WO2019026774A1

WO2019026774A1 - 液晶表示パネル、液晶表示パネルの製造方法及び光配向処理装置

Info

Publication number: WO2019026774A1
Application number: PCT/JP2018/028166
Authority: WO
Inventors: 下敷領　文一; 寺下　慎一; 光一渡辺
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2017-08-03
Filing date: 2018-07-27
Publication date: 2019-02-07
Also published as: CN110998423A; US20200225540A1

Abstract

本発明は、光利用効率及び表示の均一性に優れた液晶表示パネルを提供する。本発明は、第一の光配向膜を有する第一基板と、液晶層と、第二の光配向膜を有する第二基板とを有する液晶表示パネルであって、液晶分子の第一基板側の長軸端部を始点とし、第二基板側の長軸端部を終点とする配向ベクトルを定義したときに、第一及び第二の光配向膜は、単一の画素電極と重畳する表示単位領域内に、表示単位領域の長手方向に沿って第一～第四のドメインが形成されるように配向処理されており、平面視したときに、第一のドメインと第二のドメインの配向ベクトルは、終点同士が向かい合い、かつ互いに直交し、第二のドメインと第三のドメインの配向ベクトルは、始点同士が向かい合い、かつ互いに平行であり、第三のドメインと第四のドメインの配向ベクトルとは、終点同士が向かい合い、かつ互いに直交する。

Description

液晶表示パネル、液晶表示パネルの製造方法及び光配向処理装置

本発明は、液晶表示パネル、液晶表示パネルの製造方法及び光配向処理装置に関する。より詳しくは、一画素を複数の配向領域（ドメイン）に分割した構成を有する液晶表示パネル、及び、該液晶表示パネルの製造に好適な液晶表示パネルの製造方法及び光配向処理装置に関するものである。

液晶表示装置は、表示のために液晶組成物を利用する表示装置であり、その代表的な表示方式は、一対の基板間に液晶組成物を封入した液晶表示パネルに対してバックライトから光を照射し、液晶組成物に電圧を印加して液晶分子の配向を変化させることにより、液晶表示パネルを透過する光の量を制御するものである。このような液晶表示装置は、薄型、軽量及び低消費電力といった特長を有することから、スマートフォン、タブレットＰＣ、カーナビゲーション等の電子機器に利用されている。

従来、一画素を複数の配向領域（ドメイン）に分割し、配向領域ごとに液晶分子を異なる方位に配向させることで、視野角特性を向上させる配向分割技術が検討されている。配向分割技術を開示した先行技術文献としては、例えば、特許文献１～３が挙げられる。

特許文献１には、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と第２基板の間に設けられた垂直配向型の液晶層と、前記液晶層に電圧を印加するための電圧印加手段と、前記電圧印加手段によって印加される電圧に応じて配向状態が変化する前記液晶層をそれぞれが含む複数の絵素と、を有する液晶表示装置であって、前記複数の絵素のそれぞれ内の前記液晶層は、少なくとも電圧印加状態において、前記液晶層の厚さ方向の中央付近に位置する液晶分子の配向方向が互いに異なる第１ドメイン、第２ドメイン、第３ドメインおよび第４ドメインがある方向に沿ってこの順に配列された４分割ドメインを含み、前記４分割ドメインに対応して、前記第１基板は、前記液晶層の液晶分子を第１方向に配向させる規制力を有する２つの第１領域と、前記液晶分子を前記第１方向と反対の第２方向に配向させる規制力を有し、前記２つの第１領域の間に設けられた第２領域とを有し、前記第２基板は、前記液晶分子を前記第１方向と交差する第３方向に配向させる規制力を有する第３領域と、前記液晶分子を前記第３方向と反対の第４方向に配向させる規制力を有する第４領域とを有し、前記各ドメイン間の境界は、前記各ドメインの配列方向に直交する方向に延びている、液晶表示装置が開示されている。

特許文献２には、複数の画素領域を有し、第１方向にしたがって曲がった曲面形状を有する表示基板と、前記表示基板と対向し、前記表示基板と結合されて前記表示基板と共に曲面形状を有する対向基板と、前記表示基板及び前記対向基板の間に配置された液晶層と、を含み、前記複数の画素領域の各々に複数のドメインが定義され、前記複数のドメインの中の少なくとも２つのドメインにおいて前記液晶層の液晶分子が配向される方向は、互いに異なり、前記複数のドメインは、前記第１方向と交差する第２方向に配列されることを特徴とする液晶表示装置が開示されている。

特許文献３には、画素電極を有する第一基板と、液晶分子を含有する液晶層と、対向電極を有する第二基板とを順に有する液晶表示パネルであって、前記液晶表示パネルは、少なくとも第一の配向領域、第二の配向領域、第三の配向領域及び第四の配向領域の４つの配向領域を含む画素を有し、前記４つの配向領域において、前記液晶分子の傾斜方位が互いに異なり、前記画素の長手方向に沿って、前記第一の配向領域、前記第二の配向領域、前記第三の配向領域及び前記第四の配向領域の順で配置され、前記第一の配向領域と前記第二の配向領域では、液晶分子の傾斜方位が略１８０°異なるか、又は、前記第三の配向領域と前記第四の配向領域では、液晶分子の傾斜方位が略１８０°異なることを特徴とする液晶表示パネルが開示されている。

特開２００６－８５２０４号公報特開２０１５－３１９６１号公報国際公開第２０１７／０４７５３２号

配向分割技術においては、液晶分子の配向方位が異なるドメイン間の境界で、液晶分子の配向が不連続となることによって、暗線が発生することが知られていた。暗線は、液晶分子の配向が不連続となった領域が、液晶表示を行う際に光を透過しないために発生する。暗線が発生すると、画素の透過率（コントラスト比）が低下し、液晶表示パネルの光利用効率が低下する。近年では画素の高精細化が進展し、一画素あたりの面積が小さくなっているが、暗線の面積は画素を小さくしても変わらないため、画素内での暗線の占める面積割合が増加し、光利用効率の低下を防止することがより重要になっている。また、暗線が画素ごとに異なる位置に発生すると、表示の均一性についても低下する。

更に、画素の高精細化によって、一画素を複数のドメインに分割するために、より高精度な配向処理が求められるようになった。このため、配向処理方法として、光配向処理が用いられるようになっており、高い生産性を得るために、光配向処理に走査露光を利用することについて検討されている。

これに対して、特許文献１～３に記載の発明は、画素の高精細化に対応しつつ、暗線の発生を抑制して光利用効率を向上させることや、暗線の発生位置を制御して表示の均一性を向上させることにおいて、更なる検討の余地があった。

図３８は、特許文献３に記載された液晶表示パネルが備えるＴＦＴ基板の一例を示した平面模式図であり、図３９は、特許文献３に記載された液晶表示パネルにおける液晶層中の液晶分子の傾斜方位の一例を示した平面模式図である。図３８及び３９に示したように、特許文献３に記載された液晶表示パネル４００は、一画素内に２つの画素電極３１を有することから、ゲート信号線Ｇを画素の中央を横切るように配置し、暗線の遮光に利用することができた。また、容量配線ＣＳ１及びＣＳ２についても画素を横切るように配置されており、暗線の遮光に利用することができた。しかしながら、画素の透過率を向上するために、画素を横切る配線が設けられない場合について、暗線の発生を抑制して光利用効率を向上させることが求められていた。

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、光利用効率及び表示の均一性に優れた液晶表示パネル、及び、該液晶表示パネルの製造に好適な液晶表示パネルの製造方法及び光配向処理装置を提供することを目的とするものである。

本発明者らは、一画素を複数の配向領域（ドメイン）に分割した液晶表示パネルに関して、暗線を抑制する方法についてさまざまな検討を行い、ドメインの配列によって暗線の発生状況が変わることに着目した。そして、暗線の抑制に最適な特定の配列を見出したことにより、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達した。

すなわち、本発明の一態様は、複数の画素電極及び第一の光配向膜を有する第一基板と、液晶分子を含有する液晶層と、共通電極及び第二の光配向膜を有する第二基板とを順に有する液晶表示パネルであって、上記液晶分子の上記第一基板側の長軸端部を始点とし、上記第二基板側の長軸端部を終点とする配向ベクトルを定義したときに、上記第一の光配向膜及び上記第二の光配向膜は、単一の上記画素電極と重畳する表示単位領域内に、上記配向ベクトルが互いに異なる複数のドメインが形成されるように配向処理されており、上記複数のドメインは、上記表示単位領域の長手方向に沿って順に配置された第一のドメイン、第二のドメイン、第三のドメイン及び第四のドメインを含み、上記複数のドメインを平面視したときに、上記第一のドメインの配向ベクトルと上記第二のドメインの配向ベクトルとは、終点同士が向かい合い、かつ互いに直交する関係を有し、上記第二のドメインの配向ベクトルと上記第三のドメインの配向ベクトルとは、始点同士が向かい合い、かつ互いに平行な関係を有し、上記第三のドメインの配向ベクトルと上記第四のドメインの配向ベクトルとは、終点同士が向かい合い、かつ互いに直交する関係を有する液晶表示パネルである。

本発明の別の一態様は、上記液晶表示パネルを製造する方法であって、上記第一の光配向膜及び上記第二の光配向膜に対する上記配向処理は、光源から偏光子を介して斜め方向から偏光を照射することを含み、上記偏光子の偏光軸を４５°方位から－１５°～＋１５°の範囲で回転させ、上記第一の光配向膜及び上記第二の光配向膜の表面での露光方向を光の照射方向に対して、実質的に４５°方位に調整する液晶表示パネルの製造方法である。

本発明の更に別の一態様は、上記液晶表示パネルの製造方法に用いる光配向処理装置であって、光源、偏光子及び回転調整機構を有し、液晶表示パネル用基板に対して、上記光源から上記偏光子を介して光を照射する少なくとも一つの光照射機構と、上記液晶表示パネル用基板を載置するステージとを含み、上記液晶表示パネル用基板を移動させながら、又は、上記液晶表示パネル用基板に対して光源を移動させながら光を照射し、上記液晶表示パネル用基板に対する光の照射方向と、上記液晶表示パネル用基板の移動方向又は上記光源の移動方向が平行であり、上記回転調整機構は、上記偏光子の偏光軸を回転させ、上記液晶表示パネル用基板面での露光方向を上記光の照射方向に対して、実質的に４５°方位に調整する光配向処理装置である。

本発明によれば、光利用効率及び表示の均一性に優れた液晶表示パネル、及び、該液晶表示パネルの製造に好適な液晶表示パネルの製造方法及び光配向処理装置を提供することができる。

実施形態の液晶表示装置の一例を模式的に示した断面図である。実施形態の液晶層中の液晶分子の傾斜方位を模式的に示した平面図である。液晶分子の傾斜方位と配向ベクトルとの関係を説明する図である。第一のドメイン、第二のドメイン、第三のドメイン及び第四のドメインが、配向ベクトルの好適な関係を満たす画素の例を示した図である。実施形態の第一基板における電極・配線構造を模式的に示した平面図である。互いに隣接するドメインの配向ベクトルの角度差が１８０°である場合に対応し、（ａ）は、互いに隣接する２つのドメインの配向ベクトルに対応した液晶分子の傾斜方位を模式的に示した平面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示した２つのドメインにおける液晶分子の傾斜方位をより詳細に示した拡大図であり、（ｃ）は、（ａ）中の矢印Ａ及びＢに沿って存在する液晶分子の傾斜方位を抜き出して示した図である。互いに隣接するドメインの配向ベクトルの角度差が９０°である場合に対応し、（ａ）は、互いに隣接する２つのドメインの配向ベクトルに対応した液晶分子の傾斜方位を模式的に示した平面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示した２つのドメインにおける液晶分子の傾斜方位をより詳細に示した拡大図であり、（ｃ）は、（ａ）中の矢印Ａ及びＢに沿って存在する液晶分子の傾斜方位を抜き出して示した図である。第二のドメインと第三のドメインとの境界にスリットを配置した画素電極の例を示した平面模式図である。センタースリットがない場合とスリット幅４μｍのセンタースリットがある場合のドメイン境界領域の透過率のシミュレーション結果を比較して示したグラフである。液晶ダイレクタのヘッド側の電極端に微細スリットを配置した画素電極の例を示した平面模式図である。電極密度の低い領域を電極端に設けた画素電極の例を示す平面模式図であり、第二のドメインと第三のドメインとの境界に２本のセンタースリットを一列に配置した場合に対応する。電極密度の低い領域を電極端に設けた画素電極の例を示す平面模式図であり、第二のドメインと第三のドメインとの境界に２本のセンタースリットをずらして配置した場合に対応する。電極密度の低い領域を電極端に設けた画素電極の例を示す平面模式図であり、第二のドメインと第三のドメインとの境界に２本のセンタースリットをずらして配置した場合に対応する。電極密度の低い領域を電極端に設けた画素電極の例を示す平面模式図であり、第二のドメインと第三のドメインとの境界に１本のセンタースリットを配置した場合に対応する。電極密度の低い領域を電極端に設けた画素電極の例を示す平面模式図であり、第一及び第二の構成におけるスリット領域の形状の例を示している。電極密度の低い領域を電極端に設けた画素電極の例を示す平面模式図であり、第四の構成において、液晶ダイレクタのテール側のベタ電極をなくした例を示している。電極密度の低い領域を電極端に設けた画素電極の例を示す平面模式図であり、第四の構成において、第二のドメインと第三のドメインとの間のセンタースリット周辺にベタ電極を設けない例を示している。（ａ）は、図１７に示した画素電極の第二のドメインと第三のドメインの境界近傍について、長手方向に沿った電極密度の変化を示したグラフであり、（ｂ）は、図１６に示した画素電極の第二のドメインと第三のドメインの境界近傍について、長手方向に沿った電極密度の変化を示したグラフである。電極密度の低い領域を電極端に設けた画素電極の例を示す平面模式図であり、第四の構成において、第二のドメインと第三のドメインとの間のスリット周辺にベタ電極を設けず、電極繋ぎ部を設けた例を示している。電極密度の低い領域を電極端に設けた画素電極の例を示す平面模式図であり、第四の構成において、第二のドメインと第三のドメインとの間のスリット周辺にベタ電極を設けず、スリットに幅広部を設けた例を示している。電極密度の低い領域を電極端に設けた画素電極の例を示す平面模式図であり、第四の構成において、第二のドメインと第三のドメインとの間のスリット周辺にベタ電極を設けず、画素電極の左右でスリットの位置をずらした例を示している。電極密度の低い領域を電極端に設けた画素電極の例を示す平面模式図であり、第四の構成において、第二のドメインと第三のドメインとの間のスリット周辺にベタ電極を設けず、画素電極の左右でスリットの位置をずらし、電極繋ぎ部を設けた例を示している。電極密度の低い領域を電極端に設けた画素電極の例を示す平面模式図であり、第四の構成において、第二のドメインと第三のドメインとの間のスリット周辺にベタ電極を設けず、画素電極の枝部の延長線上にスリットを配置した例を示している。実施形態の液晶表示パネルの画素密度（単位：ｐｐｉ）とモード効率比との関係を示したグラフである。従来の４つのドメインを画素内に有する液晶表示パネルにおける液晶層中の液晶分子の傾斜方位を模式的に示した平面図である。ドメイン境界条件Ｂ及びＤにおけるスリットの幅と暗線部の透過率（相対透過率比）の関係を示したグラフである。ドメイン境界条件Ａ、Ｃ及びＥにおけるスリットの幅と暗線部の透過率（相対透過率比）の関係を示したグラフである。配向パターンと暗線パターンの関係を模式的に示した平面図である。画素ピッチ１８０μｍの場合における微細スリット間の電極幅（Ｌｉｎｅ）及び微細スリットの幅（Ｓｐａｃｅ）とモード効率との関係を示したテーブルである。画素ピッチ２４０μｍの場合における微細スリット間の電極幅（Ｌｉｎｅ）及び微細スリットの幅（Ｓｐａｃｅ）とモード効率との関係を示したテーブルである。画素ピッチ１８０μｍの場合における微細スリットの幅（Ｓｐａｃｅ）とモード効率との関係を示したグラフである。画素ピッチ２４０μｍの場合における微細スリットの幅（Ｓｐａｃｅ）とモード効率との関係を示したグラフである。画素ピッチ１８０μｍの場合における微細スリットのピッチ（Ｌｉｎｅ＋Ｓｐａｃｅ）とモード効率との関係を示したグラフである。画素ピッチ２４０μｍの場合における微細スリットのピッチ（Ｌｉｎｅ＋Ｓｐａｃｅ）とモード効率との関係を示したグラフである。光配向処理装置の一例を示した概要図である。光配向処理装置を用いた光配向処理工程の一例を示した図である。（ａ）は、ＴＦＴ基板（第一基板）の光配向処理を説明する図であり、（ｂ）は、ＣＦ基板（第二基板）の光配向処理を説明する図であり、（ｃ）は、光配向処理されたＴＦＴ基板及びＣＦ基板の貼合わせ後の状態を説明する図である。特許文献３に記載された液晶表示パネルが備えるＴＦＴ基板の一例を示した平面模式図である。特許文献３に記載された液晶表示パネルにおける液晶層中の液晶分子の傾斜方位の一例を示した平面模式図である。

以下、本発明の実施形態について説明する。本発明は、以下の実施形態に記載された内容に限定されるものではなく、本発明の構成を充足する範囲内で、適宜設計変更を行うことが可能である。

図１は、実施形態の液晶表示装置の一例を模式的に示した断面図である。図１に示したように、本実施形態の液晶表示装置は、液晶表示パネル１００と、液晶表示パネル１００の背面側に配置されたバックライト１１０を有する。液晶表示パネル１００は、背面側偏光板２０と、複数の画素電極３１及び第一の光配向膜７１を有する第一基板３０と、液晶分子４１を含有する液晶層４０と、第二の光配向膜７２及び対向電極（共通電極）５１を有する第二基板５０と、表示面側偏光板６０とを順に有する。また、液晶表示パネル１００は、液晶層４０の周囲にシール材８０を有する。

まず、本実施形態の液晶表示装置の表示方式について説明する。本実施形態の液晶表示装置では、バックライト１１０から液晶表示パネル１００に光が入射し、液晶層４０の液晶分子４１の配向を切り換えることによって、液晶表示パネル１００を透過する光の量が制御される。液晶分子４１の配向の切り替えは、複数の画素電極３１及び対向電極５１によって液晶層４０に電圧を印加することによって行われる。液晶層４０への印加電圧が閾値未満のとき（電圧無印加時）には、第一の光配向膜７１及び第二の光配向膜７２によって、液晶分子４１の初期配向が規制される。

電圧無印加時に、液晶分子４１は、第一基板３０及び第二基板５０に対して実質的に垂直に配向する。ここで、「実質的に垂直」であるとは、第一の光配向膜７１及び第二の光配向膜７２に施された光配向処理によって、液晶分子４１が、第一基板３０及び第二基板５０に対してわずかに傾斜して配向していることを意味する。電圧無印加時における液晶分子４１の第一基板３０及び第二基板５０に対するプレチルト角は、８５°以上９０°未満であることが好ましい。画素電極３１及び対向電極５１間に電圧が印加されると液晶層４０内に縦電界が発生し、液晶分子４１は、電圧無印加時から傾斜方位を維持しつつ、更に大きく傾斜配向する。

本明細書では、液晶分子４１の傾斜方位について、適宜、液晶表示パネル１００を平面視して、液晶分子４１の第一基板３０側の長軸端部を始点（以下、「液晶ダイレクタのテール」ともいう）４１Ｓとし、第二基板５０側の長軸端部を終点（以下、「液晶ダイレクタのヘッド」ともいう）４１Ｔとしたときの配向ベクトルを用いて説明する。なお、配向ベクトルは、第一基板３０側の第一の光配向膜７１に対する液晶分子４１の傾斜方位と同一方向となり、第二基板５０側の第二の光配向膜７２に対する液晶分子４１の傾斜方位とは逆方向となる。本明細書中、「方位」とは、基板面に投影して見たときの向きをいい、基板面の法線方向からの傾斜角（極角、プレチルト角）は考慮されない。また、液晶分子４１は、電圧無印加時には実質的に垂直に配向（わずかに傾斜配向）しており、電圧印加時に、電圧無印加時の傾斜方位を維持しつつ大きく傾斜配向することから、配向ベクトルの始点４１Ｓ及び終点４１Ｔは、液晶層４０に電圧を印加した状態で確認すればよい。

第一の光配向膜７１及び第二の光配向膜７２は、光配向膜材料を成膜し、光配向処理を行うことによって液晶分子４１を特定方向に配向させる機能を発現させたものである。光配向膜材料は、紫外光、可視光等の光（電磁波）が照射されることによって構造変化を生じ、その近傍に存在する液晶分子４１の配向を規制する性質（配向規制力）を発現する材料や、配向規制力の大きさ及び／又は向きが変化する材料全般を意味する。光配向膜材料は、例えば、二量化（二量体形成）、異性化、光フリース転移、分解等の反応が光照射によって起こる光反応部位を含む。光照射によって二量化及び異性化する光反応部位（官能基）としては、例えば、シンナメート、シンナモイル、４－カルコン、クマリン、スチルベン等が挙げられる。光照射によって異性化する光反応部位（官能基）としては、例えば、アゾベンゼン等が挙げられる。光照射によって光フリース転移する光反応部位としては、例えば、フェノールエステル構造等が挙げられる。光照射によって分解する光反応部位としては、例えば、１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸－１，２：３，４－二無水物（ＣＢＤＡ）等のシクロブタン環を含む二無水物等が挙げられる。また、光配向膜材料は、垂直配向（Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードで使用可能な垂直配向性を示すものが好ましい。光配向膜材料としては、例えば、光反応部位を含むポリアミド（ポリアミック酸）、ポリイミド、ポリシロキサン誘導体、メタクリル酸メチル、ポリビニルアルコール等が挙げられる。

図２は、実施形態の液晶層中の液晶分子の傾斜方位を模式的に示した平面図である。図２に示したように、本実施形態の液晶表示パネル１００は、複数の画素１０がマトリクス状に配列されている。ここで、画素とは、単一の画素電極３１と重畳する表示単位領域を意味し、Ｒ（赤）のカラーフィルタと重畳する画素、Ｇ（緑）のカラーフィルタと重畳する画素、及び、Ｂ（青）のカラーフィルタと重畳する画素がそれぞれ設けられている。図２中、点線で囲んだ部分が一画素である。本実施形態では、列ごとに赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の順でカラーフィルタが配置された第二基板５０が用いられている。

画素１０内には、配向ベクトルが互いに異なる複数のドメインが設けられている。これらのドメインは、第一の光配向膜７１及び第二の光配向膜７２に対する光配向処理を互いに異ならせることによって形成できる。液晶層４０への電圧印加時に、液晶分子４１は、複数のドメインの各配向ベクトルと一致するように傾斜配向する。

図２では、液晶分子４１の傾斜方位を分かりやすく示すために、ピン（円錐体）によって液晶分子４１を表しており、円錐の底面が第二基板５０側（観察者側）を表し、円錐の頂点が第一基板３０側を表す。図３は、液晶分子の傾斜方位と配向ベクトルとの関係を説明する図である。

図２に示したように、複数のドメインは、単一の画素電極３１と重畳する表示単位領域（画素）の長手方向に沿って順に配置された第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ及び第四のドメイン１０ｄを含む。良好な視野角特性を得る観点から、第一のドメイン１０ａの配向ベクトル、第二のドメイン１０ｂの配向ベクトル、第三のドメイン１０ｃの配向ベクトル及び第四のドメイン１０ｄの配向ベクトルは、９０°ずつ異なる方向を向いた４つの配向ベクトルの組み合わせとされている。また、第一のドメイン１０ａの配向ベクトルと第二のドメイン１０ｂの配向ベクトルとは、終点同士が向かい合い、かつ互いに直交する（略９０°の角度をなす）関係（以下、「ドメイン境界条件Ａ」ともいう）を有する。第二のドメイン１０ｂの配向ベクトルと第三のドメイン１０ｃの配向ベクトルとは、始点同士が向かい合い、かつ互いに平行な（約１８０°の角度をなす）関係（以下、「ドメイン境界条件Ｂ」ともいう）を有する。第三のドメイン１０ｃの配向ベクトルと第四のドメイン１０ｄの配向ベクトルとは、終点同士が向かい合い、かつ互いに直交する（略９０°の角度をなす）関係（ドメイン境界条件Ａ）を有する。なお、各ドメインの配向ベクトルは、平面視でドメイン内の中央に位置し、かつ断面視で液晶層の中央に位置する液晶分子４１の向きによって決めることができる。また、本明細書において、「直交する（略９０°の角度をなす）」とは、本発明の効果が得られる範囲内において実質的に直交していればよく、具体的には、７５～１０５°の角度をなし、好ましくは、８０°～１００°の角度をなし、より好ましくは、８５°～９５°の角度をなすことを意味する。本明細書において、「平行な（約１８０°の角度をなす）」とは、本発明の効果が得られる範囲内において実質的に平行であればよく、具体的には、－１５～＋１５°の角度をなし、好ましくは、－１０°～＋１０°の角度をなし、より好ましくは、－５°～＋５°の角度をなすことを意味する。

図４は、第一のドメイン、第二のドメイン、第三のドメイン及び第四のドメインが、配向ベクトルの好適な関係を満たす画素の例を示した図である。図４にしたように、配向ベクトルの好適な関係を満たす画素としては、図４（ａ）に示した画素１０（図２と同じ）の他、図４（ｂ）に示した画素１１が挙げられる。

なお、第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ及び第四のドメイン１０ｄにおいて、液晶分子４１の基板間ツイスト角は、４５°以下であることが好ましく、より好ましくは略０°である。すなわち、第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ及び第四のドメイン１０ｄにおいて、第一基板３０側の第一の光配向膜７１に対する液晶分子４１の傾斜方位と、第二基板５０側の第二の光配向膜７２に対する液晶分子４１の傾斜方位とがなす角度は、４５°以下であることが好ましく、より好ましくは略０°である。

次に、本実施形態の液晶表示装置の構成の概要について説明する。第一基板３０は、例えば、アクティブマトリクス基板（ＴＦＴ基板）であってもよい。ＴＦＴ基板としては、液晶表示パネルの分野において通常使用されるものを用いることができる。図５は、実施形態の第一基板における電極・配線構造を模式的に示した平面図である。ＴＦＴ基板を平面視したときの構成としては、透明基板上に、複数本の平行なゲート信号線Ｇ１、Ｇ２；ゲート信号線に対して直交する方向に伸び、かつ互いに平行に形成された複数本のソース信号線Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４；ゲート信号線とソース信号線との交点に対応して配置されたＴＦＴ１３等のアクティブ素子；ゲート信号線とソース信号線とによって区画された領域にマトリクス状に配置された画素電極３１等が設けられた構成が挙げられる。ゲート信号線Ｇと平行に、容量配線が配置されてもよい。

上記ＴＦＴとしては、酸化物半導体を用いてチャネルを形成したものが好適に用いられる。上記酸化物半導体としては、例えば、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）、亜鉛（Ｚｎ）、及び、酸素（Ｏ）から構成される化合物（Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｔｉｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、及び、酸素（Ｏ）から構成される化合物（Ｉｎ－Ｔｉｎ－Ｚｎ－Ｏ）、又は、インジウム（Ｉｎ）、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、及び、酸素（Ｏ）から構成される化合物（Ｉｎ－Ａｌ－Ｚｎ－Ｏ）等を用いることができる。

図５に示した単一の画素電極３１が、第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ及び第四のドメイン１０ｄと重畳して配置される。よって、液晶層４０への電圧印加時には、第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ及び第四のドメイン１０ｄにおいて液晶層４０の厚み方向に同じ大きさの電界が印加される。

第二基板５０は、対向電極５１を有し、例えば、カラーフィルタ基板（ＣＦ基板）であってもよい。上記カラーフィルタ基板としては、液晶表示パネルの分野において通常使用されるものを用いることができる。

カラーフィルタ基板の構成としては、透明基板上に、格子状に形成されたブラックマトリクス、格子すなわち画素の内側に形成されたカラーフィルタ等が設けられた構成が挙げられる。上記ブラックマトリクスは、画素の境界と重なるように一画素ごとに格子状に形成されてもよく、更に、一画素の中央を短手方向に沿って横切るように、半画素ごとに格子状に形成されてもよい。暗線の発生領域に重なるようにブラックマトリクスを形成することで、暗線が観察され難くすることができる。

対向電極５１は、液晶層４０を介して、画素電極３１と向かい合うように配置されている。対向電極５１と画素電極３１との間で縦電界を形成して、液晶分子４１を傾けることで、表示を行うことができる。カラーフィルタは、例えば、列ごとに、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の順で配置されてもよいし、黄色（Ｙ）、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の順で配置されてもよいし、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）順で配置されてもよい。

対向電極５１は、面状電極であることが好ましい。対向電極５１は、透明電極であってもよく、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等の透明導電材料、又は、それらの合金で形成することができる。

本実施形態の液晶表示パネル１００は、液晶層４０の周囲を囲むように設けられたシール材８０によって第一基板３０及び第二基板５０が貼り合わされ、液晶層４０が所定の領域に保持される。シール材８０としては、例えば、無機フィラー又は有機フィラー及び硬化剤を含有するエポキシ樹脂等を用いることができる。

また、本実施形態において、ポリマー支持配向（ＰＳＡ：Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）技術が用いられてもよい。ＰＳＡ技術は、光重合性モノマーを含有させた液晶組成物を第一基板３０及び第二基板５０の間に封入し、その後に液晶層４０に光を照射して光重合性モノマーを重合させることにより、第一の光配向膜７１及び第二の光配向膜７２の表面に重合体（ポリマー）を形成し、この重合体により液晶の初期傾斜（プレチルト）を固定化するものである。

背面側偏光板２０の偏光軸と表示面側偏光板６０の偏光軸は、互いに直交してもよい。なお、偏光軸は、偏光板の吸収軸であってもよく、偏光板の透過軸であってもよい。背面側偏光板２０及び表示面側偏光板６０は、典型的には、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムに、二色性を有するヨウ素錯体等の異方性材料を、吸着配向させたものが挙げられる。通常は、ＰＶＡフィルムの両面にトリアセチルセルロースフィルム等の保護フィルムをラミネートして実用に供される。なお、背面側偏光板２０と第一基板３０との間、及び、表示面側偏光板６０と第二基板５０との間には、位相差フィルム等の光学フィルムが配置されていてもよい。

バックライト１１０としては、可視光を含む光を発するものであれば特に限定されず、可視光のみを含む光を発するものであってもよく、可視光及び紫外光の両方を含む光を発するものであってもよい。液晶表示装置によるカラー表示が可能とするためには、白色光を発するバックライトが好適に用いられる。バックライトの種類としては、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）が好適に用いられる。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長３８０ｎｍ以上、８００ｎｍ未満の光（電磁波）を意味する。

本実施形態の液晶表示装置は、液晶表示パネル１００及びバックライト１１０の他、ＴＣＰ（テープ・キャリア・パッケージ）、ＰＣＢ（プリント配線基板）等の外部回路；視野角拡大フィルム、輝度向上フィルム等の光学フィルム；ベゼル（フレーム）等の複数の部材により構成されるものであり、部材によっては、他の部材に組み込まれていてもよい。既に説明した部材以外の部材については特に限定されず、液晶表示装置の分野において通常使用されるものを用いることができるので、説明を省略する。

次に、本実施形態の液晶表示パネル１００を備えることにより得られる効果について説明する。本実施形態の液晶表示パネル１００は、複数のドメインを含む画素を用いることで視野角特性に優れており、かつ、暗線の発生が抑制され、光利用効率の高いものである。複数のドメインを含む画素を用いる場合、互いに隣接するドメインの境界では、液晶分子４１の配向が不連続となる領域が発生することがある。このような領域では、液晶分子４１を意図した方向に配向させることができないことから、表示時に光を充分に透過させることができず、暗部として認識されてしまう。線状に形成された暗部は、暗線と呼ばれる。暗線が発生すると、画素の輝度が低下するので、液晶表示パネルの光利用効率が低下することになる。また、画素ごとに暗線が異なる位置に発生すると、表示の均一性が低下することになる。これに対して、本実施形態の液晶表示パネル１００は、画素内の複数のドメインの配向ベクトルを好ましい関係に制御して表示を行う。

（１）二重暗線の数の抑制
本実施形態の液晶表示パネル１００では、一画素中に存在する３ヶ所の隣接ドメイン間の境界のうち、２ヶ所の隣接ドメイン間の境界において、互いに隣接するドメインの配向ベクトルの角度差が９０°である。これにより、画素内に発生する二重暗線の数を抑制し、光利用効率及び表示の均一性を向上することができる。二重暗線の数が減少する原理について、以下に説明する。

まず、図３８に示した従来の液晶表示パネル４００では、一画素中に存在する３ヶ所の隣接ドメイン間の境界のうち、２ヶ所の隣接ドメイン間の境界において、互いに隣接するドメインの配向ベクトルの角度差が１８０°であった。この場合、境界における液晶ダイレクタの回転角度が１８０°となるので、境界近傍において二重暗線が発生していた。図６は、互いに隣接するドメインの配向ベクトルの角度差が１８０°である場合に対応し、（ａ）は、互いに隣接する２つのドメインの配向ベクトルに対応した液晶分子の傾斜方位を模式的に示した平面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示した２つのドメインにおける液晶分子の傾斜方位をより詳細に示した拡大図であり、（ｃ）は、（ａ）中の矢印Ａ及びＢに沿って存在する液晶分子の傾斜方位を抜き出して示した図である。図６（ｂ）及び（ｃ）において、表示の際に暗部となる液晶分子は、着色して示されている。液晶分子の傾斜方位が、背面側偏光板２０及び表示面側偏光板６０の互いに直交する吸収軸のいずれかと平行になる場合、当該液晶分子は暗部として認識されることになる。図６（ｂ）及び（ｃ）に示したように、境界と平行な方向に伸びる２本の暗線が、境界近傍に発生する。この２本の暗線が二重暗線と呼ばれるものである。

二重暗線が発生すると、光利用効率が低下するため、バックライトの輝度が同じ場合には、表示輝度が低下することになり、表示輝度を確保するためにバックライトの輝度をより高くする場合には、消費電力が大きくなってしまう。また、二重暗線は、厳密には２本の別々の暗線ではなく、Ｘ形の暗線を隣接ドメイン間の境界に沿って押し潰したような形状を有するものであり、Ｘ形の中心点（交点）の位置が定まらないために、画素ごとに位置や大きさが異なりやすい。このため、二重暗線は、画素ごとの光学特性を不均一にし、その結果、パネル全面で見た場合の表示の均一性を低下させてしまう。二重暗線の発生ばらつきは、互いに隣接するドメインの境界部分の配向が、互いに隣接するドメインの配向の関係性等に依存していることに起因する。このような二重暗線の発生ばらつきについては、Ｘ形の中心点（交点）を位置決めする（固定する）ための構造を設けることで防止することができ、例えば、後述するドメイン境界に対して略平行に延びる部分を有するスリット（センタースリット）の形状や配置パターンを利用することで、暗線の形状を安定化することができる。

画素内に発生する二重暗線の数は少ないことが望ましいが、図３９に示した従来の液晶表示パネル４００は、一画素中に存在する３ヶ所の隣接ドメイン間の境界のうち、２ヶ所の隣接ドメイン間の境界において、互いに隣接するドメインの配向ベクトルの角度差が１８０°であったため、画素ごとに２本の二重暗線が発生してしまうものであった。

これに対して、本実施形態の液晶表示パネル１００では、一画素中に存在する３ヶ所の隣接ドメイン間の境界のうち、２ヶ所の隣接ドメイン間の境界において、互いに隣接するドメインの配向ベクトルの角度差が９０°となるように、ドメインの配列が工夫されている。すなわち、第一のドメイン１０ａと第二のドメイン１０ｂとの境界、及び、第三のドメイン１０ｃと第四のドメイン１０ｄとの境界では、液晶ダイレクタの回転角度が９０°に制御され、二重暗線の発生は抑制される。図７は、互いに隣接するドメインの配向ベクトルの角度差が９０°である場合に対応し、（ａ）は、互いに隣接する２つのドメインの配向ベクトルに対応した液晶分子の傾斜方位を模式的に示した平面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示した２つのドメインにおける液晶分子の傾斜方位をより詳細に示した拡大図であり、（ｃ）は、（ａ）中の矢印Ａ及びＢに沿って存在する液晶分子の傾斜方位を抜き出して示した図である。図７（ｂ）及び（ｃ）においても、二重暗線の発生部に存在する液晶分子は、着色して示されている。図７から明らかなように、互いに隣接するドメインの配向ベクトルの角度差が９０°であれば、１８０°である場合と比べて、液晶分子の傾斜方位が、背面側偏光板２０及び表示面側偏光板６０の互いに直交する吸収軸のいずれかと平行になることが少なく、二重暗線の発生を抑制できる。

本実施形態の液晶表示パネル１００では、一画素中に存在する３ヶ所の隣接ドメイン間の境界のうち、第二のドメイン１０ｂと第三のドメイン１０ｃとの境界のみにおいて、互いに隣接するドメインの配向ベクトルの角度差が１８０°であるため、画素ごとの二重暗線の発生数は１本に抑制できる。

（２）二重暗線の実質的解消
本実施形態の液晶表示パネル１００では、画素電極３１に、ドメイン境界に対して略平行に延びる部分を有するスリットを設けることによって、第二のドメイン１０ｂと第三のドメイン１０ｃとの境界に生じる二重暗線についても実質的に消失させることができる。図８は、第二のドメインと第三のドメインとの境界にスリットを配置した画素電極の例を示した平面模式図である。図８に示したように、第二のドメイン１０ｂと第三のドメイン１０ｃとの境界にスリット（以下、「センタースリット」ともいう）３３を配置すれば、第二のドメイン１０ｂと第三のドメイン１０ｃとの境界近傍に、センタースリット３３に起因する電界歪みが発生することになる。その結果、第二のドメイン１０ｂと第三のドメイン１０ｃとの境界における連続した配向変化を意図的に９０°以下に抑制することができ、二重暗線を実質的に解消できる。また、センタースリット３３の両側に繋ぎ部（接続部）３４を設けることで、画素電極３１が２つに分断されることを防止できる。

なお、本明細書において、「二重暗線の実質的解消」とは、二重暗線が発生していることが明確には視認されないことを意味し、二重暗線がすべて消失している場合や、二重暗線を構成する２本の暗線のうち、１本の暗線が消失し、残る１本の暗線のみが視認される場合のように、二重暗線が解消された状態だけでなく、二重暗線を構成する２本の暗線のうち、１本の暗線が視認されにくくなり、残る１本の暗線のみが視認される状態についても包含する概念である。センタースリット３３を設けた場合には、センタースリット３３が細い（スリット幅が小さい）と、二重暗線を構成する暗線を消失させるまでには至らないことがあるものの、２本の暗線のうち、少なくとも１本の暗線が細くなることで、ドメイン境界領域において、センタースリット３３を設けない場合よりも高い透過率が得られることから、二重暗線の実質的解消がされていると評価できる。図９は、センタースリット３３がない場合とスリット幅４μｍのセンタースリット３３がある場合のドメイン境界領域の透過率のシミュレーション結果を比較して示したグラフである。図９の横軸は、図８中の「Ａ－Ａ´」に沿ったライン上での、センタースリット３３中心からの距離を表している。図９の縦軸は、画素中心部分の透過率を１００％としたときの相対輝度比を表している。図９に示したように、センタースリットがある場合には、暗線は２本あるものの、図９の左側の第一の暗線の幅が大幅に細くなっており、センタースリット３３中心から－３μｍ近傍の透過率が大幅に改善している。一方、センタースリット３３が太い（スリット幅が大きい）と、二重暗線が解消されるものの、残る１本の暗線の幅が太くなることで、ドメイン境界領域において、センタースリット３３を設けない場合よりも透過率が低くなる場合もある。すなわち、センタースリット３３の幅には最適な値が存在し、本実施形態のドメイン配列では、第二のドメイン１０ｂと第三のドメイン１０ｃとの境界に設けられるセンタースリット３３の幅は、好ましくは１～８μｍ、より好ましくは２．５～６μｍである。

一方、図５に示した形状の画素電極３１は、画素の周囲に電極端（電極エッジ）を有するが、第二のドメイン１０ｂと第三のドメイン１０ｃとの境界には電極端を有していないので、画素電極３１への電圧印加時に第二のドメイン１０ｂと第三のドメイン１０ｃとの境界近傍に電界歪みを生じさせることはできない。

（３）画素の周囲の暗線の解消
画素内に発生する暗線は、二重暗線だけではなく、画素の周囲（電極端近傍）にも暗線が発生する場合がある。このような暗線についても、光利用効率を向上させる観点から、消失させることが好ましい。画素の周囲の暗線は、液晶ダイレクタのヘッドが電極端（電極エッジ）側を向いている箇所で発生する。そのような箇所では、電極端の電界歪みによる液晶分子の配向方向と、電極内の光配向処理による配向方向が略１３５°異なるため、両者の配向が連続的に繋がる過程で、背面側偏光板２０及び表示面側偏光板６０の互いに直交する吸収軸と液晶分子の長軸が平行（又は垂直）になる部分が形成され、その部分が暗線として認識される。

画素の周囲の暗線の解消する方法としては、画素電極３１の少なくとも端部に、微細スリット（ファインスリット）を設けることが挙げられる。この方法によれば、画素電極３１の端部の液晶分子の配向歪みを少なくし、電界端部により近くまで液晶を所望の方向に配向させることができ、暗線の発生を抑制できる。微細スリットとは、所望の液晶の配向方向（配向ベクトル）と平行な方向に延びるスリット部分と電極部分を一組として、複数組連ねたものである。なお、微細スリットのスリット部分の各々は、センタースリット３３よりも細くされていてもよく、センタースリット３３と同程度の幅を有してもよく、センタースリット３３よりも太くてもよい。

微細スリット（ファインスリット）の具体例としては、以下の第一～第四の構成が挙げられる。
第一の構成では、液晶ダイレクタのヘッド側の電極端に微細スリットを設ける。図１０は、液晶ダイレクタのヘッド側の電極端に微細スリットを配置した画素電極の例を示した平面模式図である。

第二の構成では、微細スリット３６は、電極端だけでなく、ドメイン境界条件Ａを満たす隣接ドメインの境界に沿って設けられ、かつ、隣接ドメインの境界はベタ電極で構成される。第二の構成によれば、微細スリット３６が有する液晶を所望の配向方向に配向させようとする作用により、ドメイン境界付近の配向歪を抑制でき、ドメイン境界条件Ａを満たす隣接ドメインの境界において配向変化の領域が狭くなり暗線を細くできる。隣接ドメインの境界をベタ電極とするのは、電界の傾斜と液晶分子４１の配向の傾斜角（極角）成分を整合させるためである。なお、本明細書において、「電界の傾斜」とは、電極密度の変化等により生じる電界の変化であって、基板表面に垂直な面内の成分を有しており、液晶分子の傾斜角（極角）に影響を与える電界を指す。これに対して、微細スリット（ファインスリット）３６が生じさせる電界の変化は「電界歪」と呼ぶ。微細スリット３６は、スリット部分に平行な溝状の電位を生じさせ、基板表面に平行でスリット部分に垂直な横電界成分を有している。この横電界成分により液晶分子の配向方向が変化し、液晶分子はスリット部分と平行な方向に配向する。

第三の構成では、電極端から電極内側（中央）に向かい電極の配置密度を高めるように微細スリット３６を設ける。第三の構成によれば、微細スリット３６を配置した領域と配置しない領域の界面での不連続な電界変化を抑制し、電界の変化を滑らかにできるので、液晶の応答性能、指押し復帰性能等を向上できる。加えて、画素電極３１内で液晶層４０への印加電圧の異なる領域を形成することができるため、視野角改善効果も得られる。

第四の構成では、電極全域に渡って微細スリット３６を設ける。第四の構成によれば、画素電極３１内での不連続な電界変化をなくすことができ、液晶の応答性能、指押し復帰性能等を向上できる。

第一～第四の構成に関し、電極密度の低い領域を電極端に設けた画素電極の例を示す平面模式図を図１１～１７及び１９～２３に示した。図１１は、第二のドメインと第三のドメインとの境界に２本のセンタースリット３３を一列に配置した場合に対応する。図１２及び１３は、第二のドメインと第三のドメインとの境界に２本のセンタースリット３３をずらして配置した場合に対応する。図１４は、第二のドメインと第三のドメインとの境界に１本のセンタースリット３３を配置した場合に対応する。

図１１～１４に示した各画素電極と第一～第四の構成との対応関係は、以下の通りである。
図１１（ａ）：第一の構成
図１１（ｂ）：第一及び第二の構成
図１１（ｃ）：第一及び第三の構成
図１１（ｄ）：第一、第二及び第三の構成
図１１（ｅ）：第一及び第四の構成

図１２（ａ）：第一の構成
図１２（ｂ）：第一及び第二の構成
図１２（ｃ）：第一及び第三の構成
図１２（ｄ）：第一、第二及び第三の構成
図１２（ｅ）：第一及び第四の構成

図１３（ａ）：第一の構成
図１３（ｂ）：第一及び第二の構成
図１３（ｃ）：第一及び第三の構成
図１３（ｄ）：第一、第二及び第三の構成
図１３（ｅ）：第一及び第四の構成

図１４（ａ）：第一の構成
図１４（ｂ）：第一及び第二の構成
図１４（ｃ）：第一及び第三の構成
図１４（ｄ）：第一、第二及び第三の構成
図１４（ｅ）：第一及び第四の構成

図１５は、第一及び第二の構成におけるスリット領域の形状の例を示している。図１６は、第四の構成において、液晶ダイレクタのテール側のベタ電極をなくした例を示している。図１６に示した画素電極３１によれば、微細スリット３６の効果を高め、モード効率をより向上させることができる。

図１７は、第四の構成において、第二のドメインと第三のドメインとの間のセンタースリット３３周辺にベタ電極を設けない例を示している。図１８（ａ）は、図１７に示した画素電極の第二のドメインと第三のドメインの境界近傍について、長手方向に沿った電極密度の変化を示したグラフであり、図１８（ｂ）は、図１６に示した画素電極の第二のドメインと第三のドメインの境界近傍について、長手方向に沿った電極密度の変化を示したグラフである。図１８（ａ）及び（ｂ）のグラフに示したように、図１６に示した画素電極は、長手方向に沿って電極密度が増加、減少、増加と変化するため、電界の傾斜と液晶分子配向の傾斜角（極角）成分が整合せず、液晶分子の配向が不安定になるおそれがある。図１７に示した画素電極によれば、センタースリット３３周辺でセンタースリット３３中心に向かって電極密度を単調減少させることができ、電界の傾斜と液晶分子配向の傾斜角（極角）成分を整合させ、液晶分子の配向を安定化することができる。

図１９は、第四の構成において、第二のドメインと第三のドメインとの間のセンタースリット３３周辺にベタ電極を設けず、電極繋ぎ部３７を設けた例を示している。図１９に示した画素電極によれば、電極切れ等による歩留まり悪化を防止することができる。加えて、センタースリット３３の長さが短くなることで、暗線の形状を安定化する効果もある。

図２０は、第四の構成において、第二のドメインと第三のドメインとの間のセンタースリット３３周辺にベタ電極を設けず、センタースリット３３に幅広部３８を設けた例を示している。図２０（ａ）に示した画素電極は、センタースリット３３の中央に幅広部３８を設けたものである。図２０（ｂ）に示した画素電極は、電極繋ぎ部３７及び幅広部３８を複数設けたものである。図２０に示した画素電極によれば、暗線の形状を安定化することができる。

図２１は、第四の構成において、第二のドメインと第三のドメインとの間のセンタースリット３３周辺にベタ電極を設けず、画素電極の左右でセンタースリット３３の位置をずらした例を示している。図２１に示した画素電極は、左右のセンタースリット３３が接続する部分に幅広部３８が設けられている。図２１に示した画素電極によれば、暗線の形状を安定化することができる。

図２２は、第四の構成において、第二のドメインと第三のドメインとの間のセンタースリット３３周辺にベタ電極を設けず、画素電極の左右でセンタースリット３３の位置をずらし、電極繋ぎ部３７を設けた例を示している。図２２に示した画素電極は、左右のセンタースリット３３が接続する部分に電極繋ぎ部３７が設けられている。図２２に示した画素電極によれば、暗線の形状を安定化することができる。

図２３は、第四の構成において、第二のドメインと第三のドメインとの間のセンタースリット３３周辺にベタ電極を設けず、画素電極の枝部３９の延長線上に微細スリット３６を配置した例を示している。図２３に示した画素電極によれば、生産歩留まりを向上することができる。なお、図２３には、第二のドメインと第三のドメインとの間のみ、画素電極の枝部３９の延長線上に微細スリット３６を配置しているが、画素電極の枝部３９の延長線上に微細スリット３６を配置する構成は、３ヶ所のドメイン境界部分（第一のドメインと第二のドメインとの間、第二のドメインと第三のドメインとの間、及び、第三のドメインと第四のドメインとの間）の少なくとも一ヶ所に設けることで、歩留まり改善効果を期待できる。上記構成のように、ドメイン境界部分でスリット同士や電極同士が向かい合わない構成にすることで、ドメイン境界部分にべた電極がある場合には、べた電極の切れを抑制でき、境界部分にべた電極がない場合は電極つながりを抑制する効果が得られる。すなわち、ドメイン境界部分の電極形状の欠陥を抑制する効果が得られる。

次に、本実施形態の液晶表示パネル１００に関して実施した評価試験について説明する。

（Ａ）解像度について
本実施形態の液晶表示パネル１００は、画素密度（解像度）が９０ｐｐｉ以上であることが好ましい。図２４は、実施形態の液晶表示パネルの画素密度（単位：ｐｐｉ）とモード効率比との関係を示したグラフであり、図２５は、従来の４つのドメインを画素内に有する液晶表示パネルにおける液晶層中の液晶分子の傾斜方位を模式的に示した平面図である。ここで、モード効率比とは、図２５の液晶表示パネル３００と比べたときのモード効率（光透過効率）を意味し、下記式で表される。
モード効率比＝実施形態の液晶表示パネル１００のモード効率／図２５の液晶表示パネル３００のモード効率
図２４のグラフは、実施形態の液晶表示パネル１００及び図２５の液晶表示パネル３００について、それぞれ３５ｐｐｉ（画素ピッチ：７２０μｍ）、７１ｐｐｉ（画素ピッチ：３６０μｍ）、１０６ｐｐｉ（画素ピッチ：２４０μｍ）、１４１ｐｐｉ（画素ピッチ：１８０μｍ）としたサンプルを作製し、各サンプルのモード効率を測定して作成したものである。図２４から分かるように、本実施形態の液晶表示パネル１００は、図２５に示した液晶表示パネル３００と比べると、高解像度であるほど高いモード効率比が得られる。画素密度（解像度）が９０ｐｐｉ以上であるときには、モード効率比が１２５％（１．２５倍）となる。

（Ｂ）隣接ドメインの配向ベクトルと暗線の関係について
モード効率の最適化のため、ドメインの配向ベクトルと隣接ドメイン間又は画素端部に生じる暗線との関係について、以下の方法で評価した。

（測定手順）
１．偏光子をクロスニコルに設定し、評価用セルに周波数３０Ｈｚの方形波を７Ｖ印加した状態で、画素の顕微鏡写真を撮影した。撮影条件は、対物レンズ：１０倍、ＩＳＯ感度：ＩＳＯ２００、露出時間：１／４秒とした。
２．撮影した画像をガンマ変換により、階調と輝度の直線性が得られるように変換した。
３．画素写真から、画素の長軸方向（暗線に対して垂直な方向）の輝度プロファイルをとり、暗線部分のプロファイルを抜き出して合計輝度を算出した。
４．各種暗線に対して輝度評価を行い、ドメイン境界条件Ａにおける暗線の輝度を１として相対輝度比を算出した。

（評価条件）
・隣接ドメインの配向ベクトルの終点同士が向かい合い、かつ９０°の角度をなす場合（ドメイン境界条件Ａ）
・隣接ドメインの配向ベクトルの始点同士が向かい合い、かつ１８０°の角度をなす場合（ドメイン境界条件Ｂ）
・隣接ドメインの配向ベクトルの終点同士が向かい合い、かつ１８０°の角度をなす場合（ドメイン境界条件Ｃ）
・隣接ドメインの配向ベクトルの始点同士が向かい合い、かつ９０°の角度をなす場合（ドメイン境界条件Ｄ）
・隣接ドメインの配向ベクトルの始点と終点が向かい合い、かつ９０°の角度をなす場合（ドメイン境界条件Ｅ）
・ドメインの配向ベクトルの終点が画素エッジ部に向く場合（ドメイン境界条件Ｆ）
・ドメインの配向ベクトルの始点が画素エッジ部に向く場合（ドメイン境界条件Ｇ）

評価結果は、下記表１の通りであった。なお、画像処理により得られた結果とシミュレーションにより得られた結果は、ほぼ一致した。そこで、以下の説明は、シミュレーションにより求めた結果を用いて行う。ドメイン境界条件Ａ及びＤの暗線が最も明るく、透過率向上に有効であることが確認された。また、画素エッジ部の暗線輝度は、ドメインの配向ベクトルの終点が画素エッジ部に向く場合（ドメイン境界条件Ｅ）、ドメイン境界条件Ａと同等の輝度であり、ドメインの配向ベクトルの始点が画素エッジ部に向く場合（ドメイン境界条件Ｆ）、ドメイン境界条件Ａの１．０８倍であった。

（Ｃ）隣接ドメイン間のセンタースリット３３について
本発明者は、画素電極３１の暗線直下の位置に最適幅のスリット（ＩＴＯギャップ）を設けることで、暗線の透過率が改善することを見出した。シミュレーションによれば、スリットの幅は狭くても広くてもモード効率の改善効果が得られず、最適幅があることが確認された。本実施形態のドメイン配列では、第二のドメイン１０ｂと第三のドメイン１０ｃとの境界（ドメイン境界条件Ｂ）に設けられるセンタースリット３３の幅は、好ましくは１～８μｍ、より好ましくは２．５～６μｍである。

図２６は、ドメイン境界条件Ｂ及びＤにおけるスリットの幅と暗線部の透過率（相対透過率比）の関係を示したグラフである。また、図２７は、ドメイン境界条件Ａ、Ｃ及びＥにおけるスリットの幅と暗線部の透過率（相対透過率比）の関係を示したグラフである。なお、図２６及び２７のグラフの縦軸に示した相対透過率比は、対象ドメイン境界条件における暗線部の透過率を、スリットが設けられなかったときのドメイン境界条件Ａの暗線部の透過率を１として規格化したものである。図２６によれば、ドメイン境界条件Ｂでは、幅１～８μｍのスリットを設けることで相対透過率比が改善し、幅２．５～６μｍのスリットを設ければ、暗線部の透過率をスリットが設けられなかったときのドメイン境界条件Ａと同等以上にすることができ、幅４μｍのスリットを設けた場合に輝度比が最も高くなった。また、図２６によれば、ドメイン境界条件Ｄでは、０μｍ＜スリットの幅≦８μｍの範囲で改善効果があり、幅３．５μｍのスリットを設けた場合に輝度比が最も高くなった。一方、図２７に示したように、ドメイン境界条件Ａ、Ｃ及びＥでは、センタースリット３３（ＩＴＯギャップ）を設けることで、暗線の透過率が低下した。

（Ｄ）配向パターン及びスリットの最適構造について
本実施形態では、画素の長手方向に沿って順に配置された第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ及び第四のドメイン１０ｄが、ドメイン境界条件Ａ－Ｂ－Ａの配列となるように調整されている。これは、配向パターンと暗線パターンの関係、及び、暗線下に設けられる画素電極のスリット幅の最適化によって、モード効率の最大化及び二重暗線の解消による表示品位改善が得られるためである。

例えば、図２８（ａ）に示したドメイン境界条件Ａ－Ｂ－Ａの配列を有する画素について、上記表１に示したシミュレーション結果を用い、第二のドメイン１０ｂと第三のドメイン１０ｃとの境界（ドメイン境界条件Ｂ）に幅４μｍのセンタースリット３３を設けた場合の暗線部の平均輝度を求めると、下記式（Ａ）より１．０４となる。
（１．００×２＋１．０４＋１．０８×２）／５＝１．０４　　　（Ａ）

一方、図２８（ｂ）に示したドメイン境界条件Ｃ－Ｄ－Ｃの配列を有する画素について、上記表１に示したシミュレーション結果を用い、暗線部の平均輝度を求めると、下記式（Ｂ）より０．９９となる。
（０．９０×２＋１．００＋１．０８×２）／５＝０．９９　　　（Ｂ）

以上のように、ドメイン境界条件Ａ－Ｂ－Ａの配列を有する画素は、第二のドメイン１０ｂと第三のドメイン１０ｃとの境界（ドメイン境界条件Ｂ）にセンタースリット３３を設けることで、二重暗線が実質的に解消されるため、モード効率を改善可能である。ドメイン境界条件Ａの幅細の暗線を含み、かつドメイン境界条件Ｂの暗線部にスリットを設ける場合に、輝度が最大となる。

（Ｅ）微細スリット（ファインスリット）３６の条件について
微細スリット３６間の電極幅Ｌ及び微細スリット３６の幅Ｓの最適な組み合わせを見つけるため、図１４（ｅ）に示した形状及び配置パターンを有する微細スリット３６が設けられた画素電極について、Ｌ及びＳの条件を振ってモード効率を測定し、評価結果を図２９及び３０に示した。図２９は、画素ピッチ１８０μｍの場合における微細スリット３６間の電極幅（Ｌｉｎｅ）及び微細スリット３６の幅（Ｓｐａｃｅ）とモード効率との関係を示したテーブルである。図３０は、画素ピッチ２４０μｍの場合における微細スリット３６間の電極幅（Ｌｉｎｅ）及び微細スリット３６の幅（Ｓｐａｃｅ）とモード効率との関係を示したテーブルである。なお、本評価項目におけるモード効率は、Ｌｉｎｅ／Ｓｐａｃｅ＝２．１μｍ／３．１μｍの場合におけるモード効率を１として規格化したときの値である。

図２９及び３０に示した結果を基に図３１～３４のグラフを作成した。図３１は、画素ピッチ１８０μｍの場合における微細スリット３６の幅（Ｓｐａｃｅ）とモード効率との関係を示したグラフである。図３２は、画素ピッチ２４０μｍの場合における微細スリット３６の幅（Ｓｐａｃｅ）とモード効率との関係を示したグラフである。図３３は、画素ピッチ１８０μｍの場合における微細スリット３６のピッチ（Ｌｉｎｅ＋Ｓｐａｃｅ）とモード効率との関係を示したグラフである。図３４は、画素ピッチ２４０μｍの場合における微細スリット３６のピッチ（Ｌｉｎｅ＋Ｓｐａｃｅ）とモード効率との関係を示したグラフである。

図３１～３４のグラフにおいて、ｘ軸（微細スリット３６の幅又はピッチ）方向の一番右側（大きい側）の測定点を通るよう直線を引き、微細スリット３６なしの場合と同等のモード効率（画素ピッチ１８０μｍ：７４％、画素ピッチ２４０μｍ：８２％）が得られる微細スリット３６の幅（Ｓｐａｃｅ）及び微細スリット３６のピッチ（Ｌｉｎｅ＋Ｓｐａｃｅ）をそれぞれ求めた。また、Ｌｉｎｅ／Ｓｐａｃｅ＝２．１μｍ／３．１μｍの場合からのモード効率の低下が、微細スリット３６なしの場合と比べて半分（画素ピッチ１８０μｍ：８７％、画素ピッチ２４０μｍ：９１％）となる微細スリット３６の幅（Ｓｐａｃｅ）及び微細スリット３６のピッチ（Ｌｉｎｅ＋Ｓｐａｃｅ）をそれぞれ求めた。

得られた結果は、画素ピッチ１８０μｍの場合と画素ピッチ２４０μｍの場合で、微細スリット３６間の電極幅（Ｌｉｎｅ）及び微細スリット３６の幅（Ｓｐａｃｅ）はいずれも同様の傾向を示した。すなわち、微細スリット３６なしの場合よりも高いモード効率を得るために、微細スリット３６の幅（Ｓｐａｃｅ）及び微細スリット３６のピッチ（Ｌｉｎｅ＋Ｓｐａｃｅ）は、下記条件を満たすことが好ましい。
微細スリット３６の幅（Ｓｐａｃｅ）≦５．１μｍ
微細スリット３６のピッチ（Ｌｉｎｅ＋Ｓｐａｃｅ）≦１１μｍ

また、Ｌｉｎｅ／Ｓｐａｃｅ＝２．１μｍ／３．１μｍの場合からのモード効率の低下が、微細スリットなしの場合と比べて半分となるように、微細スリット３６の幅（Ｓｐａｃｅ）及び微細スリット３６のピッチ（Ｌｉｎｅ＋Ｓｐａｃｅ）は、下記条件を満たすことがより好ましい。
微細スリット３６の幅（Ｓｐａｃｅ）≦４．３μｍ
微細スリット３６のピッチ（Ｌｉｎｅ＋Ｓｐａｃｅ）≦８．３μｍ

次に、本実施形態の液晶表示パネル１００の製造方法について説明する。本実施形態の液晶表示パネル１００の製造方法は特に限定されず、液晶表示パネルの分野において通常使用される方法を用いることができる。例えば、第一の光配向膜７１及び第二の光配向膜７２に対する配向処理は、紫外光、可視光等の光（電磁波）を照射する光配向処理により行われる。光配向処理は、例えば、第一の光配向膜７１及び第二の光配向膜７２に対して光を照射する光源を持ち、複数の画素にわたる連続的なスキャン露光を行うことができる機能を持つ装置を用いて行うことができる。スキャン露光の具体的態様としては、例えば、基板を移動させながら光源から発せられる光線を基板面上に照射する態様、及び、光源を移動させながら該光源から発せられる光線を基板面上に照射する態様、光源及び基板を移動させながら光源から発せられる光線を基板面上に照射する態様が挙げられる。

以下に配向処理の具体例を説明する。図３５は、光配向処理装置の一例を示した概要図である。図３５に示した光配向処理装置２００は、液晶表示パネル用基板上に形成された光配向膜を光配向処理するものである。図３５中では、第一基板（液晶表示パネル用基板）３０上に形成された第一の光配向膜７１を示しているが、第二の光配向膜７２についても処理可能である。光配向処理装置２００は、光照射機構２８０と、液晶表示パネル用基板３０を載置するステージ２５０とを含む。

光照射機構２８０は、光源２２０と、偏光子２３０と、回転調整機構２６０とを有する。光源２２０及び偏光子２３０は、ランプボックス２７０内に配置されてもよい。光源２２０の種類は特に限定されず、光配向処理装置の分野において通常使用されるものを用いることができる。例えば、低圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ等を用いることができる。

光源２２０から照射される光２２１は、紫外光、可視光等の光（電磁波）等であってもよいが、波長が２８０ｎｍ～４００ｎｍであることが好ましい。

偏光子２３０は、例えば、光源２２０から液晶表示パネル用基板３０に向かって射出された光から、直線偏光を取り出すものである。なお、偏光軸とは、上記偏光子を透過する光の量が最大となる方向をいう。偏光子２３０としては、例えば、有機樹脂系偏光子、ワイヤグリッド偏光子、偏光ビームスプリッター（ＰＢＳ：Ｐｏｌａｒｉｚｉｎｇ　ｂｅａｍ　ｓｐｌｉｔｔｅｒ）等が挙げられる。

上記有機樹脂系偏光子としては、たとえば、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、シート状に延伸した偏光子等が挙げられる。

上記ワイヤグリッド偏光子としては、例えば、光透過性基材と、上記光透過性基材上に形成された複数の金属細線を有し、上記複数の金属細線はワイヤグリッド偏光子に入射される光の波長よりも短い周期で配置されているものが挙げられる。上記金属細線は、例えば、クロム等の光吸収性の金属材料により形成される。液晶表示パネル用基板３０に上記ワイヤグリッド偏光子を重ねて光照射を行うと、液晶分子は、上記金属細線の延伸方位と直交する方位に配向する。偏光子２３０が上記ワイヤグリッド偏光子である場合には、上記偏光軸は、上記金属細線の延伸方位と直交する方位である。金属細線の延伸方位が異なるワイヤグリッド偏光子を用いることで、配向分割処理を効率的に行うことができる。

偏光ビームスプリッターとしては、例えば、キューブ型、プレート型のものが挙げられる。キューブ型のＰＢＳとしては、例えば、２個のプリズムの斜面同士が接合されその一方の斜面に光学薄膜が蒸着されたものが挙げられる。

偏光子２３０は、上記光の照射軸に対して垂直に配置されてもよい。偏光子２３０を上記光の照射軸に対して垂直に配置しない場合、偏光子２３０内での導波路効果等により液晶分子の配向に影響を及ぼすことがある。上記光の照射軸とは、光源２２０から液晶表示パネル用基板３０に向かって照射される光２２１の直進方向である。上記偏光子が上記光の照射軸に対して垂直に配置されるとは、偏光子の法線方向から液晶表示パネル用基板に向かって光が照射されるように配置することを意味し、「垂直」とは、上記偏光子の法線と上記光の照射軸とのなす角が０．５°未満の範囲をいう。

光源２２０と偏光子２３０との間に波長選択フィルター２３５を有してもよい。波長選択フィルター２３５を介して照射される光の主波長は、２８０～４００ｎｍであってもよい。選択波長が２８０～４００ｎｍであることで、第一の光配向膜７１を構成する光配向性を示す材料に構造変化を生じさせ、配向規制力を発現させることができる。上記光源から照射される光の強度は、１０～１００ｍＪ／ｃｍ^２であってもよい。

波長選択フィルター２３５は特に限定されず、光配向処理装置の分野において通常使用されるものを用いることができる。波長選択フィルター２３５としては、例えば、フィルター中に透過波長以外の波長を吸収する物質を分散させたもの、フィルターの表面に透過波長以外を反射する物質をコーティングしたもの等が挙げられる。

液晶表示パネル用基板３０に対する上記光の照射角は、３０°～６０°であってもよい。上記照射角は図３５のθ１で表され、液晶表示パネル用基板３０の表面を０°、液晶表示パネル用基板３０の法線を９０°とした場合に、液晶表示パネル用基板３０の平面と上記光の照射軸との成す角である。

上記偏光子の消光比は、５０：１～５００：１であってもよい。上記消光比は、偏光子に光を照射した場合の最大透過率をＴｍａｘ、その偏光子を９０°回転させた最小透過率をＴｍｉｎとし、Ｔｍａｘ：Ｔｍｉｎで表す。上記消光比（Ｔｍｉｎを１とした場合のＴｍａｘの値）が高いほど、所望の偏光軸方向の光を取り出せるため、液晶分子の傾斜方位のバラツキを低減することができる。

回転調整機構２６０は、偏光子２３０の偏光軸２３１を回転させ、液晶表示パネル用基板３０面での露光方向２５３を光の照射方向２５２に対して、実質的に４５°となるように調整する。露光方向２５３を光の照射方向２５２に対して実質的に４５°とすることで、液晶表示パネル用基板３０の移動方向２５１と光の照射方向２５２とを平行としたまま、液晶表示パネル用基板３０に対して生産性に優れたスキャン露光により光配向処理を行うことができる。光の照射方向２５２とは、図３５に示したように、光源２２０から照射される光２２１を液晶表示パネル用基板３０面に投影した場合の光の進行方向である。露光方向２５３とは、光源２２０から、偏光子２３０を介して、液晶表示パネル用基板３０面に照射された偏光の振動方向をいう。露光方向２５３によって、液晶表示パネル用基板３０の表面に形成された配向膜７０が液晶分子に付与するプレチルトの方位が定まる。

回転調整機構２６０による偏光軸２３１の調整は、例えば、以下の方法により行われる。まず、光源の照射方向２５２に対して偏光軸２３１が４５°となるように、偏光子２３０を設定する。上記回転調整機構により調整される前の偏光軸の方位を「４５°方位」ともいう。次に、液晶表示パネル用基板に対する光の照射角、配向膜材料の屈折率等を考慮して、幾何学計算により算出されたデータに基づき、回転調整機構２６０が偏光子２３０を４５°方位から回転させて偏光軸２３１の方位を調整する。回転調整機構２６０により、光の照射方向に対する偏光子の偏光軸の方位と上記基板面での露光方向とを一致させ、液晶表示パネルにおける液晶分子の傾斜方位を所望の角度にすることができる。なお、回転調整機構２３０を有さず、偏光軸２３１を４５°方位に固定したまま光配向処理を行うと、液晶分子の傾斜方位は４５°から１０°程度ずれることがある。

回転調整機構２６０は、偏光子２３０の偏光軸を４５°方位から－１５°～＋１５°の範囲で回転させてもよい。回転調整機構により、偏光軸を－１５°～＋１５°の範囲で回転させることで、液晶表示パネル用基板３０に対する光の照射角を変えても、上記露光方向２５３を調整し、液晶分子の傾斜方位を所望の角度とすることができる。液晶表示パネル用基板面での露光方向２５３を光の照射方向２５２に対して、実質的に４５°となるように調整するためには、例えば、偏光軸２３１を上記４５°方位から、＋７．５５°回転させて、５２．５５°とする。

光配向処理装置２００は、更に、回転機構２６４を有してもよい。回転機構２６４は、偏光子２３０の偏光軸２３１を４５°方位から実質的に４５°及び実質的に９０°のいずれかを選択して回転できるものである。光源の照射方向２５２に対して時計回りに４５°の方位を＋４５°方位とした場合に、偏光子２３０の偏光軸２３１を上記＋４５°方位から９０°回転させると、回転後の偏光軸２３１は、上記光の照射方向に対して－４５°方位となる。偏光軸２３１を上記＋４５°方位から９０°回転させ、更に回転調整機構２６０により調整することで、回転の前後において、露光方向２５３を光の照射方向２５２に対して実質的に４５°としたまま光照射を行うことができる。そのため、図２に示したような、液晶分子の傾斜方位が互いに異なる４つの配向領域を画素の長手方向に沿って配置するという新たな配向制御モードの液晶表示パネルの製造に好適である。更に、上記新たな配向制御モードの液晶表示パネルをスキャン露光により製造することができるため、生産効率を大幅に向上させることができる。上記４５°方位から実質的に４５°又は実質的に９０°であるとは、上記４５°方位に対して、４５°又は９０°からそれぞれ、時計回り、又は、反時計回りに１５°の角度をなす範囲を意味する。上記４５°方位、９０°方位とは、４５°、９０°からそれぞれ±０．５°の範囲をいう。

回転機構２６４は、偏光子２３０の偏光軸２３１を上記４５°方位から実質的に４５°にも回転させることができる。偏光軸２３１を上記４５°方位から４５°回転させると、回転後の偏光軸２３１は上記光の照射方向と平行になるため、偏光子の偏光軸と光の照射方向とを一致させる従来の光配向処理も行うことができる。

ステージ２５０は、液晶表示パネル用基板３０を載置するステージであり、ステージ２５０上に液晶表示パネル用基板３０を固定し、液晶表示パネル用基板３０を移動させながら、又は、液晶表示パネル用基板３０に対して光源を移動させながら光を照射する。このような走査露光（スキャン露光）をすることで、効率よく光配向処理を行うことができる。また、液晶表示パネル用基板３０に対する光の照射方向と、液晶表示パネル用基板３０の移動方向又は光源２２０の移動方向が平行であるため、一つの光源の光照射エリア内において、基板に対する光源からの光の入射角度がほぼ同じであるため、液晶分子に付与するプレチルト角（極角）の角度もほぼ同じになる。そのため、光照射エリア内でのプレチルト角のバラツキを抑え、表示品位に優れた液晶表示パネルを製造することができる。光配向処理装置２００は、ステージ２５０を移動させるステージ走査機構及び／又は光源２２０を移動させる光源走査機構を有してもよい。上記「平行」とは、上記光の照射方向と、液晶表示パネル用基板３０の移動方向又は光源２２０の移動方向とのなす角が５°未満の範囲を含む。

光配向処理装置２００は、上記機構の他に、遮光部材２４０等を備えてもよい。遮光部材２４０により光を照射しない部分を遮光しながら光配向処理を行うことで、配向分割処理を行うことができる。

上記光配向処理装置を用いれば、光の照射方向に対する偏光子の偏光軸の方位と上記液晶表示パネル用基板面での露光方向とを一致させ、液晶表示パネル１００における液晶分子４１の傾斜方位を所望の角度にすることができる。

以下に図３６を用いて光配向処理装置２００を用いた光配向処理工程の一例を説明する。図３６は、光配向処理装置を用いた光配向処理工程の一例を示した図である。図３６に示した光配向処理工程は、一つの偏光子２３０を有する光照射機構２８０を用いて、回転機構２６４により偏光子２３０の偏光軸２３１を回転させて、光配向処理を行う例である。図３６では、液晶表示パネル用基板３０の向きを説明するために、一角に切欠き部を示したが、実際の液晶表示パネル用基板３０は切欠き部を有さなくてよい。

図３６に示したように、液晶表示パネル用基板３０の移動方向２５１を第一方向とし、光の照射方向２５２を第二方向とし、光照射機構２８０を用い、波長選択フィルター２３５（図示せず）及び偏光子２３０を介して１回目の光照射を行う。第一方向と第二方向とは、平行である。光照射を行わない領域は、遮光部材２４０で遮光する。偏光子２３０の偏光軸２３１は、光の照射方向２５２に対して時計回りに＋４５°方位に設定され、その後、回転調整機構２６０により、液晶表示パネル用基板３０面での露光方向２５３を光の照射方向２５２に対して、実質的に４５°となるように調整した後、１回目の光照射を行う。次に、遮光部材２４０を移動させ、偏光子２３０の偏光軸２３１を、回転機構２６４により上記＋４５°方位から９０°回転させ、光の照射方向２５２に対して反時計回りに－４５°方位とした後、回転調整機構２６０により偏光軸２３１を調整し、２回目の光照射を行う。その後、基板を１８０°回転させ、更に、遮光部材２４０を移動させ、偏光子２３０を回転機構２６４により上記－４５°方位から９０°回転させて、＋４５°方位とした後、回転調整機構２６０により偏光軸２３１を調整し、３回目の光照射を行う。最後に、遮光部材２４０を移動させ、回転機構２６４により偏光子２３０を上記＋４５°方位から９０°回転させて、－４５°方位とした後、回転調整機構２６０により偏光軸２３１を調整し、４回目の光照射を行う。上記光照射工程を行った液晶表示パネル用基板３０は、一画素に形成される４つの配向領域に対応する領域ごとにプレチルトの方位２５３が異なる。Ｔ液晶表示パネル用基板３０の移動方向２５１及び光の照射方向２５２は、１～４回目の光照射で全て同じである。また、１～４回目の光照射の全てで、偏光軸２３１は、回転調整機構２６０により、液晶表示パネル用基板３０面での露光方向２５３を光の照射方向２５２に対して、実質的に４５°となるように調整される。

図３７（ａ）は、ＴＦＴ基板（第一基板）の光配向処理を説明する図であり、図３７（ｂ）は、ＣＦ基板（第二基板）の光配向処理を説明する図であり、図３７（ｃ）は、光配向処理されたＴＦＴ基板及びＣＦ基板の貼合わせ後の状態を説明する図である。ＴＦＴ基板（第一基板）３０は、図３７（ａ）に示したように、１～４回目の光照射でドメインごとにプレチルトの方位２５３を変えて光配向処理が行われる。また、ＣＦ基板（第二基板）５０もＴＦＴ基板と同様に、図３７（ｂ）に示したように、１～４回目の光照射でドメインごとにプレチルトの方位２５４を変えて光配向処理を行う。図３７（ａ）及び（ｂ）に示したように光配向処理されたＴＦＴ基板３０及びＣＦ基板５０を貼り合わせると、実施形態の液晶表示パネル１００が備える第一のドメイン１０ａ、第二のドメイン１０ｂ、第三のドメイン１０ｃ及び第四のドメイン１０ｄが完成する。

［付記］
本発明の一態様は、複数の画素電極及び第一の光配向膜を有する第一基板と、液晶分子を含有する液晶層と、共通電極及び第二の光配向膜を有する第二基板とを順に有する液晶表示パネルであって、上記液晶分子の上記第一基板側の長軸端部を始点とし、上記第二基板側の長軸端部を終点とする配向ベクトルを定義したときに、上記第一の光配向膜及び上記第二の光配向膜は、単一の上記画素電極と重畳する表示単位領域内に、上記配向ベクトルが互いに異なる複数のドメインが形成されるように配向処理されており、上記複数のドメインは、上記表示単位領域の長手方向に沿って順に配置された第一のドメイン、第二のドメイン、第三のドメイン及び第四のドメインを含み、上記複数のドメインを平面視したときに、上記第一のドメインの配向ベクトルと上記第二のドメインの配向ベクトルとは、終点同士が向かい合い、かつ互いに直交する関係を有し、上記第二のドメインの配向ベクトルと上記第三のドメインの配向ベクトルとは、始点同士が向かい合い、かつ互いに平行な関係を有し、上記第三のドメインの配向ベクトルと上記第四のドメインの配向ベクトルとは、終点同士が向かい合い、かつ互いに直交する関係を有する液晶表示パネルである。

上記液晶分子は、上記液晶層への電圧無印加時には、上記第一基板及び上記第二基板に対して実質的に垂直に配向し、上記液晶層への電圧印加時には、上記複数のドメインの各配向ベクトルと一致するように傾斜配向してもよい。

上記複数のドメインにおいて、上記液晶分子の基板間ツイスト角が４５°以下であってもよい。

上記画素電極は、上記第二のドメインと上記第三のドメインとの境界領域において、上記境界領域に沿って配置されたスリット、及び、上記第二のドメインと重畳する領域及び上記第三のドメインと重畳する領域を互いに接続する接続部が設けられていてもよい。

上記スリットは、上記画素電極の端に対して平行又は垂直、或いは、ソース配線、ゲート配線又は補助容量配線に対して平行又は垂直な部分を有してもよい。上記スリットは、上記スリットの長辺部に対して略４５°の角度を成し、上記スリットの長辺部から直接伸びる枝部を有してもよい。上記スリットは、少なくとも一箇所の幅広部分を含んでもよい。上記スリットは、上辺及び／又は下辺の位置の異なる複数の領域を含んでもよい。上辺及び／又は下辺の異なる複数の上記スリットを含んでもよい。上記スリットの幅は、１～８μｍであってもよい。

上記画素電極は、少なくとも端部に、上記配向ベクトルと平行な複数本の微細スリットが設けられたものであってもよい。上記複数本の第一の微細スリットは、５．１μｍ以下の幅を有してもよい。上記複数本の第一の微細スリットは、４．３μｍ以下の幅を有してもよい。上記複数本の第一の微細スリットは、１１μｍ以下の周期で配置されていてもよい。上記複数本の第一の微細スリットは、８．３μｍ以下の周期で配置されていてもよい。

上記画素電極は、上記第一のドメインと上記第二のドメインとの境界領域、及び、上記第三のドメインと上記第四のドメインとの境界領域の少なくとも一方に、上記複数本の微細スリットの配置領域に挟まれたベタ電極部を有してもよい。

上記画素電極は、上記第一のドメインと重畳する領域、上記第二のドメインと重畳する領域、上記第三のドメインと重畳する領域、及び、上記第四のドメインと重畳する領域の少なくとも一つにおいて、端部から中央に向かって電極の配置密度が高くなる構造を有してもよい。

上記画素電極は、上記第一のドメイン、上記第二のドメイン、上記第三のドメイン及び上記第四のドメインと重畳する領域に、上記複数本の微細スリットが設けられたものであってもよい。

上記液晶表示パネルは、画素密度が９０ｐｐｉ以上であってもよい。

１０、１１：画素
１０ａ：第一のドメイン
１０ｂ：第二のドメイン
１０ｃ：第三のドメイン
１０ｄ：第四のドメイン
１３：ＴＦＴ
２０：背面側偏光板
３０：第一基板（液晶表示パネル用基板）
３１：画素電極
３３：スリット（センタースリット）
３４：繋ぎ部
３６：微細スリット（ファインスリット）
３７：電極繋ぎ部
３８：幅広部
３９：枝部
４０：液晶層
４１：液晶分子
４１Ｓ：始点（液晶ダイレクタのテール）
４１Ｔ：終点（液晶ダイレクタのヘッド）
５０：第二基板
５１：対向電極
６０：表示面側偏光板
７１：第一の光配向膜
７２：第二の光配向膜
８０：シール材
１００、３００、４００：液晶表示パネル
１１０：バックライト
２００：光配向処理装置
２２０：光源
２２１：光
２３０：偏光子
２３１：偏光軸
２３５：波長選択フィルター
２４０：遮光部材
２５０：ステージ
２５１：基板の移動方向
２５２：光の照射方向
２５３、２５４：露光方向（プレチルトの方位）
２６０：回転調整機構
２６４：回転機構
２７０：ランプボックス
２８０：光照射機構
Ｄ：ドレイン
Ｇ１、Ｇ２：ゲート信号線
Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４：ソース信号線

Claims

複数の画素電極及び第一の光配向膜を有する第一基板と、
液晶分子を含有する液晶層と、
共通電極及び第二の光配向膜を有する第二基板とを順に有する液晶表示パネルであって、
前記液晶分子の前記第一基板側の長軸端部を始点とし、前記第二基板側の長軸端部を終点とする配向ベクトルを定義したときに、前記第一の光配向膜及び前記第二の光配向膜は、単一の前記画素電極と重畳する表示単位領域内に、前記配向ベクトルが互いに異なる複数のドメインが形成されるように配向処理されており、
前記複数のドメインは、前記表示単位領域の長手方向に沿って順に配置された第一のドメイン、第二のドメイン、第三のドメイン及び第四のドメインを含み、
前記複数のドメインを平面視したときに、前記第一のドメインの配向ベクトルと前記第二のドメインの配向ベクトルとは、終点同士が向かい合い、かつ互いに直交する関係を有し、前記第二のドメインの配向ベクトルと前記第三のドメインの配向ベクトルとは、始点同士が向かい合い、かつ互いに平行な関係を有し、前記第三のドメインの配向ベクトルと前記第四のドメインの配向ベクトルとは、終点同士が向かい合い、かつ互いに直交する関係を有する
ことを特徴とする液晶表示パネル。
前記液晶分子は、前記液晶層への電圧無印加時には、前記第一基板及び前記第二基板に対して実質的に垂直に配向し、前記液晶層への電圧印加時には、前記複数のドメインの各配向ベクトルと一致するように傾斜配向することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
前記複数のドメインにおいて、前記液晶分子の基板間ツイスト角が４５°以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示パネル。
前記画素電極は、前記第二のドメインと前記第三のドメインとの境界領域において、前記境界領域に沿って配置されたスリット、及び、前記第二のドメインと重畳する領域及び前記第三のドメインと重畳する領域を互いに接続する接続部が設けられていることを特徴とする請求項１～３のいずれかに記載の液晶表示パネル。
前記スリットは、前記画素電極の端に対して平行又は垂直、或いは、ソース配線、ゲート配線又は補助容量配線に対して平行又は垂直な部分を有することを特徴とする請求項４に記載の液晶表示パネル。
前記スリットは、前記スリットの長辺部に対して略４５°の角度を成し、前記スリットの長辺部から直接伸びる枝部を有することを特徴とする請求項４又は５に記載の液晶表示パネル。
前記スリットは、少なくとも一箇所の幅広部分を含むことを特徴とする請求項４～６のいずれかに記載の液晶表示パネル。
前記スリットは、上辺及び／又は下辺の位置の異なる複数の領域を含む請求項４～７のいずれかに記載の液晶表示パネル。
上辺及び／又は下辺の異なる複数の前記スリットを含む請求項４～７のいずれかに記載の液晶表示パネル。
前記スリットの幅は、１～８μｍであることを特徴とする請求項４～９のいずれかに記載の液晶表示パネル。
前記画素電極は、少なくとも端部に、前記配向ベクトルと平行な複数本の微細スリットが設けられたものであることを特徴とする請求項１～１０のいずれかに記載の液晶表示パネル。
前記複数本の微細スリットは、５．１μｍ以下の幅を有することを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示パネル。
前記複数本の微細スリットは、４．３μｍ以下の幅を有することを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示パネル。
前記複数本の微細スリットは、１１μｍ以下の周期で配置されていることを特徴とする請求項１１～１３のいずれかに記載の液晶表示パネル。
前記複数本の第一の微細スリットは、８．３μｍ以下の周期で配置されていることを特徴とする請求項１１～１３のいずれかに記載の液晶表示パネル。
前記画素電極は、前記第一のドメインと前記第二のドメインとの境界領域、及び、前記第三のドメインと前記第四のドメインとの境界領域の少なくとも一方に、前記複数本の微細スリットの配置領域に挟まれたベタ電極部を有することを特徴とする請求項１１～１５のいずれかに記載の液晶表示パネル。
前記画素電極は、前記第一のドメインと重畳する領域、前記第二のドメインと重畳する領域、前記第三のドメインと重畳する領域、及び、前記第四のドメインと重畳する領域の少なくとも一つにおいて、端部から中央に向かって電極の配置密度が高くなる構造を有することを特徴とする請求項１１～１６のいずれかに記載の液晶表示パネル。
前記画素電極は、前記第一のドメイン、前記第二のドメイン、前記第三のドメイン及び前記第四のドメインと重畳する領域に、前記複数本の微細スリットが設けられたものであることを特徴とする請求項１１～１７のいずれかに記載の液晶表示パネル。
画素密度が９０ｐｐｉ以上であることを特徴とする請求項１～１８のいずれかに記載の液晶表示パネル。
請求項１～１９のいずれかに記載の液晶表示パネルを製造する方法であって、
前記第一の光配向膜及び前記第二の光配向膜に対する前記配向処理は、光源から偏光子を介して斜め方向から偏光を照射することを含み、
前記偏光子の偏光軸を４５°方位から－１５°～＋１５°の範囲で回転させ、前記第一の光配向膜及び前記第二の光配向膜の表面での露光方向を光の照射方向に対して、実質的に４５°方位に調整することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
請求項２０に記載の液晶表示パネルの製造方法に用いる光配向処理装置であって、
光源、偏光子及び回転調整機構を有し、液晶表示パネル用基板に対して、前記光源から前記偏光子を介して光を照射する少なくとも一つの光照射機構と、
前記液晶表示パネル用基板を載置するステージとを含み、
前記液晶表示パネル用基板を移動させながら、又は、前記液晶表示パネル用基板に対して光源を移動させながら光を照射し、
前記液晶表示パネル用基板に対する光の照射方向と、前記液晶表示パネル用基板の移動方向又は前記光源の移動方向が平行であり、
前記回転調整機構は、前記偏光子の偏光軸を回転させ、前記液晶表示パネル用基板面での露光方向を前記光の照射方向に対して、実質的に４５°方位に調整することを特徴とする光配向処理装置。