WO2021117668A1

WO2021117668A1 - 積層体の製造方法、積層体、タッチセンサー

Info

Publication number: WO2021117668A1
Application number: PCT/JP2020/045439
Authority: WO
Inventors: 壮二石坂; 漢那　慎一
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2019-12-12
Filing date: 2020-12-07
Publication date: 2021-06-17
Also published as: TW202136906A; CN114902164A; JPWO2021117668A1

Abstract

本発明は、透明導電部間の接続信頼性に優れる積層体を製造する、積層体の製造方法、積層体、及び、タッチセンサーを提供する。本発明の積層体の製造方法は、基材と基材上に配置された透明導電部とを有する導電性基板の透明導電部側に、感光性組成物層を配置する工程１と、導電性基板の基材側から、第１露光マスクを介して感光性組成物層に対してパターン露光する工程２と、パターン露光された感光性組成物層に現像処理を施して、透明導電部の少なくとも一部が露出する開口部を複数有する硬化層を形成する工程３と、硬化層上に、複数の開口部から露出する透明導電部同士を導通させる導電部を形成する工程４とを有する。

Description

積層体の製造方法、積層体、タッチセンサー

　本発明は、積層体の製造方法、積層体、及び、タッチセンサーに関する。

　タッチパネル及び表示装置等の電子部品においては、層状に配置される配線間の絶縁性を保つための層間絶縁膜等の硬化層が設けられている。このような硬化層の形成には、感光性組成物が使用されている。
　例えば、特許文献１に記載されるように、導電部を有する基板上に感光性組成物層を形成し、所定のパターンを有するフォトマスクを介して感光性組成物層を露光し、現像液で現像して不要部分を溶解除去し、硬化層を形成する方法が挙げられる。特許文献１においては、硬化層に設けた開口部を介して、導電部間の接続がなされている。

国際公開第２０１８／１８６４２８号

　一方、近年、電子部品の小型化及び高機能化に伴って、導電部間の接続信頼性のより一層の向上が求められている。
　本発明者らは、特許文献１に記載の方法に従って、複数の開口部から露出する透明導電部間を導通させるための導電部（いわゆるブリッジ配線）を形成して、その接続信頼性を評価したところ、昨今の要求レベルを満たしておらず、さらなる改良が必要であることを知見した。

　本発明は、透明導電部間の接続信頼性に優れる積層体を製造する、積層体の製造方法を提供することを課題とする。
　また、本発明は、積層体、及び、タッチセンサーを提供することも課題とする。

　本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。

（１）　基材と基材上に配置された透明導電部とを有する導電性基板の透明導電部側に、感光性組成物層を配置する工程１と、
　導電性基板の基材側から、第１露光マスクを介して感光性組成物層に対してパターン露光する工程２と、
　パターン露光された感光性組成物層に現像処理を施して、透明導電部の少なくとも一部が露出する開口部を複数有する硬化層を形成する工程３と、
　硬化層上に、複数の開口部から露出する透明導電部同士を導通させる導電部を形成する工程４とを有する、積層体の製造方法。
（２）　工程２において、第１露光マスクを基材に接触させて、パターン露光する、（１）に記載の積層体の製造方法。
（３）　パターン露光の露光光の主波長における、感光性組成物層の吸光度が０．０１～１．０である、（１）又は（２）に記載の積層体の製造方法。
（４）　主波長が３６５ｎｍである、（３）に記載の積層体の製造方法。
（５）　工程１において、導電性基板の透明導電部側に、少なくとも感光性組成物層及び仮支持体をこの順に配置し、
　工程２と工程３との間に、仮支持体を剥離する工程５を更に有する、（１）～（４）のいずれかに記載の積層体の製造方法。
（６）　工程１が、仮支持体と仮支持体上に配置された感光性組成物層とを有する転写フィルムを、仮支持体よりも感光性組成物層を導電性基板側に向けて、導電性基板と貼り合わせる工程６である、（５）に記載の積層体の製造方法。
（７）　導電性基板が、基材上に配置され、透明導電部と導通する金属配線部を更に有し、
　工程１と工程３との間に、感光性組成物層側から、第２露光マスクを介して金属配線部上の感光性組成物層の少なくとも一部に対してパターン露光する工程７を有する、（１）～（６）のいずれかに記載の積層体の製造方法。
（８）　工程２と工程７とを同時に実施する、（７）に記載の積層体の製造方法。
（９）　基材が、樹脂基材である、（１）～（８）のいずれに記載の積層体の製造方法。
（１０）　感光性組成物層の厚みが８．０μｍ以下である、（１）～（９）のいずれかに記載の積層体の製造方法。
（１１）　感光性組成物層が、重合性化合物、及び、重合開始剤を含む、（１）～（１０）のいずれかに記載の積層体の製造方法。
（１２）　（１）～（１１）のいずれかに記載の製造方法により製造された積層体。
（１３）　（１２）に記載の積層体を含む、タッチセンサー。

　本発明によれば、透明導電部間の接続信頼性に優れる積層体を製造する、積層体の製造方法を提供できる。
　また、本発明によれば、積層体、及び、タッチセンサーを提供できる。

従来技術の形態を説明するための図である。従来技術の形態を説明するための図である。従来技術の形態を説明するための図である。従来技術の形態を説明するための図である。第１実施形態の工程１で得られる積層体の断面図である。第１実施形態の工程１で得られる積層体中の透明導電部を説明するための積層体の平面図である。第１実施形態の工程２を説明するための積層体の断面図である。第１実施形態の工程３を説明するための積層体の断面図である。第１実施形態の工程４で得られる積層体の断面図である。第１実施形態の工程４で得られる積層体中の導電部を説明するための積層体の平面図である。第２実施形態の工程２を説明するための積層体の断面図である。第２実施形態の工程７を説明するための積層体の断面図である。第２実施形態において工程３を実施した後の積層体の断面図である。

　以下、本発明について詳細に説明する。
　なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　また、本明細書に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。

　また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。

　本明細書において、「透明」とは、波長４００～７００ｎｍの可視光の平均透過率が、８０％以上であることを意味し、９０％以上であることが好ましい。従って、例えば、「透明導電部」とは、波長４００～７００ｎｍの可視光の平均透過率が８０％以上である導電部を指す。
　また、可視光の平均透過率は、分光光度計を用いて測定される値であり、例えば、日立製作所株式会社製の分光光度計Ｕ－３３１０を用いて測定できる。

　本明細書において、特に断わりの無い限り、ポリマーの各構成単位の含有比率はモル比である。
　また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ　ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ２０００ＨｘＬ（いずれも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
　本開示において、特段の断りが無い限り、分子量分布がある化合物の分子量は、重量平均分子量である。
　また、本明細書において、屈折率は、特に断りがない限り、波長５５０ｎｍでエリプソメーターによって測定される値である。

　本明細書において、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸及びメタクリル酸の両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基及びメタクリロイル基の両方を包含する概念である。

　本発明の製造方法の特徴点としては、導電性基板の基材側から、第１露光マスクを介して感光性組成物層に対してパターン露光する点が挙げられる。
　従来技術においては、導電性基板上に配置された感光性組成物層側から、露光マスクを介して感光性組成物層に対してパターン露光しており、この形態においては所望の効果が得られなかった。以下に、図面を用いてその理由を説明する。
　まず、図１に示すように、基材２００と、透明導電部２１６と、感光性組成物層２１８とをこの順に有する積層体を用意し、感光性組成物層２１８側からマスク２２４を介して、白矢印のように感光性組成物層２１８に対してパターン露光する。その際、白矢印で示すように、マスク２２４の開口部を通った光のうち、一部はマスク２２４の開口部よりも広がり、感光性組成物層２１８を感光させる。そのため、露光された感光性組成物層２１８に対して現像処理を施すと、図２に示すように、形成される硬化層２２８の端部においてアンダーカットが生じる。その後、加熱処理によって硬化層２２８をより硬化させると、アンダーカット部分が垂れて、図３に示すように、硬化層２２８の端部において傾斜面２２８ａが形成される。ただし、この場合、硬化層２２８の端部においては、基材２００と硬化層２２８との間に隙間２４０が生じる場合がある。このような硬化層２２８上に透明導電部２１６と導通する導電部２３０を形成しようとすると、図４に示すように、隙間２４０の存在のために、導電部２３０が途中で断線されやすくなる。結果として、接続信頼性が損なわれる。
　それに対して、後述する本発明の製造方法によれば、上記のような断線が生じにくく、結果として、接続信頼性に優れる積層体が得られる。なお、本発明の製造方法においては、所定の開口部を有する硬化層を形成する際に、加熱処理が必ずしも必須の工程ではないため、工業的にも優れた方法といえる。

＜＜第１実施形態＞＞
　本発明の積層体の製造方法の第１実施形態は、少なくとも以下の工程１～４を有する。
工程１：基材と基材上に配置された透明導電部とを有する導電性基板の透明導電部側に、感光性組成物層を配置する工程
工程２：導電性基板の基材側から、第１露光マスクを介して感光性組成物層に対してパターン露光する工程
工程３：パターン露光された感光性組成物層に現像処理を施して、透明導電部の少なくとも一部が露出する開口部を複数有する硬化層を形成する工程
工程４：硬化層上に、複数の開口部から露出する透明導電部同士を導通させる導電部を形成する工程
　以下、図面を参照しながら、積層体の製造方法の一実施形態の各工程について詳述する。

＜工程１＞
　工程１は、基材と基材上に配置された透明導電部とを有する導電性基板の透明導電部側に、感光性組成物層を配置する工程である。
　より具体的には、本工程を実施することにより、図５に示すように、基材１０と、第１透明導電部１２と島状に配置された第２透明導電部１４、感光性組成物層１８とをこの順に有する積層体が形成される。図５に示すように、導電性基板１６は、基材１０と、基材１０上に配置された、第１透明導電部１２及び島状に配置された第２透明導電部１４とを有する。
　なお、図６は、図５に示す積層体の第１透明導電部１２及び第２透明導電部１４の構成を示す平面図であり、図５は、図６中のＡ－Ａ線断面図である。

　図５及び６に示すように、第１透明導電部１２は、第１方向（矢印Ｐの方向）に配列された複数の島状透明導電部２０と、隣接する島状透明導電部２０を接続する透明配線部２２とから構成される。つまり、積層体においては、基材１０の上部に、一方向に長尺状の透明導電部が形成されている。なお、図５及び６には、一本の第１透明導電部１２しか記載していないが、第１透明導電部は第１方向と直交する方向に沿って、所定の間隔をあけて、複数本配置されていてもよい。また、図６においては、２つの島状透明導電部２０と１つの透明配線部２２しか記載していないが、島状透明導電部２０と透明配線部２２とは繰り返し繋がっていてもよい。
　島状透明導電部２０の形状は特に制限されず、正方形、長方形、菱形、台形、及び、五角形以上の多角形のいずれであってもよく、正方形、菱形、又は、六角形は細密充填構造を形成しやすい点で好ましい。

　また、図５及び６に示すように、島状の第２透明導電部１４は、第１方向と直交する他の方向（矢印Ｑの方向）に沿って、複数配置されている。なお、図５及び６には、２つの島状の第２透明導電部１４しか記載していないが、島状の第２透明導電部は他の方向に沿って、３つ以上配置されていてもよい。また、島状の第２透明導電部は、第１方向に沿って、所定の間隔をあけて、複数個配置されていてもよい。
　島状の第２透明導電部１４の形状は特に制限されず、正方形、長方形、菱形、台形、及び、五角形以上の多角形のいずれであってもよく、正方形、菱形、又は、六角形は細密充填構造を形成しやすい点で好ましい。

　以下では、まず、工程１で使用される各部材について詳述する。

（基材）
　基材の種類は特に制限されないが、ガラス基材又は樹脂基材が好ましく、樹脂基材がより好ましい。また、基材は、透明な基材であることが好ましく、透明な樹脂基材であることがより好ましい。

　ガラス基材としては、例えば、コーニング社のゴリラガラス（登録商標）等の強化ガラスが挙げられる。
　樹脂基材としては、光学的に歪みがない樹脂基材及び透明度が高い樹脂基材の少なくとも一方を用いることが好ましい。樹脂基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリベンゾオキサゾール（ＰＢＯ）、及び、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が挙げられる。

　透明な基材の材質としては、特開２０１０－０８６６８４号公報、特開２０１０－１５２８０９号公報、及び、特開２０１０－２５７４９２号公報に記載の材質が好ましい。

　基材の屈折率は、１．４５～１．６０が好ましく、１．５０～１．５２がより好ましい。
　基材の厚みは、制限されず、例えば用途に応じて、１０μｍ～１ｍｍが挙げられる。
　基材の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）又は光学顕微鏡による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。
　基材のパターン露光の露光光の主波長における透過率は、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。

（透明導電部）
　透明導電部に含まれる材料は特に制限されず、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛アルミニウム（ＡＺＯ）、及び、銀ナノワイヤーが挙げられる。
　透明導電部が金属酸化物である場合、その屈折率は、１．５０～２．２０が好ましく、１．７０～２．００がより好ましい。

　透明導電部の厚みは、導電性及び透明性の点から、０．０１～１μｍが好ましく、０．０３～０．５μｍがより好ましい。
　透明導電部の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。
　透明導電部の形成方法としては、例えば、スパッタ法、及び、塗布法が挙げられる。

　基材上における透明導電部の配置位置は特に制限されず、上記図５及び６に示す形態には限定されない。
　また、図５及び６に示すように、透明導電部は、基材上に複数配置されていることが好ましい。より具体的には、透明導電部は、基材上に複数離散して配置されていることが好ましい。後述する導電部によって、離散して配置される透明導電部同士が電気的に接続されることが好ましい。

（感光性組成物層）
　感光性組成物層は、光により感光して硬化する層である。感光性組成物層は、いわゆるネガ型の感光性組成物層（硬化型感光性組成物層）である。
　以下では、まず、感光性組成物層に含まれる成分について詳述する。

［重合性化合物］
　感光性組成物層は、重合性化合物を含んでいてもよい。
　重合性化合物は、重合性基を有する化合物である。重合性基としては、ラジカル重合性基及びカチオン重合性基が挙げられ、ラジカル重合性基が好ましい。

　重合性化合物は、エチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物（以下、単に「エチレン性不飽和化合物」ともいう。）を含むことが好ましい。
　エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

　エチレン性不飽和化合物は、２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。ここで、「２官能以上のエチレン性不飽和化合物」とは、一分子中にエチレン性不飽和基を２つ以上有する化合物を意味する。

　エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
　エチレン性不飽和化合物としては、例えば、硬化後の膜強度の点から、２官能のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、２官能の（メタ）アクリレート化合物）と、３官能以上のエチレン性不飽和化合物（好ましくは、３官能以上の（メタ）アクリレート化合物）とを含むことが好ましい。

　２官能のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、及び、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。

　２官能のエチレン性不飽和化合物の市販品としては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート〔商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＤＣＰ、新中村化学工業株式会社〕、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート〔商品名：ＮＫエステル　ＤＣＰ、新中村化学工業株式会社〕、１，９－ノナンジオールジアクリレート〔商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業株式会社〕、１，１０－デカンジオールジアクリレート〔商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＤＯＤ－Ｎ、新中村化学工業株式会社〕、及び、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート〔商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＨＤ－Ｎ、新中村化学工業株式会社〕が挙げられる。

　３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸（メタ）アクリレート、及び、グリセリントリ（メタ）アクリレートが挙げられる。

　ここで、「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート、及び、ヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念である。また、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。
　３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、官能基数の上限に特に制限はないが、例えば、２０官能以下とすることができ、１５官能以下とすることもできる。

　３官能以上のエチレン性不飽和化合物の市販品としては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート〔商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ、新中村化学工業株式会社〕が挙げられる。

　エチレン性不飽和化合物は、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート又は１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレートと、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレートとを含むことがより好ましい。

　エチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリレート化合物のカプロラクトン変性化合物〔日本化薬株式会社のＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）　ＤＰＣＡ－２０、新中村化学工業株式会社のＡ－９３００－１ＣＬ等〕、（メタ）アクリレート化合物のアルキレンオキサイド変性化合物〔日本化薬株式会社のＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）　ＲＰ－１０４０、新中村化学工業株式会社のＡＴＭ－３５Ｅ、Ａ－９３００、ダイセル・オルネクス社のＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）　１３５等〕、及び、エトキシル化グリセリントリアクリレート〔新中村化学工業株式会社のＮＫエステル　Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等〕も挙げられる。

　エチレン性不飽和化合物としては、ウレタン（メタ）アクリレート化合物も挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物が好ましい。３官能以上のウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、８ＵＸ－０１５Ａ〔大成ファインケミカル株式会社〕、ＮＫエステル　ＵＡ－３２Ｐ〔新中村化学工業株式会社〕、及び、ＮＫエステル　ＵＡ－１１００Ｈ〔新中村化学工業株式会社〕が挙げられる。

　エチレン性不飽和化合物は、現像性向上の点から、酸基を有するエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。

　酸基としては、例えば、リン酸基、スルホン酸基、及び、カルボキシ基が挙げられる。上記の中でも、酸基としては、カルボキシ基が好ましい。

　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、酸基を有する３～４官能のエチレン性不飽和化合物〔ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート（ＰＥＴＡ）骨格にカルボキシ基を導入した化合物（酸価：８０～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ）〕、及び、酸基を有する５～６官能のエチレン性不飽和化合物（ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）骨格にカルボキシ基を導入した化合物〔酸価：２５～７０ｍｇＫＯＨ／ｇ）〕が挙げられる。酸基を有する３官能以上のエチレン性不飽和化合物は、必要に応じ、酸基を有する２官能のエチレン性不飽和化合物と併用してもよい。

　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物、及び、そのカルボン酸無水物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましい。酸基を有するエチレン性不飽和化合物が、カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物、及び、そのカルボン酸無水物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であると、現像性及び膜強度がより高まる。

　カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、アロニックス（登録商標）　ＴＯ－２３４９〔東亞合成株式会社〕、アロニックス（登録商標）　Ｍ－５２０〔東亞合成株式会社〕、及び、アロニックス（登録商標）　Ｍ－５１０〔東亞合成株式会社〕が挙げられる。

　酸基を有するエチレン性不飽和化合物としては、特開２００４－２３９９４２号公報の段落［００２５］～［００３０］に記載の酸基を有する重合性化合物を好ましく用いることができ、この公報に記載の内容は参照により本明細書に組み込まれる。

　エチレン性不飽和化合物の分子量は、２００～３，０００が好ましく、２５０～２，６００がより好ましく、２８０～２，２００が更に好ましく、３００～２，２００が特に好ましい。

　エチレン性不飽和化合物のうち、分子量３００以下のエチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性組成物層に含まれる全てのエチレン性不飽和化合物の含有量に対して、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。

　感光性組成物層は、１種単独のエチレン性不飽和化合物を含んでいてもよく、２種以上のエチレン性不飽和化合物を含んでいてもよい。

　エチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、１～７０質量％が好ましく、１０～７０質量％がより好ましく、２０～６０質量％が更に好ましく、２０～５０質量％が特に好ましい。

　感光性組成物層が２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含む場合、更に単官能エチレン性不飽和化合物を含んでいてもよい。

　感光性組成物層が２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含む場合、２官能以上のエチレン性不飽和化合物は、感光性組成物層に含まれるエチレン性不飽和化合物において主成分であることが好ましい。

　感光性組成物層が２官能以上のエチレン性不飽和化合物を含む場合、２官能以上のエチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性組成物層に含まれる全てのエチレン性不飽和化合物の含有量に対して、６０～１００質量％が好ましく、８０～１００質量％がより好ましく、９０～１００質量％が更に好ましい。

　感光性組成物層が酸基を有するエチレン性不飽和化合物（好ましくは、カルボキシ基を有する２官能以上のエチレン性不飽和化合物又はそのカルボン酸無水物）を含む場合、酸基を有するエチレン性不飽和化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、１～２０質量％がより好ましく、１～１０質量％が更に好ましい。

　感光性組成物層は、重合性化合物として、環員原子として酸素原子又は硫黄原子を有する環状構造（以下、「特定環状構造」ともいう。）を有する重合性化合物を含むことが好ましい。

　特定環状構造としては、環員原子として酸素原子又は硫黄原子を有する環状構造であれば特に制限されない。
　また、特定環状構造は、単環及び複環のいずれであってもよく、飽和複素環構造及び不飽和複素環構造のいずれであってもよい。特定環状構造が単環である場合、５員環または６員環が好ましく、６員環がより好ましい。
　なかでも、特定環状構造としては、酸素原子を有する複素環構造が好ましく、酸素原子を有する飽和複素環構造がより好ましい。
　特定環状構造が有する環員原子としての酸素原子又は硫黄原子の数は、１～５個が好ましく、１～３個がより好ましく、１～２個が更に好ましい。
　なお、特定環状構造が環員原子としての酸素原子又は硫黄原子を複数有する場合、環員原子としては、同じ原子であってよく、異なる原子であってもよい。
　また、重合性化合物は、特定環状構造を有していればよく、更に置換基を有していてもよい。上記置換基としては、例えば、アルキル基が挙げられる。

　特定環状構造としては、例えば、ジオキサン構造、フラン構造、ピラン構造、及び、カプロラクタム構造等の含酸素複素環構造；チオフェン構造、ピラン構造、テトラヒドロチオフェン構造、チオフェン構造、チアン構造、ジチアン構造、及び、チエパン構造等の含硫黄複素環構造；これらの２種以上を組み合わせた構造が挙げられる。
　なかでも、本発明の効果が優れる点で、特定環状構造としては、含酸素複素環構造が好ましく、ジオキサン構造（好ましくは、１，３－ジオキサン構造）、又は、ジチアン構造（好ましくは、１，４－ジチアン構造）がより好ましく、ジオキサン構造が更に好ましい。

　特定環状構造を有する重合性化合物としては、下記式（Ｍ－１）で表される化合物が好ましい。
　　Ｑ^２－Ｌ^２－Ｒ^１－Ｌ^１－Ｑ^１　　　式（Ｍ－１）
　式（Ｍ－１）中、Ｒ^１は、置換基を有していてもよい、環員原子として酸素原子又は硫黄原子を有する環状構造を表す。
　Ｒ^１は、上述した特定環状構造と同義である。
　特定環状構造が有する置換基としては、例えば、アルキル基が挙げられる。

　Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれ独立に、（メタ）アクリロイル基を表す。
　Ｑ^１及びＱ^２は、合成容易性の点から、Ｑ^１及びＱ^２は同じ基が好ましい。
　また、Ｑ^１及びＱ^２は、反応性の点から、アクリロイル基が好ましい。

　Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。
　上記２価の連結基としては、例えば、－Ｏ－、－ＯＣ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、ＣＳ－、－ＳＯ－、―ＳＯ_２－、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基（例えば、アルキレン基、シクロアルキレン基、アルケニレン基、及びアリーレン基等）、及び、これらの複数が連結した連結基（例えば、－ＣＯＯ－、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基－Ｏ－）が挙げられる。
　なかでも、Ｌ^１及びＬ^２としては、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基が好ましい。
　脂肪族炭化水素基の炭素数は特に制限されず、１～１０が好ましく、１～５がより好ましい。

　酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基中における酸素原子の数は特に制限されず、１つであってもよいし、２つ以上であってもよい。
　酸素原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基としては、例えば、－アルキレン基－Ｏ－、及び、－（アルキレン基－Ｏ）_ｎ－（ｎは、１～５の整数を表す。）が挙げられる。上記アルキレン基中の炭素数は特に制限されず、１～５が好ましい。

　硫黄原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基中における硫黄原子の数は特に制限されず、１つであってもよいし、２つ以上であってもよい。
　硫黄原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基としては、例えば、－Ｓ－アルキレン基－、及び、－Ｓ－（アルキレン基－Ｓ）_ｎ－アルキレン基－（ｎは、１～５の整数を表す。）が挙げられる。上記アルキレン基中の炭素数は特に制限されず、１～５が好ましい。

　特定環状構造を有する重合性化合物としては、例えば、（メタ）アクリレート化合物のジオキサングリコール変性化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）　Ｒ－６０４）、ＷＯ２０１８／０７４３０５号に記載のジスピロ構造を有するジ（メタ）アクリレート、ＷＯ２０１８／０７４３０５号、特開昭５９－１４８７７６号公報、特開２０００－０４４５７０号公報、及び、特開２００５－０２９５６３号公報に記載のスピロ構造含有多価アルコールから誘導される（メタ）アクリレート化合物、アクリル酸４－（５－ヘキシル－１，３－ジチアン－２－イル）フェニル、ＷＯ０９／１４４８０１号、特開２００２－０３００８２号公報、及び、特開２００１－０６４２７８号公報に記載のジチアン誘導体チオ（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。

　特定環状構造を有する重合性化合物の分子量は、２００～３，０００が好ましく、２５０～２，６００がより好ましく、２８０～２，２００が更に好ましく、３００～２，２００が特に好ましい。

　特定環状構造を有する重合性化合物のＣｌｏｇＰ値は、１．００以上が好ましく、２．００以上がより好ましく、３．００以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、５．００以下が好ましく、４．００以下がより好ましい。

　特定環状構造を有する重合性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
　感光物組成物層が、特定環状構造を有する重合性化合物以外の他の重合性化合物を含む場合、特定環状構造を有する重合性化合物の含有量は、重合性化合物の合計質量に対して、１０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が更に好ましい。上記含有量の上限は特に制限されないが、１００質量％以下が好ましい。

［重合開始剤］
　感光性組成物層は、重合開始剤を含んでいてもよい。
　重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましい。
　光重合開始剤としては、例えば、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤（以下、「オキシム系光重合開始剤」ともいう。）、α－アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下、「α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤」ともいう。）、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤（以下、「α－ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤」ともいう。）、アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤（以下、「アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤」ともいう。）、及び、Ｎ－フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤（以下、「Ｎ－フェニルグリシン系光重合開始剤」ともいう。）が挙げられる。

　光重合開始剤は、オキシム系光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、α－ヒドロキシアルキルフェノン系重合開始剤、及び、Ｎ－フェニルグリシン系光重合開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、オキシム系光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、及び、Ｎ－フェニルグリシン系光重合開始剤からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことがより好ましい。

　また、光重合開始剤としては、例えば、特開２０１１－０９５７１６号公報の段落［００３１］～［００４２］、及び、特開２０１５－０１４７８３号公報の段落［００６４］～［００８１］に記載された重合開始剤を用いてもよい。

　光重合開始剤の市販品としては、例えば、１－［４－（フェニルチオ）］フェニル－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製〕、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製〕、［８－［５－（２，４，６－トリメチルフェニル）－１１－（２－エチルヘキシル）－１１Ｈ－ベンゾ［ａ］カルバゾイル］［２－（２，２，３，３－テトラフルオロプロポキシ）フェニル］メタノン－（Ｏ－アセチルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　ＯＸＥ－０３、ＢＡＳＦ社製〕、１－［４－［４－（２－ベンゾフラニルカルボニル）フェニル］チオ］フェニル］－４－メチル－１－ペンタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　ＯＸＥ－０４、ＢＡＳＦ社製〕、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ社製〕、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　９０７、ＢＡＳＦ社製〕、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）ベンジル］フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　１２７、ＢＡＳＦ社製〕、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　３６９、ＢＡＳＦ社製〕、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　１１７３、ＢＡＳＦ社製〕、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）　１８４、ＢＡＳＦ社製〕、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン〔商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　６５１、ＢＡＳＦ社製〕、オキシムエステル系の化合物〔商品名：Ｌｕｎａｒ（登録商標）　６、ＤＫＳＨジャパン株式会社製〕、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－３－シクロペンチルプロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３０５、常州強力電子新材料社製）、１，２－プロパンジオン，３－シクロヘキシル－１－［９－エチル－６－（２－フラニルカルボニル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，２－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３２６、常州強力電子新材料社製）、３－シクロヘキシル－１－（６－（２－（ベンゾイルオキシイミノ）ヘキサノイル）－９－エチル－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）－プロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＴＲ－ＰＢＧ－３９１、常州強力電子新材料社製）、及び、ＡＰｉ－３０７（１－（ビフェニル－４－イル）－２－メチル－２－モルホリノプロパン－１－オン、ＳｈｅｎｚｈｅｎＵＶ-ＣｈｅｍＴｅｃｈＬｔｄ．製）等が挙げられる。

　感光性組成物層は、１種単独の光重合開始剤を含んでいてもよく、２種以上の光重合開始剤を含んでいてもよい。

　光重合開始剤の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましい。また、光重合開始剤の含有量の上限は、感光性組成物層の全質量に対して、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。

［アルカリ可溶性アクリル樹脂］
　感光性組成物層は、アルカリ可溶性樹脂を含んでいてもよく、特に、アルカリ可溶性アクリル樹脂を含んでいてもよい。
　感光性組成物層がアルカリ可溶性アクリル樹脂を含むことで、現像液への感光性組成物層（非露光部）の溶解性が向上する。

　本開示において、「アルカリ可溶性」とは、以下の方法によって求められる溶解速度が０．０１μｍ／秒以上であることをいう。
　対象化合物（例えば、樹脂）の濃度が２５質量％であるプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液をガラス基板上に塗布し、次いで、１００℃のオーブンで３分間加熱することによって上記化合物の塗膜（厚み２．０μｍ）を形成する。上記塗膜を炭酸ナトリウム１質量％水溶液（液温３０℃）に浸漬させることにより、上記塗膜の溶解速度（μｍ／秒）を求める。
　なお、対象化合物がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解しない場合は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート以外の沸点２００℃未満の有機溶剤（例えば、テトラヒドロフラン、トルエン、又はエタノール）に対象化合物を溶解させる。

　アルカリ可溶性アクリル樹脂としては、上記において説明したアルカリ可溶性を有するアクリル樹脂であれば制限されない。ここで、「アクリル樹脂」とは、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の少なくとも一方を含む樹脂を意味する。

　アルカリ可溶性アクリル樹脂における（メタ）アクリル酸に由来する構成単位及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の合計割合は、３０モル％以上が好ましく、５０モル％以上がより好ましい。

　本開示において、「構成単位」の含有量をモル分率（モル割合）で規定する場合、特に断りのない限り、上記「構成単位」は「モノマー単位」と同義であるものとする。また、本開示において、樹脂又は重合体が２種以上の特定の構成単位を有する場合、特に断りのない限り、上記特定の構成単位の含有量は、上記２種以上の特定の構成単位の総含有量を表すものとする。

　アルカリ可溶性アクリル樹脂は、現像性の点から、カルボキシ基を有することが好ましい。アルカリ可溶性アクリル樹脂へのカルボキシ基の導入方法としては、例えば、カルボキシ基を有するモノマーを用いてアルカリ可溶性アクリル樹脂を合成する方法が挙げられる。上記方法により、カルボキシ基を有するモノマーは、カルボキシ基を有する構成単位としてアルカリ可溶性アクリル樹脂に導入される。カルボキシ基を有するモノマーとしては、例えば、アクリル酸、及び、メタクリル酸が挙げられる。

　アルカリ可溶性アクリル樹脂は、１つのカルボキシ基を有していてもよく、２つ以上のカルボキシ基を有していてもよい。また、アルカリ可溶性アクリル樹脂におけるカルボキシ基を有する構成単位は、１種単独であってもよく、２種以上であってもよい。

　カルボキシ基を有する構成単位の含有量は、アルカリ可溶性アクリル樹脂の全量に対して、５～５０モル％が好ましく、５～４０モル％がより好ましく、１０～３０モル％が更に好ましい。

　アルカリ可溶性アクリル樹脂は、硬化後の透湿度及び強度の点から、芳香環を有する構成単位を有することが好ましい。芳香環を有する構成単位としては、スチレン化合物由来の構成単位であることが好ましい。
　芳香環を有する構成単位を形成するモノマーとしては、例えば、スチレン化合物由来の構成単位を形成するモノマー、及び、ベンジル（メタ）アクリレートが挙げられる。

　上記スチレン化合物由来の構成単位を形成するモノマーとしては、例えば、スチレン、ｐ－メチルスチレン、α－メチルスチレン、α，ｐ－ジメチルスチレン、ｐ－エチルスチレン、ｐ－ｔ－ブチルスチレン、ｔ－ブトキシスチレン、及び、１，１－ジフェニルエチレンが挙げられ、スチレン又はα－メチルスチレンが好ましく、スチレンがより好ましい。

　アルカリ可溶性アクリル樹脂における芳香環を有する構成単位は、１種単独であってもよく、２種以上であってもよい。

　アルカリ可溶性アクリル樹脂が芳香環を有する構成単位を有する場合、芳香環を有する構成単位の含有量は、アルカリ可溶性アクリル樹脂の全量に対して、５～９０モル％が好ましく、１０～９０モル％がより好ましく、１５～９０モル％が更に好ましい。

　アルカリ可溶性アクリル樹脂は、タック性、及び、硬化後の強度の点から、脂肪族環式骨格を有する構成単位を含むことが好ましい。脂肪族環式骨格は、単環でも多環でもよい。

　脂肪族環式骨格における脂肪族環としては、例えば、ジシクロペンタン環、シクロヘキサン環、イソボロン環、及び、トリシクロデカン環が挙げられる。上記の中でも、脂肪族環式骨格における脂肪族環としては、トリシクロデカン環が好ましい。

　脂肪族環式骨格を有する構成単位を形成するモノマーとしては、例えば、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、及び、イソボルニル（メタ）アクリレートが挙げられる。

　アルカリ可溶性アクリル樹脂における脂肪族環式骨格を有する構成単位は、１種単独であってもよく、２種以上であってもよい。

　アルカリ可溶性アクリル樹脂が脂肪族環式骨格を有する構成単位を有する場合、脂肪族環式骨格を有する構成単位の含有量は、アルカリ可溶性アクリル樹脂の全量に対して、５～９０モル％が好ましく、１０～８０モル％がより好ましく、１０～７０モル％が更に好ましい。

　アルカリ可溶性アクリル樹脂は、タック性、及び、硬化後の強度の点から、反応性基を有していることが好ましい。

　反応性基としては、ラジカル重合性基が好ましく、エチレン性不飽和基がより好ましい。また、アルカリ可溶性アクリル樹脂がエチレン性不飽和基を有する場合、アルカリ可溶性アクリル樹脂は、側鎖にエチレン性不飽和基を有する構成単位を有することが好ましい。

　本開示において、「主鎖」とは、樹脂を構成する高分子化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表し、「側鎖」とは、主鎖から枝分かれしている原子団を表す。

　エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリル基、又は、（メタ）アクリロキシ基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましい。

　アルカリ可溶性アクリル樹脂におけるエチレン性不飽和基を有する構成単位は、１種単独であってもよく、２種以上であってもよい。

　アルカリ可溶性アクリル樹脂がエチレン性不飽和基を有する構成単位を有する場合、エチレン性不飽和基を有する構成単位の含有量は、アルカリ可溶性アクリル樹脂の全量に対して、５～７０モル％が好ましく、１０～５０モル％がより好ましく、１５～４０モル％が更に好ましい。

　反応性基をアルカリ可溶性アクリル樹脂に導入する手段としては、水酸基、カルボキシ基、第一級アミノ基、第二級アミノ基、アセトアセチル基、及び、スルホン酸等に、エポキシ化合物、ブロックイソシアネート化合物、イソシアネート化合物、ビニルスルホン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、及び、カルボン酸無水物等を反応させる方法が挙げられる。

　反応性基をアルカリ可溶性アクリル樹脂に導入する手段の好ましい例としては、カルボキシ基を有するアルカリ可溶性アクリル樹脂を重合反応により合成した後、ポリマー反応により、アルカリ可溶性アクリル樹脂のカルボキシ基の一部にグリシジル（メタ）アクリレートを反応させることで、（メタ）アクリロキシ基をアルカリ可溶性アクリル樹脂に導入する手段が挙げられる。上記手段により、側鎖に（メタ）アクリロキシ基を有するアルカリ可溶性アクリル樹脂を得ることができる。

　上記重合反応は、７０～１００℃の温度条件で行うことが好ましく、８０～９０℃の温度条件で行うことがより好ましい。上記重合反応に用いる重合開始剤としては、アゾ系開始剤が好ましく、例えば、富士フイルム和光純薬株式会社製のＶ－６０１（商品名）又はＶ－６５（商品名）がより好ましい。また、上記ポリマー反応は、８０～１１０℃の温度条件で行うことが好ましい。上記ポリマー反応においては、アンモニウム塩等の触媒を用いることが好ましい。

　アルカリ可溶性アクリル樹脂は、直鎖又は分岐の鎖状構造を有する構成単位を含むことが好ましい。
　鎖状構造としては、炭素数１～２０の直鎖又は分岐のアルキル基を挙げることができ、その炭素数は１～４であることが好ましい。

　鎖状構造を有する構成単位を形成するためのモノマーとしては、（メタ）アクリル酸アルキルエステルが挙げられ、アルキル基としては、炭素数１～２０のアルキル基が挙げられる。具体例としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル、及び、（メタ）アクリル酸ドデシル等が挙げられる。
　（メタ）アクリル酸エステルとしては、炭素数１～４のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく、（メタ）アクリル酸メチル又は（メタ）アクリル酸エチルがより好ましい。
　アルカリ可溶性アクリル樹脂が鎖状構造を有する構成単位を有する場合、鎖状構造を有する構成単位の含有量は、本発明の効果がより優れる点から、アルカリ可溶性アクリル樹脂の全構成単位に対して、１～９０モルが好ましく、１０～７０モル％より好ましく、２０～６０モル％が更に好ましい。　

　アルカリ可溶性アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０，０００以上が好ましく、１０，０００～１００，０００がより好ましく、１５，０００～５０，０００が更に好ましい。

　アルカリ可溶性アクリル樹脂の酸価は、現像性の点から、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましく、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が特に好ましい。本開示において、アルカリ可溶性アクリル樹脂の酸価は、ＪＩＳ　Ｋ００７０：１９９２に記載の方法に従って測定される値である。
　アルカリ可溶性アクリル樹脂の酸価の上限は、露光された感光性組成物層（露光部）が現像液へ溶解することを抑止する点から、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。

　アルカリ可溶性アクリル樹脂の具体例を以下に示す。なお、下記アルカリ可溶性アクリル樹脂における各構成単位の含有比率（モル比）は、目的に応じて適宜設定することができる。

　感光性組成物層は、１種単独のアルカリ可溶性樹脂（アルカリ可溶性アクリル樹脂）を含んでいてもよく、２種以上のアルカリ可溶性樹脂（アルカリ可溶性アクリル樹脂）を含んでいてもよい。

　アルカリ可溶性樹脂（アルカリ可溶性アクリル樹脂）の含有量は、現像性の点から、感光性組成物層の全質量に対して、１０～９０質量％が好ましく、２０～８０質量％がより好ましく、２５～７０質量％が更に好ましい。

［カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体］
　感光性組成物層は、バインダーとして、カルボン酸無水物構造を有する構成単位を含む重合体（以下、「重合体Ｂ」ともいう。）を更に含んでいてもよい。感光性組成物層が重合体Ｂを含むことで、現像性及び硬化後の強度を向上できる。

　カルボン酸無水物構造は、鎖状カルボン酸無水物構造、及び、環状カルボン酸無水物構造のいずれであってもよいが、環状カルボン酸無水物構造が好ましい。

　環状カルボン酸無水物構造の環としては、５～７員環が好ましく、５員環又は６員環がより好ましく、５員環が更に好ましい。

　カルボン酸無水物構造を有する構成単位は、下記式Ｐ－１で表される化合物から水素原子を２つ除いた２価の基を主鎖中に含む構成単位、又は、下記式Ｐ－１で表される化合物から水素原子を１つ除いた１価の基が主鎖に対して直接又は２価の連結基を介して結合している構成単位であることが好ましい。

　式Ｐ－１中、Ｒ^Ａ１ａは、置換基を表し、ｎ^１ａ個のＲ^Ａ１ａは、同一でも異なっていてもよく、Ｚ^１ａは、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－を含む環を形成する２価の基を表し、ｎ^１ａは、０以上の整数を表す。

　Ｒ^Ａ１ａで表される置換基としては、例えば、アルキル基が挙げられる。

　Ｚ^１ａとしては、炭素数２～４のアルキレン基が好ましく、炭素数２又は３のアルキレン基がより好ましく、炭素数２のアルキレン基が更に好ましい。

　ｎ^１ａは、０以上の整数を表す。Ｚ^１ａが炭素数２～４のアルキレン基を表す場合、ｎ^１ａは、０～４の整数であることが好ましく、０～２の整数であることがより好ましく、０であることが更に好ましい。

　ｎ^１ａが２以上の整数を表す場合、複数存在するＲ^Ａ１ａは、同一でも異なっていてもよい。また、複数存在するＲ^Ａ１ａは、互いに結合して環を形成してもよいが、互いに結合して環を形成していないことが好ましい。

　カルボン酸無水物構造を有する構成単位としては、不飽和カルボン酸無水物に由来する構成単位が好ましく、不飽和環式カルボン酸無水物に由来する構成単位がより好ましく、不飽和脂肪族環式カルボン酸無水物に由来する構成単位が更に好ましく、無水マレイン酸又は無水イタコン酸に由来する構成単位が特に好ましく、無水マレイン酸に由来する構成単位が最も好ましい。

　重合体Ｂにおけるカルボン酸無水物構造を有する構成単位は、１種単独であってもよく、２種以上であってもよい。

　カルボン酸無水物構造を有する構成単位の含有量は、重合体Ｂの全量に対して、０～６０モル％が好ましく、５～４０モル％がより好ましく、１０～３５モル％が更に好ましい。

　感光性組成物層は、１種単独の重合体Ｂを含んでいてもよく、２種以上の重合体Ｂを含んでいてもよい。

　感光性組成物層が重合体Ｂを含む場合、重合体Ｂの含有量は、現像性及び硬化後の強度の点から、感光性組成物層の全質量に対して、０．１～３０質量％が好ましく、０．２～２０質量％がより好ましく、０．５～２０質量％が更に好ましく、１～２０質量％が特に好ましい。

［複素環化合物］
　感光性組成物層は、複素環化合物を含むことが好ましい。複素環化合物は、基材（特に、銅基板）に対する密着性、及び、金属（特に、銅）の腐食抑制性の向上に寄与する。

　複素環化合物が有する複素環は、単環及び多環のいずれの複素環でもよい。
　複素環化合物が有するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子が挙げられる。複素環化合物は、窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子を有することが好ましく、窒素原子を有することがより好ましい。

　複素環化合物としては、例えば、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、及び、ピリミジン化合物が挙げられる。
　上記の中でも、複素環化合物としては、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、トリアジン化合物、ローダニン化合物、チアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、及び、ベンゾオキサゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物が好ましく、トリアゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物、テトラゾール化合物、チアジアゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾイミダゾール化合物、及び、ベンゾオキサゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物がより好ましい。

　複素環化合物の好ましい具体例を以下に示す。トリアゾール化合物及びベンゾトリアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　テトラゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　チアジアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　トリアジン化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ローダニン化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　チアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ベンゾチアゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ベンゾイミダゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　ベンゾオキサゾール化合物としては、以下の化合物が例示できる。

　感光性組成物層は、１種単独の複素環化合物を含んでいてもよく、２種以上の複素環化合物を含んでいてもよい。

　感光性組成物層が複素環化合物を含む場合、複素環化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．１～１０質量％がより好ましく、０．３～８質量％が更に好ましく、０．５～５質量％が特に好ましい。複素環化合物の含有量が上記範囲内であることで、基材に対する密着性、及び、金属（特に、銅）の腐食抑制性を向上できる。

［脂肪族チオール化合物］
　感光性組成物層は、脂肪族チオール化合物を含むことが好ましい。
　感光性組成物層が脂肪族チオール化合物を含むことで、脂肪族チオール化合物がエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物との間でエン－チオール反応することで、形成される膜の硬化収縮が抑えられ、応力が緩和される。そのため、形成される硬化層の基材に対する密着性（特に、露光後における密着性）が向上する傾向がある。

　脂肪族チオール化合物としては、単官能の脂肪族チオール化合物、又は、多官能の脂肪族チオール化合物（すなわち、２官能以上の脂肪族チオール化合物）が好ましい。

　上記の中でも、脂肪族チオール化合物としては、例えば、形成される硬化層の基板に対する密着性（特に、露光後における密着性）の点から、多官能の脂肪族チオール化合物が好ましい。

　本開示において、「多官能の脂肪族チオール化合物」とは、チオール基（「メルカプト基」ともいう。）を分子内に２個以上有する脂肪族化合物を意味する。

　多官能の脂肪族チオール化合物としては、分子量が１００以上の低分子化合物が好ましい。具体的には、多官能の脂肪族チオール化合物の分子量は、１００～１，５００がより好ましく、１５０～１，０００が更に好ましい。

　多官能の脂肪族チオール化合物の官能基数としては、例えば、形成される硬化層の基板に対する密着性の点から、２～１０官能が好ましく、２～８官能がより好ましく、２～６官能が更に好ましい。

　多官能の脂肪族チオール化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）、トリス［（３－メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、テトラエチレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）、エチレングリコールビスチオプロピオネート、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、１，２－エタンジチオール、１，３－プロパンジチオール、１，６－ヘキサメチレンジチオール、２，２’－（エチレンジチオ）ジエタンチオール、ｍｅｓｏ－２，３－ジメルカプトコハク酸、及び、ジ（メルカプトエチル）エーテルが挙げられる。

　上記の中でも、多官能の脂肪族チオール化合物としては、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、及び、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましい。

　単官能の脂肪族チオール化合物としては、例えば、１－オクタンチオール、１－ドデカンチオール、β－メルカプトプロピオン酸、メチル－３－メルカプトプロピオネート、２－エチルヘキシル－３－メルカプトプロピオネート、ｎ－オクチル－３－メルカプトプロピオネート、メトキシブチル－３－メルカプトプロピオネート、及び、ステアリル－３－メルカプトプロピオネートが挙げられる。

　感光性組成物層は、１種単独の脂肪族チオール化合物を含んでいてもよく、２種以上の脂肪族チオール化合物を含んでいてもよい。

　感光性組成物層が脂肪族チオール化合物を含む場合、脂肪族チオール化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、５質量％以上が好ましく、５～５０質量％がより好ましく、５～３０質量％が更に好ましく、８～２０質量％が特に好ましい。脂肪族チオール化合物の含有量が５質量％以上であると、基材に対する密着性（特に、露光後の密着性）により優れる硬化層を形成できる傾向がある。

［ブロックイソシアネート化合物］
　感光性組成物層は、ブロックイソシアネート化合物を含むことが好ましい。ブロックイソシアネート化合物は、硬化層の強度の向上に寄与する。
　ブロックイソシアネート化合物は、水酸基及びカルボキシ基と反応するため、例えば、バインダーポリマー及びエチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物の少なくとも一方が、水酸基及びカルボキシ基の少なくとも一方を有する場合には、形成される膜の親水性が下がり、保護膜としての機能が強化される傾向がある。なお、ブロックイソシアネート化合物とは、「イソシアネートのイソシアネート基をブロック剤で保護（いわゆる、マスク）した構造を有する化合物」を指す。

　ブロックイソシアネート化合物の解離温度としては、１００～１６０℃が好ましく、１１０～１５０℃がより好ましい。

　本開示において、「ブロックイソシアネート化合物の解離温度」とは、示差走査熱量計を用いて、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ　ｓｃａｎｎｉｎｇ　ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）分析にて測定した場合における、ブロックイソシアネート化合物の脱保護反応に伴う吸熱ピークの温度を意味する。示差走査熱量計としては、例えば、セイコーインスツルメンツ株式会社製の示差走査熱量計（型式：ＤＳＣ６２００）を好適に用いることができる。ただし、示差走査熱量計は、上記した示差走査熱量計に制限されない。

　解離温度が１００～１６０℃であるブロック剤としては、活性メチレン化合物〔（マロン酸ジエステル（マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジｎ－ブチル、マロン酸ジ２－エチルヘキシル等））等〕、及び、オキシム化合物（ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等の分子内に－Ｃ（＝Ｎ－ＯＨ）－で表される構造を有する化合物）が挙げられる。上記の中でも、解離温度が１００～１６０℃であるブロック剤としては、例えば、保存安定性の点から、オキシム化合物が好ましい。

　ブロックイソシアネート化合物は、膜の脆性改良、被転写体との密着力向上等の点から、イソシアヌレート構造を有することが好ましい。イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物は、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートをイソシアヌレート化して保護することにより得られる。

　イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物の中でも、オキシム化合物をブロック剤として用いたオキシム構造を有する化合物が、オキシム構造を有さない化合物よりも解離温度を好ましい範囲にしやすく、かつ、現像残渣を少なくしやすいという点から好ましい。

　ブロックイソシアネート化合物は、硬化層の強度の点から、重合性基を有することが好ましく、ラジカル重合性基を有することがより好ましい。

　重合性基としては、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基、スチリル基等のエチレン性不飽和基、及び、グリシジル基等のエポキシ基を有する基が挙げられる。上記の中でも、重合性基としては、得られる硬化層における表面の面状、現像速度、及び反応性の点から、エチレン性不飽和基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましい。

　ブロックイソシアネート化合物としては、市販品を用いることができる。ブロックイソシアネート化合物の市販品の例としては、例えば、カレンズ（登録商標）　ＡＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標）　ＭＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標）　ＡＯＩ－ＢＰ、カレンズ（登録商標）　ＭＯＩ－ＢＰ等〔以上、昭和電工株式会社製〕、及び、ブロック型のデュラネートシリーズ〔例えば、デュラネート（登録商標）　ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、旭化成ケミカルズ株式会社製〕が挙げられる。

　感光性組成物層は、１種単独のブロックイソシアネート化合物を含んでいてもよく、２種以上のブロックイソシアネート化合物を含んでいてもよい。

　感光性組成物層がブロックイソシアネート化合物を含む場合、ブロックイソシアネート化合物の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましい。

［界面活性剤］
　感光性組成物層は、界面活性剤を含むことが好ましい。
　界面活性剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落［００１７］、及び特開２００９－２３７３６２号公報の段落［００６０］～［００７１］に記載の界面活性剤が挙げられる。

　界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤が好ましい。
　フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファック　Ｆ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５１－Ａ、Ｆ－５５２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ株式会社製）、フロラード　ＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント　７１０ＦＬ、７１０ＦＭ、６１０ＦＭ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、２１５Ｍ、２４５Ｆ、２５１、２１２Ｍ、２５０、２０９Ｆ、２２２Ｆ、２０８Ｇ、７１０ＬＡ、７１０ＦＳ、７３０ＬＭ、６５０ＡＣ、６８１、６８３（以上、（株）ＮＥＯＳ製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤としては、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファック　ＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えば、メガファック　ＤＳ－２１が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤としては、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。
　また、フッ素系界面活性剤としては、ブロックポリマーも使用できる。
　また、フッ素系界面活性剤としては、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する構成単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する構成単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく使用できる。
　また、フッ素系界面活性剤としては、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体も使用できる。メガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ（以上、ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。

　フッ素系界面活性剤としては、環境適性向上の観点から、パーフルオロオクタン酸（ＰＦＯＡ）及びパーフルオロオクタンスルホン酸（ＰＦＯＳ）等の炭素数が７以上の直鎖状パーフルオロアルキル基を有する化合物の代替材料に由来する界面活性剤であることが好ましい。

　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニック　Ｌ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（以上、ＢＡＳＦ社製）、テトロニック　３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（以上、ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース　２００００（以上、日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（以上、富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニン　Ｄ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（以上、竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（以上、日信化学工業（株）製）等が挙げられる。

　シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマー、及び、側鎖や末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマーが挙げられる。
　界面活性剤の具体例としては、ＤＯＷＳＩＬ　８０３２　ＡＤＤＩＴＩＶＥ、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）並びに、Ｘ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、Ｋ３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－６１９１、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２（以上、信越シリコーン株式会社製）、Ｆ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。　

　感光性組成物層は、１種単独の界面活性剤を含んでいてもよく、２種以上の界面活性剤を含んでいてもよい。

　感光性組成物層が界面活性剤を含む場合、界面活性剤の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、０．０１～３質量％が好ましく、０．０５～１質量％がより好ましく、０．１～０．８質量％が更に好ましい。

［水素供与性化合物］
　感光性組成物層は、水素供与性化合物を含むことが好ましい。水素供与性化合物は、光重合開始剤の活性光線に対する感度を一層向上させる、酸素による重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。

　水素供与性化合物としては、アミン類、例えば、Ｍ．Ｒ．Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４－０２０１８９号公報、特開昭５１－０８２１０２号公報、特開昭５２－１３４６９２号公報、特開昭５９－１３８２０５号公報、特開昭６０－０８４３０５号公報、特開昭６２－０１８５３７号公報、特開昭６４－０３３１０４号公報、Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ　３３８２５号等に記載の化合物が挙げられる。

　水素供与性化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ－ホルミルジメチルアニリン、及び、ｐ－メチルチオジメチルアニリンが挙げられる。

　また、水素供与性化合物としては、アミノ酸化合物（Ｎ－フェニルグリシン等）、特公昭４８－０４２９６５号公報に記載の有機金属化合物（トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５－０３４４１４号公報に記載の水素供与体、及び、特開平６－３０８７２７号公報に記載のイオウ化合物（トリチアン等）も挙げられる。

　感光性組成物層は、１種単独の水素供与性化合物を含んでいてもよく、２種以上の水素供与性化合物を含んでいてもよい。

　感光性組成物層が水素供与性化合物を含む場合、水素供与性化合物の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスとによる硬化速度の向上の点から、感光性組成物層の全質量に対して、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０３～５質量％がより好ましく、０．０５～３質量％が更に好ましい。

［他の成分］
　感光性組成物層は、既述の成分以外の成分（以下、「他の成分」ともいう。）を含んでいてもよい。他の成分としては、例えば、粒子（例えば、金属酸化物粒子）、及び、着色剤が挙げられる。また、他の成分としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落［００１８］に記載の熱重合防止剤、及び、特開２０００－３１０７０６号公報の段落［００５８］～［００７１］に記載のその他の添加剤も挙げられる。

　感光性組成物層は、屈折率、光透過性等の調節を目的として、粒子を含んでいてもよい。粒子としては、例えば、金属酸化物粒子が挙げられる。
　金属酸化物粒子における金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、及び、Ｔｅ等の半金属も含まれる。

　粒子の平均一次粒子径としては、例えば、硬化層の透明性の点から、１～２００ｎｍが好ましく、３～８０ｎｍがより好ましい。粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡を用いて任意の粒子２００個の粒子径を測定し、測定結果を算術平均することにより算出される。なお、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を粒子径とする。

　感光性組成物層は、１種単独の粒子を含んでいてもよく、２種以上の粒子を含んでいてもよい。また、感光性組成物層が粒子を含む場合、金属種、大きさ等の異なる粒子を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。

　感光性組成物層は、粒子を含まないか、又は、粒子の含有量が感光性組成物層の全質量に対して０質量％を超えて３５質量％以下であることが好ましく、粒子を含まないか、又は、粒子の含有量が感光性組成物層の全質量に対して０質量％を超えて１０質量％以下であることがより好ましく、粒子を含まないか、又は、粒子の含有量が感光性組成物層の全質量に対して０質量％を超えて５質量％以下であることが更に好ましく、粒子を含まないか、又は、粒子の含有量が感光性組成物層の全質量に対して０質量％を超えて１質量％以下であることが特に好ましく、粒子を含まないことが最も好ましい。

　感光性組成物層は、微量の着色剤（例えば、顔料、及び染料）を含んでいてもよいが、例えば、透明性の点からは、着色剤を実質的に含まないことが好ましい。
　感光性組成物層が着色剤を含む場合、着色剤の含有量は、感光性組成物層の全質量に対して、１質量％未満が好ましく、０．１質量％未満がより好ましい。

［不純物等］
　感光性組成物層は、所定量の不純物を含んでいてもよい。
　不純物の具体例としては、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、鉄、マンガン、銅、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、亜鉛、スズ、ハロゲン、及び、これらのイオンが挙げられる。中でも、ハロゲン化物イオン、ナトリウムイオン、及び、カリウムイオンは不純物として混入し易いため、下記の含有量にすることが好ましい。

　感光性組成物層における不純物の含有量は、質量基準で、８０ｐｐｍ以下が好ましく、１０ｐｐｍ以下がより好ましく、２ｐｐｍ以下が更に好ましい。感光性組成物層における不純物の含有量は、質量基準で、１ｐｐｂ以上とすることができ、０．１ｐｐｍ以上とすることができる。

　不純物を上記範囲にする方法としては、感光性組成物層の原料として不純物の含有量が少ないものを選択すること、及び、感光性組成物層の形成時に不純物の混入を防ぐこと、洗浄して除去することが挙げられる。このような方法により、不純物量を上記範囲内とすることができる。

　不純物は、例えば、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）発光分光分析法、原子吸光分光法、及び、イオンクロマトグラフィー法等の公知の方法で定量できる。

　感光性組成物層における、ベンゼン、ホルムアルデヒド、トリクロロエチレン、１，３－ブタジエン、四塩化炭素、クロロホルム、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、及び、ヘキサン等の化合物の含有量は、少ないことが好ましい。これら化合物の感光性組成物層中における含有量としては、質量基準で、１００ｐｐｍ以下が好ましく、２０ｐｐｍ以下がより好ましく、４ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は質量基準で、１０ｐｐｂ以上とすることができ、１００ｐｐｂ以上とすることができる。これら化合物は、上記の金属の不純物と同様の方法で含有量を抑制できる。また、公知の測定法により定量できる。

　感光性組成物層における水の含有量は、信頼性及びラミネート性を向上させる点から、０．０１～１．０質量％が好ましく、０．０５～０．５質量％がより好ましい。

［感光性組成物層の厚み］
　感光性組成物層の厚みは特に制限されないが、１０．０μｍ以下が好ましく、積層体中の透明導電部間の接続信頼性がより優れる点（以下、単に「本発明の効果がより優れる点」ともいう。）で、８．０μｍ以下がより好ましい。
　感光性組成物層の厚みの下限は、制限されない。感光性組成物層の厚みが小さいほど、耐屈曲性を向上できる。感光性組成物層の厚みの下限は、製造適性の点から、０．０５μｍ以上が好ましい。感光性組成物層の厚みの下限は、透明導電部の保護性向上の点からは、０．５μｍ以上が好ましく、１．１μｍ以上がより好ましい。
　感光性組成物層の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。

［感光性組成物層の屈折率］
　感光性組成物層の屈折率は、１．４７～１．５６が好ましく、１．４９～１．５４がより好ましい。

［感光性組成物層の溶解速度］
　炭酸ナトリウム水溶液（炭酸ナトリウム濃度：１．０質量％）に対する感光性組成物層の溶解速度は、現像時の残渣抑制の観点から、０．０１μｍ／秒以上が好ましく、０．１０μｍ／秒以上がより好ましく、０．２０μｍ／秒以上が更に好ましい。パターンのエッジ形状の観点から、５．０μｍ／秒以下が好ましく、４．０μｍ／秒以下がより好ましく、３．０μｍ／秒以下が更に好ましい。具体的な好ましい数値としては、１．８μｍ／秒、１．０μｍ／秒、及び、０．７μｍ／秒等が挙げられる。
　炭酸ナトリウム水溶液（炭酸ナトリウム濃度：１．０質量％）に対する感光性組成物層の単位時間あたりの溶解速度は、以下のように測定するものとする。
　ガラス基板に形成した、溶媒を十分に除去した感光性組成物層（膜厚１．０～１０μｍの範囲内）に対し、炭酸ナトリウム水溶液（炭酸ナトリウム濃度：１．０質量％）を用いて２５℃で、感光性組成物層が溶け切るまでシャワー現像を行う（但し、最長で２分までとする）。感光性組成物層の膜厚を、感光性組成物層が溶け切るまでに要した時間で割り算することで求める。なお、２分で溶け切らない場合は、それまでの膜厚変化量から同様に計算する。

［感光性組成物層中の異物］
　パターン形成性の観点から、感光性組成物層中の直径１．０μｍ以上の異物の数は、１０個／ｍｍ^２以下が好ましく、５個／ｍｍ^２以下がより好ましい。
　異物個数は以下のように測定するものとする。
　感光性組成物層の表面の法線方向から、感光性組成物層の面上の任意の５か所の領域（１ｍｍ×１ｍｍ）を、光学顕微鏡を用いて目視にて観察して、各領域中の直径１．０μｍ以上の異物の数を測定して、それらを算術平均して異物の数として算出する。具体的な好ましい数値としては、例えば、０個／ｍｍ^２、１個／ｍｍ^２、４個／ｍｍ^２、及び、８個／ｍｍ^２等が挙げられる。

［感光性組成物層中の溶解物のヘイズ］
　現像時での凝集物発生抑止の観点から、３０℃の炭酸ナトリウム水溶液（炭酸ナトリウム濃度：１．０質量％）１．０Ｌに１．０ｃｍ^３の感光性組成物層を溶解させて得られる溶液のヘイズは６０％以下が好ましく、３０％以下がより好ましく、１０％以下が更に好ましく、１％以下が特に好ましい。
　ヘイズは以下のように測定するものとする。
　まず、炭酸ナトリウム水溶液（炭酸ナトリウム濃度：１．０質量％）を準備し、液温を３０℃に調整する。炭酸ナトリウム水溶液１．０Ｌに１．０ｃｍ^３の感光性組成物層を入れる。気泡を混入しないように注意しながら、３０℃で４時間撹拌する。撹拌後、感光性組成物層が溶解した溶液のヘイズを測定する。ヘイズは、ヘイズメーター（製品名「ＮＤＨ４０００」、日本電色工業社製）を用い、液体測定用ユニット及び光路長２０ｍｍの液体測定専用セルを用いて測定される。具体的な好ましい数値としては、例えば、０．４％、１．０％、９％、及び、２４％等が挙げられる。　

［感光性組成物層の色］
　感光性組成物層は、無彩色であることが好ましい。具体的には、全反射（入射角８°、光源：Ｄ－６５（２°視野））の、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）色空間において、Ｌ^＊値は１０～９０であることが好ましく、ａ^＊値は－１．０～１．０であることが好ましく、ｂ^＊値は－１．０～１．０であることが好ましい。
　後述する硬化層も同様に、無彩色であることが好ましく、好ましい範囲も同様である。　

（屈折率調整層）
　なお、上述した積層体は、基材、透明導電部、及び、感光性組成物層以外の他の部材を有していてもよい。
　例えば、積層体は、透明導電部上に屈折率調整層を有していてもよい。つまり、屈折率調整層は、感光性組成物層と透明導電部との間に配置されることが好ましい。

　屈折率調整層としては、公知の屈折率調整層を適用できる。屈折率調整層に含まれる材料としては、例えば、バインダー、及び、粒子が挙げられる。

　バインダーとしては、例えば、上記「感光性組成物層」の項において説明したアルカリ可溶性樹脂（特に、アルカリ可溶性アクリル樹脂）が挙げられる。

　粒子としては、例えば、酸化ジルコニウム粒子（ＺｒＯ_２粒子）、酸化ニオブ粒子（Ｎｂ_２Ｏ_５粒子）、酸化チタン粒子（ＴｉＯ_２粒子）、及び、二酸化珪素粒子（ＳｉＯ_２粒子）が挙げられる。

　また、屈折率調整層は、金属酸化抑制剤を含むことが好ましい。屈折率調整層が金属酸化抑制剤を含むことで、屈折率調整層に接する金属の酸化を抑制できる。
　金属酸化抑制剤としては、例えば、分子内に窒素原子を含む芳香環を有する化合物が好ましい。金属酸化抑制剤としては、例えば、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、テトラゾール、メルカプトチアジアゾール、及び、ベンゾトリアゾールが挙げられる。

　屈折率調整層の屈折率は、１．５０以上が好ましく、１．５５以上がより好ましく、１．６０以上が更に好ましく、１．６３以上が最も好ましい。
　屈折率調整層の屈折率の上限は、２．１０以下が好ましく、１．８５以下がより好ましい。

　屈折率調整層の厚みは、５００ｎｍ以下が好ましく、１１０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が更に好ましい。
　屈折率調整層厚みは、２０ｎｍ以上が好ましく、５０ｎｍ以上がより好ましい。
　屈折率調整層の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。

　屈折率調整層の形成方法としては、例えば、屈折率調整層形成用組成物を用いる方法が挙げられる。例えば、被塗布物上に、屈折率調整層形成用組成物を塗布し、そして、必要に応じて乾燥させることにより屈折率調整層を形成できる。

　また、後述するように、転写法を用いて工程１を実施する場合には、仮支持体と、感光性組成物層と、屈折率調整層と、保護フィルムとをこの順で有する転写フィルムを用いて、感光性組成物層及び屈折率調整層を導電性基板上に転写する方法が挙げられる。
　なお、屈折率調整層を使用しない場合には、仮支持体と、感光性組成物層と、保護フィルムとをこの順で有する転写フィルムを用いてもよい。

　また、上述した積層体は、基材と透明導電部との間に、透明膜を有していてもよい。

（工程１の手順）
　導電性基板の透明導電部側に、感光性組成物層を配置する方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。例えば、仮支持体と仮支持体上に配置された感光性組成物層とを有する転写フィルムを、仮支持体よりも感光性組成物層を導電性基板側に向けて、導電性基板と貼り合わせる方法（転写方法）、及び、導電性基板の透明導電部上に感光性組成物を塗布して感光性組成物層を形成する方法（塗布方法）が挙げられる。
　工業的な点からは、転写方法が好ましい。つまり、工程１は、仮支持体と仮支持体上に配置された感光性組成物層とを有する転写フィルムを、仮支持体よりも感光性組成物層を導電性基板側に向けて、導電性基板と貼り合わせる工程６であることが好ましい。
　以下、転写方法について詳述する。

　仮支持体は、フィルムであることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。仮支持体としては、可撓性を有し、かつ、加圧下、又は、加圧及び加熱下において、著しい変形、収縮、又は伸びを生じないフィルムを用いることができる。
　このようなフィルムとして、ポリエチレンテレフタレートフィルム（例えば、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム）、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリイミドフィルム、及び、ポリカーボネートフィルムが挙げられる。
　これらの中でも、仮支持体としては、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
　また、仮支持体として使用するフィルムには、シワ等の変形、傷等がないことが好ましい。

　仮支持体は、仮支持体を介してパターン露光できるという点から、透明性が高いことが好ましく、３６５ｎｍの透過率は６０％以上がより好ましく、３６５ｎｍの透過率は７０％以上が更に好ましい。
　仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、及び、仮支持体の透明性の点から、仮支持体のヘイズは小さい方が好ましい。具体的には、仮支持体のヘイズ値が、２％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましく、０．１％以下が更に好ましい。
　仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、及び、仮支持体の透明性の点から、仮支持体に含まれる微粒子、異物及び欠陥の数は少ない方が好ましい。直径１μｍ以上の微粒子、異物及び欠陥の数は、５０個／１０ｍｍ^２以下が好ましく、１０個／１０ｍｍ^２以下がより好ましく、３個／１０ｍｍ^２以下が更に好ましく、０個／１０ｍｍ^２が特に好ましい。

　仮支持体の厚さは、特に制限されないが、５～２００μｍが好ましく、取り扱いやすさ及び汎用性の点から、１０～１５０μｍがより好ましく、１０～５０μｍが更に好ましい。

　仮支持体の表面に、ハンドリング性を付与する点で、微小な粒子を含有する層（滑剤層）を設けてもよい。滑剤層は仮支持体の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。滑剤層に含まれる粒子の直径は、０．０５～０．８μｍとすることができる。また、滑剤層の膜厚は０．０５～１．０μｍとすることができる。

　仮支持体としては、例えば、膜厚１６μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、膜厚１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、及び、膜厚９μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが挙げられる。

　仮支持体の好ましい形態としては、例えば、特開２０１４－０８５６４３号公報の段落［００１７］～［００１８］、特開２０１６－０２７３６３号公報の段落［００１９］～［００２６］、ＷＯ２０１２／０８１６８０Ａ１公報の段落［００４１］～［００５７］、ＷＯ２０１８／１７９３７０Ａ１公報の段落［００２９］～［００４０］に記載があり、これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。

　仮支持体上に感光性組成物層を形成する方法としては、仮支持体上に感光性組成物を塗布し、そして、必要に応じて乾燥させる方法が挙げられる。
　なお、感光性組成物は、溶剤を含むことが好ましい。

　溶剤としては、有機溶剤が好ましい。有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（別名：１－メトキシ－２－プロピルアセテート）、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム、ｎ－プロパノール、及び、２－プロパノールが挙げられる。溶剤としては、メチルエチルケトンとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶剤、又は、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶剤が好ましい。

　溶剤としては、米国特許公開第２００５／２８２０７３号明細書の段落［００５４］及び段落［００５５］に記載の溶剤を用いることもでき、この明細書の内容は参照により本明細書に組み込まれる。

　また、溶剤としては、必要に応じ、沸点が１８０℃～２５０℃である有機溶剤（高沸点溶剤）を用いることもできる。

　感光性組成物は、１種単独の溶剤を含んでいてもよく、２種以上の溶剤を含んでいてもよい。

　感光性組成物が溶剤を含む場合、感光性組成物の全固形分量は、感光性組成物の全質量に対して、５～８０質量％が好ましく、５～４０質量％がより好ましく、５～３０質量％が更に好ましい。

　感光性組成物が溶剤を含む場合、感光性組成物の２５℃における粘度は、例えば、塗布性の点から、１～５０ｍＰａ・ｓが好ましく、２～４０ｍＰａ・ｓがより好ましく、３～３０ｍＰａ・ｓが更に好ましい。粘度は、粘度計を用いて測定する。粘度計としては、例えば、東機産業株式会社製の粘度計（商品名：ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ　ＴＶ－２２）を好適に用いることができる。但し、粘度計は、上記した粘度計に制限されない。

　感光性組成物が溶剤を含む場合、感光性組成物の２５℃における表面張力は、例えば、塗布性の観点から、５～１００ｍＮ／ｍが好ましく、１０～８０ｍＮ／ｍがより好ましく、１５～４０ｍＮ／ｍが更に好ましい。表面張力は、表面張力計を用いて測定する。表面張力計としては、例えば、協和界面科学株式会社製の表面張力計（商品名：Ａｕｔｏｍａｔｉｃ　Ｓｕｒｆａｃｅ　Ｔｅｎｓｉｏｍｅｔｅｒ　ＣＢＶＰ－Ｚ）を好適に用いることができる。ただし、表面張力計は、上記した表面張力計に制限されない。

　感光性組成物の塗布方法としては、例えば、印刷法、スプレー法、ロールコート法、バーコート法、カーテンコート法、スピンコート法、及び、ダイコート法（すなわち、スリットコート法）が挙げられる。上記の中でも、塗布方法としては、ダイコート法が好ましい。

　乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、加熱乾燥、及び、減圧乾燥が挙げられる。上記した方法を単独で又は複数組み合わせて適用することができる。
　本開示において、「乾燥」とは、組成物に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去することを意味する。

　転写フィルムの仮支持体と反対側の表面には、感光性組成物層を保護するために、保護フィルムを設けることが好ましい。なお、感光性組成物層上に更に屈折率調整層が配置される場合には、保護フィルムは屈折率調整層を保護する。
　保護フィルムは樹脂フィルムであることが好ましく、耐熱性及び耐溶剤性を有する樹脂フィルムを用いることができ、例えば、ポリプロピレンフィルム及びポリエチレンフィルム等のポリオレフィンフィルムが挙げられる。また、保護フィルムとして上述の仮支持体と同じ材料で構成された樹脂フィルムを用いてもよい。

　保護フィルムの厚さは、１～１００μｍが好ましく、５～５０μｍがより好ましく、５～４０μｍが更に好ましく、１５～３０μｍが特に好ましい。保護フィルムの厚さは、機械的強度に優れる点で、１μｍ以上が好ましく、比較的安価となる点で、１００μｍ以下が好ましい。

　保護フィルムと感光性組成物層又は屈折率調整層との間の接着力は、保護フィルムを感光性組成物層又は屈折率調整層から剥離し易くするため、仮支持体と感光性組成物層との間の接着力よりも小さいことが好ましい。

　また、保護フィルム中に含まれる直径８０μｍ以上のフィッシュアイ数は、５個／ｍ^２以下であることが好ましい。なお、「フィッシュアイ」とは、材料を熱溶融し、混練し、押し出し、２軸延伸し、キャスティングする方法等によりフィルムを製造する際に、材料の異物、未溶解物、及び、酸化劣化物等がフィルム中に取り込まれたものである。

　保護フィルムに含まれる直径３μｍ以上の粒子の数は３０個／ｍｍ^２以下が好ましく、１０個／ｍｍ^２以下がより好ましく、５個／ｍｍ^２以下が更に好ましい。これにより、保護フィルムに含まれる粒子に起因する凹凸が感光性組成物層又は屈折率調整層に転写されることにより生じる欠陥を抑制できる。

　保護フィルムは、巻き取り性を付与する点から、感光性組成物層又は屈折率調整層と接する面とは反対側の表面の算術平均粗さＲａは、０．０１μｍ以上が好ましく、０．０２μｍ以上がより好ましく、０．０３μｍ以上が更に好ましい。一方で、０．５０μｍ未満が好ましく、０．４０μｍ以下がより好ましく、０．３０μｍ以下が更に好ましい。
　保護フィルムは、転写時の欠陥抑制の点から、感光性組成物層又は屈折率調整層と接する面の表面粗さＲａは、０．０１μｍ以上が好ましく、０．０２μｍ以上がより好ましく、０．０３μｍ以上が更に好ましい。一方で、０．５０μｍ未満が好ましく、０．４０μｍ以下がより好ましく、０．３０μｍ以下が更に好ましい。

　上記手順にて作製された仮支持体と仮支持体上に配置された感光性組成物層と保護フィルムとを有する転写フィルムから保護フィルムを剥離し、保護フィルムが剥離された転写フィルムを、仮支持体よりも感光性組成物層を導電性基板に向けて（仮支持体側よりも感光性組成物層側が導電性基板と対向するように）、導電性基板と貼り合わせて、導電性基板上に感光性組成物層を配置する。
　転写フィルムを貼り合わせる際の温度は特に制限されず、８０～１５０℃が好ましく、９０～１５０℃がより好ましく、１００～１５０℃が更に好ましい。ゴムローラーを備えたラミネーターを用いる場合、ラミネート温度は、ゴムローラーの温度を指す。
　貼り合わせの際の線圧としては、０．５～２０Ｎ／ｃｍが好ましく、１～１０Ｎ／ｃｍがより好ましく、１～５Ｎ／ｃｍが更に好ましい。

　なお、転写フィルムを導電性基板上に貼り合わせた後、仮支持体は剥離してもよいし、剥離せずに後述する手順を実施してもよい。

＜工程２＞
　工程２は、導電性基板の基材側から、第１露光マスクを介して感光性組成物層に対してパターン露光する工程である。
　より具体的には、図７に示すように、導電性基板の基材１０側（基材１０の感光性組成物層１８側とは反対側）に、所定の開口部を有する第１露光マスク２４を配置して、白矢印に示すように、パターン露光を行う。その際、図７に示すように、第１露光マスク２４を通った光のうち、一部は第１露光マスク２４の開口部よりも広がり、感光性組成物層１８を感光させる。その結果、後述する図８に示すような、端部がテーパー状の硬化層が形成される。
　なお、ここで、「パターン露光」とは、パターン状に露光する形態、すなわち、露光部と非露光部とが存在する形態の露光を指す。

　本工程においては、第１露光マスクを介して感光性組成物層の露光を行う。
　露光の際、第１露光マスクは、図７に示すように、基材と接触させてもよいし、基材から離して配置してもよい。なかでも、本発明の効果がより優れる点で、第１露光マスクは基材と接触させることが好ましい。

　パターン露光の光源としては、少なくとも感光性組成物層を硬化し得る波長域の光（例えば、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。なかでも、パターン露光の露光光の主波長は、３６５ｎｍであることが好ましい。
　なお、主波長とは、最も強度が高い波長である。
　また、パターン露光の露光光の主波長における、感光性組成物層の吸光度は、０．０１～１．０が好ましく、０．０１～０．３がより好ましい。

　光源としては、例えば、各種レーザー、発光ダイオード（ＬＥＤ）、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、及び、メタルハライドランプが挙げられる。
　露光量は、５～２００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、１０～２００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。
　パターンの形状としては、制限されず、例えば用途に応じて適宜設定すればよい。

　なお、上述したように、転写法により転写フィルムを導電性基板上に貼り合わせた場合、仮支持体は剥離してパターン露光を行ってもよいし、剥離せずにパターン露光を行ってもよい。

　なお、上述した転写法により、感光性組成物層上に仮支持体が配置された状態で工程２を実施した場合、本発明は、後述する工程３を実施する前に、仮支持体を剥離する工程５を有する。

＜工程３＞
　工程３は、パターン露光された感光性組成物層に現像処理を施して、透明導電部の少なくとも一部が露出する開口部を複数有する硬化層を形成する工程である。
　本工程を実施することにより、図８に示すように、第２透明導電部１４の少なくとも一部が露出する開口部２６を有する硬化層２８が形成される。
　なお、図８においては、開口部２６の数は２つだが、開口部の数は複数であれば特に制限されない。
　また、図８においては非露光部が除去される形態について記載したが、本発明のこの形態に限定されず、露光部が除去される形態であってもよい。

　現像に用いる現像液としては、公知の現像液を適用できる。現像液としては、特開平５－０７２７２４号公報に記載の現像液が挙げられる。
　現像液として、アルカリ性水溶液が好ましい。アルカリ性水溶液に含まれ得るアルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、及び、コリン（２－ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド）が挙げられる。

　アルカリ性水溶液の２５℃におけるｐＨは、８～１３が好ましく、９～１２がより好ましく、１０～１２が更に好ましい。

　アルカリ性水溶液中におけるアルカリ性化合物の含有量は、アルカリ性水溶液の全質量に対して、０．１～５質量％が好ましく、０．１～３質量％がより好ましい。

　現像液は、水に対して混和性を有する有機溶剤を含んでいてもよい。
　有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、２－プロパノール、１－プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε－カプロラクトン、γ－ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε－カプロラクタム、及び、Ｎ－メチルピロリドンが挙げられる。
　現像液中の有機溶剤の濃度は、０．１～３０質量％であることが好ましい。

　現像液は、公知の界面活性剤を含んでもよい。
　現像液中の界面活性剤の濃度は、０．０１～１０質量％であることが好ましい。
　現像液の液温度は、２０～４０℃であることが好ましい。

　現像の方式としては、例えば、パドル現像、シャワー現像、スピン現像、及び、ディップ現像等の方式が挙げられる。

　シャワー現像を行う場合、パターン露光後の感光性組成物層に現像液をシャワー状に吹き付けることにより、感光性組成物層の一部を除去する。

　また、現像の後に、洗浄剤等をシャワーにより吹き付けつつ、ブラシ等で擦ることにより、現像残渣を除去することが好ましい。

　現像工程は、上記現像を行う段階と、上記現像によって得られたパターンを加熱処理（以下、「ポストベーク」ともいう。）する段階と、を含んでいてもよい。
　基材が樹脂基材である場合には、ポストベークの温度としては、１００～１６０℃が好ましく、１３０～１６０℃がより好ましい。

　感光性層がカルボキシ基を有する（メタ）アクリル樹脂を含む場合には、ポストベークにより、上記（メタ）アクリル樹脂の少なくとも一部をカルボン酸無水物に変化させることができる。カルボン酸無水物に変化させると、硬化層の強度に優れる。

　現像工程は、上記現像を行う段階と、上記現像によって得られたパターンを露光（以下、「ポスト露光」ともいう。）する段階と、を含んでいてもよい。現像工程がポスト露光する段階及びポストベークする段階の両方を含む場合、ポスト露光の後、ポストベークを実施することが好ましい。

　パターン露光及び現像等については、例えば、特開２００６－０２３６９６号公報の段落［００３５］～［００５１］の記載を参照できる。

　本工程で形成される開口部の形状は特に制限されず、円形状、楕円形状、多角形状、細線状、及び、無定形状が挙げられる。なかでも、円形状又は楕円形状が好ましく、いわゆるホールパターンが形成されることが好ましい。

　得られた硬化層の膜厚４０μｍでの透湿度は、電極又は配線の防錆性の観点、及びデバイスの信頼性の観点から、５００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ以下が好ましく、３００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ以下がより好ましく、１００ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ以下が更に好ましい。

　ここで、透湿度は、感光性組成物層を、ｉ線によって露光量３００ｍＪ／ｃｍ^２にて露光した後、１４５℃、３０分間のポストベークを行うことにより、感光性組成物層を硬化させた硬化膜で測定する。
　透湿度の測定は、ＪＩＳ　Ｚ０２０８のカップ法に準じて行う。温度４０℃／湿度９０％、温度６５℃／湿度９０％、及び温度８０℃／湿度９５％のいずれの試験条件においても、上記の透湿度であることが好ましい。具体的な好ましい数値としては、８０ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ、１５０ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ、及び、２２０ｇ／ｍ^２／２４ｈｒ等が挙げられる。　

　硬化層の炭酸ナトリウム水溶液（炭酸ナトリウム濃度：１．０質量％）に対する膨潤率は、パターン形成性向上の観点から、１００％以下が好ましく、５０％以下がより好ましく、３０％以下が更に好ましい。
　ここで、膨潤率は、以下のように測定するものとする。　ガラス基板に形成した、溶媒を十分に除去した感光性樹脂層（膜厚１．０～１０μｍの範囲内）に対し、超高圧水銀灯で５００ｍｊ／ｃｍ^２（ｉ線測定）で露光する。２５℃でガラス基板ごと、炭酸ナトリウム水溶液（炭酸ナトリウム濃度：１．０質量％）に浸漬し、３０秒経過時点での膜厚を測定する。そして、浸漬後の膜厚が浸漬前の膜厚に対して増加した割合を計算する。具体的な好ましい数値としては、４％、１３％、及び、２５％等が挙げられる。

　硬化層（膜厚１．０～１０μｍの範囲内）の炭酸ナトリウム水溶液（炭酸ナトリウム濃度：１．０質量％）に対する溶解速度は、３．０μｍ／秒以下が好ましく、２．０μｍ／秒以下がより好ましく、１．０μｍ／秒以下が更に好ましく、０．２μｍ／秒以下が特に好ましい。具体的な好ましい数値としては、０．８μｍ／秒、０．２μｍ／秒、及び、０．００１μｍ／秒等が挙げられる。
　現像は、（株）いけうち製１／４ＭＩＮＪＪＸ０３０ＰＰのシャワーノズルを使用し、シャワーのスプレー圧は０．０８ＭＰａとする。上記条件の時、単位時間当たりのシャワー流量は１，８００ｍＬ／ｍｉｎとする。　

＜工程４＞
　工程４は、硬化層上に、複数の開口部から露出する透明導電部同士を導通させる導電部を形成する工程である。
　より具体的には、本工程を実施することにより、図９に示すように、硬化層２８上に、２つの開口部から露出する第２透明導電部１４同士を導通させる導電部３０が形成される。導電部３０は、基材１０上に第１方向と交差する第２方向に間隔をあけて配置された複数の第２透明導電部１４同士を橋掛けして、電気的に接続する部材である。
　なお、図１０は、図９に示す積層体の第１透明導電部１２、第２透明導電部１４、及び、導電部３０の構成を示す平面図であり、図９は、図１０中のＢ－Ｂ線断面図である。

　導電部は、ＩＴＯ膜、及び、ＩＺＯ膜等の透明導電膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｇ、及び、Ａｕ等の金属膜；銅ニッケル合金等の複数の金属の合金膜から構成できる。なかでも、導電部は、透明導電膜（透明配線部）であることが好ましい。

　導電部の厚みは、導電性及び透明性の点から、０．０１～１μｍが好ましく、０．０３～０．５μｍがより好ましい。
　導電部の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察により測定した任意の５点の平均値として算出する。
　導電部の形成方法としては、公知の方法が挙げられ、例えば、スパッタ法、及び、塗布法により硬化層上に膜を形成した後、公知の方法より所定の領域をエッチングして、所望の位置に導電部を形成することができる。

　なお、本発明の積層体がタッチセンサーとして用いられる場合、上述した透明導電部及び導電部は、いわゆるセンサー電極として機能し得る。

＜＜第２実施形態＞＞
　上述した第１実施形態においては、基材と透明導電部とを有する導電性基板を用いた形態について述べたが、本発明はこの形態に限定されず、導電性基板は、基材上に導電部と導通する金属配線部を有していてもよい。
　導電性基板が上記金属配線部を有する場合、上述した工程１と工程３との間に、導電性基板の透明導電部側から、第２露光マスクを介して金属配線部上の感光性組成物層の少なくとも一部に対して露光する工程７を有することが好ましい。
　以下では、本実施形態の一例として、工程２を実施した後、工程７を実施して、その後、工程３を実施する形態について説明する。
　上記第１実施形態で説明したように、工程２では、導電性基板の基材側から、第１露光マスクを介して感光性組成物層に対してパターン露光する。本実施形態において、図１１に示すように、基材１０と、基材１０上に配置された透明導電部１１２と、透明導電部１１２上に配置された金属配線部３２と、感光性組成物層１８とを有する積層体に対して、基材１０側から、第１露光マスク２４を介して感光性組成物層１８に対してパターン露光を行う。
　次に、図１２に示すように、感光性組成物層１８側（言い換えれば、金属配線部の感光性組成物層側の表面側）から、第２露光マスク３４を介して金属配線部３２上の感光性組成物層１８の少なくとも一部に対して露光を行う。一般的に、金属配線は遮光性である。そのため、金属配線部上の感光性組成物層を露光しようとする際に、工程２のような基材側からの露光では金属配線部にて露光光が遮蔽されてしまい、金属配線部上の感光性組成物層が感光されない。そこで、工程７においては、感光性組成物層側から、第２露光マスクを介して金属配線部上の感光性組成物層の少なくとも一部に対して露光を行うことにより、感光性組成物層を感光させることができる。
　なお、図１２では感光性組成物層１８に第２露光マスク３４を密着させているが、感光性組成物層１８と第２露光マスク３４とを離して露光することもできる。また、感光性組成物層１８と第２露光マスク３４との間に、仮支持体を存在させることもできる。

　その後、第１実施形態で説明した工程３を実施することにより、図１３に示すような、金属配線部３２上に位置する開口部２６Ａと、透明導電部１１２上に位置する開口部２６Ｂとを有する硬化層１２８が形成される。

　なお、本発明の積層体がタッチセンサーとして用いられる場合、上述した金属配線部は、いわゆる引き出し配線として機能し得る。
　また、図１１においては、金属配線部は透明導電部上に配置されているが、透明導電部と電気的に接続されていればこの形態に限定されず、例えば、透明導電部の側面と金属配線部の側面とが接触する形態であってもよい。

　また、上記では、工程２を実施した後、工程７を実施する形態について述べたが、この形態に限定されず、工程２と工程７とを同時に実施してもよいし、工程７を実施した後、工程２を実施してもよい。

＜用途＞
　本発明の積層体は、種々の用途に適用できる。例えば、タッチセンサー（好ましくは、静電容量式のタッチセンサー）、及び、電磁波シールドが挙げられる。
　本発明は、上記積層体を含む画像表示装置にも関する。
　上記画像表示装置は、液晶表示素子及び有機エレクトロルミネッセンス表示素子等の画像表示素子と、上述したタッチセンサーとして用いられる積層体とを含む。

　以下に実施例を挙げて本開示を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本開示の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本開示の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
　なお、ポリマー中の組成比は特に断りのない限りモル比である。

＜感光性組成物の調製＞
　以下の表１に記載の組成となる成分及び含有量で混合して、孔径３μｍのフィルターでろ過することにより、感光性組成物Ａ－１～Ａ－１１を調製した。表１中の数値は、「質量部」を表す。

　Ｂ－１（以下、式中の繰り返し単位のモル比は、左側の繰り返し単位から順に、４０：１５：２５：２０であった。）
　なお、以下の式中、一番右側の繰り返し単位を「ＭＡＡ－ＧＭＡ単位」と呼ぶ。
　また、Ｂ－１で表されるポリマーの重量平均分子量は、１９０００であった。

　Ｂ－２：スチレン由来の繰り返し単位（Ｓｔ単位）、メタクリル酸メチル由来の繰り返し単位（ＭＭＡ単位）、メタクリル酸由来の繰り返し単位（ＭＡＡ単位）、及び、ＭＡＡ－ＧＭＡ単位を有するポリマーであって、各繰り返し単位のモル比（Ｓｔ単位：ＭＭＡ単位：ＭＡＡ単位：ＭＡＡ－ＧＭＡ単位）は、４７：２：１９：３２であった。また、ポリマーの重量平均分子量は、１７０００であった。
　Ｂ－３：スチレン由来の繰り返し単位（Ｓｔ単位）、メタクリル酸メチル由来の繰り返し単位（ＭＭＡ単位）、及び、メタクリル酸由来の繰り返し単位（ＭＡＡ単位）を有するポリマーであって、各繰り返し単位のモル比（Ｓｔ単位：ＭＭＡ単位：ＭＡＡ単位）は、４４：４０：１６であった。また、ポリマーの重量平均分子量は、１７０００であった。

　ＭＭＰＧＡｃ：１－メトキシ－２－プロピルアセテート
　ＭＥＫ：メチルエチルケトン
　ＭＦＧ：プロピレングリコールモノメチルエーテル

＜屈折率調整層形成用組成物の調製＞
　以下の表１に記載の組成となる成分及び含有量により、屈折率調整層形成用組成物Ｂを調製した。表２中の数値は、「質量部」を表す。

　なお、表２中、「Ｂ－３」は、以下のポリマーである。なお、以下、式中の繰り返し単位のモル比は、左側の繰り返し単位から順に、４０：６０であった。

　表２中、「化合物Ｂ」は、以下のポリマーである。なお、以下、式中の繰り返し単位のモル比は、左側の繰り返し単位から順に、５０：４：３６：８であった。

＜転写フィルムの作製＞
（転写フィルムＦ－１の作製）
　厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（１６ＫＳ４０　東レ製）である仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、乾燥後の感光性組成物層の厚みが５μｍになるように、感光性組成物Ａ－１の塗布量を調整し、感光性組成物Ａ－１を塗布した。次に、得られた仮支持体を８０℃の乾燥ゾーンで乾燥させて、感光性組成物層を形成した。
　次に、感光性組成物層の表面に、保護フィルムとして、厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレート（１６ＫＳ４０　東レ製）を圧着し、転写フィルムＦ－１を作製した。

（転写フィルムＦ－２～７、Ｆ－９～１６の作製）
　使用する感光性組成物の種類、及び、感光性組成物層の厚みを表３に示すように変更した以外は、（転写フィルム１の作製）と同様の手順に従って、転写フィルムＦ－２～Ｆ－７、Ｆ－９～１６を作製した。

（転写フィルムＦ－８、Ｆ－１７の作製）
　転写フィルムＦ－１の感光性組成物層上に、スリット状ノズルを用いて、乾燥後の屈折率調整層の厚みが８０ｎｍになるように、屈折率調整層形成用組成物Ｂの塗布量を調整し、屈折率調整層形成用組成物Ｂを塗布した。次に、得られた仮支持体を７０℃の乾燥ゾーンで乾燥させて、感光性組成物層上に屈折率調整層を形成した。
　次に、屈折率調整層の表面に、保護フィルムとして、厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（１６ＫＳ４０　東レ製）を圧着し、転写フィルムＦ－８を作製した。
　また、転写フィルムＦ－１の代わりに、転写フィルムＦ－１０を使用した以外は、上記と同様の手順に従って、転写フィルムＦ－１７を作製した。

＜実施例１＞
　膜厚３８μｍ及び屈折率１．５３のシクロオレフィン樹脂フィルムを、高周波発振機を用いて、出力電圧１００％及び出力２５０Ｗで、直径１．２ｍｍのワイヤー電極で、電極長２４０ｍｍ及びワーク電極間１．５ｍｍの条件で３秒間コロナ放電処理を行って表面改質を施し、透明基材を得た。
　次に、下記表４中に示す材料－Ｃを、スリット状ノズルを用いて、透明基材のコロナ放電処理面に塗工した後、紫外線照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ^２）し、約１１０℃で乾燥することにより、屈折率１．６０及び膜厚８０ｎｍの透明膜を形成した。

　透明基材上に透明膜が形成されたフィルムを真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ_２含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：錫＝９５：５（モル比））を用いて、直流（ＤＣ）マグネトロンスパッタリング（条件：透明基材の温度１５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）により、透明膜上に、厚さ４０ｎｍ及び屈折率１．８２のＩＴＯ薄膜を形成した。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は、８０Ω／□（Ω毎スクエア）であった。
　次に、公知の化学エッチング法によりＩＴＯ薄膜をエッチングしてパターンニングし、透明基材上に透明膜及び透明導電部を有する導電性基板を得た。
　ここで、透明導電部は、図５及び６に示すように、第１方向に延びる第１透明導電部１２と、第１方向に直交する方向に間隔をあけて形成された島状の第２透明導電部１４とを有していた。

　次に、上記で作製した転写フィルムＦ－１の保護フィルムを剥離し、露出した感光性組成物層の表面を、導電性基板の透明導電部の形成面に接触させ、導電性基板上に感光性組成物層及び仮支持体を以下の条件でラミネートして、積層体を得た。
（条件）
透明基材の温度：４０℃
ゴムローラーの温度：１１０℃
線圧：３Ｎ／ｃｍ
搬送速度：２ｍ／分

　次に、図７に示すように、露光マスク（スルーホール形成用マスク）を、得られた積層体の透明基材の表面（透明基材の感光性組成物層側とは反対側の表面）に密着させた。その後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社）を用いて、露光マスクを介して、透明基材側から積層体に対してｉ線を露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２にてパターン状に露光した。

　その後、積層体から仮支持体を剥離し、温度３０℃の炭酸ソーダ１質量％水溶液を用いて剥離面（表面）を６０秒間現像処理した。洗浄処理後、更に、積層体表面に超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射することにより残渣を除去した。その後、積層体表面にエアを吹きかけて水分を除去した。
　この際、図８～１０に示すように、透明基材上の透明導電部中における島状の第２透明導電部の上に位置する硬化層に、互いに隣り合う２つの島状の第２透明導電部間を橋掛けして第２透明導電部同士を電気的に接続するための導電部（ブリッジ配線）を形成するための開口部（スルーホール）を形成した。

　次に、直流マグネトロンスパッタリングを用い、積層体の全面に厚み１００ｎｍのＩＴＯ導電層を形成した。次に、公知の化学エッチング法により図９及び１０に示すように、隣り合う島状の第２透明導電部間を接続する導電部を形成しようとする部分を除く領域の導電層を除去することで、導電部を形成し、導電部（ブリッジ配線）を有する積層体を得た。

＜実施例２～８＞
　使用する転写フィルムの種類を表５に示すように変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、導電部を有する積層体を得た。

＜実施例９＞
　露光において、露光マスクと透明基材との間が１００μｍになるように露光マスクを設置した以外は、実施例１と同様の手順に従って、導電部を有する積層体を得た。

＜実施例１０＞
　図１１に示すように、実施例１で作製した透明膜及び透明導電部を有する導電性基板の透明基材上に、更に、透明導電部と導通する金属配線部を配置して得られた導電性基板を用いて、実施例１と同様に転写フィルムを積層し、積層体を得た。
　次に、図１１に示すように、第一露光マスク（スルーホール形成用マスク）を、得られた積層体の透明基材の表面（透明基材の感光性組成物層側とは反対側の表面）に密着させた。その後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社）を用いて、第一露光マスクを介して、透明基材側から積層体に対してｉ線を露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２にてパターン状に露光した。
　次いで、図１２に示すように第二露光マスクを金属配線部上の感光性組成物層の仮支持体側に密着させた。その後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社）を用いて、第二露光マスクを介して、感光性樹脂組成物の仮支持体側から積層体に対してｉ線を露光量１２０ｍＪ／ｃｍ^２にてパターン状に露光した。
　その後、実施例１と同様の手順に従って、現像処理及び導電部（ブリッジ配線）の形成を行い、導電部（ブリッジ配線）を有する積層体を得た。なお、得られた積層体においては、図１３に示すように、金属配線パターン上に開口部が形成されていた。

＜実施例１１～１９＞
　使用する転写フィルムの種類を表５に示すように変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、導電部を有する積層体を得、実施例1と同様に導電部を有する積層体を得た。

＜比較例１＞
　露光において、露光マスクを積層体中の仮支持体に密着させて、仮支持体側から露光した点、及び、エアを吹きかけて水分の除去後に温度１４５℃で２０分間のポストベーク処理を行った以外は、実施例１と同様の手順に従って、導電部を有する積層体を得た。

＜評価（接続信頼性）＞
　得られた積層体の第２透明導電部と、第２透明導電部間を接続している導電部（ブリッジ配線）とからなる電極パターン部の抵抗値を測定して、以下の基準に従って、評価した。
「Ａ」：抵抗値が８０Ω/□未満
「Ｂ」：抵抗値が８０Ω/□以上１５０Ω/□未満
「Ｃ」：抵抗値が１５０Ω/□以上

　表５中、「感光性組成物層の吸光度」欄は、３６５ｎｍにおける、感光性組成物層の吸光度を表す。吸光度の測定方法は後段で示す。
　表５中、「屈折率調整層」欄は、屈折率調整層が積層体中に含まれる場合を「あり」、含まれない場合を「なし」とする。
　表５中、「露光照射面」欄は、感光性組成物層を露光する際に、露光マスクを基材側に配置する場合を「裏面」、露光マスクを基板側と仮支持体側の両方に配置する場合を「両面」、露光マスクを仮支持体側に配置する場合を「表面」とする。
　表５中、「露光」欄において、露光マスクを実施例１～８、１０～１９の場合には基材と、比較例１の場合には仮支持体と密着させたことを「Ａ」として表し、露光マスクを実施例９においては基材から離して配したことを「Ｂ」として表す。

＜吸光度の測定方法＞
　上記で作製した転写フィルムの保護フィルムを剥離し、露出した感光性組成物層の表面を、ガラス基板上に接触させ、感光性組成物層及び仮支持体を以下の条件でラミネートして、積層体を得た。
（条件）
透明基材の温度：４０℃
ゴムローラーの温度：１１０℃
線圧：３Ｎ／ｃｍ
搬送速度：２ｍ／分
　得られた積層体から仮支持体を剥離し、紫外可視分光光度計（ＵＶ－１８００　島津製作所製）で、３６５ｎｍにおける感光性組成物層の吸光度を測定した。ブランク測定（ガラス基板）の吸光度を差し引いた値を吸光度とした。

　上記表に示すように、本発明の製造方法によれば、所望の効果が得られることが確認された。
　特に、実施例１～５の比較より、感光性組成物層の厚みが８．０μｍ以下の場合、接続信頼性がより優れることが確認された。
　また、実施例１と９との比較より、露光マスクを基材と密着させた場合、接続信頼性がより優れることが確認された。

１０，２００　　基材
１２　　第１透明導電部
１４　　第２透明導電部
１６　　導電性基板
１８，２１８　　感光性組成物層
２０　　島状透明導電部
２２　　透明配線部
２４　　第１露光マスク
２６，２６Ａ，２６Ｂ　　開口部
２８，１２８，２２８　　硬化層
３０，２３０　　導電部
３２　　金属配線部
３４　　第２露光マスク
１１２，２１２　　透明導電部
２２４　　マスク
２４０　　隙間

Claims

　基材と前記基材上に配置された透明導電部とを有する導電性基板の前記透明導電部側に、感光性組成物層を配置する工程１と、
　前記導電性基板の前記基材側から、第１露光マスクを介して前記感光性組成物層に対してパターン露光する工程２と、
　前記パターン露光された前記感光性組成物層に現像処理を施して、前記透明導電部の少なくとも一部が露出する開口部を複数有する硬化層を形成する工程３と、
　前記硬化層上に、複数の前記開口部から露出する前記透明導電部同士を導通させる導電部を形成する工程４とを有する、積層体の製造方法。
　前記工程２において、前記第１露光マスクを前記基材に接触させて、パターン露光する、請求項１に記載の積層体の製造方法。
　前記パターン露光の露光光の主波長における、前記感光性組成物層の吸光度が０．０１～１．０である、請求項１又は２に記載の積層体の製造方法。
　前記主波長が３６５ｎｍである、請求項３に記載の積層体の製造方法。
　前記工程１において、前記導電性基板の前記透明導電部側に、少なくとも前記感光性組成物層及び仮支持体をこの順に配置し、
　前記工程２と前記工程３との間に、前記仮支持体を剥離する工程５を更に有する、請求項１～４のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
　前記工程１が、前記仮支持体と前記仮支持体上に配置された感光性組成物層とを有する転写フィルムを、前記仮支持体よりも前記感光性組成物層を前記導電性基板側に向けて、前記導電性基板と貼り合わせる工程６である、請求項５に記載の積層体の製造方法。
　前記導電性基板が、前記基材上に配置され、前記透明導電部と導通する金属配線部を更に有し、
　前記工程１と前記工程３との間に、前記感光性組成物層側から、第２露光マスクを介して前記金属配線部上の前記感光性組成物層の少なくとも一部に対してパターン露光する工程７を有する、請求項１～６のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
　前記工程２と前記工程７とを同時に実施する、請求項７に記載の積層体の製造方法。
　前記基材が、樹脂基材である、請求項１～８のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
　前記感光性組成物層の厚みが８．０μｍ以下である、請求項１～９のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
　前記感光性組成物層が、重合性化合物、及び、重合開始剤を含む、請求項１～１０のいずれか１項に記載の積層体の製造方法。
　請求項１～１１のいずれか１項に記載の製造方法により製造された積層体。
　請求項１２に記載の積層体を含む、タッチセンサー。