WO2021172504A1 - ガス検出システム、及びガス検出システムの制御方法 - Google Patents

ガス検出システム、及びガス検出システムの制御方法 Download PDF

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WO2021172504A1
WO2021172504A1 PCT/JP2021/007298 JP2021007298W WO2021172504A1 WO 2021172504 A1 WO2021172504 A1 WO 2021172504A1 JP 2021007298 W JP2021007298 W JP 2021007298W WO 2021172504 A1 WO2021172504 A1 WO 2021172504A1
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filter
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厚夫 中尾
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パナソニックＩｐマネジメント株式会社
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    • G01N5/00—Analysing materials by weighing, e.g. weighing small particles separated from a gas or liquid
    • G01N5/02—Analysing materials by weighing, e.g. weighing small particles separated from a gas or liquid by absorbing or adsorbing components of a material and determining change of weight of the adsorbent, e.g. determining moisture content

Definitions

  • This disclosure relates to a gas detection system and a control method for the gas detection system. More specifically, the present disclosure relates to a gas detection system that detects a molecule to be detected in a sample gas, and a control method of the gas detection system.
  • Patent Document 1 is a gas detection device that alternately introduces a reference gas (reference gas) and an inspection gas (sample gas) into a sensor in a housing to detect a specific component (molecule to be detected) in the inspection gas. (Gas detection system) will be disclosed.
  • a reference gas is generated by passing the inspection gas through a purification means (filter unit) and purifying the inspection gas, and the generated reference gas is supplied to the sensor.
  • the purification means deodorizes or dehydrates the inspection gas, but if the gas detection system is used for a long period of time, the ability of the purification means to deodorize or dehydrate may decrease. As a result, the concentration of a specific component in the reference gas may vary.
  • An object of the present disclosure is to provide a gas detection system capable of suppressing deterioration of a filter unit, and a control method for the gas detection system.
  • the gas detection system of one aspect of the present disclosure includes a reference gas inlet, a gas sensor, and a filter unit.
  • a reference gas as a reference for the concentration of the molecule to be detected in the sample gas is introduced into the reference gas inlet.
  • the gas sensor detects the molecule to be detected.
  • the filter unit is arranged in the reference gas supply path.
  • the reference gas supply path connects the reference gas introduction port and the sensor chamber accommodating the gas sensor.
  • the filter unit includes at least a first filter that reduces the molecules to be detected in the reference gas and a second filter that reduces the water content in the reference gas.
  • the first filter and the second filter each have a separation membrane containing a hollow fiber.
  • the control method of the gas detection system of one aspect of the present disclosure includes a reference gas supply process.
  • the reference gas as a reference for the concentration of the molecule to be detected in the sample gas is supplied to the sensor chamber accommodating the gas sensor through the filter unit.
  • the filter unit includes at least a first filter that reduces the molecules to be detected in the reference gas and a second filter that reduces the water content in the reference gas.
  • the first filter and the second filter each have a separation membrane containing a hollow fiber.
  • FIG. 1 is a schematic system configuration diagram of a gas detection system according to an embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 2 is a flowchart illustrating the detection operation of the gas detection system of the above.
  • FIG. 3 is a flowchart illustrating the hibernation operation of the gas detection system of the above.
  • FIG. 4 is a schematic system configuration diagram showing a modification 1 of the gas detection system of the above.
  • FIG. 5 is a schematic system configuration diagram showing a modification 2 of the gas detection system of the above.
  • FIG. 6 is a schematic system configuration diagram showing a modification 3 of the gas detection system of the above.
  • FIG. 7 is a schematic system configuration diagram showing a modification 4 of the gas detection system of the above.
  • FIG. 1 is a schematic system configuration diagram of a gas detection system according to an embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 2 is a flowchart illustrating the detection operation of the gas detection system of the above.
  • FIG. 3 is a flowchart illustrating the hibernation operation of
  • FIG. 8 is a schematic system configuration diagram showing a modification 5 of the gas detection system of the above.
  • FIG. 9 is a schematic system configuration diagram showing a modification 6 of the gas detection system of the above.
  • FIG. 10 is a schematic system configuration diagram showing a modification 7 of the gas detection system of the above.
  • FIG. 1 is a schematic system configuration diagram of the gas detection system 1 according to the present embodiment.
  • the gas detection system 1 of the present embodiment is used, for example, to detect a molecule of an odor component as a molecule to be detected.
  • the molecule of the odor component include volatile organic compounds (VOC: Volatile Organic Compounds) and ammonia
  • VOC volatile organic compounds
  • the gas detection system 1 of the present embodiment detects VOC, which is a molecule of an odor component contained in a sample gas such as a gas collected from food, an exhaled breath collected from a human body, or air collected from a room of a building. ..
  • the molecule to be detected by the gas detection system 1 is not limited to VOC, and may be a molecule of a plurality of types of odor components including VOC, or a molecule other than the odor component, for example, a flammable gas, carbon monoxide, or the like. Molecules such as poisonous gas may be used.
  • the gas detection system 1 of the present embodiment includes a reference gas introduction port (second intake port P2), a gas sensor 11, and a filter unit 20.
  • the reference gas G2 which is used as a reference for the concentration of the molecule to be detected in the sample gas G1, is introduced into the reference gas inlet.
  • the gas sensor 11 detects the molecule to be detected.
  • the filter unit 20 is arranged in the reference gas supply path R2.
  • the reference gas supply path R2 connects the reference gas introduction port and the sensor chamber 100 accommodating the gas sensor 11.
  • the filter unit 20 includes at least a first filter 30 that reduces molecules (for example, VOCs) to be detected in the reference gas G2, and a second filter 40 that reduces the water content in the reference gas G2.
  • the first filter 30 and the second filter 40 have separation membranes 33 and 43 containing hollow fibers, respectively.
  • control method of the gas detection system 1 of the present embodiment includes a reference gas supply process.
  • the reference gas G2 which is a reference for the concentration of the molecule to be detected in the sample gas G1
  • the reference gas G2 is supplied to the sensor chamber 100 accommodating the gas sensor 11 through the filter unit 20 described above.
  • the filter element When a filter using a filter material such as activated carbon is connected to the reference gas supply path R2, the filter element may adsorb odor molecules after long-term use, which may reduce the filter performance.
  • the first filter 30 and the second filter 40 are provided with the separation films 33 and 43 containing the hollow fibers, respectively, there is an advantage that deterioration of the filter portion 20 can be suppressed. There is.
  • the gas detection system 1 of the present embodiment further includes a reference gas introduction port (second intake port P2), a gas sensor 11, a filter unit 20, and a blocking unit CB1.
  • the cutoff unit CB1 shuts off the filter unit 20 from the outside air in a hibernation state in which the detection operation by the gas sensor 11 is stopped.
  • control method of the gas detection system 1 of the present embodiment further includes a shutoff process.
  • the filter unit 20 is shut off from the outside air in a hibernation state in which the detection operation by the gas sensor 11 is stopped.
  • the blocking unit CB1 blocks the filter unit 20 from the outside air in the hibernation state, it becomes difficult for the outside air to come into contact with the filter unit 20, and deterioration of the filter unit 20 can be suppressed.
  • the quality of the reference gas G2 after passing through the filter unit 20 is stabilized, so that the variation in the detection result of the sample gas G1 can be reduced.
  • the gas detection system 1 of the present embodiment includes a reference gas introduction port (second intake port P2), a gas sensor 11, and a filter unit 20. Further, the gas detection system 1 further includes a water content measuring unit 12, a control unit 51, and a blocking unit CB1.
  • the gas detection system 1 has a first intake port P1 for introducing the sample gas G1 from the outside of the gas detection system 1 and a second intake port P2 for introducing the sample gas G1 from the outside of the gas detection system 1 as a reference gas G2. (Reference gas introduction port described above) and a gas discharge port P3 for discharging the gas inside the gas detection system 1 to the outside are provided.
  • the air in the environment around the gas detection system 1 is used as the reference gas G2.
  • the gas detection system 1 has an air pump 90, and the air pump 90 sucks gas from the first intake port P1 or the second intake port P2, so that the gas sucked from the first intake port P1 or the second intake port P2. Is supplied to the gas sensor 11, and then discharged to the outside from the gas discharge port P3.
  • the gas detection system 1 further includes a processing unit 50.
  • the processing unit 50 includes, for example, a microcontroller.
  • the processing unit 50 has at least the functions of the control unit 51 and the detection unit 52 described above.
  • the control unit 51 controls the operations of a plurality of solenoid valves (two-way solenoid valves 73, three-way solenoid valves 75, 78, electromagnetic proportional control valves 76, etc.) included in the gas detection system 1 and an air pump 90.
  • the control unit 51 has functions such as an idling control unit 511 and a water content control unit 512.
  • the idling control unit 511 controls the gas detection system 1 so as to perform an idling operation of supplying the reference gas G2 to the gas sensor 11 with the blocking unit CB1 in the non-blocking state in the hibernation state in which the detection operation by the gas sensor 11 is stopped. Further, the water content control unit 512 performs a water content adjustment process for adjusting the water content contained in the reference gas G2 supplied to the gas sensor 11 through the filter unit 20 based on the measurement result of the water content measurement unit 12. To execute.
  • the detection unit 52 detects the molecule to be detected in the gas (VOC in this embodiment) based on the output value of the gas sensor 11, and detects the water content in the gas based on the output value of the water content measuring unit 12. .
  • the gas detection system 1 includes a housing 10 having a sensor chamber 100 for accommodating the gas sensor 11 and the water content measuring unit 12.
  • the gas sensor 11 has a sensing unit such as an electrochemical type, a semiconductor type, a field effect transistor type, a surface acoustic wave type, a crystal oscillator type, or a resistance change type.
  • the sensing unit has sensitivity to the molecule to be detected (VOC in this embodiment), and for example, the resistance value changes according to the concentration of the molecule to be detected.
  • the detection unit 52 takes out the resistance value of the sensing unit of the gas sensor 11 as a voltage signal or a current signal, and detects the molecule to be detected in the gas in the sensor chamber 100 based on the resistance value of the sensing unit.
  • the water content measuring unit 12 measures the water content in the gas in the sensor chamber 100.
  • the amount of water in the gas can be determined by measuring the temperature and humidity of the gas.
  • the water content measuring unit 12 of the present embodiment includes a temperature / humidity sensor, and measures the temperature and humidity of the gas in the sensor chamber 100. Then, the water content measuring unit 12 obtains the water content in the gas based on the measurement results of the temperature and humidity, and outputs the water content measurement result to the detection unit 52. In a state where the reference gas G2 is supplied into the sensor chamber 100, the water content measuring unit 12 measures the water content contained in the reference gas G2 after passing through the filter unit 20.
  • the water content contained in the reference gas G2 after passing through the filter unit 20 is measured.
  • the reference gas G2 is set to the reference gas G2 based on the measurement results of the temperature and humidity of the reference gas G2. The amount of water contained is measured.
  • the housing 10 is made of a material such as synthetic resin or metal in a box shape.
  • the housing 10 has a first port 101 for introducing gas (sample gas G1 or reference gas G2) into the sensor chamber 100 from the outside of the housing 10, and a first port 101 for discharging gas from the sensor chamber 100 to the outside of the housing 10.
  • the first intake port P1 is connected to the input port of the particle filter 71 via the pipe 61a, and the output port of the particle filter 71 is connected to the first input port P11 of the three-way solenoid valve 75 via the pipe 61b.
  • a syringe or a collection bag containing the sample gas G1 may be connected to the first intake port P1, or the source of the sample gas G1 may be brought close to the first intake port P1.
  • the sample gas G1 introduced into the first intake port P1 is introduced into the first input port P11 of the three-way solenoid valve 75 after dust and the like having a relatively large particle size are removed by the particle filter 71.
  • the second intake port P2 is connected to the input port of the particle filter 72 via the pipe 62a, and the output port of the particle filter 72 is connected to the input port of the two-way solenoid valve 73 via the pipe 62b.
  • the output port of the two-way solenoid valve 73 is connected to the filter unit 20 via the pipe 62c.
  • the filter unit 20 is provided to reduce the components to be removed in the reference gas G2 input from the second intake port P2.
  • the filter unit 20 includes a plurality of types of target-specific filters that reduce components to be removed that are different from each other. Since the filter unit 20 includes a plurality of types of target-specific filters, a plurality of types of target-specific components can be reduced by the plurality of types of target-specific filters.
  • the filter unit 20 removes, for example, VOC, which is a molecule to be detected by the gas sensor 11, and water, which affects the measurement result of the gas sensor 11. That is, the filter unit 20 has, as a plurality of types of object-specific filters, a first filter 30 that reduces molecules to be detected in the reference gas G2 (VOC in this embodiment), and a first filter that reduces the water content in the reference gas G2. Includes 2 filters 40 and.
  • the filter unit 20 includes a plurality of target-specific filters to remove a plurality of types of components to be removed (VOC and moisture in the present embodiment). Can be reduced.
  • the target-specific filter included in the filter unit 20 is not limited to the first filter 30 that reduces VOC and the second filter 40 that reduces water content.
  • the filter unit 20 may include a target-specific filter that reduces removal target components (for example, ammonia, hydrogen sulfide, oxygen, carbon dioxide, nitrogen, etc.) other than VOC and water.
  • the first filter 30 and the second filter 40 have separation membranes 33 and 43 containing hollow fibers, respectively.
  • the first filter 30 has a first passing portion 31 through which the gas flowing from the second intake port P2 toward the sensor chamber 100 passes, and a second passing portion 32 through which the gas flowing from the sensor chamber 100 toward the gas discharge port P3 passes. It has a so-called purge line). Then, inside the first filter 30, a separation membrane 33 is arranged between the first passing portion 31 and the second passing portion 32.
  • the first filter 30 for reducing VOC has, for example, a separation membrane 33 formed of a hollow fiber made of a silicone-based synthetic resin.
  • the second filter 40 has a first passage 41 through which the gas flowing from the second intake port P2 toward the sensor chamber 100 passes and a second passage through which the gas flowing from the sensor chamber 100 toward the gas discharge port P3 passes. It has a part 42 (so-called purge line). Then, inside the second filter 40, a separation membrane 43 is arranged between the first passing portion 41 and the second passing portion 42.
  • the second filter 40 has, for example, a separation membrane 43 formed of hollow fibers made of a fluorine-based synthetic resin.
  • One end of the first passing portion 31 of the first filter 30 is connected to the output port of the two-way solenoid valve 73 via the pipe 62c, and the other end of the first passing portion 31 is connected to the output port of the two-way solenoid valve 73 via the pipe 62d. 1 It is connected to one end of the passing portion 41.
  • the other end of the first passing portion 41 of the second filter 40 is connected to the input port of the check valve 74 via the pipe 62e, and the output port of the check valve 74 is connected to the input port of the check valve 74 via the pipe 62f. 2 It is connected to the input port P12.
  • the output port P13 of the three-way solenoid valve 75 is connected to the first port 101 of the housing 10 via the pipe 63.
  • the first filter 30 is located closer to the reference gas introduction port with respect to the second filter 40.
  • the first filter 30 and the second filter 40 are arranged. Therefore, the reference gas G2 after the molecules to be detected have been reduced by the first filter 30 can be passed through the second filter 40.
  • the second port 102 of the housing 10 is connected to the input port of the electromagnetic proportional control valve 76 via the pipe 64a, and the output port of the electromagnetic proportional control valve 76 is connected to the input port of the check valve 77 via the pipe 64b.
  • the electromagnetic proportional control valve 76 is a variable orifice in which the throttle amount can be adjusted, and the throttle amount of the electromagnetic proportional control valve 76 is controlled by an electric signal (for example, a current signal) input from the control unit 51.
  • the output port of the check valve 77 is connected to the input port P23 of the three-way solenoid valve 78 via the pipe 64c.
  • the first output port P21 of the three-way solenoid valve 78 is connected to one end of the second passing portion 42 of the second filter 40 via the pipe 65a.
  • the other end of the second passing portion 42 of the second filter 40 is connected to one end of the second passing portion 32 of the first filter 30 via the pipe 65b, and the other end of the second passing portion 32 is connected via the pipe 65c.
  • It is connected to the input port of the check valve 79.
  • the output port of the check valve 79 is connected to the intake port of the air pump 90 via the pipe 65d, and the discharge port of the air pump 90 is connected to the gas discharge port P3 via the pipe 67.
  • the second output port P22 of the three-way solenoid valve 78 is connected to the pipe 65d via the pipe 66.
  • the pipes 61a to 61b, 62a to 62f, 63, 64a to 64c, 65a to 65d, 66, 67 may be pipes made of synthetic resin or metal, or tubes made of flexible synthetic resin. But it may be.
  • the gas detection system 1 of the present embodiment is configured by accommodating the pneumatic circuit shown in FIG. 1 and the processing unit 50 in a housing.
  • the sample gas supply path R1 for supplying the sample gas G1 from the first intake port P1 to the sensor chamber 100 and the second intake port P2
  • a reference gas supply path R2 for supplying the reference gas G2 to the sensor chamber 100 is provided.
  • the sample gas supply path R1 is a flow path through which gas flows from the first intake port P1 to the sensor chamber 100 through the pipe 61a, the particle filter 71, the pipe 61b, the three-way solenoid valve 75, and the pipe 63.
  • the sample gas supply path R1 shown in FIG. 1 is a flow path that does not pass through the filter unit 20, and this flow path may be referred to as a first sample gas supply path R1A. That is, the gas detection system 1 includes a first sample gas supply path R1A that supplies the sample gas G1 to the sensor chamber 100 (gas sensor 11) without passing through the filter unit 20. In the first sample gas supply process for supplying the sample gas G1, the sample gas G1 is supplied to the sensor chamber 100 through the first sample gas supply path R1A.
  • the reference gas supply path R2 has a pipe 62a, a particle filter 72, a pipe 62b, a two-way electromagnetic valve 73, a pipe 62c, a first passing portion 31 of the first filter 30, a pipe 62d, and a second from the second intake port P2.
  • This is a flow path through which gas flows into the sensor chamber 100 through the first passage portion 41 of the filter 40, the pipe 62e, the check valve 74, the pipe 62f, the three-way electromagnetic valve 75, and the pipe 63.
  • the gas detection system 1 has a first discharge path R3 for discharging gas from the sensor room 100 to the outside through the filter unit 20 and a filter from the sensor room 100 as gas discharge paths from the sensor room 100.
  • a second discharge path R4 for discharging gas from the gas discharge port P3 to the outside without passing through the unit 20 is provided.
  • the first discharge path R3 is from the sensor chamber 100 to the pipe 64a, the electromagnetic proportional control valve 76, the pipe 64b, the check valve 77, the pipe 64c, the three-way electromagnetic valve 78, the pipe 65a, and the second passing portion 42 of the second filter 40.
  • Pipe 65b, second passage 32 of the first filter 30, pipe 65c, check valve 79, pipe 65d, air pump 90, and pipe 67 which is a flow path for discharging gas from the gas discharge port P3 to the outside. ..
  • the second discharge passage R4 has a pipe 64a, an electromagnetic proportional control valve 76, a pipe 64b, a check valve 77, a pipe 64c, a three-way solenoid valve 78, a pipe 66, a pipe 65d, an air pump 90, and a pipe 67 from the sensor chamber 100. It is a flow path through which gas is discharged from the gas discharge port P3 to the outside.
  • the gas detection system 1 discharges the reference gas G2 from the sensor chamber 100 through the first discharge path R3 passing through the filter unit 20, and the first discharge path R3 is used as the reference gas discharge path. That is, the gas detection system 1 passes the reference gas G2 supplied to the sensor chamber 100 through the second filter 40 and the first filter 30 and then discharges the reference gas G2.
  • the gas detection system 1 discharges the sample gas G1 from the sensor chamber 100 through the second discharge path R4 that does not pass through the filter unit 20, and the second discharge path R4 is used as the sample gas discharge path.
  • the sample gas discharge path (second discharge path R4) shown in FIG. 1 is a flow path that does not pass through the filter unit 20, and this flow path may be referred to as a first sample gas discharge path R4A.
  • the sample gas G1 introduced into the sensor chamber 100 is discharged via the first sample gas discharge path R4A.
  • the first sample gas discharge path R4A connects the sensor chamber 100 and at least the gas discharge port P3 that discharges the sample gas G1 without passing through the filter unit 20.
  • the two-way solenoid valve 73 is switched to the open state to start the air pump 90 (S1). Since the second input port P12 of the three-way solenoid valve 75 is normally open and the first output port P21 of the three-way solenoid valve 78 is normally open, the reference gas G2 introduced from the second intake port P2 is referred to. After being introduced into the sensor chamber 100 through the gas supply path R2, the reference gas G2 discharged from the sensor chamber 100 is discharged to the outside from the gas discharge port P3 through the first discharge path R3.
  • the control unit 51 of the present embodiment supplies the reference gas G2 to the sensor chamber 100 to acquire a reference value, and supplies the sample gas G1 to the sensor chamber 100 to detect the molecule to be detected. The period is repeated alternately.
  • the two-way solenoid valve 73 is controlled to be in the open state, and the three-way solenoid valve 75 is closed so that the second input port P12 is in the open state and the first input port P11 is in the closed state.
  • the three-way solenoid valve 78 is switched so that the first output port P21 is in the open state and the second output port P22 is in the closed state (S3).
  • the control unit 51 When the control unit 51 operates the air pump 90 in this state, the reference gas G2 sucked from the second intake port P2 is introduced into the sensor chamber 100 through the reference gas supply path R2, and then the first discharge path R3 is opened. It is discharged from the gas discharge port P3 through the gas discharge port P3.
  • the reference gas G2 introduced into the second intake port P2 passes through the two-way solenoid valve 73 to remove dust and the like having a relatively large particle size by the particle filter 72, and then passes through the first filter 30. 1 It is supplied to the passing portion 31.
  • the pressure of the second passing portion 32 is lower than that of the first passing portion 31, and therefore the VOC which is the component to be removed in the reference gas G2. Penetrates into the separation membrane 33.
  • the VOC that has penetrated into the separation membrane 33 diffuses in the separation membrane 33 and moves to the second passage portion 32 side, and moves into the second passage portion 32 by being detached from the separation membrane 33.
  • the VOC that has moved to the second passing portion 32 is discharged from the second passing portion 32 to the outside through the gas discharge port P3 through the pipe 65c, the check valve 79, the pipe 65d, the air pump 90, and the pipe 67. ..
  • the second passing portion is compared with the first passing portion 41. Since 42 has a low pressure, water, which is a component to be removed in the reference gas G2, permeates the separation membrane 43. Moisture that has permeated the separation membrane 43 diffuses in the separation membrane 43 and moves toward the second passage portion 42, and moves into the second passage portion 42 by desorbing from the separation membrane 43.
  • the moisture transferred to the second passing portion 42 is transferred from the second passing portion 42 to the pipe 65b, the second passing portion 32 of the first filter 30, the pipe 65c, the check valve 79, the pipe 65d, the air pump 90, and the pipe 67. It is discharged to the outside from the gas discharge port P3 through the above.
  • the reference gas G2 introduced into the second intake port P2 passes through the first filter 30 and the second filter 40 to reduce the VOC and water content in the reference gas G2, and then the sensor of the housing 10. It is sent to room 100. Furthermore, in the reference gas supply process in which the reference gas G2 is passed through the filter unit 20 and supplied to the gas sensor 11, the reference gas G2 is passed through the first filter 30 and then through the second filter 40 to pass through the sensor chamber 100. It is supplied to (gas sensor 11). Therefore, since the VOC and the reference gas G2 after reducing the water content are supplied to the gas sensor 11, the output value of the gas sensor 11 in this state can be obtained as a reference of the VOC which is the molecule to be detected. Further, since the reference gas G2 after reducing the water content is supplied to the gas sensor 11, it is possible to reduce the possibility that the gas sensor 11 is deteriorated or the measurement result fluctuates due to the water content contained in the reference gas G2.
  • the separation membrane 43 of the second filter 40 is formed of a hollow fiber made of a fluorine-based synthetic resin, and the fluorine-based synthetic resin has a property of being easily deteriorated by VOC.
  • the first filter 30 and the second filter 40 use separation membranes 33 and 43 formed of hollow fibers to reduce the components to be removed in the reference gas G2, like a filter using a filter material such as activated carbon. Since it is not necessary to replace the filter material, maintenance-free operation can be realized.
  • the water content control unit 512 of the control unit 51 adjusts the throttle amount of the electromagnetic proportional control valve 76 based on the water content in the reference gas G2 measured by the water content measurement unit 12 in the first period. As a result, a water content adjusting process for adjusting the water content in the reference gas G2 is performed (S4).
  • the water content control unit 512 compares, for example, the height of the absolute humidity amount of the reference gas G2 in the sensor chamber 100 measured by the water content measurement unit 12 with a predetermined reference humidity.
  • the reference humidity is, for example, 1 g / m 3 , but the reference humidity can be appropriately changed according to the usage conditions and the like.
  • the water content control unit 512 controls the orifice diameter of the electromagnetic proportional control valve 76 to the first opening diameter.
  • the first opening diameter is set to a smaller opening diameter than the orifice diameter when the absolute humidity of the reference gas G2 is equal to or less than the reference humidity.
  • the water content control unit 512 controls the orifice diameter of the electromagnetic proportional control valve 76 to the first opening diameter, so that the pressure difference between the front and rear of the electromagnetic proportional control valve 76 becomes large, and the second passage portion of the second filter 40 The pressure of 42 becomes low.
  • the pressure difference between the first passing portion 41 and the second passing portion 42 increases, and the amount of water that passes through the separation membrane 43 from the first passing portion 41 and moves to the second passing portion 42 in the second filter 40.
  • the amount of water in the reference gas G2 in the sensor chamber 100 decreases, and the humidity approaches a predetermined reference humidity.
  • the water content control unit 512 has a second opening diameter in which the orifice diameter of the electromagnetic proportional control valve 76 is larger than the first opening diameter.
  • the pressure difference between the front and rear of the electromagnetic proportional control valve 76 becomes smaller than when the orifice diameter of the electromagnetic proportional control valve 76 is the first opening diameter, and the pressure of the second passing portion 42 of the second filter 40 becomes smaller. Will be higher.
  • the pressure difference between the first passing portion 41 and the second passing portion 42 is reduced, and the amount of water that passes through the separation membrane 43 from the first passing portion 41 and moves to the second passing portion 42 in the second filter 40.
  • the humidity approaches a predetermined reference humidity.
  • the water content control unit 512 refers to the absolute humidity amount of the reference gas G2 in the sensor chamber 100 by adjusting the pressure difference between the first passage unit 41 and the second passage unit 42 of the second filter 40.
  • the humidity is maintained, and the detection unit 52 acquires a reference value of the concentration of the molecule to be detected based on the output value of the gas sensor 11 in this state (S5). That is, the water content control unit 512 adjusts the pressure difference of the separation membrane 43 of the second filter 40 in the water content adjusting process.
  • the quality of the reference gas G2 is stably controlled by adjusting the amount of water in the reference gas G2, so that the reference value of the concentration of VOC, which is the molecule to be detected, can be suppressed from fluctuating.
  • the gas detection system 1 passes the reference gas G2, which is the reference for the concentration of the molecule to be detected in the sample gas G1, through the filter unit 20 that reduces the components to be removed in the reference gas G2.
  • Reference gas supply processing (S3 to S5) for supplying to the sensor chamber 100 accommodating the gas sensor 11 is performed.
  • the control unit 51 controls the two-way solenoid valve 73 to be in the closed state, and the three-way solenoid valve 75 is in the first input port P11 open state and the second input port P12 is closed.
  • the state is switched, and the three-way solenoid valve 78 is switched so that the first output port P21 is in the closed state and the second output port P22 is in the open state (S6).
  • the sample gas G1 is introduced into the sensor chamber 100 from the first intake port P1 through the sample gas supply path R1, and then the sample gas is introduced from the sensor chamber 100 through the second discharge path R4 (sample gas discharge path).
  • the gas flow path is switched so that G1 is discharged.
  • the control unit 51 operates the air pump 90 in this state, the sample gas G1 sucked from the first intake port P1 is introduced into the sensor chamber 100 through the sample gas supply path R1, and then the second discharge path R4 is opened. It is discharged from the gas discharge port P3 through the gas discharge port P3.
  • the detection unit 52 acquires the output value of the gas sensor 11 (S7), and based on this output value and the reference value acquired in the first period, the molecule to be detected in the sample gas G1 (the molecule to be detected (S7).
  • a process for detecting VOC which is an odor component, is performed (S8).
  • the detection unit 52 may detect the presence or absence of the molecule to be detected, may detect the concentration of the molecule to be detected, or the concentration of the molecule to be detected is higher than a predetermined set value. Alternatively, a low state may be detected.
  • the sample gas G1 is discharged through the second discharge path R4 that bypasses the filter unit 20, so that the sample gas G1 that has not passed through the first filter 30 passes through the second filter 40.
  • the second filter 40 due to VOC can be suppressed.
  • the control unit 51 of the gas detection system 1 repeatedly executes the detection operation for detecting the VOC in the sample gas G1 by alternately repeating the first period and the second period.
  • the water content adjusting process (S4) for adjusting the water content in the reference gas G2 in the first period may be omitted.
  • the lengths of the first period and the second period are set to, for example, 10 seconds, but the lengths of the first period and the second period can be changed as appropriate, and the length of the first period and the length of the second period can be changed. The lengths may be set to be different from each other.
  • the gas detection system 1 of the present embodiment passes the reference gas G2 through the filter unit 20 and then enters the sensor chamber 100 separately from the sample gas supply path R1 that supplies the sample gas G1 to the sensor chamber 100.
  • a reference gas supply path R2 for supplying is provided. Since the reference gas G2 introduced from the second intake port P2 is supplied to the sensor chamber 100 after the molecules to be detected (VOC in this embodiment) and the water content are reduced by the filter unit 20, the air in the environment can be removed. It can be used as a reference gas G2.
  • the gas detection system 1 is a second for discharging the sample gas G1 from the sensor room 100 without passing through the filter unit 20, separately from the first discharge path R3 for discharging the reference gas G2 from the sensor room 100. It is provided with a discharge path R4.
  • the sample gas G1 containing the molecule to be detected (VOC in this embodiment) and water is discharged to the outside without passing through the purge line (second passage units 32, 42) of the filter unit 20, so that the filter It is possible to suppress deterioration of the filter performance of the unit 20.
  • the sample gas G1 is a gas collected from food or a gas containing water such as exhaled breath
  • the sample gas G1 is discharged to the outside through the second discharge path R4, so that the filter performance of the filter unit 20 deteriorates. Can be suppressed.
  • the gas detection system 1 is provided with an electromagnetic proportional control valve 76 on the downstream side of the sensor chamber 100, and the gas passing through the sensor chamber 100 by narrowing the orifice diameter of the electromagnetic proportional control valve 76 (sample gas G1 and reference).
  • the flow rate of the gas G2) can be reduced.
  • the filter performance of the filter unit 20 and the deterioration of the gas sensor 11 can be suppressed.
  • control unit 51 controls the two-way solenoid valve 73 to be in the closed state, and switches the three-way solenoid valve 75 so that the second input port P12 is in the open state and the first input port P11 is in the closed state.
  • the three-way solenoid valve 78 is switched so that the first output port P21 is in the open state and the second output port P22 is in the closed state (S10).
  • the gas detection system 1 of the present embodiment performs a shutoff process (S10) that shuts off the filter unit 20 from the outside air in a hibernation state in which the detection operation by the gas sensor 11 is stopped.
  • a plurality of flow paths including the reference gas supply path R2 connect the filter unit 20 and the outside, respectively.
  • the plurality of flow paths including the reference gas supply path R2 are, for example, a sample gas supply path R1, a reference gas supply path R2, a first discharge path R3, a second discharge path R4, and the like.
  • Two-way solenoid valves 73, three-way solenoid valves 75, 78, and check valves 79 are provided as shut-off elements in each of these plurality of flow paths, and these shut-off elements are provided in a dormant state such as when the power is turned off. Multiple channels are blocked by. That is, the blocking unit CB1 includes a plurality of blocking elements provided in each of the plurality of flow paths, and the plurality of blocking elements each block the filter unit 20 and the outside in the hibernation state.
  • the shutoff unit CB1 includes an electromagnetic switching valve (specifically, the above-mentioned two-way solenoid valve 73 and three-way solenoid valve 75, 78) that switches between an open state and a closed state by electromagnetic force. , The open state and the closed state of the solenoid switching valve can be switched by the electric signal from the control unit 51. Further, the shutoff portion CB1 includes a check valve 79. When the shutoff portion CB1 includes a check valve 79 as a shutoff element, there is an advantage that a power supply and a signal line are not required as compared with the case where the shutoff element includes an electromagnetic switching valve.
  • the control unit 51 controls the two-way solenoid valve 73 to be in the closed state, and the three-way solenoid valve 75 is in the open state of the second input port P12 and closed of the first input port P11.
  • the air pump 90 By operating the air pump 90 in a state where the three-way solenoid valve 78 is switched so that the first output port P21 is in the open state and the second output port P22 is in the closed state (S11).
  • the pressure in the circuit including the filter unit 20 may be reduced to a pressure lower than the external pressure (for example, in a vacuum state).
  • the check valve 79 is opened and the pressure in the circuit including the filter unit 20 is reduced.
  • the control unit 51 When the control unit 51 operates the air pump 90 for a predetermined time, the control unit 51 stops the air pump 90 (S12). When the air pump 90 is stopped, the check valve 79 is closed, so that the pressure of the circuit portion including the filter portion 20 cut off by the cutoff portion CB1 is maintained at a negative pressure. In the hibernation state, if the pressure of the circuit C1 from the two-way solenoid valve 73 to the check valve 79 through the housing 10 is reduced, the check valve 79 is difficult to open, so that the filter unit 20 is exposed to outside air. The possibility of contact can be reduced.
  • an idling period is provided in which the idling control unit 511 of the control unit 51 performs an idling operation for flowing the reference gas G2 to the filter unit 20 in the hibernation state.
  • the gas detection system 1 further includes an idling control unit 511 that performs an idling operation of supplying the reference gas G2 to the gas sensor 11 with the blocking unit CB1 in the non-blocking state in the hibernation state.
  • the reference gas G2 introduced from the second intake port P2 is supplied to the sensor chamber 100 through the reference gas supply path R2, and then passes through the first discharge path R3 (reference gas discharge path) to the outside. It is discharged.
  • the filter performance of the hollow fiber separation membrane 43 included in the second filter 40 changes greatly depending on the dry state thereof. If the separation membrane 43 contains a large amount of moisture due to the continuous hibernation state, the filter performance may deteriorate. Therefore, by flowing the reference gas G2 through the filter unit 20 during the idling period, the hollow fiber separation membrane 43 included in the second filter 40 can be dried, and the filter performance of the second filter 40 is improved.
  • the control unit 51 opens the two-way solenoid valve 73 when the water content detected by the detection unit 52 based on the measurement result of the water content measurement unit 12 becomes higher than a predetermined first threshold value.
  • the idling operation is started by switching to and operating the air pump 90.
  • the control unit 51 stops the air pump 90 after switching the two-way solenoid valve 73 to the closed state, and is shut off by the cutoff unit CB1.
  • the circuit portion including the filter portion 20 is maintained in a negative pressure state.
  • the gas detection system 1 executes the idling operation when the amount of water detected by the detection unit 52 becomes higher than the first threshold value in the hibernation state, so that the second filter 40 can be maintained in a dry state, and the second filter 40 can be maintained in a dry state.
  • the detection operation can be restarted with the filter 40 dried.
  • control unit 51 sets the orifice of the electromagnetic proportional control valve 76 so that the flow rate of the reference gas G2 when performing the idling operation is larger than the flow rate of the reference gas G2 in the first period when performing the detection operation. It is preferable to control the diameter. As a result, the filter unit 20 can be dried in a short time and the idling operation can be completed by flowing the reference gas G2 at a large flow rate during the idling period.
  • the control unit 51 determines the start timing and the end timing of the idling operation based on the measurement result of the water content measuring unit 12, but the gas sensor whose output value changes depending on the water content in the gas.
  • the start timing and end timing of the idling operation may be determined based on the output value of 11. If the control unit 51 determines the start timing and end timing of the idling operation based on the output value of the gas sensor 11 whose output value changes depending on the amount of water in the gas, the gas detection system 1 is the water content measurement unit 12. It is not essential to have.
  • the control unit 51 estimates the amount of water in the gas based on the output value of the gas sensor 11, and controls the operation of the air pump 90 based on the estimation result of the amount of water to control the quality of the reference gas G2. Is stable, which can reduce the variation in the detection result of the sample gas G1. Further, although the characteristics of the gas sensor 11 may fluctuate or deteriorate due to changes with time, the characteristics of the gas sensor 11 can be improved by supplying the gas sensor 11 with the reference gas G2 having reduced VOC and water content during the idling period. It can be returned to the initial state.
  • the above embodiment is only one of various embodiments of the present disclosure.
  • the above-described embodiment can be changed in various ways depending on the design and the like as long as the object of the present disclosure can be achieved.
  • the same function as that of the gas detection system 1 may be realized by a control method of the gas detection system 1, a computer program, a non-temporary recording medium on which the program is recorded, or the like.
  • the control method of the gas detection system 1 according to one aspect includes the reference gas supply process described above.
  • the (computer) program according to one aspect is a program for causing a computer system to execute the reference gas supply process described above.
  • the gas detection system 1 in the present disclosure includes a computer system as, for example, a processing unit 50.
  • the main configuration of a computer system is a processor and memory as hardware.
  • the processor executes the program recorded in the memory of the computer system, the function as the gas detection system 1 in the present disclosure is realized.
  • the program may be pre-recorded in the memory of the computer system, may be provided through a telecommunications line, and may be recorded on a non-temporary recording medium such as a memory card, optical disk, hard disk drive, etc. that can be read by the computer system. May be provided.
  • a processor in a computer system is composed of one or more electronic circuits including a semiconductor integrated circuit (IC) or a large scale integrated circuit (LSI).
  • IC semiconductor integrated circuit
  • LSI large scale integrated circuit
  • the integrated circuit such as IC or LSI referred to here has a different name depending on the degree of integration, and includes an integrated circuit called a system LSI, VLSI (Very Large Scale Integration), or ULSI (Ultra Large Scale Integration).
  • an FPGA Field-Programmable Gate Array
  • a plurality of electronic circuits may be integrated on one chip, or may be distributed on a plurality of chips.
  • the plurality of chips may be integrated in one device, or may be distributed in a plurality of devices.
  • the computer system referred to here includes a microprocessor having one or more processors and one or more memories. Therefore, the microprocessor is also composed of one or a plurality of electronic circuits including a semiconductor integrated circuit or a large-scale integrated circuit.
  • the gas detection system 1 it is not an essential configuration for the gas detection system 1 that a plurality of functions in the gas detection system 1 are integrated in one housing, and the components of the gas detection system 1 are dispersed in a plurality of housings. It may be provided. Further, at least a part of the functions of the gas detection system 1, for example, a part of the functions of the processing unit 50 may be realized by a cloud (cloud computing) or the like.
  • the solenoid proportional control valve 76 is arranged on the upstream side (housing 10 side) of the three-way solenoid valve 78, but instead of the solenoid proportional control valve 76, the modification 1 shown in FIG. 4 As described above, the solenoid proportional control valves 76A and 76B may be arranged on the downstream side of the first output port P21 and the second output port P22 of the three-way solenoid valve 78, respectively. That is, an electromagnetic proportional control valve 76A is arranged between the first output port P21 of the three-way solenoid valve 78 and the filter unit 20, and the electromagnetic proportional control valve 76A controls the flow rate of the gas flowing through the first discharge path R3. May be good.
  • an electromagnetic proportional control valve 76B is arranged between the second output port P22 of the three-way solenoid valve 78 and the confluence portion of the pipes 66 and 65d, and the gas flowing through the second discharge path R4 by the electromagnetic proportional control valve 76B. You may control the flow rate of.
  • the two-way solenoid valve 73 is arranged between the second intake port P2 and the filter unit 20, but instead of the two-way solenoid valve 73, as in the modified example 2 shown in FIG.
  • the check valve 80 may be connected to the vehicle.
  • the check valve 77 is arranged between the solenoid proportional control valve 76 and the three-way solenoid valve 78, but instead of the check valve 77, as in the modified example 3 shown in FIG.
  • the two-way solenoid valve 81 may be arranged therefor.
  • a two-way solenoid valve may be used instead of the check valves 74 and 79.
  • the check valve 77 connected between the solenoid proportional control valve 76 and the three-way solenoid valve 78 may be eliminated. That is, as in the modified example 4 shown in FIG. 7, the output port of the solenoid proportional control valve 76 and the input port P23 of the three-way solenoid valve 78 may be directly connected via the pipe 64b, and the check valve 77 may be connected. Can be reduced.
  • the check valve 77 connected between the solenoid proportional control valve 76 and the three-way solenoid valve 78 may be eliminated. That is, as in the modified example 5 shown in FIG. 8, the output port of the solenoid proportional control valve 76 and the input port P23 of the three-way solenoid valve 78 may be directly connected via the pipe 64b, and the check valve 77 may be connected. Can be reduced.
  • the sample gas supply path R1 does not pass through the filter section 20, but as in the modified example 6 shown in FIG. 9, the sample gas supply path R1 is the second filter section 20 for moisture. 2 It may be configured to pass only the filter 40.
  • the second input port P12 of the three-way solenoid valve 75 is connected to the first passing portion 31 of the first filter 30 via the pipe 62d, and the output port P13 of the three-way solenoid valve 75 is connected. Is connected to one end of the first passing portion 41 of the second filter 40 via the pipe 63a. The other end of the first passing portion 41 of the second filter 40 is connected to the input port of the check valve 74 via the pipe 63b, and the output port of the check valve 74 is connected to the input port of the check valve 74 via the pipe 63c. It is connected to port 101.
  • the operation of the gas detection system 1 of the modification 6 is the same as the operation of the gas detection system 1 of the above embodiment except for the process of supplying the sample gas G1 to the sensor chamber 100 (process S6 of FIG. 2).
  • the reference gas supply process (process S3 in FIG. 2) in which the gas detection system 1 of the modification 6 supplies the reference gas G2 to the sensor chamber 100 is the same as that of the gas detection system 1 of the above embodiment. Omit.
  • the reference gas G2 supplied to the sensor chamber 100 is discharged to the outside from the gas discharge port P3 through the reference gas discharge path (first discharge path R3).
  • the reference gas supply path R2 connects the reference gas introduction port (second intake port P2) into which the reference gas G2 is introduced and the sensor chamber 100, and connects the reference gas G2 introduced from the reference gas introduction port. It is introduced into the sensor chamber 100 after being passed through the first filter 30 and the second filter 40.
  • the reference gas discharge path (first discharge path R3) is connected between the sensor chamber 100 and at least the gas discharge port P3 that discharges the reference gas G2, and the reference gas G2 discharged from the sensor chamber 100 is filtered by the second filter. After passing through 40 and the first filter 30, the gas is discharged from the gas discharge port P3.
  • control unit 51 controls the two-way solenoid valve 73 in the closed state, and the three-way solenoid valve 75 is in the open state with the first input port P11.
  • the second input port P12 is switched so as to be in the closed state, and the three-way solenoid valve 78 is switched so that the first output port P21 is in the closed state and the second output port P22 is in the open state (S6 in FIG. 2).
  • the sample gas G1 introduced from the first intake port P1 includes the pipe 61a, the particle filter 71, the pipe 61b, the three-way solenoid valve 75, the pipe 63a, the second filter 40, the pipe 63b, the check valve 74, and
  • the sample gas supply path R1 is set so as to be introduced into the sensor chamber 100 through the pipe 63c.
  • the sample gas G1 introduced into the sensor chamber 100 is the pipe 64a, the electromagnetic proportional control valve 76, the pipe 64b, the check valve 77, the pipe 64c, the three-way solenoid valve 78, the pipes 66, 65d, and the air pump from the sensor room 100.
  • the first sample gas discharge path R4A (second discharge path R4) is set so as to be discharged from the gas discharge port P3 through the 90 and the pipe 67.
  • the control unit 51 operates the air pump 90 in this state, the sample gas G1 sucked from the first intake port P1 is introduced into the sensor chamber 100 through the second sample gas supply path R1B, and then the first sample gas.
  • the gas is discharged from the gas discharge port P3 through the discharge path R4A (second discharge path R4).
  • the sample gas supply path R1 is a flow path that does not pass through the first filter 30 but passes through only the second filter 40, and this flow path may be referred to as a second sample gas supply path R1B.
  • the gas detection system 1 of the modification 6 includes the second sample gas supply path R1B that supplies the sample gas G1 to the sensor chamber 100 through the second filter 40 without passing through the first filter 30. Then, in the gas detection system 1 of the modification 6, when the sample gas G1 is supplied to the sensor chamber 100, the sample gas G1 passes through the second filter 40 without passing through the first filter 30. The second sample gas supply process to be supplied to the sensor chamber 100 is executed through the sensor chamber 100.
  • the water content in the sample gas G1 is reduced by passing the sample gas G1 through the second filter 40, so that the output value of the gas sensor 11 is less likely to be affected by the water content in the sample gas G1. , The measurement error caused by moisture can be reduced.
  • the second discharge path R4 for discharging the sample gas G1 does not pass through the filter unit 20, but the second discharge path R4 is as shown in the modified example 7 shown in FIG. ,
  • the filter unit 20 may be configured to pass only the second filter 40 for moisture.
  • the second passing portion 42 of the second filter 40 is connected to the input port P23 of the three-way solenoid valve 78 via the pipe 65e, and the first output port P21 of the three-way solenoid valve 78. Is connected to the second passing portion 32 of the first filter 30 via the pipe 65f.
  • the second output port P22 of the three-way solenoid valve 78 is connected to the pipe 65d via the pipe 66.
  • the output port of the check valve 77 is connected to the second passage portion 42 of the second filter 40 via the pipe 64c.
  • the operation of the gas detection system 1 of the modified example 7 is a process of supplying the sample gas G1 to the sensor chamber 100 via the second sample gas supply path R1B and then discharging the sample gas G1 from the gas discharge port P3 to the outside through the second discharge path R4. Except for the process S6 in FIG. 2, the operation is the same as that of the gas detection system 1 of the modification 6 described above. Since the reference gas supply process (process S3 in FIG. 2) in which the gas detection system 1 supplies the reference gas G2 to the sensor chamber 100 is the same as the gas detection system 1 of the above-described embodiment, the description thereof will be omitted.
  • the control unit 51 controls the two-way solenoid valve 73 in the closed state, and the three-way solenoid valve 75 in the first input port P11 in the open state and the second.
  • the input port P12 is switched so as to be in the closed state, and the three-way solenoid valve 78 is switched so that the first output port P21 is in the closed state and the second output port P22 is in the open state (S6 in FIG. 2).
  • the sample gas G1 introduced from the first intake port P1 includes the pipe 61a, the particle filter 71, the pipe 61b, the three-way solenoid valve 75, the pipe 63a, the second filter 40, the pipe 63b, the check valve 74, and
  • the second sample gas supply path R1B is set so as to be introduced into the sensor chamber 100 through the pipe 63c.
  • the sample gas G1 introduced into the sensor chamber 100 is a pipe 64a, an electromagnetic proportional control valve 76, a pipe 64b, a check valve 77, a pipe 64c, a second filter 40, a pipe 65e, and a three-way electromagnetic valve from the sensor room 100.
  • the second discharge path R4 is set so as to be discharged from the gas discharge port P3 through 78, the pipes 66, 65d, the air pump 90, and the pipe 67.
  • the control unit 51 operates the air pump 90 in this state, the sample gas G1 sucked from the first intake port P1 is supplied to the sensor chamber 100 through the sample gas supply path R1. Then, the sample gas G1 supplied to the sensor chamber 100 is discharged to the outside from the gas discharge port P3 through the second discharge path R4.
  • the second discharge path R4 which is the sample gas discharge path, passes the gas in the sensor chamber 100 through the second filter 40 and then passes through the gas discharge port without passing through the first filter 30. It is a flow path for discharging from P3 to the outside, and this flow path may be referred to as a second sample gas supply path R1B.
  • the gas detection system 1 of the modified example 7 discharges the sample gas G1 introduced into the sensor chamber 100 through the second sample gas discharge path R4B.
  • the second sample gas discharge path R4B is connected between the sensor chamber 100 and at least the gas discharge port P3 that discharges the sample gas G1, and the sample gas G1 discharged from the sensor chamber 100 is passed through the second filter 40. After that, the gas is discharged from the gas discharge port P3 without passing through the first filter 30.
  • the sample gas G1 introduced from the first intake port P1 is supplied to the sensor chamber 100 through the first passage portion 41 of the second filter 40, and then passes through the second filter 40 from the sensor chamber 100. It is discharged to the outside from the gas discharge port P3 through the section 42.
  • the output value of the gas sensor 11 is the sample gas G1. It is less affected by the moisture inside, and the measurement error caused by the moisture can be reduced.
  • the water content of the sample gas G1 is reduced by the second filter 40, and the VOC and water content of the reference gas G2 are reduced by the first filter 30 and the second filter 40, so that the sample gas G1 is supplied to the sensor chamber 100.
  • the output value of the gas sensor 11 in this state corresponds to the VOC in the sample gas G1. Therefore, the gas detection system 1 can detect VOC, which is a molecule to be detected, with higher accuracy.
  • the solenoid proportional control valve 76 which is a variable orifice, is arranged on the upstream side (housing 10 side) of the three-way solenoid valve 78, but the flow rate is controlled to a predetermined value instead of the solenoid proportional control valve 76.
  • a speed control valve may be arranged.
  • the speed control valve is arranged instead of the electromagnetic proportional control valve 76, the flow rate on the downstream side of the speed control valve can be changed without changing the flow rate flowing through the sensor chamber 100, so that the output value of the gas sensor 11 is changed. Can be stabilized and stable measurement becomes possible.
  • the water content control unit 512 changes the flow rate of the reference gas G2 based on the measurement result of the water content in the reference gas G2, thereby causing the water content in the reference gas G2 to pass through the filter unit 20.
  • the amount is adjusted, measurement conditions other than the flow rate of the reference gas G2 may be changed.
  • the water content control unit 512 changes the temperature of the reference gas G2 passing through the filter unit 20 with a heater or the like according to the measurement result of the water content in the reference gas G2, so that the reference gas passes through the filter unit 20.
  • the water content of G2 may be adjusted.
  • control unit 51 may control the flow rate of the reference gas G2 flowing through the filter unit 20 based on the output value of the gas sensor 11 in the first period, and the reference gas contains almost no molecule to be detected.
  • the gas G2 can be supplied to the gas sensor 11.
  • the gas detection system 1 can acquire the reference value in the first period with the influence of the molecule to be detected reduced, and can improve the measurement accuracy of the molecule to be detected in the second period. can.
  • the sensor chamber 100 may be provided with a suction portion having an aggregate of a plurality of nanowires.
  • the gas detection sensitivity can be increased by concentrating the gas by adsorbing the gas introduced into the sensor chamber 100 on the adsorption portion and supplying the gas desorbed from the adsorption portion to the gas sensor 11.
  • the first period for introducing the reference gas G2 into the sensor chamber 100 and the second period for introducing the sample gas G1 into the sensor chamber 100 are temporally separated, but the sample gas G1 is separated.
  • the area for collecting the reference gas G2 and the area for collecting the reference gas G2 may be spatially separated.
  • the first filter 30 for VOC and the second filter 40 for moisture are connected in series, but the separation membrane 43 of the second filter 40 is formed of a material that is not easily deteriorated by VOC. If so, the first filter 30 and the second filter 40 may be arranged in parallel.
  • the filter unit 20 includes a first filter 30 for VOC and a second filter 40 for moisture, but has a hollow fiber separation membrane that reduces both VOC and moisture 1. It may consist of one filter.
  • the gas detection system (1) includes a reference gas introduction port (P2), a gas sensor (11), and a filter unit (20).
  • a reference gas (G2) as a reference for the concentration of the molecule to be detected in the sample gas (G1) is introduced into the reference gas introduction port (P2).
  • the gas sensor (11) detects the molecule to be detected.
  • the filter unit (20) is arranged in the reference gas supply path (R2) connecting between the reference gas introduction port (P2) and the sensor chamber (100) accommodating the gas sensor (11).
  • the filter unit (20) includes at least a first filter (30) that reduces the molecules to be detected in the reference gas (G2) and a second filter (40) that reduces the water content in the reference gas (G2). include.
  • the first filter (30) and the second filter (40) each have a separation membrane (33, 43) containing a hollow fiber.
  • the gas detection system (1) further includes a blocking unit (CB1) in the first aspect.
  • the cutoff unit (CB1) shuts off the filter unit (20) from the outside air in a dormant state in which the detection operation by the gas sensor (11) is stopped.
  • the shutoff portion (CB1) includes a check valve (74).
  • a plurality of flow paths including the reference gas supply path (R2) connect the filter unit (20) and the outside, respectively.
  • the blocking unit (CB1) includes a plurality of blocking elements provided in each of the plurality of flow paths. Each of the plurality of blocking elements blocks between the filter unit (20) and the outside in the hibernation state.
  • the gas detection system (1) further includes an idling control unit (511) in any one of the second to fourth aspects.
  • the idling control unit (511) performs an idling operation in which the reference gas (G2) is supplied to the gas sensor (11) with the cutoff unit (CB1) in the non-stop state in the hibernation state.
  • the first filter (30) is located between the reference gas introduction port (P2) and the sensor chamber (100).
  • the first filter (30) and the second filter (40) are arranged so that is located closer to the reference gas introduction port (P2) with respect to the second filter (40).
  • the gas detection system (1) further includes a water content measuring unit (12) and a water content control unit (512) in any one of the first to sixth aspects.
  • the water content measuring unit (12) measures the water content contained in the reference gas (G2) after passing through the filter unit (20).
  • the water content control unit (512) adjusts the water content contained in the reference gas (G2) supplied to the gas sensor (11) through the filter unit (20) based on the measurement result of the water content measurement unit (12).
  • the gas detection system (1) of the eighth aspect further includes a first sample gas supply path (R1A) in any one of the first to seventh aspects.
  • the first sample gas supply path (R1A) is a path for supplying the sample gas (G1) to the sensor chamber (100) without passing through the filter unit (20).
  • the gas detection system (1) of the ninth aspect further includes a second sample gas supply path (R1B) in any one of the first to seventh aspects.
  • the second sample gas supply path (R1B) is a flow path for supplying the sample gas (G1) to the sensor chamber (100) through the second filter (40) without passing through the first filter (30).
  • the control method of the gas detection system (1) includes a reference gas supply process.
  • the reference gas (G2) which is the reference for the concentration of the molecule to be detected in the sample gas (G1)
  • the filter unit (20) includes at least a first filter (30) that reduces the molecules to be detected in the reference gas (G2) and a second filter (40) that reduces the water content in the reference gas (G2). include.
  • the first filter (30) and the second filter (40) each have a separation membrane (33, 43) containing a hollow fiber.
  • the control method of the gas detection system (1) according to the eleventh aspect further includes a shutoff process in the tenth aspect.
  • the shutoff process the filter unit (20) is shut off from the outside air in a hibernation state in which the detection operation by the gas sensor (11) is stopped.
  • the control method of the gas detection system (1) according to the twelfth aspect further includes a water content measurement process and a water content control process in the tenth or eleventh aspect.
  • the water content measurement process the water content contained in the reference gas (G2) after passing through the filter unit (20) is measured.
  • the amount of water contained in the reference gas (G2) supplied to the gas sensor (11) through the filter unit (20) is adjusted based on the measurement result of the amount of water.
  • the amount of water contained in the reference gas (G2) is measured based on the measurement results of the temperature and humidity of the reference gas (G2).
  • the pressure difference of the separation membrane (43) of the second filter (40) is adjusted in the water content adjusting process. ..
  • the reference gas (G2) is passed through the first filter (30) in the reference gas supply process. Later, it is passed through the second filter (40) and supplied to the sensor chamber (100).
  • the control method of the gas detection system (1) of the sixteenth aspect further includes the first sample gas supply process in any one of the eleventh to fifteenth aspects.
  • the sample gas (G1) is supplied to the sensor chamber (100) through the first sample gas supply path (R1A) that does not pass through the filter unit (20).
  • the sample gas (G1) introduced into the sensor chamber (100) is discharged through the first sample gas discharge path (R4A). ..
  • the first sample gas discharge path (R4A) connects the sensor chamber (100) and at least the gas discharge port (P3) for discharging the sample gas (G1) without passing through the filter unit (20).
  • the gas supply method of the gas detection system (1) of the eighteenth aspect further includes a second sample gas supply process in any one of the eleventh to fifteenth aspects.
  • the sample gas (G1) is supplied to the sensor chamber (100) through the second sample gas supply path (R1B) that does not pass through the first filter (30) but passes through the second filter (40). ..
  • the sample gas (G1) introduced into the sensor chamber (100) is discharged through the second sample gas discharge path (R4B). do.
  • the second sample gas discharge path (R4B) connects the sensor chamber (100) and at least the gas discharge port (P3) for discharging the sample gas (G1), and the sample discharged from the sensor chamber (100).
  • the gas (G1) is discharged from the gas discharge port (P3) without passing through the first filter (30).
  • the reference gas (G2) supplied to the sensor chamber (100) is referred to as the second filter (40). It is discharged after passing through the first filter (30).
  • the cutoff unit (CB1) is an electromagnetic switching valve (73, 75, 78) that switches between an open state and a closed state by an electromagnetic force. )including.
  • various configurations (including modifications) of the gas detection system (1) are a control method of the gas detection system (1), a (computer) program, or a non-recorded program. It can be embodied in a temporary recording medium or the like.
  • the configurations according to the second to ninth and twenty-first aspects are not essential configurations for the gas detection system (1) and can be omitted as appropriate.
  • the configurations according to the eleventh to twentieth aspects are not essential configurations for the control method of the gas detection system (1) and can be omitted as appropriate.

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Abstract

本開示の目的はフィルタ部の劣化を抑制することである。ガス検出システム（１）は、ガスセンサ（１１）と、フィルタ部（２０）と、を備える。ガスセンサ（１１）は、検出対象の分子を検出する。フィルタ部（２０）は、参照ガス供給路（Ｒ２）に配置される。参照ガス供給路（Ｒ２）は、参照ガス（Ｇ２）が導入される参照ガス導入口と、ガスセンサ（１１）を収容するセンサ室（１００）との間を接続する。フィルタ部（２０）は、参照ガス（Ｇ２）中の検出対象の分子を低減させる第１フィルタ（３０）と、参照ガス（Ｇ２）中の水分を低減させる第２フィルタ（４０）と、を少なくとも含む。第１フィルタ（３０）及び第２フィルタ（４０）は、それぞれ、中空糸を含む分離膜（３３，４３）を有する。

Description

ガス検出システム、及びガス検出システムの制御方法
　本開示は、ガス検出システム、及びガス検出システムの制御方法に関する。より詳細には、本開示は、試料ガス中の検出対象の分子の検出を行うガス検出システム、及びガス検出システムの制御方法に関する。
　特許文献１は、基準ガス（参照ガス）と検査用ガス（試料ガス）とを筐体内のセンサに交互に導入し、検査用ガス中の特定成分（検出対象の分子）を検出するガス検出装置（ガス検出システム）を開示する。特許文献１では検査用ガスを純化手段（フィルタ部）に通し、検査用ガスを純化することによって基準ガスを生成し、生成された基準ガスをセンサに供給している。
　上述のガス検出システムでは、純化手段が検査用ガスの脱臭又は脱水を行っているが、ガス検出システムが長期間使用されると、純化手段による脱臭又は脱水の能力が低下する可能性があり、それによって基準ガス中の特定成分の濃度がばらつく可能性がある。
特開２００４－５３５８２号公報
　本開示の目的は、フィルタ部の劣化を抑制可能なガス検出システム、及びガス検出システムの制御方法を提供することにある。
　本開示の一態様のガス検出システムは、参照ガス導入口と、ガスセンサと、フィルタ部と、を備える。前記参照ガス導入口には、試料ガスにおける検出対象の分子の濃度の基準とする参照ガスが導入される。前記ガスセンサは、前記検出対象の分子を検出する。前記フィルタ部は参照ガス供給路に配置される。前記参照ガス供給路は、前記参照ガス導入口と、前記ガスセンサを収容するセンサ室との間を接続する。前記フィルタ部は、前記参照ガス中の前記検出対象の分子を低減させる第１フィルタと、前記参照ガス中の水分を低減させる第２フィルタと、を少なくとも含む。前記第１フィルタ及び前記第２フィルタは、それぞれ、中空糸を含む分離膜を有する。
　本開示の一態様のガス検出システムの制御方法は、参照ガス供給処理を含む。前記参照ガス供給処理では、試料ガスにおける検出対象の分子の濃度の基準とする参照ガスを、フィルタ部を通して、ガスセンサを収容するセンサ室に供給する。前記フィルタ部は、前記参照ガス中の前記検出対象の分子を低減させる第１フィルタと、前記参照ガス中の水分を低減させる第２フィルタと、を少なくとも含む。前記第１フィルタ及び前記第２フィルタは、それぞれ、中空糸を含む分離膜を有する。
図１は、本開示の一実施形態に係るガス検出システムの概略的なシステム構成図である。 図２は、同上のガス検出システムの検出動作を説明するフローチャートである。 図３は、同上のガス検出システムの休止状態の動作を説明するフローチャートである。 図４は、同上のガス検出システムの変形例１を示す概略的なシステム構成図である。 図５は、同上のガス検出システムの変形例２を示す概略的なシステム構成図である。 図６は、同上のガス検出システムの変形例３を示す概略的なシステム構成図である。 図７は、同上のガス検出システムの変形例４を示す概略的なシステム構成図である。 図８は、同上のガス検出システムの変形例５を示す概略的なシステム構成図である。 図９は、同上のガス検出システムの変形例６を示す概略的なシステム構成図である。 図１０は、同上のガス検出システムの変形例７を示す概略的なシステム構成図である。
　（実施形態）
　（１）概要
　以下の実施形態において説明する各図は、模式的な図であり、各図中の各構成要素の大きさ及び厚さそれぞれの比が、必ずしも実際の寸法比を反映しているとは限らない。
　図１は、本実施形態に係るガス検出システム１の概略的なシステム構成図である。
　本実施形態のガス検出システム１は、例えば、検出対象の分子として匂い成分の分子を検出するために用いられる。匂い成分の分子としては、揮発性有機化合物（ＶＯＣ：Volatile Organic Compounds）及びアンモニア等があるが、本実施形態のガス検出システム１は検出対象の分子としてＶＯＣを検出するために用いられる。本実施形態のガス検出システム１は、例えば、食品から捕集したガス、人体から採取した呼気、又は建物の部屋から採取した空気等の試料ガスに含まれる匂い成分の分子であるＶＯＣを検出する。なお、ガス検出システム１の検出対象の分子はＶＯＣに限定されず、ＶＯＣを含む複数種類の匂い成分の分子でもよいし、匂い成分以外の分子、例えば、可燃性ガス、一酸化炭素等の有毒ガス等の分子でもよい。
　本実施形態のガス検出システム１は、参照ガス導入口（第２吸気口Ｐ２）と、ガスセンサ１１と、フィルタ部２０と、を備える。参照ガス導入口には、試料ガスＧ１における検出対象の分子の濃度の基準とする参照ガスＧ２が導入される。ガスセンサ１１は、検出対象の分子を検出する。フィルタ部２０は参照ガス供給路Ｒ２に配置される。参照ガス供給路Ｒ２は、参照ガス導入口と、ガスセンサ１１を収容するセンサ室１００との間を接続する。フィルタ部２０は、参照ガスＧ２中の検出対象の分子（例えばＶＯＣ）を低減させる第１フィルタ３０と、参照ガスＧ２中の水分を低減させる第２フィルタ４０と、を少なくとも含む。第１フィルタ３０及び第２フィルタ４０は、それぞれ、中空糸を含む分離膜３３，４３を有している。
　また、本実施形態のガス検出システム１の制御方法は、参照ガス供給処理を含む。参照ガス供給処理では、試料ガスＧ１における検出対象の分子の濃度の基準とする参照ガスＧ２を、上記のフィルタ部２０を通して、ガスセンサ１１を収容するセンサ室１００に供給する。
　参照ガス供給路Ｒ２に、活性炭等の濾過材を用いたフィルタが接続されている場合、長期間使用するとフィルタエレメントが匂い分子を吸着することによって、フィルタ性能が低下する可能性がある。それに対して、本実施形態では、第１フィルタ３０及び第２フィルタ４０が、それぞれ、中空糸を含む分離膜３３，４３を備えているので、フィルタ部２０の劣化を抑制することができるという利点がある。
　また、本実施形態のガス検出システム１は、参照ガス導入口（第２吸気口Ｐ２）と、ガスセンサ１１と、フィルタ部２０とに加えて、遮断部ＣＢ１、を更に備えることが好ましい。遮断部ＣＢ１は、ガスセンサ１１による検出動作を停止する休止状態でフィルタ部２０を外気と遮断する。
　また、本実施形態のガス検出システム１の制御方法は、遮断処理を更に含むことが好ましい。遮断処理では、ガスセンサ１１による検出動作を停止する休止状態でフィルタ部２０を外気と遮断する。
　本実施形態のガス検出システム１では、休止状態において、遮断部ＣＢ１がフィルタ部２０を外気と遮断しているので、フィルタ部２０に外気が触れにくくなり、フィルタ部２０の劣化を抑制できる。これにより、本実施形態のガス検出システム１では、フィルタ部２０を通った後の参照ガスＧ２の品質が安定するので、試料ガスＧ１の検出結果のばらつきを低減することができる。
　（２）詳細
　以下、本実施形態に係るガス検出システム１及びその制御方法について図面を参照して詳しく説明する。
　（２．１）構成
　本実施形態のガス検出システム１は、上述のように、参照ガス導入口（第２吸気口Ｐ２）と、ガスセンサ１１と、フィルタ部２０と、を備える。また、ガス検出システム１は、水分量測定部１２と、制御部５１と、遮断部ＣＢ１と、を更に備える。
　また、ガス検出システム１は、ガス検出システム１の外部から試料ガスＧ１を導入するための第１吸気口Ｐ１と、ガス検出システム１の外部から参照ガスＧ２として導入するための第２吸気口Ｐ２（上記の参照ガス導入口）と、ガス検出システム１の内部のガスを外部へ排出するためのガス排出口Ｐ３と、を備えている。本実施形態では参照ガスＧ２としてガス検出システム１の周囲の環境中の空気が使用される。
　また、ガス検出システム１はエアポンプ９０を有し、エアポンプ９０が第１吸気口Ｐ１又は第２吸気口Ｐ２からガスを吸い込むことによって、第１吸気口Ｐ１又は第２吸気口Ｐ２から吸い込まれたガスがガスセンサ１１に供給された後、ガス排出口Ｐ３から外部に排出される。
　また、ガス検出システム１は、処理部５０を更に備えている。処理部５０は、例えばマイクロコントローラを含む。処理部５０は、上述した制御部５１と、検出部５２の機能を少なくとも有している。制御部５１は、ガス検出システム１が備える複数の電磁弁（二方向電磁弁７３、三方向電磁弁７５，７８、及び電磁比例制御弁７６等）、及びエアポンプ９０の動作を制御する。また、制御部５１は、アイドリング制御部５１１及び水分量制御部５１２等の機能を有している。アイドリング制御部５１１は、ガスセンサ１１による検出動作を停止する休止状態において、遮断部ＣＢ１を非遮断状態として、参照ガスＧ２をガスセンサ１１に供給するアイドリング動作を行うようにガス検出システム１を制御する。また、水分量制御部５１２は、水分量測定部１２の測定結果に基づいて、フィルタ部２０を通してガスセンサ１１に供給する参照ガスＧ２に含まれる水分量を調整する水分量調整処理をガス検出システム１に実行させる。検出部５２は、ガスセンサ１１の出力値に基づいてガス中の検出対象の分子（本実施形態ではＶＯＣ）を検出し、水分量測定部１２の出力値に基づいてガス中の水分量を検出する。
　また、ガス検出システム１は、ガスセンサ１１及び水分量測定部１２を収容するセンサ室１００を有するハウジング１０を備えている。
　ガスセンサ１１は、例えば電気化学式、半導体式、電界効果トランジスタ型、表面弾性波型、水晶振動子型又は抵抗変化型等のセンシング部を有している。センシング部は、検出対象の分子（本実施形態ではＶＯＣ）に対して感度を有しており、検出対象の分子の濃度に応じて例えば抵抗値が変化する。検出部５２は、ガスセンサ１１が有するセンシング部の抵抗値を電圧信号又は電流信号として取り出し、センシング部の抵抗値に基づいてセンサ室１００内のガス中の検出対象の分子を検出する。
　水分量測定部１２は、センサ室１００内のガス中の水分量を測定する。ガス中の水分量は、ガスの温度と湿度とを測定すれば求めることが可能である。本実施形態の水分量測定部１２は温湿度センサを含み、センサ室１００内のガスの温度と湿度とを測定する。そして、水分量測定部１２は、温度及び湿度の測定結果に基づいてガス中の水分量を求め、水分量の測定結果を検出部５２に出力する。センサ室１００内に参照ガスＧ２が供給されている状態では、水分量測定部１２は、フィルタ部２０を通った後の参照ガスＧ２に含まれる水分量を測定する。換言すると、参照ガスＧ２中の水分量を測定する処理（この処理を水分量測定処理とも言う。）では、フィルタ部２０を通った後の参照ガスＧ２に含まれる水分量を測定する。具体的には、水分量測定処理では、フィルタ部２０を通った後の参照ガスＧ２が流れる参照ガス供給路Ｒ２において、参照ガスＧ２の温度と湿度との測定結果に基づいて、参照ガスＧ２に含まれる水分量を測定している。
　ハウジング１０は、例えば、合成樹脂又は金属等の材料で箱形に形成されている。ハウジング１０には、ハウジング１０の外部からセンサ室１００にガス（試料ガスＧ１又は参照ガスＧ２）を導入するための第１ポート１０１と、センサ室１００からハウジング１０の外部へガスを出すための第２ポート１０２と、が設けられている。
　第１吸気口Ｐ１は配管６１ａを介して粒子フィルタ７１の入力ポートに接続され、粒子フィルタ７１の出力ポートは配管６１ｂを介して三方向電磁弁７５の第１入力ポートＰ１１に接続されている。第１吸気口Ｐ１には、試料ガスＧ１が入ったシリンジ又は捕集バッグ等が接続されてもよいし、第１吸気口Ｐ１に、試料ガスＧ１の発生源を近づけてもよい。第１吸気口Ｐ１に導入された試料ガスＧ１は粒子フィルタ７１によって粒径が比較的大きい塵等が除かれた後、三方向電磁弁７５の第１入力ポートＰ１１に導入される。
　第２吸気口Ｐ２は配管６２ａを介して粒子フィルタ７２の入力ポートに接続され、粒子フィルタ７２の出力ポートは配管６２ｂを介して二方向電磁弁７３の入力ポートに接続される。二方向電磁弁７３の出力ポートは配管６２ｃを介してフィルタ部２０に接続されている。
　フィルタ部２０は、第２吸気口Ｐ２から入力される参照ガスＧ２中の除去対象成分を低減させるために設けられている。
　ここで、フィルタ部２０は、互いに異なる除去対象成分を低減させる複数種類の対象別フィルタを含んでいる。フィルタ部２０は複数種類の対象別フィルタを含んでいるので、複数種類の対象別フィルタによって、複数種類の除去対象成分を低減させることができる。本実施形態では、フィルタ部２０は、例えば、ガスセンサ１１の検出対象の分子であるＶＯＣと、ガスセンサ１１の測定結果に影響を与える水分とを除去する。すなわち、フィルタ部２０は、複数種類の対象別フィルタとして、参照ガスＧ２中の検出対象の分子（本実施形態ではＶＯＣ）を低減させる第１フィルタ３０と、参照ガスＧ２中の水分を低減させる第２フィルタ４０と、を含んでいる。第１フィルタ３０及び第２フィルタ４０は互いに異なる除去対象成分を低減するので、フィルタ部２０が複数の対象別フィルタを備えることによって、複数種類の除去対象成分（本実施形態ではＶＯＣ及び水分）を低減することができる。なお、フィルタ部２０が有する対象別フィルタは、ＶＯＣを低減する第１フィルタ３０及び水分を低減する第２フィルタ４０に限定されない。フィルタ部２０は、ＶＯＣ及び水分以外の除去対象成分（例えばアンモニア、硫化水素、酸素、二酸化炭素、又は窒素等）を低減させる対象別フィルタを含んでもよい。
　第１フィルタ３０及び第２フィルタ４０は、それぞれ、中空糸を含む分離膜３３，４３を有している。
　第１フィルタ３０は、第２吸気口Ｐ２からセンサ室１００に向かって流れる気体が通る第１通過部３１と、センサ室１００からガス排出口Ｐ３に向かって流れる気体が通る第２通過部３２（いわゆるパージライン）とを有している。そして、第１フィルタ３０の内部には、第１通過部３１と第２通過部３２との間に、分離膜３３が配置されている。ＶＯＣを低減させる第１フィルタ３０は、例えばシリコーン系の合成樹脂製の中空糸で形成された分離膜３３を有している。
　同様に、第２フィルタ４０は、第２吸気口Ｐ２からセンサ室１００に向かって流れる気体が通る第１通過部４１と、センサ室１００からガス排出口Ｐ３に向かって流れる気体が通る第２通過部４２（いわゆるパージライン）とを有している。そして、第２フィルタ４０の内部には、第１通過部４１と第２通過部４２との間に、分離膜４３が配置されている。第２フィルタ４０は、例えばフッ素系の合成樹脂製の中空糸で形成された分離膜４３を有している。
　第１フィルタ３０の第１通過部３１の一端は配管６２ｃを介して二方向電磁弁７３の出力ポートに接続され、第１通過部３１の他端は配管６２ｄを介して第２フィルタ４０の第１通過部４１の一端に接続されている。第２フィルタ４０の第１通過部４１の他端は配管６２ｅを介して逆止弁７４の入力ポートに接続され、逆止弁７４の出力ポートは配管６２ｆを介して三方向電磁弁７５の第２入力ポートＰ１２に接続されている。三方向電磁弁７５の出力ポートＰ１３は配管６３を介してハウジング１０の第１ポート１０１に接続されている。ここにおいて、参照ガス導入口（第２吸気口Ｐ２）とセンサ室１００との間には、第１フィルタ３０が第２フィルタ４０に対して参照ガス導入口に近い側に位置するように、第１フィルタ３０と第２フィルタ４０とが配置されている。したがって、第１フィルタ３０によって検出対象の分子が低減された後の参照ガスＧ２を第２フィルタ４０に通すことができる。
　ハウジング１０の第２ポート１０２は配管６４ａを介して電磁比例制御弁７６の入力ポートに接続され、電磁比例制御弁７６の出力ポートは配管６４ｂを介して逆止弁７７の入力ポートに接続されている。電磁比例制御弁７６は、絞り量を調整可能な可変オリフィスであり、電磁比例制御弁７６の絞り量は制御部５１から入力される電気信号（例えば電流信号）によって制御される。逆止弁７７の出力ポートは配管６４ｃを介して三方向電磁弁７８の入力ポートＰ２３に接続される。三方向電磁弁７８の第１出力ポートＰ２１は配管６５ａを介して第２フィルタ４０の第２通過部４２の一端に接続されている。第２フィルタ４０の第２通過部４２の他端は配管６５ｂを介して第１フィルタ３０の第２通過部３２の一端に接続されており、第２通過部３２の他端は配管６５ｃを介して逆止弁７９の入力ポートに接続されている。逆止弁７９の出力ポートは配管６５ｄを介してエアポンプ９０の吸気ポートに接続されており、エアポンプ９０の吐出ポートは配管６７を介してガス排出口Ｐ３に接続されている。
　また、三方向電磁弁７８の第２出力ポートＰ２２は配管６６を介して配管６５ｄに連結されている。
　なお、本実施形態において配管６１ａ～６１ｂ、６２ａ～６２ｆ、６３、６４ａ～６４ｃ、６５ａ～６５ｄ、６６、６７は合成樹脂製又は金属製のパイプでもよいし、柔軟性を有する合成樹脂製のチューブでもよい。本実施形態のガス検出システム１は、図１に示す空圧回路と処理部５０とを筐体に収容して構成されている。
　本実施形態のガス検出システム１は、センサ室１００へのガスの供給路として、第１吸気口Ｐ１からセンサ室１００に試料ガスＧ１を供給する試料ガス供給路Ｒ１と、第２吸気口Ｐ２からセンサ室１００に参照ガスＧ２を供給する参照ガス供給路Ｒ２と、を備える。
　試料ガス供給路Ｒ１は、第１吸気口Ｐ１から配管６１ａ、粒子フィルタ７１、配管６１ｂ、三方向電磁弁７５、及び配管６３を通ってセンサ室１００にガスが流れる流路である。図１に示す試料ガス供給路Ｒ１はフィルタ部２０を通らない流路であり、この流路を第１試料ガス供給路Ｒ１Ａと言う場合もある。つまり、ガス検出システム１は、試料ガスＧ１を、フィルタ部２０を通さずにセンサ室１００（ガスセンサ１１）に供給する第１試料ガス供給路Ｒ１Ａを含んでいる。試料ガスＧ１を供給する第１試料ガス供給処理では、試料ガスＧ１を、第１試料ガス供給路Ｒ１Ａを通してセンサ室１００に供給する。
　また、参照ガス供給路Ｒ２は、第２吸気口Ｐ２から配管６２ａ、粒子フィルタ７２、配管６２ｂ、二方向電磁弁７３、配管６２ｃ、第１フィルタ３０の第１通過部３１、配管６２ｄ、第２フィルタ４０の第１通過部４１、配管６２ｅ、逆止弁７４、配管６２ｆ、三方向電磁弁７５、及び配管６３を通ってセンサ室１００にガスが流れる流路である。
　また、ガス検出システム１は、センサ室１００からのガスの排出路として、センサ室１００からフィルタ部２０を通してガス排出口Ｐ３から外部へガスを排出する第１排出路Ｒ３と、センサ室１００からフィルタ部２０を通さずにガス排出口Ｐ３から外部へガスを排出する第２排出路Ｒ４と、を備える。
　第１排出路Ｒ３は、センサ室１００から配管６４ａ、電磁比例制御弁７６、配管６４ｂ、逆止弁７７、配管６４ｃ、三方向電磁弁７８、配管６５ａ、第２フィルタ４０の第２通過部４２、配管６５ｂ、第１フィルタ３０の第２通過部３２、配管６５ｃ、逆止弁７９、配管６５ｄ、エアポンプ９０、及び配管６７を通ってガス排出口Ｐ３から外部へガスを排出する流路である。
　第２排出路Ｒ４は、センサ室１００から配管６４ａ、電磁比例制御弁７６、配管６４ｂ、逆止弁７７、配管６４ｃ、三方向電磁弁７８、配管６６、配管６５ｄ、エアポンプ９０、及び配管６７を通ってガス排出口Ｐ３から外部へガスを排出する流路である。
　ガス検出システム１は、センサ室１００から、フィルタ部２０を通る第１排出路Ｒ３を介して参照ガスＧ２を排出しており、第１排出路Ｒ３が参照ガス排出路として用いられる。つまり、ガス検出システム１は、センサ室１００に供給される参照ガスＧ２を第２フィルタ４０と第１フィルタ３０とに通した後に排出する。
　また、ガス検出システム１は、センサ室１００から、フィルタ部２０を通らない第２排出路Ｒ４を介して試料ガスＧ１を排出しており、第２排出路Ｒ４が試料ガス排出路として用いられる。図１に示す試料ガス排出路（第２排出路Ｒ４）は、フィルタ部２０を通らない流路であり、この流路を第１試料ガス排出路Ｒ４Ａと言う場合もある。ここにおいて、ガス検出システム１では、センサ室１００に導入される試料ガスＧ１を第１試料ガス排出路Ｒ４Ａを介して排出する。第１試料ガス排出路Ｒ４Ａは、センサ室１００と、少なくとも試料ガスＧ１を排出するガス排出口Ｐ３との間を、フィルタ部２０を通らずに接続する。
　（２．２）動作
　（２．２．１）検出動作
　本実施形態のガス検出システム１が、試料ガスＧ１中の検出対象の分子を検出する動作について説明する。試料ガスＧ１中の検出対象の分子を検出する場合、ガス検出システム１は、検出対象の分子を低減した、換言すれば検出対象の分子が殆ど存在しない参照ガスＧ２をガスセンサ１１に供給し、ガスセンサ１１の出力値を基準値として取得する。その後、ガス検出システム１は、試料ガスＧ１をガスセンサ１１に供給し、この時のガスセンサ１１の出力値と、上記の基準値とに基づいて、試料ガスＧ１中の検出対象の分子を検出する。
　以下、ガス検出システム１の検出動作を図２のフローチャートに基づいて説明する。
　制御部５１は、検出動作を開始すると、二方向電磁弁７３を開状態に切り替えて、エアポンプ９０を起動させる（Ｓ１）。三方向電磁弁７５は、第２入力ポートＰ１２がノーマリオープン、三方向電磁弁７８は第１出力ポートＰ２１がノーマリオープンであるので、第２吸気口Ｐ２から導入された参照ガスＧ２が参照ガス供給路Ｒ２を通ってセンサ室１００に導入された後、センサ室１００から排出された参照ガスＧ２は第１排出路Ｒ３を通ってガス排出口Ｐ３から外部へと排出される。
　本実施形態の制御部５１は、参照ガスＧ２をセンサ室１００に供給して基準値を取得する第１期間と、試料ガスＧ１をセンサ室１００に供給して検出対象の分子を検出する第２期間とを交互に繰り返している。
　第１期間（Ｓ２：Ｙｅｓ）では、二方向電磁弁７３を開状態に制御し、三方向電磁弁７５を、第２入力ポートＰ１２が開状態、第１入力ポートＰ１１が閉状態となるように切り替え、三方向電磁弁７８を、第１出力ポートＰ２１が開状態、第２出力ポートＰ２２が閉状態となるように切り替える（Ｓ３）。これにより、第２吸気口Ｐ２から参照ガス供給路Ｒ２を通ってセンサ室１００に参照ガスＧ２が導入された後、センサ室１００から第１排出路Ｒ３（参照ガス排出路）を通って参照ガスＧ２が排出されるように、ガスの流路が切り替えられる。この状態で制御部５１がエアポンプ９０を動作させると、第２吸気口Ｐ２から吸引された参照ガスＧ２が参照ガス供給路Ｒ２を通ってセンサ室１００に導入された後、第１排出路Ｒ３を通ってガス排出口Ｐ３から排出される。
　第１期間において、第２吸気口Ｐ２に導入された参照ガスＧ２は粒子フィルタ７２によって粒径が比較的大きい塵等が除かれた後、二方向電磁弁７３を通って第１フィルタ３０の第１通過部３１に供給される。参照ガスＧ２が第１フィルタ３０の第１通過部３１に流れると、第１通過部３１に比べて第２通過部３２の方が低圧であるため、参照ガスＧ２中の除去対象成分であるＶＯＣは分離膜３３に浸透する。分離膜３３に浸透したＶＯＣは、分離膜３３中を拡散して第２通過部３２側へ移動し、分離膜３３から脱離することによって第２通過部３２内に移動する。そして、第２通過部３２に移動したＶＯＣは第２通過部３２から、配管６５ｃ、逆止弁７９、配管６５ｄ、エアポンプ９０、及び配管６７を通り、ガス排出口Ｐ３から外部へと排出される。
　また、第１フィルタ３０の第１通過部３１を通過した参照ガスＧ２が配管６２ｄを通って第２フィルタ４０の第１通過部４１に流れると、第１通過部４１に比べて第２通過部４２が低圧であるため、参照ガスＧ２中の除去対象成分である水分が分離膜４３に浸透する。分離膜４３に浸透した水分は、分離膜４３中を拡散して第２通過部４２側へ移動し、分離膜４３から脱離することによって第２通過部４２内に移動する。そして、第２通過部４２に移動した水分は第２通過部４２から、配管６５ｂ、第１フィルタ３０の第２通過部３２、配管６５ｃ、逆止弁７９、配管６５ｄ、エアポンプ９０、及び配管６７を通り、ガス排出口Ｐ３から外部へと排出される。
　このように、第２吸気口Ｐ２に導入された参照ガスＧ２は第１フィルタ３０及び第２フィルタ４０を通過することで、参照ガスＧ２中のＶＯＣ及び水分が低減された後、ハウジング１０のセンサ室１００へと送られる。さらに言えば、参照ガスＧ２をフィルタ部２０に通してガスセンサ１１に供給する参照ガス供給処理では、参照ガスＧ２を、第１フィルタ３０に通した後に、第２フィルタ４０に通して、センサ室１００（ガスセンサ１１）に供給している。したがって、ガスセンサ１１にはＶＯＣ及び水分を低減した後の参照ガスＧ２が供給されるので、この状態でのガスセンサ１１の出力値を検出対象の分子であるＶＯＣの基準として求めることができる。また、ガスセンサ１１には水分を低減した後の参照ガスＧ２が供給されるので、参照ガスＧ２に含まれる水分によってガスセンサ１１が劣化したり、測定結果が変動したりする可能性を低減できる。
　また、第２フィルタ４０が有する分離膜４３はフッ素系合成樹脂製の中空糸で形成されており、フッ素系合成樹脂はＶＯＣによって劣化しやすい性質がある。本実施形態では、第１フィルタ３０によってＶＯＣが低減された後の参照ガスＧ２が第２フィルタ４０に供給されるので、第２フィルタ４０の分離膜４３がＶＯＣによって劣化される可能性を低減できる。また、第１フィルタ３０及び第２フィルタ４０は中空糸で形成された分離膜３３，４３を用いて参照ガスＧ２中の除去対象成分を低減しており、活性炭等の濾過材を用いるフィルタのように濾過材の交換が不要であるため、メンテナンスフリーを実現できる。
　ここで、制御部５１の水分量制御部５１２は、第１期間において、水分量測定部１２によって測定された参照ガスＧ２中の水分量に基づいて、電磁比例制御弁７６の絞り量を調整することで、参照ガスＧ２中の水分量を調整する水分量調整処理を行う（Ｓ４）。
　水分量制御部５１２は、例えば、水分量測定部１２によって測定されたセンサ室１００での参照ガスＧ２の絶対湿度量と所定の基準湿度との高低を比較する。基準湿度は例えば１ｇ／ｍ３であるが、基準湿度は使用条件等に応じて適宜変更が可能である。
　センサ室１００での参照ガスＧ２の絶対湿度量が基準湿度よりも高ければ、水分量制御部５１２は、電磁比例制御弁７６のオリフィス径を第１開口径に制御する。第１開口径は参照ガスＧ２の絶対湿度量が基準湿度以下である場合のオリフィス径に比べて小さい開口径に設定されている。水分量制御部５１２が、電磁比例制御弁７６のオリフィス径を第１開口径に制御することで、電磁比例制御弁７６の前後での圧力差が大きくなり、第２フィルタ４０の第２通過部４２の圧力が低くなる。これにより、第１通過部４１と第２通過部４２との圧力差が増加し、第２フィルタ４０において第１通過部４１から分離膜４３を透過して第２通過部４２に移動する水分量が増加するので、センサ室１００での参照ガスＧ２中の水分量が減少し、所定の基準湿度へと近づく。
　一方、センサ室１００での参照ガスＧ２の絶対湿度量が基準湿度以下であれば、水分量制御部５１２は、電磁比例制御弁７６のオリフィス径を第１開口径に比べて大きい第２開口径に制御する。この場合、電磁比例制御弁７６のオリフィス径が第１開口径であるときに比べて、電磁比例制御弁７６の前後での圧力差が小さくなり、第２フィルタ４０の第２通過部４２の圧力が高くなる。これにより、第１通過部４１と第２通過部４２との圧力差が減少し、第２フィルタ４０において第１通過部４１から分離膜４３を透過して第２通過部４２に移動する水分量が減少するので、センサ室１００での参照ガスＧ２中の水分量が増加し、所定の基準湿度へと近づく。
　このように、水分量制御部５１２は、第２フィルタ４０の第１通過部４１と第２通過部４２との圧力差を調整することによってセンサ室１００での参照ガスＧ２の絶対湿度量を基準湿度に維持しており、検出部５２は、この状態でのガスセンサ１１の出力値に基づいて、検出対象の分子の濃度の基準値を取得する（Ｓ５）。つまり、水分量制御部５１２は、水分量調整処理では、第２フィルタ４０が有する分離膜４３の圧力差を調整している。第１期間では、参照ガスＧ２中の水分量を調整することによって、参照ガスＧ２の品質が安定に制御されているので、検出対象の分子であるＶＯＣの濃度の基準値がばらつくのを抑制でき、これによって試料ガスＧ１中のＶＯＣをより正確に測定することができる。このように、ガス検出システム１は、第１期間において、試料ガスＧ１における検出対象の分子の濃度の基準とする参照ガスＧ２を、参照ガスＧ２中の除去対象成分を低減するフィルタ部２０を通して、ガスセンサ１１を収容するセンサ室１００に供給する参照ガス供給処理（Ｓ３～Ｓ５）を行っている。
　次に、第２期間でのガス検出システム１の動作について説明する。第２期間では（Ｓ２：Ｎｏ）、制御部５１は、二方向電磁弁７３を閉状態に制御し、三方向電磁弁７５を、第１入力ポートＰ１１が開状態、第２入力ポートＰ１２が閉状態となるように切り替え、三方向電磁弁７８を、第１出力ポートＰ２１が閉状態、第２出力ポートＰ２２が開状態となるように切り替える（Ｓ６）。これにより、第１吸気口Ｐ１から試料ガス供給路Ｒ１を通ってセンサ室１００に試料ガスＧ１が導入された後、センサ室１００から第２排出路Ｒ４（試料ガス排出路）を通って試料ガスＧ１が排出されるように、ガスの流路が切り替えられる。この状態で制御部５１がエアポンプ９０を動作させると、第１吸気口Ｐ１から吸引された試料ガスＧ１が試料ガス供給路Ｒ１を通ってセンサ室１００に導入された後、第２排出路Ｒ４を通ってガス排出口Ｐ３から排出される。
　この第２期間において、検出部５２は、ガスセンサ１１の出力値を取得し（Ｓ７）、この出力値と第１期間に取得した基準値とに基づいて、試料ガスＧ１中の検出対象の分子（本実施形態では匂い成分であるＶＯＣ）を検出する処理を行う（Ｓ８）。ここで、検出部５２は、検出対象の分子の有無を検出してもよいし、検出対象の分子の濃度を検出してもよいし、検出対象の分子の濃度が所定の設定値よりも高い又は低い状態を検出してもよい。また、第２期間では、フィルタ部２０をバイパスする第２排出路Ｒ４を通って試料ガスＧ１が排出されるので、第１フィルタ３０を通っていない試料ガスＧ１が第２フィルタ４０を通過することはなく、ＶＯＣによる第２フィルタ４０の劣化を抑制できる。
　そして、ガス検出システム１の制御部５１は、第１期間と第２期間とを交互に繰り返すことで、試料ガスＧ１中のＶＯＣを検出する検出動作を繰り返し実行する。その際、２サイクル目以降は、第１期間の参照ガスＧ２中の水分量を調整する水分量調整処理（Ｓ４）を省略してもよい。また、第１期間及び第２期間の長さは例えば１０秒間に設定されているが、第１期間及び第２期間の長さは適宜変更可能であり、第１期間の長さと第２期間の長さが互いに異なる長さに設定されていてもよい。
　上述のように、本実施形態のガス検出システム１は、試料ガスＧ１をセンサ室１００に供給する試料ガス供給路Ｒ１とは別に、参照ガスＧ２をフィルタ部２０に通した後でセンサ室１００に供給する参照ガス供給路Ｒ２を備えている。第２吸気口Ｐ２から導入された参照ガスＧ２はフィルタ部２０で検出対象の分子（本実施形態ではＶＯＣ）及び水分が低減された後にセンサ室１００に供給されているので、環境中の空気を参照ガスＧ２として使用することができる。
　また、ガス検出システム１は、センサ室１００から参照ガスＧ２を排出するための第１排出路Ｒ３とは別に、センサ室１００からフィルタ部２０を通さずに試料ガスＧ１を排出するための第２排出路Ｒ４を備えている。これにより、検出対象の分子（本実施形態ではＶＯＣ）及び水分を含む試料ガスＧ１は、フィルタ部２０のパージライン（第２通過部３２，４２）を通らずに外部に排出されるので、フィルタ部２０のフィルタ性能が劣化するのを抑制できる。例えば、食品から採取したガス又は呼気等の水分を含むガスを試料ガスＧ１とする場合、試料ガスＧ１は第２排出路Ｒ４を通って外部に排出されるので、フィルタ部２０のフィルタ性能の劣化を抑制できる。
　また、ガス検出システム１は、センサ室１００の下流側に電磁比例制御弁７６を備えており、電磁比例制御弁７６のオリフィス径を絞ることによってセンサ室１００を通過するガス（試料ガスＧ１及び参照ガスＧ２）の流量を減少させることができる。これにより、フィルタ部２０のフィルタ性能およびガスセンサ１１の劣化を抑制できる。
　（２．２．２）休止状態
　本実施形態のガス検出システム１が、試料ガスＧ１の検出動作を停止する休止状態を図３のフローチャートに基づいて説明する。
　休止状態では、制御部５１は、二方向電磁弁７３を閉状態に制御し、三方向電磁弁７５を、第２入力ポートＰ１２が開状態、第１入力ポートＰ１１が閉状態となるように切り替え、三方向電磁弁７８を、第１出力ポートＰ２１が開状態、第２出力ポートＰ２２が閉状態となるように切り替える（Ｓ１０）。
　これにより、第１吸気口Ｐ１からの外気の流入は三方向電磁弁７５によって阻止され、第２吸気口Ｐ２からの外気の流入は二方向電磁弁７３によって阻止され、ガス排出口Ｐ３からの外気の流入は逆止弁７９と三方向電磁弁７８とによって阻止される。本実施形態のガス検出システム１は、ガスセンサ１１による検出動作を停止する休止状態でフィルタ部２０を外気と遮断する遮断処理（Ｓ１０）を行う。本実施形態では、参照ガス供給路Ｒ２を含む複数の流路が、フィルタ部２０と外部とをそれぞれ接続している。参照ガス供給路Ｒ２を含む複数の流路は、例えば試料ガス供給路Ｒ１、参照ガス供給路Ｒ２、第１排出路Ｒ３及び第２排出路Ｒ４等である。これら複数の流路には、それぞれ、遮断要素として二方向電磁弁７３、三方向電磁弁７５，７８、及び逆止弁７９が設けられており、電源オフ時等の休止状態ではこれらの遮断要素によって複数の流路が遮断されている。つまり、遮断部ＣＢ１は、複数の流路のそれぞれに設けられた複数の遮断要素を含み、複数の遮断要素は、それぞれ、休止状態において、フィルタ部２０と外部とを遮断する。これにより、フィルタ部２０に外気が触れにくくなり、フィルタ部２０の劣化を抑制できる。なお、遮断部ＣＢ１は、電磁力で開状態と閉状態とのいずれかに切り替える電磁切替弁（具体的には上記の二方向電磁弁７３及び三方向電磁弁７５，７８）を含んでいるので、制御部５１からの電気信号で電磁切替弁の開状態と閉状態とを切り替えることができる。また、遮断部ＣＢ１は、逆止弁７９を含んでいる。遮断部ＣＢ１が遮断要素として逆止弁７９を含む場合、遮断要素として電磁切替弁を含む場合に比べて電源及び信号線が不要であるという利点がある。
　なお、休止状態に移行する場合に、制御部５１は、二方向電磁弁７３を閉状態に制御し、三方向電磁弁７５を、第２入力ポートＰ１２が開状態、第１入力ポートＰ１１が閉状態となるように切り替え、三方向電磁弁７８を、第１出力ポートＰ２１が開状態、第２出力ポートＰ２２が閉状態となるように切り替えた状態で、エアポンプ９０を動作させることで（Ｓ１１）、フィルタ部２０を含む回路内の圧力を、外部の圧力より低い圧力（例えば真空状態）に減圧してもよい。エアポンプ９０を動作させると、逆止弁７９が開状態となって、フィルタ部２０を含む回路内の圧力が減圧される。制御部５１はエアポンプ９０を所定時間動作させると、エアポンプ９０を停止させる（Ｓ１２）。エアポンプ９０が停止すると、逆止弁７９が閉状態となるので、遮断部ＣＢ１で遮断されたフィルタ部２０を含む回路部分の圧力が負圧に保持される。休止状態において、二方向電磁弁７３からハウジング１０を通って逆止弁７９に至るまでの回路Ｃ１の圧力が減圧されていれば、逆止弁７９が開きにくくなるので、フィルタ部２０に外気が接触する可能性を低減できる。
　（２．２．３）アイドリング動作
　本実施形態のガス検出システム１において、制御部５１のアイドリング制御部５１１が、休止状態において、参照ガスＧ２をフィルタ部２０に流すアイドリング動作を行うアイドリング期間を設けてもよい。すなわち、ガス検出システム１は、休止状態において、遮断部ＣＢ１を非遮断状態として、参照ガスＧ２をガスセンサ１１に供給するアイドリング動作を行うアイドリング制御部５１１を更に備えている。
　アイドリング期間では、第２吸気口Ｐ２から導入された参照ガスＧ２が参照ガス供給路Ｒ２を通ってセンサ室１００に供給された後、第１排出路Ｒ３（参照ガス排出路）を通って外部に排出される。第２フィルタ４０が備える中空糸の分離膜４３は、その乾燥状態によってフィルタ性能が大きく変化する。休止状態が長時間継続したことによって、分離膜４３が湿気を多く含んでいるとフィルタ性能が低下する可能性がある。そこで、アイドリング期間においてフィルタ部２０に参照ガスＧ２を流すことによって、第２フィルタ４０が備える中空糸の分離膜４３を乾燥させることができ、第２フィルタ４０のフィルタ性能が向上する。
　ここで、制御部５１は、休止状態において、水分量測定部１２の測定結果に基づいて検出部５２が検出した水分量が所定の第１閾値よりも高くなると、二方向電磁弁７３を開状態に切り替えて、エアポンプ９０を動作させることでアイドリング動作を開始する。その後、制御部５１は、検出部５２が検出した水分量が所定の第２閾値以下になると、二方向電磁弁７３を閉状態に切り替えた後に、エアポンプ９０を停止させ、遮断部ＣＢ１で遮断されたフィルタ部２０を含む回路部分を負圧の状態で維持する。
　このように、ガス検出システム１は、休止状態において検出部５２が検出した水分量が第１閾値よりも高くなるとアイドリング動作を実行するので、第２フィルタ４０を乾燥した状態で維持でき、第２フィルタ４０を乾燥させた状態で検出動作を再開することができる。
　ここで、制御部５１は、アイドリング動作を行う場合の参照ガスＧ２の流量を、検出動作を行う場合の第１期間における参照ガスＧ２の流量よりも大きくするように、電磁比例制御弁７６のオリフィス径を制御するのが好ましい。これにより、アイドリング期間において参照ガスＧ２を大流量で流すことによって、フィルタ部２０を短時間で乾燥させてアイドリング動作を終了することができる。
　なお、本実施形態では、制御部５１は、水分量測定部１２の測定結果に基づいてアイドリング動作の開始タイミング及び終了タイミングを決定しているが、ガス中の水分量によって出力値が変化するガスセンサ１１の出力値に基づいて、アイドリング動作の開始タイミング及び終了タイミングを決定してもよい。制御部５１が、ガス中の水分量によって出力値が変化するガスセンサ１１の出力値に基づいて、アイドリング動作の開始タイミング及び終了タイミングを決定するのであれば、ガス検出システム１が水分量測定部１２を備えることは必須ではない。制御部５１は、第１期間において、ガスセンサ１１の出力値に基づいてガス中の水分量を推定し、水分量の推定結果に基づいてエアポンプ９０の動作を制御することで、参照ガスＧ２の品質が安定し、それによって試料ガスＧ１の検出結果のばらつきを低減できる。また、ガスセンサ１１は経時変化によって特性が変動したり劣化したりする可能性があるが、アイドリング期間においてＶＯＣ及び水分が低減された参照ガスＧ２をガスセンサ１１に供給することで、ガスセンサ１１の特性を初期状態に戻すことができる。
　（３）変形例
　上記実施形態は、本開示の様々な実施形態の一つに過ぎない。上記実施形態は、本開示の目的を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。また、ガス検出システム１と同様の機能は、ガス検出システム１の制御方法、コンピュータプログラム、又はプログラムを記録した非一時的な記録媒体等で具現化されてもよい。一態様に係るガス検出システム１の制御方法は、上述した参照ガス供給処理、を含む。一態様に係る（コンピュータ）プログラムは、コンピュータシステムに、上述した参照ガス供給処理を実行させるためのプログラムである。
　以下、上記の実施形態の変形例を列挙する。以下に説明する変形例は、適宜組み合わせて適用可能である。
　本開示におけるガス検出システム１は、例えば処理部５０としてコンピュータシステムを含んでいる。コンピュータシステムは、ハードウェアとしてのプロセッサ及びメモリを主構成とする。コンピュータシステムのメモリに記録されたプログラムをプロセッサが実行することによって、本開示におけるガス検出システム１としての機能が実現される。プログラムは、コンピュータシステムのメモリに予め記録されてもよく、電気通信回線を通じて提供されてもよく、コンピュータシステムで読み取り可能なメモリカード、光学ディスク、ハードディスクドライブ等の非一時的記録媒体に記録されて提供されてもよい。コンピュータシステムのプロセッサは、半導体集積回路（ＩＣ）又は大規模集積回路（ＬＳＩ）を含む１ないし複数の電子回路で構成される。ここでいうＩＣ又はＬＳＩ等の集積回路は、集積の度合いによって呼び方が異なっており、システムＬＳＩ、ＶＬＳＩ（Very Large Scale Integration）、又はＵＬＳＩ（Ultra Large Scale Integration）と呼ばれる集積回路を含む。さらに、ＬＳＩの製造後にプログラムされる、ＦＰＧＡ（Field-Programmable Gate Array）、又はＬＳＩ内部の接合関係の再構成若しくはＬＳＩ内部の回路区画の再構成が可能な論理デバイスについても、プロセッサとして採用することができる。複数の電子回路は、１つのチップに集約されていてもよいし、複数のチップに分散して設けられていてもよい。複数のチップは、１つの装置に集約されていてもよいし、複数の装置に分散して設けられていてもよい。ここでいうコンピュータシステムは、１以上のプロセッサ及び１以上のメモリを有するマイクロコントローラを含む。したがって、マイクロコントローラについても、半導体集積回路又は大規模集積回路を含む１ないし複数の電子回路で構成される。
　また、ガス検出システム１における複数の機能が、１つの筐体内に集約されていることはガス検出システム１に必須の構成ではなく、ガス検出システム１の構成要素は、複数の筐体に分散して設けられていてもよい。さらに、ガス検出システム１の少なくとも一部の機能、例えば、処理部５０の一部の機能がクラウド（クラウドコンピューティング）等によって実現されてもよい。
　上記の実施形態において、測定データなどの２値の比較において、「より大きい」としているところは「以上」であってもよい。つまり、２値の比較において、２値が等しい場合を含むか否かは、基準値等の設定次第で任意に変更できるので、「より大きい」か「以上」かに技術上の差異はない。同様に、「以下」としているところは「未満」であってもよい。
　上記の実施形態では、三方向電磁弁７８の上流側（ハウジング１０側）に電磁比例制御弁７６が配置されているが、この電磁比例制御弁７６に代えて、図４に示す変形例１のように、三方向電磁弁７８の第１出力ポートＰ２１及び第２出力ポートＰ２２の下流側にそれぞれ電磁比例制御弁７６Ａ，７６Ｂが配置されてもよい。すなわち、三方向電磁弁７８の第１出力ポートＰ２１とフィルタ部２０の間に電磁比例制御弁７６Ａを配置し、この電磁比例制御弁７６Ａによって第１排出路Ｒ３を流れるガスの流量を制御してもよい。また、三方向電磁弁７８の第２出力ポートＰ２２と、配管６６，６５ｄの合流部分との間に電磁比例制御弁７６Ｂを配置し、この電磁比例制御弁７６Ｂによって第２排出路Ｒ４を流れるガスの流量を制御してもよい。
　上記の実施形態では、第２吸気口Ｐ２とフィルタ部２０との間に二方向電磁弁７３が配置されているが、この二方向電磁弁７３に代えて、図５に示す変形例２のように、逆止弁８０が接続されていてもよい。二方向電磁弁７３に代えて逆止弁８０を用いることで、電源及び制御部５１と接続するための配線が不要になる。
　上記の実施形態では、電磁比例制御弁７６と三方向電磁弁７８との間に逆止弁７７が配置されているが、この逆止弁７７に代えて、図６に示す変形例３のように、二方向電磁弁８１が配置されてもよい。逆止弁７７に代えて二方向電磁弁８１を用いることで、二方向電磁弁８１が意図せず開状態となるのを防止でき、休止状態においてフィルタ部２０を含む回路部分の気密性を高めることができる。なお、上記の実施形態において、逆止弁７４及び７９に代えて二方向電磁弁を用いてもよい。
　また上記の実施形態において、電磁比例制御弁７６と三方向電磁弁７８との間に接続されている逆止弁７７をなくしてもよい。すなわち、図７に示す変形例４のように、電磁比例制御弁７６の出力ポートと三方向電磁弁７８の入力ポートＰ２３とを配管６４ｂを介して直接接続してもよく、逆止弁７７を削減できる。なお、上述した図５に示すガス検出システム１において、電磁比例制御弁７６と三方向電磁弁７８との間に接続されている逆止弁７７をなくしてもよい。つまり、図８に示す変形例５のように、電磁比例制御弁７６の出力ポートと三方向電磁弁７８の入力ポートＰ２３とを配管６４ｂを介して直接接続してもよく、逆止弁７７を削減できる。
　また、上記の実施形態では、試料ガス供給路Ｒ１がフィルタ部２０を通っていないが、図９に示す変形例６のように、試料ガス供給路Ｒ１が、フィルタ部２０のうち水分用の第２フィルタ４０のみを通るように構成されてもよい。
　変形例６のガス検出システム１では、三方向電磁弁７５の第２入力ポートＰ１２が配管６２ｄを介して第１フィルタ３０の第１通過部３１に接続され、三方向電磁弁７５の出力ポートＰ１３が配管６３ａを介して第２フィルタ４０の第１通過部４１の一端に接続されている。そして、第２フィルタ４０の第１通過部４１の他端は配管６３ｂを介して逆止弁７４の入力ポートに接続され、逆止弁７４の出力ポートは配管６３ｃを介してハウジング１０の第１ポート１０１に接続されている。
　変形例６のガス検出システム１の動作は、試料ガスＧ１をセンサ室１００に供給する処理（図２の処理Ｓ６）を除いて、上記実施形態のガス検出システム１の動作と同じである。
　変形例６のガス検出システム１が、参照ガスＧ２をセンサ室１００に供給する参照ガス供給処理（図２の処理Ｓ３）は、上記実施形態のガス検出システム１と同じであるので、その説明は省略する。上述のように、センサ室１００に供給される参照ガスＧ２は、参照ガス排出路（第１排出路Ｒ３）を通ってガス排出口Ｐ３から外部に排出される。参照ガス供給路Ｒ２は、参照ガスＧ２が導入される参照ガス導入口（第２吸気口Ｐ２）と、センサ室１００との間を接続し、参照ガス導入口から導入される参照ガスＧ２を第１フィルタ３０と第２フィルタ４０とに通した後にセンサ室１００に導入する。参照ガス排出路（第１排出路Ｒ３）は、センサ室１００と、少なくとも参照ガスＧ２を排出するガス排出口Ｐ３との間を接続し、センサ室１００から排出される参照ガスＧ２を第２フィルタ４０と第１フィルタ３０とに通した後にガス排出口Ｐ３から排出させる。
　変形例６のガス検出システム１では、上述の第２期間において、制御部５１は、二方向電磁弁７３を閉状態に制御し、三方向電磁弁７５を、第１入力ポートＰ１１が開状態、第２入力ポートＰ１２が閉状態となるように切り替え、三方向電磁弁７８を、第１出力ポートＰ２１が閉状態、第２出力ポートＰ２２が開状態となるように切り替える（図２のＳ６）。これにより、第１吸気口Ｐ１から導入された試料ガスＧ１は、配管６１ａ、粒子フィルタ７１、配管６１ｂ、三方向電磁弁７５、配管６３ａ、第２フィルタ４０、配管６３ｂ、逆止弁７４、及び配管６３ｃを通ってセンサ室１００に導入されるように試料ガス供給路Ｒ１が設定される。そして、センサ室１００に導入された試料ガスＧ１は、センサ室１００から配管６４ａ、電磁比例制御弁７６、配管６４ｂ、逆止弁７７、配管６４ｃ、三方向電磁弁７８、配管６６，６５ｄ、エアポンプ９０、及び配管６７を通ってガス排出口Ｐ３から排出されるように第１試料ガス排出路Ｒ４Ａ（第２排出路Ｒ４）が設定される。この状態で制御部５１がエアポンプ９０を動作させると、第１吸気口Ｐ１から吸引された試料ガスＧ１が第２試料ガス供給路Ｒ１Ｂを通ってセンサ室１００に導入された後、第１試料ガス排出路Ｒ４Ａ（第２排出路Ｒ４）を通ってガス排出口Ｐ３から排出される。変形例６では、試料ガス供給路Ｒ１が、第１フィルタ３０は通らず、第２フィルタ４０のみを通る流路であり、この流路を第２試料ガス供給路Ｒ１Ｂと言う場合もある。つまり、変形例６のガス検出システム１は、試料ガスＧ１を、第１フィルタ３０は通らずに、第２フィルタ４０を通してセンサ室１００に供給する第２試料ガス供給路Ｒ１Ｂを含んでいる。そして、変形例６のガス検出システム１では、試料ガスＧ１をセンサ室１００に供給する場合、試料ガスＧ１を、第１フィルタ３０は通らずに第２フィルタ４０を通る第２試料ガス供給路Ｒ１Ｂを通して、センサ室１００に供給する第２試料ガス供給処理を実行する。
　このガス検出システム１では、試料ガスＧ１を第２フィルタ４０に通すことによって、試料ガスＧ１中の水分が低減されるので、ガスセンサ１１の出力値が試料ガスＧ１中の水分の影響を受けにくくなり、水分によって発生する測定誤差を低減できる。
　なお、変形例６のガス検出システム１では、試料ガスＧ１を排出する第２排出路Ｒ４はフィルタ部２０を通っていないが、図１０に示す変形例７のように、第２排出路Ｒ４が、フィルタ部２０のうち水分用の第２フィルタ４０のみを通るように構成されてもよい。
　変形例７のガス検出システム１では、第２フィルタ４０の第２通過部４２が配管６５ｅを介して三方向電磁弁７８の入力ポートＰ２３に接続され、三方向電磁弁７８の第１出力ポートＰ２１が配管６５ｆを介して第１フィルタ３０の第２通過部３２に接続されている。三方向電磁弁７８の第２出力ポートＰ２２は配管６６を介して配管６５ｄに接続されている。なお、逆止弁７７の出力ポートは配管６４ｃを介して第２フィルタ４０の第２通過部４２に接続されている。
　変形例７のガス検出システム１の動作は、試料ガスＧ１を第２試料ガス供給路Ｒ１Ｂを介してセンサ室１００に供給した後、第２排出路Ｒ４を通してガス排出口Ｐ３から外部へ排出する処理（図２の処理Ｓ６）を除いて、上述した変形例６のガス検出システム１の動作と同じである。ガス検出システム１が、参照ガスＧ２をセンサ室１００に供給する参照ガス供給処理（図２の処理Ｓ３）は、上述の実施形態のガス検出システム１と同じであるので、その説明は省略する。
　変形例７のガス検出システム１では、第２期間において、制御部５１は、二方向電磁弁７３を閉状態に制御し、三方向電磁弁７５を、第１入力ポートＰ１１が開状態、第２入力ポートＰ１２が閉状態となるように切り替え、三方向電磁弁７８を、第１出力ポートＰ２１が閉状態、第２出力ポートＰ２２が開状態となるように切り替える（図２のＳ６）。これにより、第１吸気口Ｐ１から導入された試料ガスＧ１は、配管６１ａ、粒子フィルタ７１、配管６１ｂ、三方向電磁弁７５、配管６３ａ、第２フィルタ４０、配管６３ｂ、逆止弁７４、及び配管６３ｃを通ってセンサ室１００に導入されるように第２試料ガス供給路Ｒ１Ｂが設定される。
　また、センサ室１００に導入された試料ガスＧ１は、センサ室１００から配管６４ａ、電磁比例制御弁７６、配管６４ｂ、逆止弁７７、配管６４ｃ、第２フィルタ４０、配管６５ｅ、三方向電磁弁７８、配管６６，６５ｄ、エアポンプ９０、及び配管６７を通ってガス排出口Ｐ３から排出されるように第２排出路Ｒ４が設定される。この状態で制御部５１がエアポンプ９０を動作させると、第１吸気口Ｐ１から吸引された試料ガスＧ１が試料ガス供給路Ｒ１を通ってセンサ室１００に供給される。そして、センサ室１００に供給される試料ガスＧ１は、第２排出路Ｒ４を通ってガス排出口Ｐ３から外部に排出される。
　変形例７のガス検出システム１では、試料ガス排出路である第２排出路Ｒ４は、センサ室１００内のガスを第２フィルタ４０に通した後、第１フィルタ３０は通さずにガス排出口Ｐ３から外部に排出させる流路であり、この流路を第２試料ガス供給路Ｒ１Ｂと言う場合もある。
　上述のように、変形例７のガス検出システム１は、センサ室１００に導入される試料ガスＧ１を、第２試料ガス排出路Ｒ４Ｂを通して排出する。第２試料ガス排出路Ｒ４Ｂは、センサ室１００と、少なくとも試料ガスＧ１を排出するガス排出口Ｐ３との間を接続し、センサ室１００から排出される試料ガスＧ１を第２フィルタ４０に通した後、第１フィルタ３０を通さずにガス排出口Ｐ３から排出させる。
　これにより、第１吸気口Ｐ１から導入された試料ガスＧ１は第２フィルタ４０の第１通過部４１を通ってセンサ室１００に供給された後、センサ室１００から第２フィルタ４０の第２通過部４２を通ってガス排出口Ｐ３から外部に排出される。
　第２試料ガス供給路Ｒ１Ｂ及び第２試料ガス排出路Ｒ４Ｂがそれぞれ第２フィルタ４０を通過しており、試料ガスＧ１中の水分を低減することができるので、ガスセンサ１１の出力値が試料ガスＧ１中の水分の影響を受けにくくなり、水分によって発生する測定誤差を低減できる。換言すれば、試料ガスＧ１は第２フィルタ４０によって水分が低減され、参照ガスＧ２は第１フィルタ３０及び第２フィルタ４０によってＶＯＣ及び水分が低減されるので、試料ガスＧ１がセンサ室１００に供給されている状態でのガスセンサ１１の出力値は試料ガスＧ１中のＶＯＣに対応した値となる。したがって、ガス検出システム１は、検出対象の分子であるＶＯＣをより高精度に検出することが可能になる。
　上記の実施形態では、三方向電磁弁７８の上流側（ハウジング１０側）に可変オリフィスである電磁比例制御弁７６が配置されているが、電磁比例制御弁７６に代えて流量を所定値に制御するスピードコントロール弁を配置してもよい。電磁比例制御弁７６に代えてスピードコントロール弁を配置した場合は、センサ室１００を流れる流量は変えずに、スピードコントロール弁よりも下流側の流量を変化させることができるので、ガスセンサ１１の出力値を安定させることができ、安定した測定が可能になる。
　上記の実施形態では、水分量制御部５１２が、参照ガスＧ２中の水分量の測定結果に基づいて、参照ガスＧ２の流量を変化させることによって、フィルタ部２０を通過する参照ガスＧ２中の水分量を調整しているが、参照ガスＧ２の流量以外の測定条件を変化させてもよい。例えば、水分量制御部５１２は、参照ガスＧ２中の水分量の測定結果に応じて、フィルタ部２０を通る参照ガスＧ２の温度をヒータ等で変化させることによって、フィルタ部２０を通過する参照ガスＧ２の水分量を調整してもよい。
　上記の実施形態において、制御部５１は、第１期間に、ガスセンサ１１の出力値に基づいてフィルタ部２０を流れる参照ガスＧ２の流量を制御してもよく、検出対象の分子を殆ど含まない参照ガスＧ２をガスセンサ１１に供給することができる。これにより、ガス検出システム１は、第１期間において、検出対象の分子の影響を低減した状態で基準値を取得することができ、第２期間における検出対象の分子の測定精度を向上させることができる。
　上記の実施形態において、センサ室１００に、複数のナノワイヤの集合体を有する吸着部が設けられてもよい。センサ室１００に導入されたガスを吸着部に吸着させることによってガスを濃縮し、吸着部から脱離させたガスをガスセンサ１１に供給することで、ガスの検出感度を高めることができる。
　上記の実施形態では、センサ室１００に参照ガスＧ２を導入する第１期間と、センサ室１００に試料ガスＧ１を導入する第２期間と、を時間的に分離しているが、試料ガスＧ１を捕集するエリアと、参照ガスＧ２を捕集するエリアと、を空間的に分離してもよい。
　上記の実施形態では、ＶＯＣ用の第１フィルタ３０と、水分用の第２フィルタ４０とが直列に接続されているが、第２フィルタ４０の分離膜４３がＶＯＣによる劣化を受けにくい材料で形成されているのであれば、第１フィルタ３０と第２フィルタ４０とが並列的に配置されてもよい。
　上記の実施形態では、フィルタ部２０が、ＶＯＣ用の第１フィルタ３０と、水分用の第２フィルタ４０とを含んでいるが、ＶＯＣと水分の両方を低減する中空糸の分離膜を有する１つのフィルタで構成されていてもよい。
　（まとめ）
　以上説明したように、第１の態様に係るガス検出システム（１）は、参照ガス導入口（Ｐ２）と、ガスセンサ（１１）と、フィルタ部（２０）と、を備える。参照ガス導入口（Ｐ２）には、試料ガス（Ｇ１）における検出対象の分子の濃度の基準とする参照ガス（Ｇ２）が導入される。ガスセンサ（１１）は検出対象の分子を検出する。フィルタ部（２０）は、参照ガス導入口（Ｐ２）と、ガスセンサ（１１）を収容するセンサ室（１００）との間を接続する参照ガス供給路（Ｒ２）に配置される。フィルタ部（２０）は、参照ガス（Ｇ２）中の検出対象の分子を低減させる第１フィルタ（３０）と、参照ガス（Ｇ２）中の水分を低減させる第２フィルタ（４０）と、を少なくとも含む。第１フィルタ（３０）及び第２フィルタ（４０）は、それぞれ、中空糸を含む分離膜（３３，４３）を有する。
　この態様によれば、フィルタ部（２０）の劣化を抑制可能である。
　第２の態様に係るガス検出システム（１）は、第１の態様において、遮断部（ＣＢ１）を更に備える。遮断部（ＣＢ１）は、ガスセンサ（１１）による検出動作を停止する休止状態でフィルタ部（２０）を外気と遮断する。
　この態様によれば、フィルタ部（２０）の劣化を抑制可能である。
　第３の態様に係るガス検出システム（１）では、第２の態様において、遮断部（ＣＢ１）は、逆止弁（７４）を含む。
　この態様によれば、フィルタ部（２０）の劣化を抑制可能である。
　第４の態様に係るガス検出システム（１）では、第２又は３の態様において、参照ガス供給路（Ｒ２）を含む複数の流路が、フィルタ部（２０）と外部とをそれぞれ接続する。遮断部（ＣＢ１）は、複数の流路のそれぞれに設けられた複数の遮断要素を含む。複数の遮断要素は、それぞれ、休止状態においてフィルタ部（２０）と外部との間を遮断する。
　この態様によれば、フィルタ部（２０）の劣化を抑制可能である。
　第５の態様に係るガス検出システム（１）は、第２～４のいずれか１つの態様において、アイドリング制御部（５１１）を更に備える。アイドリング制御部（５１１）は、休止状態において、遮断部（ＣＢ１）を非遮断状態として、参照ガス（Ｇ２）をガスセンサ（１１）に供給するアイドリング動作を行う。
　この態様によれば、フィルタ部（２０）の劣化を抑制可能である。
　第６の態様に係るガス検出システム（１）では、第１～５のいずれか１つの態様において、参照ガス導入口（Ｐ２）とセンサ室（１００）との間に、第１フィルタ（３０）が第２フィルタ（４０）に対して参照ガス導入口（Ｐ２）に近い側に位置するように、第１フィルタ（３０）と第２フィルタ（４０）とが配置される。
　この態様によれば、フィルタ部（２０）の劣化を抑制可能である。
　第７の態様に係るガス検出システム（１）は、第１～６のいずれか１つの態様において、水分量測定部（１２）と、水分量制御部（５１２）と、を更に備える。水分量測定部（１２）は、フィルタ部（２０）を通った後の参照ガス（Ｇ２）に含まれる水分量を測定する。水分量制御部（５１２）は、水分量測定部（１２）の測定結果に基づいて、フィルタ部（２０）を通してガスセンサ（１１）に供給する参照ガス（Ｇ２）に含まれる水分量を調整する。
　この態様によれば、試料ガスの検出結果のばらつきを低減可能なガス検出システム（１）を提供できる。
　第８の態様のガス検出システム（１）は、第１～７のいずれか１つの態様において、第１試料ガス供給路（Ｒ１Ａ）を更に備える。第１試料ガス供給路（Ｒ１Ａ）は、試料ガス（Ｇ１）を、フィルタ部（２０）を通さずにセンサ室（１００）に供給する経路である。
　この態様によれば、フィルタ部（２０）の劣化を抑制可能である。
　第９の態様のガス検出システム（１）は、第１～７のいずれか１つの態様において、第２試料ガス供給路（Ｒ１Ｂ）を更に備える。第２試料ガス供給路（Ｒ１Ｂ）は、試料ガス（Ｇ１）を、第１フィルタ（３０）は通らず第２フィルタ（４０）を通してセンサ室（１００）に供給する流路である。
　この態様によれば、検出対象の分子の検出精度の悪化を抑制することができる。
　第１０の態様に係るガス検出システム（１）の制御方法は、参照ガス供給処理を含む。参照ガス供給処理処理では、試料ガス（Ｇ１）における検出対象の分子の濃度の基準とする参照ガス（Ｇ２）を、フィルタ部（２０）を通して、ガスセンサ（１１）を収容するセンサ室（１００）に供給する。フィルタ部（２０）は、参照ガス（Ｇ２）中の検出対象の分子を低減させる第１フィルタ（３０）と、参照ガス（Ｇ２）中の水分を低減させる第２フィルタ（４０）と、を少なくとも含む。第１フィルタ（３０）及び第２フィルタ（４０）は、それぞれ、中空糸を含む分離膜（３３，４３）を有する。
　この態様によれば、フィルタ部（２０）の劣化を抑制可能である。
　第１１の態様に係るガス検出システム（１）の制御方法は、第１０の態様において、遮断処理を更に含む。遮断処理では、ガスセンサ（１１）による検出動作を停止する休止状態でフィルタ部（２０）を外気と遮断する。
　この態様によれば、フィルタ部（２０）の劣化を抑制可能である。
　第１２の態様に係るガス検出システム（１）の制御方法は、第１０又は１１の態様において、水分量測定処理と、水分量制御処理と、を更に含む。水分量測定処理では、フィルタ部（２０）を通った後の参照ガス（Ｇ２）に含まれる水分量を測定する。第３処理では、水分量の測定結果に基づいて、フィルタ部（２０）を通してガスセンサ（１１）に供給する参照ガス（Ｇ２）に含まれる水分量を調整する。
　この態様によれば、試料ガスの検出結果のばらつきを低減可能なガス検出システム（１）の制御方法を提供できる。
　第１３の態様に係るガス検出システム（１）の制御方法では、第１２の態様において、水分量測定処理では、フィルタ部（２０）を通った後の参照ガス（Ｇ２）が流れる参照ガス供給路（Ｒ２）において、参照ガス（Ｇ２）の温度と湿度との測定結果に基づいて、参照ガス（Ｇ２）に含まれる水分量を測定する。
　この態様によれば、試料ガスの検出結果のばらつきを低減可能なガス検出システム（１）の制御方法を提供できる。
　第１４の態様に係るガス検出システム（１）の制御方法では、第１２又は１３の態様において、水分量調整処理では、第２フィルタ（４０）が有する分離膜（４３）の圧力差を調整する。
　この態様によれば、試料ガスの検出結果のばらつきを低減可能なガス検出システム（１）の制御方法を提供できる。
　第１５の態様に係るガス検出システム（１）の制御方法では、第１１～１４のいずれかの態様において、参照ガス供給処理では、参照ガス（Ｇ２）を、第１フィルタ（３０）に通した後に、第２フィルタ（４０）に通して、センサ室（１００）に供給する。
　この態様によれば、試料ガスの検出結果のばらつきを低減可能なガス検出システム（１）の制御方法を提供できる。
　第１６の態様のガス検出システム（１）の制御方法は、第１１～１５のいずれかの態様において、第１試料ガス供給処理を更に含む。第１試料ガス供給処理では、試料ガス（Ｇ１）を、フィルタ部（２０）を通らない第１試料ガス供給路（Ｒ１Ａ）を通してセンサ室（１００）に供給する。
　この態様によれば、フィルタ部（２０）の劣化を抑制可能である。
　第１７の態様のガス検出システム（１）の制御方法では、第１６の態様において、センサ室（１００）に導入される試料ガス（Ｇ１）を、第１試料ガス排出路（Ｒ４Ａ）を通して排出する。第１試料ガス排出路（Ｒ４Ａ）は、センサ室（１００）と、少なくとも試料ガス（Ｇ１）を排出するガス排出口（Ｐ３）との間を、フィルタ部（２０）を通らずに接続する。
　この態様によれば、フィルタ部（２０）の劣化を抑制可能である。
　第１８の態様のガス検出システム（１）のガス供給方法は、第１１～１５のいずれかの態様において、第２試料ガス供給処理を更に含む。第２試料ガス供給処理では、試料ガス（Ｇ１）を、第１フィルタ（３０）は通らず第２フィルタ（４０）を通る第２試料ガス供給路（Ｒ１Ｂ）を通してセンサ室（１００）に供給する。
　この態様によれば、検出対象の分子の検出精度の悪化を抑制することができる。
　第１９の態様のガス検出システム（１）のガス供給方法では、第１８の態様において、センサ室（１００）に導入される試料ガス（Ｇ１）を、第２試料ガス排出路（Ｒ４Ｂ）を通して排出する。第２試料ガス排出路（Ｒ４Ｂ）は、センサ室（１００）と、少なくとも試料ガス（Ｇ１）を排出するガス排出口（Ｐ３）との間を接続し、センサ室（１００）から排出される試料ガス（Ｇ１）を第２フィルタ（４０）に通した後、第１フィルタ（３０）を通さずにガス排出口（Ｐ３）から排出させる。
　この態様によれば、検出対象の分子の検出精度の悪化を抑制することができる。
　第２０の態様のガス検出システム（１）のガス供給方法では、第１０～１９のいずれかの態様において、センサ室（１００）に供給される参照ガス（Ｇ２）を第２フィルタ（４０）と第１フィルタ（３０）とに通した後に排出する。
　この態様によれば、検出対象の分子の検出精度の悪化を抑制することができる。
　第２１の態様に係るガス検出システム（１）では、第１の態様において、遮断部（ＣＢ１）は、電磁力で開状態と閉状態とのいずれかに切り替える電磁切替弁（７３，７５，７８）を含む。
　この態様によれば、フィルタ部（２０）の劣化を抑制可能である。
　上記態様に限らず、上記実施形態に係るガス検出システム（１）の種々の構成（変形例を含む）は、ガス検出システム（１）の制御方法、（コンピュータ）プログラム、又はプログラムを記録した非一時的記録媒体等で具現化可能である。
　第２～第９及び第２１の態様に係る構成については、ガス検出システム（１）に必須の構成ではなく、適宜省略可能である。第１１～第２０の態様に係る構成については、ガス検出システム（１）の制御方法に必須の構成ではなく、適宜省略可能である。
　１　ガス検出システム
　１１　ガスセンサ
　１２　水分量測定部
　２０　フィルタ部
　３０　第１フィルタ
　３３　分離膜
　４０　第２フィルタ
　４３　分離膜
　５１　制御部
　７３　二方向電磁弁（電磁切替弁）
　７４　逆止弁
　７５，７８　三方向電磁弁（電磁切替弁）
　１００　センサ室
　５１１　アイドリング制御部
　５１２　水分量制御部
　ＣＢ１　遮断部
　Ｇ１　試料ガス
　Ｇ２　参照ガス
　Ｐ２　参照ガス導入口
　Ｐ３　ガス排出口
　Ｒ１Ａ　第１試料ガス供給路
　Ｒ１Ｂ　第２試料ガス供給路
　Ｒ２　参照ガス供給路
　Ｒ４Ａ　第１試料ガス排出路
　Ｒ４Ｂ　第２試料ガス排出路

Claims (20)

  1. 　試料ガスにおける検出対象の分子の濃度の基準とする参照ガスが導入される参照ガス導入口と、
    　前記検出対象の分子を検出するためのガスセンサと、
    　前記参照ガス導入口と前記ガスセンサを収容するセンサ室との間を接続する参照ガス供給路に配置されるフィルタ部と、を備え、
    　前記フィルタ部は、前記参照ガス中の前記検出対象の分子を低減させる第１フィルタと、前記参照ガス中の水分を低減させる第２フィルタと、を少なくとも含み、
    　前記第１フィルタ及び前記第２フィルタは、それぞれ、中空糸を含む分離膜を有する、
    　ガス検出システム。
  2. 　前記ガスセンサによる検出動作を停止する休止状態で前記フィルタ部を外気と遮断する遮断部を更に備える、
    　請求項１に記載のガス検出システム。
  3. 　前記遮断部は、逆止弁を含む、
    　請求項２に記載のガス検出システム。
  4. 　前記参照ガス供給路を含む複数の流路が、前記フィルタ部と外部とをそれぞれ接続し、
    　前記遮断部は、前記複数の流路のそれぞれに設けられた複数の遮断要素を含み、
    　前記複数の遮断要素は、それぞれ、前記休止状態において前記フィルタ部と外部との間を遮断する、
    　請求項２又は３に記載のガス検出システム。
  5. 　前記休止状態において、前記遮断部を非遮断状態として、前記参照ガスを前記ガスセンサに供給するアイドリング動作を行うアイドリング制御部を更に備える、
    　請求項２～４のいずれか１項に記載のガス検出システム。
  6. 　前記参照ガス導入口と前記センサ室との間に、前記第１フィルタが前記第２フィルタに対して前記参照ガス導入口に近い側に位置するように、前記第１フィルタと前記第２フィルタとが配置される、
    　請求項１～５のいずれか１項に記載のガス検出システム。
  7. 　前記フィルタ部を通った後の前記参照ガスに含まれる水分量を測定する水分量測定部と、
    　前記水分量測定部の測定結果に基づいて、前記フィルタ部を通して前記ガスセンサに供給する前記参照ガスに含まれる水分量を調整する水分量制御部と、を更に備える、
    　請求項１～６のいずれか１項に記載のガス検出システム。
  8. 　前記試料ガスを、前記フィルタ部を通さずに前記センサ室に供給する第１試料ガス供給路を更に備える、
    　請求項１～７のいずれか１項に記載のガス検出システム。
  9. 　前記試料ガスを、前記第１フィルタは通らず前記第２フィルタを通して前記センサ室に供給する第２試料ガス供給路を更に備える、
    　請求項１～７のいずれか１項に記載のガス検出システム。
  10. 　試料ガスにおける検出対象の分子の濃度の基準とする参照ガスを、前記参照ガス中の前記検出対象の分子を低減させる第１フィルタと、前記参照ガス中の水分を低減させる第２フィルタと、を少なくとも含むフィルタ部を通して、ガスセンサを収容するセンサ室に供給する参照ガス供給処理を含み、
    　前記第１フィルタ及び前記第２フィルタは、それぞれ、中空糸を含む分離膜を有する、
    　ガス検出システムの制御方法。
  11. 　前記ガスセンサによる検出動作を停止する休止状態で前記フィルタ部を外気と遮断する遮断処理、を更に含む、
    　請求項１０に記載のガス検出システムの制御方法。
  12. 　前記フィルタ部を通った後の前記参照ガスに含まれる水分量を測定する水分量測定処理と、
    　前記水分量の測定結果に基づいて、前記フィルタ部を通して前記ガスセンサに供給する前記参照ガスに含まれる前記水分量を調整する水分量調整処理と、を更に含む、
    　請求項１０又は１１に記載のガス検出システムの制御方法。
  13. 　前記水分量測定処理では、前記フィルタ部を通った後の前記参照ガスが流れる参照ガス供給路において、前記参照ガスの温度と湿度との測定結果に基づいて、前記参照ガスに含まれる前記水分量を測定する、
    　請求項１２に記載のガス検出システムの制御方法。
  14. 　前記水分量調整処理では、前記第２フィルタが有する前記分離膜の圧力差を調整する、
    　請求項１２又は１３に記載のガス検出システムの制御方法。
  15. 　前記参照ガス供給処理では、前記参照ガスを、前記第１フィルタに通した後に、前記第２フィルタに通して、前記センサ室に供給する、
    　請求項１１～１４のいずれか１項に記載のガス検出システムの制御方法。
  16. 　前記試料ガスを、前記フィルタ部を通らない第１試料ガス供給路を通して前記センサ室に供給する第１試料ガス供給処理を更に含む、
    　請求項１１～１５のいずれか１項に記載のガス検出システムの制御方法。
  17. 　前記センサ室に導入される前記試料ガスを、第１試料ガス排出路を通して排出し、
    　前記第１試料ガス排出路は、前記センサ室と、少なくとも前記試料ガスを排出するガス排出口との間を、前記フィルタ部を通らずに接続する、
    　請求項１６に記載のガス検出システムの制御方法。
  18. 　前記試料ガスを、前記第１フィルタは通らず前記第２フィルタを通る試料ガス供給路を通して前記センサ室に供給する第２試料ガス供給処理を更に含む、
    　請求項１１～１５のいずれか１項に記載のガス検出システムの制御方法。
  19. 　前記センサ室に導入される前記試料ガスを、第２試料ガス排出路を通して排出し、
    　前記第２試料ガス排出路は、前記センサ室と、少なくとも前記試料ガスを排出するガス排出口との間を接続し、前記センサ室から排出される前記試料ガスを前記第２フィルタに通した後、前記第１フィルタを通さずに前記ガス排出口から排出させる、
    　請求項１８に記載のガス検出システムの制御方法。
  20. 　前記センサ室に供給される前記参照ガスを前記第２フィルタと前記第１フィルタとに通した後に排出する、
    　請求項１０～１９のいずれか１項に記載のガス検出システムの制御方法。
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