WO2018051552A1 - 超純水製造装置 - Google Patents

超純水製造装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2018051552A1
WO2018051552A1 PCT/JP2017/010617 JP2017010617W WO2018051552A1 WO 2018051552 A1 WO2018051552 A1 WO 2018051552A1 JP 2017010617 W JP2017010617 W JP 2017010617W WO 2018051552 A1 WO2018051552 A1 WO 2018051552A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
heat exchanger
water
heat
ultrapure water
medium
Prior art date
Application number
PCT/JP2017/010617
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
重希 堀井
Original Assignee
栗田工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 栗田工業株式会社 filed Critical 栗田工業株式会社
Priority to KR1020187034318A priority Critical patent/KR102107925B1/ko
Priority to CN201780046687.4A priority patent/CN109476509B/zh
Publication of WO2018051552A1 publication Critical patent/WO2018051552A1/ja

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/02Treatment of water, waste water, or sewage by heating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24HFLUID HEATERS, e.g. WATER OR AIR HEATERS, HAVING HEAT-GENERATING MEANS, e.g. HEAT PUMPS, IN GENERAL
    • F24H1/00Water heaters, e.g. boilers, continuous-flow heaters or water-storage heaters
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24HFLUID HEATERS, e.g. WATER OR AIR HEATERS, HAVING HEAT-GENERATING MEANS, e.g. HEAT PUMPS, IN GENERAL
    • F24H4/00Fluid heaters characterised by the use of heat pumps
    • F24H4/02Water heaters
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25BREFRIGERATION MACHINES, PLANTS OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
    • F25B1/00Compression machines, plants or systems with non-reversible cycle
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25BREFRIGERATION MACHINES, PLANTS OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
    • F25B30/00Heat pumps
    • F25B30/02Heat pumps of the compression type
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/02Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
    • C02F2103/04Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply for obtaining ultra-pure water
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/002Construction details of the apparatus

Definitions

  • the ultrapure water used as the semiconductor cleaning water is, as shown in FIG. 2, a pretreatment system 50, a primary pure water production apparatus 60, and a secondary pure water production apparatus (often referred to as a subsystem) 70. It is manufactured by treating raw water (industrial water, city water, well water, etc.) with an ultrapure water manufacturing apparatus composed of (Patent Document 1).
  • Patent Document 1 the role of each system is as follows.
  • This heat exchanger 73 must be placed before the ion exchange device 75. This is because when the high-temperature pure water comes into contact with the ion exchange resin, the TOC component is eluted and the water quality deteriorates. Therefore, it is necessary that the water temperature is lowered to 23 to 25 ° C. by the heat exchanger 73 before being sent to the ion exchange device 75. In the case where the cold water passing through the cooling heat exchanger 73 is supplied from an electronic component manufacturing factory, a piping facility for that purpose is required. Moreover, in order to reduce the production cost of ultrapure water, it is desired to reduce the amount of cold water used.
  • a return water return system that includes two heat exchangers and adds the return water cooled by the second heat exchanger to the primary pure water, and heating that further heats the ultrapure water heated by the first heat exchanger
  • An ultrapure water production apparatus that supplies heated ultrapure water to a use point, wherein the heating means is configured to pass the ultrapure water heated by the first heat exchanger into the heated fluid channel.
  • the temperature of the use point return water is usually 70 to 80 ° C., for example, about 75 ° C.
  • a second circulation flow path including a pipe 25, a heat exchanger 43, a heat exchanger 26, and a pipe 27 is provided.
  • a bypass pipe 28 is provided between the pipes 25 and 27.
  • the bypass pipe 28 is provided with a flow rate adjustment valve (not shown).
  • the hot waste water of about 65 ° C. at the use point 40 is introduced into the heat source fluid flow path of the heat exchanger 26 through the pipe 29.
  • the warm waste water that has been subjected to heat exchange with the second medium water and lowered to about 30 to 40 ° C. flows out of the pipe 30 and is recovered as recovered water.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)

Abstract

ユースポイントに送水される超純水を加温して温超純水とするための熱交換器の熱源コストを低減することができると共に、一次純水を冷却するためのコストを低減することができる超純水製造装置を提供する。サブシステム4からの二次純水を熱交換器6、熱交換器10及び熱交換器12で加熱してユースポイントへ送る。熱交換器6の熱源はユースポイントからの戻り温超純水である。この戻り超純水は、熱交換器6及び熱交換器43で降温した後、サブタンク2に導入される。熱交換器10には、ヒートポンプ20で加熱された第1媒体水が循環通水される。ヒートポンプ20の蒸発器21には第2媒体水が循環される。第2媒体水の循環流路には、ユースポイント40からの温排水が通水される熱交換器26が設置され、熱交換器26よりも上流側に熱交換器43が設けられている。

Description

超純水製造装置
 本発明は超純水製造装置に係り、特に二次純水製造装置からの超純水を熱交換器で加熱して温超純水としてユースポイントへ供給する超純水製造装置に関する。
 半導体洗浄用水として用いられている超純水は、図2に示すように前処理システム50、一次純水製造装置60、二次純水製造装置(サブシステムと称されることも多い。)70から構成される超純水製造装置で原水(工業用水、市水、井水等)を処理することにより製造される(特許文献1)。図2において各システムの役割は次の通りである。
 凝集、加圧浮上(沈殿)、濾過(膜濾過)装置など(この従来例では凝集濾過装置)よりなる前処理システム50では、原水中の懸濁物質やコロイド物質の除去を行う。また、この過程では高分子系有機物、疎水性有機物などの除去も可能である。
 前処理された水のタンク61、熱交換器65、逆浸透膜処理装置(RO装置)62、イオン交換装置(混床式又は4床5塔式など)63、タンク63A、イオン交換装置63B、及び脱気装置64を備える一次純水製造装置60では、原水中のイオンや有機成分の除去を行う。なお、水は温度が高い程、粘性が低下し、RO膜の透過性が向上する。このため、図2の通り、逆浸透膜処理装置62の前段に熱交換器65が設置され、逆浸透膜処理装置62への供給水の温度が所定温度以上となるように水を加熱する。熱交換器65の1次側には、熱源流体として蒸気が供給される。逆浸透膜処理装置62では、塩類を除去すると共に、イオン性、コロイド性のTOCを除去する。イオン交換装置63,63Bでは、塩類、無機系炭素(IC)を除去すると共にイオン交換樹脂によって吸着又はイオン交換されるTOC成分の除去を行う。脱気装置64では無機系炭素(IC)、溶存酸素の除去を行う。
 一次純水製造装置60で製造された一次純水は、配管69を介して二次純水製造装置70へ送水される。この二次純水製造装置70は、サブタンク(純水タンクと称されることもある。)71、ポンプ72、熱交換器73、低圧紫外線酸化装置(UV装置)74、イオン交換装置75及び限外濾過膜(UF膜)分離装置76を備えている。熱交換器73は、二次純水の温度制御のためのものである。一般に二次純水(常温超純水)の供給温度は23~25℃であり、その温度範囲に制御するため、熱交換器73は冷却器が使用される。冷却器の冷却源として冷水が用いられる。この熱交換器73はイオン交換装置75より前に置く必要がある。高温の純水がイオン交換樹脂と接触するとTOC成分が溶出し、水質が悪化するためである。したがって熱交換器73で水温を23~25℃まで降温してからイオン交換装置75に送られるようにする必要がある。この冷却用熱交換器73に通水する冷水を電子部品製造工場から供給を受ける場合、そのための配管設備が必要となる。また、超純水製造コストの低減のために、この冷水の使用量の減少が望まれている。
 低圧紫外線酸化装置74では、低圧紫外線ランプより出される185nmの紫外線によりTOCを有機酸、さらにはCOまで分解する。分解により生成した有機物及びCOは後段のイオン交換装置75で除去される。限外濾過膜分離装置76では、微粒子が除去され、イオン交換樹脂からの流出粒子も除去される。
 イオン交換装置75の処理水は、限外濾過膜分離装置76から配管81を介してユースポイント90に送られる超純水(常温超純水)と、熱交換器85,86で加熱された後、限外濾過膜分離装置87及び配管88を介してユースポイント90に送られる超純水(温超純水)とに分かれる。
 後者のラインでは、二次純水製造装置70からの超純水を前段側熱交換器85と後段側熱交換器86とで65~75℃程度に加熱し、ユースポイント90に供給する。このユースポイント90からの温戻り水を配管91を介して前段側熱交換器85の熱源側に流通させる。前段側熱交換器85の熱源側を通過した戻り水は30~40℃程度に降温しており、配管92を介してサブタンク71に戻される。後段側熱交換器86は蒸気を熱源とするものである。
特開2013-202581
 本発明は、ユースポイントに送水される超純水を加温して温超純水とするための熱交換器の熱源コストを低減することができると共に、一次純水を冷却するためのコストを低減することができる超純水製造装置を提供することを目的とする。
 本発明の一態様の超純水製造装置は、一次純水製造装置と、該一次純水製造装置からの一次純水を処理して超純水を製造する二次純水製造装置と、該二次純水製造装置からの超純水を加熱するための、ユースポイントからの戻り水を熱源とする第1熱交換器と、該第1熱交換器を通過した該戻り水を冷却する第2熱交換器を備え、該第2熱交換器で冷却された戻り水を前記一次純水に加える戻り水返送系と、該第1熱交換器で加熱された超純水をさらに加熱する加熱手段とを有し、加熱された超純水をユースポイントに供給する超純水製造装置において、前記加熱手段は、前記第1熱交換器で加熱された超純水が被加熱流体流路に通水される第3熱交換器と、該第3熱交換器の熱源流体流路に伝熱媒体としての第1媒体水を循環流通させる第1循環流路と、該第1循環流路を流れる第1媒体水を加熱するヒートポンプとを備えており、該ヒートポンプは、凝縮器、蒸発器、ポンプ及び膨張弁を備え、該凝縮器は、該第1媒体水を加熱するように前記第1循環流路に設置されており、該蒸発器は、第2媒体水が循環される第2循環流路に設置されており、該第2循環流路には、温排水の熱によって第2媒体水を加熱するための第4熱交換器が設置されており、該第4熱交換器よりも上流側の第2循環流路に前記第2熱交換器が設置されていることを特徴とするものである。
 本発明の一態様では、前記第3熱交換器で加熱された前記超純水を加熱するための、蒸気を熱源とした第5熱交換器が設置されている。
 本発明の一態様では、前記第1循環流路に、前記凝縮器から第3熱交換器に向う第1媒体水を加熱するための、蒸気を熱源とした第6熱交換器が設けられている。
 本発明の超純水製造装置では、第1熱交換器において、ユースポイント戻り水が保有する熱によって超純水を加熱する。また、ヒートポンプの凝縮器によって加熱された第1媒体水を熱源流体とする第3熱交換器によって、この超純水をさらに加熱する。ヒートポンプの蒸発器には、第2媒体水が循環通水される。第2媒体水は、温排水を熱源とした第4熱交換器と、第1熱交換器を通過した戻り水を熱源とした第2熱交換器が設けられている。この結果、ユースポイントに送水する超純水を所定温度にまで加温して温超純水とする熱源コストを低減することができる。また、第1熱交換器を通過した戻り水を第2熱交換器でさらに降温させた後、一次純水に加えるようにしているので、一次純水を冷却するための冷水を不要としたり、減少させたりすることができる。
 なお、ユースポイント戻り水の水温は、通常70~80℃例えば約75℃である。
 本発明において、温排水とは、ユースポイントで洗浄に使用された排水である。ユースポイント直前に設置されたUF膜分離装置の濃縮水も温排水に含めてもよい。温排水の温度は、通常60~75℃例えば約65℃である。
実施の形態に係る超純水製造装置の系統図である。 従来例に係る超純水製造装置の系統図である。
 本発明の超純水製造装置は、一次純水製造装置及び二次純水製造装置並びに超純水を加熱する加熱手段を備える。
 この一次純水製造装置の前段には、通常の場合、前処理装置が設けられる。前処理装置では、原水の濾過、凝集沈殿、精密濾過膜などによる前処理が施され、主に懸濁物質が除去される。この前処理によって通常、水中の微粒子数は10個/mL以下となる。
 一次純水製造装置は、逆浸透(RO)膜分離装置、脱気装置、再生型イオン交換装置(混床式又は4床5塔式など)、電気脱イオン装置、紫外線(UV)照射酸化装置等の酸化装置などを備え、前処理水中の大半の電解質、微粒子、生菌等の除去を行うものである。一次純水製造装置は、例えば、熱交換器、2基以上のRO膜分離装置、混床式イオン交換装置、及び脱気装置で構成される。
 二次純水製造装置は、サブタンク、給水ポンプ、冷却用熱交換器、低圧紫外線酸化装置又は殺菌装置といった紫外線照射装置、非再生型混床式イオン交換装置あるいは電気脱イオン装置、限外濾過(UF)膜分離装置又は精密濾過(MF)膜分離装置等の膜濾過装置で構成されるが、更に膜脱気装置、RO膜分離装置、電気脱イオン装置等の脱塩装置が設けられている場合もある。二次純水製造装置では、低圧紫外線酸化装置を適用し、その後段に混床式イオン交換装置を設け、これによって水中のTOCを紫外線により酸化分解し、酸化分解生成物をイオン交換によって除去する。本明細書では、以下、二次純水製造装置のうち、サブタンクよりも後段側をサブシステムと称する。
 なお、二次純水製造装置の後段に三次純水製造装置を設け、この三次純水製造装置からの超純水を加熱するようにしてもよい。この三次純水製造装置は、二次純水製造装置と同様の構成を備えるものであり、更に高純度の超純水を製造するものである。
 以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1は実施の形態に係る超純水製造装置を示す系統図である。なお、以下の説明では水温を例示しているが、各水温は一例であり、本発明を何ら限定するものではない。
 約25℃の一次純水は、配管1、サブタンク2、配管3を介してサブシステム4に導入され、超純水が製造される。製造された約25℃の超純水は、配管5、熱交換器6、配管7、熱交換器10、配管11、蒸気式熱交換器12、UF膜分離装置13及び配管14の順に流れ、これらの熱交換器6,10,12によって約75℃に加熱され、温超純水として配管14によりユースポイント40へ送水される。UF膜分離装置13はユースポイント40の直前に設置されている。
 配管5からは配管5Aが分岐しており、UF膜分離装置5B及び配管5Cを介して常温超純水がユースポイントへ送水される。
 熱交換器6の熱源流体流路へは、配管41を介してユースポイント40からの戻り温超純水(戻り水)が導入される。この熱交換器6を通過した戻り温超純水は、熱交換器43でヒートポンプ20の第2媒体水と熱交換して降温した後、配管44によって、サブタンク2に送られる。
 熱交換器10の熱源流体流路には、ヒートポンプ20の凝縮器23によって加熱された第1媒体水(伝熱媒体としての水)が循環流通される。
 ヒートポンプ20は、蒸発器21からの代替フロン等の熱媒体をポンプ22で圧縮して凝縮器23に導入し、凝縮器23からの熱媒体を膨張弁24を介して蒸発器21に導入するように構成されている。
 凝縮器23に熱交換器10からの約75℃の第1媒体水が配管15を介して導入され、凝縮器23で約80℃に加熱された第1媒体水が配管16を介して熱交換器10に送水される。なお、凝縮器23からの第1媒体水の一部は、バイパス配管17を介して配管15に返送される。熱交換器10、配管15、凝縮器23及び配管16によって第1循環流路が構成されている。バイパス配管17には、流量調節弁(図示略)が設けられている。
 蒸発器21の熱源流体流路に第2媒体水を循環通水するために、配管25、熱交換器43、熱交換器26及び配管27よりなる第2循環流路が設けられている。なお、配管25,27間にバイパス配管28が設けられている。バイパス配管28には、流量調節弁(図示略)が設けられている。
 熱交換器26の熱源流体流路には、配管29を介してユースポイント40の約65℃の温排水が導入される。第2媒体水と熱交換して約30~40℃に降温した温排水は、配管30から流出し、回収水として回収される。
 熱交換器43,26で加熱された約25℃の第2媒体水が蒸発器21の熱源流体流路に導入され、ヒートポンプ20の熱媒体と熱交換して約20℃に降温した後、配管25を介して熱交換器43へ送水される。一部の第2媒体水は、バイパス配管28を介して配管25から配管27へ流れる。バイパス配管28には流量調節弁(図示略)が設けられている。
 第2循環流路には、熱交換器26よりも上流側すなわち蒸発器21の第2媒体水出口側に前記熱交換器43が設置されている。前記熱交換器6を通過した戻り水(戻り超純水)の温度(例えば約32℃)は、蒸発器21で降温して配管25へ流出した第2媒体水の温度(例えば約20℃)よりも高い。そのため、熱交換器6からの戻り水は熱交換器43で常温超純水とほぼ同じ温度(約23~25℃)まで降温した後、サブタンク2に流入する。
 この結果、サブタンク2からサブシステム4に供給される一次純水を冷却するための熱交換器(前記図2の熱交換器73)が不要となる。また、この熱交換器を設置する場合であっても、冷水の使用量が減少する。
 ヒートポンプ20の運転方法としては、例えば、第1媒体水および第2媒体水の出口温度がそれぞれ一定温度になるように、ヒートポンプ圧縮機の入力電力および循環水流量を調整する。ヒートポンプを複数系列とし、熱負荷に応じて台数制御を行ってもよい。また、図示のように、高温側および(または)低温側の循環系に熱交換器をバイパスする配管と流量制御バルブを設け、ヒートポンプ入口温度を制御するような運転を行ってもよい。
 図1では、ユースポイント40の温排水のみを熱交換器26に供給しているが、ユースポイント直前に設置されたUF膜分離装置13の濃縮水も温排水として利用するようにしてもよい。
 上記実施の形態では、蒸気式熱交換器15は熱交換器10で加熱された超純水を加熱するように設けられているが、凝縮器23から熱交換器10に向って流れる第1媒体水を加熱するように第1循環流路に設置されてもよい。蒸気式熱交換器15や第1循環流路の蒸気式熱交換器は、省略されてもよい。ただし、工場での温超純水使用量が急に増加した場合、ヒートポンプ20の熱源が不足し、温超純水温度が所定温度に達しないことが想定される。このような場合に備えて、蒸気式熱交換器を設置し、必要に応じて蒸気加熱できるようにしておくのが好ましい。
 上記実施の形態は本発明の一例であり、本発明は図示以外の形態とされてもよい。
 本発明を特定の態様を用いて詳細に説明したが、本発明の意図と範囲を離れることなく様々な変更が可能であることは当業者に明らかである。
 本出願は、2016年9月14日付で出願された日本特許出願2016-179641に基づいており、その全体が引用により援用される。

Claims (3)

  1.  一次純水製造装置と、
     該一次純水製造装置からの一次純水を処理して超純水を製造する二次純水製造装置と、
     該二次純水製造装置からの超純水を加熱するための、ユースポイントからの戻り水を熱源とする第1熱交換器と、
     該第1熱交換器を通過した該戻り水を冷却する第2熱交換器を備え、該第2熱交換器で冷却された戻り水を前記一次純水に加える戻り水返送系と、
     該第1熱交換器で加熱された超純水をさらに加熱する加熱手段と
    を有し、加熱された超純水をユースポイントに供給する超純水製造装置において、
     前記加熱手段は、
     前記第1熱交換器で加熱された超純水が被加熱流体流路に通水される第3熱交換器と、
     該第3熱交換器の熱源流体流路に伝熱媒体としての第1媒体水を循環流通させる第1循環流路と、
     該第1循環流路を流れる第1媒体水を加熱するヒートポンプとを備えており、
     該ヒートポンプは、凝縮器、蒸発器、ポンプ及び膨張弁を備え、
     該凝縮器は、該第1媒体水を加熱するように前記第1循環流路に設置されており、
     該蒸発器は、第2媒体水が循環される第2循環流路に設置されており、
     該第2循環流路には、温排水の熱によって第2媒体水を加熱するための第4熱交換器が設置されており、
     該第4熱交換器よりも上流側の第2循環流路に前記第2熱交換器が設置されていることを特徴とする超純水製造装置。
  2.  請求項1において、前記第3熱交換器で加熱された前記超純水を加熱するための、蒸気を熱源とした第5熱交換器が設置されていることを特徴とする超純水製造装置。
  3.  請求項1又は2において、前記第1循環流路に、前記凝縮器から第3熱交換器に向う第1媒体水を加熱するための、蒸気を熱源とした第6熱交換器が設けられていることを特徴とする超純水製造装置。
PCT/JP2017/010617 2016-09-14 2017-03-16 超純水製造装置 WO2018051552A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020187034318A KR102107925B1 (ko) 2016-09-14 2017-03-16 초순수 제조 장치
CN201780046687.4A CN109476509B (zh) 2016-09-14 2017-03-16 超纯水制造装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016179641A JP6149993B1 (ja) 2016-09-14 2016-09-14 超純水製造装置
JP2016-179641 2016-09-14

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2018051552A1 true WO2018051552A1 (ja) 2018-03-22

Family

ID=59081964

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2017/010617 WO2018051552A1 (ja) 2016-09-14 2017-03-16 超純水製造装置

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6149993B1 (ja)
KR (1) KR102107925B1 (ja)
CN (1) CN109476509B (ja)
TW (1) TWI687374B (ja)
WO (1) WO2018051552A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020008884A1 (ja) * 2018-07-06 2020-01-09 栗田工業株式会社 逆浸透処理方法及びシステム
JP7497650B2 (ja) 2020-08-26 2024-06-11 栗田工業株式会社 ボイラ水処理装置および処理方法

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6948012B2 (ja) * 2018-03-06 2021-10-13 栗田工業株式会社 超純水の加熱方法
JP7378699B2 (ja) * 2019-01-09 2023-11-14 株式会社Ihi 熱交換システム及びその運転方法
JP7379827B2 (ja) * 2019-02-14 2023-11-15 三浦工業株式会社 温水の製造および廃温水の再利用方法
JP7379828B2 (ja) * 2019-02-14 2023-11-15 三浦工業株式会社 温水の製造および廃温水の再利用方法
JP7359198B2 (ja) * 2021-12-03 2023-10-11 栗田工業株式会社 温超純水製造装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS634808A (ja) * 1986-06-24 1988-01-09 Takuma Co Ltd 逆浸透膜装置システム
JPH06257987A (ja) * 1993-03-01 1994-09-16 Kurita Water Ind Ltd 不純物溶出の少ない熱交換器
JP2002016036A (ja) * 2000-06-27 2002-01-18 Shin Etsu Handotai Co Ltd 排水排熱利用方法
JP2006159003A (ja) * 2004-12-02 2006-06-22 Mayekawa Mfg Co Ltd 超純水の加熱冷却方法及び装置
JP2013202581A (ja) * 2012-03-29 2013-10-07 Kurita Water Ind Ltd 超純水製造装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6694739B2 (en) * 2001-10-12 2004-02-24 Mesosystems Technology, Inc. Modular water heater
JP4034668B2 (ja) * 2003-03-04 2008-01-16 オルガノ株式会社 超純水製造システムおよびその運転方法
JP5454468B2 (ja) * 2008-03-31 2014-03-26 栗田工業株式会社 純水製造方法及び純水製造装置
CN104848590B (zh) * 2015-05-11 2019-06-07 李文胜 三联供水源热泵机组

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS634808A (ja) * 1986-06-24 1988-01-09 Takuma Co Ltd 逆浸透膜装置システム
JPH06257987A (ja) * 1993-03-01 1994-09-16 Kurita Water Ind Ltd 不純物溶出の少ない熱交換器
JP2002016036A (ja) * 2000-06-27 2002-01-18 Shin Etsu Handotai Co Ltd 排水排熱利用方法
JP2006159003A (ja) * 2004-12-02 2006-06-22 Mayekawa Mfg Co Ltd 超純水の加熱冷却方法及び装置
JP2013202581A (ja) * 2012-03-29 2013-10-07 Kurita Water Ind Ltd 超純水製造装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020008884A1 (ja) * 2018-07-06 2020-01-09 栗田工業株式会社 逆浸透処理方法及びシステム
JPWO2020008884A1 (ja) * 2018-07-06 2020-07-09 栗田工業株式会社 逆浸透処理方法及びシステム
CN112384479A (zh) * 2018-07-06 2021-02-19 栗田工业株式会社 反渗透处理方法及***
CN112384479B (zh) * 2018-07-06 2022-03-18 栗田工业株式会社 反渗透处理方法及***
JP7497650B2 (ja) 2020-08-26 2024-06-11 栗田工業株式会社 ボイラ水処理装置および処理方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP6149993B1 (ja) 2017-06-21
JP2018043191A (ja) 2018-03-22
CN109476509A (zh) 2019-03-15
TWI687374B (zh) 2020-03-11
KR102107925B1 (ko) 2020-05-07
TW201811682A (zh) 2018-04-01
KR20190046717A (ko) 2019-05-07
CN109476509B (zh) 2020-06-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6149993B1 (ja) 超純水製造装置
JP6350719B2 (ja) 超純水製造装置
WO2018051551A1 (ja) 超純水製造装置
JP2013202581A (ja) 超純水製造装置
JP5953726B2 (ja) 超純水製造方法及び装置
WO2019171632A1 (ja) 超純水の加熱方法
JP6350718B2 (ja) 超純水製造装置
JP2013202610A (ja) 超純水製造装置
JP2013204956A (ja) 純水冷却装置の運転方法
JP2011147894A (ja) 海水淡水化装置
JP6879228B2 (ja) 水処理装置および水処理方法
TW201901084A (zh) 鍋爐水處理裝置及處理方法
JP7359198B2 (ja) 温超純水製造装置
JP2020199436A (ja) 超純水製造装置及び超純水製造方法
WO2023074147A1 (ja) 水処理システム及び水処理方法
WO2022239483A1 (ja) 超純水製造方法及び装置
CN118139821A (zh) 水处理***以及水处理方法
JP2023063876A (ja) 超純水製造装置
JP2022038353A (ja) ボイラ水処理装置および処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20187034318

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 17850460

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 17850460

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1