行い、表面にタック性を有する塗膜を形成する仮乾燥工程、および
    （ＩＩＩ）前記タック性を有する塗膜に、偏光紫外線を照射する照射工程、を含むことを特徴とする単層位相差材の製造方法。
  2. 　（ＩＶ）前記偏光紫外線を照射した塗膜を加熱する工程を含む請求項１記載の単層位相差材の製造方法。
  3. 　前記タック性を有する塗膜の膜厚が、０．５μｍ以上である請求項１または２記載の単層位相差材の製造方法。
  4. 　前記重合体が、下記式（ａ１）～（ａ３）で表されるいずれかの光反応性部位を有する側鎖を有する請求項１～３のいずれか１項記載の単層位相差材の製造方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、Ａ1、Ａ2およびＤは、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ2－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、または－ＮＨ－ＣＯ－を表し、
    　Ｌは、炭素数１～１２のアルキレン基を表し、このアルキレン基の水素原子はそれぞれ独立にハロゲン原子に置き換えられていてもよく、
    　Ｔは、単結合または炭素数１～１２のアルキレン基を表し、このアルキレン基の水素原子はハロゲン原子に置き換えられていてもよく、
    　Ｔが単結合であるときはＡ2も単結合を表し、
    　Ｙ1は、２価のベンゼン環を表し、
    　Ｐ1、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、単結合、ベンゼン環および炭素数５～８の脂環式炭化水素環からなる群から選ばれる基を表し、
    　Ｒは、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキルカルボニル基、炭素数３～７のシクロアルキル基、または炭素数１～５のアルキルオキシ基を表し、
    　Ｙ1、Ｐ1、Ｑ1およびＱ2において、ベンゼン環に結合する水素原子は、それぞれ独立に、シアノ基、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキルカルボニル基、または炭素数１～５のアルキルオキシ基で置換されていてもよく、
    　Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－を表し、
    　ｎ１およびｎ２は、それぞれ独立に０、１または２であり、
    　Ｘ1の数が２となるときは、Ｘ1同士は同一でも異なっていてもよく、Ｘ2の数が２となるときは、Ｘ2同士は同一でも異なっていてもよく、
    　Ｑ1の数が２となるときは、Ｑ1同士は同一でも異なっていてもよく、Ｑ2の数が２となるときは、Ｑ2同士は同一でも異なっていてもよく、破線は、結合手を表す。）
  5. 　前記重合体が、さらに光配向性を示さない側鎖を有する請求項４記載の単層位相差材の製造方法。
  6. 　前記光配向性を示さない側鎖が下記式（１）～（１２）からなる群から選ばれるいずれか１種の側鎖である請求項５記載の単層位相差材の製造方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （式（１）～（１２）中、Ａ3およびＡ4は、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ2－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、または－ＮＨＣ（＝Ｏ）－を表し、Ｒ11は、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価窒素含有複素環基、炭素数５～８の１価脂環式炭化水素基、炭素数１～１２のアルキル基、または炭素数１～１２のアルコキシ基を表し、Ｒ12は、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価窒素含有複素環基、炭素数５～８の１価脂環式炭化水素基、およびこれらを組み合わせて得られる基からなる群から選ばれる基を表し、これらに結合する水素原子が、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、または炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく、Ｒ13は、水素原子、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価窒素含有複素環基、炭素数５～８の１価脂環式炭化水素基、炭素数１～１２のアルキル基、または炭素数１～１２のアルコキシ基を表し、Ｅは、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、または－ＯＣ（＝Ｏ）－を表し、ｄは、１～１２の整数を表し、ｋ１～ｋ５は、それぞれ独立して、０～２の整数であるが、ｋ１～ｋ５の合計は２以上であり、ｋ６およびｋ７は、それぞれ独立して、０～２の整数であるが、ｋ６およびｋ７の合計は１以上であり、ｍ１、ｍ２およびｍ３は、それぞれ独立して、１～３の整数であり、ｎは、０または１であり、Ｚ1およびＺ2は、それぞれ独立して、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＨ2Ｏ－、または－ＣＦ2－を表す。破線は結合手を表す。）
  7. 　前記光反応性部位を有する側鎖が、下記式（ａ１－１）～（ａ３－１）で表されるいずれかの基である請求項４～６のいずれか１項記載の単層位相差材の製造方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     （式中、Ａ2、Ｌ、Ｔ、Ｙ1、Ｐ1、Ｑ1、Ｒおよび破線は、前記と同じ意味を表す。）
  8. 　紫外線で光二量化または光異性化する光反応性部位を側鎖に有する重合体と、アミド結合を有する溶媒、ウレア結合を有する溶媒、スルホキシド結合を有する溶媒、環状エステル構造を有する溶媒および環状エーテル構造を有する溶媒から選ばれる少なくとも１種の溶媒とを含み、
    　前記重合体が、下記式（ａ１）～（ａ３）で表されるいずれかの光反応性部位を有する側鎖を有することを特徴とする単層位相差材用重合体組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     （式中、Ａ1、Ａ2およびＤは、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ2－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、または－ＮＨ－ＣＯ－を表し、
    　Ｌは、炭素数１～１２のアルキレン基を表し、このアルキレン基の水素原子はそれぞれ独立にハロゲン原子に置き換えられていてもよく、
    　Ｔは、単結合または炭素数１～１２のアルキレン基を表し、このアルキレン基の水素原子はハロゲン原子に置き換えられていてもよく、
    　Ｔが単結合であるときはＡ2も単結合を表し、
    　Ｙ1は、２価のベンゼン環を表し、
    　Ｐ1、Ｑ1およびＱ2は、それぞれ独立に、単結合、ベンゼン環および炭素数５～８の脂環式炭化水素環からなる群から選ばれる基を表し、
    　Ｒは、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキルカルボニル基、炭素数３～７のシクロアルキル基、または炭素数１～５のアルキルオキシ基を表し、
    　Ｙ1、Ｐ1、Ｑ1およびＱ2において、ベンゼン環に結合する水素原子は、それぞれ独立に、シアノ基、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキルカルボニル基、または炭素数１～５のアルキルオキシ基で置換されていてもよく、
    　Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＯＯ－または－ＯＣＯ－を表し、
    　ｎ１およびｎ２は、それぞれ独立に０、１または２であり、
    　Ｘ1の数が２となるときは、Ｘ1同士は同一でも異なっていてもよく、Ｘ2の数が２となるときは、Ｘ2同士は同一でも異なっていてもよく、
    　Ｑ1の数が２となるときは、Ｑ1同士は同一でも異なっていてもよく、Ｑ2の数が２となるときは、Ｑ2同士は同一でも異なっていてもよく、破線は、結合手を表す。）
  9. 　前記重合体が、さらに光配向性を示さない側鎖を有する請求項８記載の単層位相差材用重合体組成物。
  10. 　前記光配向性を示さない側鎖が下記式（１）～（１２）からなる群から選ばれるいずれか１種の側鎖である請求項９記載の単層位相差材用重合体組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     （式（１）～（１２）中、Ａ3およびＡ4は、それぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ2－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、または－ＮＨＣ（＝Ｏ）－を表し、Ｒ11は、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価窒素含有複素環基、炭素数５～８の１価脂環式炭化水素基、炭素数１～１２のアルキル基、または炭素数１～１２のアルコキシ基を表し、Ｒ12は、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価窒素含有複素環基、炭素数５～８の１価脂環式炭化水素基、およびこれらを組み合わせて得られる基からなる群から選ばれる基を表し、これらに結合する水素原子が、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、または炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく、Ｒ13は、水素原子、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価窒素含有複素環基、炭素数５～８の１価脂環式炭化水素基、炭素数１～１２のアルキル基、または炭素数１～１２のアルコキシ基を表し、Ｅは、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、または－ＯＣ（＝Ｏ）－を表し、ｄは、１～１２の整数を表し、ｋ１～ｋ５は、それぞれ独立して、０～２の整数であるが、ｋ１～ｋ５の合計は２以上であり、ｋ６およびｋ７は、それぞれ独立して、０～２の整数であるが、ｋ６およびｋ７の合計は１以上であり、ｍ１、ｍ２およびｍ３は、それぞれ独立して、１～３の整数であり、ｎは、０または１であり、Ｚ1およびＺ2は、それぞれ独立して、単結合、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＨ2Ｏ－、または－ＣＦ2－を表す。破線は結合手を表す。）
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024038887A1 (ja) * 2022-08-18 2024-02-22 日産化学株式会社 重合体組成物及び単層位相差材

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008276149A (ja) * 2007-04-27 2008-11-13 Hayashi Telempu Co Ltd 高分子フィルム、分子配向素子の作製方法、および液晶配向膜
WO2018043529A1 (ja) * 2016-08-31 2018-03-08 日産化学工業株式会社 水蒸気バリア性を有する位相差膜及びその製造方法
WO2020026632A1 (ja) * 2018-08-02 2020-02-06 林テレンプ株式会社 位相差フィルムおよびその製造方法
WO2020170874A1 (ja) * 2019-02-22 2020-08-27 林テレンプ株式会社 光学積層体およびその製造方法
WO2020203628A1 (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 日産化学株式会社 重合体組成物及び単層位相差材
WO2020203631A1 (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 日産化学株式会社 重合体組成物及び単層位相差材

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008276149A (ja) * 2007-04-27 2008-11-13 Hayashi Telempu Co Ltd 高分子フィルム、分子配向素子の作製方法、および液晶配向膜
WO2018043529A1 (ja) * 2016-08-31 2018-03-08 日産化学工業株式会社 水蒸気バリア性を有する位相差膜及びその製造方法
WO2020026632A1 (ja) * 2018-08-02 2020-02-06 林テレンプ株式会社 位相差フィルムおよびその製造方法
WO2020170874A1 (ja) * 2019-02-22 2020-08-27 林テレンプ株式会社 光学積層体およびその製造方法
WO2020203628A1 (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 日産化学株式会社 重合体組成物及び単層位相差材
WO2020203631A1 (ja) * 2019-03-29 2020-10-08 日産化学株式会社 重合体組成物及び単層位相差材

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024038887A1 (ja) * 2022-08-18 2024-02-22 日産化学株式会社 重合体組成物及び単層位相差材

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