WO2019064420A1 - 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 - Google Patents
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- H10K59/353—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels characterised by the geometrical arrangement of the RGB subpixels
Definitions
- the present invention relates to a vapor deposition mask and a method of manufacturing the vapor deposition mask.
- a plurality of effective portions YAZ are formed on the mask sheet 115.
- the effective portion YAZ is a region in which a plurality of vapor deposition holes for vapor deposition of vapor deposition layers are formed side by side for each pixel of the vapor deposition substrate.
- the effective part YAZ has a shape corresponding to the active area of the deposition target substrate.
- the plurality of vapor deposition holes corresponding to the pixels are formed in the effective portion YAZ of the mask sheet 115, the accuracy of the relative position of the mask sheet 115 with respect to the mask frame is particularly required.
- the rigidity is weaker than the region outside the effective portion YAZ.
- the width W115a of the area 115a between the effective parts YAZ in the mask sheet 115 is larger than that of the effective part YAZ.
- the width W 115 b of the center vicinity 115 b tends to be thinner.
- the present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and an object thereof is to provide a deposition mask which can pattern a deposition layer with high accuracy.
- the vapor deposition mask concerning one mode of the present invention is a vapor deposition layer for vapor-depositing the vapor deposition layer to the pixel concerned of a vapor deposition substrate in which a plurality of active fields where a pixel contributing to display is arranged were provided.
- a deposition mask comprising: a mask sheet provided with an effective portion in which a plurality of deposition holes are formed side by side so as to extend across the plurality of active regions; and a plurality of howling sheets supporting the mask sheet
- the effective part includes a first area and a second area, the first area has a shape corresponding to the active area, is provided for each active area, and the second area is the first area.
- a vapor deposition mask in order to vapor-deposit a vapor deposition layer to the pixel concerned of a vapor deposition substrate in which a plurality of active fields where a pixel contributing to display is arranged are provided.
- FIG. 7 is a view showing a manufacturing process of the organic EL display panel according to Embodiment 1.
- FIG. 2 is a plan view of a substrate of the organic EL display panel according to Embodiment 1. It is sectional drawing of the organic electroluminescent display panel formation area of the board
- FIG. 5 is a schematic view showing a state of a vapor deposition process when forming a vapor deposition layer of the organic EL display device according to Embodiment 1.
- FIG. 5 is an enlarged view of a part of the active area 3 of the first embodiment.
- FIG. 5 is a view illustrating a deposition process of a deposition layer in the organic EL display panel according to Embodiment 1.
- FIG. 2 is a view showing how a deposition mask according to Embodiment 1 is manufactured.
- FIG. 2 is a view showing a configuration of a mask sheet of Embodiment 1. It is a figure showing a mode that one part of the vapor deposition mask of Embodiment 1 was seen from the 2nd surface side.
- FIG. 2 is a cross-sectional view of a deposition mask and a TFT substrate during deposition in the deposition step of Embodiment 1.
- FIG. 7 is an enlarged view of the second region and the vicinity of the effective part of the first embodiment.
- FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration of a mask sheet of Embodiment 2.
- FIG. 7 is a view showing a configuration of a vapor deposition mask of Embodiment 2.
- FIG. 10 is a diagram illustrating the configuration of a mask sheet according to a third embodiment. It is a figure showing a mode that the mask sheet
- FIG. 10 is a diagram illustrating a configuration of a howling sheet according to a third embodiment. It is a figure showing a mode that one part of the vapor deposition mask of Embodiment 4 was seen from the 2nd surface side. It is a figure showing a mode that it curves when stretching the conventional mask sheet
- FIG. 1 is a view showing a manufacturing process of the organic EL display panel according to the first embodiment.
- FIG. 2 is a plan view of the substrate 1 of the organic EL display panel according to Embodiment 1 of the present invention.
- FIG. 3 is a cross-sectional view of the organic EL display panel formation region of the substrate of FIG. FIG. 3 shows a configuration in which the organic EL display panel is chamfered from one mother glass.
- the number of the chamfering of the organic EL display panel from one mother glass is not limited to 18, and may be 17 or less or 19 or more.
- the organic EL display panel forming area 9 is an area to be an organic EL display panel after being separated into pieces by being cut out from a mother glass.
- the substrate 1 has a TFT substrate (substrate to be evaporated) 2, an active region 3, a frame-like bank 4 and a sealing layer 5.
- a plurality of active areas 3 are provided in a matrix.
- the active area 3 is, for example, an area where pixels of RGB are formed.
- the area where the active area 3 is formed is the display area 43, and in the organic EL display panel formation area 9, an area around the active area 3 is the frame area 44.
- the frame area 44 is an area outside the area (active area 3) shown by the broken line in the organic EL display panel formation area 9.
- the TFT substrate 2 is manufactured in the TFT process S11.
- the TFT substrate 2 is a mother glass on which a film as a base of a flexible substrate is formed of a material such as polyimide, and a TFT (transistor, drive element included in a pixel circuit disposed in each pixel is formed thereon by a known method. ), Gate wiring and source wiring, and other various wirings are formed, passivation film (protective film), interlayer insulating film (planarization film), etc. are formed, and contact with the anode is taken on the inorganic insulating film.
- a reflective electrode layer, an ITO layer, and a pixel bank (edge cover) for defining a light emitting region are formed.
- the passivation film prevents the peeling of the metal film in the TFT and protects the TFT.
- the passivation film is formed on the mother glass or through another layer and covers the TFT.
- the passivation film is an inorganic insulating film made of silicon nitride, silicon oxide or the like.
- the interlayer insulating film planarizes the unevenness on the passivation film.
- the interlayer insulating film is formed on the passivation film.
- the interlayer insulating film is an organic insulating film made of a photosensitive resin such as acrylic or a thermoplastic resin such as polyimide.
- a frame-like bank 4 surrounding the active area 3 in a frame shape is also formed on the TFT substrate 2.
- the frame-like bank 4 is made of a photosensitive resin such as acrylic or a thermoplastic resin such as polyimide.
- an organic EL layer is formed on the reflective electrode layer in each pixel of the TFT substrate 2 (that is, in the opening of the pixel bank formed in the TFT step S11).
- the organic EL layer includes a light emitting layer, a hole transport layer and other functional layers.
- the light emitting layer emits light of different colors such as red, green or blue for each pixel.
- At least one of the light emitting layer and the hole transporting layer (hereinafter, may be referred to as a light emitting layer or the like) is a predetermined position of each pixel by vapor deposition using the vapor deposition mask according to the present embodiment in vacuum in the vapor deposition process. Is formed.
- a deposition mask used in a deposition process for forming a deposition layer to be deposited for each pixel is prepared in advance by a production process S20 of a deposition mask before the deposition process.
- a production process S20 of a deposition mask is mentioned later.
- the layer formed using this vapor deposition mask is not limited to the light emitting layer and the hole transport layer, and may be a layer formed for each pixel (that is, in the opening of the pixel bank).
- a transparent electrode facing the reflective electrode through the organic EL layer is formed to cover the organic EL layer.
- the sealing layer 5 can have, for example, a three-layer structure in which an inorganic film 6, an organic film 7, and an inorganic film 8 are stacked in this order from the TFT substrate 2 side. Since the frame-like bank 4 is formed, the film thickness of the organic film 7 can be thickened to, for example, 1.0 ⁇ m or more.
- a flexible step S14 is performed.
- the glass of the substrate is peeled off and a film or the like to be a support is attached.
- each organic EL display panel formation region 9 is cut out. Thereby, each organic EL display panel formation area 9 is singulated. Thereby, a flexible display panel (organic EL display panel) having a different shape is formed.
- the mounting step S16 a member such as a driver is mounted on each of the separated organic EL display panel formation regions 9.
- the organic EL display device is completed.
- the active area 3 is a different shape which is, for example, a shape other than a rectangle or a square
- the outer shape of the display panel is also a different shape in accordance with the shape of the active region 3.
- FIG. 4 shows a state of a vapor deposition process when forming a light emitting layer or the like (vapor deposited layer vapor deposited for each pixel such as a light emitting layer and a hole transport layer) of the organic EL display device according to Embodiment 1 of the present invention. It is a schematic diagram.
- a deposition mask 10 provided with a mask sheet 15 having a plurality of through holes is adhered to the TFT substrate 2 and deposition particles Z evaporated by a deposition source 70 under vacuum (for example, The organic light emitting material is deposited on the pixels of the TFT substrate 2 through the mask sheet 15. Thereby, a vapor deposition pattern of a pattern corresponding to the through hole of the mask sheet 15 is formed on the TFT substrate 2.
- FIG. 5 is an enlarged view of a part of the active area 3 of the first embodiment.
- pixels pix contributing to the display of an image are arranged in a matrix.
- a light emitting layer 80 is formed in the pixel pix.
- a surrounding area surrounding the pixel pix is a pixel bank bk.
- the pixel arrangement is not particularly limited to the pen tile arrangement, and may be another arrangement such as a stripe arrangement.
- the shape of the light emitting layer 80 is the shape of the opening of the pixel bank bk in which the light emitting layer 80 is formed.
- FIG. 6 is a view showing a deposition process of the light emitting layer in the organic EL display panel according to the first embodiment.
- FIG. 7 is a view showing a state in which the vapor deposition mask according to the first embodiment is manufactured.
- 7 (a) is a plan view of the mask frame
- FIG. 7 (b) is a view showing the cover sheet attached to the mask frame
- FIG. 7 (c) is a view showing the howling sheet attached to the mask frame.
- a plurality of cover sheets 12 are attached to a frame-shaped mask frame 11 having a frame opening 11a in a framed area (cover Seat attachment process).
- the mask frame 11 for example, an invar material or the like having a thickness of 20 mm to 30 mm, which has very little thermal expansion, is used as a base material.
- the mask frame 11 is sufficiently thick as compared with the mask sheet, and has high rigidity so that sufficient accuracy can be ensured even when the mask sheet is stretched and welded.
- the cover sheet 12 plays a role of filling a gap between the mask sheets to be attached to the mask frame 11 later and closing a dummy pattern formed on the mask sheet.
- the cover sheet 12 is made of, for example, an invar material having a thickness of 30 ⁇ m to 50 ⁇ m as a base material.
- the cover sheet 12 has an elongated shape and linearly extends from one end to the other end.
- each cover sheet 12 When attaching the cover sheet 12 to the mask frame 11, as shown by arrow F1 in (b) of FIG. 7, tension is applied by applying force to the both ends of the cover sheet 12 in the outward direction (direction away from each other). The both end portions of the cover sheet 12 are welded into the grooves provided in the mask frame 11 while (pulling). And the unnecessary part outside the welded part in the cover sheet 12 is cut. Thus, each cover sheet 12 is attached to a predetermined position of the mask frame 11. In the present embodiment, each cover sheet 12 is attached to the mask frame 11 so as to be parallel to the short side direction of the mask frame 11. The cover sheets 12 are attached to the mask frame 11 so as to be parallel to one another along the long sides of the mask frame 11.
- step Sb of FIG. 6 and (c) of FIG. 7 the howling sheet 13 (also referred to as a support sheet) is attached to the mask frame 11 to which the cover sheet 12 is attached (howling sheet attaching step).
- the howling sheet 13 plays a role of supporting the mask sheet to be attached later to the mask frame 11 so as not to be loosened or blocking a dummy pattern formed on the mask sheet.
- the howling sheet 13 is outside the region corresponding to the active region, which is a part of the plurality of vapor deposition holes included in the effective portion YA provided in the mask sheet 15 as described later. Also plays a role in shielding the deposition holes of the
- the howling sheet 13 for example, an invar material with a thickness of 30 ⁇ m to 100 ⁇ m is used as a base material.
- the width of the howling sheet 13 is, for example, about 8 mm to 10 mm, and is determined by the layout on the substrate on which the panel is disposed.
- the howling sheet 13 has an elongated shape and linearly extends from one end to the other end.
- the width of the howling sheet is wider than that of the cover sheet because the terminals are masked by the howling sheet, but the howling sheet is the display area of the display panel (ie, the mask sheet Is placed at a position not overlapping the
- each howling sheet 13 is attached to the mask frame 11 so as to be parallel to the long side of the mask frame 11.
- the howling sheets 13 are attached to the mask frame 11 so as to be parallel to one another in the direction of the short side of the mask frame 11.
- cover sheet 12 and the howling sheet 13 are attached to the mask frame 11 in the reverse order (the process Sa and the process Sb in FIG. 6 are interchanged), and the howling sheet 13 is attached to the mask frame 11 first. After that, the cover sheet 12 may be attached next.
- step Sc of FIG. 6 and (d) of FIG. 7 the alignment sheet 14 on which the alignment mark is formed is attached to the mask frame 11 so that the alignment mark is at a predetermined position (alignment sheet attaching step ).
- each alignment sheet 14 is attached to a predetermined position of the mask frame 11.
- two alignment sheets 14 are attached to the mask frame 11 so as to be parallel to each other along the short side of the frame opening 11 a of the mask frame 11.
- a plurality of mask sheets 15 are attached to the mask frame 11 (mask sheet attaching step).
- the mask sheet 15 is, for example, a sheet for separately applying to each of RGB in order to form a vapor deposition layer in the pixels in the active region 3 shown in FIGS. 2 and 3.
- the first area YA1 and the second area YA2 are provided in the effective portion YA of the mask sheet 15.
- the step S101 before attaching the mask sheet 15 to the mask frame 11, a plurality of vapor deposition holes are formed side by side to form the effective portion YA on the mask sheet 15 (effective portion forming step ).
- the effective portion YA has an area so as to straddle the active region 3, that is, to overlap with the plurality of active regions 3. The details of the effective portion YA, the first area YA1, and the second area YA2 will be described later.
- step Sd as shown by arrow F4 in (e) of FIG. 7, when attaching the mask sheet 15 to the mask frame 11, a force is applied to the both ends of the mask sheet 15 in the outward direction (direction away from each other).
- a force is applied to the both ends of the mask sheet 15 in the outward direction (direction away from each other).
- the vapor deposition holes constituting the effective portion YA are at predetermined positions with reference to the alignment marks formed on the alignment sheet 14 while being stretched (pulled).
- the mask frame 11 is stretched and welded while applying a counter force in accordance with the deformation amount of the mask sheet 15 after stretching and welding.
- the mask sheet 15 is attached to the mask frame 11 so that the extension direction of the effective portion YA and the extension direction of the howling sheets 13 are orthogonal to each other.
- step Sg of FIG. 6 the completed deposition mask 10 is cleaned, and various mask inspections such as a foreign substance inspection and a precision inspection are performed. After this, the deposition mask 10 which has no problem in the mask inspection is stored in the stocker and supplied to the deposition apparatus used in the deposition process as needed.
- FIG. 8 is a diagram showing the configuration of the mask sheet 15 of the first embodiment.
- A) of FIG. 8 is a plan view of the mask sheet 15,
- (b) is an enlarged view of the effective portion shown in (a), and
- (c) is a cross-sectional view taken along the line BB shown in (b).
- (D) is a cross-sectional view taken along line CC shown in (b).
- the mask sheet 15 is in the form of a strip, and for example, an invar material having a thickness of about 10 ⁇ m to 50 ⁇ m, preferably about 25 ⁇ m, is used as a base material.
- the mask sheet 15 is formed of a thin sheet in order to prevent the thickness of the vapor deposited layer from becoming uneven.
- An effective portion YA extending in the longitudinal direction of the mask sheet 15 is formed between both ends of the mask sheet 15.
- a plurality of vapor deposition holes H corresponding to pixels are formed side by side.
- the effective portion YA has an area overlapping with the plurality of active regions 3 across the plurality of active regions 3 of the TFT substrate 2.
- the effective portion YA overlaps the plurality of howling sheets 13 ((e) and (f) in FIG. 7).
- the howling sheets 13z located at both ends overlap the vicinity of the both ends YAa of the effective portion YA.
- a region YAb between regions overlapping with the howling sheet 13z located at both ends of the effective portion YA is a region including a region overlapping with the active region 3.
- the region YAb of the effective portion YA has a constant width (length in the direction orthogonal to the stretching direction) even when the mask sheet 15 is stretched.
- the area of the mask sheet 15 in which the area YAb of the effective portion YA is provided also has a constant width even in a state in which the mask sheet 15 is stretched.
- the stress applied when stretching the mask sheet 15 becomes uniform.
- the mask sheet 15 can be stretched and attached to the mask frame 11 with high accuracy.
- the width gradually widens toward the outside.
- the effective portion YA has a first area YA1 and a second area YA2.
- the first area YA1 is formed for each active area 3 (see FIG. 2), and has a shape corresponding to the active area 3.
- the second area YA2 is an area different from the first area YA1 in the effective portion YA, and is an area overlapping the howling sheet 13.
- An area YAb having a constant width in the effective portion YA shown in (a) of FIG. 8 is an area including a second area YA2 between the first area YA1 and the first area YA1.
- the vapor deposition holes H included in the first region YA penetrate and the vapor deposition holes H included in the second region YA2 are shielded by the howling sheet 13 ing.
- the deposition holes H included in the first region YA are deposition holes for forming a pattern of a deposition layer for each pixel.
- the vapor deposition holes H included in the second region YA2 are dummy vapor deposition holes that do not contribute to pattern formation of the vapor deposition layer for each pixel.
- the first area YA1 overlaps the active area 3 (see FIGS. 2 and 3) of the TFT substrate 2 and a second area YA2 outside the first area YA1.
- the edge surrounding the effective portion YA overlaps the frame area 44 (see FIGS. 2 and 3).
- the edge surrounding the second area YA2 and the effective portion YA of the mask sheet 15 overlaps with the frame area 44 of the TFT substrate 2, so the vapor deposition particles are formed by the edge surrounding the second area YA2 and the effective portion YA. It is shielded and does not reach the frame area 44.
- the deposition holes H correspond to the formation region of the light emitting layer that emits light of any of the colors emitted by the light emitting layer in the effective portion YA. It is formed. For example, when the light emitting layer emitting red light, the light emitting layer emitting green light, and the light emitting layer emitting blue light are formed in the active region 3, the vapor deposition holes H emit light emitting red light
- the light emitting layer is formed in the same pattern as the light emitting layer of any of the layer, the light emitting layer emitting green light, and the light emitting layer emitting blue light.
- the deposition holes H in the second area YA2 have the same pitch and the same shape as the deposition holes H in the first area YA1.
- the area overlapping with the active area 3 and the area between the areas overlapping with the active area 3 are rectangular or square by combining the first area YA1 and the second area YA2, and in the variant, It has no shape.
- the edge (side or corner) when the outer shape of the organic EL display panel is a rectangle or a square is inside (from the edge towards the center of the rectangle or square) or outside (a rectangle or It is a shape having a deformed portion projecting in a direction away from the center of the square).
- the irregularly shaped portion is a shape (arc shape) having a so-called round shape (round shape) in which the corner is not a right angle but curved, or at least one of the four sides is recessed so as to be convex from the edge toward the central portion It is a shape portion different from a rectangle or a square, such as a shape having a notch.
- the deposition holes H are formed in the mask sheet 15 in the following manner, for example, in step S101 shown in FIG.
- a negative or positive photosensitive resist material is applied on both sides of a long plate made of invar material or the like, and a resist film is formed on both main surfaces (first and second surfaces).
- a resist pattern is formed on both sides of the long plate by exposing and developing the resist film on the first surface and the second surface using an exposure mask. Then, the first surface 15b of the effective portion YA (the surface facing the TFT substrate 2 during deposition) is etched (the upper surface of the edge is not etched) using the first surface resist pattern as a mask, and the first surface 15b of the effective portion YA Pattern the opening K (do not form a through hole at this stage).
- the first surface 15b is covered with a resistant resin having etching resistance
- the second surface 15c (surface opposite to the surface facing the TFT substrate 2 at the time of vapor deposition) uses a resist pattern as a mask, the effective portion YA and the edge portion Etch the bottom of the
- the deposition holes H through holes are formed by erosion from the second surface 15c side, and a plurality of dents are formed on the lower surface of the edge.
- the plurality of vapor deposition holes H in the effective portion YA are formed in a matrix or in a diagonal grid in the longitudinal direction and the transverse direction (width direction) of the mask sheet 15, and the opening K (opening on the upper surface) is a pixel of the substrate
- the corner has a rounded square shape or a circular or elliptical shape.
- the etching on the second surface 15c side is performed wider and deeper than the first surface 15b side with respect to each vapor deposition hole H, so that a shaded portion (a height of a partition between two adjacent vapor deposition holes To reduce deposition accuracy and deposition efficiency for the substrate.
- FIG. 9 is a view showing a part of the vapor deposition mask 10 as viewed from the second surface 15 c side.
- FIG. 10 is a cross-sectional view of the deposition mask 10 and the TFT substrate 2 during deposition in the deposition step.
- the effective portion YA in which a plurality of vapor deposition holes are formed side by side is provided so as to straddle the plurality of active regions 3.
- the effective portion YA has a first area YA1 and a second area YA2.
- the first area YA1 has a shape corresponding to the active area 3, and is provided for each active area 3.
- the second area YA2 defines the shape of the first area YA1, and the deposition hole H is shielded by overlapping with the howling sheet 13.
- the position and the shape of the second region YA2 that defines the outer shape of the first region YA1 can be defined by the position and the shape of the howling sheet 13. For this reason, since it is not necessary to change the outer shape of the active portion YA even if the outer shape of the active region 3 changes, the mask sheet 15 in which the active portion YA is formed should be shared between substrates having various outer shapes. Can.
- the mask sheet 15 for forming the active area 3 having a different aspect ratio such as 4: 3, 16: 9, 18: 9, can be shared.
- each howling sheet 13 is in contact with a second surface 15 c of the mask sheet 15 on the opposite side to the first surface 15 b facing the TFT substrate 2. This makes it possible to prevent the occurrence of shadows due to the distance between the TFT substrate 2 and each of the howling sheets 13 when the TFT substrate 2 is deposited.
- FIG. 11 is an enlarged view of the vicinity of the second area YA2 of the effective portion YA of the first embodiment.
- the pitch W2 at which the vapor deposition holes H included in the second area YA1 are disposed is equal to the pitch at which the vapor deposition holes H included in the first area YA1 are disposed. Is preferred. Thereby, formation of effective part YA is easy.
- the width W1 between the first regions YA1 is an integral multiple of the pitch W2 of the deposition holes H. Thereby, formation of effective part YA is easy.
- the shapes of the vapor deposition holes H included in the first region and the vapor deposition holes H included in the second region YA2 are also the same.
- FIG. 12 is a diagram showing the configuration of the mask sheet 15 of the second embodiment. As shown in FIG. 12, vapor deposition holes, ie, effective portions YA may be provided on the entire mask sheet 15.
- FIG. 13 is a diagram illustrating the configuration of the vapor deposition mask 10 according to the second embodiment. The vapor deposition mask 10 shown in FIG. 13 has a plurality of mask sheets 15 shown in FIG. 12 attached to the mask frame 11.
- the effective portion YA of the mask sheet 15 is provided so as to straddle the plurality of active areas 3.
- the effective portion YA has a first area YA1 having a shape corresponding to the active area 3 (FIGS. 2 and 3) and a second area YA2 overlapping the howling sheet 13.
- the first region YA1 and the first Stress is uniformly applied to the area in the vicinity where the second area YA2 sandwiched by the area YA1 is provided.
- the mask sheet 15 shown in FIGS. 12 and 13 is provided with the effective portion YA as a whole of the mask sheet 15, stress when stretching the mask sheet 15 is more in the entire mask sheet 15. Add evenly. Thereby, the relative positional accuracy between each vapor deposition hole and the mask frame 11 can be enhanced, and the mask sheet 15 can be attached to the mask frame 11. As a result, it is possible to obtain a deposition mask 10 capable of forming a deposition layer with high accuracy.
- the position and the shape of the second region YA2 that defines the outer shape of the first region YA1 can be defined by the position and the shape of the howling sheet 13. For this reason, since it is not necessary to change the outer shape of the active portion YA even if the outer shape of the active region 3 changes, the mask sheet 15 in which the active portion YA is formed should be shared between substrates having various outer shapes. Can.
- FIG. 14 is a diagram showing the configuration of the mask sheet 15 of the third embodiment.
- FIG. 15 is a view showing the mask sheet 15 shown in FIG. 14 stretched to be attached to the mask frame 11.
- the rigidity of the central portion is relatively weaker than the rigidity of the both ends.
- the effective portion YA gradually widens from the both ends to the central portion. Also in the mask sheet 15, the width gradually widens from the width W15a of the position including both end portions of the effective portion YA to the width W15b of the position including the central portion of the effective portion YA.
- FIG. 16 is a diagram illustrating the configuration of the howling sheet 13 according to the third embodiment.
- FIG. 17 is a view showing a part of the vapor deposition mask of Embodiment 4 as viewed from the second surface 15 c side.
- the howling sheet 13 may be provided with a shape corresponding to the atypical portion.
- the howling sheet 13 of the present embodiment is provided with irregularities and the like including the shape of a deformed portion in the outer diameter shape of the active region from one end to the other end.
- the howling sheet 13 is an area in the vicinity of both ends and between the attachment area 13a, which is an area overlapping the mask frame 11 when attached to the mask frame 11 ((c) in FIG. 7), and the attachment area 13a And an outline forming area 13b of the active area, which is an area forming the outline of the active area.
- the outline forming area 13b of the active area has a concavo-convex shape for forming the outline of at least a part of the active area including the deformed part of the active area.
- the notch 13c is formed side by side on one side extending in the extending direction, and the notch 13d is formed side by side on the other side extending in the extending direction It is done.
- the notches 13c and 13d have a shape corresponding to, for example, an arc-shaped deformed portion such as a notch 43d and four corners 43a to 43d in the active region.
- the notched portion 13c is provided with curved portions 23c and 23d for forming adjacent two rounded corners, which are deformed portions of the active region.
- Notches 13d are curved portions 23a and 23b for forming adjacent two rounded corners, which are deformed portions of the active area, and projections 23e having a convex shape having the same shape as the cutouts of the active area. Is provided between the bending portions 23a and 23b.
- a plurality of howling sheets 13 shown in FIG. 16 are attached in parallel to the mask frame 11 ((c) in FIG. 7), and the mask sheet 15 is attached to the mask frame 11 ((e) and (f) in FIG. 7).
- the first region YA1 is defined by the curved portions 23a, the convex portions 23e, the curved portions 23b, the curved portions 23c, and the curved portions 23d, which are different shaped portions.
- the convex portion 23e is a notch which protrudes from one side toward the inside of the first region YA1 on one side of the first region YA1.
- the curved portions 23a to 23d define a shape having roundness at four corners of the first area YA1.
- the vapor deposition holes in the first area YA1 surrounded by the curved portions 23a, the convex portions 23e, the curved portions 23b, the curved portions 23c, and the curved portions 23d are not shielded by the howling sheet 13 and become through holes. There is.
- the deposition holes outside the first area YA1 in the curved portion 23a, the convex portion 23e, the curved portion 23b, the curved portion 23c, and the curved portion 23d are shielded by the howling sheet 13.
- the vapor deposition layer can be formed in each pixel of the active region having the same outer shape as the first region YA1, ie, having the irregular portion, by the first region YA1 having the irregular portion.
- the vapor deposition mask 10 of the present embodiment it is not necessary to make the effective part conform to the shape of the active region having the deformed portion, so that the shape of the effective part extends at least over the plurality of active regions and the plurality of active regions
- the outline of the overlapping area can be square or rectangular.
- the mask sheet 15 in which the effective part YA was formed can be made common among the board
- corner which has the notch and roundness mentioned above is an example of the shape of a deformed part, and the deformed part may have another deformed shape.
- the displays according to Embodiments 1 to 4 are not particularly limited as long as they are display panels provided with display elements.
- the above-mentioned display element is a display element whose luminance and transmittance are controlled by a current, and an organic EL (Electro Luminescence: electro luminescence) provided with an OLED (Organic Light Emitting Diode) as a display element of current control.
- An EL display such as an inorganic EL display including a display or an inorganic light emitting diode, and a QLED display including a quantum dot light emitting diode (QLED).
- the vapor deposition mask according to aspect 1 is a vapor deposition mask for vapor depositing a vapor deposition layer on the pixels of the vapor deposition substrate provided with a plurality of active regions in which the pixels contributing to display are arranged, and extends over the plurality of active regions. And a plurality of howling sheets for supporting the mask sheet, wherein the effective portion includes a first area, a second area, and a plurality of howling sheets for supporting the mask sheet. And the first area has a shape corresponding to the active area, and is provided for each active area, and the second area defines the shape of the first area and overlaps the howling sheet.
- some of the vapor deposition holes are shielded.
- the plurality of howling sheets may be stretched in a direction orthogonal to the stretching direction of the effective portion.
- the plurality of howling sheets may be in contact with a second surface of the mask sheet opposite to the first surface facing the deposition target substrate.
- the pitch at which the plurality of vapor deposition holes included in the second region are disposed is an integral multiple of the pitch at which the plurality of vapor deposition holes included in the first region are disposed. It is also good.
- the pitch at which the plurality of vapor deposition holes included in the second region are disposed may be equal to the pitch at which the plurality of vapor deposition holes included in the first region are disposed.
- the width between the first regions may be an integral multiple of the pitch of the deposition holes.
- the effective portion may be provided on the entire mask sheet.
- the area between the howling sheets located at both ends of the effective portion may have a constant width.
- the mask sheet may include a region which gradually widens toward the outside in a region outside the region where the width of the effective portion is constant.
- the mask sheet may gradually spread from the width of the position including both ends of the effective portion to the width of the position including the central portion of the effective portion.
- the vapor deposition mask according to the eleventh aspect includes a notch that protrudes from the one side toward the inner direction of the first region on one side of the first region, and is surrounded by the notch outside the first region.
- the plurality of vapor deposition holes in the shaded area may be shielded by the howling sheet.
- the method of manufacturing a vapor deposition mask according to aspect 12 is a method of manufacturing a vapor deposition mask for vapor depositing a vapor deposition layer on the pixels of the vapor deposition substrate provided with a plurality of active regions in which pixels contributing to display are arranged. Forming a plurality of vapor deposition holes, forming an effective portion across the plurality of active areas, forming a plurality of howling sheets on the mask frame, forming a howling sheet, and forming the mask frame There is a mask sheet attaching process of providing the first area and the second area in the effective portion by attaching the mask sheet so as to overlap with the plurality of howling sheets and to be supported by the plurality of howling sheets.
- the first area has a shape corresponding to the active area, and the first area is provided for each active area.
- the second region defines the shape of the first region, and is a region in which a portion of the deposition holes of the plurality of deposition holes are shielded by overlapping with the howling sheet. Do.
- the width in the region between the howling sheets located at both ends of the effective portion, the width may be constant.
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Abstract
マスクシート(15)に形成された有効部(YA)のうち第1領域(YA1)は、被蒸着基板のアクティブ領域(3)毎に設けられアクティブ領域(3)に対応する形状であり、有効部(YA)の第2領域(YA2)は、第1領域(YA1)外であって、ハウリングシート(13)により複数の蒸着孔(H)が遮蔽されている。
Description
本発明は、蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法に関する。
特許文献1に記載のように、有機EL表示装置において、各画素に発光層をパターン形成する場合、蒸着マスクが用いられている。
蒸着マスクの作製時、図18の矢印F4に示すように、短冊状の複数のマスクシート115の両端部を外向きに架張しつつ(引っ張りつつ)、両端部近傍をマスクフレームに溶接する。
マスクシート115には、有効部YAZが複数形成されている。有効部YAZは、被蒸着基板の画素毎に蒸着層を蒸着するための複数の蒸着孔が並んで形成されている領域である。
図18の例では、有効部YAZは、被蒸着基板のアクティブ領域に対応する形状を有している。
このように、マスクシート115の有効部YAZには画素に対応した複数の蒸着孔が形成されているため、特に、マスクシート115はマスクフレームに対する相対位置の精度が求められる。
マスクシート115のうち、有効部YAZが形成されている領域は、複数の蒸着孔が網目状に形成されているため、有効部YAZ外の領域と比べて剛性が弱い。
このため、マスクシート115をマスクフレームに取り付けるために、マスクシート115の両端を外向きに架張すると、マスクシート115のうち、有効部YAZ間の領域115aの幅W115aよりも、有効部YAZの中心近傍115bの幅W115bの方が細くなりやすい。
このように、マスクシート115を架張した際に、マスクシート115内で応力の不均一が生じるため、蒸着孔とマスクフレームとの相対位置の精度が悪くなり、その結果、蒸着層をパターン形成する位置精度が悪くなるという問題があった。
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、精度よく蒸着層をパターン形成することが可能な蒸着マスクを提供することである。
上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る蒸着マスクは、表示に寄与する画素が並ぶアクティブ領域が複数設けられた被蒸着基板の当該画素に蒸着層を蒸着するための複数の蒸着マスクであって、上記複数のアクティブ領域に跨るように複数の蒸着孔が並んで形成された有効部が設けられたマスクシートと、上記マスクシートを支持する複数のハウリングシートとを有し、上記有効部は、第1領域と、第2領域とを含み、上記第1領域は、上記アクティブ領域に対応する形状であり、当該アクティブ領域毎に設けられ、上記第2領域は、上記第1領域の形状を規定し、上記ハウリングシートと重なることで上記複数の蒸着孔のうち一部の蒸着孔が遮蔽されていることを特徴とする。
上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る蒸着マスクの製造方法は、表示に寄与する画素が並ぶアクティブ領域が複数設けられた被蒸着基板の当該画素に蒸着層を蒸着するための蒸着マスクの製造方法であって、マスクシートに、複数の蒸着孔を形成することで、複数の上記アクティブ領域に跨るように有効部を設ける蒸着孔形成工程と、マスクフレームに、複数のハウリングシートを取り付けるハウリングシート取り付け工程と、上記マスクフレームに、複数のハウリングシートと重なり当該複数のハウリングシートに支持されるように上記マスクシートを取り付けることで、上記有効部に、第1領域と、第2領域とを設けるマスクシート取り付け工程とを有し、上記第1領域は、上記アクティブ領域に対応する形状であり、当該アクティブ領域毎に設けられる領域であり、上記第2領域は、上記第1領域の形状を規定し、上記ハウリングシートと重なることで上記複数の蒸着孔のうち一部の蒸着孔が遮蔽されている領域であることを特徴とする。
本発明の一態様によれば、精度よく蒸着層をパターン形成することが可能な蒸着マスクを提供することができるという効果を奏する。
〔実施形態1〕
(有機EL表示パネルの製造方法の概略)
図1は、実施形態1に係る有機EL表示パネルの製造工程を表す図である。図2は本発明の実施形態1に係る有機EL表示パネルの基板1の平面図である。図3は図2の基板の有機EL表示パネル形成領域の断面図である。図3では、1枚のマザーガラスから有機EL表示パネルを18面取りする場合の構成を示している。なお、1枚のマザーガラスから有機EL表示パネルを面取りする個数は18個に限らず、17個以下、または19個以上であってもよい。
(有機EL表示パネルの製造方法の概略)
図1は、実施形態1に係る有機EL表示パネルの製造工程を表す図である。図2は本発明の実施形態1に係る有機EL表示パネルの基板1の平面図である。図3は図2の基板の有機EL表示パネル形成領域の断面図である。図3では、1枚のマザーガラスから有機EL表示パネルを18面取りする場合の構成を示している。なお、1枚のマザーガラスから有機EL表示パネルを面取りする個数は18個に限らず、17個以下、または19個以上であってもよい。
基板1には有機EL表示パネル形成領域9が18個配置されている。有機EL表示パネル形成領域9は、マザーガラスから切り出されることで個片化された後、有機EL表示パネルとなる領域である。
基板1は、TFT基板(被蒸着基板)2と、アクティブ領域3と、枠状バンク4と、封止層5とを有する。
アクティブ領域3はマトリクス状に複数設けられる。アクティブ領域3は、例えばRGBそれぞれの画素が形成される領域である。有機EL表示パネル形成領域9のうち、アクティブ領域3が形成されている領域が表示領域43であり、有機EL表示パネル形成領域9のうち、アクティブ領域3を囲む周囲の領域が額縁領域44である。なお、図2において、額縁領域44は、有機EL表示パネル形成領域9のうちにおける破線で示した領域(アクティブ領域3)よりも外側の領域である。
図1~図3に示すように、まず、TFT工程S11においてTFT基板2を作製する。TFT基板2は、マザーガラスに、ポリイミドなどの材料でフレキシブル基板のベースとなるフィルムを形成し、その上に公知の方法により、各画素に配される画素回路に含まれるTFT(トランジスタ、駆動素子)、ゲート配線およびソース配線、その他各種の配線が形成され、パッシベーション膜(保護膜)、および層間絶縁膜(平坦化膜)などが形成され、さらにその無機絶縁膜上に、アノードとコンタクトを取った反射電極層、ITO層及び発光領域を規定するための画素バンク(エッジカバー)が形成されることで作製される。
これにより、アクティブ領域3に発光領域が形成される。
パッシベーション膜はTFTにおける金属膜の剥離を防止し、TFTを保護する。パッシベーション膜はマザーガラス上又は他の層を介して形成されており、TFTを覆っている。パッシベーション膜は、窒化シリコンや酸化シリコンなどからなる無機絶縁性膜である。
層間絶縁膜は、パッシベーション膜上の凹凸を平坦化する。層間絶縁膜はパッシベーション膜上に形成されている。層間絶縁膜はアクリルなどの感光性樹脂またはポリイミドなどの熱可塑性樹脂からなる有機絶縁膜である。
また、このアクティブ領域3を形成する際に、当該アクティブ領域3を枠状に囲む枠状バンク4もTFT基板2上に形成する。枠状バンク4は、アクリルなどの感光性樹脂またはポリイミドなどの熱可塑性樹脂からなる。
次に、有機EL工程S12において、TFT基板2の各画素内(すなわち、TFT工程S11にて形成した画素バンクの開口部内)における反射電極層上に有機EL層を形成する。有機EL層は、発光層、正孔輸送層およびその他の機能層を含む。発光層は、画素毎に、例えば、赤色、緑色または青色等、異なる色の光を発光する。発光層及び正孔輸送層の少なくとも一方(以下、発光層等と称する場合がある)は、蒸着工程において、真空中で本実施形態に係る蒸着マスクを用いた蒸着により、各画素の所定の位置に形成される。
発光層及び正孔輸送層等の画素毎に蒸着される蒸着層を形成するための蒸着工程で用いる蒸着マスクは、蒸着工程の前に、蒸着マスクの作製工程S20により予め作製しておく。なお、蒸着マスクの作製工程S20の詳細は後述する。また、この蒸着マスクを用いて形成する層は、発光層及び正孔輸送層に限定されず、画素毎に(すなわち画素バンクの開口部内に)形成される層であればよい。
そして、有機EL層を介して反射電極と対向する透明電極を、有機EL層を覆うように形成する。
そして、次に、封止工程S13において、封止層5を形成する。封止層5は、一例として、無機膜6、有機膜7、および無機膜8が、TFT基板2側からこの順に積層された3層構造とすることができる。枠状バンク4が形成されているため、有機膜7の膜厚を、例えば、1.0μm以上と厚く形成することができる。
この封止層5を形成した後、フレキシブル工程S14を行う。フレキシブル工程S14では、基板のガラスを剥離して支持体となるフィルムなどを貼る。
そして、次に、個片化工程S15において、各有機EL表示パネル形成領域9が切り出される。これにより各有機EL表示パネル形成領域9が個片化される。これにより、可撓性を有し、異形の表示パネル(有機EL表示パネル)が形成される。
次いで、実装工程S16において、個片化された各有機EL表示パネル形成領域9にドライバ等の部材を実装する。これにより有機EL表示装置が完成する。
本実施形態では、アクティブ領域3が、例えば、長方形又は正方形以外の形状である異形であるため、表示パネルの外形も、アクティブ領域3の形状に合わせて異形となっている。
図4は、本発明の実施形態1に係る有機EL表示装置の発光層等(発光層及び正孔輸送層等の画素毎に蒸着される蒸着層)を形成する際の蒸着工程の様子を示す模式図である。
発光層等を蒸着する蒸着工程では、TFT基板2に、複数の貫通孔を有するマスクシート15を設けた蒸着マスク10を密着させ、真空下において、蒸着源70で蒸発させた蒸着粒子Z(例えば、有機発光材)をマスクシート15越しにTFT基板2における画素に蒸着させる。これにより、TFT基板2に、マスクシート15の貫通孔に対応するパターンの蒸着パターンが形成される。
図5は、実施形態1のアクティブ領域3の一部を拡大した図である。アクティブ領域3には、画像の表示に寄与する画素pixがマトリクス状に並んで配置されている。画素pixには、発光層80が形成されている。画素pixを囲む周囲の領域が画素バンクbkである。
一例として、図6では、赤色光を発光する赤発光層80Rが形成された赤画素Rpixと、緑色光を発光する緑発光層80Gを有する緑画素Gpixと、青色光を発光する青発光層80Bを有する青画素Bpixとがペンタイル配列となっている。しかし、画素配列は、特にペンタイル配列に限定されるものではなく、例えばストライプ配列等、他の配列であってもよい。
なお、発光層80の形状は、当該発光層80が内部に形成される画素バンクbkの開口部の形状である。
(蒸着マスク)
次に、蒸着工程で用いる蒸着マスクの作製工程S20について説明する。図6は、実施形態1に係る有機EL表示パネルにおける発光層の蒸着工程を表す図である。図7は、実施形態1に係る蒸着マスクを作製している様子を表す図である。図7の(a)はマスクフレームの平面図であり、(b)はマスクフレームにカバーシートを取り付けている様子を表す図であり、(c)はマスクフレームにハウリングシートを取り付けている様子を表す図であり、(d)はマスクフレームにアライメントシートを取り付けている様子を表す図であり、(e)はマスクフレームにマスクシートを取り付けている様子を表す図であり、(f)は作製された蒸着マスクの平面図である。
次に、蒸着工程で用いる蒸着マスクの作製工程S20について説明する。図6は、実施形態1に係る有機EL表示パネルにおける発光層の蒸着工程を表す図である。図7は、実施形態1に係る蒸着マスクを作製している様子を表す図である。図7の(a)はマスクフレームの平面図であり、(b)はマスクフレームにカバーシートを取り付けている様子を表す図であり、(c)はマスクフレームにハウリングシートを取り付けている様子を表す図であり、(d)はマスクフレームにアライメントシートを取り付けている様子を表す図であり、(e)はマスクフレームにマスクシートを取り付けている様子を表す図であり、(f)は作製された蒸着マスクの平面図である。
図6の工程Sa、図7の(a)(b)に示すように、枠で囲まれた領域にフレーム開口部11aを有する枠状のマスクフレーム11に、複数のカバーシート12を取り付ける(カバーシート取り付け工程)。
マスクフレーム11は、例えば、母材として、厚さ20mm~30mmの熱膨張が極めて少ないインバー材等が用いられる。マスクフレーム11は、マスクシートに比べて十分に厚く、マスクシートを架張して溶接した際にも十分な精度を確保できるよう、高い剛性を持っている。
カバーシート12は、後にマスクフレーム11に取り付けられるマスクシート間の隙間を埋めたり、マスクシートに形成されたダミーパターンを塞いだりする役割を果たす。
カバーシート12は、例えば、母材として、厚さ30μm~50μmのインバー材等が用いられる。カバーシート12は、細長い形状であり、一方の端部から他方の端部にかけて直線状に延伸している。
カバーシート12をマスクフレーム11に取り付ける際、図7の(b)における矢印F1に示すように、カバーシート12の両端部それぞれに外向き方向(互いに離れる方向)に力を加えることで架張し(引張り)つつ、カバーシート12の両端部をマスクフレーム11に設けられた溝内に溶接する。そして、カバーシート12における溶接した部分より外側の不要部分をカットする。これにより、各カバーシート12は、マスクフレーム11の所定位置に取り付けられる。本実施形態では、各カバーシート12は、マスクフレーム11の短辺方向に平行になるように、マスクフレーム11に取り付けられる。各カバーシート12は、マスクフレーム11の長辺に並んで、互いに平行になるように、マスクフレーム11に取り付けられる。
次に、図6の工程Sbおよび図7の(c)に示すように、カバーシート12が取り付けられたマスクフレーム11に、ハウリングシート13(サポートシートとも呼ばれる)を取り付ける(ハウリングシート取り付け工程)。
ハウリングシート13は、後にマスクフレーム11に取り付けられるマスクシートを弛まないように支持したり、マスクシートに形成されたダミーパターンを塞いだりする役割を果たす。
加えて、本実施形態では、ハウリングシート13は、後述するように、マスクシート15に設けられている有効部YAに含まれる複数の蒸着孔のうち一部である、アクティブ領域に対応する領域外の蒸着孔を遮蔽する役割も果たす。
ハウリングシート13は、例えば、母材として、厚さ30μm~100μmのインバー材等が用いられる。ハウリングシート13の幅は、例えば、8mm~10mm程度であり、パネルが配置される基板上のレイアウトによって決定される。ハウリングシート13は、細長い形状であり、一方の端部から他方の端部にかけて直線状に延伸している。
通常、ポートレート形状の表示パネルでは、端子部がハウリングシートによってマスキングされるため、ハウリングシートの幅はカバーシートより幅は広くなっているが、ハウリングシートは、表示パネルの表示領域(すなわちマスクシートの有効部)とは重ならない位置に配置される。
図7の(c)における矢印F2に示すように、ハウリングシート13をマスクフレーム11に取り付ける際、ハウリングシート13の両端部それぞれに外向き方向(互いに離れる方向)に力を加えることで架張し(引張り)つつ、ハウリングシート13の両端部をマスクフレーム11に設けられた溝内に溶接する。そして、ハウリングシート13における溶接した部分より外側の不要部分をカットする。これにより、各ハウリングシート13は、マスクフレーム11の所定位置に取り付けられる。
本実施形態では、各ハウリングシート13は、マスクフレーム11の長辺に平行になるように、マスクフレーム11に取り付けられる。各ハウリングシート13は、マスクフレーム11の短辺方向に並んで、互いに平行になるように、マスクフレーム11に取り付けられる。
なお、マスクフレーム11に、カバーシート12とハウリングシート13とを取り付ける順番を逆にして(図6の工程Saと工程Sbとを入れ替えて)、マスクフレーム11に、先にハウリングシート13を取り付けた後、次に、カバーシート12を取り付けてもよい。
図7の(c)に示すように、マスクフレーム11に、複数のカバーシート12と、複数のハウリングシート13とを格子状に取り付けることにより、互いに対向するカバーシート12と、互いに対向するハウリングシート13とによって区画された開口部が並んで形成される。
次に、図6の工程Scおよび図7の(d)に示すように、アライメントマークが形成されたアライメントシート14を、アライメントマークが所定位置に来るようにマスクフレーム11に取り付ける(アライメントシート取り付け工程)。
アライメントシート14をマスクフレーム11に取り付ける際、図7の(d)における矢印F3に示すように、アライメントシート14の両端部にそれぞれに外向き方向(互いに離れる方向)であってマスクフレーム11の短手方向に平行な方向の力を加えることで架張し(引張り)つつ、マスクフレーム11の所定位置に溶接する。そして、アライメントシート14における溶接した部分より外側の不要部分をカットする。これにより、各アライメントシート14は、マスクフレーム11の所定位置に取り付けられる。本実施形態では、2本のアライメントシート14が、それぞれ、マスクフレーム11のフレーム開口部11aの短辺に沿って互いに平行になるように、マスクフレーム11に取り付けられている。
次に、図6の工程Sdおよび図7の(e)に示すように、マスクフレーム11に、複数のマスクシート15を取り付ける(マスクシート取り付け工程)。マスクシート15は、図2および図3に示したアクティブ領域3における画素内に蒸着層をパターン形成するため、例えば、RGBそれぞれに塗り分けるためのシートである。この工程Sdによって、マスクシート15の有効部YAに、第1領域YA1と、第2領域YA2とが設けられる。
また工程Sdの前に、工程S101として、マスクシート15をマスクフレーム11に取り付ける前に、蒸着孔を複数並んで形成することで有効部YAをマスクシート15に形成しておく(有効部形成工程)。有効部YAは、アクティブ領域3に跨るように、すなわち、複数のアクティブ領域3と重なる程度の面積を有する。この有効部YA、第1領域YA1及び第2領域YA2の詳細は後述する。
工程Sdにおいては、図7の(e)における矢印F4に示すように、マスクシート15をマスクフレーム11に取り付ける際、マスクシート15の両端部それぞれに外向き方向(互いに離れる方向)に力を加えることで架張し(引張り)つつ、アライメントシート14に形成されているアライメントマークを基準に、有効部YAを構成する蒸着孔が所定位置に来るように、マスクシート15の両端部をマスクフレーム11の所定位置に精度よく溶接する。
また、このマスクシート15を架張および溶接する際、架張および溶接後のマスクシート15の変形量に合せて、マスクフレーム11にカウンターフォースを加えながら架張および溶接する。これにより、有効部YAの延伸方向と、各ハウリングシート13の延伸方向とが直交するように、マスクシート15をマスクフレーム11に取り付ける。
そして、マスクシート15を、図7の(f)に示すように、カバーシート12とハウリングシート13とで区画された開口部が全て有効部YAで覆われるように、必要な全シート分のマスクシート15をマスクフレーム11に取り付けた後、図6の工程Seおよび図7の(f)に示すように各マスクシート15のうち、溶接した部分より外側の不要部分をカットする。
これにより、蒸着マスク10が完成する。
次に、図6の工程Sgに示すように、完成した蒸着マスク10を洗浄し、異物検査および精度検査等の各種のマスク検査を行う。この後、マスク検査にて問題がなかった蒸着マスク10はストッカに格納され、必要に応じて、蒸着工程にて使用される蒸着装置に供給される。
(有効部YA)
図8は、実施形態1のマスクシート15の構成を表す図である。図8の(a)はマスクシート15の平面図であり、(b)は(a)に示す有効部の拡大図であり、(c)は(b)に示すB‐B線断面図であり、(d)は(b)に示すC-C線断面図である。
図8は、実施形態1のマスクシート15の構成を表す図である。図8の(a)はマスクシート15の平面図であり、(b)は(a)に示す有効部の拡大図であり、(c)は(b)に示すB‐B線断面図であり、(d)は(b)に示すC-C線断面図である。
図8の(a)に示すようにマスクシート15は、短冊状であり、母材として、例えば、厚さ10μm~50μm、好ましくは25μm程度のインバー材等が用いられている。マスクシート15は、蒸着された蒸着層の厚みが不均一となることを防ぐため、厚みが薄いシートにより構成されている。
マスクシート15の両端部間には、マスクシート15の長手方向に延伸する有効部YAが形成されている。有効部YAには、画素に対応した複数の蒸着孔Hが並んで形成されている。有効部YAは、TFT基板2の複数のアクティブ領域3に跨って、複数のアクティブ領域3と重なる程度の面積を有する。
有効部YAは、複数のハウリングシート13と重なる(図7の(e)(f))。本実施形態では、複数のハウリングシート13のうち、両端に位置するハウリングシート13zは、有効部YAの両端部YAa近傍と重なっている。有効部YAのうち両端に位置するハウリングシート13zと重なる領域間の領域YAbは、アクティブ領域3と重なる領域を含む領域である。本実施形態では、この有効部YAのうち領域YAbは、マスクシート15が架張された状態でも幅(延伸方向に直交する方向の長さ)が一定となる。そして、マスクシート15のうち、有効部YAの領域YAbが設けられている領域も、マスクシート15が架張された状態でも幅が一定となる。
このため、マスクシート15のうち、有効部YAの領域YAbの近傍は、マスクシート15を架張したときに加わる応力が均一となる。これにより、マスクシート取り付け工程において、精度よく、マスクシート15をマスクフレーム11に架張して取り付けることができる。
また、マスクシート15のうち、有効部YAの領域YAbの外側の領域、すなわち、両端のハウリングシート13zと重なる領域は、外側に向うにつれて次第に幅が広がっている。
図7の(e)(f)および図8の(b)に示すように、有効部YAは、第1領域YA1と第2領域YA2とを有する。第1領域YA1は、アクティブ領域3(図2参照)毎に形成され、当該アクティブ領域3に対応する形状を有する。第2領域YA2は、有効部YAにおける、第1領域YA1とは異なる領域であって、ハウリングシート13と重なる領域である。図8の(a)に示した、有効部YAのうち幅が一定である領域YAbは、第1領域YA1及び第1領域YA1間の第2領域YA2を含む領域である。
図8の(b)に示すように、有効部YAにおいて、第1領域YAに含まれる蒸着孔Hは貫通しており、第2領域YA2に含まれる蒸着孔Hは、ハウリングシート13により遮蔽されている。
第1領域YAに含まれる蒸着孔Hは、画素毎に、蒸着層をパターン形成するための蒸着孔である。第2領域YA2に含まれる蒸着孔Hは、画素毎に、蒸着層をパターン形成することに寄与しないダミーの蒸着孔である。
蒸着工程において、マスクシート15の有効部YAのうち、第1領域YA1は、TFT基板2のアクティブ領域3(図2及び図3参照)と重なり、第1領域YA1の外側である第2領域YA2及び有効部YAを囲む縁部は、額縁領域44(図2及び図3参照)と重なる。そして、蒸着源から発せられた蒸着粒子は、第1領域YA1に含まれる蒸着孔Hを通ってTFT基板2のアクティブ領域3の画素に蒸着する。このとき、マスクシート15のうち第2領域YA2及び有効部YAを囲む縁部は、TFT基板2の額縁領域44と重なるため、蒸着粒子は、第2領域YA2及び有効部YAを囲む縁部によって遮蔽され、額縁領域44には到達しない。
マスクシート15を通して発光層をTFT基板に蒸着する場合、蒸着孔Hは、有効部YAにおいて、発光層が発光する色のうち何れかの色の光を発光する発光層の形成領域に対応して形成されている。例えば、アクティブ領域3に、赤色光を発光する発光層と、緑色光を発光する発光層と、青色光を発光する発光層とが形成される場合、蒸着孔Hは、赤色光を発光する発光層と、緑色光を発光する発光層と、青色光を発光する発光層とのうちいずれかの発光層のパターンと同じパターンで形成されている。
第2領域YA2の蒸着孔Hは、第1領域YA1の蒸着孔Hと同じピッチ及び同じ形状を有する。
有効部YAのうち、アクティブ領域3と重なる領域と、当該アクティブ領域3と重なる領域間の領域は、第1領域YA1及び第2領域YA2が組み合わされて、長方形又は正方形となっており、異形ではない形状を有する。
なお、異形とは、有機EL表示パネルの外形を長方形または正方形とした場合の縁(辺または角)の少なくとも一部が、当該縁から内側(長方形または正方形の中央部方向)または外側(長方形または正方形の中央部から離れる方向)に突出した異形部分を有する形状である。異形部分とは、角が直角ではなく湾曲したいわゆるラウンド(丸み)を有する形状(円弧形状)であったり、4辺のうち少なくとも一辺が縁から中央部方向へ向けて凸となるように凹んだ切欠き部を有する形状であったりなど長方形または正方形とは異なる形状部分である。
マスクシート15には、図6に示した工程S101にて、例えば以下のように蒸着孔Hが作製される。
まず、インバー材等からなる長尺板の両面にネガ型もしくはポジ型の感光性レジスト材料を塗布し、両主面(第1面および第2面)にレジスト膜を形成する。
次いで、露光マスクを用いて第1面および第2面のレジスト膜を露光および現像することで長尺板の両面にレジストパターンを形成する。次いで、第1面レジストパターンをマスクとして有効部YAの第1面15b(蒸着時にTFT基板2と対向する面)をエッチングし(縁部の上面はエッチングしない)、有効部YAの第1面15bに開口Kをパターン形成する(この段階では貫通した蒸着孔とはならない)。
次いで、エッチング耐性を有する耐性樹脂で第1面15bを覆い、第2面15c(蒸着時にTFT基板2との対向面とは逆側となる面)レジストパターンをマスクとし、有効部YAおよび縁部の下面をエッチングする。これにより、有効部YAでは第2面15c側からの浸食によって蒸着孔H(貫通孔)が形成され、縁部の下面に複数の凹みが形成される。
有効部YAの複数の蒸着孔Hは、マスクシート15の長手方向および短手方向(幅方向)にマトリクス状に又は斜め格子状に形成され、その開口K(上面の開口)は、基板の画素バンク層の開口形状に対応するように、角が丸まった四角形形状もしくは円形又は楕円形の形状となる。有効部YAでは、各蒸着孔Hに対して第1面15b側よりも第2面15c側のエッチングを広範かつ深く行うことで、陰になる部分(隣り合う2つの蒸着孔間の仕切りの高さ)を小さくし、基板に対する蒸着精度および蒸着効率を高めている。
有効部YAでは、横方向に隣り合う2つの開口Kの中心を通るB-Bラインで断面をとると、図8の(c)のように母材が最小(空洞が最大)の構成となり、縦方向に隣り合う2つの開口Kから等距離の点を通り、B-B線に平行なC-Cラインで断面をとると、図8の(c)(d)のように母材が最大(空洞が最小)の構成(最大厚みは母材の厚みTi)となる。これにより、マスクシート15が作製される。
図9は、蒸着マスク10の一部を、第2面15c側から見た様子を表す図である。図10は、蒸着工程において蒸着をしている際の蒸着マスク10およびTFT基板2の断面図である。
図9及び図10に示すように、複数の蒸着孔が並んで形成された有効部YAは、複数のアクティブ領域3に跨るように設けられている。そして、有効部YAは第1領域YA1および第2領域YA2を有する。
第1領域YA1は、アクティブ領域3に対応する形状であり、アクティブ領域3毎に設けられる。そして、第2領域YA2は、第1領域YA1の形状を規定し、ハウリングシート13と重なることで蒸着孔Hが遮蔽されている。
このため、マスクシート15をマスクフレーム11に取り付けるために架張した際(図7の(e))、マスクシート15のうち、第1領域YA1および第1領域YA1で挟まれた第2領域YA2が設けられた近傍の領域も均一に応力が加わる。これにより、各蒸着孔とマスクフレーム11との相対位置精度を高めて、マスクシート15をマスクフレーム11に取り付けることができる。この結果、精度よく蒸着層をパターン形成することが可能な蒸着マスク10を得ることができる。
また、第1領域YA1の外形を規定する第2領域YA2の位置および形状は、ハウリングシート13の位置および形状によって規定することができる。このため、有効部YAの外形は、アクティブ領域3の外形が変わっても変更する必要がないため、種々の外形を有する基板間で、有効部YAが形成されたマスクシート15を共通化することができる。
例えば、4:3、16:9、18:9など、アスペクト比が異なるアクティブ領域3を形成するためのマスクシート15を共通化することができる。
また、図10に示すように、各ハウリングシート13は、マスクシート15のうち、TFT基板2と対向する第1面15bとは逆側の第2面15cと接触している。これにより、TFT基板2の蒸着時に、TFT基板2と各ハウリングシート13との距離に起因するシャドウの発生を防止することができる。
図11は実施形態1の有効部YAの第2領域YA2近傍の拡大図である。図11に示すように、本実施形態では、第2領域YA1に含まれる蒸着孔Hが配置されているピッチW2は、第1領域YA1に含まれる蒸着孔Hが配置されているピッチと等しいことが好ましい。これにより、有効部YAの形成が容易である。
また、有効部YAにおいて、第1領域YA1間の幅W1は、蒸着孔HのピッチW2の整数倍である。これにより、有効部YAの形成が容易である。
本実施形態では、さらに、第1領域に含まれる蒸着孔Hと、第2領域YA2に含まれる蒸着孔Hの形状も同一である。
〔実施形態2〕
図12は、実施形態2のマスクシート15の構成を表す図である。図12に示すように、マスクシート15の全体的に、蒸着孔、すなわち、有効部YAを設けてもよい。図13は、実施形態2の蒸着マスク10の構成を表す図である。図13に示す蒸着マスク10は、マスクフレーム11に、図12に示した複数のマスクシート15が取り付けられている。
図12は、実施形態2のマスクシート15の構成を表す図である。図12に示すように、マスクシート15の全体的に、蒸着孔、すなわち、有効部YAを設けてもよい。図13は、実施形態2の蒸着マスク10の構成を表す図である。図13に示す蒸着マスク10は、マスクフレーム11に、図12に示した複数のマスクシート15が取り付けられている。
図13に示す蒸着マスク10においても、マスクシート15の有効部YAは、複数のアクティブ領域3に跨るように設けられている。そして、有効部YAは、アクティブ領域3(図2および図3)に対応する形状である第1領域YA1と、ハウリングシート13と重なる第2領域YA2を有する。
図12および図13に示すマスクシート15においても、マスクシート15をマスクフレーム11に取り付けるために架張した際(図7の(e))、マスクシート15のうち、第1領域YA1および第1領域YA1で挟まれた第2領域YA2が設けられた近傍の領域に均一に応力が加わる。
特に、図12および図13に示すマスクシート15は、マスクシート15の全体的に有効部YAが設けられているため、マスクシート15を架張したときの応力が、より、マスクシート15全体に均一に加わる。これにより、各蒸着孔とマスクフレーム11との相対位置精度を高めて、マスクシート15をマスクフレーム11に取り付けることができる。この結果、精度よく蒸着層をパターン形成することが可能な蒸着マスク10を得ることができる。
また、第1領域YA1の外形を規定する第2領域YA2の位置および形状は、ハウリングシート13の位置および形状によって規定することができる。このため、有効部YAの外形は、アクティブ領域3の外形が変わっても変更する必要がないため、種々の外形を有する基板間で、有効部YAが形成されたマスクシート15を共通化することができる。
〔実施形態3〕
図14は、実施形態3のマスクシート15の構成を表す図である。図15は、図14に示すマスクシート15を、マスクフレーム11に取り付けるために架張した様子を表す図である。
図14は、実施形態3のマスクシート15の構成を表す図である。図15は、図14に示すマスクシート15を、マスクフレーム11に取り付けるために架張した様子を表す図である。
ここで、マスクシートの有効部は、中央部の剛性が、両端部の剛性よりも相対的に弱い。
そこで、図14に示すマスクシート15においては、有効部YAは、両端部から中央部にかけて次第に幅が広がっている。そして、マスクシート15においても、有効部YAの両端部を含む位置の幅W15aから、有効部YAの中央部を含む位置の幅W15bにかけて次第に幅が広がっている。
このため、図15に示すように、マスクシート15の両端を矢印F4に示すように外側に向けて架張した際、有効部YAの中央部の方が、有効部YAの両端部よりも、幅が狭くなる程度が大きく、架張するにつれて、マスクシート15のうち、有効部YAの両端部
を含む位置の幅W15cと、有効部YAの中央部を含む位置の幅W15dとが同じになる。
を含む位置の幅W15cと、有効部YAの中央部を含む位置の幅W15dとが同じになる。
これにより、マスクフレームに対する蒸着孔の位置精度を向上させることができる。
〔実施形態4〕
図16は、実施形態3に係るハウリングシート13の構成を表す図である。図17は、実施形態4の蒸着マスクの一部を第2面15c側から見た様子を表す図である。
図16は、実施形態3に係るハウリングシート13の構成を表す図である。図17は、実施形態4の蒸着マスクの一部を第2面15c側から見た様子を表す図である。
異形のアクティブ領域に対して蒸着する場合、図16に示すように、ハウリングシート13に異形部分に対応する形状を設けてもよい。
図16に示すように、本実施形態のハウリングシート13は、一方の端部から他方の端部にかけて、アクティブ領域の外径形状のうち異形部分の形状を含む凹凸等が設けられている。ハウリングシート13は、両端部近傍の領域であって、マスクフレーム11(図7の(c))に取り付けられた時にマスクフレーム11と重なる領域である取り付け領域13aと、取り付け領域13a間であって、アクティブ領域の外形を形成する領域であるアクティブ領域の外形形成領域13bとを有する。
アクティブ領域の外形形成領域13bは、アクティブ領域の異形部分を含む少なくとも一部のアクティブ領域の外形を形成するための凹凸形状を有する。
アクティブ領域の外形形成領域13bのうち、延伸方向に延びる一方の辺には、切欠き部13cが並んで形成されており、延伸方向に延びる他方の辺には、切欠き部13dが並んで形成されている。
切欠き部13c・13dは、アクティブ領域における、例えば、切欠き部43d、及び、4個の隅43a~43d等の、例えば円弧形状である異形部分に対応する形状を有する。
切欠き部13cは、アクティブ領域の異形部分である、丸みを有する隣接する2つの隅を形成するための湾曲部23c・23dが設けられている。切欠き部13dは、アクティブ領域の異形部分である、丸みを有する隣接する2つの隅を形成するための湾曲部23a・23bと、アクティブ領域の切り欠きと同じ形状の凸形状を有する凸部23eが湾曲部23a・23b間に設けられている。
図16に示したハウリングシート13を複数平行にマスクフレーム11に取り付け(図7の(c))、マスクシート15をマスクフレーム11に取り付ける(図7の(e)(f))。
すると、図16に示したハウリングシート13によって、第1領域YA1は、異形部分である、湾曲部23a、凸部23e、湾曲部23b、湾曲部23c、及び湾曲部23dによって外形が規定される。
凸部23eは、第1領域YA1の一辺に、当該一辺から当該第1領域YA1の内部方向に向けて突出する切り欠きである。湾曲部23a~23dは、第1領域YA1の4隅の丸みを有する形状を規定している。この湾曲部23a、凸部23e、湾曲部23b、湾曲部23c、及び湾曲部23dに囲まれた第1領域YA1内の蒸着孔は、ハウリングシート13によって遮蔽されておらず、貫通孔となっている。一方、湾曲部23a、凸部23e、湾曲部23b、湾曲部23c、及び湾曲部23dにおける、第1領域YA1外の蒸着孔は、ハウリングシート13によって遮蔽されている。
これにより、異形部分を有する第1領域YA1によって、当該第1領域YA1と同じ外形を有する、すなわち異形部分を有するアクティブ領域の各画素に蒸着層を形成することができる。
本実施形態に係る蒸着マスク10によると、有効部を、異形部分を有するアクティブ領域の形状に合わせる必要がないため、有効部の形状を、少なくとも、複数のアクティブ領域に跨り当該複数のアクティブ領域と重なる領域の外形を、正方形または長方形とすることができる。これにより、マスクシート15を架張したときの応力を均一化することができ、位置精度よく、マスクシート15をマスクフレーム11に取り付けることができる。
また、有効部を、異形部分を有するアクティブ領域の形状に合わせる必要がないため、種々の外形を有する基板間で、有効部YAが形成されたマスクシート15を共通化することができる。
なお、上述した切り欠きおよび丸みを有する隅は、異形部分の形状の一例であり、異形部分は他の異形形状を有していてもよい。
また、実施形態1~4にかかるディスプレイは、表示素子を備えた表示パネルであれば、特に限定されるものではない。上記表示素子は、電流によって輝度や透過率が制御される表示素子であり、電流制御の表示素子としては、OLED(Organic Light Emitting Diode:有機発光ダイオード)を備えた有機EL(Electro Luminescence:エレクトロルミネッセンス)ディスプレイ、又は無機発光ダイオードを備えた無機ELディスプレイ等のELディスプレイQLED(Quantum dot Light Emitting Diode:量子ドット発光ダイオード)を備えたQLEDディスプレイ等がある。
〔まとめ〕
態様1に係る蒸着マスクは、表示に寄与する画素が並ぶアクティブ領域が複数設けられた被蒸着基板の当該画素に蒸着層を蒸着するための蒸着マスクであって、上記複数のアクティブ領域に跨るように複数の蒸着孔が並んで形成された有効部が設けられたマスクシートと、上記マスクシートを支持する複数のハウリングシートとを有し、上記有効部は、第1領域と、第2領域とを含み、上記第1領域は、上記アクティブ領域に対応する形状であり、当該アクティブ領域毎に設けられ、上記第2領域は、上記第1領域の形状を規定し、上記ハウリングシートと重なることで上記複数の蒸着孔のうち一部の蒸着孔が遮蔽されていることを特徴とする。
態様1に係る蒸着マスクは、表示に寄与する画素が並ぶアクティブ領域が複数設けられた被蒸着基板の当該画素に蒸着層を蒸着するための蒸着マスクであって、上記複数のアクティブ領域に跨るように複数の蒸着孔が並んで形成された有効部が設けられたマスクシートと、上記マスクシートを支持する複数のハウリングシートとを有し、上記有効部は、第1領域と、第2領域とを含み、上記第1領域は、上記アクティブ領域に対応する形状であり、当該アクティブ領域毎に設けられ、上記第2領域は、上記第1領域の形状を規定し、上記ハウリングシートと重なることで上記複数の蒸着孔のうち一部の蒸着孔が遮蔽されていることを特徴とする。
態様2に係る蒸着マスクは、上記複数のハウリングシートは、上記有効部の延伸方向と直交する方向に延伸していてもよい。
態様3に係る蒸着マスクは、上記複数のハウリングシートは、上記マスクシートのうち、上記被蒸着基板と対向する第1面とは逆側の第2面と接触していてもよい。
態様4に係る蒸着マスクは、上記第2領域に含まれる複数の蒸着孔が配置されているピッチは、上記第1領域に含まれる複数の蒸着孔が配置されているピッチの整数倍であってもよい。
態様5に係る蒸着マスクは、上記第2領域に含まれる複数の蒸着孔が配置されているピッチは、上記第1領域に含まれる複数の蒸着孔が配置されているピッチと等しくてもよい。
態様6に係る蒸着マスクは、上記第1領域間の幅は、上記蒸着孔のピッチの整数倍であってもよい。
態様7に係る蒸着マスクは、上記有効部は、上記マスクシートの全体に設けられていてもよい。
態様8に係る蒸着マスクは、上記有効部のうち、両端に位置するハウリングシート間の領域は、幅が一定であってもよい。
態様9に係る蒸着マスクにおいては、上記マスクシートは、上記有効部の幅が一定である領域より外側の領域に、外側に向かうにつれて次第に幅が広がる領域を含んでもよい。
態様10に係る蒸着マスクにおいては、上記マスクシートは、上記有効部の両端を含む位置の幅から、当該有効部の中央部を含む位置の幅にかけて次第に広がっていてもよい。
態様11に係る蒸着マスクは、上記第1領域の一辺に、当該一辺から当該第1領域の内部方向に向けて突出する切り欠きを含み、上記第1領域外であって上記切り欠きで囲まれた領域内の上記複数の蒸着孔は、上記ハウリングシートによって遮蔽されていてもよい。
態様12に係る蒸着マスクの製造方法は、表示に寄与する画素が並ぶアクティブ領域が複数設けられた被蒸着基板の当該画素に蒸着層を蒸着するための蒸着マスクの製造方法であって、マスクシートに、複数の蒸着孔を形成することで、複数の上記アクティブ領域に跨るように有効部を設ける蒸着孔形成工程と、マスクフレームに、複数のハウリングシートを取り付けるハウリングシート取り付け工程と、上記マスクフレームに、複数のハウリングシートと重なり当該複数のハウリングシートに支持されるように上記マスクシートを取り付けることで、上記有効部に、第1領域と、第2領域とを設けるマスクシート取り付け工程とを有し、上記第1領域は、上記アクティブ領域に対応する形状であり、当該アクティブ領域毎に設けられる領域であり、上記第2領域は、上記第1領域の形状を規定し、上記ハウリングシートと重なることで上記複数の蒸着孔のうち一部の蒸着孔が遮蔽されている領域であることを特徴とする。
態様13に係る蒸着マスクの製造方法は、上記有効部のうち、両端に位置するハウリングシート間の領域は、幅が一定であってもよい。
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
1 基板
2 TFT基板(被蒸着基板)
3 アクティブ領域
4 枠状バンク
5 封止層
6、8 無機膜
7 有機膜
9 有機EL表示パネル形成領域
10 蒸着マスク
11 マスクフレーム
12 カバーシート
13 ハウリングシート
13z 両端のハウリングシート
14 アライメントシート
15 マスクシート
43 表示領域
44 額縁領域
70 蒸着源
80 発光層(蒸着層)
bk 画素バンク
YA1 有効部YAの第1領域
YA2 有効部YAの第2領域
2 TFT基板(被蒸着基板)
3 アクティブ領域
4 枠状バンク
5 封止層
6、8 無機膜
7 有機膜
9 有機EL表示パネル形成領域
10 蒸着マスク
11 マスクフレーム
12 カバーシート
13 ハウリングシート
13z 両端のハウリングシート
14 アライメントシート
15 マスクシート
43 表示領域
44 額縁領域
70 蒸着源
80 発光層(蒸着層)
bk 画素バンク
YA1 有効部YAの第1領域
YA2 有効部YAの第2領域
Claims (13)
- 表示に寄与する画素が並ぶアクティブ領域が複数設けられた被蒸着基板の当該画素に蒸着層を蒸着するための複数の蒸着マスクであって、
上記複数のアクティブ領域に跨るように複数の蒸着孔が並んで形成された有効部が設けられたマスクシートと、
上記マスクシートを支持する複数のハウリングシートとを有し、
上記有効部は、第1領域と、第2領域とを含み、
上記第1領域は、上記アクティブ領域に対応する形状であり、当該アクティブ領域毎に設けられ、
上記第2領域は、上記第1領域の形状を規定し、上記ハウリングシートと重なることで上記複数の蒸着孔のうち一部の蒸着孔が遮蔽されていることを特徴とする蒸着マスク。 - 上記複数のハウリングシートは、上記有効部の延伸方向と直交する方向に延伸していることを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。
- 上記複数のハウリングシートは、上記マスクシートのうち、上記被蒸着基板と対向する第1面とは逆側の第2面と接触していることを特徴とする請求項1または2に記載の蒸着マスク。
- 上記第2領域に含まれる複数の蒸着孔が配置されているピッチは、上記第1領域に含まれる複数の蒸着孔が配置されているピッチの整数倍であることを特徴とする請求項1~3の何れか1項に記載の蒸着マスク。
- 上記第2領域に含まれる複数の蒸着孔が配置されているピッチは、上記第1領域に含まれる複数の蒸着孔が配置されているピッチと等しいことを特徴とする請求項4に記載の蒸着マスク。
- 上記第1領域間の幅は、上記複数の蒸着孔のピッチの整数倍であることを特徴とする請求項1~5の何れか1項に記載の蒸着マスク。
- 上記有効部は、上記マスクシートの全体に設けられていることを特徴とする請求項1~6の何れか1項に記載の蒸着マスク。
- 上記有効部のうち、両端に位置するハウリングシート間の領域は、幅が一定であることを特徴とする請求項1~7の何れか1項に記載の蒸着マスク。
- 上記マスクシートは、上記有効部の幅が一定である領域より外側の領域に、外側に向かうにつれて次第に幅が広がる領域を含むことを特徴とする請求項8に記載の蒸着マスク。
- 上記マスクシートは、上記有効部の両端を含む位置の幅から、当該有効部の中央部を含む位置の幅にかけて次第に広がっていることを特徴とする請求項8に記載の蒸着マスク。
- 上記第1領域の一辺に、当該一辺から当該第1領域の内部方向に向けて突出する切り欠きを含み、
上記第1領域外であって上記切り欠きで囲まれた領域内の上記複数の蒸着孔は、上記ハウリングシートによって遮蔽されていることを特徴とする請求項1~10の何れか1項に記載の蒸着マスク。 - 表示に寄与する画素が並ぶアクティブ領域が複数設けられた被蒸着基板の当該画素に蒸着層を蒸着するための蒸着マスクの製造方法であって、
マスクシートに、複数の蒸着孔を形成することで、複数の上記アクティブ領域に跨るように有効部を設ける蒸着孔形成工程と、
マスクフレームに、複数のハウリングシートを取り付けるハウリングシート取り付け工程と、
上記マスクフレームに、複数のハウリングシートと重なり当該複数のハウリングシートに支持されるように上記マスクシートを取り付けることで、上記有効部に、第1領域と、第2領域とを設けるマスクシート取り付け工程とを有し、
上記第1領域は、上記アクティブ領域に対応する形状であり、当該アクティブ領域毎に設けられる領域であり、
上記第2領域は、上記第1領域の形状を規定し、上記ハウリングシートと重なることで上記複数の蒸着孔のうち一部の蒸着孔が遮蔽されている領域であることを特徴とする蒸着マスクの製造方法。 - 上記有効部のうち、両端に位置するハウリングシート間の領域は、幅が一定であることを特徴とする請求項11に記載の蒸着マスクの製造方法。
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